EP3331709A1 - Sicherheitselement mit subwellenlängengitter - Google Patents

Sicherheitselement mit subwellenlängengitter

Info

Publication number
EP3331709A1
EP3331709A1 EP16750612.0A EP16750612A EP3331709A1 EP 3331709 A1 EP3331709 A1 EP 3331709A1 EP 16750612 A EP16750612 A EP 16750612A EP 3331709 A1 EP3331709 A1 EP 3331709A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
security element
grid
line
grating
plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
EP16750612.0A
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP3331709B1 (de
Inventor
Hans Lochbihler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Original Assignee
Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH filed Critical Giesecke and Devrient Currency Technology GmbH
Publication of EP3331709A1 publication Critical patent/EP3331709A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP3331709B1 publication Critical patent/EP3331709B1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29—Securities; Bank notes
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42—BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42D—BOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00—Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/351—Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • G—PHYSICS
    • G07—CHECKING-DEVICES
    • G07D—HANDLING OF COINS OR VALUABLE PAPERS, e.g. TESTING, SORTING BY DENOMINATIONS, COUNTING, DISPENSING, CHANGING OR DEPOSITING
    • G07D7/00—Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency
    • G07D7/003—Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency using security elements
    • G—PHYSICS
    • G07—CHECKING-DEVICES
    • G07D—HANDLING OF COINS OR VALUABLE PAPERS, e.g. TESTING, SORTING BY DENOMINATIONS, COUNTING, DISPENSING, CHANGING OR DEPOSITING
    • G07D7/00—Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency
    • G07D7/06—Testing specially adapted to determine the identity or genuineness of valuable papers or for segregating those which are unacceptable, e.g. banknotes that are alien to a currency using wave or particle radiation
    • G07D7/12—Visible light, infrared or ultraviolet radiation

