EP4005092A1 - Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren - Google Patents

Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren

Info

Publication number
EP4005092A1
EP4005092A1 EP20743618.9A EP20743618A EP4005092A1 EP 4005092 A1 EP4005092 A1 EP 4005092A1 EP 20743618 A EP20743618 A EP 20743618A EP 4005092 A1 EP4005092 A1 EP 4005092A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
signal
modulation
generating
bit wide
unit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
EP20743618.9A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Cornelius RICHT
Mohammad Awad
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Publication of EP4005092A1 publication Critical patent/EP4005092A1/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
    • H04B—TRANSMISSION
    • H04B10/00—Transmission systems employing electromagnetic waves other than radio-waves, e.g. infrared, visible or ultraviolet light, or employing corpuscular radiation, e.g. quantum communication
    • H04B10/50—Transmitters
    • H04B10/516—Details of coding or modulation
    • H04B10/524—Pulse modulation
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03K—PULSE TECHNIQUE
    • H03K11/00—Transforming types of modulations, e.g. position-modulated pulses into duration-modulated pulses
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/0816—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light by means of one or more reflecting elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
    • G02B27/283—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • H—ELECTRICITY
    • H03—ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03K—PULSE TECHNIQUE
    • H03K7/00—Modulating pulses with a continuously-variable modulating signal
    • H03K7/08—Duration or width modulation ; Duty cycle modulation
    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02P—CONTROL OR REGULATION OF ELECTRIC MOTORS, ELECTRIC GENERATORS OR DYNAMO-ELECTRIC CONVERTERS; CONTROLLING TRANSFORMERS, REACTORS OR CHOKE COILS
    • H02P27/00—Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of supply voltage
    • H02P27/04—Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of supply voltage using variable-frequency supply voltage, e.g. inverter or converter supply voltage
    • H02P27/06—Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of supply voltage using variable-frequency supply voltage, e.g. inverter or converter supply voltage using DC to AC converters or inverters
    • H02P27/08—Arrangements or methods for the control of AC motors characterised by the kind of supply voltage using variable-frequency supply voltage, e.g. inverter or converter supply voltage using DC to AC converters or inverters with pulse width modulation

