EP3050125A1 - Photovoltaische solarzelle und verfahren zum herstellen einer metallischen kontaktierung einer photovoltaischen solarzelle - Google Patents

Photovoltaische solarzelle und verfahren zum herstellen einer metallischen kontaktierung einer photovoltaischen solarzelle

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EP3050125A1
EP3050125A1 EP14771893.6A EP14771893A EP3050125A1 EP 3050125 A1 EP3050125 A1 EP 3050125A1 EP 14771893 A EP14771893 A EP 14771893A EP 3050125 A1 EP3050125 A1 EP 3050125A1
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EP
European Patent Office
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layer
diffusion barrier
contacting
barrier layer
solar cell
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP14771893.6A
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English (en)
French (fr)
Inventor
Julia KUMM
Hassan SAMADI
Winfried Wolke
Philip Hartmann
Andreas Wolf
Daniel Biro
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Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
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Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Publication of EP3050125A1 publication Critical patent/EP3050125A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H01L31/02—Details
    • H01L31/02002—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations
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    • H01L31/02008—Arrangements for conducting electric current to or from the device in operations for device characterised by at least one potential jump barrier or surface barrier for solar cells or solar cell modules
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    • H01L31/1868—Passivation
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    • Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
    • Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy

Definitions

  • the invention relates to a photovoltaic solar cell according to the preamble of claim 1 2 and to a method for producing a metallic contacting of a photovoltaic solar cell according to the preamble of claim 1.
  • Typical photovoltaic solar cells have metallization structures for electrically contacting the solar cell, for example for electrical series connection of the solar cell to an adjacent solar cell by means of an electrically conductive cell connector in a solar cell module.
  • the screen printing technology is typically used to form the aforementioned metallic contact structures.
  • metallic contact structures of a plurality of materials, in particular a plurality of metals, and in particular to provide a solder pad designed as a silver layer, which can be electrically conductively connected to a cell connector by means of soldering methods known per se.
  • the present invention is therefore an object of the invention to provide a method for producing a metallic contact of a photovoltaic solar cell and such a photovoltaic solar cell, which allow production on an industrial scale and provide an alternative to the aforementioned Siebdrucktechnolog ie.
  • This object is achieved by a method for producing a metallic contacting of a photovoltaic solar cell according to claim 1 and by a photovoltaic solar cell according to claim 12.
  • Preferably embodiments of the method according to the invention can be found in claims 2 to 1 1;
  • embodiments of the solar cell according to the invention can be found in claims 12 to 1. 5.
  • the wording of all claims is hereby explicitly incorporated by reference into the description.
  • the inventive method is preferably designed to form a photovoltaic solar cell according to the invention, in particular an advantageous embodiment thereof.
  • the photovoltaic solar cell according to the invention is preferably formed by means of the method according to the invention, in particular a preferred embodiment thereof.
  • the method according to the invention for producing a metallic contacting of a photovoltaic solar cell comprises the following method steps:
  • a semiconductor substrate is provided, and in a method step B, an aluminum-containing contact-making layer is applied directly or preferably indirectly to one side of the semiconductor substrate.
  • This contacting layer forms the electrically conductive connection, for example, to solder pads, to cell connectors or to a busbar.
  • the contact layer therefore has a layer resistance of less than 20mOhm.
  • the contact layer is advantageously designed as a rear-side mirror for reflection of the electromagnetic radiation not absorbed in the semiconductor substrate.
  • a diffusion barrier layer which acts as a diffusion barrier at least in relation to aluminum, is applied directly or indirectly directly to the contacting layer.
  • a solderable layer made of a solderable material is applied indirectly or preferably directly to the diffusion barrier layer.
  • the diffusion barrier layer and the bonding layer are each deposited by a PVD method.
  • the present invention is based on the recognition that the use of a physical vapor deposition (PVD) to form the contacting layer of a photovoltaic solar cell offers considerable advantages: PVD AI is able - in contrast to silk-printed AI - to not only To contact doped, but also moderately n-doped silicon with a low contact resistance, which allows the implementation of novel cell concepts, such as n-doped base.
  • PVD AI physical vapor deposition
  • silk-printed AI - to not only To contact doped, but also moderately n-doped silicon with a low contact resistance, which allows the implementation of novel cell concepts, such as n-doped base.
  • thinner wafers save semiconductor material costs and less contact material is needed because of the thinner order (for example 2 ⁇ PVD-AI instead of 20pm SD-AI).
  • a significant advantage is a lower material consumption of the solderable layer, such as a silver layer, since only a very thin layer of silver can be used over the entire surface instead of previously usual much thicker local silver pads or their replacement by NiV.
  • I pli last advantage is also due to the fact that the diffusion barrier by PVD can be generated very reliable dense and therefore the solderable layer is formed so thin only in combination with the applied by PVD diffusion barrier.
  • PVD processes are not used in particular for the formation of an aluminum contacting layer. This is due, inter alia, to the fact that an aluminum-containing contacting layer applied by means of a PVD process can not be electrically conductively connected by means of an ordinary soldering process, for example with a cell connector.
  • the method according to the invention now for the first time offers the possibility of inexpensively using an aluminum-containing contacting layer by means of PVD methods in the production of the metallic contacting structure of a photovoltaic solar cell.
  • a solderable layer is indirectly applied to the contacting layer, so that the solderable layer is connected in an electrically conductive manner to the contacting layer.
  • the solderable Layer can thus be electrically conductively connected by means of a soldering process by means of a method known per se and already industrially tried.
  • the diffusion barrier layer is arranged between the contacting layer and the solderable layer.
  • the diffusion barrier layer is formed such that there is an electrically conductive connection between the solderable layer and the contacting layer, but on the other hand aluminum can not diffuse through the diffusion barrier layer to the solderable layer.
  • both the contacting layer and the diffusion barrier layer are applied by means of a PVD method. This results in the advantage that both layers can be applied together in an uncomplicated manner in terms of apparatus.
  • a particularly simple and thus cost-effective method configuration results in an advantageous embodiment in which the diffusion barrier layer is applied directly on the contacting layer.
  • an advantageous process simplification is achieved in which the solderable layer is applied directly to the diffusion barrier layer.
  • the solderable layer is applied directly to the diffusion barrier layer.
  • Layer and diffusion barrier layer at least one, preferably applied exactly one intermediate layer.
  • This intermediate layer offers the advantage that an increased adhesion between the diffusion barrier layer and the solderable layer can be achieved by the intermediate layer.
  • the intermediate layer is therefore preferably formed as a titanium intermediate layer, more preferably with a thickness in the range of 5 nm to 100 nm, more preferably 10 nm to 30 nm.
  • a further improvement of the method according to the invention and the solar cell according to the invention described below is achieved by introducing oxygen into the diffusion barrier layer.
  • the introduction of oxygen into the diffusion barrier layer has the advantage that the barrier effect of the diffusion barrier layer is increased. This is the case in particular if the barrier layer has grain boundaries, since here oxygen also attaches at least partially along the grain boundaries. If aluminum begins to diffuse into the grain boundaries in a subsequent process step, it encounters the oxygen which typically forms with the aluminum in an oxide. This alumina is a particularly effective barrier to the diffusion of other aluminum and also, in particular, crams the fast diffusion paths along the grain boundaries. As a result, a significantly greater thermal stability of the barrier layer against aluminum diffusion is achieved.
  • the oxygen partially forms oxide compounds with the titanium interlayer so that alloying of the titanium interlayer with the solderable material is reduced.
  • the solderable material is thus contaminated to a lesser extent and to ensure solderability it is sufficient to apply thinner layers of the solderable material. Thus, a material savings in terms of costly solderable material is achieved.
  • an intermediate layer is arranged between the solderable layer and the diffusion barrier layer
  • oxygen is advantageously also introduced into the intermediate layer in a further preferred embodiment.
  • the barrier effect against the solderable material is further increased.
  • an increase in the barrier effect is achieved by initially introducing oxygen into the diffusion barrier layer after application of the diffusion barrier layer and before applying the intermediate layer, and then introducing oxygen into the intermediate layer after application of the intermediate layer in a further, separate process step.
  • oxygen into the diffusion barrier layer is preferably carried out from the gas phase.
  • oxygen can already be introduced into the diffusion barrier layer and / or intermediate layer by the oxygen of the ambient atmosphere. It can thus be achieved by discharging the semiconductor substrate from any process chambers and in contact with ambient air at room temperature, preferably for a period of time in the range 1 min to 24 h, an intrusion of oxygen.