Definitions

  • the invention relates to a security element for producing documents of value, such as banknotes, checks or the like, comprising: a dielectric substrate, a first periodic line grid structure embedded in the substrate, of a plurality of first grid bars extending along a longitudinal direction and arranged in a first plane, with first therebetween Grid gaps and a second line grid structure of the same period embedded in the substrate from extending along the longitudinal second grating webs with intermediate second grating gaps, wherein the second line grating structure with respect to the first plane above the first line grid structure in a parallel second plane and wherein the second line grid structure for first line grid structure inverted is formed so that in plan view of the first plane, the second grid bars on the first grid gaps and the second grid gaps on the first grid land lie.
  • Security elements with periodic line gratings are known, for example from DE 102009012299 AI, DE 102009012300 AI or
  • One-dimensional periodic gratings may have sub-wavelength color filter characteristics when the grating profile is designed to exhibit resonance effects in the visible wavelength range. These color filter properties depend on the angle of the incident light.
  • DE 3248899 C2 describes a sub-wavelength structure which has angle-dependent color-filtering properties.
  • This lattice has a rectangular shape in cross-section and is vapor-deposited with a high-refraction (HRI) layer, with the following for the refractive indices: nHRi> n 2 and ni «n 2 ⁇ ⁇ 3.
  • HRI high-refraction
  • the angle ⁇ denotes the azimuth angle.
  • the security element marketed under the name DID (“Diffractive Identification Device”) is based on this structure and uses the color filter properties in reflection.A light-absorbing background is required to perceive a color effect.
  • WO 2012/019226 Al also describes embossed subwavelength gratings with a rectangular profile, on the plateaus of which metal particles or metallic nanoparticles are printed. This grating shows color or polarization effects in transmission.
  • subwavelength gratings are known as angle-dependent color filters which have a metallic or semimetallic bi-layer arrangement, for example from DE 102011115589 A1 or from Z.
  • Ye et al “Compact Color Filter and Polarizer of Bilayer Metallic Nanowire Grating Based on Surface Pias - mon Resonances ", Plasmonics, 8, 555-559 (2012), wherein the metallization is realized by vapor deposition and embedded in a dielectric
  • the approach described in DE 102011115589 A1 which discloses a security element with the above mentioned features, is based on an arrangement of two wire meshes of the same period shifted by half a period from each other and made of metallic or semi-metallic (eg 70 nm thick ZnS) wires.
  • This known sub-wavelength structure with an approximately 70 nm thick ZnS coating is suitable as a color filter in reflection. Therefore, the structure must additionally be applied to a light-absorbing substrate in order to achieve a sufficient color contrast, which is then visible in reflection.
  • Sub-wave gratings with metallic coatings show a relatively high color saturation in transmission. Due to the light absorption in the metal, they therefore appear relatively dark.
  • Sinusoidal grids coated with a thin metal film can cause plasmonic resonance effects. These resonances lead to increased transmission in TM polarization, cf. Y. Jourlin et al., "Spatially and polarized resolved plasmon mediated transmission through continuous metal films”; Opt. Express 17, 12155-12166 (2009).
  • This effect can be further optimized by an additional thin dielectric layer, such as T. Tenev et al., "High Plasmonic Resonant Reflection and Transmission on Continuous Metal Films on Undulated Photosensitive Polymer," Plasmonics (2013).
  • the security element described in WO 2012/136777 A1 is based on this optical effect.
  • transmissive security elements are described which are based on subwavelength gratings and a show angle-dependent color.
  • the optical properties of high-index coated sine gratings are discussed in more detail.
  • the invention is therefore based on the object to provide a security element that shows a good color effect when viewed, which changes when tilted.
  • a security element for the production of value documents comprising a dielectric substrate, a first periodic line grid structure embedded in the substrate, of a plurality of longitudinally extending in a longitudinal direction and in a first Level arranged first grid bars with intermediate first grid gaps and embedded in the substrate, a second line grid structure of the same period from along the longitudinal direction extending second grid bars with intermediate second grid gaps, wherein the second line grating structure is located in a parallel second plane with respect to the first plane above the first line grating structure and wherein the second line grating structure is inverted to the first line grating structure such that in plan view of the first plane the second grating webs over the first grating gaps and the lie second grid gaps over the first grid bars, wherein - the security element in transmission view produces a color effect and the grid bars of the first line grid structure and the grid bars of the second line grid structure each consist of a double layer, built up of a layer of high refractive
  • the high refractive index material is preferably dielectric or a semiconductor, e.g. Si, Ge, C.
  • a double-line grid which consists of two-layer superimposed, complementary to each other, ie, mutually shifted line grid structures.
  • a phase shift of 90 ° is the ideal value, which of course can be seen in the context of manufacturing accuracy. Due to manufacturing tolerances deviations from the complementarity, ie 90 ° phase shift, can arise here.
  • a rectangular profile may not be perfectly formed, but may be approximated by a trapezoidal profile whose upper parallel edge is shorter as the bottom one. In the case of a rectangular grid structure, the phase shift corresponds to half a period.
  • the line grid structures are constructed of a combination of a layer of high refractive, dielectric or semi-metallic material with a metallic layer.
  • the thickness of the grid webs is less than the Mödulationstiefe, so as the distance of the planes of the line grid structures, so that forms no closed film. Therefore, the distance between the first and second plane is greater than the sum of (0.5 * first layer thickness) and (0.5 * second layer thickness).
  • the security element can be easily manufactured by a layer construction by first providing a base layer on which the double layer of the first line lattice structure is formed. Then, a dielectric intermediate layer is applied, which covers the first line grid structure and is thicker than the grid bars of the first line grid structure. The displaced second line grid structure can then be formed thereon, and a dielectric cover layer forms the termination of the substrate embedding the line grid structure.
  • a sub-waveguide may be first formed in the dielectric substrate, e.g. B. embossed, which has a rectangular profile in cross section. Coated, z. B.
  • the vertical distance between the first and the second lattice webs ie the modulation depth of the structure
  • the vertical distance measurement refers to the two levels, which can be defined, for example, by the same areas of the first and second line grid structure, ie, for example, on the underside of the grid bars or the top of the grid bars.
  • the vertical distance is of course perpendicular to the " plane to measure, that is, the height difference between rectified surfaces of the grid bars.
  • the security element shows an angle-dependent color filtering when viewed in transmission. This angle dependence is particularly striking when the grid lines are perpendicular to the light incidence plane.
  • the color filter can be used to make motifs multicolored in such a way that they change their color with the twisted position or show different effects when tilting the plane. It is therefore preferred that, in plan view of the plane, at least two regions are provided whose longitudinal directions of the line grid structures are oblique to one another, in particular at right angles. When viewed vertically, a motif can be designed so that when viewed vertically, it has a uniform color and no other structure. If you tilt this security element now, the color of one area, for example the background, changes differently than the color of the other area, for example a motif.
  • each line grid has lattice webs of a double layer
  • Fig. 2a-b the spectral dependence of the reflection and transmission of
  • Security element of FIG. 1 with variation of the modulation depth Fig. 4a-b the spectral dependence of the reflection and transmission of the security element of Fig. 1 with variation of the modulation depth and for a different material combination than in Fig. 3a-b
  • Fig. 5 color values in the LCh color space for reflection and transmission for the security element 1 with variation of a layer density in the double layer and for different viewing angles
  • Fig. 6a-b a CIE-1931 color diagram for reflection and transmission of
  • Fig. 7a-b is a CIE-1931 color chart for reflection and transmission of the
  • Fig. 8a-b is a CIE-1931 color chart for reflection and transmission of the
  • FIGS. 9a-b are views similar to FIGS. 9a-b for a further embodiment of the security element.
  • FIG. 1 shows a sectional view of a security element S which has a double line grid embedded in a substrate, consisting of two line grid structures 2, 6.
  • the substrate comprises a dielectric carrier 1, on the in a dielectric layer, for. B. an embossing lacquer layer, a first line grid structure 2 is incorporated, which is arranged in a plane LI.
  • the first line grid structure 2 consists of first grid bars 3 with the width b, which extend along a longitudinal direction perpendicular to the plane of the drawing. Between the first grid bars 3 there are first grid gaps 4, which have a width a.
  • Each grid web 3 consists of a double layer of high refractive index material 3a of a thickness t4 and metallic material 3b of a thickness t2.
  • the thickness of the first grid bars 3 (measured perpendicular to the plane LI) is thus t2 + t4.
  • a second line lattice structure 6 with second lattice webs 7, likewise made of the double layer of high refractive index material 7a of a thickness t3 and metallic material 7b of a thickness t1 is located in a plane L2.
  • the second grid webs 7 have the width a.
  • the second line grating structure 6 is phase-shifted in the plane L2 relative to the first line grating structure 2 in such a way that the second grate webs 7 come to rest as precisely as possible (within the manufacturing accuracy) over the first grating gaps 4.
  • second grid gaps 8, which exist between the second grid bars 7, lie over the first grid bars 3.
  • the thickness t2 + t4 of the first lattice webs 3 is smaller than the height h, so that no continuous film of the lattice webs 3 and 7 is formed.
  • the height h represents a modulation depth of the grating structures.
  • the modulation depth h i. the difference in height between the first line grating structure 2 and the second line grating structure 6 (corresponding to the spacing of the planes LI and L2) is greater than the sum of the thicknesses of the first grid bars 3 and the second grid bars 7, so that a vertical distance with the Measure h - (t2 + t4) is given between the two line grid structures en 2 and 6.
  • the lattice structure can be considered as an arrangement of two wire meshes having the same profile and spaced apart from each other at the distance h - (t2 + t4).
  • the lattice webs 3, 7 are formed in all embodiments of a double layer of a high-refractive, dielectric or semi-metallic material 3a, 7a and a metallic material 3b, 7b.
  • the high-index material has the refractive index nHRi and is surrounded by dielectrics, namely a dielectric interlayer 5 and a dielectric cover layer 10.
  • the refractive indices of these surrounding materials usually differ very little and are approximately m.
  • the refractive index nHRi of the high refractive index material is above that of the surrounding material, e.g. by at least 0.3 absolutely.
  • the security element S of FIG. 1 reflects incident radiation E as reflected radiation R. Furthermore, a radiation component is transmitted as transmitted radiation T.
  • the reflection and transmission properties depend on the angle of incidence ⁇ , as will be explained below.
  • the production of the security element S can be achieved, for example, by first applying the first line grid structure 2 and then the intermediate layer 5 to the carrier 1.
  • the second line grid structure with the second grid webs 7 can then be introduced into the grid gaps 4 depicted at the top.
  • a cover layer 10 covers the security element.
  • the measures b, a and tl to t4 are in the sub-wavelength range, i. less than 300 nm.
  • the modulation depth h is preferably between 100 nm and 500 nm.
  • a manufacturing method is also possible in which first a rectangular grid is produced on an upper side of the carrier 1.
  • the carrier 1 is thus structured such that trenches of the width a alternate with webs of the width b.
  • the patterned substrate is then vapor-deposited with the desired coating to form the first and second line grids and the first and second line grating structures. After evaporation, the structure is finally covered with a cover layer. This gives a layer structure in which the top and bottom have substantially the same refractive index.
  • the structured substrate can be obtained in various ways.
  • One option is the reproduction with a master.
  • the master mold can now be replicated in UV varnish on film, eg PET film.
  • the substrate 1 as a dielectric material, which has, for example, a refractive index of 1.56.
  • hot stamping methods are also suitable.
  • the master, or even the substrate itself can be fabricated using an e-beam, focused ion beam or interference lithography, writing the structure into a photoresist and then developing it.
  • the structure of a photolithographically produced master can be etched in a subsequent step into a quartz substrate in order to form as vertical as possible edges of the profile.
  • the quartz wafer then serves as a preform and can, for example, in Ormocer, copied or duplicated by galvanic impression.
  • a direct impression of the photolithographically produced original in Ormocer or in nickel in a galvanic process is possible.
  • a motif with different lattice structures can be assembled in a nanoimprint process starting from a homogeneous lattice master.
  • Such manufacturing methods for sub-wavelength grating structures and for motifs consisting of different sub-wavelength structures are known to the person skilled in the art, for. B. from the relevant in this respect fully incorporated here DE 102011115589 AI.
  • the optical properties of the security element are discussed as examples for aluminum and the high-index materials zinc sulfide (ZnS) and titanium dioxide (Ti0 2 ) in the visible wavelength range.
  • n l, 52.
  • the profile geometry of the grid bars rectangular is. In practice occurring small deviations from this ideal rectangular shape, such. As a trapezoidal shape, have no great influence on the visual appearance and lead to similar results as for rectangular grid.
  • tzns 160 nm.
  • the incident light is uhpolarized.
  • Fig. 2a shows on the y-axis the reflection as a function of the wavelength plotted on the x-axis for different angles of incidence, namely 0 °, 15 ° and 30 °.
  • Fig. 2b shows analog transmission.
  • the angle of incidence ⁇ is defined in FIG.
  • the spectral reflection shows two pronounced dips at 404 nm and 672 nm for vertical incidence of light, with the long-wave dip being found as a peak in the transmission spectrum. For increasing angles of incidence, this peak shifts into the long-wave range, and further peaks appear in the transmission spectrum, which have an angle-dependent dispersion.
  • FIGS. 3a and 3b relate to the influence of the modulation depth h on the transmission spectrum.
  • the modulation depth is between 180 nm and
  • 240 nm varies.
  • three peaks are visible, with the two short-wave peaks being significantly influenced by the variation of the modulation depth in their expression.
  • the intensity in the blue peak increases sharply and shifts into the green, while the intensity of the Peaks at the wavelength 560 nm decreases sharply.
  • FIGS. 4a and 4b relate to the influence of the high refractive index material on the diffraction behavior of the grating.
  • the figure shows the transmission spectra of a grating with the parameters of Fig. 3, but a 140 nm thick coating with T1O2 instead of ZnS.
  • the blue component in the spectrum is significantly higher here, since T1O2 has a much lower absorption in the blue.
  • the transmission in the red is higher overall.
  • the transmission or reflection spectra were folded with the emission curve of a D65 standard lamp and the sensitivity of the human eye and the color coordinates X, Y, Z were calculated.
  • the D65 lighting corresponds approximately to daylight.
  • the XYZ coordinates were then converted into the color values LCh.
  • h 210 nm
  • a ZnS layer thickness of about 160 nm leads to a particularly strong change in the chroma in transmission when tilting, ie changing the angle ⁇ .
  • the change in hue increases for increasing thicknesses.
  • FIG. 5 The values of FIG. 5 have been converted into x, y color coordinates and are shown in FIG. 6a, b in the CIE 1931 color space.
  • the white point is marked "WP.”
  • the triangle defines the range of colors that can usually be displayed on screens:
  • Fig. 7a, b shows the CIE 1931 color diagrams in reflection (Fig. 7a) and in Figs
  • Figures 8a and 8b show the x, y color coordinates of a security element similar to that of Figures 7a and 7b but with different lattice parameters.
  • the grating period d 320 nm.
  • the ratio b / d is also 0.5.
  • the green hue in reflection barely changes when tilted. It mainly varies the color saturation. In transmission, on the other hand, the color changes from red to blue with high color saturation.
  • the tilting color in transmission can be selected by changing the lattice parameters, in particular the thickness of the high-index layer and the lattice period.
  • a security feature can be graphically designed so that a subject 15 is not visible when viewed vertically and it only appears when tilted.
  • the grid lines of the area 14 forming the background run vertically, while the grid lines in the area 15 forming the motif are horizontal. If now the security element is tilted around the horizontal axis, the motive appears.
  • There are also other orientations of areas conceivable. By finely graduated oriented areas, for example, running effects in transmission can be generated. For this purpose, reference is made by way of example to DE 102011115589 AI.
  • FIGS. 10 a and b show a motif of a butterfly and the number "12", wherein the square area does not contain any additional protruding coating around the number "12" (area 16 in FIG. 10 b).
  • the security element can serve as a transparent window of banknotes.It can also be partially overprinted in color
  • One or both materials of the bilayer can also be partially removed, for example by laser irradiation with ultrashort pulses, or combined with high refractive transparent holograms, Such holograms can also act as reflection features
  • a portion of the security element S can be on an absorbing surface Underground are so that this part serves only as a reflective feature and forms a contrast to the other part of the security element S, which lies in the field of the see-through window.
  • the security element can serve in particular as a see-through window of banknotes or other documents. It may also be partially overprinted color or the grid areas may be partially demetallized or configured without line grid, so that such an area is completely metallized. Combinations with diffractive grating structures, such as holograms, are also conceivable.