Definitions

  • the present invention relates to a modulation device, a control device with such a modulation device, an optical system, a lithography system with such an optical system and a method for generating a modulation signal and a method for controlling an optical system.
  • Microlithography systems which have actuatable optical elements, such as, for example, microlens arrays or micromirror arrays.
  • Microlithography is used to manufacture microstructured components, such as integrated circuits.
  • the microlithography process is carried out with a lithography system which has an illumination system and a projection system.
  • the image of a mask (reticle) illuminated by means of the lighting system is projected by means of the projection system onto a substrate, for example a silicon wafer, coated with a light-sensitive layer (photoresist) and arranged in the image plane of the projection system, in order to place the mask structure on the light-temp sensitive coating of the substrate to transfer.
  • the image of the mask on the substrate can be improved with actuatable optical elements. For example, wavefront errors during exposure that lead to enlarged and / or blurred images can be compensated for.
  • Such a correction by means of the optical element requires a detection of the wavefront and a signal processing to determine a respective position of an optical element, by means of which the wavefront can be corrected as desired.
  • the control signal for a respective optical element must be amplified and output to the actuator of the optical element.
  • the control signal is present as a digi tal-coded deflection of the actuator, the deflection being proportional to the control voltage, for example.
  • switching amplifiers are used, for example, which are controlled internally with a modulation of the control signal.
  • No. 7,746,935 B2 describes a device which is set up to control a capacitive load by means of a switching amplifier as a function of a digital input signal.
  • Pulse width modulation has the disadvantage that with fixed internal clocking, improved resolution can only be achieved at the expense of a period of the modulation signal. Then very sluggish filters are necessary in order to obtain an output signal that is constant over a period.
  • pulse density modulation however, the switching processes are maximized, which leads to a higher power loss in the amplifier and to the emission of electromagnetic interference radiation when the frequency is very high. In addition, the switching times are not specified.
  • a modulation device for generating a 1-bit wide modulation signal as a function of an N-bit wide input signal.
  • This modulation device has several advantages. Firstly, by dividing the input signal into more significant and less significant bits, it is possible, please include, to generate a pulse width modulation with the same resolution with a shorter period or, with the same period, with improved resolution. Secondly, by processing the significant bits in a pulse density modulation only in the case that the more significant bits have a duty cycle of 100%, the information of the less significant bits of the input signal is lost, which results in a relative loss of information of (L / 2 M ) / 2 M corresponds. The information contained in the lower-order bits is modulated onto a pulse-width modulation duty cycle.
  • the modulation device generates a hybrid pulse width modulation in which a rough adjustment of the signal is achieved with a pulse width modulation, fine adjustment is achieved by changing the pulse duty factor of the pulse width modulation in successive periods.
  • the hybrid pulse width modulation has several advantages that result from embodiments.
  • the modulation device can be implemented in terms of hardware and / or software.
  • the modulation device can be designed, for example, as a computer or as a microprocessor.
  • the modulation device can be designed as a computer program product, as a function, as a routine, as part of a program code or as an executable object.
  • the individual units of the modulation device for example the signal splitter, the first modulation unit, the adding unit and / or the second modulation unit can each be implemented in terms of hardware and / or software.
  • the N-bit input signal is, in particular, a digital input signal which can be fed to the modulation device both as a serial data signal, for example as a bit stream, and as a parallel data signal.
  • the input signal is preferably a pulse code modulation signal (PCM).
  • PCM pulse code modulation signal
  • the input signal corresponds in particular to a sampled analog signal, with a resolution of the input signal being selected both in terms of time and dynamics as a function of the respective application. According to the Nyquist theorem, a sampling frequency should be selected to be at least twice as high as a highest frequency in the signal to be sampled in order to be able to reconstruct the original signal from the input signal.
  • the N-bit wide input signal encodes 2 N states, for example 256 states can be differentiated with an 8-bit signal.
  • the modulation device preferably generates the modulation signal with a frequency which is so high that the input signal is constant or essentially constant during a period of the modulation signal.
  • the modulation signal is generated with a frequency of 1 MHz, the input signal changing at most with 100 kHz, preferably with a maximum of 10 kHz.
  • the signal divider provides a first partial signal comprising the M high order bits and a second partial signal comprising the L low order bits.
  • the second partial signal is fed to the first modulation unit.
  • the first modulation unit is set up to generate a pulse density modulation signal as a function of the second partial signal.
  • the pulse density modulation signal has a width of one bit, it is therefore either "high” or “low”, or also "1” or “0” at a time.
  • the second modulation unit can be implemented as a sigma-delta modulator, for example.
  • pulse density modulation a switching frequency, that is, switching from "high” to "low” and vice versa, is maximized. For example, given an input signal with a level of 50% of the maximum level, the pulse density modulation signal is switched over in each cycle of the first modulation unit. At a level of 75%, for example, the signal is "high” in the first three cycles and "low” in the fourth cycle.
  • the first modulation unit can have a table, for example a look-up table (LUT), in which a signal form to be output for the pulse density modulation signal is stored for a respective value of the second partial signal.
  • LUT look-up table
  • the table can be different for different values of L, that is to say second partial signals of different widths, such as 4 bits or 5 bits, for example.
  • the stored pulse density modulation signal can also differ from a pulse density modulation signal generated by means of a sigma-delta modulator.
  • a maximum switching frequency of the pulse density modulation signal can preferably be set by means of such a table.
  • the adding unit outputs the added signal, which is an M-bit wide signal, as an addition signal to the second modulation unit.
  • the second modulation unit Depending on the addition signal, the second modulation unit generates a modulation signal which corresponds to a pulse width modulation.
  • the pulse width In comparison to the N bit wide input signal, modulation is generated with an M bit wide signal L bit shorter. The period of the pulse width modulation is therefore reduced accordingly, with the internal clock rate remaining the same.
  • the modulation device is therefore advantageously suitable for reducing the period of the pulse width modulation without loss of resolution.
  • the modulation device can be simplified so that the period remains the same, but an internal structure of the modulation device is simpler. For example, an internal clock frequency of the modulation device can be reduced.
  • the clock generator is set up to generate the internal clock frequency fl, where in the clock generator the internal clock frequency fl can also generate, for example, as a function of an externally predetermined clock pulse.
  • the internal clock fl is preferably determined as a function of a maximum frequency of the input signal taking into account the Nyquist theorem. In this way, the input signal can be reconstructed from the modulation signal without any loss of information.
  • P * P / 2 NM .
  • a minimum period of the pulse density modulation signal is preferably exactly P *. This means that an interval between two switching times of the pulse density modulation signal comprises a shortened period P *. This ensures that the pulse density modulation signal modulates the pulse duty factor of the modulation signal.
  • the second modulation unit generates the pulse width modulation as follows, for example.
  • the counter counts to a predetermined number, which defines the resolution of the modulation signal, for example from 0 to 1023, which corresponds to 1024 levels or a resolution of 10 bits.
  • the counter outputs a counter signal that corresponds to the current counter value.
  • the addition signal is applied to a first input of a comparison unit of the second modulation unit, and the counter signal is applied to a second input.
  • the adding unit preferably provides the addition signal with the internal clock frequency fl.
  • the input signal has a width N of 4-64 bits, preferably 6-32 bits, more preferably 8-16 bits.
  • a control device for controlling an actuator as a function of an input signal.
  • the control device comprises a modulation device according to the first aspect for generating a modulation signal as a function of the input signal, an amplifier unit for generating an amplified signal as a function of the modulation signal, and a filter unit for filtering the amplified signal and outputting the filtered one Signal to control the actuator.
  • This control device has the advantage that due to the generation of the modulation signal with the modulation device according to the first aspect, the filter unit can be designed in a simplified manner, compared to a conventional device that modulates the input signal into a pulse width modulation. Compared to a device that uses pure pulse density modulation, the advantage is that the switch-on time is known and the switching frequency is constant. In this way, power loss in the amplifier can be reduced and the emission of electromagnetic radiation due to very high switching frequencies that can occur with pulse density modulation can be avoided or suppressed through targeted measures. By using hybrid pulse width modulation, the advantages of pulse width modulation and pulse density modulation can be combined and their respective disadvantages can be at least partially avoided.
  • control device comprises a first unit for generating the N-bit wide input signal as a function of a Control signal, the first unit preferably being set up to generate the input signal as a function of a high-voltage feedback of a voltage supply of the amplifier unit and / or a control voltage feedback of the filtered signal.
  • the first unit is designed, for example, as an analog-to-digital converter (A / D converter) and is set up to sample an analog control signal and to generate the input signal therefrom.
  • the analog control signal can, for example, be a control signal, for example from a tracking device.
  • the control signal can, however, also already be a digital signal which is converted by the first unit into the N-bit input signal.
  • the first unit can be set up to determine the input signal as a function of the control signal.
  • the first unit is designed as an FPGA, a microcontroller, and / or a signal processor.
  • the first unit is set up to apply a mathematical operation to generate the input signal.
  • the mathematical operation corresponds in particular to a conversion, a transformation and / or a function, the result of which is the input signal.
  • the first unit can be set up to take into account, for example, fluctuations in the voltage supply when generating the input signal.
  • high voltage is understood to mean any voltage that is higher than the voltage with which the modulation device is operated, for example 0-5 V.
  • a high voltage is therefore, for example, any voltage above 10 V, in particular 24 V, 48 V, 100 V , 240 V.
  • the first unit can be set up to generate the input signal as a function of properties of the filter unit, such as its inertia, and / or as a function of properties of the activated actuator.
  • the first unit can generate the input signal by means of an overdrive, so that the filtered signal reaches the target level more quickly.
  • a clock frequency of the first unit is greater than or equal to the internal clock frequency fl of the modulation signal.
  • the amplifier unit comprises a switching amplifier, in particular half an H-bridge.
  • a switching amplifier can also be referred to as a Class-D or Class-D amplifier.
  • Such amplifiers have discrete voltage levels or voltage levels that can be output.
  • Such amplifiers have exactly two levels, for example 0 V and 48 V, or -24 V and +24 V.
  • the respective voltage levels that can be output by the switching amplifier depend in particular on the voltage sources with which the Switching amplifier is operated.
  • the voltage levels can therefore be freely selected depending on the specific application by selecting the voltage sources accordingly.
  • one of the voltage levels is ground potential.
  • Voltage values lying between the voltage levels are output as a square-wave signal with a corresponding effective value, that is to say by means of rapid switching, in particular by means of hybrid pulse width modulation. Subsequent filtering results in a DC voltage signal with the effective value, with smaller fluctuations depending on the filter quality in the filtered signal.
  • Half an H-bridge corresponds to half of an H-bridge circuit.
  • it comprises two switching transistors, one of which is set up to switch a first voltage level and the second is set up to switch a second voltage level, the switching transistors being switched alternately so that only one is switched on at a time.
  • the switching transistors are switched in particular as a function of the pulse width modulation signal of the modulation device.
  • the amplifier unit can also have a full bridge circuit or H-bridge.
  • the filter unit comprises at least one inductance, one resistor and / or one capacitance.
  • the filter unit forms a low-pass filter which smooths the amplified signal over time.
  • the filtered signal preferably corresponds to a temporal mean value of the amplified signal.
  • the filter unit can in particular be designed as a multi-stage filter and have both inductances and capacitances.
  • the filter unit is preferably set up to the reinforced To filter the signal so that a remaining AC component in the filtered signal is less than 0.1% of the amplitude.
  • the filter unit can also be referred to as a demodulator.
  • the filter unit is preferably designed at least as a second-order filter.
  • the filter unit is more preferably designed as a filter of a higher order, in particular a fourth order. Higher filter orders can be implemented, for example, by a cascade of lower order filters.
  • the filter unit is designed in particular as a passive filter.
  • the filter unit has, for example, a cutoff frequency from a range from 1 kHz to 10 kHz.
  • a steepness of the filter unit and a type of filter unit, in particular whether the filter unit is designed as a Butterworth filter, a Chebyshev filter, a Bessel filter, a Sallen-Key filter or other type of filter, is specifically selected for a particular application .
  • an optical system with a number of actuatable optical elements is proposed.
  • Each of the actuatable optical elements of the number is assigned an actuator and each actuator is assigned a control device for controlling the actuator according to the second aspect.
  • This optical system has the advantage that the actuatable optical elements are controlled with the advantageous hybrid pulse width modulation.
  • the optical system comprises in particular a micromirror array and / or a microlens array with a large number of optical elements that can be actuated independently of one another.
  • this comprises a plurality of actuatable optical elements, a switching time of a respective amplifier unit of at least two control devices, preferably each pair of control devices, being different.
  • the optical system has many actuatable optical elements.
  • a control device according to the second aspect is assigned to each actuator.
  • Each of the control devices thus generates a filtered signal for controlling the respective actuator as a function of the respective input signal. Since the modulation device for controlling the amplifier unit generates a pulse width modulation signal, one of two switching times of the pulse width modulation signal is known, namely when the pulse width modulation signal is set to "high" at the beginning of each period. Therefore, the control devices of the actuators can preferably be synchronized in such a way that no two control devices begin with the same period.
  • a period in the example mentioned can be subdivided into 1024 intervals, and then the start of the period of a control device can be placed in one of the intervals.
  • the voltage level that provides the upper level can be relieved, since it only has to cope with one switch-on process at a time.
  • a power loss due to the switching is temporally distributed over an entire period, whereby cooling of the control device can be simplified.
  • groups of control devices can be defined, with all control devices in a group having the same switching time, but different groups each having different switching times.
  • a respective one of the actuators comprises a capacitive and / or an inductive load.
  • a power loss that is generated in a respective actuator can be reduced, which can bring advantages in cooling the optical system. This can be achieved in particular if the filter unit has a capacitor connected in parallel with the actuator.
  • a lithography system with an optical system according to the third aspect is proposed.
  • a lithography system includes, for example, an illumination system and an imaging system.
  • the lighting system includes in particular a light source and beam shaping optics.
  • the imaging system comprises in particular imaging optics for imaging the mask onto the substrate.
  • the optical system can be used both in the lighting system, in the beam formation optics, and in the imaging system.
  • the optical system is designed as a microlens array or a micromirror array and is used, for example, for wavefront correction in the imaging system.
  • the lithography system is, for example, an EUV lithography system whose working light is in a wavelength range from 0.1 nm to 30 nm, or a DUV lithography system whose working light is in a wavelength range from 30 nm to 250 nm.
  • the lithography system preferably additionally comprises a measuring system which is set up to detect a wavefront and which is set up to output a correction signal for correcting the wavefront by means of the optical system.
  • the correction signal can in particular serve as the input signal for the control device.
  • a method for generating a 1 bit wide modulation signal as a function of an N bit wide input signal is proposed.
  • an M-bit wide first partial signal comprising M high-order bits of the input signal is generated.
  • a 1-bit wide pulse density modulation signal is generated as a function of the second partial signal.
  • an M-bit wide addition signal is generated as a function of the first partial signal and the pulse density modulation signal.
  • the 1-bit wide modulation signal is generated as a function of the addition signal.
  • the method is particularly suitable for operating the modulation device according to the first aspect and it has the same advantages as described there.
  • a computer program product which causes a program-controlled device to carry out the proposed method.
  • a method for controlling an optical system's preferably according to the third aspect, comprising a plurality of actuatable optical elements is proposed. Each of the actuatable optical elements of the plurality is controlled by means of an amplified, filtered and, according to the fifth aspect, generated modulation signal.
  • the modulation signal of different actuatable optical elements is generated in such a way that a point in time of a period start of two modulation signals is different.
  • A is not necessarily to be understood as restricting to exactly one element in the present case. Rather, several elements, such as two, three or more, can also be provided. Any other counting word used here is also not to be understood to mean that there is a restriction to precisely the specified number of elements. Rather, numerical deviations upwards and downwards are possible, unless otherwise stated.
  • FIG. 1 shows a schematic block diagram of a first embodiment of a modulation device
  • FIG. 2 shows four diagrams with different signals to explain the mode of operation of the modulation device
  • Fig. 3 shows a schematic block diagram of a second embodiment of a modulation device
  • Fig. 4 shows a schematic block diagram of an embodiment of a control device
  • Fig. 5 shows a schematic block diagram of an embodiment of an optical system
  • FIG. 6A shows a schematic view of an embodiment of an EUV lithography system
  • FIG. 6B shows a schematic view of an embodiment of a DUV lithography system
  • FIG. 7 shows a block diagram of an exemplary embodiment of a method for generating a modulation signal.