  • the penetration of oxygen takes place in situ in a process chamber in which, after the diffusion barrier layer has been deposited and / or after the intermediate layer has been deposited, oxygen or an oxygen-containing gas mixture is introduced into the process chamber.
  • the above-mentioned object is furthermore achieved by a photovoltaic solar cell according to claim 12.
  • the photovoltaic solar cell according to the invention has a semiconductor substrate and an aluminum-containing contacting layer arranged directly or indirectly on one side of the semiconductor substrate, which is electrically conductively connected to the semiconductor substrate as the contacting layer. It is essential that on the contacting layer directly or indirectly a diffusion barrier layer is arranged, which acts as a diffusion barrier at least to aluminum and that on the contacting layer directly or indirectly a solderable layer is arranged from a solderable material.
  • the contacting layer is electrically conductively connected to the solderable layer.
  • the aluminum-containing contacting layer can be deposited by means of a PVD method.
  • a particularly simple and cost-effective embodiment results in an advantageous embodiment in that the diffusion barrier layer is applied directly on the contacting layer, and the solderable layer is applied directly on the diffusion barrier layer.
  • the diffusion barrier layer comprising one or more of Ti, N, W, O is formed.
  • the diffusion barrier layer is preferably formed as a TiN layer, as a TiW layer or as a TiWN layer. This results in the advantage that both Ti and W and N2 are comparatively readily available and thus favorable (in contrast to Ta, for example). Nevertheless, TiN or TiW; N very effective diffusion barriers against AI even at a temperature step.
  • At least the diffusion barrier layer and the solderable layer are applied in situ.
  • the two abovementioned layers are thus applied in a PVD system, without a discharging of the semiconductor substrate occurring between the application of the two layers.
  • the process time and also the process costs are reduced, since the process atmosphere for both layers has to be produced only once and, moreover, feed-in and discharge processes are saved.
  • the contacting layer is applied by means of a PVD process.
  • the contacting layer, the diffusion barrier layer and the solderable layer are applied in situ. This will continue process time and also process costs will be saved.
  • an annealing step takes place between method step B and method step C.
  • An annealing step is known per se and is presently preferably carried out at temperatures in the range 300 ° C to 450 ° C for a period of time in the range of 2 min to 30 min. This results in the advantage that without an annealing step, the solar cell would have a worse efficiency, since both passivation quality and electrical contact are usually improved by a temperature step.
  • the annealing step thus represents an important boundary condition. Overall, preferably only one annealing step is carried out, but this will preferably take place after Al metallization and, if appropriate, after a contact formation by means of LFC.
  • an annealing step is carried out after method step D.
  • a passivation layer is applied to the semiconductor substrate between method steps A and B in a method step A1.
  • the contacting layer is applied indirectly or preferably directly to the passivation layer, and after method step B, preferably according to method step D, an electrically conductive connection between the contacting layer and the semiconductor substrate is produced at a plurality of local areas.
  • an electrically conductive connection between the contacting layer and the semiconductor substrate is produced at a multiplicity of point-like contacting points, so that a surface passivation of the semiconductor substrate is possible by means of the passivation layer and nevertheless a sufficient electrical conductivity is given due to the plurality of point contacts.
  • it is advantageous to produce the point contacts by means of the LFC method known per se, as described, for example, in DE 1 00461 70 A1.
  • both the passivation layer is opened locally at a plurality of positions, as well as the electrically conductive Connection is generated.
  • the contacting layer or the total stack of contacting layer, diffusion barrier and solderable layer advantageously has the thinnest and most homogeneous possible layer thickness.
  • the proposed layer stack is preferably formed with a total layer thickness of a few meters, preferably less than 5 pm, in particular less than 3 pm, in order to ensure error-free production by means of the LFC method.
  • the deposition with PVD (as opposed to screen printing) and the low total thickness ensure a high homogeneity (or a small absolute layer thickness variation of a maximum of 1 pm, rather less) of the layer, so that the laser parameters are set with low total power and very precise can. Thus, damage to the semiconductor material can be minimized.
  • the laser parameters and / or the material parameters of the selected layers are advantageously selected such that the contacting layer and the semiconductor substrate are locally melted, but the diffusion barrier layer is only slightly, preferably not melted.
  • the local introduction of the material of the contacting layer is reinforced in the semiconductor substrate and reduces penetration of the material of the diffusion barrier layer and the solderable layer in the semiconductor substrate, preferably avoided. Therefore, it is particularly advantageous the use of a diffusion barrier layer having a higher melting point than the melting point of the contacting layer and the
  • Melting point of the semiconductor substrate preferably, a temperature difference of the melting points of at least 500 ° C, preferably at least 1 000 ° C before.
  • titanium nitride as a diffusion barrier layer is particularly advantageous since it has a comparatively high melting point of about 2950 ° C., compared with a melting point of, for example, aluminum as the contacting layer of 660 ° C.
  • the photovoltaic solar cell whose metallic contacting structure is formed by means of the method according to the invention and / or the photovoltaic solar cell according to the invention is preferably designed as a silicon solar cell known per se. It is within the scope of the invention to form typical solar cell structures, with the difference that according to the invention for forming at least one metallic contacting of the photovoltaic solar cell as described above, an aluminum-containing contacting layer, a diffusion barrier layer and a solderable layer is applied, wherein at least diffusion barrier layer and contacting layer are applied by a PVD method.
  • the solar cell according to the invention is advantageous to form as a per se known PERC solar cell, as described, for example, in Blakers et al. , Applied Physics Letters, vol. 55 (1 989) pp. 1363-5 or S. Mack et al. , 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 201 0.
  • the metallic contacting remote from the incident radiation when the solar cell is used is formed.
  • Such contacting is typically referred to as backside contacting.
  • the solar cell according to the invention is preferably designed as a photovoltaic silicon solar cell.
  • the semiconductor substrate is preferably formed as a silicon wafer.
  • Process steps B and C are preferably carried out by means of PVD, particularly preferably in a common process, more preferably in situ. Further preferably, process step D also takes place by means of PVD, in particular in situ with process steps B and C.
  • FIGS 1 to 5 an embodiment of a method according to the invention for producing a metallic contact of a photovoltaic solar cell
  • FIGS. 6 to 8 show an exemplary embodiment of a method according to the invention for producing a metallic contacting of a photovoltaic solar cell which can be contacted on the back side.
  • Figures 1 to 8 show schematic, not to scale partial sections of a solar cell in each stage of the process. The solar cell continues in mirror symmetry to the right and left.
  • FIGS. 1 to 8 the same reference numerals designate the same or similar elements.
  • FIG. 1 shows the exemplary embodiment of the method according to the invention after a method step A, in which a semiconductor substrate 10 designed as a silicon wafer is provided.
  • FIGS. 1 to 5 the front side of the solar cell facing the light incidence during use is shown at the top in each case.
  • the semiconductor substrate 10 has an emitter 3 on the front side. This emitter can be formed by diffusion in the semiconductor substrate 10. It is also possible to mount the emitter 3 as a separate layer on the semiconductor substrate 10.
  • the semiconductor substrate 10 is p-doped as a base and the emitter n-doped. Likewise, a reversal of doping types is within the scope of the invention.
  • a passivating optical antireflection layer 2 Arranged on the emitter 3 is a passivating optical antireflection layer 2, which may be formed as a silicon nitride layer in a manner known per se.
  • a metallic front side contacting is further arranged, which may be formed in a conventional manner as a known comb-like or double-comb-like contacting structure.
  • a metallic front side contacting is further arranged, which may be formed in a conventional manner as a known comb-like or double-comb-like contacting structure.
  • two metallic fingers 1 of the front-side contact running perpendicular to the plane of the drawing are shown.
  • the fingers 1 penetrate the antireflection layer 2 and are connected to the Em iter 3 electrically conductive.
  • a passivation layer 4 is applied over the whole area to the semiconductor substrate 10.
  • the passivation layer is formed by means of PECVD as Al 2 O 3 layer and has a thickness in the range 20 nm to 200 nm, in the present case of about 1 00 nm.
  • the passivation layer can consist entirely or partially of thermally produced SiO 2 and can be wholly or partly applied by means of PECVD as SiN x layer or SiO x layer
  • a contacting layer 5 designed as an aluminum layer is then applied to the passivation layer 4 on the back side over the entire surface thereof.