Landscapes

  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Business, Economics & Management (AREA)
  • Accounting & Taxation (AREA)
  • Finance (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Security & Cryptography (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
  • Credit Cards Or The Like (AREA)

Abstract

Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat (1), eine in das Substrat (1) eingebettete erste periodische Liniengitterstruktur (2) aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene (L1) angeordneten ersten Gitterstegen (3) mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken (4) und eine in das Substrat (1) eingebettete zweite Liniengitterstruktur (6) gleicher Periode (d) aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen (7) mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken (8), wobei sich die zweite Liniengitterstruktur (6) bezogen auf die erste Ebene (L1) über der ersten Liniengitterstruktur (2) in einer parallelen zweiten Ebene (L2) befindet und wobei die zweite Liniengitterstruktur (6) zur ersten Liniengitterstruktur (2) invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene (L1) die zweiten Gitterstege (7) über den ersten Gitterlücken (4) und die zweite Gitterlücken (8) über den ersten Gitterstegen (3) liegen, wobei das Sicherheitselement (S) in Transmissionsbetrachtung (T) einen Farbeffekt erzeugt und die Gitterstege (3) der ersten Liniengitterstruktur (2) und die Gitterstege (7) der zweiten Liniengitterstruktur (6) jeweils aus einer Doppelschicht, aufgebaut aus einer Schicht aus hochbrechendem Material (3a, 7a) und einer Schicht aus metallischem Material (3b, 7b), gebildet sind.

