ES2256236T3 - Procedimiento para disminuir la superficie del dioxido de sillicio. - Google Patents
Procedimiento para disminuir la superficie del dioxido de sillicio.Info
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Abstract
Procedimiento para disminuir la superficie del dióxido de silicio, caracterizado porque, el dióxido de silicio se coloca en un dispositivo de apantallamiento electromagnético, elegido entre un dispositivo de pantalla metálica de aluminio/magnesio y una cámara hipomagnética de acero permallo y se incuba durante un período de al menos 3, preferentemente de al menos 6 horas.
Description
Procedimiento para disminuir la superficie del
dióxido de silicio.
La invención se refiere a un procedimiento para
disminuir la superficie del dióxido de silicio.
El dióxido de silicio (ácido silícico, sílice,
silícea, dióxido de silicio) sirve en la tecnología de medicamentos
alimentaria como constituyente de hidrogel inorgánico, como
coadyuvante para la fabricación de comprimidos, cápsulas, como
lubrificante, como adsorbente, como antiadherente, como agente para
mantener la fluencia y como vehículo de principio activo, pero está
contenido también en forma natural en numerosas hierbas medicinales
y alimentos.
Aunque el silicio y sus compuestos no se
reconocen por las autoridades nutricionales como sustancias
nutritivas esenciales, se discute, y contesta afirmativamente, la
esencialidad del silicio y sus compuestos para el organismo humano
ya desde hace décadas en publicaciones científicas (compárese W.
Pfannhauser, Essentielle Spurenelmente in de Nahrung, Springer
(1988), Páginas 5-10; A. Mancinella, Il silicio, un
oligoelemento essenziale per gli organismi viventi, Clin. Ter.
137:343-350 (1991); K. Schwarz, B.A. Ricci, et
al: Inverse Relation of silicon in drinking water and
atherosclerosis in Finland, The Lancet (1977),
538-539; E.M. Carlisle, Silicon as an essential
trace element in animal nutrition (1986), Silicon biochemistry,
Wiley, Chichester (Ciba Foundation Symposium 121),
123-139; E.M. Carlisle, Siicon as a trace nutrient,
The Science of the Total Environment, 73 (1988),
95-106).
En estas publicaciones se describe la
esencialidad del silicio como pieza estructural del tejido
conjuntivo, pero también como esencial en relación con las
funciones del sistema cardiocirculatorio, del sistema inmunitario,
del metabolismo óseo, de los procedimientos de envejecimiento y como
antagonista del aluminio (en relación con Alzheimer morbus).
Sin embargo, junto a estás propiedades
bioquímicas deberían presentar el silicio y sus compuestos funciones
biofísicas elementales en organismos orgánicos (planta, animal,
hombre). A causa de su posición en el sistema periódico de
elementos (cuarto periodo), al elemento silicio le corresponde la
función de un semiconductor, que encuentran amplia aplicación en la
tecnología de aplicación (física de semiconductores, tecnología
láser y de ordenadores). Correspondientemente, al silicio en formas
de vida orgánicas le debería corresponder también un papel en la
transferencia de señales intracelulares e intercelulares, así como
en el almacenamiento y transformación de una función
elemental.
elemental.
El cambio controlado y dirigido de propiedades
biofísicas del dióxido de silicio de alta dispersión, en particular
respecto a la estructura superficial o propiedades de absorción
dependiente de substancias absorbentes, se pudo cambiar hasta ahora
en el estado de la técnica solo con el empleo de influencias
mecánicas. Pero estas influencias mecánicas pueden controlarse con
frecuencia difícilmente, y señalan una gran variación tanto en
cuanto a su buena puntería local, como también a su
reproductibidad.
Por eso, el objetivo de la presente invención fue
cambiar sin influencia mecánica la estructura supermolecular del
dióxido de silicio y compuestos similares de silicio/oxígeno.
Este objetivo se resuelve según la invención
mediante un procedimiento para disminuir la superficie del dióxido
de silicio, el cual está caracterizado porque el dióxido de silicio
se coloca en un dispositivo de apantallamiento electromagnético,
elegido entre un dispositivo de pantalla metálica de
aluminio/magnesio y una cámara hipomagnética de acero permalloy, y
se incuba durante un período de al menos 3, preferiblemente de al
menos 6 horas.
Totalmente sorprendente pudo modificarse con la
incubación en un apantallamiento electromagnético según la
invención las propiedades biofísicas de la estructura de silicio, de
forma que la superficie media del preparado de dióxido de silicio
se reduce, medido en un test-BET (análisis
isotérmico mediante absorción de nitrógeno a -77ºK, medido con
ASAP-2400 de la empresa Micromeritics/USA). El
dispositivo de apantallamiento debe ser apropiado en primer lugar -
similar a una jaula de Faraday - para apantallar influencias
magnéticas y hacer posible el cambio estructural de las propiedades
biofísicas del dióxido de silicio a causa de este apantallamiento.