  • the contacting layer 5 is produced in a PVD process.
  • a diffusion barrier layer 6 formed as a TiN layer is applied, likewise by means of a PVD method.
  • the diffusion barrier layer has a thickness in the range of 20 nm to 300 nm, in the present case of about 00 nm.
  • a thin Ti layer with a thickness in the range 1 nm to 50 nm, in the present case about 25 nm is inserted, which serves as a coupling agent between Ag and TiN.
  • a solderable layer 7 designed as a silver layer is applied covering the entire surface of the diffusion barrier layer 6 as a cover layer, likewise by means of a PVD method.
  • the solderable layer 7 consists of NiV or NiCr, which is optionally protected by a thin Ag layer from oxidation.
  • a Ti adhesion promoter layer can be dispensed with in this embodiment.
  • the local melting produces a point-like electrical contacting, which in particular penetrates the passivation layer 4. Furthermore, in the solidification process, an aluminum-doped high-doping region 9 is locally generated at the contacting points, which lowers the contact resistance and the surface recombination at the contacts and thus further increases the efficiency of the solar cell.
  • the local melting takes place in such a way that a temperature above the melting points of the contacting layer 5 and the semiconductor substrate 10, but below the melting point of the diffusion barrier layer 6, is present.
  • the diffusion barrier layer is thus not or only slightly melted. This enhances the local introduction of the material of the contacting layer into the semiconductor substrate and prevents or at least reduces the penetration of the material of the diffusion barrier layer and of the solderable layer into the semiconductor substrate
  • FIG. 5 likewise shows an exemplary embodiment of a photovoltaic solar cell according to the invention, which has the semiconductor substrate 10 with the contacting layer 5 directly arranged on the rear side as an aluminum layer, which is electrically connected to the semiconductor substrate 10 in a punctiform manner through the passivation layer 4.
  • the diffusion barrier layer 6 is arranged directly, which acts as a diffusion barrier at least with respect to the aluminum.
  • an intermediate adhesion promoter layer, which comprises titanium formed as a silver layer solderable layer 7.
  • the contacting layer 5 is, as described above, on the one hand electrically connected to the semiconductor substrate 1 0 and on the other hand with the solderable layer 7.
  • Figures 6 to 8 show a second embodiment of a method according to the invention.
  • the method according to the invention can be used particularly advantageously for back-contacted solar cells.
  • one or more metallic contacting structures for contacting one or more emitter regions and one or more metallic contacting structures for contacting one or more base regions of the solar cell are arranged on the side facing away from the incident radiation.
  • Rear-contacted solar cells have the advantage that there is no shading of the front side due to metallic contact structures and, moreover, that simpler series connection in a solar cell module is possible.
  • FIG. 6 shows the second exemplary embodiment of the method according to the invention after a method step A, in which a semiconductor substrate 10 designed as a silicon wafer is provided.
  • the semiconductor substrate is n-doped and has an n-doped region on the front side, a so-called front surface field (FSF) 22.
  • FSF front surface field
  • the front side of the photovoltaic solar cell is covered by an antireflection layer 2.
  • Emitter regions 3 p-doped and a plurality of n-doped high doping regions, so-called back surface fields (BSF) 24, are formed on the rear side of the semiconductor substrate 1 0 by means of diffusion of corresponding dopants.
  • BSF back surface fields
  • a passivation layer 4 is applied in a method step A1.
  • the passivation layer 4 was applied over the whole area and opened locally at each emitter region 3 and at each BSF region 24.
  • FIG. 7 shows the state after a process step B, in which a contacting layer 5 formed as an aluminum layer has been applied over the entire area to the rear side.
  • a contacting layer 5 formed as an aluminum layer has been applied over the entire area to the rear side.
  • the aluminum layer penetrates the passivation layer, so that in this process state an electrical contacting of both the emitter regions 3 and the BSF regions 24 is present.
  • a diffusion barrier layer 6 formed as a TiN layer is applied.
  • the diffusion barrier layer 6 is in turn formed over the whole area by a solderable layer 7 made of silver.
  • FIG. 8 shows a process state in which an electrical separation of the metallic contacting for the emitter regions 3 on the one hand and the BSF regions 24 on the other hand was carried out by severing the solderable layer 7, diffusion barrier layer 6 and contacting layer 5 so that trenches 25 between the opposite ones Forming polarization types for electrical insulation.
  • the metallic contacting structures can be formed here in a manner known per se as comb-like or double-comb-like structures.
  • the formation known in the case of back contact cells is advantageous as intermeshing comb-like structures, so-called "integral contacts".

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle, folgende Verfahrensschritte umfassend : A Bereitstellen eines Halbleitersubstrates und B Aufbringen einer aluminiumhaltigen Kontaktierungsschicht mittelbar oder unmittelbar auf eine Seite des Halbleitersubstrates; Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, dass in einem Verfahrensschritt C eine Diffusionsbarrierenschicht, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber Aluminium wirkt, mittelbar oder unmittelbar auf die Kontaktierungsschicht aufgebracht wird und in einem Verfahrensschritt D eine lötbare Schicht aus einem lötbaren Material unmittelbar oder mittelbar auf die Diffusionsbarrierenschicht aufgebracht wird und dass die Diffusionsbarrierenschicht und die Kontaktierungsschicht mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden.

Description

Photovoltaische Solarzelle und Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle
Beschreibung
Die Erfindung betrifft eine photovoltaische Solarzelle gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 2 sowie ein Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle gemäß Oberbegriff des Anspruchs 1 .
Typische photovoltaische Solarzellen weisen Metallisierungsstrukturen zur elektrischen Kontaktierung der Solarzelle auf, beispielsweise zur elektrischen Reihenschaltung der Solarzelle mit einer benachbarten Solarzelle mittels eines elektrisch leitenden Zellverbinders in einem Solarzellenmodul .
Bei der industriellen Herstellung photovoltaischer Solarzellen, insbesondere von Silizium-Solarzellen wird typischerweise zur Ausbildung der vorgenannten metallischen Kontaktstrukturen die Siebdrucktechnologie eingesetzt. Hierbei ist es bekannt, metallische Kontaktstrukturen aus mehreren Materialien , insbesondere mehreren Metallen auszubilden und insbesondere ein als Silberschicht ausgebildetes Lötpad vorzusehen , welches mittels an sich bekannter Lötverfahren mit einem Zellverbinder elektrisch leitend verbunden werden kann.
Es bestehen jedoch erhebliche Chancen darin, die Siebdrucktechnologie zur Herstellung metallischer Kontaktierungen bei der industriellen Herstellung photovoltaischer Solarzellen zu ersetzen , insbesondere, um höhere Wirkungsgrade zu ermöglichen , die Zelldicke zu reduzieren und Kosten und Kontaktmaterial einzusparen .
Der vorliegenden Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle und eine solche photovoltaische Solarzelle bereitzustellen, welche eine Herstellung im industriellen Maßstab ermöglichen und eine Alternative zu der vorgenannten Siebdrucktechnolog ie bieten. Gelöst ist diese Aufgabe durch ein Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle gemäß Anspruch 1 sowie durch eine photovoltaische Solarzelle gemäß Anspruch 12. Vorzugsweise Ausführungsformen des erfindungsgemäßen Verfahrens finden sich in den Ansprüchen 2 bis 1 1 ; vorzugsweise Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Solarzelle finden sich in den Ansprüchen 12 bis 1 5. Hiermit wird der Wortlaut sämtlicher Ansprüche explizit per Referenz in die Beschreibung einbezogen. Das erfindungsgemäße Verfahren ist vorzugsweise zur Ausbildung einer erfindungsgemäßen photovoltaischen Solarzelle ausgebildet, insbesondere einer vorteilhaften Ausführungsform hiervon. Die erfindungsgemäße photovoltaische Solarzelle ist vorzugsweise mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens ausgebildet, insbesondere einer vorzugsweisen Ausführungsform hiervon.