Description

S i c h e r h e i t s e l e m e n t m i t
S u b w e l l e n l ä n g e n g i t t e r
Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat, eine in das Substrat eingebettete, erste periodische Liniengitterstruktur aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene angeordneten ersten Gitterstegen mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken und eine in das Substrat eingebettete, zweite Liniengitterstruktur gleicher Periode aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken, wobei sich die zweite Liniengitterstruktur bezogen auf die erste Ebene über der ersten Liniengitterstruktur in einer parallelen zweiten Ebene befindet und wobei die zweite Liniengitterstruktur zur ersten Liniengitterstruktur invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene die zweiten Gitterstege über den ersten Gitterlücken und die zweite Gitterlücken über den ersten Gitterstegen liegen.
Sicherheitselemente mit periodischen Liniengittern sind bekannt, beispielsweise aus der DE 102009012299 AI, DE 102009012300 AI oder der
DE 102009056933 AI. Sie können im Subwellenlängenbereich Farbfiltereigenschaften aufweisen, wenn das Gitterprofil so ausgelegt ist, dass Resonanzeffekte im sichtbaren Spektralbereich auftreten. Solche Farbfiltereigenschaften sind sowohl für reflektierende als auch für transmittierende Subwellen- längenstrukturen bekannt. Diese Strukturen haben einen stark polarisierenden Einfluss auf die Reflexion bzw. die Transmission eines einfallenden Lichtstrahls. Die Farbe ist in Reflexion bzw. Transmission solcher Subwellenlängengitter relativ stark winkelabhängig. Jedoch schwächt sich die Farbsät- tigung für diese Gitter deutlich ab, wenn das einfallende Licht unpolarisiert ist.
Eindimensional periodische Gitter können Farbfiltereigenschaften im Sub- Wellenlängenbereich aufweisen, wenn das Gitterprofil so ausgelegt ist, dass Resonanzeffekte im sichtbaren Wellenlängenbereich auftreten. Diese Farbfiltereigenschaften hängen vom Winkel des einfallenden Lichtes ab.
In der DE 3248899 C2 ist eine Subwellenlängenstruktur beschrieben, welche winkelabhängige farbfilternde Eigenschaften besitzt. Dieses Gitter hat im Querschnitt eine Rechteckform und ist mit einer hochbrechenden (HRI) Schicht bedampft, wobei für die Brechungsindizes gilt: nHRi > n2 und ni« n2« Π3. Eine Farbänderung tritt bei einer Variation des Winkels Θ ein. Wenn das Gitter senkrecht zur Einfallsebene gekippt wird (Θ>0°; Φ=90°), bleibt die Farbe annährend konstant. Der Winkel Φ bezeichnet den Azimutwinkel. Das unter dem Namen DID („Diffractive Identification Device") vermarktete Sicherheitselement basiert auf dieser Struktur und nutzt die Farbfiltereigenschaften in Reflexion. Es ist ein lichtabsorbierender Untergrund erforderlich, um einen Farbeffekt wahrzunehmen.
Die WO 2012/ 019226 AI beschreibt geprägte Subwellenlängengitter ebenfalls mit einem Rechteckprofil, auf dessen Plateaus Metallpartikel bzw. metallische Nanopartikel aufgedruckt sind. Dieses Gitter zeigt Färb- bzw. Polarisationseffekte in Transmission.
Ferner sind Subwellenlängengitter als winkelabhängige Farbfilter bekannt, welche eine metallische bzw. halbmetallische Bi-Layer- Anordnung haben, z.B. aus der DE 102011115589 AI oder aus Z. Ye et al,„Compact Color Filter and Polarizer of Bilayer Metallic Nanowire Gräting Based on Surface Pias- mon Resonances", Plasmonics, 8, 555-559 (2012), wobei die Metallisierung durch Aufdampfen realisiert und in ein Dielektrikum eingebettet ist. Der in DE 102011115589 AI, die ein Sicherheitselement mit den oben genannten Merkmalen offenbart, beschriebene Ansatz basiert auf einer Anordnung von zwei Drahtgittern mit derselben Periode, die zueinander um eine halbe Periode verschoben sind und aus metallischen bzw. halbmetallischen (z.B. 70 nm dicken ZnS) Drähten bestehen.
Diese bekannte Subwellenlängenstruktur mit einer ca. 70 nm dicken ZnS- Beschichtung eignet sich als Farbfilter in Reflexion. Daher muss die Struktur zusätzlich auf einen lichtabsorbierenden Untergrund aufgebracht werden, um einen hinreichenden Farbkontrast zu erzielen, der dann in Reflexion sichtbar ist. Subwellengitter mit metallischen Beschichtungen zeigen eine relativ hohe Farbsättigung in Transmission. Aufgrund der Lichtabsorption im Metall erscheinen sie deshalb relativ dunkel.
Mit einem dünnen Metallfilm überzogene Sinusgitter können plasmonische Resonanzeffekte hervorrufen. Diese Resonanzen führen zu einer erhöhten Transmission in TM-Polarisation, vgl. Y. Jourlin et al.„Spatially and polari- zation resolved plasmon mediated transmission through continuous metal films"; Opt. Express 17, 12155-12166 (2009). Dieser Effekt kann durch eine zusätzliche dünne dielektrische Schicht noch optimiert werden, wie T. Tenev et al.,„High Plasmonic Resonant Reflection and Transmission at Continous Metal Films on Undulated Photosensitive Polymer", Plasmonics (2013) of- fenbart. Das in WO 2012/136777 AI beschriebene Sicherheitselement basiert auf diesem optischen Effekt.
In der WO 2014/033324 A2 werden ebenfalls transmissive Sicherheitselemente beschrieben, welche auf Subwellenlängengittern basieren und eine winkelabhängige Farbe zeigen. Dabei werden die optischen Eigenschaften von hochbrechend beschichteten Sinusgittern näher diskutiert.
Die bekannten zweidimensional periodischen Subwellenlängengitter mit nicht zusammenhängender Oberfläche zeigen zwar Farbfiltereigenschaften, haben jedoch eine große Winkeltoleranz. Ihr Farbton ändert sich daher beim Verkippen kaum.
Der Erfindung liegt deshalb die Aufgabe zugrunde, ein Sicherheitselement anzugeben, das bei Durchsicht einen guten Farbeffekt zeigt, welcher sich beim Verkippen ändert.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß gelöst durch ein Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder derglei- chen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat, eine in das Substrat eingebettete, erste periodische Liniengitterstruk- tur aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene angeordneten ersten Gitterstegen mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken und eine in das Substrat eingebettete, zweite Liniengitterstruktur gleicher Periode aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken, wobei sich die zweite Liniengitterstruktur bezogen auf die erste Ebene über der ersten Liniengitterstruktur in einer parallelen zweiten Ebene befindet und - wobei die zweite Liniengitterstruktur zur ersten Liniengitterstruktur invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene die zweiten Gitterstege über den ersten Gitterlücken und die zweite Gitterlücken über den ersten Gitterstegen liegen, wobei - das Sicherheitselement in Transmissionsbetrachtung einen Farbeffekt erzeugt und die Gitterstege der ersten Liniengitterstruktur und die Gitterstege der zweiten Liniengitterstruktur jeweils aus einer Doppelschicht, aufge- baut aus einer Schicht aus hochbrechendem Material und einer Schicht aus metallischem Material, gebildet sind.
Das hochbrechende Material ist bevorzugt dielektrisch oder ein Halbleiter, z.B. Si, Ge, C.
Erfindungsgemäß wird ein Doppel-Liniengitter verwendet, das aus in zwei Ebenen übereinanderliegenden, komplementär zueinander angeordneten, d.h. gegeneinander verschobenen Liniengitterstrukturen besteht. Eine Phasenverschiebung von 90° ist der Idealwert, welcher natürlich im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit zu sehen ist. Durch Fertigungstoleranzen können hier Abweichungen von der Komplementarität, also 90° Phasenverschiebung, entstehen. Weiter kann ein Rechteckprofil nicht perfekt ausgebildet, sondern durch ein Trapezprofil angenähert sein, dessen obere Parallelkante kürzer ist als die untere. Bei einer im Querschnitt rechteckigen Liniengitterstruktur entspricht die Phasenverschiebung einer halben Periode.
Die Liniengitterstrukturen sind aus einer Kombination einer Schicht aus hochbrechendem, dielektrischem oder halbmetallischem Material mit einer metallischen Schicht aufgebaut. Die Dicke der Gitterstege ist geringer als die Mödulationstiefe, also als der Abstand der Ebenen der Liniengitterstrukturen, so dass sich kein geschlossener Film bildet. Deshalb ist der Abstand von erster und zweiter Ebene größer als die Summe aus (0,5 * erster Schichtdicke) und (0,5 * zweiter Schichtdicke).
Es zeigte sich, dass ein derart aufgebautes Gitter überraschenderweise in Transmissionsbetrachtung reproduzierbare und gut wahrnehmbare Farbeffekte beim Verkippen liefert.
Das Sicherheitselement kann einfach durch einen Schichtaufbau hergestellt werden, indem zuerst eine Grundschicht bereitgestellt wird, auf der die Doppelschicht der ersten Liniengitterstruktur ausgebildet wird. Darauf bringt man eine dielektrische Zwischenschicht auf, die die erste Liniengitterstruktur überdeckt und dicker als die Gitterstege der ersten Liniengitterstruktur ist. Darauf kann dann die verschobene zweite Liniengitterstruktur ausgebildet werden, und eine dielektrische Deckschicht bildet den Abschluss des die Liniengitterstruktur einbettenden Substrates. Alternativ kann auch in dem dielektrischen Substrat zuerst ein Subwellengitter ausgebildet, z. B. geprägt, werden, das ein Rechteckprofil im Querschnitt hat. Beschichtet, z. B. bedampft, man dieses mit den Materialien der Doppelschicht senkrecht, entsteht die Doppelschicht auf den Plateaus und in den Gräben, welche die zweiten und ersten Gitterstege bildet. Man hat damit die gewünschten ersten und zweiten Gitterstege in unterschiedlichen Ebenen. Einen besonders guten Farbeffekt erhält man, wenn der vertikale Abstand zwischen den ersten und den zweiten Gitterstegen, also die Modulationstiefe der Struktur, zwischen 100 nm und 500 nm liegt. Bei der Abstandsmessung bezieht man sich auf die beiden Ebenen, die z.B. durch gleichweisende Flä- chen der ersten und zweiten Liniengitterstruktur definiert werden können, d.h. beispielsweise auf die Unterseite der Gitterstege oder die Oberseite der Gitterstege. Der vertikale Abstand ist dabei selbstverständlich senkrecht zur " Ebene zu messen, bezeichnet also den Höhenunterschied zwischen gleichgerichteten Flächen der Gitterstege.
Als hochbrechendes Material für die Doppelschicht der Gitterstege kommen alle Materialien inf rage, die gegenüber dem umgebenden Substrat, d.h. Material, eine höhere Brechzahl haben, insbesondere um mindestens 0,3 höher. Die Schichtreihenfolge in der Doppelschicht ist unerheblich; sie kann für die erste und die zweite Liniengitterstruktur auch verschieden sein.
