EP2758708B1 - Reflective beam shaper for producing a desired emission characteristic from an emission characteristic of a surface light source - Google Patents

Reflective beam shaper for producing a desired emission characteristic from an emission characteristic of a surface light source Download PDF

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EP2758708B1
EP2758708B1 EP11758225.4A EP11758225A EP2758708B1 EP 2758708 B1 EP2758708 B1 EP 2758708B1 EP 11758225 A EP11758225 A EP 11758225A EP 2758708 B1 EP2758708 B1 EP 2758708B1
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EP
European Patent Office
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shaping
reflective
translucent
openings
planar structure
Prior art date
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EP11758225.4A
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German (de)
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EP2758708A1 (en
Inventor
Christoph WÄCHTER
Norbert Danz
Dirk Michaelis
Michael FLÄMMICH
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
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Filing date
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    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V7/00Reflectors for light sources
    • F21V7/0083Array of reflectors for a cluster of light sources, e.g. arrangement of multiple light sources in one plane
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21LIGHTING
    • F21VFUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V11/00Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00
    • F21V11/02Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00 using parallel laminae or strips, e.g. of Venetian-blind type

Definitions

  • Embodiments of the present invention relate to a reflective beamformer for generating a desired radiation characteristic from a radiation characteristic of a surface light source. Further embodiments of the present invention relate to a reflective beam shaper for setting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources.
  • Known pyramidal refractive structures provide, for example, angular distributions in one or two directions, which can be limited to approximately + 30 °.
  • 1D prisms, 2D prisms or crossed 1D prisms as described, for example, in US Pat WO 2006/073916 A1 is described.
  • deflections of about 20 ° can be achieved.
  • the US 2011/0018009 A1 describes, for example, a selective mirroring of partial areas in prismatic 1D arrays, which allows larger deflection angles and allows design possibilities for beam shaping in one direction.
  • the WO 2008/122907 A2 describes a light emitting device comprising a layer stack including an organic light emission layer disposed between two electrode layers, wherein a shielding structure is arranged on the layer stack having a plurality of fin elements extending in a sheet shape from the layer stack in such a manner that the fin elements lead the artificially generated light of the organic light emission layer from the light emitting device.
  • the lamellar elements are attached to the layer stack via a fastening device not described in detail.
  • the object of the present invention is therefore to provide a reflective beam shaper, which allows a more flexible adjustability of a radiation characteristic and at the same time is distinguished by a simplified or even more reliable design.
  • Embodiments of the present invention provide a reflective beamformer for generating a desired radiation characteristic from an emission characteristic of a surface light source having a beam-forming laminar structure with a plurality of light-transmitting beam-shaping openings.
  • the light-transmitting beam shaping openings extend from a first side facing the surface light source to a second side opposite the first side through the beam-forming planar structure.
  • the translucent beam shaping openings have reflective side walls.
  • a lateral extent of the translucent beam-forming openings on the first side of the beam-forming planar structure is smaller than a lateral extent of the transparent beam-forming openings on the second side of the beam-forming planar structure, such that the emission characteristic of the planar light source changes to the desired radiation characteristic as it passes through the beam-forming planar structure becomes.
  • the core idea of the present invention is that the above-mentioned more flexible adjustability of the radiation pattern can be achieved with a simultaneously simplified or even more reliable design of the reflective beam shaper, if transparent beam shaping openings with reflective side walls are provided and a lateral extent of the transparent beam shaping openings the first side of the beam-forming areal structure is smaller than a lateral extent of the translucent beam-forming openings on the second side of the beam-forming areal structure.
  • the emission characteristic of the surface light source can be changed to the desired emission characteristic as it passes through the beam-forming planar structure.
  • the more flexible adjustability of the emission characteristic can be achieved and, on the other hand, a high outlay for the precise alignment of different functional levels of the beam former can be avoided at the same time.
  • use can be made of translucent beam shaping openings having reflective side walls and at the same time a selected ratio between a lateral extent of the translucent beam forming openings on the first side of the beam-forming planar structure and a lateral extension of the transparent beam-forming openings on the second side of the beam-forming sheet-like structure can be used.
