EP4149769A2 - Verfahren zum herstellen eines mehrschichtkörpers sowie ein mehrschichtkörper - Google Patents

Verfahren zum herstellen eines mehrschichtkörpers sowie ein mehrschichtkörper

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Publication number
EP4149769A2
EP4149769A2 EP21724202.3A EP21724202A EP4149769A2 EP 4149769 A2 EP4149769 A2 EP 4149769A2 EP 21724202 A EP21724202 A EP 21724202A EP 4149769 A2 EP4149769 A2 EP 4149769A2
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
layer
photoresist
microlenses
grid
structured
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
EP21724202.3A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Violetta Olszowka
Benjamin HASSE
Harald Walter
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OVD Kinegram AG
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Original Assignee
OVD Kinegram AG
Leonhard Kurz Stiftung and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by OVD Kinegram AG, Leonhard Kurz Stiftung and Co KG filed Critical OVD Kinegram AG
Publication of EP4149769A2 publication Critical patent/EP4149769A2/de
Pending legal-status Critical Current

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40—Manufacture
    • B42D25/405—Marking
    • B42D25/43—Marking by removal of material
    • B42D25/435—Marking by removal of material using electromagnetic radiation, e.g. laser
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/342—Moiré effects
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
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    • B42D25/40—Manufacture
    • B42D25/405—Marking
    • B42D25/425—Marking by deformation, e.g. embossing

Definitions

  • the invention relates to a method for producing a multi-layer body and a multi-layer body.
  • the invention is now based on the object of providing a method for producing an improved multi-layer body and an improved multi-layer body which gives an improved, optically variable impression.
  • This object is further achieved by a method for producing a multilayer body, in particular a multilayer security element for securing security documents, the method as follows
  • Steps, which are carried out in the following order in particular, include:
  • This object is also achieved by a method for producing a multilayer body, in particular a multilayer security element for securing security documents, the
  • the method comprises the following steps, which are carried out in the following order in particular:
  • first replication lacquer layer Application of a first replication lacquer layer to the carrier layer; Molding of a multiplicity of microlenses arranged in a grid shape in the first replication lacquer layer; Applying a second replication lacquer layer to the side of the carrier layer opposite the plurality of microlenses arranged in a grid pattern;
  • a multi-layer body in particular a multi-layer security element for securing security documents, with a carrier layer and a first replication lacquer layer applied to the carrier layer, in which a multiplicity of microlenses arranged in a grid is molded, and with one of the multiplicity of grid-like lenses arranged microlenses opposite side of the carrier layer arranged plurality of grid-shaped arranged microimages, in particular wherein the plurality of grid-shaped arranged microimages is registered to the plurality of grid-shaped arranged microlenses.
  • a multilayer body is preferably produced by one of the above methods, in particular by a method according to one of Claims 1 to 37.
  • Microphotographs is obtained, which in cooperation with the microlenses produce a concise movement and / or depth effect.
  • a multilayer body is obtained, of which, in particular, multicolored microimages have a very high resolution, which in cooperation with the microlenses, which have a very small focal length for overall thickness reduction, produce an appealing optical effect.
  • Understood exposure mask which is produced by means of electron beam lithography and / or laser beam lithography and is only temporarily, preferably during an exposure step, arranged on the multilayer body.
  • the high-resolution separate mask does not remain in the finished multilayer body.
  • the high-resolution separate mask is preferably a separate photo mask, in particular a high-resolution separate photo mask.
  • high-resolution is preferably understood to mean that the exposure mask has structures smaller than 10 ⁇ m, preferably smaller than 5 ⁇ m, more preferably smaller than 2.5 ⁇ m, in particular wherein the structures are designed as areas that are transparent and non-transparent for the respective exposure radiation.
  • the exposure mask has a resolution of less than 10 pm, preferably less than 5 pm, more preferably less than 2.5 pm. It is thus possible for the exposure mask to have structures or surface areas with a smallest dimension of less than 10 ⁇ m, preferably less than 5 ⁇ m, more preferably less than 2.5 ⁇ m.
  • the smallest dimension can be, for example, the smallest width, length, diameter, height or the like smallest size.
  • a plasmonic subwavelength structure is preferably understood here to mean relief structures which are suitable for generating plasmon polaritons, in particular surface plasmons, in cooperation with a metal layer.
  • Surface plasmons are, in particular, surface waves in which the longitudinal electronic oscillations are excited parallel to the surface of a metal, the resulting electric field strength in particular being increased in the space above the metallic surface.
  • Such plasmonic subwavelength structures are for example
  • Linear grating, cross grating or hexagonal grating with a grating period between 150 nm and 400 nm, preferably between 200 nm and 350 nm and more particularly with a grating depth of more than 150 nm, preferably more than 250 nm.
  • microimages are preferably understood to mean complete motifs and also incomplete motifs, that is to say fragments of motifs.
  • a motif can in particular be selected or a combination of image, symbol, logo, coat of arms, portrait and / or alphanumeric characters.
  • Registered or register or register accuracy or register accuracy or register accuracy or register accuracy or register accuracy is to be understood as a positional accuracy of two or more layers relative to one another.
  • the register accuracy should move within a specified tolerance and be as low as possible.
  • the register accuracy of several elements and / or layers to one another is an important feature in order to increase process reliability.
  • the positionally accurate positioning can be detected in particular by means of sensors, preferably optically Registration marks or register marks are made. These registration marks or register marks can either represent special separate elements or areas or layers or can themselves be part of the elements or areas or layers to be positioned.
  • the at least one layer to be structured which is applied in step d) and structured in step e) has a first layer
  • Photoresist layer comprises or is, which in particular remains in the multilayer body produced.
  • the at least one layer to be structured applied in step d) and structured in step e) has one or more, in particular at least two, layers selected from the group: photoresist layer, colored lacquer layer, metal layer.
  • the at least one layer to be structured applied in step d) and structured in step e) has one or more, in particular at least two layers selected from the group: at least one first photoresist layer, at least one first colored lacquer layer, at least a second colored lacquer layer, a first metal layer, at least one layer made of a transparent dielectric, a thin-film layer system.
  • the at least one structured layer to have at least one photoresist layer and / or at least one colored lacquer layer and / or at least is or comprises a metal layer. It is further possible for the at least one structured layer to have at least one first photoresist layer and / or at least one first colored lacquer layer and / or at least one second colored lacquer layer and / or a first metal layer and / or at least one layer made of a transparent dielectric and / or a Thin film layer system is or has.
  • the at least one structured layer has one or more, in particular at least two layers selected from the group: photoresist layer, colored lacquer layer, metal layer and / or that the at least one structured layer has one or more, in particular at least two layers, selected from the group: at least one first photoresist layer, at least one first colored lacquer layer, at least one second colored lacquer layer, a first metal layer, at least one layer made of a transparent dielectric, a thin-film layer system.
  • Microimages is formed by at least one structured layer, which is removed in areas such that the plurality of microimages arranged in a grid shape is formed. It is possible here for the at least one structured layer to comprise or is at least one first photoresist layer.
  • the at least one first photoresist layer is colored, in particular colored with dyes and / or pigments and / or has fluorescent substances on and / or is transparent. Even more preferably, the at least one first photoresist layer is applied over the entire area, in particular in a layer thickness between 0.5 ⁇ m and 1.5 ⁇ m. It is thus possible for the multiplicity of microimages, which are arranged in a grid-like manner, to be formed by the at least one first photoresist layer. It has been shown here that a very thin multilayer body can be produced with it, which at the same time has high-resolution microimages.
  • a positive photoresist in particular the solubility of which increases when activated by exposure, or a negative photoresist, in particular the solubility of which decreases when activated by exposure, is preferably used.
  • a positive photoresist is distinguished by the fact that this photoresist becomes soluble in a certain solvent, for example in acidic or basic aqueous solutions, in the exposed areas when there is sufficient exposure to a suitable wavelength, for example by means of UV radiation.
  • a suitable wavelength for example by means of UV radiation.
  • by exposure using the high-resolution separate mask it is consequently possible to preferably achieve colored areas of defined shape and size, which preferably form the multiplicity of microimages arranged in a grid-like manner.
  • a positive photoresist preferably comprises, for example, condensation polymer made from m- and p-cresol and formaldehyde (novolak resin), diazonaphthoquinone derivative (DNQ) and a solvent or solvent mixture, such as 1-methoxy-2-propyl acetate.
  • a negative photoresist in particular, is characterized by the fact that this lacquer cures with sufficient exposure to a suitable wavelength, for example by means of UV radiation, and thus becomes insoluble in a certain solvent, for example in acidic or basic aqueous solutions, in the exposed areas .
  • a suitable wavelength for example by means of UV radiation
  • a certain solvent for example in acidic or basic aqueous solutions
  • a negative photoresist is preferably based on epoxy resins and has low molecular weight organic compounds which in particular have more than one epoxy group per molecule. Furthermore, epoxy resins based on bisphenol-A and / or epoxidized phenol novolak and / or resorcinol diglycidyl are preferably used to produce negative photoresists.
  • the at least one layer can be structured applied in step d) and structured in step e) to comprise at least one first colored lacquer layer, which is in particular applied over the entire area to the at least one first photoresist layer. It is also possible here for the at least one first colored lacquer layer to be structured in register with the at least one first photoresist layer in step e). In other words, it is possible that at least one structured layer further comprises at least one first colored lacquer layer, which is applied in particular to the side of the at least one first photoresist layer facing away from the plurality of microlenses arranged in a grid pattern on the at least one first Photoresist layer is applied and is structured in register with the at least one first photoresist layer.
  • a colored lacquer layer is preferably understood here to mean a functional layer which, in particular, creates a color impression that can be perceived by a viewer.
  • color is preferably understood to mean a coloring which, with regard to transparency and / or clarity or scattering power, is preferably colored as crystal-clear or transparent, or colored in a scattering transparent manner, or also colored in an opaque manner.
  • the color preferably occurs as the intrinsic color of a material and / or is arranged as an additional colored layer in front of a layer in the viewing direction, the colored appearance of the layer underneath being modified in particular for an observer.
  • the color here preferably appears optically constant or invariable in its hue and / or its color saturation and / or in its transparency under almost all, in particular under all, viewing and / or illumination angles. It is also possible for the color itself to be optically variable, in particular the hue and / or the color saturation and / or the transparency of the color changing when the viewing and / or lighting angle changes.
  • Dyes and / or pigments are preferably suitable as coloring substances for colored lacquer layers. Pigments are preferably insoluble, in particular practically insoluble, in the medium into which they are integrated.
  • Dyes preferably dissolve and in particular lose during their use their crystal and / or particle structure.
  • Possible classes of dyes are, in particular, basic dyes, fat-soluble dyes or metal complex dyes.
  • Possible classes of pigments are, in particular, organic and inorganic pigments. Pigments are preferably built up from a material present in one piece and / or have complex structures, for example as a layer structure with a multiplicity of layers made of different materials and / or for example as capsules made of different materials, in particular with a core and shell.
  • the at least one first colored lacquer layer is preferably a layer which, in contrast to the at least one first photoresist layer itself, cannot be exposed or structured. Further preferably, the at least one first colored lacquer layer is structured in the same step in which the at least one first photoresist layer is structured. In this case, the at least one first is also preferred
  • the at least one first colored lacquer layer and the at least one first photoresist layer are structured in register with one another, in particular wherein the at least one first photoresist layer is arranged above the at least one first colored lacquer layer when viewed from the side of the plurality of microlenses arranged in a grid shape. Furthermore, this makes it possible in particular, as explained below, to generate multicolored microimages if, for example, the at least one first photoresist layer is colored and, together with the at least one first colored lacquer layer, produces multicolored microimages and / or a mixed color.
  • the at least one layer to be structured applied in step d) and structured in step e) has at least one second colored lacquer layer and / or at least one first metal layer and / or at least one layer made of a transparent dielectric and / or comprises or is at least one thin-film layer system, in particular which comprises a partially transparent metal layer, a dielectric spacer layer and an opaque metal layer, which is applied over the entire surface before the application of the at least one first photoresist layer to the side of the carrier layer opposite the plurality of microlenses arranged in a grid pattern.
  • the at least one second colored lacquer layer and / or the at least one first metal layer and / or the at least one layer made of a transparent dielectric and / or the at least one thin film layer system comprises a dielectric spacer layer and an opaque metal layer, with which at least one first photoresist layer is patterned in register.
  • the at least one structured layer further at least one second colored lacquer layer and / or at least one first metal layer and / or at least one layer made of a transparent dielectric and / or at least one thin film layer system, in particular which is a partially transparent metal layer, a dielectric spacer layer and comprises, comprises or is an opaque metal layer, which is arranged in particular on the side of the at least one first photoresist layer facing the plurality of microlenses arranged in a grid shape or are and are arranged in register with the at least one first photoresist layer and / or are arranged in register with one another.
  • the at least one structured layer to have at least one second colored lacquer layer and / or at least one first metal layer and / or at least one layer made of a transparent one
  • Dielectric and / or at least one thin film layer system comprises or is, which is or are preferably arranged between the carrier layer and the at least one first photoresist layer and more preferably is or are applied to the carrier layer or is or are arranged on this. It is further possible if these layers are arranged on the side of the carrier layer facing away from the plurality of grid-shaped arranged microlenses and / or, before the application of the at least one first photoresist layer, are applied over the entire surface of the carrier layer opposite the plurality of grid-shaped arranged microlenses are.
  • the at least one second colored lacquer layer and / or the at least one first metal layer and / or the at least one layer made of a transparent dielectric and / or the at least one thin-film layer system in particular which is a partially transparent metal layer, a dielectric spacer layer and an opaque Comprises metal layer
  • the at least one first photoresist layer are structured in register with one another, in particular wherein the at least one first photoresist layer when viewed from the side of the plurality of raster-shaped arranged microlenses below the at least one second colored lacquer layer and / or the at least one first metal layer and / or the at least one layer made of a transparent dielectric and / or the at least one thin-film layer system is arranged.
  • the at least one first photoresist layer is preferably removed again.
  • the layer thickness of the multilayer body can be further reduced and, in particular, depending on the chemical composition of the at least one first photoresist layer, the chemical and / or physical and / or mechanical stability of the multilayer body can also be increased.
  • the at least one first photoresist layer applied in step d) and structured in step e) advantageously contains UV-blocking additives. It is thus possible for the structured at least one first photoresist layer in the multilayer body to further contain UV-blocking additives which in particular absorb light from the ultraviolet wavelength range, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm. More preferably, such UV-blocking additives have no or only very little absorption in the wavelength range from 380 nm to 780 nm that is visible to the human eye.
  • the UV-blocking additives are advantageously, for example, benzotriazole derivatives, which are used in the corresponding layers in particular with a mass fraction in a range of approx. 3% to 5%.
  • Suitable organic UV absorbers are, for example, sold under the trade name Tinuvin ® by BASF, Ludwigshafen, Germany.
  • the method further comprises the following steps, which are carried out in particular after step e): Application of at least one second photoresist layer to the at least one first photoresist layer, in particular wherein the at least one second photoresist layer has an exposure principle that is complementary to the at least one first photoresist layer and / or wherein the solubility of the at least one second photoresist layer is different
  • Exposure wavelength is changed than in the case of the at least one first photoresist layer
  • a complementary exposure principle is understood here to mean, in particular, the use of an exposure principle that counteracts the exposure principle of the at least one first photoresist layer.
  • the complementary exposure principle is preferably understood to mean that a positive photoresist, in particular its solubility increases when activated by exposure, to form the at least one first photoresist layer, and a negative photoresist, in particular its solubility decreases when activated by exposure, to form the at least one second photoresist layer, is used or vice versa.
  • the at least one photoresist layer and the at least one second photoresist layer are arranged in exact register with one another, in particular since the already structured at least one first photoresist layer acts as a mask for the UV-blocking additives Structuring of the at least one second photoresist layer is used. If, for example, the at least one first and the at least one second photoresist layer are colored with different colors, these are then precisely registered with one another.
  • the multilayer body further comprise at least one second photoresist layer, in particular wherein the at least one second photoresist layer has an exposure principle that is complementary to the at least one first photoresist layer and / or wherein the solubility of the at least one second photoresist layer is different
  • Exposure wavelength can be changed than in the case of the at least one first photoresist layer, and wherein the at least one second photoresist layer is arranged in perfect register next to the at least one first photoresist layer.
  • the at least one third photoresist layer is then preferably removed again.
  • the photoresist layers, in particular the at least one first and / or second and third photoresist layer are resist layers, in particular photoresist layers.
  • the exposure source is preferably a UV lamp or UV LED, for example.
  • the multilayer body further comprises at least one second metal layer and / or at least one third photoresist layer, which is applied in particular to the at least one first photoresist layer on the side of the at least one first photoresist layer facing away from the plurality of grid-shaped microlenses, and wherein the at least one second metal layer and / or the at least one third photoresist layer is arranged in register with the at least one first and / or third photoresist layer.
  • the at least one second metal layer and / or the at least one first and / or third photoresist layer are structured with one another in perfect register, in particular since the already structured at least one first photoresist layer acts as a mask for structuring the at least one due to the UV-blocking additives a third photoresist layer is used. It is further preferred if the at least one first and / or second and / or third photoresist layer is developed, in particular in step e).
  • the method further comprises the following step: Removal of the at least one first and / or second and / or third
  • a positive photoresist in particular its solubility increases when activated by exposure
  • a negative photoresist in particular its solubility decreases when activated by exposure
  • the layer thickness of the at least one first and / or second and / or third photoresist layer is advantageously less than 15 ⁇ m, preferably less than 5 ⁇ m.
  • step d) at least one third colored lacquer layer and / or at least one partially transparent metal layer and / or at least one dielectric spacer layer is applied to the carrier layer, in particular over the entire area, preferably the at least one third colored lacquer layer and / or the at least a partially transparent metal layer and / or the at least one dielectric spacer layer is not structured in step e).
  • the multilayer body prefferably has at least one third colored lacquer layer and / or at least one partially transparent metal layer and / or comprises at least one dielectric spacer layer, which is preferably applied over the entire surface of the carrier layer and / or is more preferably arranged between the carrier layer and the at least one structured layer, in particular the at least one first photoresist layer, or the printing layer or the second replication lacquer layer.
  • the multilayer body comprises one or more colored lacquer layers, preferably two or more colored lacquer layers, more preferably the at least one third and / or the at least one fourth and / or the at least one fifth colored lacquer layer. It is also further possible that the multilayer body further comprises one or more photoresist layers, preferably two or more photoresist layers, further preferably the at least one first and / or the at least one second photoresist layer. Furthermore, it is also possible that the multilayer body further comprises one or more metal layers, preferably two or more metal layers, more preferably the at least one first and / or the at least one second and / or the at least one third metal layer.
  • the method further comprises at least one of the following steps:
  • one or more colored lacquer layers preferably the at least one third and / or fourth colored lacquer layer, in particular on the carrier layer, preferably before step d), and / or on the at least one layer to be structured, preferably after step e);
  • the one or more colored lacquer layers preferably the two or more colored lacquer layers, more preferably the at least one third and / or the at least one fourth and / or the at least one fifth colored lacquer layer, in particular in the CIELAB color space, have a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, for the at least one layer to be structured.
  • the one or more colored lacquer layers preferably of the two or more colored lacquer layers, more preferably of the at least one third and / or the at least one fourth and / or the at least one fifth colored lacquer layer and the at least one to be structured Layer that layer which faces the first replication lacquer layer, a darker color, in particular with a low brightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the plurality of those arranged in a grid-like manner
  • Microlenses ago is arranged behind it, the lighter color, in particular with a higher brightness value L, has.
  • the one or more colored lacquer layers preferably the at least one, applied, preferably before step d) and / or after step e), more preferably on the carrier layer and / or on the at least one layer to be structured third and / or fourth colored lacquer layer, in particular a total color difference in the CIELAB color space dE from 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, for the at least one layer to be structured.
  • the one or more colored lacquer layers applied preferably before step d) and / or after step e), more preferably to the carrier layer and / or to the at least one layer to be structured, preferably the at least one third and / or fourth colored lacquer layer, and of the at least one layer to be structured, that layer which faces the first replication lacquer layer, a darker color, in particular with a low brightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the plurality of raster-shaped arranged microlenses her, is arranged behind, the lighter color, in particular with a higher brightness value L, has.
  • Color ordazzlingness or single color or single color is understood in particular as a color location in a color space.
  • the color space can in particular be the CIELAB color space.
  • Different or differing colors or color contrast are understood to mean, in particular, a color distance dE between two color locations in a color space.
  • the color space can in particular be the CIELAB color space.
  • a different color that is sufficiently well perceptible for the human eye preferably has a color difference dE in the CIELAB color space of at least 2, preferably dE of at least 3, particularly preferably dE of at least 5.
  • the color locus, in particular in the CIELAB color space is preferably determined using a color measuring device such as the Datacolor 650 spectrophotometer.
  • the value of dE (also Delta E or DE) between the color locations (L *, a *, b *) P and (L *, a *, b *) is preferably calculated as a Euclidean distance:
  • the brightness value L * is perpendicular to the color plane (a * b *).
  • the a-coordinate indicates the color type and color intensity between green and red and the b-coordinate the color type and the color intensity between blue and yellow.
  • L * can advantageously assume values between 0 and 100 and a and b can vary between -128 and +127.
  • step e) at least a fourth colored lacquer layer and / or at least a third metal layer and / or at least one further replication lacquer layer is applied to the at least one layer to be structured, in particular over the entire area, preferably with one in the further replication lacquer layer at least regionally Relief structure is embossed.
  • the multilayer body further comprises at least one fourth colored lacquer layer and / or at least one third metal layer and / or at least one further replication lacquer layer, which is preferred is applied over the entire area and / or is more preferably arranged or applied on the side facing away from the carrier layer of the at least one structured layer, in particular the at least one first photoresist layer, or the printing layer or the second replication lacquer layer.
  • a relief structure is embossed at least in some areas in the further replication lacquer layer.
  • the plurality of grid-shaped microimages are arranged in an at least regional overlap with the plurality of grid-shaped microlenses to generate a first optically variable effect, in particular when viewed from the side of the plurality of grid-shaped microlenses.
  • the plurality of microimages arranged in a grid-like manner to overlap at least in certain regions and microlenses with the relief structure embossed in the further replication lacquer layer overlap, completely overlap or not overlap at least in some areas.
  • the relief structure this is a diffractive grating, a Kinegram ® or hologram, a blazed grating, a binary grating, a multi-level phase grating, a linear grating, a cross grid, a hexagonal grid, an asymmetrical or symmetrical lattice structure, a retroreflective structure, in particular a binary or continuous freeform surface, a diffractive or refractive macrostructure, in particular a lens structure or microprism structure, a microlens, a microprism, a zero order diffraction structure, a moth's eye structure or anisotropic or isotropic matt structure, or an overlay or combination of two or more of the aforementioned relief
  • the at least one first and / or second and / or third photoresist layer and / or the carrier layer is preferably colored, in particular colored with dyes and / or pigments.
  • C cyan
  • M magenta
  • Y yellow
  • K black
  • the dyes to generate a color from a special color space, such as the RAL, HKS or Pantone ® color space.
  • the dyes more preferably produce a color from the CIELAB color space.
  • the at least one first and / or second and / or third photoresist layer can be colored with Orasol dyes and / or Microlith color pigments and / or Luconyl. It is also useful if the at least one first and / or second and / or third photoresist layer has fluorescent substances, which are excited in particular by means of UV radiation, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm.
  • the at least one first and / or second and / or third photoresist layer is transparent, in particular that the at least one first and / or second and / or third photoresist layer transmits visible light, preferably from the wavelength range between 380 nm and 780 nm, of more than 50%, preferably more than 70%, more preferably more than 85%, even more preferably more than 90%.
  • multicolored microimages by corresponding coloring of the at least one first and / or second and / or third photoresist layer and / or the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer and / or the carrier layer if, for example, the at least one first photoresist layer is colored and, together with the at least one first colored lacquer layer, generates multicolored microimages and / or a mixed color.
  • the colored lacquer layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer, preferably have at least one binder, at least one additive and one or more fillers.
  • Binding agents are preferably polymer-based systems and their mixtures, such as polyester, polyacrylate, polymethacrylate, Polyurethane, polystyrene, polybutyrate, nitrocellulose, polyvinyl chlorides, ethylene vinyl acetates, their copolymers or similar polymers, understood.
  • Additives here are preferably understood to mean organic or inorganic substances that improve the processing properties, for example when
  • Fillers are preferably understood here to mean all other materials added to a system, in particular a polymer-based system, such as silica, pigments, dyes, UV-blocking additives, tracers, in particular taggants, and / or similar materials.
  • the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer may be used as a mask layer.
  • these colored layers preferably have UV-blocking additives as filler and / or additive, which in particular absorb light from the ultraviolet wavelength range, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm. More preferably, such UV-blocking additives have no or only very little absorption in the wavelength range from 380 nm to 780 nm visible to the human eye, in particular so that the other optical appearance for the human eye is not or only very slightly influenced.
  • the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer is designed as a translucent colored lacquer layer, in particular as a transparent or translucent colored lacquer layer.
  • the colors of the colored lacquer layers, in particular of the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer are advantageously transparent or at least translucent, the transmittance preferably being between 5% and 99%, in particular in the wavelength range of 380 nm to 780 nm, preferably in the sub-range from 430 nm to 690 nm.
  • optically variable effects of the optically variable structures arranged from the viewing direction of the viewer below the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer can be detected.
  • the colored lacquer layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer, are formed from and / or consist of several different colors, whereby these preferably also include areas with color mixing from one have first and second colors, which are preferably created by means of overlapping and / or by rastering the colored lacquer layers, in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer.
  • the color saturation of the colored lacquer layers in particular of the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer, to vary.
  • the color coating layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth color coat layer, a color of a specific color space, such as the RAL, FIKS- or Pantone
  • Color lacquer layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth color lacquer layer, a color from the CIELAB color space. It is advantageous if the layer thickness of the colored layers, in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer, is between 0.1 ⁇ m and 10 ⁇ m, preferably between 0.1 ⁇ m and 5 ⁇ m .
  • the colored lacquer layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth colored lacquer layer, are advantageously formed by printing, in particular by means of offset printing and / or gravure printing and / or flexographic printing and / or inkjet printing. In particular, in order to achieve sufficient contrast, the colors of the corresponding layers are preferably chosen as follows:
  • the layers selected from the group at least one first photoresist layer, at least one second photoresist layer, at least one first colored lacquer layer, at least one second colored lacquer layer, at least one third colored lacquer layer, at least one fourth colored lacquer layer, at least one fifth colored lacquer layer, at least one first metal layer, at least one second metal layer, at least one third metal layer, at least one Layer made of a transparent dielectric, at least one thin-film layer system, colored carrier layer that layer which faces the first replication lacquer layer has a darker color, in particular with a low brightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the large number of the grid-like arranged
  • Microlenses ago arranged behind it, the lighter color, in particular with a higher brightness value L, on.
  • the layers are selected from the group, in particular if at least two of the layers are selected from the group: at least one first photoresist layer, at least one second photoresist layer, at least one first colored lacquer layer, at least one second colored lacquer layer, at least one third colored lacquer layer, at least one Fourth color lacquer layer, at least one fifth color lacquer layer, at least one first metal layer, at least one second metal layer, at least one third metal layer, at least one layer made of a transparent dielectric, at least one thin-film layer system, colored carrier layer in the CIELAB color space, in particular each with a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, to one another.
  • dE total color distance
  • the at least one layer to be structured which is applied in step d) and structured in step e) or the at least one structured layer has at least two layers selected from the group: at least one first photoresist layer, at least one first colored lacquer layer, comprises at least one second colored lacquer layer, at least one first metal layer, in particular wherein the at least two layers in the CIELAB color space each have a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, to one another, and / or wherein of the at least two layers that layer which faces the first replication lacquer layer is a darker color, in particular with a low brightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the plurality of grid-like arranged microlenses, is arranged behind it , which has a lighter color, in particular with a higher brightness value L.