Das erfindungsgemäße Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle weist folgende Verfahrensschritte auf:
I n einem Verfahrensschritt A wird ein Halbleitersubstrat bereitgestellt und in einem Verfahrensschritt B erfolgt ein Aufbringen einer aluminiumhaltigen Kontak- tierungsschicht unmittelbar oder bevorzugt mittelbar auf eine Seite des Halbleitersubstrats. Diese Kontaktierungsschicht bildet die elektrisch leitende Verbindung beispielsweise zu Lötpunkten, zu Zellverbindern oder einem Busbar. Vorteilhafterweise weist die Kontaktschicht daher einen Schichtwiderstand kleiner SOmOhm bevorzugt kleiner 20mOhm auf. Weiterhin ist die Kontaktschicht vorteilhafterweise als Rückseitenspiegel zur Reflektion der nicht im Halbleitersubstrat absorbierten elektromagnetischen Strahlung ausgebildet.
Wesentlich ist nun, dass in einem Verfahrensschritt C eine Diffusionsbarrierenschicht, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber Aluminium wirkt, mittelbar oder bevorzugt unmittelbar auf die Kontaktierungsschicht aufgebracht wird . Weiterhin wird in einem Verfahrensschritt D eine lötbare Schicht aus einem lötbaren Material mittelbar oder bevorzugt unmittelbar auf die Diffusionsbarrierenschicht aufgebracht.
Die Diffusionsbarrierenschicht und die Kontaktierungsschicht werden jeweils mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht. Die vorliegende Erfindung ist in der Erkenntnis begründet, dass die Verwendung einer physikalischen Gasphasenabscheidung (physical vapour deposition, PVD) zur Ausbildung der Kontaktierungsschicht einer photovoltaischen Solarzelle erhebliche Vorteile bietet: PVD AI ist - im Gegensatz zu seibgedrucktem AI - in der Lage nicht nur p-dotiertes, sondern auch moderat n-dotiertes Silicium mit einem niedrigen Kontaktwiderstands zu kontaktieren, was die Umsetzung neuartiger Zellkonzepte, beispielsweise mit n-dotierter Basis, ermöglicht. Zudem besteht ein Kostenvorteil wegen Materialersparnis: dünnere Wafer sparen Halbleiter-Materialkosten und es wird weniger Kontaktmaterial benötigt wegen des dünneren Auftrags (beispielsweise 2μηι PVD-AI statt 20pm SD-AI). Ein wesentlicher Vorteil ist ein geringerer Materialverbrauch der lötbaren Schicht, beispielsweise einer Silberschicht, da nur eine sehr dünne Silberschicht ganzflächig verwendet werden kann statt zuvor üblichen erheblich dickeren lokalen Silber-Pads oder deren Ersatz durch NiV. I nsbesondere letzter Vorteil ist auch darin begründet, dass die Diffusionsbarriere mittels PVD sehr zuverlässig dicht erzeugt werden kann und daher die lötbare Schicht nur in Kombination mit der mittels PVD aufgebrachten Diffusionsbarriere so dünn ausgebildet wird .
Bei der industriellen Herstellung photovoltaischer Solarzellen findet bisher jedoch im Wesentlichen die vorgenannte Siebdrucktechnologie zur Ausbildung metallischer Kontaktierungsstrukturen Anwendung. PVD-Verfahren werden insbesondere zur Ausbildung einer Aluminium-Kontaktierungsschicht nicht eingesetzt. Dies ist unter anderem darin begründet, dass eine mittels eines PVD- Verfahrens aufgebrachte aluminiumhaltige Kontaktierungsschicht nicht mittels eines gewöhnlichen Lötprozesses elektrisch leitend verbunden werden kann, beispielsweise mit einem Zellverbinder.
Das erfindungsgemäße Verfahren bietet nun erstmals die Möglichkeit, kostengünstig dennoch eine aluminiumhaltige Kontaktierungsschicht mittels PVD- Verfahren bei der Herstellung der metallischen Kontaktierungsstruktur einer photovoltaischen Solarzelle zu verwenden.
Hierzu wird , wie zuvor beschrieben, in Verfahrensschritt D eine lötbare Schicht mittelbar auf die Kontaktierungsschicht aufgebracht, so dass die lötbare Schicht elektrisch leitend mit der Kontaktierungsschicht verbunden ist. Die lötbare Schicht kann somit mittels an sich bekannter und bereits industriell erprobter Verfahren mittels eines Lötprozesses mit einem Zellverbinder elektrisch leitend verbunden werden .
Entscheidend ist jedoch, dass eine Interdiffusion von Aluminium aus der Kontak- tierungsschicht in die lötbare Schicht vermieden werden muss. Denn eine solche Interdiffusion kann zu einer Bildung von Aluminiumoxid an der außenliegenden Oberfläche der lötbaren Schicht führen, so dass der Lötprozess fehlschlägt.
Aus diesem Grund wird bei dem erfindungsgemäßen Verfahren in Verfahrensschritt C die Diffusionsbarrierenschicht zwischen Kontaktierungsschicht und lötbarer Schicht angeordnet. Die Diffusionsbarrierenschicht ist derart ausgebildet, dass eine elektrisch leitende Verbindung zwischen lötbarer Schicht und Kontaktierungsschicht besteht und andererseits jedoch Aluminium nicht durch die Diffusionsbarrierenschicht hindurch zu der lötbaren Schicht diffundieren kann.
Auf diese Weise ist mit geringem zusätzlichen Aufwand sichergestellt, dass sich kein Aluminiumoxid an der außenliegenden Oberfläche der lötbaren Schicht ausbildet, so dass mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens erstmals im industriellen Maßstab bei der Herstellung photovoltaischer Solarzellen , bzw. deren Verschaltung zu einem Solarzellenmodul, ein PVD-Verfahren zur Ausbildung der auf Aluminium basierenden Kontaktierungsschicht angewendet werden kann.
Weiterhin wird sowohl die Kontaktierungsschicht als auch die Diffusionsbarrierenschicht mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, dass apparativ unaufwändig beide Schichten gemeinsam aufgebracht werden können.
Eine besonders einfache und somit kostengünstige Verfahrensausgestaltung ergibt sich in einer vorteilhaften Ausführungsform , in welcher die Diffusionsbarrierenschicht unmittelbar auf der Kontaktierungsschicht aufgebracht wird. Alternativ oder bevorzugt zusätzlich wird eine vorteilhafte Prozessvereinfachung erzielt, in dem die lötbare Schicht unmittelbar auf der Diffusionsbarrierenschicht aufgebracht wird. I n einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform wird zwischen lötbarer
Schicht und Diffusionsbarrierenschicht mindestens eine, bevorzugt genau eine Zwischenschicht aufgebracht. Diese Zwischenschicht bietet den Vorteil, dass durch die Zwischenschicht eine erhöhte Haftung zwischen Diffusionsbarrierenschicht und lötbarer Schicht erzielt werden kann . Vorzugsweise ist die Zwischenschicht daher als Titanzwischenschicht ausgebildet, weiter bevorzugt mit einer Dicke im Bereich 5 nm bis 100 nm, weiter bevorzugt 10 nm bis 30 nm .
Eine weitere Verbesserung des erfindungsgemäßen Verfahrens und der nachfolgend beschriebenen erfindungsgemäßen Solarzelle wird erzielt, indem in die Diffusionsbarrierenschicht Sauerstoff eingebracht wird. Das Einbringen von Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht weist den Vorteil auf, dass die Barrierenwirkung der Diffusionsbarrierenschicht erhöht wird. Dies ist insbesondere der Fall , wenn die Barrierenschicht Korngrenzen aufweist, da hier Sauerstoff sich auch zumindest teilweise entlang der Korngrenzen anlagert. Sofern in einem nachfolgenden Verfahrensschritt Aluminium beginnt in die Korngrenzen zu diffundieren, trifft es dort auf den Sauerstoff, welcher typischerweise mit dem Aluminiumein Oxid ausbildet. Dieses Aluminiumoxid stellt eine besonders effektive Barriere gegenüber der Diffusion weiteren Aluminiums dar und stopft zudem insbesondere die schnellen Diffusionswege entlang der Korngrenzen. Hierdurch wird eine deutlich g rößere thermische Stabilität der Barrierenschicht gegen Aluminiumdiffusion erzielt.
Darüber hinaus bildet der Sauerstoff teilweise Oxidverbindungen mit der Titanzwischenschicht aus, so dass eine Verbindung bzw. Legierungsbildung der Titanzwischenschicht mit dem lötbaren Material verm indert wird. Das lötbare Material wird somit in geringerem U mfang verunreinigt und um die Lötbarkeit zu gewährleisten ist es ausreichend dünnere Schichten des lötbaren Materials aufzutragen . Somit wird eine Materialersparnis hinsichtlich des kostenintensiven lötbaren Materials erzielt.