  • the translucent beam shaping apertures of the beam-forming sheet structure are inclined at a predetermined angle of inclination to a normal of the beam-forming sheet-like structure.
  • the emission characteristic generated by the reflective beamformer can be adjusted so that, for example, a predetermined emission angle or a predetermined deflection of a center of gravity of an angular distribution can be obtained.
  • the beam-forming planar structure is reflective on the first side thereof.
  • light rays emitted from the surface light source in the direction of the beam-forming sheet structure can be reflected back to the surface light source on the first side of the beam-forming sheet structure.
  • the light beams reflected to the surface light source can in turn be reflected at the surface light source in the direction of the beam-forming planar structure.
  • the ratio between the lateral extent of the translucent beamforming apertures on the first side and the lateral extent of the transmissive beamforming apertures on the second side or the inclination angle of the translucent beamforming apertures changes laterally between adjacent translucent beamforming apertures.
  • An OLED organic light emitting diode
  • the radiation characteristic of the surface light source radiating on both sides can be adjusted as it passes through the beam-forming planar structure of the reflective beam shaper and the beam-forming surface structure of the further reflective beam shaper.
  • Fig. 1 shows a side view of a reflective beamformer 100 according to an embodiment of the present invention.
  • the reflective beam former 100 has a beam-forming planar structure 110 with a plurality of light-transmitting beam shaping openings 115.
  • the light-transmitting beam shaping openings 115 extend from the first side 112 facing the surface light source 105 to the second side 114 opposite the first side 112 through the beam-forming planar structure 110.
  • the transparent beam-forming openings 115 have reflective side walls 117.
  • a lateral extent L1 of the translucent beam shaping openings 115 on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 is smaller than a lateral extent L2 of the translucent beam shaping openings 115 on the second side 114 of the beam-forming planar structure 110.
  • a coordinate system 104 having first, second, and third axes 101, 102, 103 is shown.
  • the first and second axes 101, 102 (x, y axes) of the coordinate system 104 are substantially parallel to a surface of the beam-forming sheet 110, while the third axis 103 of the coordinate system 104 (z-axis) is substantially perpendicular to the surface of the jet-forming sheet-like structure 110.
  • a first lateral direction (x direction) corresponds to a direction parallel to the first axis 101 (x axis) of the coordinate system 104 and a second lateral direction (y direction) to a direction parallel to the second axis 102 (y axis) of the coordinate system 104, while a vertical direction (z-direction) corresponds to a direction parallel to the third axis 103 of the coordinate system 104.
  • Fig. 1 is the first lateral direction parallel to the plane of the drawing, while the second lateral direction is perpendicular to the plane of the drawing.
  • the plane (x, y plane) spanned by the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 is substantially parallel to the surface or areal extent of the beam-forming planar structure 110. Furthermore, a lateral extent extends along one lateral direction (eg in the x-direction, in the y-direction or in any other direction in the x, y plane), while a vertical extension along the vertical direction (or along the thickness direction of the beam-forming planar structure 110). As in the embodiment of Fig. 1 4, the lateral extent of the translucent beam forming openings 115 changes in the vertical direction (ie, z-dependent), so that the lateral extent L1 is smaller than the lateral extent L2.
  • the radiation characteristic of the area light source 105 may be characterized by a Lambertian directional distribution.
  • the ratio between the lateral extent L1 of the translucent beam shaping apertures on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 and the lateral extent L2 of the translucent beam-forming apertures 115 on the second side of the beam-forming planar structure 110 can be selected such that the desired emission characteristic of the reflective beamformer 100 can be obtained.
  • aperture ratio By providing a selected aperture ratio, a high outlay for the precise alignment of different functional planes of the beam former can be avoided.
  • a more flexible adjustability of the emission characteristic can be achieved by adjusting the aperture ratio for the respective emission characteristic.
  • the reflecting sidewalls 117 of the translucent beam forming ports 115 are used to reflect light beams 111 radiated from the area light source 105 and reflected on the reflecting sidewalls 117 of the translucent beam forming ports 115 as they pass through the beam-forming laminar structure 110, respectively in a predetermined direction deflect, so that the desired radiation characteristic can be generated.