  • the modulation device 100 comprises a signal divider 110, a first modulation unit 120, an adding unit 130 and a second modulation unit 140.
  • the modulation device 100 generates a 1 from an N-bit input signal I Bit wide pulse width modulation signal PWM.
  • a time mean value of the pulse width modulation signal PWM corresponds in particular to a value of the input signal I.
  • the modulation device 100 works with an internal clock frequency fl, which is generated for example by an internal clock, is specified or supplied from the outside, and / or as a function of a externally predetermined clock frequency is generated.
  • the internal clock frequency fl is preferably selected as a function of a maximum frequency of the input signal I, for example at least twice as high, preferably ten times as high.
  • a maximum frequency of the input signal I is 1 kHz - 100, for example kHz, preferably 1 kHz to 20 kHz, more preferably 1 kHz to 10 kHz, more preferably 5 kHz to 10 kHz.
  • a serial input signal I for example, the first M bits of a word that are received in the first M cycles of a transmission cycle form the first partial signal Xh, and the remaining L bits of the word form the second partial signal XI.
  • the first modulation unit 120 generates a pulse density modulation signal PDM from the second partial signal XI.
  • the pulse density modulation signal PDM corresponds to a signal that maximizes the switching frequency as a function of the values of N, M and L. This is described in detail below with reference to FIG.
  • the adding unit 130 adds the 1-bit wide pulse density modulation signal PDM to the M-bit wide first partial signal Xh, and outputs an M-bit wide addition signal Xs.
  • the adding unit generates the addition signal Xs in particular with the internal clock frequency fl.
  • the second modulation unit 140 generates a modulation signal PWM as a function of the addition signal Xs, which modulation signal corresponds to a pulse width modulation of the addition signal Xs.
  • FIG. 2 shows four diagrams arranged one above the other with different signals to explain the mode of operation of the modulation device 100 of FIG. All four diagrams have a common horizontal time axis t (abscissa).
  • the vertical axis (ordinate) corresponds to a signal level, the top diagram having a range of values between 0 and 63 (corresponding to the 64 levels of a 6-bit signal) and the bottom three diagrams only "0" or "1" as a value have (corresponding to a 1 bit signal).
  • the top diagram shows a digital, 6-bit wide input signal I with the value 011101, which corresponds to a value of 29 in decimal notation and a duty cycle of a pulse width modulation of 45.3%.
  • the input signal I is constant over the period shown.
  • the second diagram from the top shows an example of a pulse width modulation signal PWM1 that would be generated with direct conversion of the 6-bit wide input signal I by means of a pulse width modulator with a resolution of exactly 6 bits.
  • a period P of the exemplary pulse width modulation signal PWM1 lasts 64 clock periods of the internal clock frequency fl.
  • the pulse width modulation signal PWM1 is the first 29 clocks at "1" and the remaining 35 clocks at "0", which increases the duty cycle of 45.3% is achieved.
  • the third diagram from the top shows, on the one hand, a pulse density modulation signal PDM (dashed line) and, on the other hand, a pulse width modulation signal PWM2.
  • the pulse width modulation signal PWM2 corresponds to the result of a pulse width modulation if the first partial signal Xh including the 4 higher-value bits (here 0111) of the input signal I is used and the resolution of the pulse width modulator to 4 bits, corresponding to 16 levels, with the same internal Clock frequency fl is adjusted.
  • a period P * of the pulse width modulation signal PWM2 thus lasts 16 clocks and thus only a quarter of the period P.
  • the duty cycle of the pulse width modulation signal PWM2 is thus 43.8%.
  • the pulse density modulation signal PDM is generated as a function of the second partial signal XI comprising the 2 lower-order bits (here 01) of the input signal I and with a minimum period P *.
  • the pulse density modulation signal PDM is in an interval, in the first interval, a period P at "1", otherwise at "0".
  • the second, third or fourth interval can also be "1".
  • the pulse density modulation signal PDM is repeated, since the input signal I is unchanged.
  • the modulation device 100 is preferably designed such that the pulse density modulation signal PDM cannot change within a period P. This can in particular be achieved in that a sample-and-hold element is the holds the second partial signal XI constant for a period P and outputs it to the first modulation unit 120.
  • the bottom diagram (the fourth diagram from the top) shows a modulation signal PWM, as it is generated by the modulation device 100, for example.
  • the modulation signal PWM corresponds to a pulse width modulation signal that is generated as Xs as a function of the addition sign.
  • the addition signal Xs is generated in particular in each internal clock cycle as a function of the current values of the first partial signal Xh and the pulse density modulation signal PDM.
  • a filter unit 230 which, for example, forms a direct current signal with constant amplitude from the pulse width modulation signal PWM1 and the modulation signal PWM, can be constructed much more simply in the case of the modulation signal PWM.
  • Fig. 3 shows a schematic block diagram of a second embodiment of a modulation device 100.
  • the modulation device 100 has the same structure as the modulation device 100 that was described with reference to FIG. 3 also shows a possible implementation of the first modulation unit 120 as a delta-sigma modulator and the second modulation unit 140 with an integrated counter 142.
  • the first modulation unit 120 is designed as a delta-sigma modulator and comprises six functional elements with two feedback loops.
  • the second partial signal XI is fed to a first delay element 124 via a first adding node 122.
  • the delay element 124 delays the supplied signal by one clock cycle.
  • the delayed signal is fed to a comparator 126 via a second adding node 123.
  • a first feedback loop is provided, which feeds the signal fed to the comparator 126 to the second adding node 123 via a further delay element 124.
  • the comparator 126 is set up to compare the supplied signal with a given threshold value.
  • the predetermined threshold value can correspond to the value of the second partial signal XI, for example.
  • the comparator 126 generates a 1 bit wide output signal which is the pulse density modulation signal PDM.
  • the output of the comparator 126 is at “1” or “high” if the value of the signal fed to the comparator 126 is greater than or equal to the threshold value, and otherwise “0” or “low”.
  • the output of the comparator 126 is fed back to the first adding node 122 negatively by means of a second feedback loop.
  • a multiplier 128 is arranged in the second feedback loop, which multiplier multiplies the output signal by a predetermined factor.
  • the multiplier 128 has an output signal which has a bit width which corresponds to the factor +1. If, for example, the factor is 2, then the signal after the multiplier 128 is exactly 3 bits wide. This is due to the fact that the input signal of the multiplier 128 is always 1 bit wide. If the input signal of the multiplier 128 is “1” or “high”, then the output signal of the multiplier 128 has a leading “1”, that is, for example, 100 with a width of 3 bits.
  • the output signal of the multipli cation element 128 is supplied to the first adding node 122 with a negative sign, so it is subtracted from the second partial signal XI by the adding node 122.
  • the embodiment of the delta-sigma modulator 120 described here is only an example, and that the first modulation unit 120 can also be designed in any other way as long as it has the properties described.
  • the pulse density modulation signal PDM generated by the delta-sigma modulator 120 is fed, as described above, to the adding unit 130, which provides the addition signal Xs and feeds it to the second modulation unit 140.
  • the second modulation unit 140 includes a counter 142 which counts the inter fl NEN clock frequency to 2 N.
  • the counter signal is compared in a comparator 144 with the addition signal Xs carried by the train.
  • the comparator 144 accordingly outputs the modulation signal PWM as a 1-bit wide signal.
  • the control device 200 comprises a first unit 210, a modulation device 100, both For example, as described for FIGS. 1 or 3, an amplifier unit 220 and a filter unit 230.
  • the first unit 210 is set up to generate the N-bit wide input signal I as a function of the control signal A.
  • the control signal A can be a digital or an analog signal.
  • the Anêtsig nal A is a control signal of a servo motor, which is continuous in time and value.
  • the first unit 210 can also have inputs for a high-voltage feedback HV or a control voltage feedback AV, and take a respective feedback level into account when generating the input signal I. It should be noted that the first unit 210 is optional, in particular when the drive signal A already has a form that corresponds to the form desired for the input signal I.
  • the input signal I is processed, for example, as described above with reference to FIGS. 1-3, by the modulation device 100 to generate a modulation signal PWM.
  • the modulation signal PWM is fed to the amplifier unit 220, which amplifies it and outputs it as an amplified signal aPWM.
  • the amplifier unit 220 has, for example, a gate driver 221 which is set up to switch the two transistors 222, 223.
  • the gate driver 221 switches the upper transistor 222 to conductive and the lower transistor 223 to blocking rend when the modulation signal PWM is "1" or "high".
  • the middle between the two transistors 222, 223, which forms the output of the amplifier unit 220 is at the potential of the voltage source Vcc.
  • the potential Vcc is, for example, 12 V - 480 V, preferably 48 V - 240 V, and is selected as a function of the actuator 300 to be controlled.
  • the gate driver 221 switches the upper transistor 222 to blocking and the lower transistor 223 to conductive when the modulation signal PWM is "0" or "low”. Then the middle between the two transistors 222, 223 is at the ground potential GND.
  • the amplifier unit 220 also has a Dio de 224 each.
  • the transistors 222, 223 are designed as n-channel MOSFETs.
  • the transistors 222, 223 can also be embodied as p-channel MOSFETs, as a p-channel and an n-channel MOSFET, silicon MOSFETs, GaN FETs, IGBTs and / or bipolar transistors.
  • the filter unit 230 comprises in particular an inductance 231 connected in series with the actuator 300, for example a coil, as well as a resistor 232, in particular an ohmic resistor, and a capacitance 233 connected in parallel with the actuator 300, in particular a capacitor.
  • the specific selection of values for the inductance 231, the resistor 232 or the capacitor 233 depends on the actuator 300 to be controlled and the desired properties of the filtered signal fPWM.
  • the filtered signal fPWM preferably has a level which in percentage terms corresponds to the level of the input signal I at the point in time.
  • the level of the filtered signal fPWM is constant over a period of a period P * and a period P, provided the level of the input signal I has not just changed.
  • a filter unit 230 does not necessarily have to have all of the components shown, but also has only one inductance 231 and one resistor 232, but no capacitor 233, for example. Further arrangements of the individual components are also possible and are preferably selected as a function of the actuator 300 to be controlled and the desired properties of the filtered signal fPWM.
  • the frequency of the input signal I can be 12 kHz
  • the internal clock frequency fl of the modulation device 100 is 200 MHz
  • the voltage source Vcc of the amplifier unit 220 is 100 V
  • the filter unit 230 comprises an inductance 231 with 3.3 mH and a capacitor 233 of 2 pF.
  • the output of the filter unit 230 is connected to the actuator 300 to be controlled, so that the filtered signal fPWM serves as an input signal for this.
  • the actuator 300 can be designed, for example, as a piezo actuator, the linear deflection of which is proportional to an applied voltage. Further possible actuators 300 are electrical actuators, magnetic actuators, electro-magnetic actuators, thermal actuators and the like.
  • Fig. 5 shows a schematic block diagram of an embodiment of an optical system's 400 with a plurality of actuatable optical elements 410.
  • the optical system 400 is designed here as a micromirror array, where the optical elements 410 are micromirrors.
  • Each micromirror 410 can be actuated by means of an associated actuator 300.
  • a respective micromirror 410 can be tilted about two axes by means of the assigned actuator 300 and / or shifted in one, two or three spatial axes. For the sake of clarity, only the top row of these elements is given the reference symbols.
  • the optical system 400 comprises a correction unit 420 which is set up to generate a control signal A or an input signal I for each of the micromirrors 410.
  • the optical system 400 is set up to correct a wavefront of light in a lithography system 600A, 600B (see FIGS. 6A, 6B), the correction unit 420, for example, depending on a measured shape of the wavefront and a desired shape of the wavefront
  • the desired position of each of the micromirrors 410 is determined and a corresponding control signal A or input signal I is output.
  • the respective control signal A or input signal I is fed to a control device 200 assigned to a respective actuator 300.
  • the control device 200 controls the respective actuator 300 with a filtered, amplified modulation signal fPWM.
  • the filtered signal fPWM is generated in particular as described with reference to FIG. A position of the respective micromirror 410 is thus set.
  • the control devices 200 can be synchronized with one another in such a way that at a given point in time only exactly one modulation signal PWM changes into the next period P, the respective modulation signal PWM switches from "low” to "high".
  • a voltage source Vcc (see FIG. 4), which can operate a plurality of the control devices 200, is thus relieved.
  • the voltage source Vcc can therefore be made simpler.
  • EUV stands for "extreme ultraviolet” (Engl4 extreme ultraviolet, EUV) and denotes a wavelength of the work light between 0.1 nm and 30 nm.
  • the beam shaping and lighting system 602 and the projection system 604 are each in a vacuum housing, not shown before seen, each vacuum housing with the help of an evacuation, not shown ku michs device is evacuated.
  • the vacuum housings are surrounded by a machine room, not shown, in which drive devices for mechanical movement or setting of optical elements are provided. Furthermore, electrical controls and the like can also be provided in this machine room.
  • the EUV lithography system 600A has an EUV light source 606A.
  • a plasma source (or a synchrotron) can be provided as the EUV light source 606A, which emits radiation 608A in the EUV range (extreme ultra-violet range), for example in the wavelength range from 5 nm to 20 nm.
  • the EUV radiation 608A is bundled in the beam shaping and lighting system 602 and the desired operating wavelength is filtered out of the EUV radiation 608A.
  • the EUV radiation 608A generated by the EUV light source 606A has a relatively low transmissivity through air, which is why the beam guide spaces in the beam shaping and lighting system 602 and in the projection system 604 are evacuated.
  • the beam shaping and illumination system 602 shown in FIG. 6A has five mirrors 610, 612, 614, 616, 618. After passing through the beam shaping and illumination system 602, the EUV radiation 608A is directed onto a photomask (Engl4 reticle) 620.
  • the photo mask 620 is also designed as a reflective optical element and can be arranged outside the systems 602, 604. Furthermore, the EUV radiation 608A can be directed onto the photomask 620 by means of a mirror 622.
  • the photomask 620 has a structure which is imaged on a wafer 624 or the like in a reduced size by means of the projection system 604.
  • the projection system 604 (also referred to as a projection objective) has five mirrors M1 to M5 for imaging the photomask 620 on the wafer 624.
  • Individual mirrors Ml to M5 of the projection system 604 can be arranged symmetrically to an optical axis 526 of the projection system 504.
  • the number of mirrors M1 to M6 of the EUV lithography system 600A is not limited to the number shown. More or fewer mirrors M1 to M5 can also be provided.
  • the mirrors Ml to M5 are usually curved on their front side to form the beam.
  • the projection system 604 comprises an optical system 400 with a plurality of actuatable optical elements 410, for example the micromirror array described with reference to FIG. 5.
  • the optical system 400 is in particular specially set up to correct dynamic imaging errors.
  • the projection system 604 with the optical system 400 can be referred to as adaptive optics.
  • a resolution of the lithography system 600A can thus be increased.
  • a correction unit 420 depending on measured values of the wavefront of the projection light, generates an input signal I, which can include an individual signal in particular for a respective micromirror 410.
  • the input signal I is converted by the drive unit 200 for a respective optical element 410 into an amplified, filtered modulation signal fPWM and output to the respective actuator 300 for actuating the optical element 410.
  • the respective actuator 300 actuates the assigned micromirror 410 accordingly. It should be pointed out that the arrangement of the control unit 200 within the projection system 604 is optional.
  • FIG. 6B shows a schematic view of a DUV lithography system 600B, which comprises a beam shaping and illumination system 602 and a projection system 604.
  • DUV stands for "deep ultraviolet” (deep ultraviolet, DUV) and designates a wavelength of the work light between 30 nm and 250 nm.
  • the beam shaping and lighting system 602 and the projection system 604 can - as already referred to Fig. 6A described - be arranged in a vacuum housing and / or surrounded by a machine room with corre sponding drive devices.
  • the DUV lithography system 600B has a DUV light source 606B.
  • An ArF excimer laser for example, which emits radiation 608B in the DUV range at 193 nm, for example, can be provided as the DUV light source 606B.
  • the beam shaping and illumination system 602 shown in FIG. 6B guides the DUV radiation 608B onto a photo mask 620.
  • the photo mask 620 is designed as a transmissive optical element and can be arranged outside the systems 602, 604.
  • the photomask 620 has a structure which is reduced by means of the projection system 604 onto a wafer 624 or the like.
  • the projection system 604 has a plurality of lenses 628 and / or mirrors 630 for imaging the photomask 620 on the wafer 624.
  • Individual lenses 628 and / or mirrors 630 of projection system 604 can be arranged symmetrically to an optical axis 626 of projection system 604.
  • the number of lenses 628 and mirrors 630 of the DUV- Lithography system 600B is not limited to the number shown. More or fewer lenses 628 and / or mirrors 630 can also be provided.
  • the mirrors 630 are generally curved on their front side for beam shaping.
  • the projection system 604 comprises an optical system 400 with a plurality of actuatable optical elements 410, for example a microlens array, which can be constructed in particular according to the micromirror array described with reference to FIG. 5, microlenses being used instead of the micromirrors.
  • the optical system 400 is set up in particular to correct dynamic imaging errors.
  • the projection system 604 with the optical system 400 can be referred to as adaptive optics. A resolution of the lithography system 600B can thus be increased.
  • a control signal A is specified from the outside in the present case.
  • the control signal A includes, in particular, an individual signal for each of the microlenses 410 of the optical system 400.
  • the control signal A can for example be generated by an external computing device.
  • the control unit 200 converts the signal contained in the control signal A for a respective microlens 410 into an amplified, filtered modulation signal fPWM and outputs this to the respective actuator 300.
  • the respective actuator 300 actuates the assigned microlens 410 accordingly.
  • An air gap between the last lens 628 and the wafer 624 can be replaced by a liquid medium 632 which has a refractive index> 1.
  • the liquid medium 632 can be ultrapure water, for example.
  • Such a structure is also referred to as immersion lithography and has an increased photolithographic resolution.
  • the medium 632 can also be referred to as an immersion liquid.
  • Fig. 7 shows a schematic block diagram of an embodiment of a method for generating a 1-bit wide modulation signal PWM from an N-bit wide input signal I.
  • a first step S1 an M-bit wide first partial signal Xh comprising M high-order bits of the input signal I is generated.
  • a 1-bit wide pulse density modulation signal PDM is generated as a function of the second partial signal XI.
  • an M-bit wide addition signal Xs is generated as a function of the first partial signal Xh and the pulse density Modulation signal PDM generated.
  • the 1-bit wide modulation signal PWM is generated as a function of the addition signal Xs.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Signal Processing (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Amplifiers (AREA)