  • the at least one layer to be structured or the at least one structured layer applied in step d) and structured in step e) has at least two layers selected from the group: one or more photoresist layers, one or more colored lacquer layers , comprises one or more metal layers, in particular where the at least two layers in the CIELAB color space each have a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, to one another, and / or where of the at least two Layers that layer which faces the first replication lacquer layer has a darker color, in particular with a low lightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the plurality of grid-like arranged microlenses, is arranged behind it, the lighter color, in particular with a higher brightness value L.
  • At least two layers are selected from the group: one or more photoresist layers, one or more colored lacquer layers, one or more metal layers in the CIELAB color space, in particular a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferred from 130 to 270, to one another, and / or if selected from at least two layers from the group: one or several photoresist layers, one or more colored lacquer layers, one or more metal layers that layer which faces the first replication lacquer layer is a darker color, in particular with a low brightness value L, and that layer which, when viewed from the side of the plurality of the grid-like arranged
  • Microlenses ago is arranged behind it, the lighter color, in particular with a higher brightness value L, has.
  • the color space in particular is represented by a sphere, this being defined by the three axes of brightness L, red-green axis a and yellow-blue axis b.
  • L 100 white
  • L 0 black
  • contrast is preferably understood to mean the total color difference dE.
  • the method expediently further comprises at least one of the following steps, in particular which is carried out before step e): Production of the high-resolution separate mask by means of electron beam lithography and / or by means of laser beam lithography, in particular in a chrome-coated glass substrate;
  • the high-resolution separate mask comprises the following layers: a glass substrate, in particular made of high-purity quartz glass or calcium fluoride, a chromium layer, in particular an optically dense chromium layer, optionally an adhesion promoter layer and optionally a pellicle.
  • a pellicle is understood here to mean, in particular, a thin, transparent membrane which covers the high-resolution separate mask.
  • the pellicle preferably serves as a protective layer which in particular protects the high-resolution separate mask from contamination.
  • the pellicle is advantageously designed to be transparent and consists of a thin polymer material. It is also useful if step e) further comprises at least one of the following steps:
  • the plurality of microimages arranged in a grid-like manner is further essentially distortion-compensated and / or angularly compensated for the multiplicity of microlenses arranged in a grid-like manner, and / or that the angularity between the multiplicity of micro-images arranged in a grid-like manner and the multiplicity of microlenses arranged in a grid-like manner is less than 0.5 °, preferably less than 0.3 °, more preferably less than 0.1 °, even more preferably less than 0.05 °.
  • a high-resolution separate mask with structures smaller than 10 ⁇ m, preferably smaller than 5 ⁇ m, more preferably smaller than 2.5 ⁇ m, is used in step e).
  • the structures are preferably formed by the chrome layer, in particular the optically dense chrome layer.
  • the plurality of grid-shaped microimages is formed such that the plurality of grid-shaped microimages each consist of one or more pixels, in particular the shortest edge length or the smallest diameter of a pixel is less than 10 pm, preferably less than 5 pm, particularly preferably less than 2.5 pm.
  • the multiplicity of microlenses arranged in a grid shape each have a lens focal length between 10 ⁇ m and 50 ⁇ m, preferably between 15 ⁇ m and 40 ⁇ m. It is also useful if the grid of the plurality of grid-shaped arranged microlenses has a period between 5 gm and 70 gm, preferably between 5 gm and 50 gm, more preferably between 10 gm and 40 gm, and / or that the plurality of grid-shaped arranged Microlenses have a lens diameter between 5 gm and 70 gm, preferably between 5 gm and 50 gm, more preferably between 10 gm and 40 gm.
  • the plurality of microlenses arranged in a grid shape preferably has a hemispherical geometry and / or a flattened hemispherical geometry and / or a geometry similar thereto.
  • the grid of the plurality of microlenses arranged in a grid shape is a one- or two-dimensional grid. It is also conceivable that, in particular in the case of a two-dimensional grid, the
  • Microlenses are arranged offset in lines, preferably offset by half a lens diameter and / or lens spacing.
  • the plurality of microlenses arranged in a grid-like manner, in particular in step c), to be or are molded over the entire surface or partially or in areas. It is also possible that the plurality of microlenses arranged in a grid shape are shaped or arranged in areas with a different period, with a different lens diameter, a different geometry and / or a different lens focal length. Furthermore, it is possible for the multiplicity of microlenses arranged in a grid shape or the first replication lacquer layer to be colored and / or colored differently.
  • the first and / or second and / or the further replication lacquer layer is preferably a functional layer into which structures, in particular surface structures, are introduced and / or fixed, preferably by means of thermal replication and / or UV replication.
  • structures in particular surface structures, are introduced and / or fixed, preferably by means of thermal replication and / or UV replication.
  • thermal replication and / or UV replication preferably by means of thermal replication and / or UV replication.
  • the first and / or second and / or the further replication lacquer layer is a hybrid replication lacquer layer which is, for example, thermally replicated and then cured by means of radiation, in particular by means of UV radiation and / or by means of electron beams.
  • the replication lacquer layer is replicated at room temperature and then cured by means of UV radiation.
  • step b) the first replication lacquer layer is applied with an application weight between 5 g / m 2 and 10 g / m 2.
  • the layer thickness of the first and / or second and / or further replication lacquer layer is between 0.1 ⁇ m and 50 ⁇ m, preferably between 0.1 ⁇ m and 30 ⁇ m, more preferably between 0.3 ⁇ m and 20 ⁇ m further preferably between 0.5 pm and 20 pm, furthermore preferably between 0.5 pm and 10 pm.
  • the first replication lacquer layer and / or the second replication lacquer layer and / or the further replication lacquer layer have fluorescent substances which are excited in particular by means of UV radiation, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm. This makes it possible, in particular, for visible light to be decoupled from the first and / or second and / or the further replication lacquer layer when irradiated with UV radiation.
  • the fluorescent substances are preferably
  • Perylene dyes such as, for example, Lumogen F types, in particular Lumogen F Red 305, Lumogen F Yellow 170, Lumogen F Pink 285, Lumogen F Orange 240 or Lumogen F Yellow 083, from BASF, Ludwingshafen, Germany. It is also possible that the fluorescent substances are Phosphor S6, Uvitex OB / Tinopal OB, Uvitex FP,
  • perylene dyes to binder is between 0.01% to 20%, preferably between 0.1% and 15%, more preferably between 0.2% and 10%, in particular where polyacrylates, Polyurethanes, epoxides, polyesters, polyvinyl chlorides, rubber polymers, ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-vinyl acetates, polyvinyl acetates, styrene block copolymers, phenol-formaldehyde resin adhesives, melamines, alkenes, allyl ethers, vinyl acetate, alkyl vinyl ethers, conjugated dienes, styrene, acrylates and / or copolymer resins or mixtures thereof can be used.
  • the multiplicity of microimages arranged in a grid-like manner is formed by a printing layer which is applied in certain areas in such a way that the multiplicity of microscopic images arranged in a grid-like manner Microimages is formed by the printing layer, in particular wherein the printing layer is applied by means of a high-resolution digital printer.
  • the multi-layer body has a control structure applied in particular by means of a high-resolution digital printer, which is preferably applied to the side of the carrier layer opposite the plurality of microlenses arranged in a grid.
  • the high-resolution digital printer in particular the first and / or the second high-resolution digital printer, advantageously has a resolution of at least 6000 dpi, preferably at least 12000 dpi, more preferably at least 24000 dpi.
  • the detection device is an optical sensor, such as a CMOS sensor and / or CCD sensor.
  • step g) an angulation and / or a warpage is further detected on the basis of the control structure.
  • the plurality of raster-shaped microimages formed in step h) of the printing layer is applied to the plurality of raster-shaped micro-lenses, with the angular deflection also preferably being less than 0 .5 °, preferably less than 0.3 °, more preferably less than 0.1 °, even more preferably less than 0.05 °. It is also possible if the method further comprises the following step, in particular that is carried out between steps g) and h):
  • step h at least a fourth metal layer and / or at least one layer made of a transparent dielectric and / or at least a fifth colored lacquer layer on the
  • Print layer is applied. This results in a colored background or an increase in contrast, for example.
  • Microlenses on the opposite side of the carrier layer wherein plasmonic subwavelength structures are molded into the second replication lacquer layer in such a way that the plurality of raster-like arranged microimages is formed by the molded subwavelength structure, and wherein the multilayer body further comprises a metal layer, which in particular directly on the one having the plasmonic subwavelength structures Side of the second replication lacquer layer is applied.
  • the microimages themselves or the background of the microimages can have the plasmonic subwavelength structures and the respective other area can have mirror surfaces and / or non-plasmonic structures such as, for example, matt scattering structures.
  • the microimages themselves can have plasmonic subwavelength structures and the background of the microimages has a mirror surface and / or non-plasmonic structures such as matt scattering structures or the microimages themselves preferably have a mirror surface and / or non-plasmonic structures such as matt scattering structures and the background of the microimages has plasmonic subwavelength structures.
  • Both the microimages and the background of the microimages preferably have plasmonic subwavelength structures. It has proven to be advantageous here if the colors of the plasmonic subwavelength structures are more of a light shade such as light magenta and the other color is a more dark shade such as black or dark gray.
  • step k) the metal layer is applied in such a way that plasmonic colors are generated by the interaction of the plasmonic subwavelength structure molded into the second replication lacquer layer and the metal layer.
  • the plasmonic subwavelength structure preferably comprises grating structures selected from the group consisting of two-dimensional gratings, cross gratings, and hexagonal gratings. More preferably, such grating structures have a grating period between 150 nm and 400 nm and more preferably between 200 nm and 350 nm and a relief depth between 50 nm and 400 nm and more preferably between 150 nm and 350 nm.
  • the metal layer is only in the Areas with the plasmonic sub-wavelength structures removed or only removed in the areas without these sub-wavelength structures.
  • structuring methods can also be used for this, as described in particular in WO 2006084686 A2, in which, due to a relief structure configured differently in areas, a photosensitive layer or washing mask is exposed differently in accordance with the areas of the relief structure, and thereby the metal layer according to the different Exposure is removed in areas and is retained in areas.
  • step i) at least one color filter layer is applied to the carrier layer, in particular over the entire area, preferably applied to the side of the carrier layer opposite the plurality of microlenses arranged in a grid.
  • the metal layers are expediently layers of aluminum, silver, chromium, copper, tin, indium, gold, Zinc or an alloy of the aforementioned metals.
  • the metal layer which is applied to the side of the second replication lacquer layer having the plasmonic subwavelength structures is preferably a layer made of aluminum, silver, copper or an alloy of the aforementioned metals.
  • the metal layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth metal layer and / or the metal layer, are layers of aluminum or silver blackened by oxidation, such as, for example substoichiometric AlxOy.
  • the metal layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth metal layer and / or the metal layer, are advantageously formed by vapor deposition or sputtering.
  • the layer thickness of the metal layers is between 3 nm and 300 nm, preferably between 5 nm and 100 nm, lies.
  • the metal layers in particular the at least one first and / or second and / or third and / or fourth metal layer and / or the metal layer, serve as metallic mirror layers or as semitransparent absorber layers.
  • the layer thickness of the metal layers for the function as a metallic mirror layer is preferably more than 15 nm.
  • the layer thickness of the metal layers is less than 15 nm second and / or third and / or fourth metal layer and / or the metal layer, formed by applying paints containing metal pigments
  • the layer thickness is preferably between 0.1 gm and 50 gm, more preferably between 1 gm and 20 gm.
  • the carrier layer is preferably a single or multilayer film, the one or more layers of which consist in particular of the following materials or combinations thereof: polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), polyethylene (PE), polyethylene naphthalate (PEN), polycarbonate (PC), polyvinyl chloride (PVC), polyoxydiphenylene pyromellitimide (Kapton) or other polyimides, polylactate (PLA), polymethyl methacrylate (PMMA) or acrylonitrile butadiene styrene (ABS).
  • PET polyethylene terephthalate
  • PP polypropylene
  • PE polyethylene
  • PEN polyethylene naphthalate
  • PC polycarbonate
  • PVC polyvinyl chloride
  • PMMA polyoxydiphenylene pyromellitimide
  • ABS acrylonitrile butadiene styrene
  • the layer thickness of the carrier layer is preferably between 1 ⁇ m and 500 ⁇ m, more preferably between 6 ⁇ m and 75 ⁇ m, even more preferably between 12 ⁇ m and 50 ⁇ m.
  • step a) a carrier layer precoated with an adhesion promoter layer, in particular on one or both sides, is provided.
  • an adhesion promoter layer is applied to the carrier layer before step b) and / or before step i), in particular the first and / or second subsequently in step b) and / or in step i) Replication lacquer layer is applied to the adhesion promoter layer applied to the carrier layer.
  • the multilayer body further comprises at least one adhesion promoter layer, in particular wherein the at least one adhesion promoter layer is arranged between the carrier layer and the first and / or second replication lacquer layer.
  • the layer thickness of the adhesion promoter layer is preferably between 0.01 gm and 15 gm, more preferably between 0.1 gm and 5 gm.
  • the adhesion promoter layer advantageously consists of polyester, epoxy, polyurethane, acrylate and / or copolymer resins or mixtures thereof. It is also possible for the adhesive layer to be thermoplastic, UV-curable, as a hybrid variant (thermoplastic and UV-curable), as a cold adhesive or as a self-adhesive adhesive layer.
  • the multi-layer body further comprises at least one primer layer, in particular wherein the at least one primer layer is applied to the side of the plurality of microimages arranged in a grid-like manner facing away from the carrier layer.
  • the primer layer advantageously forms the outermost layer of the multilayer body, which in particular lies opposite the large number of microlenses arranged in a grid-like manner.
  • the at least one primer layer is preferably a thermally activatable layer, which further preferably is a
  • the primer layer has a layer thickness between 0.3 gm and 25 gm and is preferably applied over the entire surface.
  • the primer layer can in particular have a single-layer or multilayer structure. Furthermore, the primer layer can preferably be built up on an aqueous, solvent-containing or radiation-curing basis and / or combinations thereof.
  • binders for the primer layer polyacrylates, polyurethanes, epoxies, polyesters, polyvinyl chlorides, Rubber polymers, ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-vinyl acetates, polyvinyl acetates, styrene block copolymers, phenol-formaldehyde resin adhesives, melamines, alkenes, allyl ethers, vinyl acetate, alkyl vinyl ethers, conjugated dienes, styrene, acrylates and the mixtures of the above raw materials and their copolymers.
  • water aliphatic (gasoline) hydrocarbons, cycloaliphatic hydrocarbons, terpene hydrocarbons, aromatic (benzene) hydrocarbons, chlorinated hydrocarbons, esters, ketones, alcohols, glycols, glycol ethers, glycol ether acetates can be used as solvents.
  • hardeners such as leveling additives, defoamers, deaerators, dispersing additives, wetting agents, lubricants, matting agents, rheological additives, pigments and dyes or waxes can be added to the primer layer.
  • the primer layer is preferably applied by means of a printing process such as, for example, gravure printing, screen printing, flexographic printing, inkjet printing, pouring or by means of a doctor blade process.
  • a printing process such as, for example, gravure printing, screen printing, flexographic printing, inkjet printing, pouring or by means of a doctor blade process.
  • the method further comprises the following step:
  • the multi-layer body to further comprise at least one edge emitter layer, which on top of the plurality of arranged microlenses opposite side of the carrier layer and / or on the plurality of grid-shaped arranged microlenses, in particular on which the viewer facing side of the plurality of grid-shaped arranged microlenses is arranged.
  • the at least one edge emitter layer is preferably a layer composed of binders and auxiliaries, for example additives, in particular the edge emitter layer further preferably having fluorescent substances.
  • binders and the fluorescent substances reference is made to the above statements.
  • step e) and / or step h) and / or step j) the plurality of grid-shaped microimages are registered, applied, molded, structured and / or formed to the plurality of grid-shaped microlenses.
  • step e) the plurality of microimages arranged in a grid shape are formed by the regions in which the at least one layer to be structured is or is not removed, and / or that in step h) the plurality of grid-like arranged microimages are formed by the areas of the printing layer in which the printing layer is applied or not applied, and / or that in step j) the plurality of grid-like arranged microimages are formed by the areas in which the plasmonic subwavelength structure is molded or not taking an impression. It is also preferred if the total thickness of the multilayer body is less than 50 ⁇ m, preferably less than 35 ⁇ m, even more preferably less than 25 ⁇ m.
  • 1a shows schematically a sectional illustration of a multilayer body
  • FIGS. 1b to 1d schematically show a method for providing a
  • FIG. 2 schematically shows a method for producing a high-resolution separate mask
  • FIGS. 3a to 3c show schematic sectional representations of multilayer bodies
  • FIGS. 4a and 4b show a method for creating a multilayer body and a multilayer body
  • FIGS. 7 to 10 show schematic sectional representations of multilayer bodies
  • FIGS. 11 a to 11 c show schematic sectional views of
  • FIGS. 12a and 12b show schematic sectional representations of multilayer bodies
  • FIG. 1a schematically shows a sectional illustration of a multilayer body 1.
  • the multilayer body 1 is preferably a multilayer security element for securing security documents.
  • the multi-layer body comprises a carrier layer 10 and a replication lacquer layer 11a applied to the carrier layer 10, in which a plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape is molded. Furthermore, the multilayer body has a plurality of grid-shaped microimages 15 arranged on the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of grid-shaped arranged microlenses 12, in particular the plurality of grid-shaped arranged microimages 15 being registered to the plurality of grid-shaped arranged microlenses 12.
  • the carrier layer 10 is preferably a single or multilayer film, the one or more layers of which consist in particular of the following materials or combinations thereof: polyethylene terephthalate (PET), polypropylene (PP), polyethylene (PE),
  • the layer thickness of the carrier layer 10 is preferably between 1 gm and 500 gm, more preferably between 6 gm and 75 gm, even more preferably between 12 gm and 50 gm.
  • the carrier layer 10 shown in FIG. 1 a is, for example, a carrier layer made of PET with a layer thickness of 12 ⁇ m. With regard to further possible configurations of the carrier layer 10, reference is made to the above statements.
  • the multilayer body 1 has a flaft mediator layer 13, which is arranged between the plurality of microlenses 12 arranged in the form of a grid and the carrier layer 10.
  • a carrier layer 10 precoated on one side with the flaft mediating layer 13 is expediently provided.
  • the layer thickness of the flaft mediating layer 13 is preferably between 0.01 gm and 15 gm, more preferably between 0.1 gm and 5 gm.
  • the flaft mediating layer 13 consists of polyester, epoxy, polyurethane, acrylate and / or copolymer resins or mixtures thereof.
  • the flaft mediator layer it is also possible for the flaft mediator layer to be thermoplastic, UV-curable, a flybridge variant (thermoplastic and UV-curable), a cold adhesive or a self-adhesive flaft mediator layer.
  • the flaft mediating layer 13 shown in FIG. 1 a is, for example, a flaft mediating layer made of epoxy with a layer thickness from 1 m ⁇ ti.
  • a flaft mediating layer made of epoxy with a layer thickness from 1 m ⁇ ti.
  • the multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid shape are molded into the replication lacquer layer 11a.
  • the replication lacquer layer 11a is preferably a functional layer into which structures, in particular surface structures, are introduced and / or fixed, preferably by means of thermal replication and / or UV replication.
  • the replication lacquer layer 11a is a hybrid replication lacquer layer which is, for example, thermally replicated and then cured by means of radiation, in particular by means of UV radiation and / or by means of at least one electron beam.
  • the replication lacquer layer 11a is replicated at room temperature and then cured by means of UV radiation.
  • the layer thickness of the replication lacquer layer 11a is between 0.1 ⁇ m and 50 ⁇ m, preferably between 0.1 ⁇ m and 30 ⁇ m, more preferably between 0.3 ⁇ m and 20 ⁇ m, even more preferably between 0.5 ⁇ m and 20 pm, furthermore preferably between 0.5 pm and 10 pm.
  • the replication lacquer layer 11a has fluorescent substances which are excited in particular by means of UV radiation, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm.
  • the replication lacquer layer 11a shown in FIG. 1a is, for example, a UV-curable layer which was applied in a layer thickness of 30 ⁇ m.
  • the multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid shape each have a lens focal length between 10 ⁇ m and 50 ⁇ m, preferably between 15 ⁇ m and 40 ⁇ m.
  • the grid of the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape has a period between 5 ⁇ m and 70 ⁇ m, preferably between 5 ⁇ m and 50 ⁇ m, more preferably between 10 ⁇ m and 40 ⁇ m, and / or that the plurality of microlenses 12 arranged microlenses 12 have a lens diameter between 5 pm and 70 pm, preferably between 5 pm and 50 pm, more preferably between 10 pm and 40 pm.
  • the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape preferably has a hemispherical geometry and / or a flattened hemispherical geometry and / or a geometry similar thereto.
  • the grid of the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape is a one- or two-dimensional grid.
  • the microlenses 12 are arranged offset by line, preferably offset by half a lens diameter and / or lens spacing.
  • the plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner are, for example, flattened hemispherical microlenses with a lens diameter of 25 ⁇ m each and a lens focal length of 30 ⁇ m, which are arranged according to a two-dimensional grid.
  • the plurality of microimages 15 arranged in a grid shape preferably each consist of one or more pixels, with the shortest edge length or the smallest diameter of a pixel being less than 10 ⁇ m, preferably less than 5 ⁇ m, particularly preferably less than 2.5 ⁇ m.
  • FIGS. 1b to 1d schematically show methods for producing a multilayer body 1.
  • 1b shows a method for producing a multilayer body 1, in particular a multilayer security element for securing security documents, the method comprising the following steps, which are carried out in the following sequence in particular: a) providing a carrier layer 10; b) applying a replication lacquer layer 11a to the carrier layer 10; c) molding a plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape in the replication lacquer layer 11a; d) applying a layer 14 to be structured to the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape; e) Structuring of the one layer 14 to be structured using a high-resolution separate mask 23 in such a way that a plurality of microimages 15 arranged in a grid-like manner are formed by removing the one layer 14 to be structured in regions.
  • the layer 14 to be structured, applied in step d) and structured in step e), is a photoresist layer 16a, which remains in particular in the multilayer body 1 produced. More preferably, the photoresist layer 16a is colored, in particular colored with dyes and / or pigments, has fluorescent substances and / or is transparent.
  • the photoresist layer 16a is initially applied over the entire area, in particular in a layer thickness between 0.5 ⁇ m and 1.5 ⁇ m.
  • step e) further comprises at least one of the following steps:
  • the high-resolution separate mask is brought together with contact with the photoresist layer 16a applied to the carrier layer 10 and, in particular, the photoresist layer 16a is subsequently exposed through the mask.
  • the photoresist layer 16a is thereby preferably exposed in the surface areas in which the mask is permeable or transparent for the respective exposure radiation.
  • the photoresist layer 16a is then in particular developed and structured.
  • microimages 15, which are arranged in the form of a grid, of the photoresist layer 16a to be formed in the multiplicity of FIG. 1 a.
  • a high-resolution separate mask with structures smaller than 10 ⁇ m, preferably smaller than 5 ⁇ m, more preferably smaller than 2.5 ⁇ m, is used in step e).
  • a high-resolution separate mask with structures smaller than 10 ⁇ m, preferably smaller than 5 ⁇ m, more preferably smaller than 2.5 ⁇ m is used in step e).
  • a positive photoresist is preferred for forming the photoresist layer 16a, in particular the solubility of which increases when activated by exposure, or a negative photoresist, in particular the solubility of which decreases when activated by exposure, is used.
  • a positive photoresist is distinguished by the fact that this photoresist becomes soluble in a certain solvent, for example in acidic or basic aqueous solutions, in the exposed areas when there is sufficient exposure to a suitable wavelength, for example by means of UV radiation.
  • a suitable wavelength for example by means of UV radiation.
  • by exposure using the high-resolution separate mask it is consequently possible to preferably achieve colored areas of defined shape and size, which preferably form the multiplicity of microimages 15 arranged in a raster.
  • a positive photoresist preferably comprises, for example, condensation polymer of m- and p-cresol and formaldehyde (novolak resin), diazonaphthoquinone derivative (DNQ) and solvent or solvent mixture, such as 1-methoxy-2-propyl acetate.
  • Novolak resins in particular are hydrophilic (OH groups) and soluble in aqueous base.
  • DNQ hydrophilic
  • ICA indenecarboxylic acid
  • a negative photoresist in particular, is characterized by the fact that this lacquer cures with sufficient exposure to a suitable wavelength, for example by means of UV radiation, and thus becomes insoluble in a certain solvent, for example in acidic or basic aqueous solutions, in the exposed areas .
  • a suitable wavelength for example by means of UV radiation
  • a certain solvent for example in acidic or basic aqueous solutions
  • a negative photoresist is preferably based on epoxy resins and has low molecular weight organic compounds which in particular have more than one epoxy group per molecule.
  • Epoxy resins based on bisphenol-A, epoxidized phenol novolak, and / or resorcinol diglycidyl are also preferably used to produce negative photoresists.
  • a so-called resin / hardener system provides a macromolecular network through polymerization of the epoxy group.
  • different hardeners can be used, which are distinguished by the ring-opening reaction of the oxirane groups. Acid anhydrides, amines or phenol-containing compounds are preferably used, or triarylsulphonium salts are used as photoactive components.
  • catalysts such as Lewis bases and acids
  • the hardener is preferably built into the three-dimensional network structure.
  • a catalyst in particular favors network formation via ester bridges.
  • g-butyrolactone is preferably used as a solvent in the printing ink of such epoxy resin-based photoresists.
  • additives such as. B. long-chain epoxy resins are used to serve on the one hand as an adhesion promoter, reactive thinner or as an additive or lowering the viscosity.
  • a negative photoresist consists in particular of the following combination of solvents, binders and hardeners: -solvent: 1-methoxy-2-propanol content: 75%,
  • 1c shows a method for producing a multilayer body 1, in particular a multilayer security element for securing security documents, the method comprising the following steps, which are carried out in the following sequence in particular: a) providing a carrier layer 10; b) applying a replication lacquer layer 11a to the carrier layer 10; c) molding a plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape in the replication lacquer layer 11a; f) printing a control structure on the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner by means of a first high-resolution digital printer; g) Detecting the control structure by means of a detection device from the side of the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape in such a way that the control structure is detected through the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape by means of the detection device; h) Area-wise application of a print layer on the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of grid-
  • the high-resolution digital printer used here in particular the first and / or the second high-resolution digital printer, advantageously has a resolution of at least 6000 dpi, preferably at least 12000 dpi, more preferably at least 24000 dpi. It is also useful if the detection device is an optical sensor, such as a CMOS and / or CCD sensor. Furthermore, it is preferred that in step g) an angulation and / or a warpage is further detected on the basis of the control structure.
  • the angularity further preferably is less than 0.5 °, preferably less than 0.3 °, more preferably less than 0.1 °, even more preferably less than 0.05 °.
  • the method further comprises the following step, in particular that is carried out between steps g) and h):
  • step h a metal layer and / or a layer made of a transparent dielectric and / or at least one colored lacquer layer is applied to the printing layer.
  • 1d shows a method for producing a multilayer body 1, in particular a multilayer security element for securing security documents, the method comprising the following steps, which are carried out in the following sequence in particular: a) providing a carrier layer 10; b) applying a first replication lacquer layer 11 a to the carrier layer 10; c) molding a plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape in the first replication lacquer layer 11a; i) applying a second replication lacquer layer to the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape; j) area-wise molding of a plasmonic subwavelength structure in the second replication lacquer layer in such a way that a plurality of raster-like arranged microimages 15 is formed by the molded plasmonic subwavelength structure; k) applying a metal layer to the second replication lacquer layer.
  • step k) the metal layer is applied in such a way that plasmonic colors are generated by the interaction of the plasmonic subwavelength structure molded into the second replication lacquer layer and the metal layer.