  • the reflections of the light rays 111 on the reflective sidewalls 117 of the translucent beam shaping apertures 115 are indicated by the dashed arrows.
  • Fig. 2a shows a side view of a reflective beam shaper 200 according to another embodiment of the present invention.
  • the in Fig. 2a Reflective beamformer 200 shown substantially corresponds to that in FIG Fig. 1
  • the reflective beamformer 100 shown in FIG Fig. 2a The reflective beamformer 200 shown in FIG. 2, the transparent beam shaping openings 115 of the beam-forming sheet-like structure 110 at a predetermined inclination angle ⁇ against a normal 201 of the beam-forming sheet-like structure 110 inclined.
  • Fig. 2a is again the coordinate system 104 of Fig. 1 wherein the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 are parallel to the surface of the beam-forming sheet-like structure 110, while the third axis 103 of the coordinate system 104 is perpendicular to the surface Expansion of the beam-forming sheet-like structure 110 is.
  • the normal 201 extends in the vertical direction and serves as a reference for the angle of inclination ⁇ of the translucent beam shaping openings 115 Fig.
  • the angle of inclination ⁇ can be determined by a straight line (dashed line 215), the straight line passing through a first center 211 of one of the translucent beam forming openings 115 on the first side 112 and a second center 213 of the respective translucent beam forming openings 115 on the second side 114 is defined. From the predetermined angle of inclination ⁇ of the translucent beam shaping apertures 115 results in a given thickness D of the beam-forming sheet-like structure 110 dependent on the inclination angle ⁇ length L of the translucent beam forming openings 115 along the dashed line 215th From this length L in turn depends on the emission, the can be generated with the reflective beam shaper 200.
  • the radiation characteristic of the reflective beam former 200 can be adjusted. For example, in this case, a predetermined emission angle or a predetermined deflection of a center of gravity of an angular distribution can be obtained.
  • Fig. 2b shows a perspective view of the embodiment of the reflective beam shaper 200 according to Fig. 2a ,
  • the translucent beam shaping openings 115 that extend through the beam-forming planar structure 210 from the first to the second side 112, 114 can be seen.
  • the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the reflective beamformer 200 has a two-dimensional arrangement of translucent beam-forming openings 115 arranged regularly adjacent to one another in the beam-forming planar structure 210. As it is in Fig.
  • the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 may be along the regularly juxtaposed translucent beam forming apertures 115 in the two-dimensional array (or grid) of FIG Fig. 2b be aligned. Due to the two-dimensional arrangement of transparent beam shaping openings 115 according to FIG Fig. 2b for example, the radiation characteristic of the surface light source 105 (not shown in FIG. 2) arranged below the beam-forming planar structure 210 may be used Fig. 2b ) without having to precisely align different functional planes in the beam-forming sheet 210 of the reflective beam former 200. Thus, a high cost for the precise alignment of different functional levels of the beam former can be avoided.
  • Fig. 3a to 3f show plan views of translucent beam forming ports 310; 320; 330; 340; 350; 360 with mutually congruent cross sections 312, 314; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364 according to embodiments of the present invention.
  • the translucent beam shaping apertures 310, 320, 330, 340, 350, 360 shown in FIG Fig. 1 shown translucent beam shaping openings 115 of the reflective beam shaper 100.
  • Fig. 3a to 3f are the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 of FIG Fig. 1 shown.
  • the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 span the x, y plane.
  • the light-transmitting beam shaping openings 310, 320, 330, 340, 350, 360 of the beam-forming planar structure 110 on the first and second sides 112, 114 thereof have first and second cross-sections 312, 314, respectively; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364, which have a round, elliptical, quadrangular or polygonal shape (or any other shape) and are congruent to each other and offset or centered in the lateral direction.
  • the lateral direction corresponds in turn to a direction parallel to the x, y plane which is spanned by the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104.
  • the lateral offset of the staggered cross sections is z. In x, y, or any other lateral direction in the x, y plane.
  • first and second cross-section 312, 314 are shown in the beam-forming planar structure 110.
  • first and second cross-sections 312, 314 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a round shape (for example, a circular shape).
  • the first and the second cross-section 312, 314 are arranged centered in the lateral direction.