Abstract

Eine Modulationsvorrichtung (100) zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit eines N Bit breiten Eingangssignals (I), miteinem Signalteiler (110) zum Erzeugen eines M Bit breiten ersten Teilsig-nals (Xh) umfassend M höherwertige Bits des Eingangssignals (I) und zum Er-zeugen eines L Bit breiten zweiten Teilsignals (Xl) umfassend L niederwertigeBits des Eingangssignals, wobei L = N – M,einer ersten Modulationseinheit (120) zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Pulsdichte-Modulationssignals (PDM) in Abhängigkeit des zweiten Teilsignals (Xl), einer Addiereinheit (130) zum Erzeugen eines M Bit breiten Additionssignals (Xs) in Abhängigkeit des ersten Teilsignals (Xh) und des Pulsdichte-Modulationssignals (PDM), undmit einer zweiten Modulationseinheit (140) zum Erzeugen des 1 Bit breiten Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit des Additionssignals (Xs).

Description

MODULATIONSVORRICHTUNG, ANSTEUERVORRICHTUNG, OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN
Die vorliegende Erfindung betrifft eine Modulationsvorrichtung, eine Ansteuer vorrichtung mit einer solchen Modulationsvorrichtung, ein optisches System, ei ne Lithographieanlage mit einem solchen optischen System sowie ein Verfahren zum Erzeugen eines Modulationssignals und ein Verfahren zum Ansteuern eines optischen Systems.
Der Inhalt der Prioritätsanmeldung DE 10 2019 211 477.6 wird durch Bezug nahme vollumfänglich mit einbezogen (incorporation by reference).
Es sind Mikrolithographieanlagen bekannt, die aktuierbare optische Elemente, wie beispielsweise Mikrolinsenarrays oder Mikrospiegelarrays aufweisen. Die Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie beispielsweise integrierter Schaltkreise, angewendet. Der Mikrolithographiepro- zess wird mit einer Lithographieanlage durchgeführt, welche ein Beleuchtungs system und ein Projektionssystem aufweist. Das Bild einer mittels des Beleuch tungssystems beleuchteten Maske (Retikel) wird hierbei mittels des Projektions systems auf ein mit einer lichtempfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Projektionssystems angeordnetes Substrat, beispiels weise einen Siliziumwafer, projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtemp findliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. Mit aktuierbaren optischen Elementen lässt sich die Abbildung der Maske auf dem Substrat verbessern. Bei spielsweise lassen sich Wellenfrontfehler bei der Belichtung, die zu vergrößerten und/oder unscharfen Abbildungen führen, ausgleichen.
Für eine solche Korrektur mittels des optischen Elements bedarf es einer Erfas sung der Wellenfront und einer Signalverarbeitung zum Ermitteln einer jeweili gen Position eines optischen Elements, durch welche sich die Wellenfront wie gewünscht korrigieren lässt. Im letzten Schritt muss das Ansteuersignal für ein jeweiliges optisches Element verstärkt und an den Aktuator des optischen Ele ments ausgegeben werden. Beispielsweise liegt das Ansteuersignal als eine digi tal kodierte Auslenkung des Aktuators vor, wobei die Auslenkung beispielsweise proportional zu der Ansteuerspannung ist. Zum Verstärken von Digitalsignalen werden beispielsweise Schaltverstärker verwendet, die intern mit einer Modula tion des Ansteuersignals gesteuert werden. Die US 7,746,935 B2 beschreibt eine Vorrichtung, die zum Ansteuern einer kapazitiven Last mittels in Abhängigkeit eines digitalen Eingangssignals mittels eines Schaltverstärkers eingerichtet ist. Bekannte Modulationsarten sind die Pulsweitenmodulation sowie die Puls- dichtemodulation, die jeweils aus einem Eingangssignal ein 1 Bit breites Aus gangssignal erzeugen. Die Pulsweitenmodulation weist den Nachteil auf, dass bei fester interner Taktung eine verbesserte Auflösung nur auf Kosten einer Perio dendauer des Modulationssignals erzielt werden kann. Dann sind sehr träge Fil ter notwendig, um ein über eine Periode konstantes Ausgangssignal zu erhalten. Bei der Pulsdichtemodulation hingegen sind die Umschaltvorgänge maximiert, was zu einer höheren Verlustleistung im Verstärker und zur Abstrahlung elekt romagnetischer Störstrahlung führt, wenn die Frequenz sehr hoch ist. Zudem sind die Umschaltzeitpunkte nicht festgelegt.
Vor diesem Hintergrund besteht eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung darin, eine verbesserte Modulationsvorrichtung und ein entsprechendes Verfahren be reitzustellen.
Gemäß einem ersten Aspekt wird eine Modulationsvorrichtung zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Modulationssignals in Abhängigkeit eines N Bit breiten Ein gangssignals vor geschlagen. Die Modulationsvorrichtung umfasst einen Signal teiler zum Erzeugen eines M Bit breiten ersten Teilsignals umfassend M höher wertige Bits des Eingangssignals und zum Erzeugen eines L Bit breiten zweiten Teilsignals umfassend L niederwertige Bits des Eingangssignals, wobei L = N - M, eine erste Modulationseinheit zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Pulsdichte- Modulationssignals in Abhängigkeit des zweiten Teilsignals, eine Addiereinheit zum Erzeugen eines M Bit breiten Additionssignals in Abhängigkeit des ersten Teilsignals und des Pulsdichte-Modulationssignals, und eine zweiten Modulati onseinheit zum Erzeugen des 1 Bit breiten Modulationssignals in Abhängigkeit des Additionssignals.
Diese Modulationsvorrichtung weist mehrere Vorteile auf. Erstens ist es durch die Aufteilung des Eingangssignals in höherwertige und niederwertige Bits mög lich, eine Pulsweitenmodulation mit gleicher Auflösung bei kürzerer Perioden dauer, oder, bei gleicher Periodendauer, mit verbesserter Auflösung zu erzeugen. Zweitens geht durch die Verarbeitung der nie der wertigen Bits in einer Puls dichtemodulation nur in dem Fall, dass die höherwertigen Bits ein Tastverhält nis von 100% umfassen, die Information der niederwertigen Bits des Eingangs signals verloren, was einem relativen Informationsverlust von (L/2M)/2M ent spricht. Die in den niederwertigen Bits enthaltene Information wird auf ein Tastverhältnis der Pulsweitenmodulation aufmoduliert. Man kann sagen, dass die Modulationsvorrichtung eine hybride Pulsweitenmodulation erzeugt, bei der eine grobe Einstellung des Signals mit einer Pulsweitenmodulation erreicht wird, wobei eine Feineinstellung durch das Verändern des Tastverhältnisses der Puls- weitenmodulation in aufeinanderfolgenden Perioden erreicht wird. Die hybride Pulsweitenmodulation hat mehrere Vorteile, die sich aus Ausführungsformen ergeben.
Die Modulationsvorrichtung kann hardwaretechnisch und/oder softwaretech nisch implementiert sein. Bei einer hardwaretechnischen Implementierung kann die Modulationsvorrichtung zum Beispiel als Computer oder als Mikroprozessor ausgebildet sein. Bei einer softwaretechnischen Implementierung kann die Mo dulationsvorrichtung als Computerprogrammprodukt, als eine Funktion, als eine Routine, als Teil eines Programmcodes oder als ausführbares Objekt ausgebildet sein. Insbesondere können die einzelnen Einheiten der Modulationsvorrichtung, beispielsweise der Signalteiler, die erste Modulationseinheit, die Addiereinheit und/oder die zweite Modulationseinheit jeweils hardwaretechnisch und/oder softwaretechnisch implementiert sein.
Das N Bit breite Eingangssignal ist insbesondere ein digitales Eingangssignal, das sowohl als serielles Datensignal, beispielsweise als Bitstrom, als auch als paralleles Datensignal der Modulationsvorrichtung zugeführt werden kann. Das Eingangssignal ist vorzugsweise ein Puls-Code-Modulationssignal (PCM). Das Eingangssignal entspricht insbesondere einem abgetasteten Analogsignal, wobei eine Auflösung des Eingangssignals sowohl in zeitlicher als auch dynamischer Hinsicht in Abhängigkeit der jeweiligen Anwendung gewählt ist. Gemäß dem Nyquist-Theorem ist eine Abtastfrequenz mindestens doppelt so hoch wie eine höchste Frequenz in dem abzutastenden Signal zu wählen, um das ursprüngliche Signal aus dem Eingangssignal rekonstruieren zu können. Das N Bit breite Ein gangssignal kodiert 2N Zustände, beispielsweise lassen sich mit einem 8 Bit Sig nal 256 Zustände unterscheiden. Man kann auch von der Wortbreite des Signals sprechen. Vorzugsweise erzeugt die Modulationsvorrichtung das Modulationssig nal mit einer Frequenz, die so hoch ist, dass das Eingangssignal während einer Periodendauer des Modulationssignals konstant ist, oder im Wesentlichen kon stant ist. Beispielsweise wird das Modulationssignal mit einer Frequenz von 1 MHz erzeugt, wobei das Eingangssignal sich höchstens mit 100 kHz, bevorzugt höchstens mit 10 kHz, ändert.
Der Signalteiler teilt das Eingangssignal in M höherwertige Bits und L nieder wertige Bits auf. Bei einem 8 Bit Signal oder Wort sind die linksstehenden Bits die höherwertigen Bits, die rechtsstehenden Bits sind die niederwertigen Bits. Wird beispielsweise M = 5 und L = 3 gewählt, so sind bei einem Eingangssignal 10011101 die ersten fünf Bits, 10011, die höherwertigen Bits, die letzten drei Bits, 101, die niederwertigen Bits. M oder L sind beliebig wählbar, solange N = M + L beachtet wird. Der Signalteiler stellt ein erstes Teilsignal umfassend die M höherwertigen Bits und eine zweites Teilsignal umfassend die L niederwertigen Bits bereit.
Das zweite Teilsignal wird der ersten Modulationseinheit zugeführt. Die erste Modulationseinheit ist zum Erzeugen eines Pulsdichte-Modulationssignals in Abhängigkeit des zweiten Teilsignals eingerichtet. Das Pulsdichte- Modulationssignal hat eine Breite von einem Bit, es ist zu einem Zeitpunkt daher entweder "high" oder "low", oder auch "1" oder "0". Die zweite Modulationseinheit kann beispielsweise als ein Sigma-Delta-Modulator implementiert sein. Bei der Pulsdichtemodulation ist eine Schalthäufigkeit, also das Umschalten von "high" auf "low" und umgekehrt, maximiert. Beispielsweise wird bei einem Eingangs signal mit einem Pegel von 50% des Maximalpegels das Pulsdichte- Modulationssignal in jedem Takt der ersten Modulationseinheit das Signal um geschaltet. Bei einem Pegel von 75% ist das Signal beispielsweise in den ersten drei Takten auf "high" und dem vierten Takt auf "low".
In Ausführungsformen kann die erste Modulationseinheit eine Tabelle, zum Bei spiel eine Look-Up-Table (LUT) aufweisen, in welcher für einen jeweiligen Wert des zweiten Teilsignals eine auszugebende Signalform für das Pulsdichte- Modulationssignal hinterlegt ist. Beispielsweise kann die Tabelle für unter schiedliche Werte von L, also unterschiedlich breite zweite Teilsignale, wie bei spielsweise 4 Bit oder 5 Bit, unterschiedlich sein. Insbesondere kann das hinter legte Pulsdichte-Modulationssignal auch von einem mittels einem Sigma-Delta- Modulator erzeugten Pulsdichte-Modulationssignal abweichen. Vorzugsweise kann mittels einer solchen Tabelle eine maximale Umschaltfrequenz des Puls- dichte-Modulationssignals eingestellt werden.
Das Pulsdichte-Modulationssignal wird in der Addiereinheit dem ersten Teilsig nal umfassend die M höherwertigen Bits aufaddiert. Ist das Pulsdichte- Modulationssignal eine "0", dann bleibt das erste Teilsignal unverändert, ist es eine "1", dann erhöht sich dessen Wert um 1, also beispielsweise 1001 + 1 = 1010. Es sei angemerkt, dass, wenn das erste Teilsignal beispielsweise 1111 ist, dieses durch Addition einer "1" unverändert bleibt, da 1111 bereits die größte Zahl eines 4 Bit Signals darstellt. Die Addiereinheit gibt das addierte Signal, welches ein M Bit breites Signal ist, als Additionssignal an die zweite Modulationseinheit aus.
Die zweite Modulationseinheit erzeugt in Abhängigkeit des Additionssignals ein Modulationssignal, das einer Pulsweitenmodulation entspricht. Die Pulsweiten- modulation wird im Vergleich zum N Bit breiten Eingangssignal mit einem um L Bit kürzeren M Bit breiten Signal erzeugt. Daher reduziert sich die Periodendau er des Pulsweitenmodulation entsprechend, bei gleichbleibendem internem Takt.
Beispielsweise ist das Eingangssignal 10 Bit breit. Weist die Pulsweitenmodula tion einen internen Takt 1 ms, entsprechend einer Frequenz von 1 MHz, und eine Auflösung von 10 Bit, entsprechend 1024 Stufen, auf, dann hat die Pulsweiten modulation eine Periodendauer von 1,024 ms. Bei einem Eingangspegel von 50% ist das Modulationssignal dann für 0,512 ms auf "high" und für die verbleibenden 0,512 ms der Periode auf "low". Wird in diesem Beispiel M = 8 gesetzt, dann kann die Auflösung der Pulsweitenmodulation auf 8 Bit reduziert werden, entspre chend 256 Stufen. Dementsprechend verkürzt sich die Periodendauer auf 0,256 ms.
Die Modulationsvorrichtung ist damit vorteilhaft dazu geeignet, ohne einen Ver lust an Auflösung die Periodendauer der Pulsweitenmodulation zu reduzieren. Alternativ kann die Modulationsvorrichtung vereinfacht werden, so dass die Pe riodendauer gleich bleibt, aber ein interner Aufbau der Modulationsvorrichtung einfacher ist. Beispielsweise kann eine interne Taktfrequenz der Modulations vorrichtung reduziert werden. Durch die Modulierung der L niederwertigen Bits auf die Änderung des Tastverhältnisses von aufeinanderfolgenden Perioden der Pulsweitenmodulation wird ein Quantisierungsrauschen zudem zu höheren Fre quenzen hin verschoben (noise-shaping).
Gemäß einer Ausführungsform der Modulationsvorrichtung umfasst diese einen Taktgeber zum Erzeugen einer internen Taktfrequenz fl, wobei die zweite Modu lationseinheit zum Erzeugen des Modulationssignals mit einer verkürzten Perio dendauer p* = 2M · t1, wobei t1 = 1/fl, eingerichtet ist.
Der Taktgeber ist zum Erzeugen der internen Taktfrequenz fl eingerichtet, wo bei der Taktgeber die interne Taktfrequenz fl beispielsweise auch in Abhängig keit eines von außen vorgegebenen Takts erzeugen kann. Der interne Takt fl ist vorzugsweise in Abhängigkeit einer maximalen Frequenz des Eingangssignals unter Berücksichtigung des Nyquist-Theorems bestimmt. Auf diese Weise lässt sich das Eingangssignal ohne einen Verlust an Informationen aus dem Modulati onssignal rekonstruieren.
Die verkürzte Periodendauer P* des Modulationssignals beträgt bei konstanter interner Taktfrequenz fl nur einen Bruchteil einer Periodendauer P = 2N · tl, die sich ergibt, wenn man aus dem Eingangssignal direkt eine Pulsweitenmodulati on erzeugt. Es gilt hierbei P* = P/2N M.
Eine minimale Periodendauer des Pulsdichte-Modulationssignals beträgt vor zugsweise genau P*. Das heißt, dass ein Intervall zwischen zwei Schaltzeitpunk ten des Pulsdichte-Modulationssignals eine verkürzte Periodendauer P* umfasst. Damit ist sichergestellt, dass durch das Pulsdichte-Modulationssignal eine Mo dulation des Tastverhältnisses des Modulationssignals erreicht wird.
Die zweite Modulationseinheit erzeugt die Pulsweitenmodulation beispielsweise wie folgt. Die zweite Modulationseinheit weist einen Zähler auf, der mit dem in ternen Takt fl, beispielsweise fl = 10 MHz, arbeitet. Eine Periode des Zählers, also die Dauer eines Takts, ist damit tl = 1/fl = 0, 1 ms. Der Zähler zählt mit die sem Takt auf eine vorgegebene Zahl, durch welche die Auflösung des Modulati onssignals festgelegt ist, zum Beispiel von 0 auf 1023, was 1024 Stufen oder einer Auflösung von 10 Bit entspricht. Eine Zählperiode, also die Dauer, bis der Zähler einmal auf 1023 gezählt hat, ergibt sich zu P = 2M · tl = 102,4 ms. Eine Frequenz des Modulationssignals mit dieser Periode ist damit f2 = 1/P = 9,77 kHz. Der Zähler gibt ein Zählersignal aus, das dem aktuellen Zähler-Wert entspricht. Bei spielsweise liegt an einem ersten Eingang einer Vergleichseinheit der zweiten Modulationseinheit das Additionssignal an, an einem zweiten Eingang liegt das Zählersignal an. Ein Ausgang der Vergleichseinheit ist auf "high", oder auf " 1", solange das Zählersignal kleiner als das Additionssignal ist. Wenn das Additi onssignal beispielsweise 0101011000 (entspricht Dezimal 344, also einem Tast verhältnis von 344/1024 = 0,336) ist, dann ist der Ausgang der Vergleichseinheit für 34,4 ms auf "high" und für die verbleibende Periodendauer von (102,4 - 34,4) ms = 68 ms auf "low".