  • the plasmonic subwavelength structure preferably comprises grating structures selected from the group consisting of two-dimensional gratings, cross gratings, and hexagonal gratings. More preferably, such grating structures have a grating period between 150 nm and 400 nm and more preferably between 200 nm and 350 nm and a relief depth between 50 nm and 400 nm and more preferably between 150 nm and 350 nm.
  • step i) at least one color filter layer is applied, preferably on, to the carrier layer 10, in particular over the entire area the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner is applied.
  • FIG. 2 schematically shows a method for generating a high-resolution separate mask 23.
  • the photoresist layer 16d for structuring the chromium layer 23b on the glass substrate 23a is exposed by means of a laser or an electron beam.
  • the photoresist layer 16d is developed, the exposed areas being removed, in particular when using a positive photoresist.
  • the chromium layer 23b is then etched, the areas covered by the photoresist layer 16d, as shown in FIG. 2, being protected from the etchant and thus not being removed.
  • the photoresist 16d is in particular completely removed.
  • a so-called pellicle which is understood to mean in particular a thin, transparent membrane that covers the high-resolution separate mask, is applied.
  • the high-resolution separate mask 23 is advantageously produced by means of an electron beam lithography method. However, it is also possible for the high-resolution separate mask 23 to be produced by means of laser beam lithography methods, with typically lower resolutions being achieved in this case than in the case of electron beam lithography methods. Structures smaller than 10 ⁇ m, preferably smaller than 5 ⁇ m, more preferably smaller than 2.5 ⁇ m, are preferably produced with these methods.
  • the high-resolution separate mask 23 produced in this way preferably comprises the following layers: a glass substrate 23a, in particular made of high-purity quartz glass or calcium fluoride, a chromium layer 23b, in particular an optically dense chromium layer, optionally an adhesion promoter layer and optionally a pellicle 23c.
  • FIGS. 3a to 3c show schematic sectional representations of multilayer bodies.
  • 3a shows a multilayer body 1 comprising a replication lacquer layer 11a with a multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid-like manner molded therein, an adhesion promoter layer 13, a carrier layer 10, a photoresist layer 16a, which is shaped in such a way that it contains a multiplicity of microscopic images 15 arranged in a grid-like manner and a primer layer is shown.
  • the primer layer 24 is applied to the side of the plurality of microimages 15 arranged in a grid-like manner, which side faces away from the carrier layer 10.
  • the primer layer 24 is preferably a thermally activatable layer, which further preferably has a layer thickness between 0.3 ⁇ m and 25 ⁇ m and is preferably applied over the entire surface.
  • the primer layer 24 can in particular have a single-layer or multilayer structure.
  • the primer layer 24 can in particular be based on an aqueous, solvent-containing or radiation-curing basis and / or combinations thereof.
  • binders for the primer layer 24 polyacrylates, polyurethanes, epoxides, polyesters, polyvinyl chlorides, rubber polymers, ethylene-acrylic acid copolymers, ethylene-vinyl acetates, polyvinyl acetates, styrene block copolymers, phenol-formaldehyde resin adhesives, melamines, alkenes, allyl ethers , Vinyl acetate, alkyl vinyl ether, conjugated dienes, styrene, acrylates and the mixtures of the above raw materials and their copolymers.
  • water aliphatic (gasoline) hydrocarbons, cycloaliphatic hydrocarbons, terpene hydrocarbons, aromatic (benzene) hydrocarbons, chlorinated hydrocarbons, esters, ketones, alcohols, glycols, glycol ethers, glycol ether acetates can be used as solvents.
  • hardeners such as leveling additives, defoamers, deaerators, dispersing additives, wetting agents, lubricants, matting agents, rheological additives, pigments and dyes or waxes can be added to the primer layer 24.
  • the primer layer 24 is preferably applied by means of a printing process such as, for example, gravure printing, screen printing, flexographic printing, inkjet printing, casting or by means of a doctor blade process.
  • a printing process such as, for example, gravure printing, screen printing, flexographic printing, inkjet printing, casting or by means of a doctor blade process.
  • the primer layer 24 shown in FIG. 3 a is, for example, a thermally activatable layer composed of binding agent and, if appropriate, further auxiliaries, which furthermore has a layer thickness of 0.3 ⁇ m to 25 ⁇ m.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 3b corresponds to the multilayer body shown in FIG. 3a with the difference that it further comprises the edge emitter layer 21.
  • the edge emitter layer 21 is arranged on that of the plurality of microlenses 12 arranged in a raster shape, in particular on the side of the plurality of microlenses 12 arranged in a raster shape and facing a viewer.
  • edge emitter layer 21 it is also possible for the edge emitter layer 21 to cover the entire plurality of microlenses 21 arranged in a grid-like manner, in particular the layer thickness of the edge emitter layer 21 being less, in particular much less, than the lens height. It is also possible here for more material of the edge emitter layer 21 to accumulate in the spaces between the microlenses 12.
  • the edge emitter layer 21 shown in FIG. 3b is, for example, a layer composed of a binder with auxiliary substances, for example additives, the edge emitter layer 21 further comprising fluorescent substances.
  • auxiliary substances for example additives
  • the edge emitter layer 21 further comprising fluorescent substances.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 3c corresponds to the multilayer body 1 shown in FIG. 3b with the difference that the edge emitter layer 21 is arranged on the side of the carrier layer opposite the plurality of microlenses arranged in a grid.
  • the edge emitter layer 21 is thus arranged in the multilayer body 1 shown in FIG. 3 c between the carrier layer 10 and the primer layer 24.
  • the total thickness of the multilayer body 1 it is also possible for the total thickness of the multilayer body 1 to be less than 50 ⁇ m, preferably less than 35 ⁇ m, even more preferably less than 25 ⁇ m.
  • FIGS. 4 a and 4b show a method for fixing a multi-layer body 1 and a multi-layer body 1.
  • the multilayer body shown in FIGS. 4a and 4b is preferably produced using the method explained with reference to FIG. 1b, with the difference that the layer 14 to be structured applied in step d) and structured in step e) comprises a colored lacquer layer 17a , which in particular is applied over the entire surface of the photoresist layer 16a. Subsequently, in step e), the colored lacquer layer 17a is structured in register with the photoresist layer 16a.
  • the colored lacquer layer 17a shown in FIGS. 4a and 4b is a layer which, in contrast to the photoresist layer 16a itself, cannot be exposed or structured. As shown in FIG. 4a, the colored lacquer layer 17a is structured in the same step in which the photoresist layer 16a is structured. In other words, the colored lacquer layer 17a is removed together with the photoresist layer 16a. With regard to the further possible configuration of the colored lacquer layer 17a, reference is made to the above statements.
  • FIG. 4a Structuring and removal of the photoresist layer 16a, the microlenses 12 arranged underneath, particularly when viewing the multilayer body 1 from the side of the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape
  • Color lacquer layer 17a is removed in register with the photoresist 16a.
  • photoresist layers such as the photoresist layer 16a here, is also generally referred to as so-called stripping.
  • a multi-layer body 1 which comprises the following layers: a replication lacquer layer 11a with a plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like shape therein, a Flaft mediator layer 13, a carrier layer 10, a structured layer 14 comprising a photoresist layer 16a and a colored lacquer layer 17a, the structured layer 14 being shaped in such a way that it forms a plurality of microimages 15 arranged in a grid-like manner, and a metal layer 18c.
  • the metal layer 18c is expediently a layer made of aluminum, silver, chromium, copper, tin, indium, gold, zinc or an alloy of the aforementioned metals. Furthermore, it is also possible that the metal layer 18c is a layer of aluminum or silver blackened by oxidation, such as, for example, substoichiometric AlxOy. It is also useful if the layer thickness of the metal layer is between 1 nm and 500 nm, preferably between 5 nm and 100 nm.
  • the metal layer 18c shown in FIG. 4b is, for example, a metal layer made of aluminum with a layer thickness of 20 nm. With regard to further possible configurations of the metal layer, reference is made to the above statements.
  • FIG. 5 schematically shows a sectional illustration of a multilayer body 1.
  • the multi-layer body 1 shown in FIG. 5 comprises a replication lacquer layer 11a with a plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner molded therein, a flaft mediating layer 13, a carrier layer 10, a photoresist layer 16a, which is shaped in such a way that it forms a multiplicity of microimages 15 arranged in a grid-like manner , a paint layer 17d and a metal layer 18c.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 5 is preferably produced using the method explained with reference to FIG. 1b, with the difference that, preferably after step e), the colored lacquer layer 17d, in particular, is applied over the entire area.
  • the photoresist layer 16a is preferably colored, in particular colored with dyes and / or pigments.
  • the dyes to generate a color from a special color space, such as the RAL, FIKS or Pantone ® color space.
  • the dyes more preferably produce a color from the CIELAB color space.
  • the photoresist layer 16a to be colored with Orasol dyes and / or Microlith color pigments and / or Luconyl.
  • the photoresist layer 16a is transparent, in particular for the photoresist layer 16a to have a transmission of visible light, preferably from the wavelength range between 380 nm and 780 nm, of more than 50%, preferably more than 70%, more preferably more than 85%, even more preferably more than 90%.
  • the photoresist layer shown in FIG. 5 is, for example, a colored photoresist layer which has a transmission of more than 50%.
  • a colored photoresist layer which has a transmission of more than 50%.
  • the colored lacquer layer 17d it is also possible to generate a color from a special color space, such as, for example, the RAL, HKS or Pantone® color space. More preferably, the colored lacquer layer 17d generates a color from the CIELAB color space.
  • the layer thickness of the colored layer is between 0.1 pm and 10 pm, preferably between 0.1 pm and 5 pm.
  • the colored lacquer layer 17d shown in FIG. 5 has a layer thickness of 2.5 ⁇ m.
  • the colored lacquer layer 17d is advantageously applied by printing, in particular by means of offset printing and / or gravure printing and / or flexographic printing and / or inkjet printing.
  • the colors of the corresponding layers are preferably selected as follows:
  • the photoresist layer 16a which faces the replication lacquer layer 11a, preferably has a darker color, in particular with a low brightness value L, and the colored lacquer layer 17d, which is arranged behind it when viewed from the side of the plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner, the lighter color , in particular with a higher brightness value L.
  • the photoresist layer 16a and the colored lacquer layer 17d each have a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, to one another in the CIELAB color space.
  • the color space is represented by a sphere K, this being defined by the three axes of brightness L, red-green axis a and yellow-blue axis b.
  • L 100 white
  • L 0 black
  • a dark photoresist layer 16a (30L,
  • FIGS. 7 to 10 show schematic sectional views of multilayer bodies 1.
  • FIG. 7 shows a multilayer body 1 with a carrier layer 10 and a replication lacquer layer 11a applied to the carrier layer 10, in which a plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape is molded. Furthermore, the multilayer body shown in FIG. 7 also comprises the photoresist layers 16a and 16a 16b and the metal layer 18c. Regarding the For the configuration of the layers 10, 11a, 12, 13 and 18c, reference is made here to the above statements.
  • the photoresist layer 16a here comprises UV-blocking additives which in particular absorb light from the ultraviolet wavelength range, preferably from the wavelength range between 200 nm and 380 nm. More preferably, such UV-blocking additives have no or only very little absorption in the wavelength range from 380 nm to 780 nm that is visible to the human eye.
  • the UV-blocking additives are advantageously, for example, benzotriazole derivatives, which are used in the corresponding layers in particular with a mass fraction in a range of approx. 3% to 5%.
  • Suitable organic UV absorbers are, for example, sold under the trade name Tinuvin ® by BASF, Ludwigshafen, Germany.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 7 also includes the photoresist layer 16b, the photoresist layer 16b having an exposure principle that is complementary to the photoresist layer 16a and / or wherein the solubility of the photoresist layer 16b can be changed at a different exposure wavelength than the photoresist layer 16a , and wherein the photoresist layer 16b is further arranged in perfect register next to the photoresist layer 16a.
  • Such a multi-layer body 1 is preferably produced using the method explained with reference to FIG. 1b, with the difference that the method further comprises the following steps, which are carried out in particular after step e):
  • the photoresist layer 16b has an exposure principle complementary to the photoresist layer 16a and / or wherein the solubility of the photoresist layer 16b is changed at a different exposure wavelength than the photoresist layer 16a;
  • a complementary exposure principle is understood here to mean, in particular, the use of an exposure principle that counteracts the exposure principle of the photoresist layer 16a.
  • the complementary exposure principle is preferably understood to mean that a positive photoresist is used to form the photoresist layer 16a, in particular its solubility increases when activated by exposure, and a negative photoresist, in particular whose solubility decreases when activated by exposure, is used to form the photoresist layer 16b or the other way around.
  • the first applied photoresist layer 16a is developed and structured by means of the high-resolution separate mask.
  • the photoresist layer 16b is then applied, which, as explained above, is a part of the photoresist layer 16a having complementary exposure principle.
  • the photoresist layer 16b is then exposed from the side of the microlenses 12 through the microlenses 12, the photoresist layer 16a serving as a mask for structuring the photoresist layer 16b due to the UV-blocking additives.
  • the photoresist layer 16b is developed and structured.
  • the photoresist layers 16a and 16b are preferably colored differently, so that a multilayer body 1 is produced in which the photoresist layer 16b is arranged in exact register next to the photoresist layer 16b, so that, for example, colored microimages with a very high resolution are generated, which are of a different-colored background are surrounded.
  • coloring the photoresist layers 16a and 16b reference is made to the above statements.
  • FIG. 8 shows a multilayer body 1 with a carrier layer 10 and a replication lacquer layer 11a applied to the carrier layer 10, in which a multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid shape is molded.
  • the multilayer body shown in FIG. 8 also includes the photoresist layer 16a and the metal layer 18b.
  • the metal layer 18b is applied to the photoresist layer 16a on the side of the photoresist layer 16a facing away from the plurality of raster-shaped microlenses 12 and is also arranged in register with the photoresist layer 16a.
  • the photoresist layer 16a here also includes UV-blocking additives, which in particular light from the ultraviolet wavelength range, preferably from the Wavelength range between 200 nm and 380 nm, absorb.
  • UV-blocking additives which in particular light from the ultraviolet wavelength range, preferably from the Wavelength range between 200 nm and 380 nm, absorb.
  • Such a multilayer body 1 is preferably produced using the method explained with reference to FIG. 1b, with the difference that the method further comprises the following steps, in particular which are carried out after step e):
  • the exposure source is preferably a UV lamp or UV LED, for example.
  • the layer thickness of the photoresist layer 16a and of the further photoresist layer is advantageously less than 15 ⁇ m, preferably less than 5 ⁇ m.
  • the photoresist layer 16a is also initially applied by means of the high-resolution separate mask developed and structured.
  • the metal layer 18b is then applied, for example by vapor deposition.
  • metal layer 18b is coated, in particular over the entire area, with the further photoresist layer.
  • the further photoresist layer is then exposed from the side of the microlenses 12 through the microlenses 12, the photoresist layer 16a serving as a mask for structuring the further photoresist layer due to the UV-blocking additives.
  • the further photoresist layer is developed and structured together with the underlying metal layer 18b.
  • the metal layer 18b is preferably made transparent or at least partially transparent, so that in particular the light emitted by the exposure source passes through the metal layer 18b to the further photoresist layer.
  • the metal layer 18b preferably has a layer thickness of less than 15 nm.
  • FIG. 9 shows a multi-layer body 1 with a carrier layer 10 and a replication lacquer layer 11a applied to the carrier layer 10, in which a multiplicity of microlenses 12 arranged in the form of a grid is molded.
  • the multilayer body shown in FIG. 9 also comprises the colored lacquer layers 17c and 17d, the photoresist layer 16a and the metal layer 18a.
  • the metal layer 18a which is arranged on the side facing the plurality of raster-shaped microlenses 12 on the photoresist layer 16a, is also arranged in register with the photoresist layer 16a.
  • the color lacquer layers 17c and 17d are, however, as shown in Fig. 9, applied over the entire surface, the color lacquer layer 17c, when viewed from the side of the large number of grid-like arranged microlenses 12, is arranged above the structured metal layer 18a and the photoresist layer 16a and the color lacquer layer 17d behind the structured metal layer 18a and the photoresist layer 16a is arranged.
  • the metal layer 18a and the photoresist layer 16a accordingly form the structured layer 14 here.
  • the colored lacquer layer 17c and / or the colored lacquer layer 17d preferably in the CIELAB color space has a total color distance dE of 50 to 270, preferably from 100 to 270, more preferably from 130 to 270, to the structured layer 14, in particular where the structured layer 14, as shown in FIG. 9, comprises the photoresist layer 16a and the metal layer 18a.
  • the layer 14 applied in step d) and structured in step e) here also comprises the metal layer 18a, which is first applied over the entire surface before the photoresist layer 16a is applied to the side of the carrier layer 10 opposite the plurality of microlenses 12 arranged in a grid-like manner.
  • the metal layer 18a is subsequently structured with the at least one first photoresist layer in a precisely registered manner in step e). It is also possible for the photoresist layer 16a to be removed again, in particular after step e).
  • the photoresist layer 17d is then applied over the entire area, as shown in FIG. 9.
  • the metal layer 18a which was initially vapor-deposited over the entire surface, for example, together with the
  • Photoresist layer 16a structured using the high-resolution separate mask. Furthermore, the colored lacquer layers 17c and 17d were additionally applied before and afterwards in order to produce mixed colors or a colored background.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 10 corresponds to the multilayer body shown in FIG. 9 with the difference that the full-area colored lacquer layer 17c is not present.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 10 is produced analogously to the multilayer body shown in FIG. 9. It is also possible, for example, to replace and / or supplement the metal layer 18a with a colored lacquer layer 17b. Such a multi-layer body is also produced analogously to the multi-layer body shown in FIG. 9, so that reference is made to the above statements in this regard.
  • FIGS. 11 a to 11c show schematic sectional representations of multilayer bodies 1.
  • 11a shows a multilayer body 1 with a carrier layer 10 and a replication lacquer layer 11a applied to the carrier layer 10, in which a multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid shape is molded.
  • the multilayer body shown in FIG. 11a also includes the thin-film layer system 20, which includes the partially transparent metal layer 20a, the dielectric spacer layer 20b and the opaque metal layer 20c, and is formed by the structured layer 14.
  • the thin-film layer system 20 further forms the plurality of microimages 15 arranged in a grid-like manner.
  • the partially transparent metal layer 20a here preferably has an optical density OD of approximately 0.6 and the opaque metal layer an optical density OD of approximately 1.9.
  • the metal layers 20a and 20c are formed here from aluminum.
  • Such a multi-layer body 1 is preferably produced using the method explained with reference to FIG dielectric spacer layer 20b and the opaque metal layer 20c comprises.
  • the thin-film layer system 20 is first chemically more fully, in particular by means of sputtering, physical vapor deposition (PVD) Chemical vapor deposition (CVD) or low pressure applied.
  • PVD physical vapor deposition
  • CVD chemical vapor deposition
  • step e the thin film layer system 20 is structured in register with the photoresist layer 16a and the photoresist layer 16a is removed again, in particular after step e).
  • the thin-film layer system which was initially applied over the entire surface, is structured together with the photoresist layer 16a using the high-resolution separate mask.
  • the multi-layer body 1 shown in FIG. 11b corresponds to the multi-layer body shown in FIG. 11a with the difference that the layers 20b and 20c of the thin-film layer system 20, in contrast to the multi-layer body shown in FIG. 11a, are formed over the entire surface.
  • the multiplicity of microimages 15 arranged in a grid-like manner or their shape and / or contour is formed here in particular by the structured, partially transparent metal layer 20a.
  • the multi-layer body shown in FIG. 11 b is produced like the multi-layer body shown in FIG. 11 a with the difference that the layer 14 applied in step d) and structured in step e) only has the partially transparent metal layer 20a here.
  • the further layers 20b and 20c of the thin-film layer system 20 are then applied over the entire area.
  • the dielectric spacer layer 20b continues to function as a replication layer, in which microstructures with a relief depth of less than 200 nm are preferably molded.
  • the multi-layer body shown in FIG. 11c corresponds to the multi-layer body shown in FIG. 11a with the difference that the layers 20a and 20b of the thin-film layer system 20, in contrast to the multi-layer body shown in FIG.
  • the multilayer body 1 shown in FIG. 11c further comprises the colored lacquer layer 17d applied over the entire surface.
  • the multiplicity of microimages 15 arranged in a grid-like manner or their shape and / or contour is formed here in particular by the structured opaque metal layer 20c.
  • the multi-layer body shown in FIG. 11 c is produced like the multi-layer body shown in FIG. 11 a, with the difference that first of all the layers 20 a and 20 b are applied over the entire surface. There is also the difference that the layer 14 applied in step d) and structured in step e) only has the opaque metal layer 20c here. Furthermore, the colored lacquer layer 17d is then applied over the entire area.
  • FIGS. 12 a and 12b show schematic sectional views of multilayer bodies 1.
  • the multi-layer body 1 shown in FIG. 12 a corresponds, for example, to the multi-layer body 1 shown in FIG. 3 a, with the difference that the plurality of microlenses 12 arranged in a grid shape is only applied in certain areas.
  • the multiplicity of microlenses 12 arranged in a grid-like manner is passably present here in the region 25b.
  • replication lacquer layer 11c which is applied over the entire surface and is arranged on the side of the plurality of microimages 15 arranged in a grid-like manner facing away from the carrier layer 10. Furthermore, a relief structure 22 is embossed into the replication lacquer layer 11c in regions. The metal layer 18c is also applied to the replication lacquer layer 11c, at least in the region 25a.
  • the relief structure 22 this is a diffractive grating, a Kinegram ® or hologram, a blazed grating, a binary grating, a multi-level phase grating, a linear grating, a cross grid, a hexagonal grid, an asymmetrical or symmetrical lattice structure, a retroreflective structure, in particular a binary or continuous freeform surface, a diffractive or refractive macrostructure, in particular a lens structure or microprismatic structure, a microlens, a microprism, a zero order diffraction structure, a moth's eye structure or anisotropic or isotropic matt structure, or an overlay or combination of two or more of the aforementioned relief structures.
  • a diffractive grating a Kinegram ® or hologram
  • a blazed grating a binary grating
  • a multi-level phase grating a linear grating
  • a cross grid a hexagon
  • the multi-layer body 1 shown in FIG. 12b corresponds to the multi-layer body 1 shown in FIG. 12a with the difference that the multiplicity of microlenses 12 arranged in the form of a grid and the multiplicity of microimages 15 arranged in the form of a grid are applied over the entire surface. Furthermore, the multilayer body shown in FIG. 12b, in contrast to the multilayer body shown in FIG. 12a, does not comprise a primer layer 24. As shown in FIG. 12b, the multiplicity of microimages 15 and microlenses 12 arranged in a grid-like manner completely overlap with the relief structure 22 embossed in the replication lacquer layer 11c.

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Abstract

Die Erfindung betrifft Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers (1) sowie einen Mehrschichtkörper (1). Das Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers (1) umfasst hierbei folgende Schritte: - Bereitstellen einer Trägerschicht (10); - Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht (11) auf die Trägerschicht (10); - Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) in die erste Replizierlackschicht (11a); - Aufbringen zumindest einer zu strukturierenden Schicht (14) auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10); - Strukturierung der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) unter Verwendung einer hochaufgelösten separaten Maske (23) derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch bereichsweises Entfernen der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) ausgebildet werden. Weiter wird ein Mehrschichtkörper (1), mit einer Trägerschicht (10) und einer auf die Trägerschicht (10) aufgebrachten ersten Replizierlackschicht (11a), in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) abgeformt ist, und mit einer auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) angeordneten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15), angegeben.

Description

Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers sowie ein
Mehrschichtkörper
Die Erfindung betrifft Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers sowie einen Mehrschichtkörper.
Zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten gegenüber Fälschungen werden diese häufig mit Sicherheitselementen versehen, die eine Überprüfung der Echtheit des Sicherheitsdokuments ermöglichen und einen Schutz gegenüber einer Nachbildung des Sicherheitsdokuments bieten. Hierbei ist es beispielsweise aus der WO 2005/052650 A2 bekannt Mikrolinsen in
Kombination mit Mikrobildern einzusetzen, welche im Zusammenwirken aufgrund des Moire-Vergrößerungseffekts optisch variable Effekte erzeugen.
Bei der Verwendung von derartigen Sicherheitselementen auf Banknoten besteht hierbei jedoch das Problem, eine möglichst dünne Gesamtdicke bei gleichzeitig optisch ansprechenden Mikrobildern zu realisieren. Der Erfindung liegt nun die Aufgabenstellung zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen eines verbesserten Mehrschichtkörpers sowie einen verbesserten Mehrschichtkörper bereitzustellen, der einen verbesserten optisch variablen Eindruck vermittelt.
Diese Aufgabe wird gelöst von einem Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers, insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst:
- Bereitstellen einer Trägerschicht;
- Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht auf die Trägerschicht;
-Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen in die erste Replizierlackschicht; -Aufbringen zumindest einer zu strukturierenden Schicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegende Seite der Trägerschicht;
- Strukturierung der zumindest einen zu strukturierenden Schicht unter Verwendung einer hochaufgelösten separaten Maske derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern durch bereichsweises Entfernen der zumindest einen zu strukturierenden Schicht ausgebildet werden.
Diese Aufgabe wird weiter gelöst von einem Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers, insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende
Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst:
- Bereitstellen einer Trägerschicht; - Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht auf die Trägerschicht;
-Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen in die erste Replizierlackschicht;
- Drucken einer Kontrollstruktur auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht mittels einem ersten hochauflösendem Digitaldrucker;
- Erfassen der Kontrollstruktur mittels einer Erfassungseinrichtung von Seiten der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her derart, dass die Kontrollstruktur durch die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen hindurch mittels der Erfassungseinrichtung erfasst wird;
- Bereichsweises Aufbringen einer Druckschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegende Seite der Trägerschicht mittels einem zweiten hochauflösendem Digitaldrucker unter Verwendung der erfassten Kontrollstruktur derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern durch die Druckschicht ausgebildet werden.
Weiter wird diese Aufgabe auch gelöst von einem Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers, insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das
Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst:
- Bereitstellen einer Trägerschicht;
- Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht auf die Trägerschicht; - Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen in die erste Replizierlackschicht; - Aufbringen einer zweiten Replizierlackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegende Seite der Trägerschicht;
- Bereichsweises Abformen einer plasmonischen Subwellenlängenstruktur in die zweite Replizierlackschicht derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern durch die abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur ausgebildet wird;
- Aufbringen einer Metallschicht auf die zweite Replizierlackschicht. Ferner wird diese Aufgabe gelöst von einem Mehrschichtkörper, insbesondere einem mehrschichtigem Sicherheitselement zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, mit einer Trägerschicht und einer auf die Trägerschicht aufgebrachten ersten Replizierlackschicht, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen abgeformt ist, und mit einer auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht angeordneten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern, insbesondere wobei die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen angeordnet ist. Vorzugsweise wird ein derartiger Mehrschichtkörper nach einem der obigen Verfahren, insbesondere nach einem Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 37, hergestellt.
Hierbei hat sich gezeigt, dass durch die erfindungsmäßen Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers sowie durch den erfindungsgemäßen Mehrschichtkörper ein Mehrschichtkörper mit optisch ansprechenden
Mikrobildern erhalten wird, welche in Zusammenwirken mit den Mikrolinsen einen prägnanten Bewegungs- und/oder Tiefeneffekt erzeugen. Weiter wird ein Mehrschichtkörper erhalten, dessen insbesondere mehrfarbige Mikrobilder eine sehr hohe Auflösung aufweisen, welche in Zusammenwirken mit den Mikrolinsen, welche zur Gesamtdickenreduktion eine sehr kleine Brennweite aufweisen, einen ansprechenden optischen Effekt erzeugen. Unter einer hochaufgelösten separaten Maske wird hierbei eine
Belichtungsmaske verstanden, welche mittels Elektronenstrahllithographie und/oder Laserstrahllithographie hergestellt ist und nur temporär, bevorzugt während eines Belichtungsschrittes, auf dem Mehrschichtkörper angeordnet wird. Insbesondere verbleibt die hochaufgelöste separate Maske nicht in dem fertiggestellten Mehrschichtkörper.