  • first and second cross-section 322, 324 are shown in the beam-forming sheet-like structure 110.
  • first and second cross-sections 322, 324 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a quadrangular shape (eg, rectangular shape).
  • the first and the second cross section 322, 324 are arranged centered in the lateral direction.
  • Fig. 3c In the top view of Fig. 3c is one of the translucent beam-shaping openings 330 with mutually congruent cross-sections (first and second cross-section 332, 334) in the beam-forming sheet-like structure 110.
  • first and second cross-sections 332, 334 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a polygonal shape (eg, hexagonal shape).
  • the first and the second cross section 332, 334 are centered in the lateral direction.
  • first and second cross-sections 342, 344 in the beam-forming sheet-like structure 110.
  • first and second cross-sections 342, 344 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have an elliptical shape.
  • the first and second cross-sections 342, 344 are offset from one another in the lateral direction.
  • first and second cross-sections 352, 354 in the beam-forming sheet-like structure 110.
  • first and second cross-sections 352, 354 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a quadrangular shape (eg, rectangular shape).
  • the first and second cross-sections 352, 354 are staggered in the lateral direction.
  • one of the translucent beam-shaping apertures 360 is shown with cross-sections (first and second cross-sections 362, 364) congruent to each other in the beam-forming sheet-like structure 110.
  • the first and second cross-sections 362, 364 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a polygonal shape (eg, hexagonal shape).
  • the first and second cross-sections 362, 364 are staggered in the lateral direction.
  • the mutually congruent cross sections may each have a circular shape and be arranged offset in the lateral direction against each other.
  • the mutually congruent cross sections may each have an elliptical shape and be centered in the lateral direction.
  • any other shapes may be provided for the mutually congruent cross-sections, which may be offset or centered in the lateral direction.
  • the cross-sections of the translucent beam shaping apertures on the first and second sides of the beam-forming laminar structure may be similar or different from each other.
  • the various implementations of the translucent beam shaping apertures can be realized.
  • the cross sections of the same on the first and the second side of the beam-forming planar structure for example, congruent to each other and offset in the lateral direction against each other or centered.
  • the various implementations for the light-transmitting beam shaping openings can achieve a more flexible adjustment of the emission characteristic produced by the reflective beamformer.
  • essential parameters of the radiation characteristic such as the radiation angle or the deflection of the center of gravity of the angular distribution, can be set more easily or even more precisely.
  • Fig. 4a to 4d 11 show side views of translucent beam shaping openings 410, 420, 430, 440 with a varying lateral extent S according to exemplary embodiments of the present invention.
  • the translucent beam shaping openings 410, 420, 430, 440 shown in FIG. 2 essentially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 in FIG Fig. 1
  • In the side views of Fig. 4a to 4d is the third axis 103 of the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the lateral extent S extends along a lateral direction (eg in the x-direction, in the y-direction or in any other direction in the x, y plane).
  • the lateral extent S is defined, for example, by a diameter of the circular cross section.
  • the lateral extent S is defined, for example, by a main axis of the elliptical cross section.
  • the lateral extent S is defined, for example, by a length of the rectangular cross-section.
  • the lateral extent S for example, defined by a maximum lateral extent of the respective free-form cross section in the x, y plane.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 410 changes linearly from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103.
  • the transparent beam-shaping openings 410 of the beam-forming planar structure 110 have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 420 changes from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103 hyperbolic.
  • the light-permeable beam-forming openings 420 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 430 changes parabolically from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103.
  • the transparent beam-shaping openings 430 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 440 changes from the first to the second side 112, 114 or segmented in a vertical direction parallel to the third axis 103.
  • the light-transmitting beam-shaping openings 440 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • 4e to 4h 10 show side views of translucent beam shaping openings 450, 460, 470, 480 with a varying lateral extent S according to further exemplary embodiments of the present invention.
  • the translucent beam shaping apertures 450, 460, 470, 480 shown in FIG. 2 essentially correspond to the translucent beam shaping apertures 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 .
  • In the side views of 4e to 4h is again the third axis 103 of the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 450 changes similarly to that in FIG Fig. 4a shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially linear.
  • the translucent beam-forming openings 450 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle ⁇ against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 460 changes in a manner similar to that in FIG Fig. 4b shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially hyperbolic.