Die Addiereinheit stellt das Additionssignal vorzugsweise mit der internen Takt frequenz fl bereit.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Modulationsvorrichtung ist der Sig nalteiler zum Erzeugen des ersten Teilsignals und des zweiten Teilsignals in Ab hängigkeit eines vorbestimmten Verhältnisses K = L/M eingerichtet, wobei ins besondere K £ 1, vorzugsweise K £ 0,5, weiter bevorzugt K £ 1/3 ist.
Das Verhältnis K ist das Verhältnis der Anzahl niederwertiger Bits zur Anzahl höherwertiger Bits, in die das Eingangssignal aufgeteilt wird. Bei K = 1 ist die Anzahl höherwertiger und niederwertiger Bits gleich, also beispielsweise N =16, M = 8, L = 8. Vorteilhaft ist M = 2 · L, also beispielsweise N = 12, M = 8, L = 4, oder auch M = 3 · L, beispielsweise N = 32, M = 24, L = 8.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Modulationsvorrichtung weist das Eingangssignal eine Breite N von 4 - 64 Bit, bevorzugt von 6 - 32 Bit, weiter be vorzugt von 8 - 16 Bit auf.
Je höher die Auflösung des Eingangssignals ist, umso genauer lassen sich Unter schiede einer bestimmten Größe darstellen. Allerdings ist eine Signalverarbei tung von sehr hochaufgelösten Signalen aufwändiger, als bei weniger aufgelösten Signalen. Bei der Modulationsvorrichtung ist beispielsweise ein Kompromiss zwischen hoher Auflösung und kurzer Periodendauer der Pulsweitenmodulation einzugehen, wie vorstehend dargelegt.
Gemäß einem zweiten Aspekt wird eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern ei nes Aktuators in Abhängigkeit eines Eingangssignals vorgeschlagen. Die An steuervorrichtung umfasst eine Modulationsvorrichtung gemäß dem ersten As pekt zum Erzeugen eines Modulationssignals in Abhängigkeit des Eingangssig nals, eine Verstärker-Einheit zum Erzeugen eines verstärkten Signals in Abhän gigkeit des Modulationssignals, und eine Filtereinheit zum Filtern des verstärk ten Signals und zum Ausgeben des gefilterten Signals zum Ansteuern des Aktua tors.
Diese Ansteuervorrichtung weist den Vorteil auf, dass aufgrund der Erzeugung des Modulationssignals mit der Modulationsvorrichtung gemäß dem ersten As pekt die Filtereinheit vereinfacht ausgestaltet werden kann, im Vergleich zu ei ner herkömmlichen Vorrichtung, die das Eingangssignal in eine Pulsweitenmo dulation moduliert. Im Vergleich zu einer Vorrichtung, die eine reine Puls- dichtemodulation verwendet, ist der Vorteil, dass der Einschaltzeitpunkt be kannt ist und eine Schalthäufigkeit konstant ist. Damit kann eine Verlustleis tung in dem Verstärker reduziert werden und ein Abstrahlen von elektromagne tischer Strahlung aufgrund sehr hoher Schaltfrequenzen, die bei einer Puls dichtemodulation auftreten können, kann vermieden oder durch gezielte Maß nahmen unterdrückt werden. Durch die Verwendung der hybriden Pulsweiten modulation lassen sich damit die Vorteile der Pulsweitenmodulation und der Pulsdichtemodulation vereinen und deren jeweiligen Nachteile zumindest teil weise vermeiden.
Gemäß einer Ausführungsform der Ansteuervorrichtung umfasst diese eine erste Einheit zum Erzeugen des N Bit breiten Eingangssignals in Abhängigkeit eines Ansteuersignals, wobei die erste Einheit vorzugsweise zum Erzeugen des Ein gangssignals in Abhängigkeit einer Hochspannungs-Rückkopplung einer Span nungsversorgung der Verstärker-Einheit und/oder einer Ansteuerspannungs- Rückkopplung des gefilterten Signals eingerichtet ist.
Die erste Einheit ist beispielsweise als ein Analog-Digital- Wandler (A/D- Wandler) ausgebildet und dazu eingerichtet, ein analoges Ansteuersignal abzu tasten und das Eingangssignal daraus zu erzeugen. Das analoge Ansteuersignal kann beispielsweise ein Regelsignal sein, beispielsweise einer Nachführ einrich- tung. Das Ansteuersignal kann aber auch bereits ein digitales Signal sein, das von der ersten Einheit in das N Bit breite Eingangssignal umgesetzt wird.
In Ausführungsformen der Ansteuervorrichtung kann die erste Einheit zum Er mitteln des Eingangssignals in Abhängigkeit des Ansteuersignals eingerichtet sein. Beispielsweise ist die erste Einheit als ein FPGA, ein Mikrocontroller, und/oder ein Signalprozessor ausgebildet. Beispielsweise ist die erste Einheit zum Anwenden einer mathematischen Operation zum Erzeugen des Eingangs signals eingerichtet. Die mathematische Operation entspricht insbesondere einer Umrechnung, einer Transformation und/oder einer Funktion, deren Ergebnis das Eingangssignal ist.
Durch die Hochspannungs-Rückkopplung der Spannungsversorgung kann die erste Einheit dazu eingerichtet sein, beispielsweise Schwankungen der Span nungsversorgung bei der Erzeugung der Eingangssignals zu berücksichtigen. Unter Hochspannung wird vorliegend jede Spannung verstanden, die höher ist, als die Spannung, mit welcher die Modulationsvorrichtung betrieben wird, bei spielsweise 0 - 5 V. Eine Hochspannung ist damit beispielsweise jede Spannung über 10 V, insbesondere 24 V, 48 V, 100 V, 240 V.
Durch die Ansteuerspannungs-Rückkopplung kann die erste Einheit dazu einge richtet sein, das Eingangssignal in Abhängigkeit von Eigenschaften der Fil tereinheit, wie beispielsweise deren Trägheit, und/oder in Abhängigkeit von Ei genschaften des angesteuerten Aktuators, zu erzeugen. Insbesondere kann bei sehr schnellen Änderungen des Ansteuersignals die erste Einheit das Eingangs signal mittels einem Overdrive erzeugen, so dass das gefilterte Signal schneller das Zielniveau erreicht.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Ansteuervorrichtung ist eine Takt frequenz der ersten Einheit größer oder gleich der internen Taktfrequenz fl des Modulationssignals ist. Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Ansteuervorrichtung umfasst die Verstärker -Einheit einen Schaltverstärker, insbesondere eine halbe H-Brücke.
Ein Schaltverstärker kann auch als Class-D oder Klasse-D Verstärker bezeichnet werden. Solche Verstärker weisen diskrete Spannungsstufen oder Spannungsni veaus auf, die ausgegeben werden können. Beispielsweise weisen solche Verstär ker genau zwei Stufen auf, z.B. 0 V und 48 V, oder auch -24 V und +24 V. Die je weiligen Spannungsstufen, die von dem Schaltverstärker ausgegeben werden können, hängen insbesondere von den Spannungsquellen ab, mit denen der Schaltverstärker betrieben wird. Daher lassen sich die Spannungsstufen je nach konkreter Anwendung frei wählen, indem die Spannungsquellen entsprechend gewählt werden. Vorzugsweise ist eines der Spannungsniveaus das Erdpotential. Zwischen den Spannungsstufen liegende Spannungswerte werden als ein Recht ecksignal mit entsprechendem Effektivwert ausgegeben, also durch schnelles Schalten, insbesondere mittels der hybriden Pulsweitenmodulation. Eine an schließende Filterung resultiert in einem Gleichspannungssignal mit dem Effek tivwert, wobei kleinere Schwankungen je nach Filtergüte in dem gefilterten Sig nal noch vorhanden sein können.
Eine halbe H-Brücke entspricht einer Hälfte einer H-Brückenschaltung. Bei spielsweise umfasst diese zwei Schalttransistoren, von denen einer zum Schalten einer ersten Spannungsstufe und der zweiten zum Schalten einer zweiten Span nungsstufe eingerichtet ist, wobei die Schalttransistoren wechselseitig geschaltet werden, so dass jeweils nur einer eingeschaltet ist. Die Schalttransistoren wer den insbesondere in Abhängigkeit des Pulsweitenmodulationssignals der Modu lationsvorrichtung geschaltet.
Es sei angemerkt, dass die Verstärker-Einheit auch eine volle Brückenschaltung oder H-Brücke aufweisen kann.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Ansteuervorrichtung umfasst die Filtereinheit zumindest eine Induktivität, einen Widerstand und/oder eine Kapa zität.
Die Filtereinheit bildet einen Tiefpass-Filter, welcher das verstärkte Signal zeit lich glättet. Vorzugsweise entspricht das gefilterte Signal einem zeitlichen Mit telwert des verstärkten Signals. Die Filtereinheit kann insbesondere als mehr stufiger Filter ausgebildet sein und sowohl Induktivitäten als auch Kapazitäten aufweisen. Die Filtereinheit ist vorzugsweise dazu eingerichtet, das verstärkte Signal so zu filtern, dass ein verbleibender Wechselstromanteil in dem gefilterten Signal kleiner als 0, 1 % der Amplitude ist. Die Filtereinbeit kann auch als De modulator bezeichnet werden.
Vorzugsweise ist die Filtereinheit wenigstens als ein Filter zweiter Ordnung ausgebildet. Weiter bevorzugt ist die Filtereinheit als ein Filter höherer Ord nung, insbesondere vierter Ordnung, ausgebildet. Höhere Filterordnungen kön nen beispielsweise durch eine Kaskade von Filtern niedrigerer Ordnung reali siert werden. Die Filtereinheit ist dabei insbesondere als ein passives Filter aus gebildet. Die Filtereinheit weist beispielsweise eine Grenzfrequenz aus einem Bereich von 1 kHz - 10 kHz auf. Eine Steilheit der Filtereinheit sowie eine Art der Filtereinheit, insbesondere ob die Filtereinheit als ein Butterworth-Filter, ein Tschebyscheff-Filter, ein Bessel-Filter, ein Sallen-Key-Filter oder anderer Filter typ ausgebildet ist, wird für eine jeweilige Anwendung spezifisch ausgewählt.
Die Filtereinheit filtert das verstärkte Signal vorzugsweise derart, dass eine kleinste in einem Störsignal enthaltene Frequenz fmin nicht kleiner als etwa die Frequenz des Modulationssignals geteilt durch 2L ist, fmin ³ 1/(P* · 2L) = fl/2M+L.
Gemäß einem dritten Aspekt wird ein optisches System mit einer Anzahl an ak- tuierbaren optischen Elementen vor geschlagen. Jedem der aktuierbaren opti schen Elemente der Anzahl ist ein Aktuator zugeordnet und jedem Aktuator ist eine Ansteuervorrichtung zum Ansteuern des Aktuators gemäß dem zweiten As pekt zugeordnet.
Dieses optische System hat den Vorteil, dass die aktuierbaren optischen Elemen te mit der vorteilhaften hybriden Pulsweitenmodulation angesteuert werden.
Das optische System umfasst insbesondere ein Mikrospiegelarray und/oder ein Mikrolinsenarray mit einer Vielzahl an unabhängig voneinander aktuierbaren optischen Elementen.
Gemäß einer Ausführungsform des optischen Systems umfasst dieses eine Mehr zahl aktuierbarer optischer Elemente, wobei ein Schaltzeitpunkt einer jeweiligen Verstärker-Einheit von zumindest zwei Ansteuervorrichtungen, vorzugsweise jedes Paars von Ansteuerungsvorrichtungen, unterschiedlich ist.
Diese Ausführungsform ist besonders vorteilhaft, wenn das optische System viele aktuierbare optische Elemente aufweist. Beispielsweise umfasst das optische System ein Mikrospiegelarray mit 64 x 64 = 1024 Mikrospiegeln, die einzeln ak- tuierbar sind. Jedem Aktuator ist eine Ansteuervorrichtung gemäß dem zweiten Aspekt zugeordnet. Jede der Ansteuervorrichtungen erzeugt damit ein gefiltertes Signal zum Ansteuern des jeweiligen Aktuators in Abhängigkeit des jeweiligen Eingangssignals. Da die Modulationsvorrichtung zum Steuern der Verstärker- Einheit ein Pulsweitenmodulationssignal erzeugt, ist einer von zwei Schaltzeit punkten des Pulsweitenmodulationssignals bekannt, nämlich wenn zu Beginn jeder Periode des Pulsweitenmodulationssignals dieses auf "high" gesetzt wird. Daher lassen sich die Ansteuervorrichtungen der Aktuatoren vorzugsweise so synchronisieren, dass keine zwei Ansteuervorrichtungen den gleichen Perioden beginn aufweisen. Beispielsweise lässt sich eine Periode in dem genannten Bei spiel in 1024 Intervalle unterteilen, und dann der Periodenbeginn jeweils einer Ansteuervorrichtung in eines der Intervalle legen. Damit lässt sich insbesondere die Spannungsquehe, die den oberen Pegel bereitstellt, entlasten, da diese zu ei nem Zeitpunkt jeweils nur einen Einschaltvorgang verkraften muss. Weiterhin ist eine Verlustleistung durch das Umschalten zeitlich auf eine gesamte Periode verteilt, wodurch eine Kühlung der Ansteuervorrichtung vereinfacht werden kann.
In Ausführungsformen lassen sich Gruppen von Ansteuervorrichtungen definie ren, wobei alle Ansteuervorrichtungen einer Gruppe den gleichen Schaltzeit punkt aufweisen, unterschiedliche Gruppen aber jeweils unterschiedliche Schalt zeitpunkte aufweisen.
Gemäß einer Ausführungsform des optischen Systems umfasst ein jeweiliger der Aktuatoren eine kapazitive und/oder eine induktive Last.
In Abhängigkeit der konkreten Ausführungsform der Filtereinheit der Ansteuer vorrichtungen kann eine Verlustleistung, die in einem jeweiligen Aktuator er zeugt wird, reduziert werden, was Vorteile bei der Kühlung des optischen Sys tems bringen kann. Dies kann insbesondere erreicht werden, wenn die Filterein heit einen zu dem Aktuator parallel geschalteten Kondensator aufweist.
Gemäß einem vierten Aspekt wird eine Lithographieanlage mit einem optischen System gemäß dem dritten Aspekt vor geschlagen.
Eine Lithographieanlage umfasst beispielsweise ein Beleuchtungssystem und ein Abbildungssystem. Das Beleuchtungssystem umfasst insbesondere eine Licht quelle und eine Strahlformungsoptik. Das Abbildungssystem umfasst insbeson dere eine abbildende Optik zum Abbilden der Maske auf das Substrat. Das optische System kann sowohl in dem Beleuchtungs System, in der Strahlfor mungsoptik, als auch in dem Abbildungssystem eingesetzt werden. In bevorzug ten Ausführungsformen ist das optische System als ein Mikrolinsenarray oder ein Mikrospiegelarray ausgebildet und dient beispielsweise zur Wellenfrontkor rektur in dem Abbildungssystem.
Die Lithographieanlage ist beispielsweise eine EUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 0, 1 nm bis 30 nm liegt, oder eine DUV-Lithographieanlage, deren Arbeitslicht in einem Wellenlängenbereich von 30 nm bis 250 nm liegt.
Vorzugsweise umfasst die Lithographieanlage zusätzlich ein Messsystem, das zum Erfassen einer Wellenfront eingerichtet ist und das zum Ausgeben eines Korrektursignals zum Korrigieren der Wellenfront mittels des optischen Systems eingerichtet ist. Das Korrektursignal kann insbesondere als das Eingangssignal für die Ansteuervorrichtung dienen.
Gemäß einem fünften Aspekt wird ein Verfahren zum Erzeugen eines 1 Bit brei ten Modulationssignals in Abhängigkeit eines N Bit breiten Eingangssignals vor geschlagen. In einem ersten Schritt wird ein M Bit breites erstes Teilsignal um fassend M höherwertige Bits des Eingangssignals erzeugt. In einem zweiten Schritt wird ein L Bit breites zweites Teilsignal umfassend L niederwertige Bits des Eingangssignals erzeugt, wobei L = N - M gilt. In einem dritten Schritt wird ein 1 Bit breites Pulsdichte-Modulationssignal in Abhängigkeit des zweiten Teil signals erzeugt. In einem vierten Schritt wird ein M Bit breites Additionssignal in Abhängigkeit des ersten Teilsignals und des Pulsdichte-Modulationssignals erzeugt. In einem fünften Schritt wird das 1 Bit breite Modulationssignal in Ab hängigkeit des Additionssignals erzeugt.
Das Verfahren eignet sich insbesondere zum Betreiben der Modulationsvorrich tung gemäß dem ersten Aspekt und es weist die gleichen Vorteile wie dort be schrieben auf.
Die für die Modulationsvorrichtung beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend.
Weiterhin wird ein Computerprogrammprodukt vorgeschlagen, welches eine pro grammgesteuerte Einrichtung dazu veranlasst das vorgeschlagene Verfahren auszuführen. Gemäß einem sechsten Aspekt wird ein Verfahren zum Ansteuern eines opti schen Systems, vorzugsweise gemäß dem dritten Aspekt, umfassend eine Mehr zahl aktuierbarer optischer Elemente vor geschlagen. Jedes der aktuierbaren op tischen Elemente der Mehrzahl wird mittels eines verstärkten, gefilterten und gemäß dem fünften Aspekt erzeugten Modulationssignals angesteuert.