Bevorzugt handelt es sich bei der hochaufgelösten separaten Maske um eine separate Fotomaske, insbesondere um eine hochaufgelöste separate Fotomaske.
Vorzugsweise wird hierbei unter hochaufgelöst verstanden, dass die Belichtungsmaske Strukturen kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, aufweist, insbesondere wobei die Strukturen als für die jeweilige Belichtungsstrahlung durchlässige und nicht durchlässige Flächenbereiche ausgebildet sind. In anderen Worten besitzt die Belichtungsmaske eine Auflösung von kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm. So ist es in möglich, dass die Belichtungsmaske Strukturen bzw. Flächenbereiche mit einer kleinsten Abmessung von kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, aufweist. Die kleinste Abmessung kann beispielsweise die kleinste Breite, Länge, Durchmesser, Höhe oder dergleichen kleinste Größe sein. Unter einer plasmonischen Subwellenlängenstruktur werden hier vorzugsweise Reliefstrukturen verstanden, welche dazu geeignet sind, in Zusammenwirken mit einer Metallschicht Plasmon-Polaritonen, insbesondere Oberflächenplasmonen, zu erzeugen. Bei Oberflächenplasmonen handelt es sich insbesondere um Oberflächenwellen, bei denen die longitudinalen elektronischen Schwingungen parallel zur Oberfläche eines Metalls angeregt werden, wobei insbesondere die resultierende elektrische Feldstärke im Raum über der metallischen Oberfläche verstärkt ist. Derartige plasmonischen Subwellenlängenstrukturen sind beispielsweise
Lineargitter, Kreuzgitter oder Hexagonalgitter mit einer Gitterperiode zwischen 150 nm und 400 nm, bevorzugt zwischen 200 nm und 350 nm und weiter insbesondere mit einer Gittertiefe von mehr als 150 nm, bevorzugt mehr als 250 nm.
Unter Mikrobildern werden hier vorzugsweise vollständige Motive und auch unvollständige Motive, das heißt Fragmente von Motiven verstanden. Dabei kann ein Motiv insbesondere ausgewählt sein oder eine Kombination sein aus Bild, Symbol, Logo, Wappen, Portrait, und/oder alphanumerischem Zeichen.
Unter registriert oder Register bzw. passergenau bzw. registergenau oder Passergenauigkeit oder Registergenauigkeit ist eine Lagegenauigkeit zweier oder mehrerer Schichten relativ zueinander zu verstehen. Dabei soll sich die Registergenauigkeit innerhalb einer vorgegebenen Toleranz bewegen und dabei möglichst gering sein. Gleichzeitig ist die Registergenauigkeit von mehreren Elementen und/oder Schichten zueinander ein wichtiges Merkmal, um die Prozesssicherheit zu erhöhen. Die lagegenaue Positionierung kann dabei insbesondere mittels sensorisch, vorzugsweise optisch detektierbarer Passermarken oder Registermarken erfolgen. Diese Passermarken oder Registermarken können dabei entweder spezielle separate Elemente oder Bereiche oder Schichten darstellen oder selbst Teil der zu positionierenden Elemente oder Bereiche oder Schichten sein.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen bezeichnet.
Es ist von Vorteil, wenn die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht eine erste
Fotolackschicht umfasst oder ist, welche insbesondere in dem hergestellten Mehrschichtkörper verbleibt.
Weiter ist es von Vorteil, wenn die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht ein oder mehrere, insbesondere mindestens zwei Schichten, ausgewählt aus der Gruppe: Fotolackschicht, Farblackschicht, Metallschicht aufweist.
Insbesondere ist es möglich, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht ein oder mehrere, insbesondere mindestens zwei Schichten, ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht, zumindest eine erste Farblackschicht, zumindest eine zweite Farblackschicht, eine erste Metallschicht, zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum, ein Dünnfilmschichtsystem aufweist.
So ist es möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht zumindest eine Fotolackschicht und/oder zumindest eine Farblackschicht und/oder zumindest eine Metallschicht ist oder umfasst. So ist es weiter möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht zumindest eine erste Fotolackschicht und/oder zumindest eine erste Farblackschicht und/oder zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder eine erste Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder ein Dünnfilmschichtsystem ist oder aufweist.
Insbesondere ist es möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht ein oder mehrere, insbesondere mindestens zwei Schichten, ausgewählt aus der Gruppe: Fotolackschicht, Farblackschicht, Metallschicht aufweist und/oder dass die zumindest eine strukturierte Schicht ein oder mehrere, insbesondere mindestens zwei Schichten, ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht, zumindest eine erste Farblackschicht, zumindest eine zweite Farblackschicht, eine erste Metallschicht, zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum, ein Dünnfilmschichtsystem aufweist.
Bezüglich möglicher Ausgestaltungen dieser Schichten ist hier auf untenstehende Ausführungen verwiesen. Auch ist es möglich, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten
Mikrobildern von zumindest einer strukturierten Schicht ausgebildet ist, welche bereichsweise derart entfernt ist, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern ausgebildet ist. Hierbei ist es möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht zumindest eine erste Fotolackschicht umfasst oder ist.
Weiter bevorzugt ist die zumindest eine erste Fotolackschicht eingefärbt, insbesondere mit Farbstoffen und/oder Pigmenten eingefärbt und/oder weist fluoreszierende Stoffe auf und/oder ist transparent ausgebildet. Noch weiter bevorzugt wird die zumindest eine erste Fotolackschicht vollflächig insbesondere in einer Schichtdicke zwischen 0,5 pm und 1,5 pm aufgebracht. So ist es möglich, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern von der zumindest einen ersten Fotolackschicht ausgebildet werden. Hierbei hat sich gezeigt, dass sich damit ein sehr dünner Mehrschichtkörper herstellten lässt, der gleichzeitig hochaufgelöste Mikrobilder aufweist.
Bevorzugt wird zur Ausbildung der zumindest einen ersten Fotolackschicht ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, oder ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet.
Insbesondere zeichnet sich ein positiver Fotolack dadurch aus, dass dieser Fotolack bei ausreichender Belichtung mit einer geeigneten Wellenlänge, wie beispielsweise mittels UV-Strahlung, in den belichteten Bereichen löslich in einem bestimmten Lösungsmittel, beispielsweise in sauren oder basischen wässrigen Lösungen, wird. Insbesondere durch eine Belichtung unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske lassen sich folglich bevorzugt eingefärbte Bereiche definierter Form und Größe erzielen, welche bevorzugt die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern ausbilden.
Bevorzugt umfasst ein positiver Fotolack beispielsweise Kondensationspolymer aus m- und p-Kresol und Formaldehyd (Novolak-Harz), Diazonaphthochinon- Derivat (DNQ) und Lösungsmittel bzw. Lösungsmittelgemisch, wie beispielsweise 1 -Methoxy-2-propylacetat. Insbesondere ein negativer Fotolack zeichnet sich dadurch aus, dass dieser Lack bei ausreichender Belichtung mit einer geeigneten Wellenlänge, wie beispielsweise mittels UV-Strahlung, aushärtet, und dadurch in den belichteten Bereichen unlöslich in einem bestimmten Lösungsmittel, beispielsweise in sauren oder basischen wässrigen Lösungen, wird. Insbesondere durch eine Belichtung unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske lassen sich folglich bevorzugt eingefärbte Bereiche definierter Form und Größe erzielen, welche bevorzugt die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern ausbilden.
Bevorzugt basiert ein negativer Fotolack auf Epoxidharzen und weist niedermolekulare organische Verbindungen auf, die insbesondere mehr als eine Epoxidgruppe pro Molekül aufweisen. Weiter werden bevorzugt Epoxidharze basierend auf Bisphenol-A und/oder epoxidiertem Phenolnovolak, und/oder Resorcinol diglycidyl zur Erzeugung von negativen Fotolacken verwendet.
Weiter ist es möglich, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht zumindest eine erste Farblackschicht umfasst, welche insbesondere vollflächig auf die zumindest eine erste Fotolackschicht aufgebracht wird. Weiter ist es hierbei möglich, dass in dem Schritt e) die zumindest eine erste Farblackschicht passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht strukturiert wird. In anderen Worten ist es möglich, dass zumindest eine strukturierte Schicht weiter zumindest eine erste Farblackschicht umfasst, welche insbesondere auf die von der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen abgewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht auf die zumindest eine erste Fotolackschicht aufgebracht ist und passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht strukturiert ist.
Unter Farblackschicht wird hier vorzugsweise eine funktionale Schicht verstanden, welche insbesondere einen für einen Betrachter erfassbaren Farbeindruck erzeugt.
Unter Farbe wird hiervorzugsweise eine Einfärbung verstanden, welche bezüglich der Durchsichtigkeit und/oder Klarheit bzw. des Streuvermögens bevorzugt glasklar transparent eingefärbt oder streuend transparent eingefärbt oder auch opak eingefärbt umfasst.
Vorzugsweise tritt die Farbe als Eigenfarbe eines Materials auf und/oder ist als in Blickrichtung vor einer Schicht als zusätzliche eingefärbte Schicht angeordnet, wobei die darunterliegende Schicht insbesondere für einen Betrachter in ihrem farbigen Erscheinungsbild modifiziert wird. Die Farbe erscheint hierbei bevorzugt in ihrem Farbton und/oder ihrer Farbsättigung und/oder in ihrer Transparenz unter nahezu allen, insbesondere unter allen, Betrachtungs- und/oder Beleuchtungswinkeln optisch konstant bzw. invariabel. Es ist weiter möglich, dass die Farbe selbst optisch variabel ist, wobei sich insbesondere der Farbton und/oder die Farbsättigung und/oder die Transparenz der Farbe bei sich änderndem Betrachtungs- und/oder Beleuchtungswinkel ändert. Als farbgebende Stoffe für Farblackschichten eigenen sich bevorzugt Farbstoffe und/oder Pigmente. Vorzugsweise sind Pigmente im Medium, in welches sie integriert werden, unlöslich, insbesondere praktisch unlöslich. Farbstoffe lösen sich vorzugsweise während ihrer Anwendung auf und verlieren insbesondere ihre Kristall- und/oder Partikelstruktur. Mögliche Klassen von Farbstoffen sind insbesondere basische Farbstoffe, fettlösliche Farbstoffe oder Metallkomplexfarbstoffe. Mögliche Klassen von Pigmenten sind insbesondere organische und anorganische Pigmente. Vorzugsweise werden Pigmente aus einem einstückig vorliegenden Material aufgebaut und/oder weisen komplexe Aufbauten auf, beispielsweise als Schichtgebilde mit einer Vielzahl von Schichten aus unterschiedlichen Materialien und/oder beispielsweise als Kapseln aus unterschiedlichen Materialien, insbesondere mit Kern und Hülle. Vorzugsweise handelt es sich bei der zumindest einen ersten Farblackschicht hierbei um eine Schicht, die im Gegensatz zu der zumindest einen ersten Fotolackschicht selbst nicht belichtbar bzw. strukturierbar ist. Weiter vorzugsweise wird die zumindest eine erste Farblackschicht in demselben Schritt strukturiert, in dem die zumindest eine erste Fotolackschicht strukturiert wird. Hierbei wird noch weiter vorzugsweise die zumindest eine erste
Farblackschicht zusammen mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht entfernt.
Flierdurch wird vorteilhafter erreicht, dass die zumindest eine erste Farblackschicht und die zumindest eine erste Fotolackschicht passergenau miteinander strukturiert sind, insbesondere wobei die zumindest eine erste Fotolackschicht bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her oberhalb der zumindest einen ersten Farblackschicht angeordnet ist. Ferner ist es hierdurch insbesondere möglich, wie untenstehend erläutert ist, mehrfarbige Mikrobilder zu erzeugen, wenn beispielsweise die zumindest eine erste Fotolackschicht eingefärbt ist und zusammen mit der zumindest einen ersten Farblackschicht mehrfarbige Mikrobilder und/oder eine Mischfarbe erzeugt. Weiter ist es auch möglich, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder zumindest eine erste Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest ein Dünnfilmschichtsystem, insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht, eine dielektrische Abstandsschicht und eine opake Metallschicht umfasst, umfasst oder ist, welche vor dem Aufbringen der zumindest einen ersten Fotolackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht wird.
Auch hierbei ist es von Vorteil, wenn in dem Schritt e) die zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder die zumindest eine erste Metallschicht und/oder die zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder das zumindest eine Dünnfilmschichtsystem, insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht, eine dielektrische Abstandsschicht und eine opake Metallschicht umfasst, passergenau mit der zumindest eine ersten Fotolackschicht strukturiert wird.
So ist es weiter möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht weiter zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder zumindest eine erste Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest ein Dünnfilmschichtsystem, insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht, eine dielektrische Abstandsschicht und eine opake Metallschicht umfasst, umfasst oder ist, welche insbesondere auf der die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen zugewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht angeordnet ist bzw. sind und passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht angeordnet ist und/oder passergenau miteinander angeordnet sind. In anderen Worten ist es möglich, dass die zumindest eine strukturierte Schicht weiter zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder zumindest eine erste Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten
Dielektrikum und/oder zumindest ein Dünnfilmschichtsystem umfasst oder ist, welche bevorzugt zwischen der Trägerschicht und der zumindest einen ersten Fotolackschicht angeordnet ist bzw. sind und weiter bevorzugt auf die Trägerschicht aufgebracht ist bzw. sind oder auf dieser angeordnet ist bzw. sind. So ist es weiter möglich, wenn diese Schichten auf der von der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen abgewandten Seite der Trägerschicht angeordnet sind und/oder vor dem Aufbringen der zumindest einen ersten Fotolackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegende Seite der Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht sind.
Flierdurch wird vorteilhafter erreicht, dass die zumindest eine zweite Farblackschicht und/oder die zumindest eine erste Metallschicht und/oder die zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder das zumindest eine Dünnfilmschichtsystem, insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht, eine dielektrische Abstandsschicht und eine opake Metallschicht umfasst, und die zumindest eine erste Fotolackschicht passergenau miteinander strukturiert sind, insbesondere wobei die zumindest eine erste Fotolackschicht bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her unterhalb der zumindest einen zweiten Farblackschicht und/oder der zumindest einen ersten Metallschicht und/oder der zumindest einen Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder dem zumindest einen Dünnfilmschichtsystem angeordnet ist. Bevorzugt wird insbesondere nach dem Schritt e) die zumindest eine erste Fotolackschicht wieder entfernt. Hierdurch kann die Schichtdicke des Mehrschichtkörpers weiter reduziert werden und insbesondere in Abhängigkeit der chemischen Zusammensetzung der zumindest einen ersten Fotolackschicht auch die chemische und/oder physikalische und/oder mechanische Stabilität des Mehrschichtkörpers erhöht werden.
Vorteilhafterweise enthält die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht UV-blockierende Zusätze. So ist es möglich, dass die strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht in dem Mehrschichtkörper weiter UV-blockierende Zusätze enthält, welche insbesondere Licht aus dem ultravioletten Wellenlängenbereich, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, absorbieren. Weiter bevorzugt weisen derartige UV-blockierende Zusätze keine oder nur eine sehr geringe Absorption in dem für das menschliche Auge sichtbaren Wellenlängenbereich von 380 nm bis 780 nm auf.
Vorteilhafterweise handelt es sich bei den UV-blockierenden Zusätzen beispielsweise um Benzotriazol-Derivate, welche insbesondere mit einem Massenanteil in einem Bereich von ca. 3 % bis 5 % in den entsprechenden Schichten verwendet werden. Geeignete organische UV-Absorber werden beispielsweise unter dem Handelsnamen Tinuvin® von der Firma BASF, Ludwigshafen, Deutschland, vertrieben.
Hierbei ist weiter von Vorteil, wenn das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, welche insbesondere nach dem Schritt e) durchgeführt werden: - Aufbringen zumindest einer zweiten Fotolackschicht auf die zumindest eine erste Fotolackschicht, insbesondere wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht ein zu der zumindest einen ersten Fotolackschicht komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der zumindest einen zweiten Fotolackschicht bei einer anderen
Belichtungswellenlänge als bei der zumindest einen ersten Fotolackschicht verändert wird;
- Belichten der zumindest einen zweiten Fotolackschicht von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen aufweisenden Seite der Trägerschicht her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle;
- Strukturierung der zumindest einen zweiten Fotolackschicht, insbesondere so, dass die zumindest eine zweite Fotolackschicht registergenau neben der zumindest einen ersten Fotolackschicht angeordnet ist. Unter einem komplementären Belichtungsprinzip wird hier insbesondere die Verwendung eines zu dem Belichtungsprinzip der zumindest einen ersten Fotolackschicht entgegenwirkendem Belichtungsprinzip verstanden. So wird unter komplementärem Belichtungsprinzip bevorzugt verstanden, dass zur Ausbildung der zumindest einen ersten Fotolackschicht ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, und zur Ausbildung der zumindest einen zweiten Fotolackschicht ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird oder umgekehrt. Hierdurch wird erreicht, dass die zumindest eine Fotolackschicht und die zumindest eine zweite Fotolackschicht in exaktem Register zueinander angeordnet ist, insbesondere da die bereits strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht aufgrund der UV-blockierende Zusätze als Maske für die Strukturierung der zumindest einen zweiten Fotolackschicht dient. Sind beispielsweise die zumindest eine erste und die zumindest eine zweite Fotolackschicht mit unterschiedlichen Farben eingefärbt, sind diese dann exakt zueinander registriert.
Flierdurch ist es möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine zweite Fotolackschicht umfasst, insbesondere wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht ein zu der zumindest einen ersten Fotolackschicht komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der zumindest einen zweiten Fotolackschicht bei einer anderen
Belichtungswellenlänge als bei der zumindest einen ersten Fotolackschicht veränderbar ist, und wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht registergenau neben der zumindest einen ersten Fotolackschicht angeordnet ist.
Weiter ist es zweckmäßig, wenn das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, insbesondere welche nach dem Schritt e) durchgeführt werden:
- Aufbringen zumindest einer zweiten Metallschicht auf die zumindest eine erste Fotolackschicht; - Aufbringen zumindest einer dritten Fotolackschicht auf die zumindest eine zweite Metallschicht;
- Belichten der zumindest einen dritten Fotolackschicht von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen aufweisenden Seite der Trägerschicht her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle; - Strukturierung der zumindest einen dritten Fotolackschicht und der zumindest einen zweiten Metallschicht, insbesondere so dass die zumindest eine zweite Metallschicht passergenau mit der zumindest einen ersten und/oder dritten Fotolackschicht angeordnet ist. Bevorzugt wird anschließend die zumindest eine dritte Fotolackschicht wieder entfernt. Weiter ist es möglich, dass es sich bei den Fotolackschichten, insbesondere bei der zumindest einen ersten und/oder zweiten und dritten Fotolackschicht um Resistschichten, insbesondere um Photoresistschichten, handelt.
Vorzugsweise handelt es sich bei der Belichtungsquelle beispielsweise um eine UV-Lampe oder UV-LED.
So ist es auch möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine zweite Metallschicht und/oder zumindest eine dritte Fotolackschicht umfasst, welche insbesondere auf die von der Vielzahl von rasterförmigen Mikrolinsen abgewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht auf die zumindest eine erste Fotolackschicht aufgebracht ist, und wobei die zumindest eine zweite Metallschicht und/oder die zumindest eine dritte Fotolackschicht passergenau mit der zumindest einen ersten und/oder dritten Fotolackschicht angeordnet ist.
Flierdurch wird vorteilhafter erreicht, dass die zumindest eine zweite Metallschicht und/oder die zumindest eine erste und/oder dritte Fotolackschicht passergenau miteinander strukturiert sind, insbesondere da die bereits strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht aufgrund der UV- blockierende Zusätze als Maske für die Strukturierung der zumindest einen dritten Fotolackschicht dient. Weiter ist es bevorzugt, wenn die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht, insbesondere in dem Schritt e), entwickelt wird.
Auch ist es möglich, dass das Verfahren weiter folgenden Schritt umfasst: - Entfernen der zumindest eine ersten und/oder zweiten und/oder dritten
Fotolackschicht.
Weiter es möglich, dass auch zur Ausbildung der zumindest einen zweiten und/oder dritten Fotolackschicht ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, oder ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird. Bezüglich der Ausgestaltung von positiven und negativen Fotolacken ist hier auf obige Ausführungen verwiesen. Vorteilhafterweise beträgt die Schichtdicke der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten Fotolackschicht weniger als 15 pm, bevorzugt weniger als 5 pm.
Ferner ist es von Vorteil, dass vor dem Schritt d) zumindest eine dritte Farblackschicht und/oder zumindest eine teiltransparente Metallschicht und/oder zumindest eine dielektrische Abstandsschicht auf die Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht wird, bevorzugt wobei die zumindest eine dritte Farblackschicht und/oder die zumindest eine teiltransparente Metallschicht und/oder die zumindest eine dielektrische Abstandsschicht in dem Schritt e) nicht strukturiert wird.
So ist es möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine dritte Farblackschicht und/oder zumindest eine teiltransparente Metallschicht und/oder zumindest eine dielektrische Abstandsschicht umfasst, welche bevorzugt auf die Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht ist und/oder weiter bevorzugt zwischen der Trägerschicht und der zumindest einen strukturierten Schicht, insbesondere der zumindest einen ersten Fotolackschicht, oder der Druckschicht oder der zweiten Replizierlackschicht angeordnet ist.
So ist auch möglich, dass der Mehrschichtkörper ein oder mehrere Farblackschichten, bevorzugt zwei oder mehrere Farblackschichten, weiter bevorzugt die zumindest eine dritte und/oder die zumindest eine vierte und/oder die zumindest eine fünfte Farblackschicht, umfasst. Auch ist es weiter möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter ein oder mehrere Fotolackschichten, bevorzugt zwei oder mehrere Fotolackschichten, weiter bevorzugt die zumindest eine erste und/oder die zumindest eine zweite Fotolackschicht, umfasst. Ferner ist es auch möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter noch ein oder mehrere Metallschichten, bevorzugt zwei oder mehrere Metallschichten, weiter bevorzugt die zumindest eine erste und/oder die zumindest eine zweite und/oder die zumindest eine dritte Metallschicht, umfasst.
So ist es möglich, dass das Verfahren weiter zumindest einen der folgenden Schritte umfasst:
- Aufbringen ein oder mehrerer Farblackschichten, vorzugsweise der zumindest einen dritten und/oder vierten Farblackschicht, insbesondere auf die Trägerschicht, bevorzugt vor dem Schritt d), und/oder auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht, bevorzugt nach dem Schritt e); - Aufbringen ein oder mehrerer Metallschichten, vorzugsweise der zumindest einen zweiten und/oder dritten Metallschicht, insbesondere auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht und/oder auf die zumindest eine erste Fotolackschicht, bevorzugt nach dem Schritt e).
Es ist vorteilhaft, wenn die ein oder mehreren Farblackschichten, bevorzugt die zwei oder mehreren Farblackschichten, weiter bevorzugt die zumindest eine dritte und/oder die zumindest eine vierte und/oder die zumindest eine fünfte Farblackschicht insbesondere im CIELAB-Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der zumindest einen zu strukturierenden Schicht aufweisen.
Weiter ist es von Vorteil, wenn von den ein oder mehreren Farblackschichten, bevorzugt von den zwei oder mehreren Farblackschichten, weiter bevorzugt von der zumindest einen dritten und/oder der zumindest einen vierten und/oder der zumindest einen fünften Farblackschicht und der zumindest einen zu strukturierenden Schicht diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten
Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
So ist es auch vorteilhaft, wenn die, bevorzugt vor dem Schritt d) und/oder nach dem Schritt e), weiter bevorzugt auf die Trägerschicht und/oder auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht, aufgebrachten ein oder mehreren Farblackschichten, vorzugsweise die zumindest eine dritte und/oder vierte Farblackschicht, insbesondere im CIELAB-Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der zumindest einen zu strukturierenden Schicht aufweisen.
Weiter ist es auch von Vorteil, wenn von den, bevorzugt vor dem Schritt d) und/oder nach dem Schritt e), weiter bevorzugt auf die Trägerschicht und/oder auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht, aufgebrachten ein oder mehreren Farblackschichten, vorzugsweise die zumindest eine dritte und/oder vierte Farblackschicht, und der zumindest einen zu strukturierenden Schicht diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist. Unter Farbe oder Farbigkeit oder Einzelfarbe oder Einzelfarbigkeit wird insbesondere ein Farbort in einem Farbraum verstanden. Der Farbraum kann insbesondere der CIELAB-Farbraum sein. Der Farbraum kann auch der RGB- Farbraum (R = Rot; G = Grün; B = Blau) oder der CMYK-Farbraum (C = Cyan; M = Magenta; Y = Gelb; K = Schwarz) oder Farbräume wie RAL, FIKS oder der Pantone®-Farbraum sein.
Unter einer unterschiedlichen oder einer sich unterscheidenden Farbigkeit oder unter Farbkontrast wird insbesondere ein Farbabstand dE zweier Farborte in einem Farbraum verstanden. Der Farbraum kann insbesondere der CIELAB- Farbraum sein. Eine ausreichend gut für das menschliche Auge wahrnehmbare unterschiedliche Farbigkeit weist bevorzugt einen Farbabstand dE im CIELAB- Farbraum von mindestens 2, bevorzugt dE von mindestens 3, besonders bevorzugt dE von mindestens 5, auf. Bevorzugt wird der Farbort, insbesondere im CIELAB-Farbraum, üblicherweise mit einem Farbmessgerät, wie beispielsweise dem Spektralphotometer Datacolor 650, bestimmt.
Vorzugweise wird der Wert von dE (auch Delta E oder DE) zwischen den Farborten (L*,a*,b*)P und (L*,a*,b*) als euklidischer Abstand berechnet: Insbesondere steht dabei der Helligkeitswert L* senkrecht auf der Farbebene (a* b*). Vorteilhafterweise gibt die a-Koordinate die Farbart und Farbintensität zwischen Grün und Rot an und die b-Koordinate die Farbart und die Farbintensität zwischen Blau und Gelb. Insbesondere gilt: je größer positive a- und b- Werte und je kleiner negative a- und b-Werte, umso intensiver der Farbton. Insbesondere gilt weiter: falls a=0 und b=0, liegt ein unbunter Farbton auf der Flelligkeitsachse vor. Vorteilhafterweise kann L* Werte zwischen 0 und 100 annehmen und a und b können zwischen -128 und +127 variieren.
Auch ist es bevorzugt, dass nach dem Schritt e) zumindest eine vierte Farblackschicht und/oder zumindest eine dritte Metallschicht und/oder zumindest eine weitere Replizierlackschicht auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht insbesondere vollflächig aufgebracht wird, bevorzugt wobei in die weitere Replizierlackschicht zumindest bereichsweise eine Reliefstruktur eingeprägt wird.
So ist es auch möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine vierte Farblackschicht und/oder zumindest eine dritte Metallschicht und/oder zumindest eine weitere Replizierlackschicht umfasst, welche bevorzugt vollflächig aufgebracht ist und/oder weiter bevorzugt auf der Trägerschicht abgewandten Seite der zumindest einen strukturierten Schicht, insbesondere der zumindest einen ersten Fotolackschicht, oder der Druckschicht oder der zweiten Replizierlackschicht angeordnet bzw. aufgebracht ist. Ferner ist es auch hier zweckmäßig, wenn in die weitere Replizierlackschicht zumindest bereichsweise eine Reliefstruktur eingeprägt ist.