Mediante el tratamiento según la invención puede cambiarse
dirigidamente, por ejemplo, la capacidad de absorción o la
selectividad de absorción del dióxido de silicio. Esto fue también
por eso totalmente sorprendente, porque el tratamiento según la
invención se lleva a cabo sin ningún tipo de influencia mecánica,
pero no obstante, al mismo tiempo pueden obtenerse cambios
estructurales.
El dispositivo de pantalla metálica de
aluminio/magnesio según la invención se compone de una aleación
aluminio/magnesio, que contiene preferentemente silicio. La
pantalla metálica preferiblemente contiene un 80 - 98% de aluminio,
preferentemente 90 - 95%, un 2 - 20% de magnesio, preferentemente 3
- 7%, y un 0 - 2% de silicio, preferentemente 1 - 1,5%. Se ha
mostrado también que no pueden obtenerse los efectos según la
invención con un dispositivo de pantalla metálica de aluminio
puro.
La cámara hipomagnética según la invención debe
componerse igualmente de un material especial, de modo que se
presenten los efectos según la invención, de acero permalloy o una
aleación permalloy. Por aleaciones o aceros permalloy se entienden
en general materiales magnéticos de base Ni-Fe, con
un contenido de Ni del 72 - 83% en peso, y Mo, Cu y Cr de aditivos.
Los materiales según la invención muestran en comparación
permeabilidades elevadas con valores entre 30.000 y 150.000, una
energía disipada magnética reducida para materiales diamagnéticos y
ciclos de histéresis rectangulares (compárese Lueger, Lexikon der
Technik, volumen 16, "materiales magnéticos"; en particular
punto 5.1.2.2.). Además, se atenúa según la invención el campo
magnético final mediante la cámara preferentemente hasta a 1/600,
en particular a 1/5000, siendo la atenuación también dependiente del
tamaño de la cámara.
Variantes constructivas preferibles de estos
dispositivos de apantallamiento electromagnéticos están descritos,
por ejemplo, en el RU-Psen 2012175 y 2122446.
Dispositivos especialmente apropiados para llevar
a cabo el apantallamiento según la invención están descritos en los
ejemplos siguientes.
La duración de incubación, mientras que el
dióxido de silicio permanece según la invención en el dispositivo
de apantallamiento electromagnético según la invención, no es en
general crítico. Sin embargo, el efecto según la invención es más
fuerte cuanto más largo es el tiempo de incubación. Esta dependencia
directa mediante el efecto según la invención de la duración de
incubación depende también de la efectividad del apantallamiento
electromagnético, además alcanza (por ejemplo, en los dispositivos
según la invención) una planicie a las aproximadamente 72 horas. De
forma preferible se lleva a cabo por eso la incubación según la
invención durante un período de 12 a 200 horas, preferentemente
durante 24 a 100 horas, teniéndose comprobado para un sistema de
apantallamiento electromagnético optimizado un período de
aproximadamente 72 horas como óptimo del procedimiento.
La presente invención se refiere a un
procedimiento para disminuir la superficie del dióxido de silicio,
cuyas propiedades biofísicas se modifican sin influencia mecánica.
Las propiedades superficiales de este dióxido de silicio se
modifican biofísicamente sin influencia mecánica respecto a un
preparado de partida.
La invención se explica con ayuda de los ejemplos
siguientes, a los que sin embargo no debe estar limitada, así como
de los dibujos.
Muestran:
La fig. 1 a 4: una cámara hipomagnética;
La fig. 5 a 8: una pantalla metálica según la
invención.
Dispositivo
1
Este dispositivo de acero permalloy sirve para
apantallar elementos semiconductores como silicio y sus compuestos
de influencias magnéticas en el experimento biofísico y en la
aplicación biofísica. La cámara elaborada para esta finalidad
consta de cuatro bandejas de material (1, 2) ferromagnético con
espaciadores (3) y dispositivo de fijación (5, 4) y sirve para el
apantallamiento del espacio revestido frente a la influencia
magnética del entorno. Diámetro exterior 2m, diámetro interior 1,2
m, longitud 3,8 m.
Un modelo de ensayo de la cámara con un diámetro
interior de 1200 mm, un diámetro exterior de 2000 mm y una longitud
de 3900 mm fue elaborado de un fleje de 79 nm, espesor 1,5 mm,
anchura 250 mm.
Dispositivo
2
Esta pantalla metálica consta de una construcción
de placa metálica de una aleación de aluminio (93,2% Al, 5,4% Mg,
1,4% Si), grosor 1,5 mm, altura hasta 280 cm, anchura 129 cm, con
superficie biselada y una comba que se ocupa de que el foco se
encuentre a una distancia de 50 cm de superficie de trabajo (fig.