Die für das optische System beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren entsprechend.
In vorteilhaften Ausführungsformen wird das Modulationssignal unterschiedli cher aktuierbarer optischer Elemente derart erzeugt, dass ein Zeitpunkt eines Periodenanfangs von jeweils zwei Modulationssignalen unterschiedlich ist.
Weiterhin wird ein Verfahren zum Betreiben einer Lithographieanlage gemäß dem vierten Aspekt vor geschlagen. Die für die Lithographieanlage beschriebenen Ausführungsformen und Merkmale gelten für das vorgeschlagene Verfahren ent sprechend.
"Ein" ist vorhegend nicht zwingend als beschränkend auf genau ein Element zu verstehen. Vielmehr können auch mehrere Elemente, wie beispielsweise zwei, drei oder mehr, vorgesehen sein. Auch jedes andere hier verwendete Zählwort ist nicht dahingehend zu verstehen, dass eine Beschränkung auf genau die genannte Anzahl von Elementen gegeben ist. Vielmehr sind zahlenmäßige Abweichungen nach oben und nach unten möglich, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist.
Weitere mögliche Implementierungen der Erfindung umfassen auch nicht expli zit genannte Kombinationen von zuvor oder im Folgenden bezüglich der Ausfüh rungsbeispiele beschriebenen Merkmalen oder Ausführungsformen. Dabei wird der Fachmann auch Einzelaspekte als Verbesserungen oder Ergänzungen zu der jeweiligen Grundform der Erfindung hinzufügen.
Weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Aspekte der Erfindung sind Gegen stand der Unteransprüche sowie der im Folgenden beschriebenen Ausführungs beispiele der Erfindung. Im Weiteren wird die Erfindung anhand von bevorzug ten Ausführungsformen unter Bezugnahme auf die beigelegten Figuren näher erläutert.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer ersten Ausführungsform ei ner Modulationsvorrichtung; Fig. 2 zeigt vier Diagramme mit unterschiedlichen Signalen zur Erläuterung der Funktionsweise der Modulationsvorrichtung;
Fig. 3 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer zweiten Ausführungsform einer Modulationsvorrichtung;
Fig. 4 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform einer An steuervorrichtung;
Fig. 5 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines opti schen Systems;
Fig. 6A zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer EUV- Lithographieanlage;
Fig. 6B zeigt eine schematische Ansicht einer Ausführungsform einer DUV- Lithographieanlage; und
Fig. 7 zeigt ein Blockdiagramm eines Ausführungsbeispiels eines Verfahrens zum Erzeugen eines Modulationssignals.
In den Figuren sind gleiche oder funktionsgleiche Elemente mit denselben Be zugszeichen versehen worden, soweit nichts Gegenteiliges angegeben ist. Ferner sollte beachtet werden, dass die Darstellungen in den Figuren nicht notwendi gerweise maßstabsgerecht sind.
Fig. 1 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer ersten Ausführungsform ei ner Modulationsvorrichtung 100. Die Modulationsvorrichtung 100 umfasst einen Signalteiler 110, eine erste Modulationseinheit 120, eine Addiereinheit 130 und eine zweite Modulationseinheit 140. Die Modulationsvorrichtung 100 erzeugt aus einem N Bit breiten Eingangssignal I ein 1 Bit breites Pulsweitenmodulations signal PWM. Ein zeitlicher Mittelwert des Pulsweitenmodulationssignals PWM entspricht dabei insbesondere einem Wert des Eingangssignals I. Die Modulati onsvorrichtung 100 arbeitet dabei mit einer internen Taktfrequenz fl, die bei spielsweise von einem internen Taktgeber erzeugt wird, von außen vorgegeben oder zugeführt wird, und/oder in Abhängigkeit einer von außen vorgegebenen Taktfrequenz erzeugt wird. Die interne Taktfrequenz fl wird vorzugsweise in Abhängigkeit einer maximalen Frequenz des Eingangssignals I gewählt, bei spielsweise wenigstens doppelt so hoch, vorzugsweise zehn Mal so hoch. Eine maximale Frequenz des Eingangssignals I beträgt beispielsweise 1 kHz - 100 kHz, bevorzugt 1 kHz - 20 kHz, weiter bevorzugt 1 kHz - 10 kHz, weiter bevor zugt 5 kHz - 10 kHz.
Der Signalteiler 110 erzeugt aus dem N Bit breiten Eingangssignal I ein erstes Teilsignal Xh, welches M höherwertige Bits des Eingangssignals I umfasst, und ein zweites Teilsignal Xs, welches L = N - M niederwertige Bits des Eingangs signals I umfasst. Bei einem seriellen Eingangssignal I bilden beispielsweise die ersten M Bits eines Worts, die in den ersten M Zyklen eines Übertragungszyklus empfangen werden, das erste Teilsignal Xh, die restlichen L Bits des Worts bil den das zweite Teilsignal XI.
Die erste Modulationseinheit 120 erzeugt aus dem zweiten Teilsignal XI ein Pulsdichte-Modulationssignal PDM. Das Pulsdichte-Modulationssignal PDM hat eine minimale Periodendauer P*= 2M · tl, wenn tl = 1/fl die Periode der internen Taktfrequenz fl ist. Das Pulsdichte-Modulationssignal PDM entspricht einem Signal, das in Abhängigkeit der Werte von N, M und L die Schalthäuligkeit ma ximiert. Dies ist nachfolgend anhand der Fig. 2 im Detail beschrieben.
Die Addiereinheit 130 addiert das 1 Bit breite Pulsdichte-Modulationssignal PDM zu dem M Bit breiten ersten Teilsignal Xh, und gibt ein M Bit breites Addi tionssignal Xs aus. Die Addiereinheit erzeugt das Additionssignal Xs insbesonde re mit der internen Taktfrequenz fl.
Die zweite Modulationseinheit 140 erzeugt in Abhängigkeit des Additionssignals Xs ein Modulationssignal PWM, das einer Pulsweitenmodulation des Additions signals Xs entspricht. Eine Periode P* des Modulationssignals PWM ist dabei kürzer als eine Periode P eines Pulsweiten -Modulationssignals PWM1 (siehe Fig. 2), das auf Basis des N Bit breiten Eingangssignals I bei gleicher interner Takt frequenz fl erzeugt wird, da das Additionssignal Xs nur eine Breite von M = N - L Bit aufweist, aber die gleiche interne Taktfrequenz fl verwendet.
Fig. 2 zeigt vier übereinander angeordnete Diagramme mit unterschiedlichen Signalen zur Erläuterung der Funktionsweise der Modulationsvorrichtung 100 der Fig. l. Alle vier Diagramme haben eine gemeinsame horizontale Zeitachse t (Abszisse). Die vertikale Achse (Ordinate) entspricht jeweils einer Signalhöhe, wobei das oberste Diagramm einen Wertebereich zwischen 0 und 63 (entspre chend den 64 Stufen eines 6 Bit breiten Signals) und die unteren drei Diagram me jeweils nur "0" oder "1" als Wert aufweisen (entsprechend einem 1 Bit Signal). Zur Veranschaulichung des Funktionsprinzips der Modulationsvorrichtung 100 ist in diesem Beispiel N = 6, M = 4, L = 2 gewählt. Das oberste Diagramm zeigt ein digitales, 6 Bit breites Eingangssignal I mit dem Wert 011101, was einem Wert von 29 in Dezimalschreibweise und einem Tast verhältnis einer Pulsweitenmodulation von 45,3% entspricht. Das Eingangssig nal I ist über den gezeigten Zeitabschnitt hinweg konstant.
Das zweite Diagramm von oben zeigt beispielhaft ein Pulsweiten- Modulationssignal PWM1, das bei direkter Umsetzung des 6 Bit breiten Ein gangssignals I mittels eines Pulsweitenmodulators, der eine Auflösung von ge nau 6 Bit aufweist, erzeugt werden würde. Eine Periode P des beispielhaften Pulsweiten-Modulationssignals PWM1 dauert 64 Taktperioden der internen Taktfrequenz fl. Entsprechend dem Prinzip der Pulsweitenmodulation ist das Pulsweiten-Modulationssignal PWM1 die ersten 29 Takte auf "1" und die restli chen 35 Takte auf "0", wodurch das Tastverhältnis von 45,3% erzielt ist.
Das dritte Diagramm von oben zeigt einerseits ein Pulsdichte-Modulationssignal PDM (gestrichelte Linie) und andererseits ein Pulsweiten-Modulationssignal PWM2. Das Pulsweiten-Modulationssignal PWM2 entspricht dem Ergebnis einer Pulsweitenmodulation, wenn das erste Teilsignal Xh umfassend die 4 höherwer tigen Bits (hier also 0111) des Eingangssignals I zugrunde gelegt wird und die Auflösung des Pulsweitenmodulators auf 4 Bit, entsprechend 16 Stufen, bei der gleichen internen Taktfrequenz fl eingestelit wird. Damit dauert eine Periode P* des Pulsweiten-Modulationssignals PWM2 noch 16 Takte und somit nur ein Vier tel der Periode P. Das erste Teilsignal Xh = 0111 entspricht einem Wert von 7, weshalb das Pulsweiten-Modulationssignal PWM1 die ersten 7 Takte auf "1" ist, die restlichen 9 Takte auf "0". Das Tastverhältnis des Pulsweiten- Modulationssignals PWM2 ergibt sich damit zu 43,8%.
Das Pulsdichte-Modulationssignal PDM wird in Abhängigkeit des zweiten Teil signals XI umfassend die 2 niederwertigen Bits (hier also 01) des Eingangssig nals I und mit einer minimalen Periodendauer P* erzeugt. Entsprechend dem Wert XI = 01 ist das Pulsdichte-Modulationssignal PDM in einem Intervall, vor liegend in dem ersten Intervall, einer Periode P auf "1", ansonsten auf "0". In al ternativen Ausführungsformen kann auch das zweite, dritte oder vierte Intervall auf "1" sein. Nach einer Periode P wiederholt sich das Pulsdichte- Modulationssignal PDM, da das Eingangssignal I unverändert ist. Vorzugsweise ist die Modulationsvorrichtung 100 derart ausgebildet, dass sich das Pulsdichte- Modulationssignal PDM nicht innerhalb einer Periode P ändern kann. Dies kann insbesondere dadurch erreicht werden, dass ein Sample-and-Hold Glied das zweite Teilsignal XI für jeweils eine Periode P konstant hält und an die erste Mo dulationseinheit 120 ausgibt.
Das unterste Diagramm (das vierte Diagramm von oben) zeigt ein Modulations signal PWM, wie es von der Modulationsvorrichtung 100 beispielsweise erzeugt wird. Das Modulationssignal PWM entspricht einem Pulsweiten- Modulationssignal, das in Abhängigkeit des Additions sign als Xs erzeugt wird. Das Additionssignal Xs wird insbesondere in jedem internen Taktzyklus in Ab hängigkeit der jeweils aktuellen Werte des ersten Teilsignals Xh und des Puls- dichte-Modulationssignals PDM erzeugt. Vorliegend ist das Additionssignal Xs in den ersten 16 internen Taktzyklen 0111 + 1 = 1000 (entsprechend Dezimal 8, Tastverhältnis 50%) und in den nächsten drei Intervallen von 16 Taktzyklen 0111 + 0 = 0111 (entsprechend Dezimal 7, Tastverhältnis 43,8%). Daher weist das Modulationssignal PWM in der ersten Periode P* umfassend 16 Taktzyklen ein Tastverhältnis von 50% und in den drei darauffolgenden Perioden P* ein Tastverhältnis von 43,8% auf. Gemittelt über vier Perioden P*, die einer Periode P entsprechen, ergibt sich somit ein Tastverhältnis von 45,3%, was genau dem 6 Bit Eingangssignal I = 011101 entspricht.
Aus den Diagrammen wird ersichtlich, dass eine Filtereinheit 230 (siehe Fig. 4), die beispielsweise aus dem Pulsweiten-Modulationssignal PWM1 und dem Modu lationssignal PWM ein Gleichstromsignal mit konstanter Amplitude formt, im Falle des Modulationssignals PWM deutlich einfacher aufgebaut sein kann.
Fig. 3 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer zweiten Ausführungsform einer Modulationsvorrichtung 100. Die Modulationsvorrichtung 100 hat den glei chen Aufbau wie die Modulationsvorrichtung 100, die anhand der Fig. 1 be schrieben wurde. In der Fig. 3 sind zusätzlich eine mögliche Umsetzung der ers ten Modulationseinheit 120 als ein Delta-Sigma-Modulator und der zweiten Mo dulationseinheit 140 mit integriertem Zähler 142 dargestellt.
Die erste Modulationseinheit 120 ist als Delta-Sigma-Modulator ausgebildet und umfasst sechs funktionelle Glieder mit zwei Rückkoppelschleifen. Das zweite Teilsignal XI wird über einen ersten Addierknoten 122 einem ersten Verzöge rungsglied 124 zugeführt. Das Verzögerungsglied 124 verzögert das zugeführte Signal um einen Taktzyklus. Das verzögerte Signal wird über einen zweiten Ad dierknoten 123 einem Komparator 126 zugeführt. Weiterhin ist eine erste Rück koppelschleife vorgesehen, die das dem Komparator 126 zugeführte Signal über ein weiteres Verzögerungsglied 124 dem zweiten Addierknoten 123 zuführt. Der Komparator 126 ist dazu eingerichtet, das zugeführte Signal mit einem vor gegebenen Schwellwert zu vergleichen. Der vorgegebene Schwellwert kann bei spielsweise dem Wert des zweiten Teilsignals XI entsprechen. Der Komparator 126 erzeugt ein 1 Bit breites Ausgangssignal, welches das Pulsdichte- Modulationssignal PDM ist. Der Ausgang des Komparators 126 ist dabei auf "1" oder "high", wenn der Wert des dem Komparator 126 zugeführten Signals größer oder gleich dem Schwellwert ist, und ansonsten "0" oder "low". Der Ausgang des Komparators 126 wird mittels einer zweiten Rückkoppelschleife dem ersten Ad dierknoten 122 negativ zurückgeführt.
In der zweiten Rückkoppelschleife ist ein Multiplikationsglied 128 angeordnet, welches das Ausgangssignal mit einem vorbestimmten Faktor multipliziert. Das Multiplikationsglied 128 weist ein Ausgangssignal auf, das eine Bitbreite hat, die dem Faktor + 1 entspricht. Wenn beispielsweise der Faktor 2 ist, dann ist das Signal nach dem Multiplikationsglied 128 genau 3 Bit breit. Dies liegt daran, dass das Eingangssignal des Multiplikationsglieds 128 immer 1 Bit breit ist. Wenn das Eingangssignal des Multiplikationsglieds 128 "1" oder "high" ist, dann weist das Ausgangssignal des Multiplikationsglieds 128 eine führende "1" auf, wäre also beispielsweise 100 bei 3 Bit Breite. Das Ausgangssignal des Multipli kationsglieds 128 wird mit negativem Vorzeichen dem ersten Addierknoten 122 zugeführt, es wird durch den Addierknoten 122 also von dem zweiten Teilsignal XI abgezogen.
Es sei angemerkt, dass die hier beschriebene Ausführung des Delta-Sigma- Modulators 120 nur beispielhaft ist, und dass die erste Modulationseinheit 120 auch in einer beliebigen anderen Weise ausgebildet sein kann, solange diese die beschriebenen Eigenschaften aufweist.
Das von dem Delta-Sigma-Modulator 120 erzeugte Pulsdichte-Modulationssignal PDM wird wie zuvor beschrieben der Addiereinheit 130 zugeführt, welche das Additionssignal Xs bereitstellt und der zweiten Modulationseinheit 140 zuführt. Die zweite Modulationseinheit 140 umfasst einen Zähler 142, der mit der inter nen Taktfrequenz fl auf 2N zählt. Das Zählersignal wird in einem Komparator 144 mit dem zugführten Additionssignal Xs verglichen. Der Komparator 144 gibt entsprechend das Modulationssignal PWM als ein 1 Bit breites Signal aus.
Fig. 4 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform einer An steuervorrichtung 200 zum Ansteuern eines Aktuators 300. Die Ansteuervorrich tung 200 umfasst eine erste Einheit 210, eine Modulationsvorrichtung 100, bei- spielsweise wie zu den Fig. 1 oder Fig. 3 beschrieben, eine Verstärker-Einheit 220 sowie eine Filtereinheit 230.
Die erste Einheit 210 ist zum Erzeugen des N Bit breiten Eingangssignals I in Abhängigkeit des Ansteuersignals A eingerichtet. Das Ansteuersignal A kann ein digitales oder auch ein analoges Signal sein. Beispielsweise ist das Ansteuersig nal A ein Regelsignal eines Servomotors, welches zeit- und wertkontinuierlich vorliegt. Die erste Einheit 210 kann in Ausführungsformen zudem Eingänge für eine Hochspannungs-Rückkopplung HV oder eine Ansteuerspannungs- Rückkopplung AV aufweisen, und einen jeweiligen Rückkopplungspegel bei der Erzeugung des Eingangssignals I berücksichtigen. Es sei angemerkt, dass die erste Einheit 210 optional ist, insbesondere dann, wenn das Ansteuersignal A bereits eine Form aufweist, die der für das Eingangssignal I erwünschten Form entspricht.
Das Eingangssignal I wird beispielsweise wie vorstehend anhand der Fig. 1 - 3 beschrieben von der Modulationsvorrichtung 100 zum Erzeugen eines Modulati onssignals PWM verarbeitet.