Hierbei hat sich gezeigt, dass durch das Aufbringen von weiteren Schichten vor und/oder nach dem Schritt e) farbig und/oder metallisch insbesondere farbige Mikrobilder erzeugt werden können, welche ansprechende optische Effekte hervorrufen. Ferner ist es hierdurch insbesondere weiter möglich, wie untenstehend erläutert ist, mehrfarbige Mikrobilder zu erzeugen, wenn beispielsweise die zumindest eine erste Fotolackschicht eingefärbt ist und zusammen mit der zumindest einen dritten Farblackschicht, die vor dem Schritt e) aufgebracht wurde, und/oder zusammen mit der zumindest einen vierten Farblackschicht, welche nach dem Schritt e) aufgebracht wurde, mehrfarbige Mikrobilder und/oder eine Mischfarbe erzeugt wird. Auch ist insbesondere mit Schichten, welche nach dem Schritt e) aufgebracht werden, möglich, metallische und/oder farbige Flintergründe zu erzeugen.
Vorzugsweise sind die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern in einer zumindest bereichsweisen Überlappung mit der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen zur Generierung eines ersten optisch variablen Effekts, insbesondere bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her, angeordnet.
Weiter ist es auch möglich, dass sich die in zumindest bereichsweise Überlappung angeordnete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern und Mikrolinsen mit der in die weitere Replizierlackschicht eingeprägten Reliefstruktur zumindest bereichsweise überlappen, vollständig überlappen oder nicht überlappen. Bevorzugt handelt es sich bei der Reliefstruktur hierbei um ein diffraktives Gitter, ein Kinegram® oder Hologramm, ein Blazegitter, ein Binärgitter, ein mehrstufiges Phasengitter, ein Lineargitter, ein Kreuzgitter, ein Hexagonalgitter, eine asymmetrische oder symmetrische Gitterstruktur, eine retroreflektierende Struktur, insbesondere eine binäre oder kontinuierliche Freiformfläche, eine diffraktive oder refraktive Makrostruktur, insbesondere eine Linsenstruktur oder Mikroprismenstruktur, eine Mikrolinse, ein Mikroprisma, eine Beugungsstruktur Nullter Ordnung, eine Mottenaugenstruktur oder anisotrope oder isotrope Mattstruktur, oder eine Überlagerung oder Kombinationen von zwei oder mehr der vorgenannten Reliefstrukturen.
Bevorzugt ist die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht und/oder die Trägerschicht eingefärbt, insbesondere mit Farbstoffen und/oder Pigmenten eingefärbt. Vorzugsweise erzeugen die Farbstoffe eine Farbe aus dem RGB-Farbraum (R = Rot; G = Grün; B = Blau) oder dem CMYK-Farbraum (C = Cyan; M = Magenta; Y = Gelb; K = Schwarz). Es ist jedoch auch möglich, dass die Farbstoffe eine Farbe aus einem speziellen Farbraum, wie beispielsweise dem RAL, HKS oder Pantone® Farbraum erzeugen. Weiter bevorzugt erzeugen die Farbstoffe eine Farbe aus dem CIELAB-Farbraum.
So ist es beispielsweise möglich, dass die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht mit Orasol-Farbstoffen und/oder Microlith- Farbpigmenten und/oder Luconyl eingefärbt ist. Weiter ist es sinnvoll, wenn die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht fluoreszierende Stoffe aufweist, welche insbesondere mittels UV-Strahlung, bevorzugt aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, angeregt werden.
Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht transparent ist, insbesondere dass die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte Fotolackschicht eine Transmission von sichtbarem Licht, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 380 nm und 780 nm, von mehr als 50 %, bevorzugt mehr als 70 %, weiter bevorzugt von mehr als 85 %, noch weiter bevorzugt von mehr als 90 %, aufweist.
Ferner ist es insbesondere durch entsprechende Einfärbung der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten Fotolackschicht und/oder der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht und/oder der Trägerschicht möglich mehrfarbige Mikrobilder zu erzeugen, wenn beispielsweise die zumindest eine erste Fotolackschicht eingefärbt ist und zusammen mit der zumindest einen ersten Farblackschicht mehrfarbige Mikrobilder und/oder eine Mischfarbe erzeugt.
Bevorzugt weisen die Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, zumindest ein Bindemittel, zumindest ein Additiv und ein oder mehrere Füllstoffe auf.
Unter Bindemittel werden hiervorzugsweise Polymer-basierte Systeme und deren Mischungen, wie beispielsweise Polyester, Polyacrylat, Polymethacrylat, Polyurethan, Polystyrol, Polybutyrat, Nitrocellulose, Polyvinylchloride, Ethylenvinylacetate, deren Copolymere oder ähnliche Polymere, verstanden.
Unter Additiven werden hier vorzugsweise organische oder anorganische Stoffe verstanden, die die Verarbeitungseigenschaften, beispielsweise beim
Aufbringen einer Farbschicht in dem obigen Verfahren oder bei Verwendung des Sicherheitselements selbst, einen vorbestimmten Effekt erzielen.
Unter Füllstoffen werden hiervorzugsweise alle weiteren, einem System, insbesondere einem Polymer-basierten System, zugefügten Materialien, wie beispielsweise Silica, Pigmente, Farbstoffe, UV-blockierende Zusätze, Tracer, insbesondere Taggants, und/oder ähnliche Materialien, verstanden.
Weiter ist es möglich, dass die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht als Maskenschicht verwendet wird. Flierzu weisen diese Farbschichten bevorzugt UV-blockierende Zusätze als Füllstoff und/oder Additiv auf, welche insbesondere Licht aus dem ultravioletten Wellenlängenbereich, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, absorbieren. Weiter bevorzugt weisen derartige UV- blockierende Zusätze keine oder nur eine sehr geringe Absorption in dem für das menschliche Auge sichtbaren Wellenlängenbereich von 380 nm bis 780 nm auf, insbesondere sodass dadurch das sonstige optische Erscheinungsbild für das menschliche Auge nicht oder nur sehr gering beeinflusst wird. Weiter ist es zweckdienlich, wenn die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht als lasierende Farblackschicht, insbesondere als transparent oder transluzent durchscheinende Farblackschicht, ausgebildet ist. Vorteilhafterweise sind die Farben der Farblackschichten, insbesondere der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht transparent oder zumindest transluzent, wobei das Transmissionsvermögen vorzugsweise zwischen 5 % und 99 %, insbesondere im für das menschliche Auge sichtbaren Wellenlängenbereichs von 380 nm bis 780 nm, bevorzugt im Teilbereich von 430 nm bis 690 nm, liegt. Insbesondere sind optisch variable Effekte der aus der Blickrichtung des Betrachters unterhalb der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht angeordneten optisch variablen Strukturen erfassbar.
Weiter ist es möglich, dass die Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, aus mehreren unterschiedlichen Farben ausgebildet sind und/oder daraus bestehen, wobei diese hierbei vorzugsweise auch Bereiche mit Farbmischung aus einer ersten und zweiten Farbe aufweisen, welche bevorzugt mittels Überlappung und/oder durch Aufrasterung der Farblackschichten, insbesondere der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht, entstehen.
Auch ist es möglich, dass die Farbsättigung der Farblackschichten, insbesondere der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht, variiert.
Vorzugsweise erzeugen die Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, eine Farbe aus dem RGB-Farbraum (R = Rot; G = Grün; B = Blau) oder dem CMYK- Farbraum (C = Cyan; M = Magenta; Y = Gelb; K = Schwarz). Es ist jedoch auch möglich, dass die Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, eine Farbe aus einem speziellen Farbraum, wie beispielsweise dem RAL-, FIKS- oder Pantone®-Farbraum erzeugen. Weiter bevorzugt erzeugen die
Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, eine Farbe aus dem CIELAB- Farbraum. Es ist von Vorteil, wenn die Schichtdicke der Farbschichten, insbesondere der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Farblackschicht, zwischen 0,1 pm und 10 pm, bevorzugt zwischen 0,1 pm und 5 pm, beträgt. Vorteilhafterweise werden die Farblackschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Farblackschicht, durch Drucken, insbesondere mittels Offsetdruck und/oder Tiefdruck und/oder Flexodruck und/oder Inkjetdruck, ausgebildet. Insbesondere um einen ausreichenden Kontrast zu erzielen, werden die Farben der entsprechenden Schichten bevorzugt wie folgt gewählt:
Vorzugsweise weist von den Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht, zumindest eine zweite Fotolackschicht, zumindest eine erste Farblackschicht, zumindest eine zweite Farblackschicht, zumindest eine dritte Farblackschicht, zumindest eine vierte Farblackschicht, zumindest eine fünfte Farblackschicht, zumindest eine erste Metallschicht, zumindest eine zweite Metallschicht, zumindest eine dritte Metallschicht, zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum, zumindest ein Dünnfilmschichtsystem, eingefärbte Trägerschicht diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L auf, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten
Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, auf.
Weiter ist es bevorzugt, wenn die Schichten ausgewählt aus der Gruppe, insbesondere wenn zumindest zwei der Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht, zumindest eine zweite Fotolackschicht zumindest eine erste Farblackschicht, zumindest eine zweite Farblackschicht, zumindest eine dritte Farblackschicht, zumindest eine vierte Farblackschicht, zumindest eine fünfte Farblackschicht, zumindest eine erste Metallschicht, zumindest eine zweite Metallschicht, zumindest eine dritte Metallschicht, zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum, zumindest ein Dünnfilmschichtsystem, eingefärbte Trägerschicht im CIELAB-Farbraum, insbesondere jeweils, einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen.
So ist es zweckmäßig, wenn die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht bzw. die zumindest eine strukturierte Schicht zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht, zumindest eine erste Farblackschicht, zumindest eine zweite Farblackschicht, zumindest eine erste Metallschicht umfasst, insbesondere wobei die zumindest zwei Schichten im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen, und/oder wobei von den zumindest zwei Schichten diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
So ist es auch zweckmäßig, wenn die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht bzw. die zumindest eine strukturierte Schicht zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: ein oder mehrere Fotolackschichten, ein oder mehrere Farblackschichten, ein oder mehrere Metallschichten umfasst, insbesondere wobei die zumindest zwei Schichten im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen, und/oder wobei von den zumindest zwei Schichten diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
So ist es vorteilhaft, wenn zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: ein oder mehrere Fotolackschichten, ein oder mehrere Farblackschichten, ein oder mehrere Metallschichten im CIELAB-Farbraum insbesondere jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen, und/oder wenn von zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: ein oder mehrere Fotolackschichten, ein oder mehrere Farblackschichten, ein oder mehrere Metallschichten diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten
Mikrolinsen her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
Flierdurch wird insbesondere ein besonders guter Kontrast erzielt, welcher vorzugsweise im CIELAB-Farbraum durch den Gesamtfarbstand dE bestimmt wird. Gemäß dem CIELAB System wird insbesondere der Farbraum durch eine Kugel dargestellt, wobei diese durch die drei Achsen Helligkeit L, Rot-Grün- Achse a und Gelb-Blau-Achse b definiert wird. Insbesondere entspricht hierbei L = 100 Weiss, L = 0 Schwarz und L = 50 dem achromatischen Punkt. Weiter bestimmt sich der Gesamtfarbabstand dE wie folgt: dE = ((dL)2 + (da)2 + (db)2)1/2, wobei insbesondere dL der Helligkeitsunterschied, da der Farbunterschied auf der Rot-Grün-Achse und db der Farbunterschied auf der Gelb-Blau-Achse von zwei Farben ist.
Unter Kontrast wird hier vorzugsweise der Gesamtfarbabstand dE verstanden. Zweckmäßigerweise umfasst das Verfahren weiter zumindest einen der folgenden Schritte, insbesondere welcher vor dem Schritt e) durchgeführt wird: - Erzeugung der hochaufgelösten separaten Maske mittels Elektronenstrahllithographie und/oder mittels Laserstrahllithographie, insbesondere in einem chrombeschichteten Glassubstrat;
- Kontaktschlüssiges Zusammenführen der hochaufgelösten separaten Maske mit der auf die Trägerschicht aufgebrachten zumindest einen zu strukturierenden Schicht.
So ist es bevorzugt, wenn die hochaufgelöste separate Maske folgende Schichten umfasst: ein Glassubstrat, insbesondere aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid, eine Chromschicht, insbesondere eine optisch dichte Chromschicht, optional eine Haftvermittlerschicht und optional ein Pellicle.
Unter einem Pellicle wird hier insbesondere eine dünne, transparente Membran, welche die hochaufgelöste separate Maske bedeckt verstanden. Bevorzugt dient das Pellicle als Schutzschicht, welche insbesondere die hochaufgelöste separate Maske vor Verunreinigungen schützt. Vorteilhafterweise ist das Pellicle transparent ausgebildet und besteht aus einem dünnen Polymermaterial. Weiter ist es zweckmäßig, wenn der Schritt e) weiter zumindest einen der folgenden Schritte umfasst:
- Belichten durch die hochauflösende separate Maske insbesondere in einem step-and-repeat Verfahren der zumindest einen zu strukturierenden Schicht von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht her, bevorzugt mittels einer Belichtungsquelle;
- Ausrichten der hochauflösenden separaten Maske insbesondere mittels Registermarken, welche vorzugsweise eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfassbar machen, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist. So ist es vorteilhaft, wenn die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern weiter im Wesentlichen verzugskompensiert und/oder verwinkelungskompensiert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen angeordnet ist, und/oder dass die Verwinkelung zwischen der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern und der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist.
Ferner ist es von Vorteil, dass in dem Schritt e) eine hochaufgelöste separate Maske mit Strukturen kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, verwendet wird. Hierbei werden die Strukturen bevorzugt von der Chromschicht, insbesondere der optisch dichten Chromschicht, ausgebildet.
Vorzugsweise wird in dem Schritt e) und/oder dem Schritt h) und/oder dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder derart ausgebildet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern jeweils aus einem oder mehreren Pixeln bestehen, wobei insbesondere die kürzeste Kantenlänge oder der kleinste Durchmesser eines Pixels kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, besonders bevorzugt kleiner als 2,5 pm, ist.
Auch ist es vorteilhaft, wenn die Vielzahl von rasterförmig angeordnet Mikrolinsen jeweils eine Linsenbrennweite zwischen 10 pm und 50 pm, bevorzugt zwischen 15 pm und 40 pm, aufweisen. Weiter ist es zweckmäßig, wenn das Raster der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen eine Periode zwischen 5 gm und 70 gm, bevorzugt zwischen 5 gm und 50 gm, weiter bevorzugt zwischen 10 gm und 40 gm, aufweist und/oder dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen einen Linsendurchmesser zwischen 5 gm und 70 gm, bevorzugt zwischen 5 gm und 50 gm, weiter bevorzugt zwischen 10 gm und 40 gm, aufweisen.
Bevorzugt weist die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen eine halbkugelförmige Geometrie und/oder eine abgeflachte halbkugelförmige Geometrie und/oder eine dazu ähnliche Geometrie auf.
Auch ist es denkbar, dass das Raster der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen ein ein- oder zweidimensionales Raster ist. Weiter ist es denkbar, dass insbesondere bei einem zweidimensionalen Raster die
Mikrolinsen zeilenweise versetzt angeordnet sind, bevorzugt um einen halben Linsendurchmesser und/oder Linsenabstand versetzt sind.
Weiter ist es möglich, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen, insbesondere in dem Schritt c), vollflächig abgeformt oder partiell bzw. bereichsweise abgeformt werden bzw. sind. Auch ist möglich, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen bereichsweise mit einer unterschiedlichen Periode, mit einem unterschiedlichen Linsendurchmesser, einer unterschiedlichen Geometrie und/oder einer unterschiedlichen Linsenbrennweite abgeformt bzw. angeordnet sind. Ferner ist es möglich, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen bzw. die erste Replizierlackschicht eingefärbt ist und/oder unterschiedlich eingefärbt sind. Bevorzugt handelt es sich bei der ersten und/oder zweiten und/oder der weiteren Replizierlackschicht um eine funktionale Schicht, in welche Strukturen, insbesondere Oberflächenstrukturen, bevorzugt mittels thermischer Replikation und/oder UV-Replikation eingebracht und/oder fixiert werden. So ist es sinnvoll, wenn in dem Schritt c) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen mittels thermoplastischer Abformung oder UV-Abformung in die erste Replizierlackschicht abgeformt werden.
Weiter ist es möglich, dass es sich bei der ersten und/oder zweiten und/oder der weiteren Replizierlackschicht um eine hybride Replizierlackschicht handelt, welche beispielsweise thermisch repliziert und anschließend mittels Strahlung, insbesondere mittels UV-Strahlung und/oder mittels Elektronenstrahlung, gehärtet wird. Insbesondere bei UV-Abformung wird die Replizierlackschicht bei Raumtemperatur repliziert und anschließend mittels UV-Strahlung gehärtet.
Es ist zweckmäßig, wenn in dem Schritt b) die erste Replizierlackschicht mit einem Auftragsgewicht zwischen 5 g/m2 und 10 g/m2 aufgebracht wird.
Weiter ist es bevorzugt, wenn die Schichtdicke der ersten und/oder zweiten und/oder weiteren Replizierlackschicht zwischen 0,1 pm und 50 pm, bevorzugt zwischen 0,1 pm und 30 pm, weiter bevorzugt zwischen 0,3 pm und 20 pm, noch weiter bevorzugt zwischen 0,5 pm und 20 pm, darüber hinaus bevorzugt zwischen 0,5 pm und 10 pm, liegt. Weiter ist es denkbar, dass die erste Replizierlackschicht und/oder die zweite Replizierlackschicht und/oder die weitere Replizierlackschicht fluoreszierende Stoffe aufweist, welche insbesondere mittels UV-Strahlung, bevorzugt aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, angeregt werden. Hierdurch wird es insbesondere ermöglicht, dass sichtbares Licht bei Bestrahlung mit UV-Strahlung, aus der ersten und/oder zweiten oder/oder der weiteren Replizierlackschicht ausgekoppelt wird. Bevorzugt handelt es sich bei den fluoreszierenden Stoffen, um
Perylenfarbstoffe, wie beispielsweise Lumogen F Typen, insbesondere Lumogen F Red 305, Lumogen F Yellow 170, Lumogen F Pink 285, Lumogen F Orange 240 oder Lumogen F Yellow 083, der Firma BASF, Ludwingshafen, Deutschland. Weiter ist es auch möglich, dass es sich bei den fluoreszierenden Stoffen um Phosphor S6, Uvitex OB / Tinopal OB, Uvitex FP,
Fluoreszenzorange, Fluoreszenzgelb, Fluoreszenzrot, Lumilux rot CD120, Lumilux gelborange CD130, Lumilux Effekt Sipi Gelb, Lumilux Grün CD116 oder FTX Series Laser Red Code FTX-3 handelt. Es ist von Vorteil, wenn der Anteil von Perylenfarbstoffen zu Bindemittel zwischen 0,01 % bis 20 %, bevorzugt zwischen 0,1 % und 15 %, weiter bevorzugt zwischen 0,2 % und 10 %, beträgt, insbesondere wobei als Bindemittel Polyacrylate, Polyurethane, Epoxide, Polyester, Polyvinylchloride, Kautschukpolymere, Ethylen-Acrylsäure-Copolymere, Ethylen-Vinylacetate, Polyvinylacetate, Styrol-Blockcopolymere, Phenol-Formaldehydharz-Klebstoffe, Melamine, Alkene, Allylether, Vinylacetat, Alkylvinylether, konjugierte Diene, Styrol, Acrylate und/oder Copolymerharze oder Mischungen daraus verwendet werden. Weiter ist es von Vorteil, wenn die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern von einer Druckschicht ausgebildet ist, welche bereichsweise derart aufgebracht ist, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern durch die Druckschicht ausgebildet ist, insbesondere wobei die Druckschicht mittels einem hochauflösendem Digitaldrucker aufgebracht ist.
Auch ist es zweckmäßig, wenn der Mehrschichtkörper eine insbesondere mittels einem hochauflösenden Digitaldrucker aufgebrachte Kontrollstruktur aufweist, welche bevorzugt auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht aufgebracht ist.
Vorteilhafterweise weist der hochauflösende Digitaldrucker, insbesondere der erste und/oder der zweite hochauflösende Digitaldrucker, eine Auflösung von mindestens 6000 dpi, bevorzugt mindestens 12000 dpi, weiter bevorzugt von mindestens 24000 dpi, auf.
Es ist weiter auch sinnvoll, wenn es sich bei der Erfassungseinrichtung um einen optischen Sensor, wie beispielsweise einen CMOS-Sensor und/oder CCD-Sensor handelt.
Weiter ist es bevorzugt, dass in dem Schritt g) anhand der Kontrollstruktur weiter eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfasst wird.
Hierbei ist es weiter bevorzugt, wenn anhand der erfassten Verwinkelung und/oder des erfassten Verzugs die in dem Schritt h) von der Druckschicht ausgebildete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen aufgebracht wird, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist. Auch ist es möglich, wenn das Verfahren weiter folgenden Schritt umfasst, insbesondere der zwischen den Schritten g) und h) durchgeführt wird:
- Kompensieren der Verwinkelung und/oder des Verzugs derart, dass die in dem Schritt h) von der Druckschicht ausgebildete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen aufgebracht wird.
Ferner ist zweckmäßig, dass nach dem Schritt h) zumindest eine vierte Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest eine fünfte Farblackschicht auf die
Druckschicht aufgebracht wird. Flierdurch wird beispielsweise ein farbiger Hintergrund oder eine Kontrasterhöhung erreicht.
Auch ist es von Vorteil, wenn der Mehrschichtkörper eine zweite Replizierlackschicht auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten
Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht umfasst, wobei in die zweite Replizierlackschicht plasmonische Subwellenlängenstrukturen derart abgeformt sind, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern durch die abgeformten Subwellenlängenstruktur ausgebildet ist, und wobei der Mehrschichtkörper weiter eine Metallschicht umfasst, welche insbesondere direkt auf der die plasmonischen Subwellenlängenstrukturen aufweisenden Seite der zweiten Replizierlackschicht aufgebracht ist. Hierbei können insbesondere entweder die Mikrobilder selbst oder der Hintergrund der Mikrobilder die plasmonischen Subwellenlängenstrukturen aufweisen und der jeweils andere Bereich Spiegelflächen und/oder nicht plasmonische Strukturen wie beispielsweise matt streuende Strukturen aufweisen. Mit anderen Worten können insbesondere die Mikrobilder selbst plasmonische Subwellenlängenstrukturen aufweisen und der Hintergrund der Mikrobilder weist eine Spiegelfläche und/oder nicht plasmonische Strukturen wie beispielsweise matt streuende Strukturen auf oder aber die Mikrobilder selbst weisen bevorzugt eine Spiegelfläche und/oder nicht plasmonische Strukturen wie beispielsweise matt streuende Strukturen auf und der Hintergrund der Mikrobilder weist plasmonische Subwellenlängenstrukturen auf.
Bevorzugt weisen sowohl die Mikrobilder als auch der Hintergrund der Mikrobilder plasmonische Subwellenlängenstrukturen auf. Hierbei hat es sich als vorteilhaft erwiesen, wenn die Farben der plasmonischen Subwellenlängenstrukturen eher ein heller Farbton wie beispielsweise hell- magenta ist und die andere Farbe ein eher dunkler Farbton wie beispielsweise schwarz oder dunkel-grau ist.
Vorteilhafterweise wird in dem Schritt k) die Metallschicht derart aufgebracht, dass durch ein Zusammenwirken der in die zweite Replizierlackschicht abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur und der Metallschicht plasmonische Farben erzeugt werden.
Vorzugsweise umfasst die plasmonische Subwellenlängenstruktur Gitterstrukturen ausgewählt aus der Gruppe zweidimensionale Gitter, Kreuzgitter, Hexagonalgitter. Weiter vorzugsweise weisen derartige Gitterstrukturen eine Gitterperiode zwischen 150 nm und 400 nm und weiter bevorzugt zwischen 200 nm und 350 nm auf und eine Relieftiefe zwischen 50 nm und 400 nm und weiter bevorzugt zwischen 150 nm und 350 nm auf.
In einer bevorzugten Ausführungsform wird in einem Strukturierungsverfahren, beispielsweise mittels an sich bekannter Ätzverfahren und/oder Waschverfahren und/oder Belichtungsverfahren die Metallschicht nur in den Bereichen mit den plasmonischen Subwellenlängenstrukturen entfernt oder nur in den Bereichen ohne diese Subwellenlängenstrukturen entfernt. Beispielsweise können hierfür auch Strukturierungsverfahren verwendet werden, wie sie insbesondere in der WO 2006084686 A2 beschrieben sind, bei denen bedingt durch eine bereichsweise unterschiedlich ausgestaltete Reliefstruktur eine entsprechend den Bereichen der Reliefstruktur unterschiedliche Belichtung einer photoempfindlichen Schicht bzw. Waschmaske erfolgt und dadurch die Metallschicht entsprechend der unterschiedlichen Belichtung bereichsweise entfernt wird und bereichsweise erhalten bleibt.
Weiter ist es denkbar, dass vor dem Schritt i) zumindest eine Farbfilterschicht auf die Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht, bevorzugt auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht aufgebracht, wird.
Zweckmäßigerweise handelt es sich bei den Metallschichten, insbesondere bei der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Metallschicht und/oder der Metallschicht, um Schichten aus Aluminium, Silber, Chrom, Kupfer, Zinn, Indium, Gold, Zink oder einer Legierung der vorgenannten Metalle.
Bevorzugt handelt es sich bei der Metallschicht, welche auf die die plasmonischen Subwellenlängenstrukturen aufweisende Seite der zweiten Replizierlackschicht aufgebracht ist, um eine Schicht aus Aluminium, Silber, Kupfer oder einer Legierung der vorgenannten Metalle. Weiter ist es auch möglich, dass es sich bei den Metallschichten, insbesondere bei der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Metallschicht und/oder der Metallschicht, um Schichten aus durch Oxidation geschwärztem Aluminium oder Silber, wie beispielsweise unterstöchiometrischem AlxOy, handelt.
Vorteilhafterweise werden die Metallschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Metallschicht und/oder die Metallschicht, durch Aufdampfen oder Sputtern ausgebildet.
Weiter ist es zweckdienlich, wenn die Schichtdicke der Metallschichten, insbesondere der zumindest einen ersten und/oder zweiten und/oder dritten und/oder vierten Metallschicht und/oder der Metallschicht, zwischen 3 nm und 300 nm, bevorzugt zwischen 5 nm und 100 nm, liegt.
Weiter ist es möglich, dass die Metallschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Metallschicht und/oder die Metallschicht, als metallische Spiegelschichten oder als semitransparente Absorberschichten dienen. Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der Metallschichten für die Funktion als metallische Spiegelschicht mehr 15 nm. Insbesondere für die Funktion als semitransparente Absorberschicht beträgt die Schichtdicke der Metallschichten weniger als 15 nm. Auch ist es möglich, dass die Metallschichten, insbesondere die zumindest eine erste und/oder zweite und/oder dritte und/oder vierte Metallschicht und/oder die Metallschicht, durch Aufbringen von metallpigmenthaltigen Lacken ausgebildet werden, wobei die Schichtdicke hierbei bevorzugt zwischen 0,1 gm und 50 gm, weiter bevorzugt zwischen 1 gm und 20 gm, liegt.
Bei der Trägerschicht handelt es sich bevorzugt um eine ein- oder mehrschichtige Folie, deren ein oder mehrere Schichten insbesondere aus folgenden Materialien oder Kombinationen daraus bestehen: Polyethylenterephthalat (PET), Polypropylen (PP), Polyethylen (PE), Polyethylennaphthalat (PEN), Polycarbonat (PC), Polyvinylchlorid (PVC), Poly- oxydiphenylen-pyromellitimid (Kapton) oder anderen Polyimiden, Polylactat (PLA), Polymethylmethacrylat (PMMA) oder Acrylnitrilbutadienstyrol (ABS).
Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der Trägerschicht zwischen 1 gm und 500 gm, weiter vorzugsweise zwischen 6 gm und 75 gm, noch weiter vorzugsweise zwischen 12 gm und 50 gm.
Zweckmäßigerweise wird in dem Schritt a) eine mit einer Haftvermittlerschicht insbesondere ein- oder beidseitig vorbeschichtete Trägerschicht bereitgestellt.
Weiter ist es zweckmäßig, wenn vor dem Schritt b) und/oder dass vor dem Schritt i) eine Haftvermittlerschicht auf die Trägerschicht aufgebracht wird, insbesondere wobei anschließend in dem Schritt b) und/oder in dem Schritt i) die erste und/oder zweite Replizierlackschicht auf die auf die Trägerschicht aufgebrachte Haftvermittlerschicht aufgebracht wird. So ist es möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine Haftvermittlerschicht umfasst, insbesondere wobei die zumindest eine Haftvermittlerschicht zwischen der Trägerschicht und der ersten und/oder zweiten Replizierlackschicht angeordnet ist. Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der Haftvermittlerschicht bevorzugt zwischen 0,01 gm und 15 gm, weiter bevorzugt zwischen 0,1 gm und 5 gm. Vorteilhafterweise besteht die Haftvermittlerschicht aus Polyester, Epoxid, Polyurethan, Acrylat und/oder Copolymerharzen oder Mischungen daraus. Weiter ist es möglich, dass die Haftvermittlerschicht thermoplastisch, UV- härtbar, als Hybridvariante (thermoplastisch und UV-härtbar), als Kaltkleber oder als selbstklebende Haftvermittlerschicht ausgeführt ist.
Weiter es sinnvoll, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine Grundierungsschicht umfasst, insbesondere wobei die zumindest eine Grundierungsschicht auf die der Trägerschicht abgewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern aufgebracht ist. Vorteilhafterweise bildet die Grundierungsschicht die äußerste Schicht des Mehrschichtkörpers aus, welche insbesondere der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegt.
Vorzugsweise handelt es sich bei der zumindest einen Grundierungsschicht um eine thermisch aktivierbare Schicht, welche weiter vorzugsweise eine
Schichtdicke zwischen 0,3 gm und 25 gm aufweist und bevorzugt vollflächig aufgetragen wird. Die Grundierungsschicht kann insbesondere einschichtig oder mehrschichtig aufgebaut sein. Weiterhin kann die Grundierungsschicht vorzugsweise auf wässriger, lösemittelhaltiger oder strahlenhärtender Basis und oder deren Kombinationen aufgebaut sein.
Als Bindemittel für die Grundierungsschicht können insbesondere verwendet werden: Polyacrylate, Polyurethane, Epoxide, Polyester, Polyvinylchloride, Kautschukpolymere, Ethylen-Acrylsäure-Copolymere, Ethylen-Vinylacetate, Polyvinylacetate, Styrol-Blockcopolymere, Phenol-Formaldehydharz-Klebstoffe, Melamine, Alkene, Allylether, Vinylacetat, Alkylvinylether, konjugierte Diene, Styrol, Acrylate und die Mischungen obiger Rohstoffe und deren Copolymere. Als Lösungsmittel können insbesondere Wasser, aliphatische (Benzin- )Kohlenwasserstoffe, cycloaliphatische Kohlenwasserstoffe, Terpenkohlenwasserstoffe, aromatische (Benzol-)Kohlenwasserstoffe, Chlorkohlenwasserstoffe, Ester, Ketone, Alkohole, Glykole, Glykolether, Glycoletheracetate verwendet werden.
Weiterhin können der Grundierungsschicht insbesondere Härter, Vernetzer, Fotoinitiatoren, Füllstoffe, Stabilisatoren, Inhibitoren, Additive wie z.B. Verlaufsadditive, Entschäumer, Entlüfter, Dispergieradditive, Netzmittel, Gleitmittel, Mattierungsmittel, Rheologieadditive, Pigmente und Farbstoffe oder Wachse zugesetzt werden.
Die Grundierungsschicht wird bevorzugt mittels eines Druckverfahrens wie z.B. Tiefdruck, Siebdruck, Flexodruck, Inkjetdruck, Gießen oder mittels eines Rakelverfahrens aufgebracht.
Es ist möglich, dass das Verfahren weiter folgenden Schritt umfasst:
- Aufbringen zumindest einer Kantenemitterschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht und/oder auf die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen, insbesondere auf die einem Betrachter zugewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen. So ist es natürlich auch möglich, dass der Mehrschichtkörper weiter zumindest eine Kantenemitterschicht umfasst, welche auf der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht und/oder auf der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen, insbesondere auf der die einem Betrachter zugewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen, angeordnet ist.
Bevorzugt handelt es sich bei der zumindest einen Kantenemitterschicht um eine Schicht aus Bindemitteln und Hilfsstoffen, beispielsweise Additiven, insbesondere wobei die Kantenemitterschicht weiter bevorzugt fluoreszierende Stoffe aufweist. Bezüglich der Bindemittel und der fluoreszierenden Stoffe ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Vorteilhafterweise werden in dem Schritt e) und/oder dem Schritt h) und/oder dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen aufgebracht, abgeformt, strukturiert und/oder ausgebildet.
Weiter ist es möglich, dass in dem Schritt e) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder durch die Bereiche ausgebildet werden, in denen die zumindest eine zu strukturierende Schicht entfernt wird oder nicht entfernt wird, und/oder dass in dem Schritt h) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder durch die Bereiche der Druckschicht ausgebildet werden, in denen die Druckschicht aufgebracht wird oder nicht aufgebracht wird, und/oder dass in dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder durch die Bereiche ausgebildet werden, in denen die plasmonische Subwellenlängenstruktur abgeformt wird oder nicht abgeformt wird. Weiter ist es bevorzugt, wenn die Gesamtdicke des Mehrschichtkörpers kleiner als 50 pm, bevorzugt kleiner als 35 pm ist, noch weiter bevorzugt kleiner als 25 pm, ist.
Im Folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung exemplarisch unter Zuhilfenahme der beiliegenden, nicht maßstabgetreuen Figuren erläutert.
Fig. 1a zeigt schematisch eine Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers
Fig. 1b bis Fig. 1d zeigen schematisch Verfahren zum Flerstellen eines
Mehrschichtkörpers Fig. 2 zeigt schematisch ein Verfahren zum Erzeugen einer hochaufgelösten separaten Maske
Fig. 3a bis Fig. 3c zeigen schematische Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern
Fig. 4a und Fig. 4b zeigen ein Verfahren zum Flerstellen eines Mehrschichtkörpers sowie einen Mehrschichtkörper
Fig. 5 zeigt schematisch eine Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers
Fig. 6 zeigt schematisch eine Darstellung des CIELAB- Farbraums Fig. 7 bis Fig. 10 zeigen schematisch Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern Fig. 11 a bis Fig. 11 c zeigen schematisch Schnittdarstellungen von
Mehrschichtkörpern
Fig. 12a und Fig. 12b zeigen schematisch Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern
Fig. 1a zeigt schematisch eine Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers 1.
Bevorzugt handelt es sich bei dem Mehrschichtkörper 1 um ein mehrschichtiges Sicherheitselement zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten.
Der Mehrschichtkörper umfasst, wie in Fig. 1a gezeigt, eine Trägerschicht 10 und einer auf die Trägerschicht 10 aufgebrachte Replizierlackschicht 11a, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 abgeformt ist. Weiter weist der Mehrschichtkörper eine auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 angeordnete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 auf, insbesondere wobei die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 angeordnet ist.
Bei der Trägerschicht 10 handelt es sich bevorzugt um eine ein- oder mehrschichtige Folie, deren ein oder mehrere Schichten insbesondere aus folgenden Materialien oder Kombinationen daraus bestehen: Polyethylenterephthalat (PET), Polypropylen (PP), Polyethylen (PE),
Polyethylennaphthalat (PEN), Polycarbonat (PC), Polyvinylchlorid (PVC), Poly- oxydiphenylen-pyromellitimid (Kapton) oder anderen Polyimiden, Polylactat (PLA), Polymethylmethacrylat (PMMA) oder Acrylnitrilbutadienstyrol (ABS). Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der Trägerschicht 10 zwischen 1 gm und 500 gm, weiter vorzugsweise zwischen 6 gm und 75 gm, noch weiter vorzugsweise zwischen 12 gm und 50 gm.
Bei der in Fig. 1a gezeigten Trägerschicht 10 handelt es sich beispielsweise um eine Trägerschicht aus PET mit einer Schichtdicke von 12 gm. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Trägerschicht 10 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Ferner weist der Mehrschichtkörper 1 eine Flaftvermittlerschicht 13 auf, welche zwischen der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 und der Trägerschicht 10 angeordnet ist. Zweckmäßigerweise wird hierzu eine mit der Flaftvermittlerschicht 13 einseitig vorbeschichtete Trägerschicht 10 bereitgestellt.
Vorzugsweise beträgt die Schichtdicke der Flaftvermittlerschicht 13 bevorzugt zwischen 0,01 gm und 15 gm, weiter bevorzugt zwischen 0,1 gm und 5 gm. Vorteilhafterweise besteht die Flaftvermittlerschicht 13 aus Polyester, Epoxid, Polyurethan, Acrylat und/oder Copolymerharzen oder Mischungen daraus. Weiter ist es möglich, dass die Flaftvermittlerschicht thermoplastisch, UV- härtbar, als Flybridvariante (thermoplastisch und UV-härtbar), als Kaltkleber oder als selbstklebende Flaftvermittlerschicht ausgeführt ist.
Bei der in Fig. 1a gezeigten Flaftvermittlerschicht 13 handelt es sich beispielsweise um eine Flaftvermittlerschicht aus Epoxid mit einer Schichtdicke von 1 mίti. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Haftvermittlerschicht 13 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 sind in die Replizierlackschicht 11a abgeformt.
Bevorzugt handelt es sich bei der Replizierlackschicht 11a um eine funktionale Schicht, in welche Strukturen, insbesondere Oberflächenstrukturen, bevorzugt mittels thermischer Replikation und/oder UV-Replikation eingebracht und/oder fixiert werden.
Weiter ist es möglich, dass es sich bei der Replizierlackschicht 11a um eine hybride Replizierlackschicht handelt, welche beispielsweise thermisch repliziert und anschließend mittels Strahlung, insbesondere mittels UV-Strahlung und/oder mittels zumindest einem Elektronenstrahl, gehärtet wird. Insbesondere bei UV-Abformung wird die Replizierlackschicht 11a bei Raumtemperatur repliziert und anschließend mittels UV-Strahlung gehärtet.
Weiter ist es bevorzugt, wenn die Schichtdicke der Replizierlackschicht 11a zwischen 0,1 pm und 50 pm, bevorzugt zwischen 0,1 pm und 30 pm, weiter bevorzugt zwischen 0,3 pm und 20 pm, noch weiter bevorzugt zwischen 0,5 pm und 20 pm, darüber hinaus bevorzugt zwischen 0,5 pm und 10 pm, liegt.
Weiter ist es denkbar, dass die Replizierlackschicht 11a fluoreszierende Stoffe aufweist, welche insbesondere mittels UV-Strahlung, bevorzugt aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, angeregt werden. Bei der in Fig. 1a gezeigten Replizierlackschicht 11a handelt es sich beispielsweise um eine UV-härtbare Schicht, welche in einer Schichtdicke von 30 pm aufgebracht wurde. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Replizierlackschicht 11 a ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Auch ist es vorteilhaft, wenn die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 jeweils eine Linsenbrennweite zwischen 10 pm und 50 pm, bevorzugt zwischen 15 pm und 40 pm, aufweisen.
Weiter ist es zweckmäßig, wenn das Raster der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 eine Periode zwischen 5 pm und 70 pm, bevorzugt zwischen 5 pm und 50 pm, weiter bevorzugt zwischen 10 pm und 40 pm, aufweist und/oder dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 einen Linsendurchmesser zwischen 5 pm und 70 pm, bevorzugt zwischen 5 pm und 50 pm, weiter bevorzugt zwischen 10 pm und 40 pm, aufweisen.
Bevorzugt weist die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 eine halbkugelförmige Geometrie und/oder eine abgeflachte halbkugelförmige Geometrie und/oder eine dazu ähnliche Geometrie auf.
Auch ist es denkbar, dass das Raster der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 ein ein- oder zweidimensionales Raster ist. Weiter ist es denkbar, dass insbesondere bei einem zweidimensionalen Raster die Mikrolinsen 12 zeilenweise versetzt angeordnet sind, bevorzugt um einen halben Linsendurchmesser und/oder Linsenabstand versetzt sind. Bei der in Fig. 1a gezeigten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 handelt es sich beispielsweise um abgeflachte halbkugelförmige Mikrolinsen mit einem Linsendurchmesser von jeweils 25 pm und einer Linsenbrennweite von 30 pm, welche gemäß einem zweidimensionalen Raster angeordnet sind. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 bestehen vorzugsweise jeweils aus einem oder mehreren Pixeln, wobei insbesondere die kürzeste Kantenlänge oder der kleinste Durchmesser eines Pixels kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, besonders bevorzugt kleiner als 2,5 pm ist.
Im Folgenden werden anhand der Fig. 1b bis 1d Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers, wie dem in Fig. 1a gezeigten Mehrschichtkörper 1, erläutert, wobei insbesondere auch die Erzeugung der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 dargelegt wird:
So zeigen Fig. 1b bis Fig. 1d schematisch Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers 1.
Fig. 1b zeigt ein Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers 1, insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht 10; b) Aufbringen einer Replizierlackschicht 11 a auf die Trägerschicht 10; c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 in die Replizierlackschicht 11a; d) Aufbringen einer zu strukturierenden Schicht 14 auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegende Seite der Trägerschicht 10; e) Strukturierung der einen zu strukturierenden Schicht 14 unter Verwendung einer hochaufgelösten separaten Maske 23 derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 durch bereichsweises Entfernen der einen zu strukturierenden Schicht 14 ausgebildet werden.
Es ist von Vorteil, wenn die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte eine zu strukturierende Schicht 14 eine Fotolackschicht 16a ist, welche insbesondere in dem hergestellten Mehrschichtkörper 1 verbleibt. Weiter bevorzugt ist die Fotolackschicht 16a eingefärbt, insbesondere mit Farbstoffen und/oder Pigmenten eingefärbt, weist fluoreszierende Stoffe auf und/oder ist transparent ausgebildet.
Noch weiter bevorzugt wird die Fotolackschicht 16a zunächst vollflächig insbesondere in einer Schichtdicke zwischen 0,5 pm und 1 ,5 pm aufgebracht.
Weiter ist es zweckmäßig, wenn der Schritt e) weiter zumindest einen der folgenden Schritte umfasst:
- Belichten durch die hochauflösende separate Maske insbesondere in einem step-and-repeat Verfahren der Fotolackschicht 16a von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 her, bevorzugt mittels einer Belichtungsquelle; -Ausrichten der hochauflösenden separaten Maske insbesondere mittels Registermarken, welche vorzugsweise eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfassbar machen, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist.
Vorteilhafterweise erfolgt ein kontaktschlüssiges Zusammenführen der hochaufgelösten separaten Maske mit der auf die Trägerschicht 10 aufgebrachten Fotolackschicht 16a und insbesondere anschließend ein Belichten der Fotolackschicht 16a durch die Maske hindurch. Bevorzugt wird die Fotolackschicht 16a dadurch in den Flächenbereichen belichtet, in denen die Maske für die jeweilige Belichtungsstrahlung durchlässig bzw. transparent ist.
Anschließend wird die Fotolackschicht 16a insbesondere entwickelt und strukturiert.
So ist es möglich, dass in die in der Fig. 1a gezeigte Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 von der Fotolackschicht 16a ausgebildet werden.
Ferner ist es von Vorteil, dass in dem Schritt e) eine hochaufgelöste separate Maske mit Strukturen kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, verwendet wird. Bezüglich der weiteren möglichen Ausgestaltung der hochaufgelösten separaten Maske ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Bevorzugt wird zur Ausbildung der Fotolackschicht 16a ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, oder ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet.
Insbesondere zeichnet sich ein positiver Fotolack dadurch aus, dass dieser Fotolack bei ausreichender Belichtung mit einer geeigneten Wellenlänge, wie beispielsweise mittels UV-Strahlung, in den belichteten Bereichen löslich in einem bestimmten Lösungsmittel, beispielsweise in sauren oder basischen wässrigen Lösungen, wird. Insbesondere durch eine Belichtung unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske lassen sich folglich bevorzugt eingefärbte Bereiche definierter Form und Größe erzielen, welche bevorzugt die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 ausbilden.
Bevorzugt umfasst ein positiver Fotolack beispielsweise Kondensationspolymer aus m- und p-Kresol und Formaldehyd (Novolak-Harz), Diazonaphthochinon- Derivat (DNQ) und Lösungsmittel bzw. Lösungsmittelgemisch, wie beispielsweise 1 -Methoxy-2-propylacetat.
Hierbei sind insbesondere Novolak-Harze hydrophil (OH-Gruppen) und löslich in wässriger Base. Insbesondere wenn die Novolak-Harze mit DNQ vermischt werden, ist die Löslichkeit des Novolaks in einer Base stark reduziert. Insbesondere eine Belichtung des Inhibitors (DNQ) führt zur Säure, die es ermöglicht, dass die belichteten Stellen (A) des Fotolacks selektiv durch wässrige Base (Entwickler) aufgelöst werden können. Insbesondere nach der Belichtung wird DNQ in die Indencarbonsäure (ICA) umgewandelt. Diese ist insbesondere hydrophil und ionisierbar. Insbesondere ein negativer Fotolack zeichnet sich dadurch aus, dass dieser Lack bei ausreichender Belichtung mit einer geeigneten Wellenlänge, wie beispielsweise mittels UV-Strahlung, aushärtet, und dadurch in den belichteten Bereichen unlöslich in einem bestimmten Lösungsmittel, beispielsweise in sauren oder basischen wässrigen Lösungen, wird. Insbesondere durch eine Belichtung unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske lassen sich folglich bevorzugt eingefärbte Bereiche definierter Form und Größe erzielen, welche bevorzugt die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 ausbilden.
Bevorzugt basiert ein negativer Fotolack auf Epoxidharzen und weist niedermolekulare organische Verbindungen auf, die insbesondere mehr als eine Epoxidgruppe pro Molekül aufweisen. Weiter werden bevorzugt Epoxidharze basierend auf Bisphenol-A, epoxidiertem Phenolnovolak, und/oder Resorcinol diglycidyl zur Erzeugung von negativen Fotolacken verwendet.
Insbesondere in Verbindung mit einem Vernetzer (Härter) liefert ein sogenanntes Harz/Härter-System durch Polymerisation der Epoxidgruppe ein makromolekulares Netzwerk. Hierbei können insbesondere verschiedene Härter verwendet werden, die durch die Ringöffnungsreaktion der Oxirangruppen unterschieden werden. Vorzugsweise werden Säureanhydride, Amine oder phenolhaltige Verbindungen eingesetzt oder Triarylsulfoniumsalze als photoaktive Komponente verwendet.
Weiterhin werden vorzugsweise Katalysatoren, wie z.B. Lewis-Basen und - Säuren eingesetzt. Der Härter wird dabei vorzugsweise in die dreidimensionale Netzstruktur eingebaut. Insbesondere ein Katalysator begünstigt im Falle eines basischen Beschleunigers die Netzwerkbildung über Esterbrücken. Insbesondere als Lösemittel in der Drucktinte derartiger epoxidharzbasierender Fotolacke wird vorzugsweise g-Butyrolacton verwendet. Weiter werden vorzugsweise Additive, wie z. B. langkettige Epoxidharze eingesetzt, um zum einen als Haftvermittler, Reaktivverdünner oder als Zusatz bzw. Erniedrigung der Viskosität zu dienen.
Beispielsweise wird als Negativ-Fotolack der Fotolack SU-8 Epoxid-Novolak auf Basis Bisphenol A; Triarylsulfonoimhexafluoroantimonat; g-Butyrolacton, MicroChem Corporation, Newton, USA, verwendet.
Weiter beispielsweise besteht ein Negativ-Fotolack insbesondere aus der folgenden Kombination von Lösungsmittel, Bindemitteln und Härter: -Lösungsmittel: 1 -Methoxy-2-propanol Anteil: 75%,
- Bindemittel: Urethanacrylatoligomer 15%,
- Bindemittel: Pentaerythrittetraacrylat 2,5%,
- Bindemittel: Pentaerythrittriacrylat 1%,
- Bindemittel: ethoxyliertes Trimethylolpropantriacrylat 1%,
- Bindemittel: acryliertes Oligomer 2,5%,
- Härter: Genocure ITX 3%.
Fig. 1c zeigt ein Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers 1 , insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht 10; b) Aufbringen einer Replizierlackschicht 11 a auf die Trägerschicht 10; c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 in die Replizierlackschicht 11a; f) Drucken einer Kontrollstruktur auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 mittels einem ersten hochauflösendem Digitaldrucker; g) Erfassen der Kontrollstruktur mittels einer Erfassungseinrichtung von Seiten der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 her derart, dass die Kontrollstruktur durch die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 hindurch mittels der Erfassungseinrichtung erfasst wird; h) Bereichsweises Aufbringen einer Druckschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegende Seite der Trägerschicht 10 mittels einem zweiten hochauflösendem Digitaldrucker unter Verwendung der erfassten Kontrollstruktur derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 durch die Druckschicht ausgebildet werden. Vorteilhafterweise weist der hier verwendete hochauflösende Digitaldrucker, insbesondere der erste und/oder der zweite hochauflösende Digitaldrucker, eine Auflösung von mindestens 6000 dpi, bevorzugt mindestens 12000 dpi, weiter bevorzugt von mindestens 24000 dpi, auf. Es ist weiter auch sinnvoll, wenn es sich bei der Erfassungseinrichtung um einen optischen Sensor, wie beispielsweise einen CMOS- und/oder CCD- Sensor handelt. Weiter ist es bevorzugt, dass in dem Schritt g) anhand der Kontrollstruktur weiter eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfasst wird.
Hierbei ist es weiter bevorzugt, wenn anhand der erfassten Verwinkelung und/oder des erfassten Verzugs die in dem Schritt h) von der Druckschicht ausgebildete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 aufgebracht wird, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist.
Auch ist es möglich, wenn das Verfahren weiter folgenden Schritt umfasst, insbesondere der zwischen den Schritten g) und h) durchgeführt wird:
- Kompensieren der Verwinkelung und/oder des Verzugs derart, dass die in dem Schritt h) von der Druckschicht ausgebildete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 aufgebracht wird.
Ferner ist zweckmäßig, dass nach dem Schritt h) eine Metallschicht und/oder eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest eine Farblackschicht auf die Druckschicht aufgebracht wird.
Fig. 1d zeigt ein Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers 1, insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht 10; b) Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht 11 a auf die Trägerschicht 10; c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 in die erste Replizierlackschicht 11a; i) Aufbringen einer zweiten Replizierlackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegende Seite der Trägerschicht 10; j) Bereichsweises Abformen einer plasmonischen Subwellenlängenstruktur in die zweite Replizierlackschicht derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 durch die abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur ausgebildet wird; k) Aufbringen einer Metallschicht auf die zweite Replizierlackschicht.
Vorteilhafterweise wird in dem Schritt k) die Metallschicht derart aufgebracht, dass durch ein Zusammenwirken der in die zweite Replizierlackschicht abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur und der Metallschicht plasmonische Farben erzeugt werden.
Vorzugsweise umfasst die plasmonischen Subwellenlängenstruktur Gitterstrukturen ausgewählt aus der Gruppe zweidimensionale Gitter, Kreuzgitter, Hexagonalgitter. Weiter vorzugsweise weisen derartige Gitterstrukturen eine Gitterperiode zwischen 150 nm und 400 nm und weiter bevorzugt zwischen 200 nm und 350 nm auf und eine Relieftiefe zwischen 50 nm und 400 nm und weiter bevorzugt zwischen 150 nm und 350 nm auf.
Weiter ist es denkbar, dass vor dem Schritt i) zumindest eine Farbfilterschicht auf die Trägerschicht 10 insbesondere vollflächig aufgebracht, bevorzugt auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 aufgebracht, wird.
Fig. 2 zeigt schematisch ein Verfahren zum Erzeugen einer hochaufgelösten separaten Maske 23.
Wie in Fig. 2 gezeigt, wird ein mit einer Chromschicht 23b beschichtetes Glassubstrat 23a, insbesondere aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid bereitgestellt, wobei auf die Chromschicht 23b weiter eine Fotolackschicht 16d aufgebracht ist. In einem ersten Schritt wird die Fotolackschicht 16d zur Strukturierung der Chromschicht 23b auf dem Glassubstrat 23a mittels eines Lasers oder einem Elektronenstrahl belichtet. In einem weiteren Schritt wird die Fotolackschicht 16d entwickelt, wobei insbesondere bei Verwendung eines positiven Fotolacks die belichteten Bereiche entfernt werden. Anschließend wird die Chromschicht 23b geätzt, wobei die von der Fotolackschicht 16d bedecken Bereiche, wie in Fig. 2 gezeigt, vor dem Ätzmittel geschützt sind und damit nicht entfernt werden. Im darauffolgenden Schritt wird der Fotolack 16d insbesondere vollständig entfernt. Im letzten Schritt wird ein sogenanntes Pellicle, unter dem insbesondere eine dünne, transparente Membran, welche die hochaufgelöste separate Maske bedeckt verstanden wird, aufgebracht.
Vorteilhafterweise wird die hochaufgelöste separate Maske 23 mittels Elektronenstrahllithographieverfahren erzeugt. Es ist jedoch auch möglich, dass die hochaufgelöste separate Maske 23 mittels Laserstrahllithographieverfahren erzeugt wird, wobei hierbei typischerweise geringere Auflösungen als bei Elektronenstrahllithographieverfahren erzielt werden. Vorzugsweise werden mit diesen Verfahren Strukturen kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, erzeugt. Die so erzeugte hochaufgelöste separate Maske 23 umfasst damit bevorzugt folgende Schichten: ein Glassubstrat 23a, insbesondere aus hochreinem Quarzglas oder Calciumfluorid, eine Chromschicht 23b, insbesondere eine optisch dichte Chromschicht, optional eine Haftvermittlerschicht und optional ein Pellicle 23c.
Fig. 3a bis Fig. 3c zeigen schematische Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern.
So ist in Fig. 3a ein Mehrschichtkörper 1 umfassend eine Replizierlackschicht 11a mit einer darin abgeformten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12, eine Haftvermittlerschicht 13, eine Trägerschicht 10, einer Fotolackschicht 16a, die derart ausgeformt ist, dass diese eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 ausbildet, und einer Grundierungsschicht gezeigt.
Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 15 und 16a ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Wie in Fig. 3a gezeigt, ist die Grundierungsschicht 24 auf die der Trägerschicht 10 abgewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 aufgebracht. Vorzugsweise handelt es sich bei der Grundierungsschicht 24 um eine thermisch aktivierbare Schicht, welche weiter vorzugsweise eine Schichtdicke zwischen 0,3 pm und 25 pm aufweist und bevorzugt vollflächig aufgetragen wird. Die Grundierungsschicht 24 kann insbesondere einschichtig oder mehrschichtig aufgebaut sein. Weiterhin kann die Grundierungsschicht 24 insbesondere auf wässriger, lösemittelhaltiger oder strahlenhärtender Basis und/oder deren Kombinationen aufgebaut sein. Als Bindemittel für die Grundierungsschicht 24 können insbesondere verwendet werden: Polyacrylate, Polyurethane, Epoxide, Polyester, Polyvinylchloride, Kautschukpolymere, Ethylen-Acrylsäure-Copolymere, Ethylen-Vinylacetate, Polyvinylacetate, Styrol- Blockcopolymere, Phenol-Formaldehydharz-Klebstoffe, Melamine, Alkene, Allylether, Vinylacetat, Alkylvinylether, konjugierte Diene, Styrol, Acrylate und die Mischungen obiger Rohstoffe und deren Copolymere. Als Lösungsmittel können insbesondere Wasser, aliphatische (Benzin-)Kohlenwasserstoffe, cycloaliphatische Kohlenwasserstoffe, Terpenkohlenwasserstoffe, aromatische (Benzol-)Kohlenwasserstoffe, Chlorkohlenwasserstoffe, Ester, Ketone, Alkohole, Glykole, Glykolether, Glycoletheracetate verwendet werden.