Das Sicherheitselement zeigt eine winkelabhängige Farbfilterung bei Betrachtung in Transmission. Diese Winkelabhängigkeit ist besonders markant, wenn die Gitterlinien senkrecht zur Lichteinfallsebene stehen. Die Farbfilte- rung kann dazu verwendet werden, um Motive mehrfarbig so zu gestalten, dass sie mit der Verdrehstellung ihre Farbe ändern bzw. unterschiedliche Effekte beim Verkippen der Ebene zeigen. Es ist deshalb bevorzugt, dass in Draufsicht auf die Ebene mindestens zwei Bereiche vorgesehen sind, deren Längsrichtungen der Liniengitterstrukturen schräg zueinander liegen, insbe- sondere rechtwinklig sind. Bei senkrechter Betrachtung kann ein Motiv so gestaltet werden, dass es bei senkrechter Betrachtung eine einheitliche Farbe und keine weitere Struktur hat. Kippt man dieses Sicherheitselement nun, ändert sich die Farbe des einen Bereichs, beispielsweise des Hintergrundes, anders als die Farbe des anderen Bereichs, beispielsweise eines Motivs. Natürlich sind auch Ausführungsformen mit mehreren unterschiedlich angeordneten Bereichen denkbar. So ist beispielsweise eine Weiterbildung vorgesehen, die mehrere Bereiche im Sicherheitselement aufweist, wobei die Bereiche sich voneinander hinsichtlich der Orientierung der Gitterlinien und/ oder Gitterperiode der Liniengitterstrukturen unterscheiden. Dadurch können Motive mit unterschiedlichen Farbeffekten in Transmissionsbetrachtung hergestellt werden.
Es versteht sich, dass die vorstehend genannten und die nachstehend noch zu erläuternden Merkmale nicht nur in den angegebenen Kombinationen, sondern auch in anderen Kombinationen oder in Alleinstellung einsetzbar sind, ohne den Rahmen der vorliegenden Erfindung zu verlassen.
Nachfolgend wird die Erfindung beispielshalber anhand der beigefügten Zeichnungen, die auch erfindungswesentliche Merkmale offenbaren, noch näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Schnittdarstellung eines Sicherheitselementes mit einem Doppel-Liniengitter, wobei jedes Liniengitter Gitterstege aus einer Doppelschicht aufweist,
Fig. 2a-b die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des
Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels,
Fig. 3a-b die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des
Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation der Modulationstiefe Fig. 4a-b die spektrale Abhängigkeit der Reflexion und Transmission des Sicherheitselements der Fig. 1 bei Variation der Modulationstiefe und für eine andere Materialkombination als in Fig. 3a-b, Fig. 5 Farbwerte im LCh-Farbraum für Reflexion und Transmission für das Sicherheitselement der Fig. 1 bei Variation einer Schichtdichte in der Doppelschicht und für verschiedene Betrachtungswinkel,
Fig. 6a-b ein CIE-1931-Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des
Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation einer Schichtdicke,
Fig. 7a-b ein CIE-1931 -Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des
Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels und für andere Schichtdicken als in Fig. 6a-b,
Fig. 8a-b ein CIE-1931 -Farbdiagramm für Reflexion und Transmission des
Sicherheitselementes der Fig. 1 bei Variation des Betrachtungswinkels und für andere Schichtdicken als in Fig. 7a-b, Fig. 9a-b zwei Draufsichten auf ein Sicherheitselement, das als Motiv mit
Gittern der Fig. 1, aber mit unterschiedlichen Orientierungen der Gitter gebildet ist, und
Fig. lOa-b Darstellungen ähnlich der Fig. 9a-b für eine weitere Ausführungs- form des Sicherheitselementes.
Fig. 1 zeigt in Schnittdarstellung ein Sicherheitselement S, das ein in ein Substrat eingebettetes Doppel-Liniengitter, bestehend aus zwei Liniengitter- strukturen 2, 6 aufweist. Das Substrat umfasst einen dielektrischen Träger 1, auf dem in eine dielektrischen Schicht, z. B. eine Prägelackschicht, eine erste Liniengitterstruktur 2 eingearbeitet ist, die in einer Ebene LI angeordnet ist. Die erste Liniengitterstruktur 2 besteht aus ersten Gitterstegen 3 mit der Breite b, die sich längs einer senkrecht zur Zeichenebene liegenden Längsrich- tung erstrecken. Zwischen den ersten Gitterstegen 3 befinden sich erste Gitterlücken 4, die eine Breite a haben.
Jeder Gittersteg 3 besteht aus einer Doppelschicht aus hochbrechendem Material 3a einer Dicke t4 und metallischem Material 3b einer Dicke t2. Die Di- cke der ersten Gitterstege 3 (gemessen senkrecht zur Ebene LI) beträgt somit t2 + t4. In einer Höhe h über den ersten Gitterstegen 3 befindet sich in einer Ebene L2 eine zweite Liniengitterstruktur 6 mit zweiten Gitterstegen 7, ebenfalls aus der Doppelschicht aus hochbrechendem Material 7a einer Dicke t3 und metallischem Material 7b einer Dicke tl. Die zweiten Gitterstege 7 haben die Breite a. Die zweite Liniengitterstruktur 6 ist in der Ebene L2 so gegenüber der ersten Liniengitterstruktur 2 phasenverschoben, dass die zweiten Gitterstege 7 möglichst exakt (im Rahmen der Fertigungsgenauigkeit) über den ersten Gitterlücken 4 zu liegen kommen. Gleichzeitig liegen zweite Gitterlücken 8, die zwischen den zweiten Gitterstegen 7 bestehen, über den ers- ten Gitterstegen 3.
Die Dicke t2 + t4 der ersten Gitterstege 3 ist kleiner als die Höhe h, so dass kein zusammenhängender Film aus den Gitterstegen 3 und 7 gebildet ist. Die Höhe h stellt eine Modulationstiefe der Gitterstrukturen dar.
In der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 ist die Breite b der ersten Gitterstege 3 gleich der Breite a der zweiten Gitterstege 7. Bezogen auf eine Periode d beträgt somit in jeder Liniengitterstruktur der Füllfaktor 50%. Dies ist jedoch nicht zwingend. Gemäß der Formel b + a = d kann eine beliebige Variation erfolgen.
Auch sind in der schematischen Schnittdarstellung der Fig. 1 die Dicken t2 = t4 und tl = t3 sowie (t2+t4) = (tl+t3). Dies kommt einer einfacheren Herstellung zugute, ist jedoch nicht zwingend erforderlich.
Die Modulationstiefe h, d.h. der Höhenunterschied zwischen der ersten Lini- engitterstruktur 2 und der zweiten Liniengitterstruktur 6 (entsprechend dem Abstand der Ebenen LI und L2), ist größer ist als die Summe der Dicken der ersten Gitterstege 3 und der zweiten Gitterstege 7, so dass ein vertikaler Abstand mit dem Maß h - (t2+t4) zwischen den beiden Liniengitterstruktur en 2 und 6 gegeben ist. Die Gitterstruktur kann als eine Anordnung von zwei Drahtgittern betrachtet werden, die dasselbe Profil haben und sich im Abstand h - (t2+t4) voneinander befinden.
Die Gitterstege 3, 7 sind in allen Ausführungsformen von einer Doppelschicht aus einem hochbrechenden, dielektrischen oder halbmetallischen Material 3a, 7a und einem metallischen Material 3b, 7b gebildet. Das hochbrechende Material hat die Brechungszahl nHRi und ist von Dielektrika, nämlich einer dielektrischen Zwischenschicht 5 und einer dielektrischen Deckschicht 10, umgeben. In der Praxis unterscheiden sich die Brechzahlen dieser umgebenden Materialien meist kaum und sind annähernd m. Die Brechzahl nHRi des hochbrechenden Materials liegt über der/ den des umgebenden Materials, z.B. um mindestens 0,3 absolut.
Das Sicherheitselement S der Fig. 1 reflektiert einfallende Strahlung E als reflektierte Strahlung R. Weiter wird ein Strahlungsanteil als transmittierte Strahlung T durchgelassen. Die Reflexions- und Transmissionseigenschaften hängen vom Einfallswinkel Θ ab, wie nachfolgend noch erläutert werden wird.
Die Herstellung des Sicherheitselementes S kann beispielsweise dadurch er- folgen, dass auf den Träger 1 zuerst die erste Liniengitterstruktur 2 und darauf die Zwischenschicht 5 aufgebracht wird. In die dabei nach oben abgebildeten Gitterlücken 4 kann dann die zweite Liniengitterstruktur mit den zweiten Gitter Stegen 7 eingebracht werden. Eine Deckschicht 10 deckt das Sicherheitselement ab. Die Brechzahlen der Schichten 5 und 10 sowie des Trägers 1 sind in einigen Ausführungsformen im Wesentlichen gleich und können beispielsweise etwa i = 1,5, insbesondere 1,56 betragen.
Die Maße b, a und tl bis t4 sind im Subwellenlängenbereich, d.h. kleiner als 300 nm. Die Modulationstiefe h beträgt bevorzugt zwischen 100 nm und 500 nm.
Es ist auch ein Herstellungsverfahren möglich, bei dem zuerst auf einer Oberseite des Trägers 1 ein Rechteckgitter hergestellt wird. Der Träger 1 wird also so strukturiert, dass Gräben der Breite a sich mit Stegen der Breite b abwechseln. Das strukturierte Substrat wird anschließend mit der gewünschten Beschichtung bedampft, so dass die ersten und zweiten Liniengitter und die ersten und zweiten Liniengitterstrukturen entstehen. Nach der Bedampfung wird schließlich die Struktur mit einer Deckschicht abgedeckt. Man erhält damit einen Schichtaufbau, bei dem die Ober- und Unterseite im Wesentlichen denselben Brechungsindex besitzen.
Das strukturierte Substrat kann auf verschiedene Arten erhalten werden. Eine Option ist die Reproduktion mit einem Master. Der Masterform kann z.B. nun in UV-Lack auf Folie, z.B. PET-Folie, repliziert werden. Man hat dann das Substrat 1 als dielektrisches Material, welches beispielsweise eine Brechzahl von 1,56 aufweist. Alternativ kommen auch Heißprägeverfahren infrage. Der Master oder auch das Substrat selbst kann mithilfe einer e-Beam- Anlage, einem fokussierten Ionenstrahl oder durch Interferenzlithographie hergestellt werden, wobei die Struktur in einen Photolack geschrieben und anschließend entwickelt wird. Die Struktur eines photolithographisch hergestellten Masters kann in einem Folgeschritt in ein Quarzsubstrat geätzt, werden, um möglichst senkrechte Flanken des Profils auszubilden. Der Quarzwafer dient dann als Vorform und kann, z.B. in Ormocer, umkopiert oder durch galvanische Abformung vervielfältigt werden. Ebenso ist eine direkte Abformung des photolithogra- phisch hergestellten Originals in Ormocer bzw. in Nickel in einem galvanischen Verfahren möglich. Auch kann ein Motiv mit verschiedenen Gitterstrukturen in einem Nanoimprint- Verfahren ausgehend von einem homogenen Gittermaster zusammengesetzt werden. Solche Herstellverfahren für Subwellenlängen-Gitterstrukturen und für Motive, bestehend aus unterschiedlichen Subwellenlängenstrukturen, sind dem Fachmann bekannt, z. B. aus der diesbezüglich vollumfänglich hier eingebundenen DE 102011115589 AI. Im Folgenden werden die optischen Eigenschaften des Sicherheitselementes exemplarisch für Aluminium und die hochbrechenden Materialien Zinksulfid (ZnS) und Titandioxid (Ti02) im sichtbaren Wellenlängenbereich diskutiert. Das umgebende Material ist Polymer mit Brechungsindex n=l,52. Ferner wird angenommen, dass die Profilgeometrie der Gitterstege rechteckig ist. In der Praxis vorkommende kleine Abweichungen von dieser idealen Rechteckform, wie z. B. eine Trapezform, haben keinen großen Einfluss auf die optische Erscheinung und führen zu ähnlichen Ergebnissen wie für Rechteckgitter. Fig. 2a und 2b zeigen die spektrale Reflexion (Fig. 2a) sowie die Transmission (Fig. 2b) für ein Gitter mit den Parametern d = 360 nm, h = 220 nm, b = 180 nm, und den Beschichtungen tAi = 30 nm und