Sofern wie zuvor beschrieben zwischen lötbarer Schicht und Diffusionsbarrierenschicht eine Zwischenschicht angeordnet wird , wird in einer weiter bevorzugten Ausführungsform vorteilhafterweise auch in die Zwischenschicht Sauerstoff eingebracht. Hierdurch wird die Barrierenwirkung gegenüber dem lötbaren Material weiter erhöht. I nsbesondere wird eine Erhöhung der Barrierenwirkung erzielt, indem zunächst nach Aufbringen der Diffusionsbarrierenschicht und vor Aufbringen der Zwischenschicht ein Einbringen von Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht erfolgt und anschließend nach Aufbringen der Zwischenschicht in einem weiteren, separaten Verfahrensschritt Sauerstoff in die Zwischenschicht eingebracht wird.
Das Einbringen von Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht erfolgt vorzugsweise aus der Gasphase. I nsbesondere kann durch den Sauerstoff der Umgebungsatmosphäre bereits Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht und/oder Zwischenschicht eingebracht werden. Es kann somit durch Ausschleusen des Halbleitersubstrates aus etwaigen Prozesskammern und in Kontaktbringen mit Umgebungsluft bei Raumtemperatur, vorzugsweise für einen Zeitraum im Bereich 1 min bis 24 h, ein Eindringen von Sauerstoff erzielt werden.
I n einer vorteilhaften Ausführungsform erfolgt das Eindringen von Sauerstoff in situ in einer Prozesskammer, in dem nach Abscheiden der Diffusionsbarrierenschicht und/oder nach Abscheiden der Zwischenschicht Sauerstoff oder ein sauerstoffhaltiges Gasgemisch in die Prozesskammer eingeleitet wird .
Die zuvor genannte Aufgabe ist weiterhin gelöst durch eine photovoltaische Solarzelle gemäß Anspruch 12. Die erfindungsgemäße photovoltaische Solarzelle weist ein Halbleitersubstrat und eine an einer Seite des Halbleitersubstrates mittelbar oder unmittelbar angeordnete aluminiumhaltige Kontaktierungsschicht auf, welche als Kontaktierungsschicht elektrisch leitend mit dem Halbleitersubstrat verbunden ist. Wesentlich ist, dass auf der Kontaktierungsschicht mittelbar oder unmittelbar eine Diffusionsbarrierenschicht angeordnet ist, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber Aluminium wirkt und dass auf der Kontaktierungsschicht mittelbar oder unmittelbar eine lötbare Schicht aus einem lötbarem Material angeordnet ist. Die Kontaktierungsschicht ist elektrisch leitend mit der lötbaren Schicht verbunden .
Hierdurch ergeben sich die bei dem erfindungsgemäßen Verfahren genannten Vorteile, insbesondere, dass die aluminiumhaltige Kontaktierungsschicht mittels eines PVD-Verfahrens abgeschieden werden kann. Eine besonders einfache und kostengünstige Ausgestaltung ergibt sich in einer vorteilhaften Ausführungsform dadurch, dass die Diffusionsbarrierenschicht unmittelbar auf der Kontaktierungsschicht aufgebracht ist, und die lötbare Schicht unmittelbar auf der Diffusionsbarrierenschicht aufgebracht ist.
Vorzugsweise wird die Diffusionsbarrierenschicht umfassend einen oder mehrere Stoffe aus der Gruppe Ti, N, W, O ausgebildet. I nsbesondere ist die Diffusionsbarrierenschicht vorzugsweise als TiN-Schicht, als TiW-Schicht oder als TiWN-Schicht ausgebildet. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, dass Sowohl Ti als auch W und N2 vergleichsweise gut verfügbar sind und damit günstig (im Gegensatz zu Ta z. B.). Dennoch sind TiN bzw. TiW; N sehr effektive Diffusionsbarrieren gegen AI auch bei einem Temperaturschritt.
In einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens werden zumindest die Diffusionsbarrierenschicht und die lötbare Schicht in situ aufgebracht. Die beiden vorgenannten Schichten werden somit in einer PVD-Anlage aufgebracht, ohne dass zwischen dem Aufbringen der beiden Schichten ein Ausschleusen des Halbleitersubstrates erfolgt. Hierdurch verringern sich die Prozesszeit und auch die Prozesskosten, da die Prozessatmosphäre für beide Schichten nur einmalig hergestellt werden muss und darüber hinaus Ein- und Ausschleusvorgänge eingespart werden .
In einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform wird auch die Kontaktierungsschicht mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht. I nsbesondere ist es vorteilhaft, dass zumindest Kontaktierungsschicht, Diffusionsbarrierenschicht und lötbare Schicht in situ aufgebracht werden. Hierdurch wird weiterhin Prozesszeit und ebenso werden Prozesskosten eingespart.
I n einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erfolgt zwischen Verfahrensschritt B und Verfahrensschritt C ein Temperschritt. Ein Temperschritt ist an sich bekannt und wird vorliegend vorzugweise mit Temperaturen im Bereich 300 °C bis 450 °C für eine Zeitdauer im Bereich von 2 min bis 30 min ausgeführt. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, dass ohne einen Temperschritt die Solarzelle eine schlechtere Effizienz hätte, da sowohl Passivierqualität als auch elektrischer Kontakt gewöhnlich durch einen Temperaturschritt verbessert werden. Zudem können evtl. eingebrachte Schädigungen, bspw. durch einen Sputter- oder Laserprozess, bei einem Temperschritt vollständig oder teilweise wieder ausgeheilt werden. Der Temperschritt stellt also eine wichtige Randbedingung dar. Es wird insgesamt vorzugsweise nur ein Temperschritt durchgeführt, dieser wird vorzugsweise aber nach AI- Metallisierung und gegebenenfalls nach einer Kontaktausbildung mittels LFC stattfinden.
I n einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform erfolgt nach Verfahrensschritt D ein Temperschritt. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, dass Kontaktierungs- schicht, Diffusionsbarrierenschicht und lötbare Schicht in einem gemeinsamen Temperschritt behandelt werden und die Beschichtungen gemeinsam erfolgen können, so dass nur einmalig ein Hochvakuum zur Beschichtung ausgebildet werden muss.
I n einer weiteren vorzugsweisen Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zwischen den Verfahrensschritten A und B in einem Verfahrensschritt A1 eine Passivierungsschicht auf das Halbleitersubstrat aufgebracht. Weiterhin wird in Verfahrensschritt B die Kontaktierungsschicht mittelbar oder bevorzugt unm ittelbar auf die Passivierungsschicht aufgebracht und nach Verfahrensschritt B, bevorzugt nach Verfahrensschritt D, wird an mehreren lokalen Bereichen eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Kontaktierungsschicht und Halbleitersubstrat erzeugt. Hierdurch wird an einer Vielzahl punktartiger Kontaktierungsstellen jeweils eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Kontaktierungsschicht und Halbleitersubstrat erzeugt, so dass mittels der Passivierungsschicht eine Oberflächenpassivierung des Halbleitersubstrates mög lich ist und dennoch aufgrund der Vielzahl von so genannten Punktkontakten eine ausreichende elektrische Leitfähigkeit gegeben ist. I nsbesondere ist es vorteilhaft, die Punktkontakte mittels des an sich bekannten LFC-Verfahrens zu erzeugen, wie beispielsweise in DE 1 00461 70 A1 beschrieben .
Es liegt somit im Rahmen der Erfindung , zur Ausbildung der elektrisch leitenden Verbindungen in einem Verfahrensschritt sowohl die Passivierungsschicht lokal an einer Mehrzahl von Positionen geöffnet wird , als auch die elektrisch leitende Verbindung erzeugt wird . Ebenso liegt es im Rahmen der Erfindung, zunächst die Passivierungsschicht lokal an einer Mehrzahl von Positionen zu öffnen und in einem separaten, nachfolgenden Verfahrensschritt die elektrisch leitende Verbindung zu erzeugen. I nsbesondere ist es hierbei vorteilhaft verfahrensökonomisch und somit kostengünstig, zunächst die Passivierungsschicht mit einer Mehrzahl lokaler Öffnungen auszubilden und anschließend mittelbar oder bevorzugt unmittelbar die Kontaktierungsschicht aufzubringen, so dass bei Aufbringen der Kontaktierungsschicht diese an den lokalen Öffnungen die Passivierungsschicht durchdringt und jeweils eine elektrisch leitende Verbindung zu dem Halbleitersubstrat entsteht.