Weiterhin können der Grundierungsschicht 24 insbesondere Härter, Vernetzer, Fotoinitiatoren, Füllstoffe, Stabilisatoren, Inhibitoren, Additive wie z.B. Verlaufsadditive, Entschäumer, Entlüfter, Dispergieradditive, Netzmittel, Gleitmittel, Mattierungsmittel, Rheologieadditive, Pigmente und Farbstoffe oder Wachse zugesetzt werden.
Die Grundierungsschicht 24 wird bevorzugt mittels eines Druckverfahrens wie z.B. Tiefdruck, Siebdruck, Flexodruck, Inkjetdruck, Gießen oder mittels eines Rakelverfahrens aufgebracht. Bezüglich der weiteren Herstellung eines derartigen Mehrschichtkörpers 1 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Bei der in Fig. 3a gezeigten Grundierungsschicht 24 handelt es sich beispielsweise um eine thermisch aktivierbare Schicht aus Bindemittel und gegebenenfalls weiteren Hilfsstoffen, welche weiter eine Schichtdicke von 0,3 pm bis 25 pm aufweist. Der in Fig. 3b gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht dem in Fig. 3a gezeigten Mehrschichtkörper mit dem Unterschied, dass dieser weiter die Kantenemitterschicht 21 umfasst. Wie in Fig. 3b gezeigt, ist die Kantenemitterschicht 21 auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12, insbesondere auf der die einem Betrachter zugewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12, angeordnet. Auch ist es möglich, dass die Kantenemitterschicht 21 die gesamte Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 21 bedeckt, insbesondere wobei die Schichtdicke der Kantenemitterschicht 21 geringer, insbesondere viel geringer, als die Linsenhöhe ist. Hierbei ist es weiter möglich, dass sich mehr Material der Kantenemitterschicht 21 in den Zwischenräumen zwischen den Mikrolinsen 12 ansammelt.
Bei der in Fig. 3b gezeigten Kantenemitterschicht 21 handelt es sich beispielsweise um eine Schicht aus einem Bindemittel mit Hilfsstoffen, beispielsweise Additive, wobei die Kantenemitterschicht 21 weiter fluoreszierende Stoffe aufweist. Bezüglich der Bindemittel und der fluoreszierenden Stoffe und weiteren möglichen Ausgestaltungen der Kantenemitterschicht 21 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Der in Fig. 3c gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht dem in Fig. 3b gezeigten Mehrschichtkörper 1 mit dem Unterschied, dass die Kantenemitterschicht 21 auf der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht angeordnet ist. So ist die Kantenemitterschicht 21 in dem in Fig. 3c gezeigten Mehrschichtkörper 1 zwischen der Trägerschicht 10 und der Grundierungsschicht 24 angeordnet. Weiter ist es möglich, dass die Gesamtdicke des Mehrschichtkörpers 1 kleiner als 50 pm, bevorzugt kleiner als 35 pm ist, noch weiter bevorzugt kleiner als 25 pm, ist.
Fig. 4a und Fig. 4b zeigen ein Verfahren zum Fierstellen eines Mehrschichtkörpers 1 sowie einen Mehrschichtkörper 1.
Der in Fig. 4a und Fig. 4b gezeigte Mehrschichtkörper wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zu strukturierende Schicht 14 eine Farblackschicht 17a umfasst, welche insbesondere vollflächig auf die Fotolackschicht 16a aufgebracht wird. Anschließend wird in dem Schritt e) die Farblackschicht 17a passergenau mit der Fotolackschicht 16a strukturiert.
Bei der in Fig. 4a und Fig. 4b gezeigten Farblackschicht 17a handelt es sich um eine Schicht, die im Gegensatz zu der Fotolackschicht 16a selbst nicht belichtbar bzw. strukturierbar ist. Wie in Fig. 4a gezeigt, wird die Farblackschicht 17a in demselben Schritt strukturiert, in dem die Fotolackschicht 16a strukturiert wird. In anderen Worten wird die Farblackschicht 17a zusammen mit der Fotolackschicht 16a entfernt. Bezüglich der weiteren möglichen Ausgestaltung der Farblackschicht 17a ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
So sind insbesondere in der Fig. 4a folgende Verfahrensschritte gezeigt: - Strukturierung und Entfernen der Fotolackschicht 16a, wobei die insbesondere bei Betrachtung des Mehrschichtkörpers 1 von Seiten der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 her drunter angeordnete Farblackschicht 17a passergenau zusammen mit dem Fotolack 16a entfernt wird.
Das Entfernen von Fotolackschichten, wie hier der Fotolackschicht 16a, wird allgemein auch als sogenanntes Strippen bezeichnet.
Wie in Fig. 4b gezeigt, wird der Mehrschichtkörper anschließend noch mit einer Metallschicht 18c insbesondere zur Kontrasterhöhung bedampft, so dass ein Mehrschichtköper 1 erhalten wird, der die folgenden Schichten umfasst: eine Replizierlackschicht 11a mit einer darin abgeformten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12, eine Flaftvermittlerschicht 13, eine Trägerschicht 10, eine strukturierte Schicht 14 umfassend eine Fotolackschicht 16a und eine Farblackschicht 17a, wobei die strukturierte Schicht 14 derart ausgeformt ist, dass diese eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 ausbildet, und eine Metallschicht 18c.
Zweckmäßigerweise handelt es sich bei der Metallschicht 18c um eine Schicht aus Aluminium, Silber, Chrom, Kupfer, Zinn, Indium, Gold, Zink oder einer Legierung der vorgenannten Metalle. Weiter ist es auch möglich, dass es sich bei der Metallschicht 18c um eine Schicht aus durch Oxidation geschwärztem Aluminium oder Silber, wie beispielsweise unterstöchiometrischem AlxOy, handelt. Weiter ist es zweckdienlich, wenn die Schichtdicke der der Metallschicht zwischen 1 nm und 500 nm, bevorzugt zwischen 5 nm und 100 nm, liegt.
Bei der in Fig. 4b gezeigten Metallschicht 18c handelt es sich beispielsweise um eine Metallschicht aus Aluminium mit einer Schichtdicke von 20 nm. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Metallschicht ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Fig. 5 zeigt schematisch eine Schnittdarstellung eines Mehrschichtkörpers 1.
Der in Fig. 5 gezeigte Mehrschichtkörper 1 umfasst eine Replizierlackschicht 11a mit einer darin abgeformten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12, eine Flaftvermittlerschicht 13, eine Trägerschicht 10, eine Fotolackschicht 16a, die derart ausgeformt ist, dass diese eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 ausbildet, eine Farblackschicht 17d und eine Metallschicht 18c.
Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 16a und 18c ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Der in Fig. 5 gezeigte Mehrschichtkörper 1 wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass bevorzugt nach dem Schritt e) die Farblackschicht 17d insbesondere vollflächig aufgebracht wird.
Bevorzugt ist die Fotolackschicht 16a eingefärbt, insbesondere mit Farbstoffen und/oder Pigmenten eingefärbt. Vorzugsweise erzeugen die Farbstoffe eine Farbe aus dem RGB-Farbraum (R = Rot; G = Grün; B = Blau) oder dem CMYK- Farbraum (C = Cyan; M = Magenta; Y = Gelb; K = Schwarz). Es ist jedoch auch möglich, dass die Farbstoffe eine Farbe aus einem speziellen Farbraum, wie beispielsweise dem RAL, FIKS oder Pantone® Farbraum erzeugen. Weiter bevorzugt erzeugen die Farbstoffe eine Farbe aus dem CIELAB-Farbraum. So ist es beispielsweise möglich, dass die Fotolackschicht 16a mit Orasol- Farbstoffen und/oder Microlith-Farbpigmenten und/oder Luconyl eingefärbt ist.
Weiter ist es möglich, dass die Fotolackschicht 16a transparent ist, insbesondere dass die Fotolackschicht 16a eine Transmission von sichtbarem Licht, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 380 nm und 780 nm, von mehr als 50 %, bevorzugt mehr als 70 %, weiter bevorzugt von mehr als 85 %, noch weiter bevorzugt von mehr als 90 %, aufweist.
Bei der in Fig. 5 gezeigten Fotolackschicht handelt es sich beispielsweise um eine einfärbte Fotolackschicht, welche eine Transmission von mehr als 50 % aufweist. Bezüglich weiterer möglicher Ausgestaltungen der Fotolackschicht 16a ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Vorzugsweise erzeugt die Farblackschicht 17d eine Farbe aus dem RGB- Farbraum (R = Rot; G = Grün; B = Blau) oder dem CMYK-Farbraum (C = Cyan; M = Magenta; Y = Gelb; K = Schwarz). Es ist jedoch auch möglich, dass die Farblackschicht 17d eine Farbe aus einem speziellen Farbraum, wie beispielsweise dem RAL, HKS oder Pantone® Farbraum erzeugt. Weiter bevorzugt erzeugt die Farblackschicht 17d eine Farbe aus dem CIELAB- Farbraum.
Es ist von Vorteil, wenn die Schichtdicke der Farbschicht zwischen 0,1 pm und 10 pm, bevorzugt zwischen 0,1 pm und 5 pm, beträgt. So weist die in Fig. 5 gezeigte Farblackschicht 17d beispielsweise eine Schichtdicke von 2,5 pm auf. Bezüglich möglicher Ausgestaltungen der Farblackschicht 17d ist hier auf obige Ausführungen verwiesen. Vorteilhafterweise wird die Farblackschicht 17d durch Drucken, insbesondere mittels Offsetdruck und/oder Tiefdruck und/oder Flexodruck und/oder Inkjetdruck, aufgebracht.
Insbesondere um einen ausreichenden Kontrast zu erzielen werden die Farben der entsprechenden Schichten, hier der Fotolackschicht 16a und der Farblackschicht 17d, bevorzugt wie folgt gewählt:
Vorzugsweise weist die Fotolackschicht 16a, welche der Replizierlackschicht 11a zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und die Farblackschicht 17d, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, auf.
Weiter ist es bevorzugt, wenn die Fotolackschicht 16a und die Farblackschicht 17d im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen.
Flierdurch wird insbesondere ein besonders guter Kontrast erzielt, welcher vorzugsweise im CIELAB-Farbraum durch den Gesamtfarbstand dE bestimmt wird. Gemäß dem CIELAB System wird, wie in Fig. 6 schematisch dargestellt, insbesondere der Farbraum durch eine Kugel K dargestellt, wobei diese durch die drei Achsen Helligkeit L, Rot-Grün-Achse a und Gelb-Blau-Achse b definiert wird. Insbesondere entspricht hierbei L = 100 Weiss, L = 0 Schwarz und L = 50 dem achromatischen Punkt. Weiter bestimmt sich der Gesamtfarbabstand dE wie folgt: dE = ((dL)2 + (da)2 + (db)2)1/2, wobei insbesondere dL der Helligkeitsunterschied, da der Farbunterschied auf der Rot-Grün-Achse und db der Farbunterschied auf der Gelb-Blau-Achse von zwei Farben ist.
Liegen die Wertebereiche beispielsweise für die Rot-Grün-Achse a und Gelb- Blau-Achse b zwischen -100 und 150 sowie für die Helligkeitsachse L zwischen 0 und 100, so dass a, b e (-100; 150) und L e (0; 100), dann ergibt sich beispielsweise für ein sehr helles Gelb (100L, Oa, 150b) und ein sehr dunkles Blau (OL, Oa, -100b) als Gesamtfarbabstand der beiden Farben zueinander: dE = ((100-0)2 + (0-0)2 + (150-(-100))2)1/2 = ((100)2 + (0)2 + (250)2)1/2 = 269,26. Weiter ergibt sich beispielsweise bei einer dunklen Fotolackschicht 16a (30L,
Oa, -70b) und einer hellen Farblackschicht 17d (80L, Oa, 70b) als Gesamtfarbabstand dE = ((80-30)2 + (0-0)2 + (70+70)2)1/2 = 148. Als noch weiteres Beispiel ergibt sich bei einer dunklen Fotolackschicht 16a (40L, Oa, - 50b) und einer hellen Farblackschicht 17d (50L, Oa, 50b) als Gesamtfarbabstand dE = ((50-40)2 + (0-0)2 + (100)2)1/2 = 100,5.
Fig. 7 bis Fig. 10 zeigen schematisch Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern 1.
In Fig. 7 ist ein Mehrschichtkörper 1 mit einer Trägerschicht 10 und einer auf die Trägerschicht 10 aufgebrachten Replizierlackschicht 11a, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 abgeformt ist, gezeigt, Weiter umfasst der in Fig. 7 gezeigte Mehrschichtkörper noch die Fotolackschichten 16a und 16b sowie die Metallschicht 18c. Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13 und 18c ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Die Fotolackschicht 16a umfasst hier UV-blockierende Zusätze, welche insbesondere Licht aus dem ultravioletten Wellenlängenbereich, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, absorbieren. Weiter bevorzugt weisen derartige UV-blockierende Zusätze keine oder nur eine sehr geringe Absorption in dem für das menschliche Auge sichtbaren Wellenlängenbereich von 380 nm bis 780 nm auf.
Vorteilhafterweise handelt es sich bei den UV-blockierenden Zusätzen beispielsweise um Benzotriazol-Derivate, welche insbesondere mit einem Massenanteil in einem Bereich von ca. 3 % bis 5 % in den entsprechenden Schichten verwendet werden. Geeignete organische UV-Absorber werden beispielsweise unter dem Handelsnamen Tinuvin® von der Firma BASF, Ludwigshafen, Deutschland, vertrieben.
Der in Fig. 7 gezeigte Mehrschichtkörper 1 umfasst neben der Fotolackschicht 16a noch die Fotolackschicht 16b, wobei die Fotolackschicht 16b ein zu der Fotolackschicht 16a komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der Fotolackschicht 16b bei einer anderen Belichtungswellenlänge als bei der Fotolackschicht 16a veränderbar ist, und wobei die Fotolackschicht 16b weiter registergenau neben der Fotolackschicht 16a angeordnet ist.
Ein derartiger Mehrschichtkörper 1 wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, welche insbesondere nach dem Schritt e) durchgeführt werden:
-Aufbringen der Fotolackschicht 16b auf die Fotolackschicht 16a, insbesondere wobei die Fotolackschicht 16b ein zu der Fotolackschicht 16a komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der Fotolackschicht 16b bei einer anderen Belichtungswellenlänge als bei der Fotolackschicht 16a verändert wird;
- Belichten der Fotolackschicht 16b von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 aufweisenden Seite der Trägerschicht 10 her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle;
- Strukturierung der Fotolackschicht 16b, insbesondere so, dass die Fotolackschicht 16b registergenau neben der Fotolackschicht 16a angeordnet ist.
Unter einem komplementären Belichtungsprinzip wird hier insbesondere die Verwendung eines zu dem Belichtungsprinzip der Fotolackschicht 16a entgegenwirkendem Belichtungsprinzip verstanden. So ist es wird unter komplementärem Belichtungsprinzip bevorzugt verstanden, dass zur Ausbildung der Fotolackschicht 16a ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, und zur Ausbildung der Fotolackschicht 16b ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird oder umgekehrt.
In anderen Worten wird zunächst die zuerst aufgebrachte Fotolackschicht 16a, wie anhand der Fig. 1b beschrieben, mittels der hochaufgelösten separaten Maske entwickelt und strukturiert. Anschließend wird die Fotolackschicht 16b aufgebracht, welche wie oben dargelegt ein zu der Fotolackschicht 16a komplementäres Belichtungsprinzip aufweist. Danach wird die Fotolackschicht 16b von der Seite der Mikrolinsen 12 her durch die Mikrolinsen 12 hindurch belichtet, wobei die Fotolackschicht 16a aufgrund der UV-blockierenden Zusätze als Maske für die Strukturierung der Fotolackschicht 16b dient. Zuletzt wird die Fotolackschicht 16b entwickelt und strukturiert.
Vorzugsweise sind die Fotolackschichten 16a und 16b unterschiedlich eingefärbt, so dass ein Mehrschichtkörper 1 erzeugt wird, bei welchem die Fotolackschicht 16b in exaktem Register neben der Fotolackschicht 16b angeordnet ist, so dass beispielsweise farbige Mikrobilder mit sehr hoher Auflösung erzeugt werden, welche von einem andersfarbigen Flintergrund umgeben sind. Bezüglich weiterer Einfärbungsmöglichkeiten der Fotolackschichten 16a und 16b ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Fig. 8 zeigt einen Mehrschichtkörper 1 mit einer Trägerschicht 10 und einer auf die Trägerschicht 10 aufgebrachten Replizierlackschicht 11a, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 abgeformt ist. Weiter umfasst der in Fig. 8 gezeigte Mehrschichtkörper noch die Fotolackschicht 16a und die Metallschicht 18b.
Wie in Fig. 8 gezeigt, ist die Metallschicht 18b auf die von der Vielzahl von rasterförmigen Mikrolinsen 12 abgewandten Seite der Fotolackschicht 16a auf die Fotolackschicht 16a aufgebracht und ist weiter auch passergenau mit der Fotolackschicht 16a angeordnet.
Wie bereits in Zusammenhang mit der Fig. 7 erläutert umfasst auch hier die Fotolackschicht 16a hier UV-blockierende Zusätze, welche insbesondere Licht aus dem ultravioletten Wellenlängenbereich, vorzugsweise aus dem Wellenlängenbereich zwischen 200 nm und 380 nm, absorbieren.
Diesbezüglich ist hier auch auf obige Ausführungen verwiesen.
Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 16a und 18b ist hier auch auf obige Ausführungen verwiesen.
Ein derartiger Mehrschichtkörper 1 wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, insbesondere welche nach dem Schritt e) durchgeführt werden:
- Aufbringen der Metallschicht 18b auf die Fotolackschicht 16a; - Aufbringen einerweiteren Fotolackschicht auf die Metallschicht 18b;
- Belichten der weiteren Fotolackschicht von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 aufweisenden Seite der Trägerschicht 10 her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle;
- Strukturierung der weiteren Fotolackschicht und der Metallschicht 18b, insbesondere so dass die Metallschicht 18b passergenau mit der Fotolackschicht 16a und der weiteren Fotolackschicht angeordnet ist. Bevorzugt wird anschließend die weitere Fotolackschicht wieder entfernt.
Vorzugsweise handelt es sich bei der Belichtungsquelle beispielsweise um eine UV-Lampe oder UV-LED.
Vorteilhafterweise beträgt die Schichtdicke der Fotolackschicht 16a und der weiteren Fotolackschicht weniger als 15 pm, bevorzugt weniger als 5 pm.
In anderen Worten wird auch hierzunächst die Fotolackschicht 16a, wie anhand der Fig. 1b beschrieben, mittels der hochaufgelösten separaten Maske entwickelt und strukturiert. Anschließend wird die Metallschicht 18b aufgebracht, beispielsweise aufgedampft. In einem weiteren Schritt wird Metallschicht 18b insbesondere vollflächig mit der weiteren Fotolackschicht beschichtet. Danach wird die weitere Fotolackschicht von der Seite der Mikrolinsen 12 her durch die Mikrolinsen 12 hindurch belichtet, wobei die Fotolackschicht 16a aufgrund der UV-blockierende Zusätze als Maske für die Strukturierung der weiteren Fotolackschicht dient. Zuletzt wird die weitere Fotolackschicht entwickelt und zusammen mit der darunterliegenden Metallschicht 18b strukturiert.
Vorzugsweise ist die Metallschicht 18b hierbei transparent oder zumindest teiltransparent ausgebildet, so dass insbesondere das von der Belichtungsquelle emittierte Licht durch die Metallschicht 18b zur der weiteren Fotolackschicht gelangt. Hierzu weist die Metallschicht 18b bevorzugt eine Schichtdicke von weniger als 15 nm auf.
Fig. 9 zeigt einen Mehrschichtkörper 1 mit einer Trägerschicht 10 und einer auf die Trägerschicht 10 aufgebrachten Replizierlackschicht 11a, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 abgeformt ist. Weiter umfasst der in Fig. 9 gezeigte Mehrschichtkörper noch die Farblackschichten 17c und 17d, die Fotolackschicht 16a und die Metallschicht 18a.
Wie in Fig. 9 gezeigt, ist die Metallschicht 18a, welche auf die der Vielzahl von rasterförmigen Mikrolinsen 12 zugewandten Seite auf der Fotolackschicht 16a angeordnet ist, weiter auch passergenau mit der Fotolackschicht 16a angeordnet. Die Farblackschichten 17c und 17d sind, wie in Fig. 9 gezeigt, hingegen vollflächig aufgebracht, wobei die Farblackschicht 17c bei Betrachtung von der Seite der Vielzahlzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 hervor der strukturieren Metallschicht 18a und der Fotolackschicht 16a angeordnet ist und die Farblackschicht 17d hinter der strukturieren Metallschicht 18a und der Fotolackschicht 16a angeordnet ist. Die Metallschicht 18a und die Fotolackschicht 16a bilden hier demnach die strukturierte Schicht 14 aus.
Auch hier es sinnvoll, die Farbwerte der Farblackschichten 17c und 17d sowie den Farbwert der Fotolackschicht 16a und der Metallschicht 18a gemäß den oben erläuterten Angaben zu wählen, so dass diesbezüglich auf obige Ausführungen verwiesen ist.
So ist es vorteilhaft, wenn die Farblackschicht 17c und/oder die Farblackschicht 17d vorzugsweise im CIELAB-Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der strukturierten Schicht 14 aufweist, insbesondere wobei die strukturierte Schicht 14, wie in Fig. 9 gezeigt, die Fotolackschicht 16a und die Metallschicht 18a umfasst.
Ferner ist es alternativ oder ergänzend von Vorteil, wenn von den Farblackschichten 17c und/oder 17d und der strukturierten Schicht 14, insbesondere welche die Fotolackschicht 16a und die Metallschicht 18a umfasst, diejenige Schicht, welche den Mikrolinsen 12 zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist. Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 16a, 17a, 17d und 18a ist hier auch auf obige Ausführungen verwiesen. Ein derartiger Mehrschichtkörper 1 wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass vor dem Schritt d) zunächst die Farblackschicht 17c vollflächig aufgebracht wird. Auch umfasst die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte Schicht 14 hier weiter die Metallschicht 18a, welche vor dem Aufbringen der Fotolackschicht 16a auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 zunächst vollflächig aufgebracht wird. Auch hierbei ist es von Vorteil, wenn anschließend in dem Schritt e) die Metallschicht 18a passergenau mit der zumindest eine ersten Fotolackschicht strukturiert wird. Auch ist es möglich, dass insbesondere nach dem Schritt e) die Fotolackschicht 16a wieder entfernt wird. Anschließend wird die Fotolackschicht 17d, wie in Fig. 9 gezeigt, vollflächig aufgebracht.
In anderen Worten wird hier, wie insbesondere grundsätzlich anhand der Fig.
1b beschrieben, neben der Fotolackschicht 16a die zuvor beispielsweise zunächst vollflächig aufgedampfte Metallschicht 18a zusammen mit der
Fotolackschicht 16a unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske strukturiert. Weiter wurden die Farblackschichten 17c und 17d vor bzw. nachher zusätzlich aufgebracht, um Mischfarben bzw. einen farbigen Flintergrund zu erzeugen.
Auch hier ist es vorteilhaft, wenn die, insbesondere vor dem Schritt d) aufgebrachte, Farblackschicht 17c und/oder die, insbesondere nach dem Schritt e) aufgebrachte, Farblackschicht 17d vorzugsweise im CIELAB-Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der strukturierten Schicht 14, insbesondere welche, wie in Fig. 9 gezeigt, die Metallschicht 18a und die Fotolackschicht 16a umfasst, aufweist.
Alternativ oder ergänzend ist es von Vorteil, wenn von der, insbesondere vor dem Schritt d) aufgebrachten, Farblackschicht 17c und/oder von der, insbesondere nach dem Schritt e) aufgebrachten, Farblackschicht 17d und der strukturierten Schicht 14, insbesondere welche, wie in Fig. 9 gezeigt, die Metallschicht 18a und die Fotolackschicht 16a umfasst, diejenige Schicht, welche den Mikrolinsen 12 zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
Der in Fig. 10 gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht dem in Fig. 9 gezeigten Mehrschichtkörper mit dem Unterschied, dass die vollflächige Farblackschicht 17c nicht vorhanden ist. Der in Fig. 10 gezeigte Mehrschichtkörper 1 wird analog zu dem in Fig. 9 gezeigten Mehrschichtkörper hergestellt. Es ist beispielsweise auch möglich, die Metallschicht 18a durch eine Farblackschicht 17b zu ersetzen und/oder zu ergänzen. Auch ein derartiger Mehrschichtkörper wird analog zu dem in Fig. 9 gezeigten Mehrschichtkörper hergestellt, so dass diesbezüglich auf obige Ausführungen verwiesen ist.
Fig. 11a bis Fig. 11c zeigen schematisch Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern 1. Fig. 11a zeigt einen Mehrschichtkörper 1 mit einer Trägerschicht 10 und einer auf die Trägerschicht 10 aufgebrachten Replizierlackschicht 11a, in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 abgeformt ist. Weiter umfasst der in Fig. 11a gezeigte Mehrschichtkörper noch das Dünnfilmschichtsystem 20, welches die teiltransparente Metallschicht 20a, die dielektrische Abstandsschicht 20b und die opake Metallschicht 20c umfasst, und von der strukturierten Schicht 14 ausgebildet wird. Das Dünnfilmschichtsystem 20 bildet weiter die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 aus.
Die teiltransparente Metallschicht 20a weist hierbei vorzugsweise eine optische Dichte OD von etwa 0,6 und die opake Metallschicht eine optische Dichte OD von etwa 1,9 auf. Beispielsweise sind die Metallschichten 20a und 20c hier aus Aluminium ausgebildet.
Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12 und 13 ist hier auch auf obige Ausführungen verwiesen.
Ein derartiger Mehrschichtkörper 1 wird bevorzugt mit dem anhand der Fig. 1b erläuterten Verfahren hergestellt mit dem Unterschied, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte Schicht 14 hier weiter das Dünnfilmschichtsystem 20, welches die teiltransparente Metallschicht 20a, die dielektrische Abstandsschicht 20b und die opake Metallschicht 20c umfasst, aufweist. Das Dünnfilmschichtsystem 20 wird vor dem Aufbringen der Fotolackschicht 16a auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht 10 zunächst vollflächig, insbesondere mittels Sputtern, physikalischer Gasphasenabscheidung (engl physical vapour deposition, PVD), chemischer Gasphasenabscheidung (engl. Chemical vapour deposition, CVD) oder Tiefdruck aufgebracht. Anschließend wird in dem Schritt e) das Dünnfilmschichtsystem 20 passergenau mit der Fotolackschicht 16a strukturiert und die Fotolackschicht 16a insbesondere nach dem Schritt e) wieder entfernt.
In anderen Worten wird hier, wie insbesondere grundsätzlich anhand der Fig.
1b beschrieben, neben der Fotolackschicht 16a das zuvor zunächst vollflächig gebrachte Dünnfilmschichtsystem zusammen mit der Fotolackschicht 16a unter Verwendung der hochaufgelösten separaten Maske strukturiert.
Der in Fig. 11b gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht dem in Fig. 11a gezeigten Mehrschichtkörper mit dem Unterschied, dass die Schichten 20b und 20c des Dünnfilmschichtsystems 20 im Gegensatz zu dem in Fig. 11a gezeigten Mehrschichtkörper vollflächig ausgebildet sind. Die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 bzw. deren Form und/oder Kontur wird hier insbesondere durch die strukturierte teiltransparente Metallschicht 20a ausgebildet.