tzns = 160 nm. Das einfallende Licht ist uhpolarisiert.
Fig. 2a zeigt auf der y- Achse die Reflexion als Funktion der auf der x- Achse aufgetragenen Wellenlänge für verschiedene Einfallswinkel, nämlich 0°, 15° und 30°. Fig. 2b zeigt analog die Transmission. Der Einfallswinkel Θ ist in Fig. 1 definiert.
Die spektrale Reflexion zeigt für senkrechten Lichteinfall zwei ausgeprägte Dips bei 404 nm bzw. bei 672 nm, wobei sich der langwellige Dip als Peak im Transmissionsspektrum wiederfindet. Für zunehmende Einfallswinkel verschiebt sich dieser Peak in den langwelligen Bereich, und es treten weitere Peaks im Transmissionsspektrum auf, welche eine winkelabhängige Dispersion haben.
Die Figuren 3a und 3b betreffen den Einfluss der Modulationstiefe h auf das Transmissionsspektrum. Die Figur zeigt die Transmission als Funktion der Wellenlänge im Sichtbaren für ein Gitter mit den Beschichtungen tAi = 30 nm und tzns = 140 nm für den senkrechten Lichtfall (Fig. 3a) und für den Einfalls- winkel Θ = 30° (Fig. 3b). Die Modulationstiefe ist zwischen 180 nm und
240 nm variiert. Für den senkrechten Einfall sind drei Peaks erkennbar, wobei die zwei kurzwelligen Peaks durch die Variation der Modulationstiefe in ihrer Ausprägung deutlich beeinflusst werden. Die Intensität im blauen Peak steigt stark an und verschiebt sich ins Grüne, während die Intensität des Peaks bei der Wellenlänge 560 nm stark abnimmt. Für den Einfallswinkel Θ = 30° ist die Lage der Peaks im Sichtbaren nahezu unverändert, wenn die Modulationstiefe h variiert wird. Das Gitter hat die Parameter d = 360 nm, b = 180 nm und die Beschichtung tAi = 30 nm und tzns = 140 nm, eingebettet in ein Dielektrikum mit n = 1,52 und Modulationstiefen h = 180 nm - 240 nm.
Die Figuren 4a und 4b beziehen sich auf den Einfluss des hochbrechenden Materials auf das Beugungsverhalten des Gitters. Die Figur zeigt die Transmissionsspektren eines Gitters mit den Parametern von Fig. 3, jedoch einer 140 nm dicken Beschichtung mit T1O2 anstelle von ZnS. Der Blauanteil im Spektrum ist hier deutlich höher, da T1O2 eine wesentlich geringere Absorption im Blauen hat. Außerdem ist die Transmission im Roten insgesamt höher. Die Resonanz ist in diesem Wellenlängenbereich für Θ = 30° schwächer ausgeprägt, was auch zu einer geringeren Lichtabsorption führt.
Zur Untersuchung der Farbeigenschaften dieser Sicherheitselemente im LCh- Farbraum wurden die Transmissions- bzw. Reflexionsspektren mit der Emissionskurve einer D65-Normlampe und der Empfindlichkeit des menschlichen Auges gefaltet und die Farbkoordinaten X, Y, Z errechnet. Die D65- Beleuchtung entspricht etwa Tageslicht. Die XYZ-Koordinaten wurden anschließend in die Farbwerte LCh umgerechnet. Diese Werte können direkt dem menschlichen Empfinden bei der Farbwahrnehmung eines Betrachters zugeordnet werden:
L*: Helligkeit,
C*: Buntheit (= Farbsättigung) und
h°: Farbton.
Fig. 5 zeigt die LCh-Farbdiagramme eines Sicherheitselements (links in Reflexion und rechts in Transmission) mit den Parametern d = 360 nm,
h = 210 nm, b = 180 nm als Funktion der Dicke t3 = t4 der ZnS-Beschichtung 3a, 7a für die Einfallswinkel 0 = 0° und 30°. Hier zeigt sich, dass eine ZnS- Schichtdicke von ca. 160 nm zu einer besonders starken Änderung der Buntheit in Transmission beim Verkippen, d.h. Ändern des Winkels Θ, führt. Die Änderung des Farbtons wird dagegen für zunehmende Dicken größer.
Die Werte von Fig. 5 wurden in x, y Farbkoordinaten umgerechnet und sind in Fig. 6a, b im CIE-1931 -Farbraum dargestellt. Der Weißpunkt ist mit„WP" gekennzeichnet. Das Dreieck begrenzt den Farbbereich, der üblicherweise mit Bildschirmen dargestellt werden kann. Im Diagramm sind die Farbkoor- dinaten als Trajektorien dargestellt. Der Endpunkt der Dicke tzns = 200 nm ist mit einem punktförmigen Symbol gekennzeichnet. In Reflexion ändert sich der Farbton durch die Variation der Schichtdicke von ZnS. Beim Kippen von 0° auf 30° kommt es zu einer Farbänderung zwischen Gelb und Rot. In Transmission hingegen wird ein relativ großer Bereich des Farbraums durch die Variation der ZnS-Dicke abgedeckt. Während ein Aluminiumgitter gemäß DE 102011115589 AI ohne zusätzliche ZnS-Beschichtung einen Farb- kippeffekt von Gelb nach Magenta zeigen würde, erscheinen bei einem Gitter mit einer 180 nm ZnS-Beschichtung diese Farben nahezu in umgekehrter Reihenfolge.
Die Farbeigenschaften der Reflexion sind in Fig. 7a und das Farbdiagramm der Transmission ist in Fig. 7b dargestellt für ein Sicherheitselement mit den Parametern d = 360 nm, h = 220 nm, b = 180 nm und den Schichtdicken tAi = 30 nm und tzns = 160 nm, eingebettet in ein Dielektrikum mit n = 1,52. Fig. 7a, b zeigt die CIE-1931 -Farbdiagramme in Reflexion (Fig. 7a) und in
Transmission (Fig. 7b), in welche die Farbkoordination als Funktion des Einfallswinkels Θ von 0° bis 30° eingezeichnet ist. Hierbei wurde die Beleuchtung des Sicherheitselementes mit der Schichtreihenfolge von Fig. 1 sowie ein Sicherheitselement mit umgedrehter Schichtreihenfolge, äquivalent mit der Beleuchtung von der Rückseite untersucht. Die Trajektorie der Beleuchtung der Vorderseite ist mit„V", die zugehörige Trajektorie der rückseitigen Beleuchtung ist mir„R" gekennzeichnet. Es sei darauf hingewiesen, dass die Transmission für diese beiden Fälle aufgrund der Reziprozität des Lichtwe- ges identisch ist. In Transmission tritt ein ausgeprägter Farbkippeffekt von Blau nach Grün auf. In der Reflexion ist die Farbänderung wesentlich schwächer. Jedoch ist die reflektierte Farbe der Vorderseite deutlich von der der Rückseite unterscheidbar. Dieser Effekt erhöht zusätzlich die Fälschungssicherheit beim Einsatz solcher Gitterstrukturen als Sicherheitsmerkmal.
Fig. 8a und 8b zeigen die x, y Farbkoordinaten eines Sicherheitselements ähnlich zu dem der Fig. 7a und 7b, jedoch mit anderen Gitterparametern. Die Daten sind ebenfalls in Farbdiagrammen für Reflexion und Transmission als Funktion des Einfallswinkels Θ = 0°- 30° dargestellt. Im Gegensatz zu den Fig. 7a und 7b beträgt hier die Gitterperiode d = 320 nm. Das Verhältnis b/d ist ebenfalls 0,5. Die Schichtdicken sind tAi = 30 nm und tzns = 120 nm. Der grüne Farbton in Reflexion ändert sich beim Kippen kaum. Es variiert in erster Linie die Farbsättigung. In Transmission hingegen ändert sich der Farbton von Rot zu Blau bei hoher Farbsättigung. Hier zeigt sich im Vergleich mit dem Sicherheitselement der Fig. 7, dass durch die Veränderung der Gitterparameter, insbesondere der Dicke der hochbrechenden Schicht sowie der Gitterperiode, die Kippfarbe in Transmission gewählt werden kann.
Aufgrund der Tatsache, dass keine Farbänderung beim Kippen senkrecht zur Einfallsebene auftritt, kann ein Sicherheitsmerkmal so grafisch ausgestaltet werden, dass ein Motiv 15 bei senkrechter Betrachtung nicht zu sehen ist und es erst beim Kippen erscheint. Dies kann so erfolgen, indem zwei Gitterbereiche 14, 15 mit demselben Gitterprofil um 90° verdreht zueinander angeordnet sind. Diese Anordnung ist in Fig. 9a und b gezeigt. Die Gitterlinien des den Hintergrund bildenden Bereichs 14 verlaufen senkrecht, die Gitterlinien im das Motiv bildenden Bereich 15 dagegen horizontal. Wenn nun das Sicherheitselement um die horizontale Achse gekippt wird, erscheint das Motiv. Es sind auch weitere Orientierungen von Bereichen denkbar. Durch fein abgestuft orientierte Bereiche können z.B. auch Laufeffekte in Transmission erzeugt werden. Hierzu wird exemplarisch auf die DE 102011115589 AI verwiesen. Weiter ist es auch möglich, Motive durch Bereiche mit unterschiedlichen Profilen, z. B. Perioden der Gitterstruktur, zu gestalten.
Weiter kann die metallische Schicht bzw. die hochbrechende Schicht nicht vollflächig, sondern nur in bestimmten Gitterbereichen ausgebildet sein. Figuren 10a und b zeigen ein Motiv eines Schmetterlings und der Zahl„12", wobei die quadratische Fläche um die Zahl„12" keine zusätzliche hochbre- chende Beschichtung enthält (Bereich 16 in Fig. 10b). Bei senkrechter Betrachtung sind die Motive Schmetterling und die Zahl„25" nicht zu sehen, jedoch erscheinen die Bereiche 16 und 17 in unterschiedlichen Farben. Beim Kippen erscheint zusätzlich das Motiv. Das Sicherheitselement kann als Durchsichtsfenster von Banknoten dienen. Es kann auch teilweise farblich überdruckt sein. Ein oder beide Materialien der Doppelschicht können auch teilweise, z.B. durch Laserbestrahlung mit ultrakurzen Pulsen, entfernt sein. Weiter ist eine Kombination mit hochbrechenden transparenten Hologrammen möglich. Solche Hologramme können auch als Reflexionsmerkmale wirken. Ein Teil des Sicherheitselements S kann sich auf einem absorbierenden Untergrund befinden, so dass dieser Teil nur als reflektierendes Merkmal dient und einen Kontrast zu dem anderen Teil des Sicherheitselements S bildet, der im Bereich des Durchsichtsfensters liegt. Das Sicherheitselement kann insbesondere als Durchsichtsfenster von Banknoten oder anderen Dokumenten dienen. Es kann auch teilweise farblich überdruckt sein bzw. die Gitterbereiche können bereichsweise demetallisiert sein oder ohne Liniengitter ausgestaltet werden, so dass ein solcher Bereich vollständig metallisiert ist. Es sind auch Kombinationen mit diffraktiven Gitterstrukturen, wie Hologrammen, denkbar.
Bezugszeichenliste
1 Träger bzw. Substrat
2 erste Liniengitterstruktur
3 erster Gittersteg
3a hochbrechendes Material
3b Metall
4 erste Gitterlücke
5 Zwischenschicht
6 zweite Liniengitterstruktur
7 zweiter Gittersteg
7a hochbrechendes Material
7b Metall
8 zweite Gitterlücke
10 Deckschicht
14-17 Bereich
h Modulationstiefe bzw. Höhe tl, t2, t3, t4 Beschichtungsdicke
a, b Steg- bzw. Lückenbreite
d Periode
S Sicherheitselement
LI, L2 Ebene
E einfallende Strahlung
R reflektierte Strahlung
T transmittierte Strahlung
Θ Einfallswinkel

