EP4434063B1 - Magnetstruktur mit verbessertem zusammenhalt, wechselrichter und zugehöriges verfahren - Google Patents

Magnetstruktur mit verbessertem zusammenhalt, wechselrichter und zugehöriges verfahren

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EP4434063B1
EP4434063B1 EP23735594.6A EP23735594A EP4434063B1 EP 4434063 B1 EP4434063 B1 EP 4434063B1 EP 23735594 A EP23735594 A EP 23735594A EP 4434063 B1 EP4434063 B1 EP 4434063B1
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EP
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angle
magnet
magnet structure
structure according
directions
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EP23735594.6A
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EP4434063A1 (de
EP4434063C0 (de
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Mathieu VALLEAU
Amin GHAITH
Marie-Emmanuelle COUPRIE
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Synchrotron Soleil
Original Assignee
Synchrotron Soleil
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Publication date
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00—Magnets
    • H01F7/02—Permanent magnets [PM]
    • H01F7/0273—Magnetic circuits with PM for magnetic field generation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F7/00—Magnets
    • H01F7/02—Permanent magnets [PM]
    • H01F7/0205—Magnetic circuits with PM in general
    • H01F7/021—Construction of PM
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/04—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof
    • H—ELECTRICITY
    • H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
    • H05H7/04—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof
    • H05H2007/041—Magnet systems, e.g. undulators, wigglers; Energisation thereof for beam bunching, e.g. undulators

Definitions

  • the present invention relates to a magnet structure. It also relates to an inverter comprising such a structure, as well as to an associated method.
  • Such a device allows a user to generate a magnetic field.
  • the field of the invention is more particularly but not limited to that of particle accelerators.
  • An undulator is a device that generates a spatially periodic magnetic field. When charged particles (electrons in general) pass through this device, they are subjected to a force that gives them an oscillating movement and generates an electromagnetic wave.
  • the emitted radiation called synchrotron radiation is, due to its spectral and optical qualities, used as a tool to probe matter in many scientific fields (biology, chemistry, etc.).
  • Undulators are characterized by their spatial period and their magnetic field, the main parameters that impact the spectral extent of the emitted radiation. Apple and related undulators (APPLE I, II, III, X, Delta, etc.) produce a vertical and/or horizontal periodic magnetic field to generate linear polarization (pure or inclined) or circular polarization.
  • Permanent magnets consist of rows of permanent magnets, the movement of two of which diagonally opposite ones allows the phase between the field components to be changed, as well as their intensity, and thus the helicity of the polarization to be varied.
  • the Permanent magnets are assembled using a Halbach structure. This consists of alternating permanent magnets whose magnetization vector rotates 90° in the beam direction around the horizontal axis of the undulator, with each magnet being magnetized in at most 1 direction. These permanent magnets are generally difficult to maintain in position because they repel each other or are in unstable equilibrium.
  • each magnet is usually held alone using a mechanical clamp.
  • this single clamp is no longer sufficient due to the insufficient thickness of the magnet.
  • the permanent magnets are then glued together in pairs, or even welded.
  • the magnetization vector rotates from one magnet to another by 90° around the horizontal axis if four magnets are used to constitute the period.
  • APPLE undulators consist of 4 beams that move longitudinally to vary the phase between the field components and therefore the polarization of the electrons, or vertically (bottom vs. top) to modify the strength of the magnetic field and therefore the resonance energy of the undulator.
  • the two lower rows have the same magnet sequence, while on the upper beams, the longitudinally magnetized magnets are in the opposite direction to the lower beams.
  • APPLE inverters can vary the polarization linearly or circularly.
  • the horizontal and vertical field components are not equal, the resonance energy is then limited by the value of the lowest magnetic field component.
  • each magnet In the case of APPLE I or II or III or X inverters, the longitudinal dimension of each magnet is equal to the period divided by the number of magnets constituting the period. Thus, for an inverter with a magnetic period of 40 mm, the permanent magnets have a thickness of 10 mm. It is not easy to mechanically hold a 10 mm wide element on which magnetic forces are exerted in all 3 directions. To do this, To remedy this, some use glue, others even implement processes for welding the magnets together.