5). Las placas están unidas unas con otras, de modo que se forma
una superficie con forma de espiral. Cada elemento constructivo se
une con los otros mediante juntas, y se fija con 15 tornillos de
fijación (2) y placas angulares de fijación (3) metálicas del
tamaño 5,0 x 5.0 x 280 cm, que están remachadas por dos lados en la
superficie de trabajo de cada elemento. Un anillo de aluminio (4)
con la misma comba que la superficie de trabajo, tamaño 120,0 x
15,0 cm, proporciona una rigidez mayor de la construcción en la
parte superior e inferior de cada elemento. Los elementos pueden
unirse y fijarse unos con otros mediante juntas, de modo que forman
un cilindro (fig. 6), que está abierto en la zona de entrada (de 4
ó 6 elementos), pero también una construcción con forma de espiral
girando a la izquierda o la derecha de 8 - 10 elementos (fig. 7, 8)
con un espacio de trabajo en forma de un cilindro no cerrado con
elemento de suelo (6).
Dos preparados de ácido silícico de alta
dispersión (con denominación comercial Aerosil 200 (superficie media
según BET = 200 m^{2} \cdot g^{-1}) así como Aerosil 380
(superficie media según BET = 380 m^{2} \cdot g^{-1})) se
colocan durante 72 horas en la cámara hipomagnética o en la pantalla
metálica. Una muestra de comparación correspondiente del mismo lote
se coloca bajo condiciones normales fuera de ambos dispositivos. A
continuación, las muestras para medir, así como la muestra de
comparación, se desgasifican a 50ºC durante 20 horas en un vacío
ultra alto y se determina mediante el método BET su superficie.
Además, se señalan las pruebas individuales con números consecutivos
como sigue:
Muestra nº 1 = Aerosil 200 muestra de control
Muestra nº 2 = Aerosil 200 tras cámara
hipomagnética
Muestra nº 3 = Aerosil 200 tras pantalla
metálica
Muestra nº 4 = Aerosil 380 muestra de control
Muestra nº 5 = Aerosil 380 tras cámara
hipomagnética
Muestra nº 6 = Aerosil 380 tras pantalla
metálica.
Los análisis (respectivamente realizados tres
veces) de las superficies del dióxido de silicio según BET están
expuestos en la siguiente tabla (así como en los resultados
individuales adjuntos):
Nº Muestra | Pesada (g) | Pesada (tras | Pérdida de | BET (m^{2}/g) (respecto a | BET (m^{2}/g) (respecto a |
expulsión de | masa en % | la muestra pesada) | la muestra desgaseada) | ||
gas a 50ºC) | |||||
1 | 0,1210 | 0,1024 | 15,4 | 197 | 233 |
2 | 0,1638 | 0,1452 | 11,4 | 198 | 223 |
3 | 0,2781 | 0,2658 | 4,4 | 199 | 208 |
4 | 0,1923 | 0,1671 | 13,1 | 335 | 386 |
4-2 | 0,1828 | 0,1588 | 13,1 | 329 | 379 |
5 | 0,3048 | 0,2804 | 8,0 | 315 | 342 |
6 | 0,1902 | 0,1713 | 9,9 | 302 | 335 |
Los resultados de medición muestran (de muestras
nº 1 a muestras nº 3 o de muestras nº 4 hasta muestras nº 6) una
reducción de las superficies de las pruebas de dióxido de silicio
empleadas tras la colocación de las pruebas en la cámara
hipomagnética o en la pantalla metálica. Además, los resultados de
la investigación muestran una reducción más fuerte de la superficie
tras colocación en la pantalla metálica, en comparación a las
muestras que fueron colocadas en la cámara hipomagnética.
Los resultados de la medición muestran que es
posible cambiar la superficie de los compuestos de silicio sin
influencia mecánica, un efecto que se provoca evidentemente por un
cambio de los enlaces supermoleculares de moléculas de dióxido de
silicio individuales, provocado mediante un cambio del campo
electromagnético. Con esto es posible, modificar y estandarizar las
propiedades biofísicas de estas substancias así cambiadas, mediante
cambio de la estructura supermolecular (medible mediante los cambios
superficiales según el método BET) de compuestos de silicio de
origen orgánico e inorgánico (vegetal y fósil) y de otros elementos
semiconductores.
Claims (4)
1. Procedimiento para disminuir la superficie del
dióxido de silicio, caracterizado porque, el dióxido de
silicio se coloca en un dispositivo de apantallamiento
electromagnético, elegido entre un dispositivo de pantalla metálica
de aluminio/magnesio y una cámara hipomagnética de acero permallo y
se incuba durante un período de al menos 3, preferentemente de al
menos 6 horas.
2. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque el dióxido de silicio se coloca en una
cámara hipomagnética.
3. Procedimiento según la reivindicación 1,
caracterizado porque el dióxido de silicio se coloca en un
dispositivo de pantalla metálica.
4. Procedimiento según una de las
reivindicaciones 1 a 3, caracterizado porque la incubación se
lleva a cabo durante un período de 12 a 200 horas, preferentemente
24 a 100 horas, en particular durante aproximadamente 72 horas.
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