Um eine stabile Durchführbarkeit des LFC-Verfahrens zu gewährleisten , weist die Kontaktierungsschicht bzw. der Gesamtstapel aus Kontaktierungsschicht, Diffusionsbarriere und lötbarer Schicht vorteilhafterweise eine möglichst dünne und insbesondere möglichst homogene Schichtdicke auf.
Der vorgeschlagene Schichtstapel wird vorzugsweise mit einer Gesamtschichtdicke von wenigen m, bevorzugt kleiner 5 pm , insbesondere kleiner 3 pm ausgebildet, um eine fehlerfreie Herstellung mittels des LFC-Verfahrens zu gewährleisten.
Die Abscheidung mit PVD (im Gegensatz zum Siebdruck) und die geringe Gesamtdicke stellen eine große Homogenität (bzw. eine geringe absolute Schichtdickenschwankung von max. 1 pm , eher weniger) der Schicht sicher, so dass die Laserparameter mit geringer Gesamtleistung und sehr präzise eingestellt werden können. So kann eine Schädigung des Halbleitermaterials minimiert werden .
Vorteilhafterweise sind die Laserparameter und/oder die Materialparameter der gewählten Schichten beim Durchführen des LFC-Verfahrens derart gewählt, dass Kontaktierungsschicht und Halbleitersubstrat lokal aufgeschmolzen wird , die Diffusionsbarrierenschicht jedoch nur geringfügig , bevorzugt nicht aufgeschmolzen wird . Hierdurch wird das lokale Einbringen des Materials der Kontaktierungsschicht in das Halbleitersubstrat verstärkt und ein Eindringen des Materials der Diffusionsbarrierenschicht und der lötbaren Schicht in das Halbleitersubstrat verringert, bevorzugt vermieden . Besonders vorteilhaft ist daher die Verwendung einer Diffusionsbarrierenschicht mit einem höheren Schmelzpunkt gegenüber dem Schmelzpunkt der Kontaktierungsschicht und dem
Schmelzpunkt des Halbleitersubstrats, vorzugsweise liegt eine Temperaturdifferenz der Schmelzpunkte von mindestens 500°C bevorzugt mindestens 1 000°C vor.
Insbesondere vorteilhaft ist daher die Verwendung von Titannitrid als Diffusionsbarrierenschicht, da diese eine vergleichsweise hohen Schmelzpunkt von etwa 2950°C aufweist, verglichen mit einem Schmelzpunkt beispielsweise von Aluminium als Kontaktierungsschicht von 660°C.
Bei der zuvor beschriebenen Ausführungsform mit Anwendung des LFC- Verfahrens zur Ausbildung der Punktkontakte liegt es im Rahmen der Erfindung , die Ausbildung der LFC-Punktkontakte und einen Temperschritt wie zuvor beschrieben vor Durchführen der Verfahrensschritte C und D durchzuführen. Hierdurch ergibt sich der Vorteil, dass der Temperschritt bereits vor Aufbringen der lötbaren Schicht erfolgt und somit geringere Anforderungen an die Undurchdring lichkeit der Diffusionsbarriere bestehen.
Hierbei ist es insbesondere vorteilhaft, nach Durchführen des LFC-Verfahrens und vor Verfahrensschritt C in einem Verfahrensschritt C 1 die Kontaktierungsschicht zu säubern , insbesondere einzuebnen . Hierdurch wird die Schichtadhäsion verbessert. I nsbesondere ist es vorteilhaft, das Säubern/Einebnen mittels Isopropanol durchzuführen. Ebenso liegt es im Rahmen der Erfindung , zusätzlich oder an Stelle des Säuberns eine weitere Schicht, bevorzugt eine weitere Aluminiumschicht nach Durchführen des LFC-Verfahrens und vor Verfahrensschritt C aufzubringen, so dass die Diffusionsbarriere in Verfahrensschritt C auf die weitere Schicht, insbesondere auf eine Aluminiumschicht aufgebracht wird .
Die photovoltaische Solarzelle, deren metallische Kontaktierungsstruktur mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens ausgebildet wird, und/oder die erfindungsgemäße photovoltaische Solarzelle ist vorzugsweise als an sich bekannte Silizium-Solarzelle ausgebildet. Es liegt hierbei im Rahmen der Erfindung , typische Solarzellenstrukturen auszubilden, mit dem Unterschied , dass das erfindungsgemäß zur Ausbildung zumindest einer metallischen Kontaktierung der photovol- taischen Solarzelle wie vorbeschrieben eine aluminiumhaltige Kontaktierungs- schicht, eine Diffusionsbarrierenschicht und eine lötbare Schicht aufgebracht wird, wobei zumindest Diffusionsbarrierenschicht und Kontaktierungsschicht mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden.
I nsbesondere ist es vorteilhaft, die erfindungsgemäße Solarzelle als an sich bekannte PERC-Solarzelle auszubilden, wie beispielsweise in Blakers et al . , Applied Physics Letters, vol. 55 (1 989) pp. 1363-5 oder S. Mack et al. , 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference, 201 0 beschrieben .
Vorzugsweise wird mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens die bei Benutzung der Solarzelle der einfallenden Strahlung abgewandte metallische Kontaktierung ausgebildet. Eine solche Kontaktierung wird typischerweise als Rücksei- tenkontaktierung bezeichnet.
Wie zuvor bereits ausgeführt, ist die erfindungsgemäße Solarzelle vorzugsweise als photovoltaische Silizium-Solarzelle ausgebildet. I nsbesondere ist das Halbleitersubstrat vorzugsweise als Siliziumwafer ausgebildet.
Die Verfahrensschritte B und C erfolgen bevorzugt mittels PVD, insbesondere bevorzugt in einem gemeinsamen Prozess, weiter bevorzugt in situ . Weiter bevorzugt erfolgt auch Verfahrensschritt D mittels PVD, insbesondere in situ mit Verfahrensschritten B und C.
Weitere vorzugsweise Merkmale und Ausführungsformen werden im Folgenden anhand den Figuren und Ausführungsbeispielen beschrieben . Dabei zeigen :
Figuren 1 bis 5 ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer metallischen Kontaktierung einer photovoltaischen Solarzelle und
Figuren 6 bis 8 ein Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung einer metallischen Kontaktierung einer rückseitenkontaktierbaren photovoltaischen Solarzelle. Die Figuren 1 bis 8 zeigen schematische, nicht maßstabsgetreue Teilausschnitte einer Solarzelle im jeweiligen Verfahrensstadium . Die Solarzelle setzt sich dabei in etwa spiegelsymmetrisch nach rechts und links fort.
In den Figuren 1 bis 8 bezeichnen gleiche Bezugszeichen gleiche oder g leichwirkende Elemente.
Figur 1 zeigt das Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens nach einem Verfahrensschritt A, in welchem ein als Siliziumwafer ausgebildetes Halbleitersubstrat 10 bereit gestellt ist.
In den Figuren 1 bis 5 ist die bei Benutzung dem Lichteinfall zugewandte Vorderseite der Solarzelle jeweils oben dargestellt. Das Halbleitersubstrat 1 0 weist an der Vorderseite einen Emitter 3 auf. Dieser Emitter kann mittels Diffusion in dem Halbleitersubstrat 1 0 ausgebildet sein. Ebenso ist es möglich, den Emitter 3 als eigene Schicht auf dem Halbleitersubstrat 1 0 anzubringen.
I n dem dargestellten Ausführungsbeispiel ist das Halbleitersubstrat 10 als Basis p-dotiert und der Emitter n-dotiert. Ebenso liegt eine Umkehrung der Dotierungstypen im Rahmen der Erfindung .
Auf dem Emitter 3 ist eine passivierende optische Antireflexschicht 2 angeordnet, welche in an sich bekannter Weise als Siliziumnitridschicht ausgebildet sein kann.
An der Vorderseite ist weiterhin eine metallische Vorderseitenkontaktierung angeordnet, welche in an sich bekannter Weise als an sich bekannte kammartige oder doppelkammartige Kontaktierungsstruktur ausgebildet sein kann. I n der Teilausschnittdarstellung der Figuren 1 bis 5 sind beispielsweise zwei senkrecht zur Zeichenebene verlaufende metallische Finger 1 der Vorderseitenkontaktierung dargestellt. Die Finger 1 durchdringen die Antireflexschicht 2 und sind mit dem Em itter 3 elektrisch leitend verbunden.