Claims

P a t e n t a n s p r ü c h e
1. Sicherheitselement zur Herstellung von Wertdokumenten, wie Banknoten, Schecks oder dergleichen, das aufweist: ein dielektrisches Substrat (1), eine in das Substrat (1) eingebettete, erste periodische Liniengitter- struktur (2) aus mehreren längs einer Längsrichtung verlaufenden und in einer ersten Ebene (LI) angeordneten ersten Gitterstegen (3) mit dazwischenliegenden ersten Gitterlücken (4) und eine in das Substrat (1) eingebettete, zweite Liniengitterstruktur (6) gleicher Periode (d) aus längs der Längsrichtung verlaufenden zweiten Gitterstegen (7) mit dazwischenliegenden zweiten Gitterlücken (8), wobei sich die zweite Liniengitterstruktur (6) bezogen auf die erste Ebene (LI) über der ersten Liniengitterstruktur (2) in einer parallelen zweiten Ebene (L2) befindet und wobei die zweite Liniengitterstruktur (6) zur ersten Liniengitterstruktur (2) invertiert so ausgebildet ist, dass in Draufsicht auf die erste Ebene (LI) die zweiten Gitterstege (7) über den ersten Gitterlücken (4) und die zweite Gitterlücken (8) über den ersten Gitterstegen (3) liegen, dadurch gekennzeichnet, dass das Sicherheitselement (S) in Transmissionsbetrachtung (T) einen Farbeffekt erzeugt und die Gitterstege (3) der ersten Liniengitterstruktur (2) und die Gitterstege (7) der zweiten Liniengitterstruktur (6) jeweils aus einer Doppelschicht, aufgebaut aus einer Schicht aus hochbrechendem Material (3a, 7a) und einer Schicht aus metallischem Material (3b, 7b), gebildet sind.
2. Sicherheitselement nach Anspruch 1, wobei das hochbrechende Material (3a, 7a) eine Brechzahl hat, die um mindestens 0,3 höher ist als die des umgebenden Substrats (1).
3. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei die Periode (d) von 200 bis 700 nm beträgt.
4. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das hochbrechende Material (3a, 7a) ausgewählt ist aus: Si, Ge, C, ZnS, ZnO, ZnSe, SiNx, SiOx, Cr203, Nb205, Ta205, TixOx und Zr02, und wobei das metallische Material (3b, 7b) ausgewählt ist aus: AI, Ag, Au, Cu, Cr und Legierungen daraus.
5. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei der Ab- stand (h) zwischen den Ebenen (LI, L2) von 100 nm bis 500 nm beträgt.
6. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Sicherheitselement (S) in Draufsicht auf die Ebene (LI) mindestens zwei Bereiche (14, 15) aufweist, deren Perioden (d) sich unterscheiden.
7. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Sicherheitselement in Draufsicht auf die Ebene (LI) mindestens zwei Bereiche (14, 15) aufweist, deren Richtungen der Gitterstege (3, 7) sich unterscheiden, bevorzugt um 90 Grad.
8. Sicherheitselement nach einem der obigen Ansprüche, das als Durchsichtselement, insbesondere als Fensterelement für ein Wertdokument ausgebildet ist.
9. Wertdokument mit einem Sicherheitselement (S) nach einem der obigen Ansprüche, wobei das Wertdokument ein Fenster oder einen zur Betrachtung in Transmission vorgesehenen Bereich aufweist, das/ den das Sicherheitselement (S) überdeckt.
EP16750612.0A 2015-08-06 2016-07-25 Sicherheitselement mit subwellenlängengitter Active EP3331709B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015010191.9A DE102015010191A1 (de) 2015-08-06 2015-08-06 Sicherheitselement mit Subwellenlängengitter
PCT/EP2016/001291 WO2017021000A1 (de) 2015-08-06 2016-07-25 Sicherheitselement mit subwellenlängengitter