  • the translucent beam-forming openings 460 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle ⁇ against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 470 changes in a manner similar to that in FIG Fig. 4g shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially parabolic.
  • the translucent beam-forming openings 470 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle ⁇ against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent of the translucent beam shaping openings 480 changes similarly to that in FIG Fig. 4d shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially segmented.
  • the translucent beam-forming openings 480 of the beam-forming planar structure 110 are simultaneously inclined at a predetermined inclination angle ⁇ to the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.
  • the lateral extent S of the translucent beam-forming openings 410; 420; 430; 440 from the first to the second side 112, 114 linearly, hyperbolic, parabolic or segmented change (or otherwise suitably change).
  • the translucent beam forming ports 450; 460; 470; 480 at the same time be inclined at the predetermined inclination angle ⁇ against the normal 201 of the beam-forming sheet-like structure 110.
  • Fig. 5a to 5c show plan views of various embodiments of translucent beam forming apertures 515; 525; 535 in different grid arrangements.
  • the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 span the x, y plane.
  • translucent beam shaping openings 515; 525; 535 substantially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 , Referring to Fig.
  • 5a to 5c form the translucent beam forming openings 515; 525; 535 each have a regular two-dimensional arrangement (grid or array).
  • Fig. 5a to 5c is only the second side 114 of the beam-forming sheet-like structure 110 with the translucent beam forming openings 515; 525; 535 recognizable.
  • Fig. 5a shows a plan view of an embodiment of transparent beam shaping openings 515 in a first arrangement 510 or in a hexagonal grid.
  • the translucent beam-forming openings 515 of the beam-forming laminar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to one another.
  • the first arrangement 510 of Fig. 5a characterized in that the translucent beam shaping apertures 515 form a hexagonal grid.
  • the translucent beam-forming apertures 515 on the second side 114 may have a round shape such that the first array 510 formed by the translucent beam-forming apertures 515 has hexagonal symmetry (hexagonal grating or hexagonal symmetry grating).
  • Fig. 5b shows a plan view of an embodiment of translucent beam shaping openings 525 in a second arrangement 520 or in a square grid.
  • the translucent beam-forming openings 525 of the beam-forming planar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to each other.
  • the second arrangement 520 of Fig. 5b characterized in that the translucent beam shaping openings 525 form a square grid.
  • the translucent beam-forming apertures 525 on the second side 114 may have a round shape, such that the second array 520 formed by the translucent beam-forming apertures 520 may have a square symmetry (square grid or quadratic symmetry grating).
  • Fig. 5c shows a plan view of an embodiment of translucent beam shaping openings 535 in a third arrangement 530 or in a rhombic grid.
  • the translucent beam shaping openings 535 of the beam-forming planar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to each other.
  • the third arrangement 530 of Fig. 5c characterized in that the translucent beam shaping openings 535 form a rhombic grid.
  • the translucent beam shaping openings 535 on the second side 114 may have an elliptical shape such that the third arrangement 530 formed by the translucent beam shaping openings 535 has a rhombic symmetry (rhombic grating or rhombic symmetry grating).
  • the translucent beam forming openings 515; 525; 535 of the beam-forming sheet-like structure 110 on the second side 114 thereof are regularly arranged next to one another, the regular arrangement 510; 520; 530 is, for example, a hexagonal, square, or rhombic, or triangular grid (or otherwise a grid filling the area).
  • the regular arrangements 510; 520; 530 from Fig. 5a to 5c may have any orientation or orientation (grid orientation) in the x, y plane.
  • the grid orientation can be defined, for example, with respect to the border of the area light source.
  • the arrangements should be suitably oriented with respect to the border of the area light source, so that efficient beam shaping of the light beams emitted by the area light source is made possible.
  • any other arrangements such as periodic or quasi-periodic arrangements with different lattice symmetries, are possible.
  • arrangements 510; 520; 530 are advantageous in that they allow a high or maximum transmission of the entire structure or of the reflective beam former.
  • the light-transmitting beam shaping openings 515; 525; 535 on the second side 114 of the jet-forming planar structure 110 or the outlet openings cover as large a part of the overall structure as possible.