An der Rückseite, d. h. der bei Benutzung der einfallenden Strahlung abgewandten Seite des Halbleitersubstrats 1 0, ist in einem Verfahrensschritt A1 eine Passi vierungsschicht 4 ganzflächig auf das Halbleitersubstrat 1 0 aufgebracht. Die Passivierungsschicht ist mittels PECVD als Al203-Schicht ausgebildet und weist eine Dicke im Bereich 20 nm bis 200 nm , vorliegend von etwa 1 00 nm auf. Ebenso kann die Passivierungsschicht ganz oder teilweise aus thermisch erzeugtem Si02 bestehen und ganz oder teilweise mittels PECVD als SiNx-Schicht oder SiOx-Schicht aufgebracht werden
I n einem Verfahrensschritt B wird nun an der Rückseite auf die Passivierungsschicht 4 diese ganzflächig bedeckend eine als Aluminiumschicht ausgebildete Kontaktierungsschicht 5 aufgebracht. Die Kontaktierungsschicht 5 wird in einem PVD-Verfahren erzeugt.
Das Ergebnis ist in Figur 2 dargestellt.
Anschließend wird in einem Verfahrensschritt C eine als TiN-Schicht ausgebildete Diffusionsbarrierenschicht 6 aufgebracht, ebenfalls mittels eines PVD- Verfahrens. Die Diffusionsbarrierenschicht weist eine Dicke im Bereich von 20 nm bis 300 nm , vorliegend von etwa 00 nm auf.
Anschließend wird eine dünne Ti-Schicht mit einer Dicke im Bereich 1 nm bis 50 nm , vorliegend etwa 25 nm eingefügt, welche als Haftvermittler zwischen Ag und TiN dient.
I n einem nachfolgenden Verfahrensschritt D wird eine als Silberschicht ausgebildete lötbare Schicht 7 als Deckschicht ganzflächig die Diffusionsbarrierenschicht 6 bedeckend aufgebracht, ebenfalls mittels eines PVD-Verfahrens.
Kontaktierungsschicht 5, Diffusionsbarrierenschicht 6 und lötbare Schicht 7 werden dabei in situ aufgebracht, so dass eine besonders prozessökonomische und damit kostensparende Herstellung erfolgt.
Alternativ besteht die lötbare Schicht 7 aus NiV oder NiCr, das ggf. durch eine dünne Ag-Schicht vor Oxidation geschützt wird. Auf eine Ti-Haftvermittlerschicht kann in dieser Ausführung verzichtet werden.
I n einem nachfolgenden Verfahrensschritt wird in an sich bekannter Weise durch lokales Aufschmelzen einer Vielzahl punktartiger Bereiche m ittels eines LFC- Verfahrens eine Vielzahl von elektrischen Punktkontakten 8 erzeugt, das Ergebnis ist in Figur 5 dargestellt:
Durch das lokale Aufschmelzen entsteht eine punktartige elektrische Kontaktie- rung , welche insbesondere die Passivierungsschicht 4 durchdringt. Weiterhin wird im Erstarrungsvorgang lokal an den Kontaktierungspunkten jeweils ein aluminiumdotierter Hochdotierungsbereich 9 erzeugt, welcher den Kontaktwiderstand und die Oberflächenrekombination an den Kontakten senkt und somit den Wirkungsgrad der Solarzelle weiter erhöht. Das lokale Aufschmelzen erfolgt derart, dass eine Temperatur oberhalb der Schmelzpunkte von Kontaktierungs- schicht 5 und Halbleitersubstrat 1 0, jedoch unterhalb des Schmelzpunktes der Diffusionsbarrierenschicht 6 vorliegt. Die Diffusionsbarrierenschicht wird somit nicht oder nur geringfügig aufgeschmolzen wird. Hierdurch wird das lokale Einbringen des Materials der Kontaktierungsschicht in das Halbleitersubstrat verstärkt und ein Eindringen des Materials der Diffusionsbarrierenschicht und der lötbaren Schicht in das Halbleitersubstrat vermieden oder zumindest verringert
In Figur 5 ist somit ebenfalls ein Ausführungsbeispiel einer erfindungsgemäßen photovoltaischen Solarzelle dargestellt, welche das Halbleitersubstrat 1 0 aufweist, mit der rückseitig unmittelbar angeordneten als Aluminiumschicht ausgebildeten Kontaktierungsschicht 5, welche punktartig die Passivierungsschicht 4 durchdringend mit dem Halbleitersubstrat 10 elektrisch leitend verbunden ist. Auf der Kontaktierungsschicht ist unmittelbar die Diffusionsbarrierenschicht 6 angeordnet, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber dem Aluminium wirkt. Auf der Diffusionsbarrierenschicht 6 ist (mit einer zwischengeschalteten Haftvermittlerschicht, welche Titan umfasst) die als Silberschicht ausgebildete lötbare Schicht 7 angeordnet. Die Kontaktierungsschicht 5 ist, wie zuvor beschrieben , einerseits mit dem Halbleitersubstrat 1 0 und andererseits mit der lötbaren Schicht 7 elektrisch leitend verbunden.
Die Figuren 6 bis 8 zeigen ein zweites Ausführungsbeispiel eines erfindungsgemäßen Verfahrens. Zur Vermeidung von Wiederholungen wird daher im Folgenden insbesondere auf die Unterschiede zu dem ersten Ausführungsbeispiel gemäß den Figuren 1 bis 5 eingegangen: Wie bereits erwähnt, kann das erfindungsgemäße Verfahren insbesondere vorteilhaft für rückseitenkontaktierte Solarzellen Anwendung finden. Bei rückseiten- kontaktierten photovoltaischen Solarzellen sind auf der der einfallenden Strahlung abgewandten Seite sowohl eine oder mehrere metallische Kontaktierungs- strukturen zur Kontaktierung eines oder mehrerer Emitterbereiche als auch eine oder mehrere metallische Kontaktierungsstrukturen zur Kontaktierung eines o- der mehrerer Basisbereiche der Solarzelle angeordnet. Rückseitenkontaktierte Solarzellen weisen den Vorteil auf, dass keine Abschattung der Vorderseite durch metallische Kontaktstrukturen auftritt und darüber hinaus eine einfachere Serienverschaltung in einem Solarzellenmodul möglich ist.
Auch in den Figuren 6 bis 8 ist die bei Benutzung dem Lichteinfall zugewandte Vorderseite der Solarzelle jeweils oben dargestellt. Figur 6 zeigt das zweite Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens nach einem Verfahrensschritt A, in welchem ein als Siliziumwafer ausgebildetes Halbleitersubstrat 1 0 bereitgestellt ist. Das Halbleitersubstrat ist vorliegend n-dotiert und weist an der Vorderseite einen n-hochdotierten Bereich, ein so genanntes Front Surface Field (FSF) 22 auf. Die Vorderseite der photovoltaischen Solarzelle ist durch eine Antireflexschicht 2 bedeckt. An der Rückseite des Halbleitersubstrates 1 0 sind Emitterbereiche 3 (p-dotiert) und mehrere n-dotierte Hochdotierungsbereiche, so genannte Back Surface Field (BSF) 24 mittels Diffusion von entsprechenden Dotierstoffen ausgebildet.
Auf der Rückseite des Halbleitersubstrates 1 0 ist eine Passivierungsschicht 4 in einem Verfahrensschritt A1 aufgebracht. Die Passivierungsschicht 4 wurde ganzflächig aufgebracht und lokal an jedem Emitterbereich 3 und an jedem BSF- Bereich 24 geöffnet.
Figur 7 zeigt den Zustand nach einem Verfahrensschritt B, in welchem eine als Aluminiumschicht ausgebildete Kontaktierung sschicht 5 ganzflächig auf die Rückseite aufgebracht wurde. An den zuvor beschriebenen Ausnehmungen der Passivierungsschicht 4 durchdringt die Aluminiumschicht die Passivierungsschicht, so dass in diesem Verfahrenszustand eine elektrische Kontaktierung sowohl der Emitterbereiche 3, als auch der BSF-Bereiche 24 vorliegt. Auf die Kontaktierungsschicht 5 ist eine als TiN-Schicht ausgebildete Diffusionsbarrierenschicht 6 aufgebracht. Die Diffusionsbarrienschicht 6 ist wiederum ganzflächig durch eine lötbare Schicht 7 vorliegend aus Silber ausgebildet, bedeckt.