  • the aim of the present invention is to propose a magnet structure or an inverter making it possible to generate a magnetic field (preferably significant) while facilitating the assembly of the magnets together, and preferably being able to do without or limit the use of glue or solder or flange to assemble these magnets, preferably for an elliptical polarization, of short spatial period and efficient.
  • ⁇ x can be different from 0°, 90°, 180° or 270°, preferably ⁇ 1°, or even preferably ⁇ 5°.
  • ⁇ s can be different from 0°, 90°, 180° or 270°, preferably ⁇ 1°, or even preferably ⁇ 5°.
  • ⁇ s can be different from 45°, 135°, 225° or 315°, preferably within ⁇ 1°, or even preferably within ⁇ 2°.
  • the number N of series is equal to 4 or 6.
  • ⁇ u can be included in the interval [15 mm; 200 mm], preferably in the interval [20 mm; 70 mm].
  • G x may be in the range [1 mm; 250 mm], preferably in the range [1 mm; 50 mm], and/or G z is in the range [1 mm; 250 mm], preferably in the range [1 mm; 50 mm].
  • G x can be equal (or substantially equal to within ⁇ 500 ⁇ m, preferably within ⁇ 200 ⁇ m) to G z , subsequently denoted G.
  • the magnet structure according to the invention may further be arranged to generate a magnetic field with its component along the Z direction equal, or substantially equal to ⁇ 5%, preferably ⁇ 1%, to its component along the X direction.
  • a method of generating a magnetic field characterized in that it is generated by means of a magnet structure according to the invention or an inverter according to the invention.
  • the magnetic field may be generated with its component along the Z direction equal, or substantially equal to ⁇ 5% preferably ⁇ 1%, to its component along the X direction.
  • the peak fields of B z and B x are equal, and the fields B z and B x may be out of phase.
  • variants of the invention comprising only a selection of characteristics described or illustrated subsequently isolated from the other characteristics described or illustrated (even if this selection is isolated within a sentence comprising these other characteristics), if this selection of characteristics is sufficient to confer a technical advantage or to differentiate the invention compared to the state of the prior art.
  • This selection comprises at least one preferably functional characteristic without structural details, and/or with only a part of the structural details if this part alone is sufficient to confer a technical advantage or to differentiate the invention compared to the state of the prior art.
  • This new magnetic structure 100 is derived from a Halbach structure and has a particular orientation of the magnetization vector for optimal magnet holding, and is preferably applied to the construction of undulators generating elliptical polarization.
  • the magnet structure 100 comprises four successive series (first series referenced 1 in the figures then second series referenced 2 in the figures then third series referenced 3 in the figures then fourth series referenced 4 in the figures, in this order along the direction S) of permanent magnets installed periodically along a direction S (also noted Y) with a spatial period ⁇ u , including a first, second, third and fourth series.
  • These four series 1, 2, 3, 4 are represented only once on the figure 1 , but are actually repeated periodically along the S direction typically a few tens or hundreds of times.
  • each beam 10, 20, 20, 40 follow one another along the direction S.
  • the first beam 10 and the second beam 20 are parallel and follow one another along a direction Z perpendicular to the direction S.
  • the fourth beam 40 and the third beam 30 are parallel and follow one another along the Z direction.
  • the third beam 30 and the second beam 20 follow one another along a direction X perpendicular to the directions S and Z.
  • the fourth beam 40 and the first beam 10 follow one another along the direction X.
  • the magnetization vector (which leads to permanent magnetization, but not to temporary magnetization of an electromagnet), of each magnet of each beam 10, 20, 30, 40 has a non-zero component along each of the directions X, S and Z.
  • G x is typically in the range [1mm; 250mm], preferably in the range [1mm; 50mm], and/or G z is typically in the range [1mm; 250mm], preferably in the range [1mm; 50mm].
  • G x or G z lead to a circular opening (for a passage of a beam in the center of beams 10, 20, 30, 40) whose diameter is greater than G x and G z and depends on G x , G z and the chamfers at the corners of the magnets.
  • G x is equal, or substantially equal to within ⁇ 500 ⁇ m, preferably within ⁇ 200 ⁇ m, to G z , and is noted in this case in the present description as distance (also called air gap) G.
  • G is expressed in mm and ⁇ u is expressed in mm.
  • G is expressed in mm and ⁇ u is expressed in mm.