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP3331709A1 true EP3331709A1 (de) 2018-06-13
EP3331709B1 EP3331709B1 (de) 2019-09-11

Family

ID=56683882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP16750612.0A Active EP3331709B1 (de) 2015-08-06 2016-07-25 Sicherheitselement mit subwellenlängengitter

Country Status (7)

Country Link
EP (1) EP3331709B1 (de)
JP (1) JP2018528486A (de)
KR (1) KR102511203B1 (de)
CN (1) CN107949484B (de)
CA (1) CA2993901C (de)
DE (1) DE102015010191A1 (de)
WO (1) WO2017021000A1 (de)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016013683A1 (de) 2016-11-16 2018-05-17 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitselement mit Subwellenlängengitter
DE102016013690A1 (de) 2016-11-16 2018-05-17 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitselement mit Subwellenlängengitter
DE102017003532A1 (de) * 2017-04-11 2018-10-11 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitselement und Herstellungsverfahren hierfür
DE102017130588A1 (de) * 2017-12-19 2019-06-19 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Wertdokument
DE102018003603A1 (de) * 2018-05-03 2019-11-07 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Sicherheitselement, Datenträger und Verwendung
DE102018132516A1 (de) * 2018-12-17 2020-06-18 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Im THz-Bereich wirkendes Sicherheitselement und Verfahren zu dessen Herstellung
WO2020175464A1 (ja) 2019-02-26 2020-09-03 凸版印刷株式会社 波長選択フィルタ、波長選択フィルタの製造方法、および、表示装置
FR3095981B1 (fr) 2019-05-13 2021-06-04 Surys Composant optique de sécurité à effet plasmonique, fabrication d’un tel composant et objet sécurisé équipé d’un tel composant
AT523690B1 (de) * 2020-03-16 2022-03-15 Hueck Folien Gmbh Flächiges Sicherheitselement mit optischen Sicherheitsmerkmalen

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4484797A (en) * 1981-07-20 1984-11-27 Rca Corporation Diffractive subtractive color filter responsive to angle of incidence of polychromatic illuminating light
US6243199B1 (en) * 1999-09-07 2001-06-05 Moxtek Broad band wire grid polarizing beam splitter for use in the visible wavelength region
US20060262250A1 (en) * 2005-05-18 2006-11-23 Hobbs Douglas S Microstructured optical device for polarization and wavelength filtering
JP4621270B2 (ja) * 2007-07-13 2011-01-26 キヤノン株式会社 光学フィルタ
DE102009012299A1 (de) 2009-03-11 2010-09-16 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102009012300A1 (de) 2009-03-11 2010-09-16 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit mehrfarbigem Bild
DE102009056933A1 (de) 2009-12-04 2011-06-09 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit Farbfilter, Wertdokument mit so einem solchen Sicherheitselement sowie Herstellungsverfahren eines solchen Sicherheitselementes
US10185065B2 (en) 2010-08-11 2019-01-22 CLL Secure Pty Ltd Optically variable device
FR2973917B1 (fr) 2011-04-08 2014-01-10 Hologram Ind Composant optique de securite a effet transmissif, fabrication d'un tel composant et document securise equipe d'un tel composant
WO2012145677A2 (en) * 2011-04-20 2012-10-26 The Regents Of The University Of Michigan Spectrum filtering for visual displays and imaging having minimal angle dependence
DE102011115589A1 (de) 2011-10-11 2013-04-11 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement
DE102012015900A1 (de) * 2012-08-10 2014-03-06 Giesecke & Devrient Gmbh Sicherheitselement mit farbeffekterzeugendem Gitter
DE102012108169A1 (de) 2012-09-03 2014-05-28 Ovd Kinegram Ag Sicherheitselement sowie Sicherheitsdokument
KR101783133B1 (ko) * 2016-03-14 2017-09-28 고려대학교 산학협력단 높은 색재현성 플라즈모닉 컬러 필터

Also Published As

Publication number Publication date
CA2993901C (en) 2024-11-12
WO2017021000A1 (de) 2017-02-09
EP3331709B1 (de) 2019-09-11
JP2018528486A (ja) 2018-09-27
KR20180037970A (ko) 2018-04-13
KR102511203B1 (ko) 2023-03-16
DE102015010191A1 (de) 2017-02-09
CN107949484A (zh) 2018-04-20
CN107949484B (zh) 2019-08-23
CA2993901A1 (en) 2017-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP3331709B1 (de) Sicherheitselement mit subwellenlängengitter
WO2016012084A1 (de) Sicherheitselement mit subwellenlängengitter
EP2766192B1 (de) Sicherheitselement
EP2710416B1 (de) Zweidimensional periodisches, farbfilterndes gitter
EP2882598B1 (de) Sicherheitselement mit farbeffekterzeugender struktur
EP3233512B1 (de) Optisch variables durchsichtssicherheitselement
EP3174728B1 (de) Sicherheitselement zur herstellung von wertdokumenten
EP2228671B1 (de) Sicherheitselement
DE102009012300A1 (de) Sicherheitselement mit mehrfarbigem Bild
DE102011121588A1 (de) Sicherheitselement für Sicherheitspapiere, Wertdokumente oder dergleichen
EP3317111B1 (de) Sicherheitselement mit farbfilterndem gitter
EP3558691A1 (de) Holographisches sicherheitselement und verfahren zu dessen herstellung
EP2874820A1 (de) Sicherheitselement für sicherheitspapiere, wertdokumente oder dergleichen
EP3727870A1 (de) Sicherheitselement mit zweidimensionaler nanostruktur und herstellverfahren für dieses sicherheitselement
EP3541630B1 (de) Sicherheitselement mit subwellenlängengitter
EP3609718B1 (de) Sicherheitselement und herstellungsverfahren hierfür
EP3542196B1 (de) Sicherheitselement mit subwellenlängengitter
EP3898248B1 (de) Im thz-bereich wirkendes sicherheitselement und verfahren zu dessen herstellung

Legal Events

Date Code Title Description
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE INTERNATIONAL PUBLICATION HAS BEEN MADE

PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: REQUEST FOR EXAMINATION WAS MADE

17P Request for examination filed

Effective date: 20180306

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

AX Request for extension of the european patent

Extension state: BA ME

DAV Request for validation of the european patent (deleted)
DAX Request for extension of the european patent (deleted)
GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20190321

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1177946

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190915

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502016006599

Country of ref document: DE

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: MP

Effective date: 20190911

REG Reference to a national code

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG4D

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191211

Ref country code: BG

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191211

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: RS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20191212

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: PL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20200113

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20200224

Ref country code: CZ

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R097

Ref document number: 502016006599

Country of ref document: DE

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

PG2D Information on lapse in contracting state deleted

Ref country code: IS

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20200112

26N No opposition filed

Effective date: 20200615

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20200731

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200725

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200731

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20200725

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190911

P01 Opt-out of the competence of the unified patent court (upc) registered

Effective date: 20230520

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20250722

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20250724

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20250721

Year of fee payment: 10

Ref country code: FR

Payment date: 20250723

Year of fee payment: 10

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 20250801

Year of fee payment: 10