Figur 8 zeigt schließlich einen Verfahrenszustand, in welchem ein elektrisches Separieren der metallischen Kontaktierung für die Emitterbereiche 3 einerseits und die BSF-Bereiche 24 andererseits erfolgte, indem lötbare Schicht 7 , Diffusionsbarrierenschicht 6 und Kontaktierungsschicht 5 durchtrennt wurden, so dass sich Gräben 25 zwischen den entgegengesetzten Polarisierungsarten zur elektrischen Isolierung ausbilden.
Die metallischen Kontaktierungsstrukturen können hierbei in an sich bekannter Weise als kammartige oder doppelkammartige Strukturen ausgebildet sein. Insbesondere ist die bei Rückseitenkontaktzellen bekannte Ausbildung als ineinandergreifende kammartige Strukturen, so genannte„ I nterdig itated Contacts" vorteilhaft.

Claims

Ansprüche
1 . Verfahren zum Herstellen einer metallischen Kontaktierung einer photovolta- ischen Solarzelle, folgende Verfahrensschritte umfassend:
A Bereitstellen eines Halbleitersubstrates und
B Aufbringen einer aluminiumhaltigen Kontaktierungsschicht (5) mittelbar oder unmittelbar auf eine Seite des Halbleitersubstrates; dadurch gekennzeichnet,
dass in einem Verfahrensschritt C eine Diffusionsbarrierenschicht, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber Aluminium wirkt, mittelbar oder unmittelbar auf die Kontaktierungsschicht (5) aufgebracht wird und in einem Verfahrensschritt D eine lötbare Schicht (7) aus einem lötbaren Material unmittelbar oder mittelbar auf die Diffusionsbarrierenschicht (6) aufgebracht wird und
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) und die Kontaktierungsschicht (5) mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1 ,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) umfassend einen oder mehrere Stoffe der Gruppe Ti, N , W, O ausgebildet wird , vorzugsweise als TiN-Schicht, als TiW-Schicht oder TiWN-Schicht ausgebildet wird.
3. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass zumindest die Diffusionsbarrierenschicht (6) und die lötbare Schicht (7) in situ aufgebracht werden.
4. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass die lötbare Schicht (7) mittels eines PVD-Verfahrens aufgebracht wird , vorzugsweise, dass zumindest Kontaktierungsschicht, Diffusionsbarrierenschicht (6) und lötbare Schicht (7) in situ aufgebracht werden.
5. Verfah ren nach einem der vorangegangenen Ansprüche ,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) u nm ittelbar auf der Kontaktierungs- schicht (5) aufgebracht wird, vorzugsweise , dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) unmittelbar auf der Kontaktierungsschicht (5) und vorzugsweise die lötbare Schicht (7) u nmittelbar auf der Diffusionsbarrierenschicht (6) aufgebracht wird oder dass zwischen lötbarer Schicht (7) und Diffusionsbarrie- renschicht (6) mindestens eine, bevorzugt genau eine Zwischenschicht aufgebracht wird , bevorzugt ei ne Titan-Zwischenschicht.
6. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch geken nzeichnet,
dass die Kontaktierungsschicht (5) mittelbar unter Zwischenschaltung zumindest einer elektrisch isolierenden Zwischenschicht auf das Halbleitersubstrat aufgebracht wi rd ,
dass mittels eines LFC-Verfahrens eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Kontaktierungsschicht (5) und H albleitersu bstrat erzeugt wird , dass nach Durchführen des LFC-Verfahrens und
anschließend Verfahrensschritte C und D durchgeführt werden,
insbesondere,
dass zwischen Durchführen des LFC-Verfahrens und Verfahrensschritt C ein Säubern und/oder Einebnen der Kontaktierungssschicht (5) erfolgt, insbesondere mittels I sopropanol und/oder m ittels Aufbringen einer weiteren Schicht, insbesondere einer Aluminiumschicht.
7. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass zwischen Verfahrensschritt B und C ein Tem perschritt erfolgt und/oder
dass nach Verfahrensschritt D ein Tempersch ritt erfolgt.
8. Verfah ren nach ei nem der vorangegangenen Ansprüche,
dadu rch gekennzeichnet,
dass zwischen den Verfah rensschritten A und B i n einem Verfahrensschritt A1 ei ne Passivieru ngsschicht (4) auf das Halbleitersubstrat ( 1 0) aufgebracht wird, dass in Verfahrensschritt B die Kontaktierungsschicht (5) mittelbar oder bevorzugt unmittelbar auf die Passivierungsschicht (4) aufbracht wird und dass nach Verfahrensschritt B, bevorzugt nach Verfahrensschritt D an mehreren lokalen Bereichen eine elektrisch leitende Verbindung zwischen Kontaktierungsschicht (5) und Halbleitersubstrat (1 0) erzeugt wird, vorzugsweise mittels eines LFC-Verfahrens, insbesondere, dass nach Erzeugen der elektrisch leitenden Verbindung zwischen Kontaktierungsschicht und Halbleitersubstrat ein Temperschritt erfolgt.
9. Verfahren nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
dass Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht eingebracht wird.
1 0. Verfahren nach Anspruch 5 und Anspruch 9,
dadurch gekennzeichnet,
dass Sauerstoff in die Zwischenschicht aufgebracht wird, vorzugsweise, dass nach Aufbringen der Diffusionsbarrierenschicht und vor Aufbringen einer weiteren Schicht Sauerstoff in die Diffusionsbarrierenschicht eingebracht wird und nach Aufbringen der Zwischenschicht und vor Aufbringen einer weiteren Schicht Sauerstoff in die Zwischenschicht eingebracht wird.
1 1 . Verfahren nach einem der Ansprüche 9 bis 1 0,
dadurch gekennzeichnet,
dass der Sauerstoff in situ in einer Bearbeitungskammer, insbesondere einer Prozesskammer eingebracht wird, indem nach Abscheiden der Diffusionsbarrierenschicht und/oder der Zwischenschicht Sauerstoff oder ein sauerstoffhaltiges Gasgemisch in die Bearbeitungskammer, insbesondere Prozesskam mer eingeleitet wird.
12. Photovoltaische Solarzelle, vorzugsweise hergestellt mittels eines Verfahrens nach einem der vorangegangenen Ansprüche,
mit einem Halbleitersubstrat (1 0) und einer an einer Seite des Halbleitersubstrates mittelbar oder unmittelbar angeordneten aluminiumhaltigen Kontaktierungsschicht, welche Kontaktierungsschicht (5) elektrisch leitend m it dem Halbleitersubstrat (10) verbunden ist,
dadurch gekennzeichnet, dass auf der Kontaktierungsschicht (5) mittelbar oder bevorzugt unmittelbar eine Diffusionsbarrierenschicht (6) angeordnet ist, welche als Diffusionsbarriere zumindest gegenüber Aluminium wirkt, und
dass auf der Diffusionsbarrierenschicht (6) bevorzugt mittelbar oder unmittelbar eine lötbare Schicht (7) aus einem lötbaren Material angeordnet ist, wobei die Kontaktierungsschicht (5) elektrisch leitend mit der lötbaren Schicht verbunden ist.
1 3. Solarzelle nach Anspruch 12,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) unmittelbar auf der Kontaktierungsschicht (5) aufgebracht ist, vorzugsweise,
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) unmittelbar auf der Kontaktierungsschicht (5) und die lötbare Schicht (7) unmittelbar auf der Diffusionsbarrierenschicht (6) aufgebracht ist.
14. Solarzelle nach einem der vorangegangenen Ansprüche 12 bis 1 3,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Diffusionsbarrierenschicht (6) umfassend eines oder mehrere Stoffe der Gruppe Ti, N, W, O ausgebildet ist, vorzugsweise als TiN-Schicht, als TiW-Schicht oder TiWN-Schicht ausgebildet ist, insbesondere, dass die Diffusionsbarrierenschicht als TiN-Schicht ausgebildet ist.
1 5. Solarzelle nach einem der Ansprüche 12 bis 14,
dadurch gekennzeichnet,
dass die Solarzelle als rückseitenkontaktierbare Solarzelle ausgebildet ist, welche an der einer Rückseite mindestens einen n-dotierten Bereich und mindestens einen p-dotierten Bereich aufweist.
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