  • the transmission through the beam-forming planar structure of the reflective beam shaper can thus be optimized so that an improved emission characteristic of the same can be generated.
  • Fig. 6 shows a side view of a reflective beam shaper 600 according to another embodiment of the present invention.
  • the in Fig. 6 Reflective beamformer 600 shown substantially corresponds to the reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1 , In the side view of Fig. 6 is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the reflective beam shaper 600 has two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2.
  • the two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2 of FIG Fig. 6 essentially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 ,
  • the reflective beam shaper 600 may be designed so that between the adjacent transparent beam shaping openings 615-1, 615-2, the ratio between the lateral extent L1, L1 'of the transparent beam shaping openings 615-1, 615-2 on the first 112 and the lateral extent L2, L2 'of the translucent beam shaping openings 615-1, 615-2 on the second side 114 changes laterally.
  • the second side 114 (aperture ratio L1 / L2) differs from the ratio between the lateral extent L1 'of a second of the two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent L2' of the second of the two adjacent ones translucent beam forming ports 615-1, 615-2 on the second side 114 (opening ratio L1 '/ L2').
  • the reflective beam shaper 600 may be configured such that the angle of inclination ( ⁇ , ⁇ ') of the translucent beam forming ports 615-1, 615-2 changes laterally.
  • the lateral change of the ratio or the pitch angle or the inclination angle along a lateral direction such.
  • the lateral change for example in the x-direction and in the y-direction may be the same or, for example, different in both directions.
  • the lateral change of the ratio of the opening ratio or the inclination angle is in FIG Fig. 6 indicated by the dotted line 611, which is substantially parallel to the first axis 101 of the coordinate system 104.
  • the ratio between the lateral extent (L1, L1 ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent (L2, L2') of the transparent beam shaping openings 615-1, 615- 2 on the second side 114 become larger or smaller in a lateral direction.
  • the opening ratio L1 / L2 defined by the first of the two adjacent transparent beam-forming openings 615-1, 615-2 may differ from the opening ratio L1 '/ L2 defined by the second of the two adjacent transparent beam-forming openings 615-1, 615-2 'differ.
  • the inclination angle ( ⁇ , ⁇ ') of the transparent beam shaping openings 615-1, 615-2 in a lateral direction become larger or smaller.
  • the spatial dependence of the emission characteristic generated by the reflective beamformer can be adjusted or adapted to a predetermined emission characteristic.
  • the ratio between the lateral extent (L1, L1 ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent (L2, L2') of the translucent beam forming openings (615-1, 615 -2) on the second side 114 and / or the inclination angle ( ⁇ , ⁇ ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 monotonically increase or decrease in a lateral direction.
  • the lateral change of the opening ratio or the inclination angle need not be monotone, but may also be periodic, quasi-periodic or segmented.
  • Fig. 7a, b 12 show side views of reflective beamformers 700-1, 700-2 according to further embodiments of the present invention.
  • the reflective beamformers 700-1, 700-2 shown in FIG. 1 essentially correspond to the reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1
  • the coordinate system 104 of Fig. 1 shown In the side views of Fig. 7a, b is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the beam-forming planar structure 710-1 of the reflective beamformer 700-1 (FIG. Fig. 7a ) and the beam-shaping areal structure 710-2 of the reflective beamformer 700-2 (FIG. Fig. 7b ) on the first side 112 and 712 of the same reflective.
  • the beam-shaping areal structure 710-1; 710-2 on the first page 112; 712 thereof By virtue of the fact that the beam-shaping areal structure 710-1; 710-2 on the first page 112; 712 thereof, light rays emitted from the surface light source 105 toward the beam-forming sheet 710-1; 710-2, at the first side 112; 712 (reflecting side) of the beam-forming sheet 710-1; 710-2 are reflected back to the area light source 105 again.
  • the light rays 711 reflected to the surface light source 105 can in turn be directed to the surface light source 105, which has its own reflectivity, in the direction of the beam-forming planar structure 710-1; 710-2 are reflected.
  • the in Fig. 7a b embodiments shown reflective reflectors 700-1; 700-2, which are based on efficient light recycling and with which a high luminous efficacy can be obtained.