  • the structure 100 is preferably arranged to generate a magnetic field with its component B z along the direction Z equal, or substantially equal to ⁇ 5%, preferably ⁇ 1% at minimum air gap, to its component B x along the direction X.
  • a magnetic field is generated by means of the magnet structure 100 or 200 or the inverter 1000.
  • the magnetic field is generated with its component B z along the Z direction equal, or substantially equal to ⁇ 5%, preferably ⁇ 1% at minimum air gap, to its component B x along the X direction.
  • the distance G x and/or G z and/or G can be adjusted.
  • the new proposed structure 100 or 200 produces a magnetic field (with elliptical polarization) as strong as the Halbach structure and makes it possible to address the problem of holding the magnets.
  • all the magnets are magnetized in 3 directions (vertical, horizontal and longitudinal). Inclining the magnetization vector in the longitudinal direction makes it possible to hold two magnets together naturally. It is thus easier to hold a block of two magnets together naturally than a single, thinner magnet subjected to opposing forces or two magnets held together by other unnatural means (welding, glue, screws, etc.).
  • the new structure 100 or 200 proposed makes it possible to respond to this problem, while retaining the fact that the field components B z , B x in the two planes are always equivalent.
  • magnets have a magnetization vector oriented in 3 directions (horizontal, vertical and longitudinal).
  • the inclination of the magnetization vector in the longitudinal plane will allow certain magnets to stick naturally two by two, thus forming a block of two solid magnets. Thus, there is no need to weld/glue the magnets together.
  • N is a positive integer.
  • N is preferably an even number.
  • N is preferably greater than or equal to four.
  • N is preferably less than or equal to eight or ten.
  • N can for example be equal to four, six, or eight.
  • This structure 200 always includes the four beams 10, 20, 30, 40.
  • the number N of series is equal to 6.
  • the directions of the magnetization vectors of the magnets of series 1, 23, 3 and 4 do not change compared to structure 100.
  • the magnetization vector of each magnet of each beam has a non-zero component along each of the directions X, S and Z
  • ⁇ x is typically in the range ]5°; 80°], preferably in the range [28°; 72°].
  • ⁇ S is typically in the range ]5°; 43°[, preferably in the range [34°; 42°].
  • G is expressed in mm and ⁇ u is expressed in mm.
  • G is expressed in mm and ⁇ u is expressed in mm.

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Claims (21)

  1. Magnetstruktur, umfassend eine Anzahl N von Reihen (1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 13) von Permanentmagneten, die entlang einer Richtung S mit einer räumlichen Periode λu periodisch installiert sind, wobei N größer als oder gleich vier ist, jede Reihe umfassend:
    - einen Magneten eines ersten Balkens (10)
    - einen Magneten eines zweiten Balkens (20)
    - einen Magneten eines dritten Balkens (30)
    - einen Magneten eines vierten Balkens (40)
    wobei die Magnete jedes Balkens entlang der Richtung S aufeinander folgen,
    wobei der erste Balken und der zweite Balken entlang einer Richtung Z senkrecht zu der Richtung S aufeinander folgen,
    wobei der vierte Balken und der dritte Balken entlang der Richtung Z aufeinander folgen, wobei der dritte Balken und der zweite Balken entlang einer Richtung X senkrecht zu den Richtungen S und Z aufeinander folgen,
    wobei der vierte Balken und der erste Balken entlang der Richtung X aufeinander folgen,
    dadurch gekennzeichnet, dass für mindestens vier aufeinanderfolgende Reihen (1, 2, 3, 4) von Magneten einer räumlichen Periode λu der Magnetisierungsvektor jedes Magneten jedes Balkens entlang der Richtungen X, S und Z jeweils eine von null verschiedene Komponente besitzt.