Das Modulationssignal PWM wird der Verstärker-Einheit 220 zugeführt, welche dieses verstärkt und als verstärktes Signal aPWM ausgibt. Die Verstärker- Einheit 220 weist beispielsweise einen Gate-Treiber 221 auf, der zum Schalten der beiden Transistoren 222, 223 eingerichtet ist. Der Gate-Treiber 221 schaltet den oberen Transistor 222 auf leitend und den unteren Transistor 223 auf sper rend, wenn das Modulationssignal PWM auf "1" oder "high" ist. Dann liegt die Mitte zwischen den beiden Transistoren 222, 223, die den Ausgang der Verstär ker-Einheit 220 bildet, auf dem Potential der Spannungsquelle Vcc. Das Potenti al Vcc ist beispielsweise 12 V - 480 V, vorzugsweise 48 V - 240 V, und wird in Abhängigkeit des anzusteuernden Aktuators 300 gewählt. Umgekehrt schaltet der Gate-Treiber 221 den oberen Transistor 222 auf sperrend und den unteren Transistor 223 auf leitend, wenn das Modulationssignal PWM auf "0" oder "low" ist. Dann liegt die Mitte zwischen den beiden Transistoren 222, 223 auf dem dem Erdpotential GND. Weiterhin weist die Verstärker-Einheit 220 jeweils eine Dio de 224 auf.
Es sei angemerkt, dass anstelle des Erdpotentials GND ein beliebiges, durch eine Spannungs quelle bereitgestelltes Potential dienen kann. Vorliegend sind die Transistoren 222, 223 als n-Kanal MOSFETs ausgebildet. Alternativ können die Transistoren 222, 223 auch als p-Kanal MOSFETs, als ein p -Kanal und ein n-Kanal MOSFET, Silizium MOSFETs, GaN FETs, IGBTs und/oder bipolar Transistoren ausgebildet sein.
Die Filtereinheit 230 umfasst insbesondere eine in Reihe zu dem Aktuator 300 geschaltete Induktivität 231, beispielsweise eine Spule, sowie einen Widerstand 232, insbesondere einen ohmschen Widerstand, und eine parallel zu dem Aktua tor 300 geschaltete Kapazität 233, insbesondere einen Kondensator. Die konkrete Auswahl von Werten für die Induktivität 231, den Widerstand 232 oder den Kondensator 233 hängt von dem anzusteuernden Aktuator 300 und den ge wünschten Eigenschaften des gefilterten Signals fPWM ab. Das gefilterte Signal fPWM weist zu einem jeweiligen Zeitpunkt vorzugsweise einen Pegel auf, der prozentual dem Pegel des Eingangssignals I zu dem Zeitpunkt entspricht. Insbe sondere ist der Pegel des gefilterten Signals fPWM über einen Zeitraum einer Periode P* und einer Periode P konstant, sofern der Pegel des Eingangssignals I nicht sich nicht gerade geändert hat.
Es sei angemerkt, dass eine Filtereinheit 230 nicht zwingend alle gezeigten Komponenten aufweisen muss, sondern auch beispielsweise nur eine Induktivi tät 231 und einen Widerstand 232, aber keinen Kondensator 233 aufweist. Wei tere Anordnungen der einzelnen Komponenten sind ebenfalls möglich und wer den vorzugsweise in Abhängigkeit des anzusteuernden Aktuators 300 und den gewünschten Eigenschaften des gefilterten Signals fPWM gewählt.
Als ein Beispiel kann die Frequenz des Eingangssignals I 12 kHz betragen, die interne Taktfrequenz fl der Modulationsvorrichtung 100 beträgt 200 MHz, die Spannungsquelle Vcc der Verstärker-Einheit 220 beträgt 100 V und die Fil tereinheit 230 umfasst eine Induktivität 231 mit 3,3 mH und einen Kondensator 233 mit 2 pF.
Der Ausgang der Filtereinheit 230 ist mit dem anzusteuernden Aktuator 300 verbunden, so dass das gefilterte Signal fPWM diesem als Eingangssignal dient. Der Aktuator 300 kann beispielsweise als ein Piezo-Aktuator ausgebildet sein, dessen lineare Auslenkung proportional zu einer angelegten Spannung ist. Wei tere mögliche Aktuatoren 300 sind elektrische Aktuatoren, magnetische Aktua toren, elektro-magnetische Aktuatoren, thermische Aktuatoren und dergleichen mehr.
Fig. 5 zeigt ein schematisches Blockdiagramm einer Ausführungsform eines opti schen Systems 400 mit einer Mehrzahl an aktuierbaren optischen Elementen 410. Das optische System 400 ist hier als ein Mikrospiegelarray ausgebildet, wo bei die optischen Elemente 410 Mikrospiegel sind. Jeder Mikrospiegel 410 ist mittels eines zugeordneten Aktuators 300 aktuierbar. Beispielsweise kann ein jeweiliger Mikrospiegel 410 mittels des zugeordneten Aktuators 300 um zwei Achse verkippt werden und/oder in einer, zwei, oder drei Raumachsen verscho ben werden. Aus Gründen der Übersicht sind die Bezugszeichen nur der obersten Reihe dieser Elemente eingezeichnet.
Das optische System 400 umfasst eine Korrektureinheit 420, die zum Erzeugen eines Ansteuersignals A oder eines Eingangssignals I für einen jeden der Mikro spiegel 410 eingerichtet ist. Beispielsweise ist das optische System 400 zum Kor rigieren einer Wellenfront von Licht in einer Lithographieanlage 600 A, 600B (siehe Fig. 6A, 6B) eingerichtet, wobei die Korrektureinheit 420 beispielsweise in Abhängigkeit einer gemessenen Form der Wellenfront und einer Soll-Form der Wellenfront eine Sollposition eines jeden der Mikrospiegel 410 ermittelt und ein entsprechendes Ansteuersignal A oder Eingangssignal I ausgibt.
Das jeweilige Ansteuersignal A oder Eingangssignal I wird einer einem jeweili gen Aktuator 300 zugeordneten Ansteuervorrichtung 200 zugeführt. Die Ansteu ervorrichtung 200 steuert mit einem gefilterten, verstärkten Modulationssignal fPWM den jeweiligen Aktuator 300 an. Das gefilterte Signal fPWM wird insbe sondere wie anhand der Fig. 4 beschrieben erzeugt. Damit wird eine Position des jeweiligen Mikrospiegels 410 eingestellt.
Da das Modulationssignal PWM für jeden Aktuator 300 wie vorstehend beschrie ben mittels einer Pulsweitenmodulation erzeugt wird, können die Ansteuervor richtungen 200 untereinander derart synchronisiert werden, dass zu einem je weiligen Zeitpunkt nur genau ein Modulationssignal PWM in die nächste Periode P wechselt, wobei das jeweilige Modulationssignal PWM von "low" auf "high" schaltet. Damit wird insbesondere eine Spannungsquelle Vcc (siehe Fig. 4), die mehrere der Ansteuervorrichtungen 200 betreiben kann, entlastet. Die Span nungsquelle Vcc kann daher einfacher ausgebildet sein.
Fig. 6A zeigt eine schematische Ansicht einer EUV-Lithographieanlage 600A, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 und ein Projektions system 604 umfasst. Dabei steht EUV für„extremes Ultraviolett“ (Engl4 extreme ultraviolet, EUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 0, 1 nm und 30 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 und das Pro jektionssystem 604 sind jeweils in einem nicht gezeigten Vakuum-Gehäuse vor gesehen, wobei jedes Vakuum -Gehäuse mit Hilfe einer nicht dargestellten Eva- kuierungs Vorrichtung evakuiert wird. Die Vakuum -Gehäuse sind von einem nicht dargestellten Maschinenraum umgeben, in welchem Antriebs Vorrichtungen zum mechanischen Verfahren beziehungsweise Einstellen von optischen Elemen ten vorgesehen sind. Ferner können auch elektrische Steuerungen und derglei chen in diesem Maschinenraum vorgesehen sein.
Die EUV-Lithographieanlage 600A weist eine EUV-Lichtquelle 606A auf. Als EUV-Lichtquelle 606A kann beispielsweise eine Plasmaquelle (oder ein Syn chrotron) vorgesehen sein, welche Strahlung 608A im EUV-Bereich (extrem ult ravioletter Bereich), also beispielsweise im Wellenlängenbereich von 5 nm bis 20 nm, aussendet. Im Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 wird die EUV- Strahlung 608A gebündelt und die gewünschte Betriebs Wellenlänge aus der EUV-Strahlung 608A herausgefiltert. Die von der EUV-Lichtquelle 606A erzeug te EUV Strahlung 608A weist eine relativ niedrige Transmissivität durch Luft auf, weshalb die Strahlführungsräume im Strahlformungs- und Beleuchtungs system 602 und im Projektionssystem 604 evakuiert sind.
Das in Fig. 6A dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 weist fünf Spiegel 610, 612, 614, 616, 618 auf. Nach dem Durchgang durch das Strahl formungs- und Beleuchtungssystem 602 wird die EUV-Strahlung 608A auf eine Photomaske (Engl4 reticle) 620 geleitet. Die Photomaske 620 ist ebenfalls als re- flektives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 602, 604 angeordnet sein. Weiter kann die EUV-Strahlung 608A mittels eines Spie gels 622 auf die Photomaske 620 gelenkt werden. Die Photomaske 620 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 604 verkleinert auf einen Wafer 624 oder dergleichen abgebildet wird.
Das Projektionssystem 604 (auch als Projektionsobjektiv bezeichnet) weist fünf Spiegel Ml bis M5 zur Abbildung der Photomaske 620 auf den Wafer 624 auf. Dabei können einzelne Spiegel Ml bis M5 des Projektionssystems 604 symmet risch zu einer optischen Achse 526 des Projektionssystems 504 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Spiegel Ml bis M6 der EUV- Lithographieanlage 600A nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Spiegel Ml bis M5 vorgesehen sein. Des Weite ren sind die Spiegel Ml bis M5 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlfor mung gekrümmt.
Weiterhin umfasst das Projektionssystem 604 ein optisches System 400 mit einer Mehrzahl an aktuierbaren optischen Elementen 410, beispielsweise das anhand der Fig. 5 beschriebene Mikrospiegelarray. Das optische System 400 ist insbe- sondere zur Korrektur von dynamischen Abbildungsfehlern eingerichtet. Das Projektionssystem 604 mit dem optischen System 400 kann als adaptive Optik bezeichnet werden. Damit kann eine Auflösung der Lithographieanlage 600A erhöht sein. Beispielsweise erzeugt eine Korrektureinheit 420 Abhängigkeit von Messwerten der Wellenfront des Projektionslichts ein Eingangssignal I, welches insbesondere für einen jeweiligen Mikrospiegel 410 ein individuelles Signal um fassen kann. Das Eingangssignal I wird von der Ansteuereinheit 200 für ein je weiliges optisches Element 410 in ein verstärktes, gefiltertes Modulationssignal fPWM umgesetzt und an den jeweiligen Aktuator 300 zum Aktuieren des opti schen Elements 410 ausgegeben. Der jeweilige Aktuator 300 aktuiert entspre chend den zugeordnete Mikrospiegel 410. Es sei darauf hingewiesen, dass die An ordnung der Ansteuereinheit 200 innerhalb des Projektionssystem 604 optional ist.
Fig. 6B zeigt eine schematische Ansicht einer DUV-Lithographieanlage 600B, welche ein Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 und ein Projektions system 604 umfasst. Dabei steht DUV für„tiefes Ultraviolett“ (Engl.: deep ultra- violet, DUV) und bezeichnet eine Wellenlänge des Arbeitslichts zwischen 30 nm und 250 nm. Das Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 und das Projek tionssystem 604 können - wie bereits mit Bezug zu Fig. 6A beschrieben - in einem Vakuumgehäuse angeordnet und/oder von einem Maschinenraum mit entspre chenden Antriebsvorrichtungen umgeben sein.
Die DUV-Lithographieanlage 600B weist eine DUV-Lichtquelle 606B auf. Als DUV-Lichtquelle 606B kann beispielsweise ein ArF-Excimerlaser vorgesehen sein, welcher Strahlung 608B im DUV-Bereich bei beispielsweise 193 nm emit tiert.
Das in Fig. 6B dargestellte Strahlformungs- und Beleuchtungssystem 602 leitet die DUV-Strahlung 608B auf eine Photomaske 620. Die Photomaske 620 ist als transmissives optisches Element ausgebildet und kann außerhalb der Systeme 602, 604 angeordnet sein. Die Photomaske 620 weist eine Struktur auf, welche mittels des Projektionssystems 604 verkleinert auf einen Wafer 624 oder derglei chen ab gebildet wird.
Das Projektionssystem 604 weist mehrere Linsen 628 und/oder Spiegel 630 zur Abbildung der Photomaske 620 auf den Wafer 624 auf. Dabei können einzelne Linsen 628 und/oder Spiegel 630 des Projektionssystems 604 symmetrisch zu ei ner optischen Achse 626 des Projektionssystems 604 angeordnet sein. Es sollte beachtet werden, dass die Anzahl der Linsen 628 und Spiegel 630 der DUV- Lithographieanlage 600B nicht auf die dargestellte Anzahl beschränkt ist. Es können auch mehr oder weniger Linsen 628 und/oder Spiegel 630 vorgesehen sein. Des Weiteren sind die Spiegel 630 in der Regel an ihrer Vorderseite zur Strahlformung gekrümmt.
Weiterhin umfasst das Projektionssystem 604 ein optisches System 400 mit einer Mehrzahl an aktuierbaren optischen Elementen 410, beispielsweise ein Mikro- linsenarray, das insbesondere entsprechend dem anhand der Fig. 5 beschriebe nen Mikrospiegelarray aufgebaut sein kann, wobei anstelle der Mikrospiegel Mikrolinsen verwendet werden. Das optische System 400 ist insbesondere zur Korrektur von dynamischen Abbildungsfehlern eingerichtet. Das Projektionssys tem 604 mit dem optischen System 400 kann als adaptive Optik bezeichnet wer den. Damit kann eine Auflösung der Lithographieanlage 600B erhöht sein. Zur Verbesserung der Abbildungsleistung wird vorliegend ein Ansteuersignal A von außen vorgegeben. Das Ansteuersignal A umfasst insbesondere für jede der Mik rolinsen 410 des optischen Systems 400 ein individuelles Signal. Das Ansteuer signal A kann beispielsweise von einer externen Recheneinrichtung erzeugt wer den. Die Ansteuereinheit 200 setzt das in dem Ansteuersignal A für eine jeweili ge Mikrolinse 410 enthaltene Signal in ein verstärktes, gefiltertes Modulations signal fPWM um und gibt dieses an den jeweiligen Aktuator 300 aus. Der jewei lige Aktuator 300 aktuiert entsprechend die zugeordnete Mikrolinse 410.
Ein Luftspalt zwischen der letzten Linse 628 und dem Wafer 624 kann durch ein flüssiges Medium 632 ersetzt sein, welches einen Brechungsindex > 1 aufweist. Das flüssige Medium 632 kann beispielsweise hochreines Wasser sein. Ein sol cher Aufbau wird auch als Immersionslithographie bezeichnet und weist eine erhöhte photolithographische Auflösung auf. Das Medium 632 kann auch als Immersionsflüssigkeit bezeichnet werden.
Fig. 7 zeigt ein schematisches Blockschaltbild einer Ausführungsform eines Ver fahrens zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Modulationssignals PWM aus einem N Bit breiten Eingangssignal I.
In einem ersten Schritt S1 wird ein M Bit breites erstes Teilsignal Xh umfassend M höherwertige Bits des Eingangssignals I erzeugt. In einem zweiten Schritt S2 wird ein L Bit breites zweites Teilsignal XI umfassend L niederwertige Bits des Eingangssignals I erzeugt, wobei L = N - M gilt. In einem dritten Schritt S3 wird ein 1 Bit breites Pulsdichte-Modulationssignal PDM in Abhängigkeit des zweiten Teilsignals XI erzeugt. In einem vierten Schritt S4 wird ein M Bit breites Additi onssignal Xs in Abhängigkeit des ersten Teilsignals Xh und des Pulsdichte- Modulationssignals PDM erzeugt. In einem fünften Schritt S5 wird das 1 Bit breite Modulationssignal PWM in Abhängigkeit des Additionssignals Xs erzeugt.
BEZUGSZEICHENLISTE
100 Modulationsvorrichtung
110 Signalteiler
120 erste Modulationseinheit
122 Addierknoten
123 Addierknoten
124 Verzögerungsglied
126 Komparator
128 Multiplikationsglied
130 Addiereinheit
140 zweite Modulationseinheit
142 Zähler
144 Komparator
200 Ansteuervorrichtung
210 erste Einheit
220 Verstärker-Einheit
221 Gate-Treiber
222 Transistor
223 Transistor
224 Diode
230 Filtereinheit
231 Induktivität
232 Widerstand
233 Kondensator
300 Aktuator
400 optisches System
410 optisches Element
420 Korrektureinheit
600A EUV-Lithographieanlage
600B DUV-Lithographieanlage
602 Strahlform ungs- und Beleuchtungssystem 604 Proj ektionssy stem
606A EUV-Lichtquelle
606B DUV-Lichtquelle
608A EUV-Strahlung
608B DUV-Strahlung
610 Spiegel
612 Spiegel
614 Spiegel 616 Spiegel
618 Spiegel
620 Photomaske
622 Spiegel
624 Wafer
626 ooptische Achse
628 Linse
630 Spiegel
632 Medium aPWM verstärktes Signal
A Ansteuersignal
AV Ansteuerspannungs-Rückkopplung fl interne Taktfrequenz
fPWM gefiltertes Signal
GND Erdpotential
HV Hochspannungs-Rückkopplung
I Eingangssignal
Ml Spiegel
M2 Spiegel
M3 Spiegel
M4 Spiegel
M5 Spiegel
P Periodendauer
P* Periodendauer
PDM Pulsdichte-Modulationssignal
PWM Modulationssignal
PWM1 Pulsweiten-Modulationssignal
PWM2 Pulsweiten-Modulationssignal
S1 Verfahrensschritt
S2 V erfahrene schritt
S3 Verfahrensschritt
S4 Verfahrensschritt
S5 Verfahrensschritt
Vcc Sp annun gs quelle
Xh erstes Teilsignal
XI zweites Teilsignal
Xs Additionssignal