Der in Fig. 11 b gezeigte Mehrschichtkörper wird wie der in Fig. 11 a gezeigte Mehrschichtkörper hergestellt mit dem Unterschied, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte Schicht 14 hier nur die teiltransparente Metallschicht 20a aufweist. Die weiteren Schichten 20b und 20c des Dünnfilmschichtsystems 20 werden anschließend vollflächig aufgebracht. Hierbei ist weiter möglich, dass die dielektrische Abstandsschicht 20b weiter als Replikationsschicht fungiert, in welche bevorzugt Mikrostrukturen mit einer Relieftiefe von weniger als 200 nm abgeformt sind. Der in 11c gezeigte Mehrschichtkörper entspricht dem in Fig. 11a gezeigten Mehrschichtkörper mit dem Unterschied, dass die Schichten 20a und 20b des Dünnfilmschichtsystems 20 im Gegensatz zu dem in Fig. 11a gezeigten Mehrschichtkörper vollflächig ausgebildet sind. Weiter umfasst der in Fig. 11c gezeigte Mehrschichtkörper 1 noch die vollflächig aufgebrachte Farblackschicht 17d. Die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 bzw. deren Form und/oder Kontur wird hier insbesondere durch die strukturierte opake Metallschicht 20c ausgebildet. Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 17d, 20a, 20b und 20c ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Der in Fig. 11 c gezeigte Mehrschichtkörper wird wie der in Fig. 11 a gezeigte Mehrschichtkörper hergestellt mit dem Unterschied, dass zunächst die Schichten 20a und 20b vollflächig aufgebracht werden. Weiter besteht der Unterschied, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte Schicht 14 hier nur die opake Metallschicht 20c aufweist. Weiter wird anschließend die Farblackschicht 17d vollflächig aufgebracht.
Fig. 12a und Fig. 12b zeigen schematisch Schnittdarstellungen von Mehrschichtkörpern 1.
Der in Fig. 12a gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht beispielsweise dem in Fig. 3a gezeigten Mehrschichtkörper 1 mit dem Unterschied, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 nur bereichsweise aufgebacht ist. Wie in Fig. 12a gezeigt ist die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen 12 hier leidglich in dem Bereich 25b vorhanden. Gleiches gilt die für die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15, so dass der durch das Zusammenwirken der Mikrolinsen 12 und der Mikrobilder 15 erzeugte optisch variable Effekt nur im Bereich 25b erzeugt wird. Weiter umfasst der in Fig. 12a gezeigte Mehrschichtkörper 1 noch die Replizierlackschicht 11c, welche vollflächig aufgebracht ist und auf der Trägerschicht 10 abgewandten Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 angeordnet ist. Weiter ist in die Replizierlackschicht 11c bereichsweise eine Reliefstruktur 22 eingeprägt. Auf die Replizierlackschicht 11 c ist weiter zumindest in dem Bereich 25a noch die Metallschicht 18c aufgebracht.
Bevorzugt handelt es sich bei der Reliefstruktur 22 hierbei um ein diffraktives Gitter, ein Kinegram® oder Hologramm, ein Blazegitter, ein Binärgitter, ein mehrstufiges Phasengitter, ein Lineargitter, ein Kreuzgitter, ein Hexagonalgitter, eine asymmetrische oder symmetrische Gitterstruktur, eine retroreflektierende Struktur, insbesondere eine binäre oder kontinuierliche Freiformfläche, eine diffraktive oder refraktive Makrostruktur, insbesondere eine Linsenstruktur oder Mikroprismenstruktur, eine Mikrolinse, ein Mikroprisma, eine Beugungsstruktur Nullter Ordnung, eine Mottenaugenstruktur oder anisotrope oder isotrope Mattstruktur, oder eine Überlagerung oder Kombinationen von zwei oder mehr der vorgenannten Reliefstrukturen. So handelt es sich beispielsweise bei der in Fig. 12a gezeigten Reliefstruktur um ein Kinegram®.
Bezüglich der Ausgestaltung der Schichten 10, 11a, 12, 13, 15, 11c, 18c und 24 ist hier auf obige Ausführungen verwiesen.
Der in Fig. 12b gezeigte Mehrschichtkörper 1 entspricht dem in Fig. 12a gezeigten Mehrschichtkörper 1 mit dem Unterschied, dass die Vielzahl von rasterförmig anordneten Mikrolinsen 12 und die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder 15 vollflächig aufgebracht sind. Weiter umfasst der in Fig. 12b gezeigte Mehrschichtkörper im Gegensatz zu dem in Fig. 12a gezeigten Mehrschichtkörper keine Grundierungsschicht 24. Wie in Fig. 12b gezeigt, überlappen sich die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern 15 und Mikrolinsen 12 mit der in die Replizierlackschicht 11c eingeprägten Reliefstruktur 22 vollständig.
Bezugszeichenliste
1 Mehrschichtkörper
10 Trägerschicht
11a, 11c Replizierlackschichten 12 Mikrolinsen
13 Haftvermittlerschicht
14 strukturierte Schicht, zu strukturierende Schicht
15 Mikrobilder
16a, 16b, 16d Fotolackschichten 17a, 17b, 17c, 17d Farblackschichten 18a, 18b, 18c, 20c Metallschichten 20 Dünnfilmschichtsystem 20a teiltransparente Metallschicht 20b dielektrische Abstandsschicht 21 Kantenemitterschicht 22 Reliefstruktur
23 hochaufgelöste separate Maske 23a Glassubstrat 23b Chromschicht 23c Pellicle
24 Grundierungsschicht
25a, 25b Bereiche

Claims

Leonhard Kurz Stiftung & Co. KG, Schwabacher Strasse 482, 90763 Fürth, Deutschland; OVD Kinegram AG, Zählerweg 11 , 6300 Zug, Schweiz; Ansprüche
1. Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers (1), insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht (10); b) Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht (11 a) auf die Trägerschicht (10); c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) in die erste Replizierlackschicht (11a); d) Aufbringen zumindest einer zu strukturierenden Schicht (14) auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegende Seite der Trägerschicht (10); e) Strukturierung der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) unter Verwendung einer hochaufgelösten separaten Maske (23) derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch bereichsweises Entfernen der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) ausgebildet werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) eine erste Fotolackschicht (16a) umfasst oder ist, welche insbesondere in dem hergestellten
Mehrschichtkörper (1 ) verbleibt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dass zur Ausbildung der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch
Belichten zunimmt, oder ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) zumindest eine erste Farblackschicht (17a) umfasst, welche insbesondere vollflächig auf die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) aufgebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) die zumindest eine erste Farblackschicht (17a) passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) strukturiert wird.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) zumindest eine zweite Farblackschicht (17b) und/oder zumindest eine erste Metallschicht (18a) und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest ein Dünnfilmschichtsystem (20), insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht (20a), eine dielektrische Abstandsschicht (20b) und eine opake Metallschicht (20c) umfasst, umfasst oder ist, welche vor dem Aufbringen der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegende Seite der Trägerschicht (10) insbesondere vollflächig aufgebracht wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) die zumindest eine zweite Farblackschicht (17b) und/oder die zumindest eine erste Metallschicht (18a) und/oder die zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder das zumindest eine Dünnfilmschichtsystem (20), insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht (20a), eine dielektrische Abstandsschicht (20b) und eine opake Metallschicht (20c) umfasst, passergenau mit der zumindest eine ersten Fotolackschicht (16a) strukturiert wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass insbesondere nach dem Schritt e) die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) entfernt wird.
9. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) weiter UV-blockierende Zusätze enthält.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, insbesondere welche nach dem Schritt e) durchgeführt werden:
- Aufbringen zumindest einer zweiten Fotolackschicht (16b) auf die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), insbesondere wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) ein zu der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der zumindest einen zweiten Fotolackschicht (16b) bei einer anderen Belichtungswellenlänge als bei der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) verändert wird;
- Belichten der zumindest einen zweiten Fotolackschicht (16b) von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) aufweisenden Seite der Trägerschicht (10) her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle;
- Strukturierung der zumindest einen zweiten Fotolackschicht (16b), insbesondere so dass die zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) registergenau neben der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) angeordnet ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass zur Ausbildung der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) ein positiver Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, und zur Ausbildung der zumindest einen zweiten
Fotolackschicht (16b) ein negativer Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, verwendet wird oder umgekehrt.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 11 , dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren weiter folgende Schritte umfasst, insbesondere welche nach dem Schritt e) durchgeführt werden:
- Aufbringen zumindest einer zweiten Metallschicht (18b) auf die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a);
- Aufbringen zumindest einer dritten Fotolackschicht auf die zumindest eine zweite Metallschicht (18b);
- Belichten der zumindest einen dritten Fotolackschicht von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) aufweisenden Seite der Trägerschicht (10) her, insbesondere mittels einer Belichtungsquelle;
- Strukturierung der zumindest einen dritten Fotolackschicht und der zumindest einen zweiten Metallschicht (18b), insbesondere so dass die zumindest eine zweite Metallschicht (18b) passergenau mit der zumindest einen ersten (16a) und/oder dritten Fotolackschicht angeordnet ist.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 2 bis 12, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) insbesondere in dem Schritt e) entwickelt wird.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt d) zumindest eine dritte Farblackschicht (17c) und/oder zumindest eine teiltransparente Metallschicht (20a) und/oder zumindest eine dielektrische Abstandsschicht (20b) auf die Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht wird, bevorzugt wobei die zumindest eine dritte Farblackschicht (17c) und/oder die zumindest eine teiltransparente Metallschicht (20a) und/oder die zumindest eine dielektrische Abstandsschicht (20c) in dem Schritt e) nicht strukturiert wird.
15. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Schritt e) zumindest eine vierte Farblackschicht (17d) und/oder zumindest eine dritte Metallschicht (18c) und/oder zumindest eine weitere Replizierlackschicht (11c) auf die zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) insbesondere vollflächig aufgebracht wird, bevorzugt wobei in die weitere Replizierlackschicht (11c) zumindest bereichsweise eine Reliefstruktur (22) eingeprägt wird.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) in einer zumindest bereichsweisen Überlappung mit der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) zur Generierung eines ersten optisch variablen Effekts, insbesondere bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, angeordnet sind.
17. Verfahren nach den Ansprüchen 15 und 16, dadurch gekennzeichnet, dass sich die in zumindest bereichsweise Überlappung angeordnete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) und Mikrolinsen (12) mit der in die weitere Replizierlackschicht (11c) eingeprägten Reliefstruktur (22) zumindest bereichsweise überlappen, vollständig überlappen oder nicht überlappen.
18. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine dritte Farblackschicht (17c), zumindest eine vierte Farblackschicht (17d), zumindest eine erste Metallschicht (18a), eingefärbte Trägerschicht (10) im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen.
19. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass von den Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine dritte Farblackschicht (17c), zumindest eine vierte Farblackschicht (17d), zumindest eine erste Metallschicht (18a), eingefärbte Trägerschicht (10) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11a) zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
20. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die in dem Schritt d) aufgebrachte und in dem Schritt e) strukturierte zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine erste Metallschicht (18a) umfasst, insbesondere wobei die zumindest zwei Schichten (16a, 17a, 17b, 18a) im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen, und/oder insbesondere wobei von den zumindest zwei Schichten (16a, 17a, 17b, 18a) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11a) zugewandt ist eine dunklere Farbe, bevorzugt mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, weiter bevorzugt mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 und/oder 15, dadurch gekennzeichnet, dass die, insbesondere vor dem Schritt d) aufgebrachte, zumindest eine dritte Farblackschicht (17c) und/oder die, insbesondere nach dem Schritt e) aufgebrachte, zumindest eine vierte Farblackschicht (17d) im CIELAB- Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) aufweist, und/oder dass von der, insbesondere vor dem Schritt d) aufgebrachten, zumindest einen dritten Farblackschicht (17c) und/oder von der, insbesondere nach dem Schritt e) aufgebrachten, zumindest einen vierten Farblackschicht (17d) und der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11a) zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
22. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren weiter zumindest einen der folgenden Schritte umfasst, insbesondere welcher vor dem Schritt e) durchgeführt wird:
- Erzeugung der hochaufgelösten separaten Maske (23) mittels Elektronenstrahllithographie und/oder mittels Laserstrahllithographie, insbesondere in einem chrombeschichteten Glassubstrat (23a);
- Kontaktschlüssiges Zusammenführen der hochaufgelösten separaten Maske (23) mit der auf die Trägerschicht (10) aufgebrachten zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14).
23. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Schritt e) weiter zumindest einen der folgenden Schritte umfasst: - Belichten durch die hochauflösende separate Maske (23) insbesondere in einem step-and-repeat Verfahren der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) von der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) her, bevorzugt mittels einer Belichtungsquelle;
- Ausrichten der hochauflösenden separaten Maske (23) insbesondere mittels Registermarken, welche vorzugsweise eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfassbar machen, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner
0,05°, ist.
24. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) eine hochaufgelöste separate Maske (23) mit
Strukturen kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, weiter bevorzugt kleiner als 2,5 pm, verwendet wird.
25. Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers (1), insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von
Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht (10); b) Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht (11 a) auf die Trägerschicht (10); c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) in die erste Replizierlackschicht (11a); f) Drucken einer Kontrollstruktur auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) mittels einem ersten hochauflösendem Digitaldrucker; g) Erfassen der Kontrollstruktur mittels einer Erfassungseinrichtung von Seiten der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her derart, dass die Kontrollstruktur durch die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) hindurch mittels der Erfassungseinrichtung erfasst wird; h) Bereichsweises Aufbringen einer Druckschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegende Seite der Trägerschicht (10) mittels einem zweiten hochauflösendem Digitaldrucker unter Verwendung der erfassten Kontrollstruktur derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die Druckschicht ausgebildet werden.
26. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt g) anhand der Kontrollstruktur weiter eine Verwinkelung und/oder einen Verzug erfasst wird.
27. Verfahren nach Anspruch 26, dadurch gekennzeichnet, dass anhand der erfassten Verwinkelung und/oder des erfassten Verzugs die in dem Schritt h) von der Druckschicht ausgebildete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) aufgebracht wird, wobei weiter vorzugsweise die Verwinkelung kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist.
28. Verfahren nach einem der Ansprüche 25 bis 27, dadurch gekennzeichnet, dass nach dem Schritt h) zumindest eine vierte Metallschicht und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest eine fünfte Farblackschicht auf die Druckschicht aufgebracht wird.
29. Verfahren zum Herstellen eines Mehrschichtkörpers (1), insbesondere eines mehrschichtigen Sicherheitselements zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, wobei das Verfahren folgende Schritte, welche insbesondere in der folgenden Reihenfolge ausgeführt werden, umfasst: a) Bereitstellen einer Trägerschicht (10); b) Aufbringen einer ersten Replizierlackschicht (11 a) auf die Trägerschicht (10); c) Abformen einer Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) in die erste Replizierlackschicht (11a); i) Aufbringen einer zweiten Replizierlackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegende Seite der Trägerschicht (10); j) Bereichsweises Abformen einer plasmonischen Subwellenlängenstruktur in die zweite Replizierlackschicht derart, dass eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur ausgebildet wird; k) Aufbringen einer Metallschicht auf die zweite Replizierlackschicht.
30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt k) die Metallschicht derart aufgebracht wird, dass durch ein Zusammenwirken der in die zweite Replizierlackschicht abgeformten plasmonischen Subwellenlängenstruktur und der Metallschicht plasmonische Farben erzeugt werden.
31. Verfahren nach einem der Ansprüche 29 oder 30, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt i) zumindest eine Farbfilterschicht auf die Trägerschicht insbesondere vollflächig aufgebracht, bevorzugt auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) aufgebracht, wird.
32. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt a) eine eingefärbte Trägerschicht (10) bereitgestellt wird und/oder eine mit einer Flaftvermittlerschicht (13) insbesondere ein- oder beidseitig vorbeschichtete Trägerschicht (10) bereitgestellt wird.
33. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass vor dem Schritt b) und/oder dass vor dem Schritt i) eine Haftvermittlerschicht (13) auf die Trägerschicht (10) aufgebracht wird, insbesondere wobei anschließend in dem Schritt b) und/oder in dem Schritt i) die erste und/oder zweite Replizierlackschicht (11a) auf die auf die Trägerschicht (10) aufgebrachte Haftvermittlerschicht (13) aufgebracht wird.
34. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren weiter folgenden Schritt umfasst:
- Aufbringen zumindest einer Kantenemitterschicht (21 ) auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) und/oder auf die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12), insbesondere auf die einem Betrachter zugewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12).
35. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) und/oder dem Schritt h) und/oder dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) aufgebracht, abgeformt, strukturiert und/oder ausgebildet werden.
36. Verfahren nach einem der vorangehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die Bereiche ausgebildet werden, in denen die zumindest eine zu strukturierende Schicht (14) entfernt wird oder nicht entfernt wird, und/oder dass in dem Schritt h) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die Bereiche der Druckschicht ausgebildet werden, in denen die Druckschicht aufgebracht wird oder nicht aufgebracht wird, und/oder dass in dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die Bereiche ausgebildet werden, in denen die plasmonische Subwellenlängenstruktur abgeformt wird oder nicht abgeformt wird.
37. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in dem Schritt e) und/oder dem Schritt h) und/oder dem Schritt j) die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) jeweils aus einem oder mehreren Pixeln bestehen, wobei insbesondere die kürzeste Kantenlänge oder der kleinste Durchmesser eines Pixels kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, besonders bevorzugt kleiner als 2,5 pm, ist.
38. Mehrschichtkörper (1), insbesondere mehrschichtiges Sicherheitselement zur Sicherung von Sicherheitsdokumenten, mit einer Trägerschicht (10) und einer auf die Trägerschicht (10) aufgebrachten ersten Replizierlackschicht (11a), in welche eine Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) abgeformt sind, und mit einer auf der der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) angeordneten Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15), insbesondere wobei die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) registriert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) angeordnet ist.
39. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder (15) von zumindest einer strukturierten Schicht (14) ausgebildet ist, welche bereichsweise derart entfernt ist, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) ausgebildet ist.
40. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine strukturierte Schicht (14) zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) umfasst oder ist.
41. Mehrschichtkörper nach Anspruch 40, dadurch gekennzeichnet, dass zumindest eine strukturierte Schicht (14) weiter zumindest eine erste Farblackschicht (17a) umfasst, welche insbesondere auf die von der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) abgewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) auf die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) aufgebracht ist und passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) strukturiert ist.
42. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 39 bis 41 , dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine strukturierte Schicht (14) weiter zumindest eine zweite Farblackschicht (17b) und/oder zumindest eine erste Metallschicht (18a) und/oder zumindest eine Schicht aus einem transparenten Dielektrikum und/oder zumindest ein Dünnfilmschichtsystem (20), insbesondere welches eine teiltransparente Metallschicht (20a), eine dielektrische Abstandsschicht (20b) und eine opake Metallschicht (20c) umfasst, umfasst oder ist, welche insbesondere auf der die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) zugewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) angeordnet ist und passergenau mit der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) angeordnet ist und/oder welche passergenau miteinander angeordnet sind.
43. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 40 bis 42, dadurch gekennzeichnet, dass die strukturierte zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) weiter UV- blockierende Zusätze enthält.
44. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 43, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1 ) weiter zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) umfasst, insbesondere wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) ein zu der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) komplementäres Belichtungsprinzip aufweist und/oder wobei die Löslichkeit der zumindest einen zweiten Fotolackschicht (16b) bei einer anderen Belichtungswellenlänge als bei der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) veränderbar ist, und wobei die zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) registergenau neben der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) angeordnet ist.
45. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 44, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine erste Fotolackschicht (16a) aus einem positivem Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten zunimmt, und die zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b) aus ein negativem Fotolack, insbesondere dessen Löslichkeit bei Aktivierung durch Belichten abnimmt, ausgebildet ist oder umgekehrt.
46. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 43 bis 45, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1 ) weiter zumindest eine zweite Metallschicht (18b) und/oder zumindest eine dritte Fotolackschicht umfasst, welche insbesondere auf die von der Vielzahl von rasterförmigen Mikrolinsen (12) abgewandten Seite der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) auf der zumindest einen ersten Fotolackschicht (16a) angeordnet ist, und wobei die zumindest eine zweite Metallschicht (18b) und/oder die zumindest eine dritte Fotolackschicht passergenau mit der zumindest einen ersten (16a) und/oder dritten Fotolackschicht angeordnet ist.
47. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 46, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) von einer Druckschicht ausgebildet ist, welche bereichsweise derart aufbracht ist, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die Druckschicht ausgebildet ist, insbesondere wobei die Druckschicht mittels einem hochauflösendem Digitaldrucker aufgebracht ist.
48. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 47, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1) eine zweite Replizierlackschicht auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) umfasst, wobei in die zweite Replizierlackschicht plasmonische Subwellenlängenstrukturen derart abgeformt sind, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) durch die abgeformten Subwellenlängenstruktur ausgebildet sind, und wobei der Mehrschichtkörper (1 ) weiter eine Metallschicht umfasst, welche insbesondere direkt auf der die plasmonischen Subwellenlängenstrukturen aufweisenden Seite der zweiten Replizierlackschicht aufgebracht ist.
49. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 48, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1) eine insbesondere mittels einem hochauflösenden Digitaldrucker aufgebrachte Kontrollstruktur aufweist, welche bevorzugt auf die der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) angeordnet ist.
50. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 49, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1) weiter zumindest eine dritte Farblackschicht (17c) und/oder zumindest eine teiltransparente Metallschicht (20a) und/oder zumindest eine dielektrische Abstandsschicht (20b) umfasst, welche bevorzugt auf die Trägerschicht (10) insbesondere vollflächig aufgebracht ist und/oder weiter bevorzugt zwischen der Trägerschicht (10) und der zumindest einen strukturierten Schicht (14) oder der Druckschicht oder der zweiten Replizierlackschicht angeordnet ist.
51. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 50, dadurch gekennzeichnet, der Mehrschichtkörper (1 ) weiter zumindest eine vierte Farblackschicht und/oder zumindest eine dritte Metallschicht und/oder zumindest eine weitere Replizierlackschicht (11c) umfasst, welche bevorzugt vollflächig aufgebracht ist und/oder weiter bevorzugt auf der Trägerschichtschicht (10) abgewandten Seite der zumindest einen strukturierten Schicht (14) oder der Druckschicht oder der zweiten Replizierlackschicht angeordnet ist.
52. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 51 , dadurch gekennzeichnet, dass in die weitere Replizierlackschicht (11c) zumindest bereichsweise eine Reliefstruktur (22) eingeprägt ist.
53. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 52, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) in einer zumindest bereichsweisen Überlappung mit der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) zur Generierung eines ersten optisch variablen Effekts, insbesondere bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, angeordnet sind.
54. Mehrschichtkörper (1 ) nach den Ansprüchen 52 und 53, dadurch gekennzeichnet, dass sich die in zumindest bereichsweise Überlappung angeordnete Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobilder (15) und Mikrolinsen (12) mit der in die weitere Replizierlackschicht (11c) eingeprägten Reliefstruktur (22) zumindest bereichsweise überlappen, vollständig überlappen oder nicht überlappen.
55. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 54, dadurch gekennzeichnet, dass der Mehrschichtkörper (1) weiter zumindest eine Kantenemitterschicht (21) umfasst, welche auf der die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) gegenüberliegenden Seite der Trägerschicht (10) und/oder auf der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12), insbesondere auf der die einem Betrachter zugewandte Seite der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12), angeordnet ist.
56. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 55, dadurch gekennzeichnet, dass die erste Replizierlackschicht (11a) und/oder die zweite Replizierlackschicht und/oder die weitere Replizierlackschicht (11c) fluoreszierende Stoffe aufweist.
57. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 56, dadurch gekennzeichnet, dass die Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine dritte Farblackschicht (17c), zumindest eine vierte Farblackschicht (17d), zumindest eine erste Metallschicht (18a) und eingefärbte Trägerschicht (10) im CIELAB- Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen.
58. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 57, dadurch gekennzeichnet, dass von den Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine zweite Fotolackschicht (16b), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine dritte Farblackschicht (17c), zumindest eine vierte Farblackschicht (17d), zumindest eine erste Metallschicht (18a) und eingefärbte Trägerschicht (10) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11 a) zugewandt ist eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
59. Mehrschichtkörper (1 ) nach Anspruch 39, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine strukturierte Schicht (14) zumindest zwei Schichten ausgewählt aus der Gruppe: zumindest eine erste Fotolackschicht (16a), zumindest eine erste Farblackschicht (17a), zumindest eine zweite Farblackschicht (17b), zumindest eine erste Metallschicht (18a) umfasst, insbesondere wobei die zumindest zwei Schichten (16a, 17a, 17b, 18a) im CIELAB-Farbraum jeweils einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zueinander aufweisen, und/oder insbesondere wobei von den zumindest zwei Schichten (16a, 17a, 17b, 18a) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11a) zugewandt ist eine dunklere Farbe, bevorzugt mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, weiter bevorzugt mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
60. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 50 und/oder 51 , dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine dritte Farblackschicht (17c) und/oder die zumindest eine vierte Farblackschicht (17d) im CIELAB-Farbraum einen Gesamtfarbstand dE von 50 bis 270, bevorzugt von 100 bis 270, weiter bevorzugt von 130 bis 270, zu der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) aufweist, und/oder dass von der zumindest einen dritten Farblackschicht (17c) und/oder von der zumindest einen vierten Farblackschicht (17d) und der zumindest einen zu strukturierenden Schicht (14) diejenige Schicht, welche der ersten Replizierlackschicht (11a) zugewandt ist, eine dunklere Farbe, insbesondere mit einem niedrigen Helligkeitswert L, und diejenige Schicht, welche bei Betrachtung von der Seite der Vielzahl der rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) her, dahinter angeordnet ist, die hellere Farbe, insbesondere mit einem höheren Helligkeitswert L, aufweist.
61. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 60, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) weiter im Wesentlichen verzugskompensiert und/oder verwinkelungskompensiert zu der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) angeordnet sind, und/oder dass die Verwinkelung zwischen der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) und der Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrolinsen (12) kleiner 0,5°, bevorzugt kleiner 0,3°, weiter bevorzugt kleiner 0,1°, noch weiter bevorzugt kleiner 0,05°, ist.
62. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 61 , dadurch gekennzeichnet, dass die Gesamtdicke des Mehrschichtkörpers (1) kleiner als 50 pm, bevorzugt kleiner als 35 pm ist, noch weiter bevorzugt kleiner als 25 pm, ist.
63. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 62, dadurch gekennzeichnet, dass die Vielzahl von rasterförmig angeordneten Mikrobildern (15) jeweils aus einem oder mehreren Pixeln bestehen, wobei insbesondere die kürzeste Kantenlänge oder der kleinste Durchmesser eines Pixels kleiner als 10 pm, bevorzugt kleiner als 5 pm, besonders bevorzugt kleiner als 2,5 pm, ist.
64. Mehrschichtkörper (1 ) nach einem der Ansprüche 38 bis 63, dadurch gekennzeichnet, dass die zumindest eine erste (16a) und/oder zweite (16b) und/oder dritte Fotolackschicht eingefärbt ist, insbesondere mit Farbstoffen und/oder Pigmenten eingefärbt ist, und/oder die zumindest eine erste (16a) und/oder zweite (16b) und/oder dritte Fotolackschicht fluoreszierende Stoffe aufweist, und/oder dass die zumindest eine erste (16a) und/oder zweite (16b) und/oder dritte Fotolackschicht transparent ist, insbesondere dass die zumindest eine erste (16a) und/oder zweite (16b) und/oder dritte Fotolackschicht eine Transmission von sichtbarem Licht von mehr als 50 %, bevorzugt mehr als 70 %, weiter bevorzugt von mehr als 85 %, noch weiter bevorzugt von mehr als 90 %, aufweist.
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