  2. Magnetstruktur nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Reihen eine erste, eine zweite, eine dritte und eine vierte aufeinanderfolgende Reihe in dieser Reihenfolge umfassen, und dass:
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten des zweiten Balkens und des dritten Balkens in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und S, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von -θx für die erste Reihe
    ∘ einen Winkel von +θx für die zweite Reihe
    ∘ einen Winkel von -θx-180° für die dritte Reihe
    ∘ einen Winkel von θx-180° für die vierte Reihe
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten des ersten Balkens und des vierten Balkens in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und S, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von θx für die erste Reihe
    ∘ einen Winkel von -θx für die zweite Reihe
    ∘ einen Winkel von θx-180° für die dritte Reihe
    ∘ einen Winkel von -θx-180° für die vierte Reihe
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten der ersten Reihe und der zweiten Reihe in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und X, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von -θS für den ersten Balken
    ∘ einen Winkel von θS für den zweiten Balken
    ∘ einen Winkel von -θS für den dritten Balken
    ∘ einen Winkel von θS für den vierten Balken
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten der dritten Reihe und der vierten Reihe in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und X, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von -θS-180° für den ersten Balken
    ∘ einen Winkel von θS-180° für den zweiten Balken
    ∘ einen Winkel von -θS-180° für den dritten Balken
    ∘ einen Winkel von θS-180° für den vierten Balken.
  3. Magnetstruktur nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass θx von 0°, 90°, 180° oder 270° verschieden ist, vorzugsweise ± 1°, oder sogar vorzugsweise ± 5°.
  4. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass θx in dem Bereich ]5°; 80°] enthalten ist, vorzugsweise im Bereich [24°; 72°].
  5. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass θS von 0°, 90°, 180° oder 270° verschieden ist, vorzugsweise ± 1°, oder sogar vorzugsweise ± 5°.
  6. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass θS von 45°, 135°, 225° oder 315° verschieden ist, vorzugsweise ± 1° oder sogar vorzugsweise ± 2°.
  7. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass θS im Bereich ]5° 43°[ enthalten ist, vorzugsweise im Bereich [30°; 42°].
  8. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl N von Reihen gleich 4 ist.
  9. Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Anzahl N von Reihen gleich 6 ist und dass die Reihen ferner umfassen:
    - eine fünfte Reihe zwischen der ersten und der zweiten Reihe
    - eine sechste Reihe zwischen der dritten und der vierten Reihe sodass die Reihen die erste, die fünfte, die zweite, die dritte, die sechste und die vierte aufeinanderfolgende Reihe in dieser Reihenfolge umfassen, und dass:
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten des zweiten Balkens und des dritten Balkens in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und S, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von 0° für die fünfte Reihe
    ∘ einen Winkel von 180° für die sechste Reihe
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten des ersten Balkens und des vierten Balkens in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und S, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von 0° für die fünfte Reihe
    ∘ einen Winkel von 180° für die sechste Reihe
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten der fünften Reihe in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und X, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von -θS für den ersten Balken
    ∘ einen Winkel von θS für den zweiten Balken
    ∘ einen Winkel von -θS für den dritten Balken
    ∘ einen Winkel von θS für den vierten Balken
    - der Magnetisierungsvektor jedes Magneten der sechsten Reihe in einer Projektion in einer Ebene, umfassend die Richtungen Z und X, eine Richtung besitzt, die mit der Richtung Z ausbildet:
    ∘ einen Winkel von -θS-180° für den ersten Balken
    ∘ einen Winkel von θS-180° für den zweiten Balken
    ∘ einen Winkel von -θS-180° für den dritten Balken
    ∘ einen Winkel von θS-180° für den vierten Balken.
  10. Magnetstruktur nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass λu im Bereich [15 mm; 200 mm] enthalten ist, vorzugsweise im Bereich [20 mm; 70 mm].
  11. Magnetstruktur nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass:
    - der erste Balken und der zweite Balken um einen Abstand Gz entlang der Richtung Z voneinander beabstandet sind,
    - der vierte Balken und der dritte Balken um den Abstand Gz entlang der Richtung Z voneinander beabstandet sind,
    - der dritte Balken und der zweite Balken um einen Abstand Gx entlang der Richtung X voneinander beabstandet sind,
    - der vierte Balken und der erste Balken um den Abstand Gx entlang der Richtung X voneinander beabstandet sind.
  12. Magnetstruktur nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass Gx im Bereich [1 mm; 250 mm] enthalten ist, vorzugsweise im Bereich [1 mm; 50 mm], und/oder Gz im Bereich [1 mm; 250 mm] enthalten ist, vorzugsweise im Bereich [1 mm; 50 mm].
  13. Magnetstruktur nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass Gx gleich oder im Wesentlichen gleich innerhalb von ± 500 µm, vorzugsweise innerhalb von ± 200 µm, Gz ist, nachfolgend G genannt.