Claims

PATENTANSPRÜCHE
1. Modulationsvorrichtung (100) zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Modulati onssignals (PWM) in Abhängigkeit eines N Bit breiten Eingangssignals (I), mit einem Signalteiler (110) zum Erzeugen eines M Bit breiten ersten Teilsig nals (Xh) umfassend M höherwertige Bits des Eingangssignals (I) und zum Er zeugen eines L Bit breiten zweiten Teilsignals (XI) umfassend L niederwertige Bits des Eingangssignals, wobei L = N - M,
einer ersten Modulationseinheit (120) zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Pulsdichte-Modulationssignals (PDM) in Abhängigkeit des zweiten Teilsignals (XI),
einer Addiereinheit (130) zum Erzeugen eines M Bit breiten Additionssig nals (Xs) in Abhängigkeit des ersten Teilsignals (Xh) und des Pulsdichte- Modulationssignals (PDM), und
mit einer zweiten Modulationseinheit (140) zum Erzeugen des 1 Bit breiten Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit des Additionssignals (Xs).
2. Modulationsvorrichtung gemäß Anspruch 1, gekennzeichnet durch
einen Taktgeber zum Erzeugen einer internen Taktfrequenz fl, wobei die zweite Modulationseinheit (140) zum Erzeugen des Modulationssignals (PWM) mit einer verkürzten Periodendauer p* = 2M · tl, wobei tl = 1/fl, eingerichtet ist.
3. Modulationsvorrichtung gemäß Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Signalteiler (110) zum Erzeugen des ersten Teilsignals (Xh) und des zweiten Teilsignals (XI) in Abhängigkeit eines vorbestimmten Verhältnisses K = L/M eingerichtet ist, insbesondere K £ 1, vorzugsweise K £ 0,5.
4. Modulationsvorrichtung gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch ge kennzeichnet, dass das Eingangssignal (I) eine Breite N von 4 - 64 Bit, bevorzugt von 6 - 32 Bit, weiter bevorzugt von 8 - 16 Bit aufweist.
5. Ansteuervorrichtung (200) zum Ansteuern eines Aktuators (300) in Abhän gigkeit eines Eingangssignals (I), mit
einer Modulationsvorrichtung (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4 zum Erzeugen eines Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit des Eingangs signals (I),
einer Verstärker-Einheit (220) zum Erzeugen eines verstärkten Signals (aPWM) in Abhängigkeit des Modulationssignals (PWM), und einer Filtereinheit (230) zum Filtern des verstärkten Signals (aPWM) und zum Ausgeben des gefilterten Signals (fPWM) zum Ansteuern des Aktuators (300).
6. Ansteuervorrichtung gemäß Anspruch 5, gekennzeichnet durch
eine erste Einheit (210) zum Erzeugen des N Bit breiten Eingangssignals (I) in Abhängigkeit eines Ansteuersignals (A), wobei die erste Einheit (210) vor zugsweise zum Erzeugen des Eingangssignals (I) in Abhängigkeit einer Hoch spannungs-Rückkopplung (HV) einer Spannungsversorgung der Verstärker- Einheit (220) und/oder einer Ansteuerspannungs-Rückkopplung (AV) des gefil terten Signals eingerichtet ist.
7. Ansteuervorrichtung gemäß Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass
eine Taktfrequenz der ersten Einheit (210) größer oder gleich der ersten
Taktfrequenz fl des Modulationssignals (PWM) ist.
8. Ansteuervorrichtung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 7, dadurch gekenn zeichnet, dass
die Verstärker-Einheit (220) einen Schaltverstärker, insbesondere eine hal be H-Brücke, umfasst.
9. Ansteuervorrichtung gemäß einem der Ansprüche 5 bis 8, dadurch gekenn zeichnet, dass
die Filtereinheit (230) zumindest eine Induktivität (231), einen Widerstand (232) und/oder eine Kapazität (233) umfasst.
10. Optisches System (400) mit einer Anzahl an aktuierbaren optischen Ele menten (410), wobei jedem der aktuierbaren optischen Elemente (410) der An zahl ein Aktuator (300) zugeordnet ist, und jedem Aktuator (300) ist eine An steuervorrichtung (200) zum Ansteuern des Aktuators (300) gemäß einem der Ansprüche 5 - 9 zugeordnet.
11. Optisches System (400) gemäß Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass es eine Mehrzahl aktuierbarer optischer Elemente (410) umfasst, wobei ein
Schaltzeitpunkt einer jeweiligen Verstärker -Einheit (220) von zumindest zwei Ansteuervorrichtungen (200), vorzugsweise jedes Paars von Ansteuerungsvor richtungen (200), unterschiedlich ist.
12. Optisches System gemäß Anspruch 10 oder 11, dadurch gekennzeichnet, dass ein jeweiliger der Aktuatoren (300) eine kapazitive und/oder eine induktive Last umfasst.
13. Lithographieanlage (600 A, 600B) umfassend ein optisches System (400) ge- mäß einem der Ansprüche 10 - 12.
14. Verfahren zum Erzeugen eines 1 Bit breiten Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit eines N Bit breiten Eingangssignals (I), mit:
Erzeugen (S1) eines M Bit breiten ersten Teilsignals (Xh) umfassend M höher- wertige Bits des Eingangssignals (I),
Erzeugen (S2) eines L Bit breiten zweiten Teilsignals (XI) umfassend L nieder wertige Bits des Eingangssignals (I), wobei L = N - M,
Erzeugen (S3) eines 1 Bit breiten Pulsdichte-Modulationssignals (PDM) in Ab hängigkeit des zweiten Teilsignals (XI),
Erzeugen (S4) eines M Bit breiten Additionssignals (Xs) in Abhängigkeit des ers ten Teilsignals (Xh) und des Pulsdichte-Modulationssignals (PDM), und
Erzeugen (S5) des 1 Bit breiten Modulationssignals (PWM) in Abhängigkeit des Additionssignals (Xs).
15. Verfahren zum Ansteuern eines optischen Systems (400) umfassend eine
Mehrzahl aktuierbarer optischer Elemente (410), wobei jedes der aktuierbaren optischen Elemente (410) mittels eines verstärkten, gefilterten und gemäß An spruch 14 erzeugten Modulationssignals (PWM) angesteuert wird.
EP20743618.9A 2019-07-31 2020-07-14 Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren Pending EP4005092A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102019211477.6A DE102019211477A1 (de) 2019-07-31 2019-07-31 Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
PCT/EP2020/069899 WO2021018573A1 (de) 2019-07-31 2020-07-14 Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren

Publications (1)

Publication Number Publication Date
EP4005092A1 true EP4005092A1 (de) 2022-06-01

Family

ID=71738106

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP20743618.9A Pending EP4005092A1 (de) 2019-07-31 2020-07-14 Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren

Country Status (5)

Country Link
US (1) US11901948B2 (de)
EP (1) EP4005092A1 (de)
CN (1) CN114223134A (de)
DE (1) DE102019211477A1 (de)
WO (1) WO2021018573A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102020205044A1 (de) 2020-04-21 2021-10-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
CN115426761B (zh) * 2022-09-14 2025-01-28 中国原子能科学研究院 一种回旋加速器优化启动装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018126932A1 (de) * 2017-11-28 2019-05-29 Infineon Technologies Ag Impulsdichtenmodulationsverstellung

Family Cites Families (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2798047B2 (ja) * 1996-03-28 1998-09-17 日本電気株式会社 ディジタル光パワー制御回路
US6172781B1 (en) * 1998-03-18 2001-01-09 Lucent Technologies Inc. Wave division multiplexed optical network
US6424076B1 (en) * 1998-10-07 2002-07-23 The B. F. Goodrich Company Incremental switched deformable mirror
US6735398B1 (en) * 2000-03-15 2004-05-11 Hughes Electronics Corporation Generating methods for single and multi-channel wideband optical analog pulse positioned waveforms
AU2001242576A1 (en) * 2000-03-23 2001-10-03 Marconi Communications Limited Method and apparatus for generating a pulse width modulated signal and optical attenuator controlled by a pulse width modulated signal
US7181146B1 (en) * 2001-01-17 2007-02-20 Optical Communication Products, Inc. Self-adjusting data transmitter
US6940889B2 (en) * 2001-03-15 2005-09-06 Lucent Technologies Inc. Optical pulse source for long haul optical communication systems
US6993459B2 (en) * 2001-07-17 2006-01-31 Tellabs Operations, Inc. Extinction ratio calculation and control of a laser
US7809280B2 (en) * 2002-12-03 2010-10-05 Finisar Corporation Chirp-managed, electroabsorption-modulated laser
US7078964B2 (en) * 2003-10-15 2006-07-18 Texas Instruments Incorporated Detection of DC output levels from a class D amplifier
TWI264179B (en) * 2004-02-17 2006-10-11 Sunplus Technology Co Ltd Circuit and method for pulse width modulation
US7230637B2 (en) * 2004-12-02 2007-06-12 Lexmark International, Inc. Torsion oscillator current control driver
US7746935B2 (en) * 2005-05-13 2010-06-29 Xienetics, Inc. Digital amplifier system for driving a capacitive load
US8229303B1 (en) * 2006-08-07 2012-07-24 Clariphy Communications, Inc. Reducing pulse narrowing in the transmitter signal that drives a limiting E/O converter for optical fiber channels
US8548336B2 (en) * 2011-12-02 2013-10-01 Semtech Corporation Closed loop optical modulation amplitude control
US9300405B2 (en) * 2011-12-02 2016-03-29 Semtech Corporation Closed loop optical modulation amplitude control
CN103701465B (zh) * 2013-12-02 2016-09-21 苏州上声电子有限公司 一种基于多比特△—σ调制的数字扬声器系统实现方法和装置
US9362888B2 (en) * 2014-08-28 2016-06-07 Qualcomm Technologies International, Ltd. Devices and methods for converting digital signals
US20160073465A1 (en) * 2014-09-04 2016-03-10 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Driver circuit with adaptive peaking control
US10256934B2 (en) * 2016-10-11 2019-04-09 Zte Corporation Chirp managed laser generation for next generation passive optical networks
DE102016225899A1 (de) 2016-12-21 2018-06-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Modifizieren von Abbildungseigenschaften eines optischen Systems für die Mikrolithographie
US11777610B2 (en) * 2018-02-07 2023-10-03 Attochron, Llc Method and apparatus for ultra-short pulsed laser communication through a lossy medium
CN115549442A (zh) * 2021-06-30 2022-12-30 意法半导体股份有限公司 电力系统的隔离栅极驱动器设备及对应的电力系统

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102018126932A1 (de) * 2017-11-28 2019-05-29 Infineon Technologies Ag Impulsdichtenmodulationsverstellung

Also Published As

Publication number Publication date
CN114223134A (zh) 2022-03-22
WO2021018573A1 (de) 2021-02-04
US11901948B2 (en) 2024-02-13
US20220149950A1 (en) 2022-05-12
DE102019211477A1 (de) 2021-02-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3341795B1 (de) Sensoranordnung für eine lithographieanlage, lithographieanlage und verfahren zum betreiben einer lithographieanlage
EP3468839B1 (de) Fahrzeugscheinwerfer
US12153353B2 (en) Drive device, optical system and lithography apparatus
DE102022208231B3 (de) Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
WO2021018573A1 (de) Modulationsvorrichtung, ansteuervorrichtung, optisches system, lithographieanlage und verfahren
DE102008048901B4 (de) Integrierte Schaltung mit einer Vielzahl von Multibit-Digital-Analog-Wandlern, Sigma-Delta-Modulatorschaltung und Verfahren zur Kalibrierung einer Vielzahl von Multibit-Digital-Analog-Wandlern
DE102011055301A1 (de) Lichtgranulationsreduktion für Laserprojektionsanzeigen
EP3320401B1 (de) Lithographieanlage und verfahren zum betreiben einer lithographieanlage
WO2009086847A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum projizieren mindestens eines lichtstrahls
DE102007056732A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur effizienten Analog-Zu-Digital-Wandlung
DE102014205579A1 (de) EUV-Lichtquelle für eine Beleuchtungseinrichtung einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102016226082A1 (de) Steuerungsvorrichtung zum ansteuern einer aktuatoreinheit einer lithographieanlage, lithographieanlage mit einer steuerungsvorrichtung und verfahren zum betreiben der steuerungsvorrichtung
DE102014202755A1 (de) Verfahren zur Verlagerung mindestens eines optischen Bauelements
WO2025202291A1 (de) Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
EP2871525A2 (de) Lithografiebelichtungseinrichtung zur lithographischen Belichtung durch ein- oder mehrstufige Laserprojektionseinheiten mit einer oder mehreren Wellenlängen
DE102015209078A1 (de) Sensoranordnung und verfahren zur ermittlung einer jeweiligen position einer anzahl von spiegeln einer lithographieanlage
WO2024240628A2 (de) Verfahren zum betreiben eines festkörperaktuators in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
DE102023207368A1 (de) Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
EP3811153A1 (de) Verfahren und vorrichtung zur belichtung von bildpunkten
DE102013109681A1 (de) Sensorstromschnittstellentransceiver mit adaptiver Linearisierung
EP3949385A2 (de) Kraftfahrzeugscheinwerfer
EP1317692A2 (de) Verfahren zur verbesserung der bildqualität und zur erhöhung der schreibgeschwindigkeit bei belichtung lichtempfindlicher schichten
WO2025242510A1 (de) Verfahren zum betreiben eines festkörperaktuators in einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage, adaptives optisches element und projektionsbelichtungsanlage
WO2025219175A1 (de) Ansteuervorrichtung, optisches system und lithographieanlage
DE10339514A1 (de) Verfahren zur Belichtung eines Substrates

Legal Events

Date Code Title Description
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: UNKNOWN

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE INTERNATIONAL PUBLICATION HAS BEEN MADE

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20220216

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

DAV Request for validation of the european patent (deleted)
DAX Request for extension of the european patent (deleted)
PUAG Search results despatched under rule 164(2) epc together with communication from examining division

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009017

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

17Q First examination report despatched

Effective date: 20250211

B565 Issuance of search results under rule 164(2) epc

Effective date: 20250211

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: H02P 27/08 20060101ALN20250206BHEP

Ipc: H03K 11/00 20060101ALI20250206BHEP

Ipc: H03K 7/08 20060101AFI20250206BHEP