  • the first side 712 of the beam-forming planar structure 710-2 between the translucent beam forming openings 115 for example, concave or be convex.
  • the first side 112; 712 between the translucent beam shaping openings 115 also have any other curvature or curvature.
  • Fig. 8a, b show side views of reflective beamformers 800-1; 800-2 according to further embodiments of the present invention.
  • the reflective beam former 800-1 in Fig. 8a includes, for example, the beam-forming planar structure 710-1 of Fig. 7a and a surface light source 805.
  • the reflective beam shaper 800-2 in FIG Fig. 8d includes, for example, the beam-forming planar structure 710-2 of Fig. 7b and the area light source 805.
  • Fig. 8a, b is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.
  • the area light source 805 may include structures 810 for improving the outcoupling (light extraction).
  • the light extraction from the area light source 805 can be significantly improved, so that the reflective beam formers 800-1; 800-2 or the systems with the surface light source 805 can be optimized in terms of their energy efficiency.
  • the intensity of the radiation of the reflective beam shaper 800-1; 800-2 can be maximized.
  • the combination of the surface light source 805 (with the structures 810 and the coupling-out structures) and the beam-forming planar structure 710-1; 710-2 an improved system can be created in which, on the one hand, increased energy efficiency and, on the other hand, simultaneously improved beam shaping for generating the desired emission characteristic can be achieved.
  • Fig. 9 shows a side view of a system 900 with two inventive reflective beam shaper 900-1; 900-2 for setting a radiation characteristic of a surface light source emitting on both sides, for example an OLED 905.
  • the two reflective beamformers 900-1; 900-2 of the system 900 include, for example, the beam-forming laminar structure 710-1; 710-2 from Fig. 7a , b.
  • the system 900 includes the reflective beamformer 900-1 and the further reflective beamformer 900-2.
  • the area light source 105 of Fig. 1 corresponding two-sided radiating surface light source (eg an OLED) 905 is arranged between the reflective beam shaper 900-1 and the further reflective beam shaper 900-2.
  • the radiation characteristic of the two-sided radiating surface light source 905 can pass through the beam-forming planar structure 710-1 of the reflective beam shaper 900-1 and the beam-shaping areal structure 710-2 of the further reflective beamformer 900-2 can be adjusted.
  • the desired emission characteristic can be generated in a first half space which adjoins a first side of the surface light source and in a second half space which adjoins a second side of the surface light source opposite the first side.
  • the first side 112 of the beam-forming sheet-like structure 110 between the light-transmitting beam-forming openings 115 may have a diffractive or diffusive structure, so that an angular mixing of reflected light components is achieved, whereby an improvement of the light recycling can be achieved.
  • the ratio between the lateral extent L1 of the transparent beam shaping openings 115 on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 and the lateral extent L2 of the transparent beam shaping openings 115 on the second side 114 of the beam-forming planar structure 110 is, for example, in a range of 1: 1, 4 to 1: 3.
  • the in Fig. 1 Reflective beamformer 100 shown may be designed such that a ratio between the lateral extent L2 of the transparent beam-forming openings 115 on the second side 114 and the thickness D of the beam-forming planar structure 110 between the first side 112 and the second side 114, for example in a range of 1 : 1.5 to 1:10 lies.
  • the translucent beam-forming apertures 115 of the beam-forming sheet-like structure 110 may be filled with a transparent material, so that the stability of the reflective beam-former 100 can be significantly increased.
  • a system may be implemented with the reflective beamformer 100, which further includes the area light source 105, and wherein the translucent beamforming apertures 115 of the beamforming areal structure 110 are filled with a transparent material, wherein the first side 112 of the beam-forming sheet-like structure 110 is adjacent to the surface light source 105.
  • the coupling-out efficiency of the surface light source 105 can be improved by taking into account the refractive index ratios in the transparent material of the transparent beam shaping openings 115 and in the area light source 105, the total internal reflection at the Interface of the surface light source 105 is avoided or at least partially suppressed.
  • FIGS. 10a . b show schematic representations to illustrate a radiation characteristic of a reflective beam shaper according to the invention.
  • a surface element dA outgoing radiation.