  14. Magnetstruktur nach Anspruch 13, der als von Anspruch 8 abhängig betrachtet wird, dadurch gekennzeichnet, dass θx gleich ist: θx (G; λu) = Offset1 + AGap1*exp(BGap1 * G) + APeriode1*exp(BPeriode1 * λu) innerhalb von ± 10 %, vorzugsweise innerhalb von ± 5 %, wobei: Offset 1 = 33 , 634 ± 0 , 17 AGap 1 = 29 , 434 ± 0 , 109 BGap 1 = − 0 , 041763 ± 0 , 000374 APeriode 1 = − 39 , 534 ± 0 , 104 BPeriode 1 = − 0 , 027176 ± 0 , 000263
  15. Magnetstruktur nach Anspruch 13 oder 14, die als von Anspruch 8 abhängig betrachtet werden, dadurch gekennzeichnet, dass θS gleich ist: θS (G; λu) = Offset2 + AGap2*exp(BGap2 * G) + APeriode2*exp(BPeriode2 * λu ) innerhalb von ± 5 %, vorzugsweise innerhalb von ± 2 % Offset 2 = 35 , 233 ± 0 , 147 AGap 2 = − 10,382 ± 0,0218 BGap 2 = − 0 , 066698 ± 0 , 000476 APeriode 2 = 13 , 866 ± 0 , 0918 BPeriode 2 = − 0 , 015736 ± 0 , 000349
  16. Magnetstruktur nach Anspruch 13, der als von Anspruch 9 abhängig betrachtet wird, dadurch gekennzeichnet, dass θx gleich ist: θx (G; λu) = Offset4 + AGap4*exp(BGap4 * G) + APeriode4*exp(BPeriode4 * λu) innerhalb von ± 4 %, vorzugsweise innerhalb von ± 3 %, wobei: Off 4 = 49,848 ± 0,3 AGap 4 = 41 , 206 ± 0 , 0801 BGap 4 = − 0 , 038149 ± 0 , 000217 APeriode 4 = − 54 , 559 ± 0 , 148 BPeriode 4 = − 0 , 018134 ± 0 , 000223
  17. Magnetstruktur nach Anspruch 13 oder 14, die als von Anspruch 9 abhängig betrachtet werden, dadurch gekennzeichnet, dass θS gleich ist: θS (G; λu) = Offset3 + AGap3*exp(BGap3 * G) + APeriode3*exp(BPeriode3 * λu ) innerhalb von ±7 %, vorzugsweise innerhalb von ±3 %, wobei: Off 3 = 37 , 222 ± 0,201 AGap 3 = − 9 , 6508 ± 0 , 0384 BGap 3 = − 0 , 038257 ± 0 , 000448 APeriode 3 = 12 , 099 ± 0 , 13 BPeriode 3 = − 0 , 01507 ± 0 , 000503
  18. Magnetstruktur nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass sie zum Erzeugen eines Magnetfelds mit seiner Komponente entlang der Richtung Z gleich oder im Wesentlichen gleich ±5 %, vorzugsweise ± 1 % seiner Komponente entlang der Richtung X angeordnet ist.
  19. Wechselrichter, umfassend:
    - eine Magnetstruktur nach einem der vorstehenden Ansprüche,
    - eine Vakuumkammer, die um oder innerhalb der Magnetstruktur zwischen den vier Balken angeordnet ist.
  20. Verfahren zum Erzeugen eines Magnetfeldes, dadurch gekennzeichnet, dass es mittels einer Magnetstruktur nach einem der Ansprüche 1 bis 18 oder eines Wechselrichters nach Anspruch 19 erzeugt wird.
  21. Verfahren nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet, dass das Magnetfeld mit seiner Komponente entlang der Richtung Z gleich oder im Wesentlichen gleich ± 5 %, vorzugsweise ± 1 % seiner Komponente entlang der X-Richtung erzeugt wird.
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Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0793200B2 (ja) * 1991-08-12 1995-10-09 住友電気工業株式会社 多極ウィグラ
US5383049A (en) * 1993-02-10 1995-01-17 The Board Of Trustees Of Leland Stanford University Elliptically polarizing adjustable phase insertion device
US8373527B2 (en) * 2008-04-04 2013-02-12 Correlated Magnetics Research, Llc Magnetic attachment system

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