  • the emission characteristic or the emission profile is characterized by its dependence on locations, angles and the wavelength.
  • X and Y are the lateral location coordinates
  • ⁇ and ⁇ are polar and azimuth angles.
  • the function B (X, Y, ⁇ , ⁇ , ⁇ ) denotes by way of example any location, angle and wavelength-dependent emission characteristic.
  • is the wavelength.
  • the radiation characteristic of solid-state light sources such as organic light-emitting diodes (OLED) regulated by internals of their internal structure.
  • OLED organic light-emitting diodes
  • the emission generally takes place in the entire half space, wherein the emission profile typically by a Lambertian direction distribution with a surface normal (eg surface normal 1011 in Fig. 10a ) is characterized as the center.
  • the spatial distribution of the radiation pattern usually varies little.
  • any desired or complex emission characteristic can be generated, as shown by way of example in FIG Fig. 10a . b is shown.
  • Fig. 10b In the schematic representation of Fig. 10b
  • two polar diagrams 1001, 1002 are shown, with which the reflective beam shaper according to the invention (eg reflective beam shaper 100 according to FIG Fig. 1 ) generated radiation characteristic 1010, 1020 and the emission profile can be illustrated.
  • the in the polar diagram 1001 of Fig. 10b shown radiation pattern 1010 is characterized by a limited angular distribution, which may be beneficial for many applications of the reflective beam shaper.
  • a desired radiation characteristic of the reflective beam shaper are generated, wherein the generated radiation characteristic can be distinguished by a limited angular distribution and / or a deflection of the center of gravity of the angular distribution. This is particularly advantageous for many applications of reflective beam shapers, such as for setting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources.
  • the basic approach of the present invention is to provide a purely reflective structure (eg, reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1 ), in which the top and top surfaces (first and second sides 112, 114) are substantially parallel to the light-emitting surface of the planar light source (area light source 105).
  • the base and the top surface and the first and second sides 112, 114 are characterized in that they have a plurality of translucent openings, which are also connected by reflective inner surfaces (reflective side walls 117) to transparent areas or translucent beam forming openings 115th form.
  • the inlet openings of the light-permeable areas lying on the side facing the light source are smaller than the outlet openings located on the side facing away from the light source.
  • the translucent areas or translucent beam shaping openings 115 at an angle ⁇ to the interface normal normal (normal 201 in FIG Fig. 2a ) be inclined.
  • FIG Fig. 2b represents a beam-forming element, with which the radiation characteristic areal light sources can be adjusted without that different functional levels must be technologically complex or highly precisely aligned in the beam-forming element.
  • the best transmission of the overall structure is achieved when the exit apertures (cross sections on the second side 114) of the individual translucent apertures (beam shaping apertures) cover as much of the overall structure as possible.
  • this can be done by the in Fig. 5a to 5c shown embodiments can be achieved.
  • Advantageous embodiments of periodic or quasi-periodic arrays (first, second, and third arrays 510, 520, and 530) of the individual transmissive regions (translucent beamforming apertures 515, 525, 535) may be of hexagonal or square symmetry in round output apertures, while in elliptical symmetry Can be initial openings of rhombic symmetry ( Fig. 5a to 5c ).
  • suitable shapes of the intersection of the inner contour of the translucent region may be, for example, linear (conical), hyperbolic, parabolic or segmented, as well as without or with a tendency to normal to the surface, as shown in FIG Fig. 4a-h is shown by way of example.
  • other suitable changes in the lateral extent or cross-section of the translucent beam shaping openings from the first to the second Side of the beam-forming planar structure or along the thickness direction can be used, ie that these changes are z-dependent.
  • the surfaces of the reflective structure facing the light source may, for example, be concave or convexly curved for beam shaping.
  • an angular mixing of the reflected light component can be achieved, whereby an improvement of the light recycling can be achieved (see Fig. 7a, b ).
  • Such advantageous angle mixtures can be achieved in other embodiments by scattering or defractive structures on the light source facing surfaces of the reflective beam shaper or on the first side 112.
  • Fig. 8a, b In order to improve the light extraction from surface light sources, such as OLEDs, they can be provided with surface structures according to further embodiments (see Fig. 8a, b ). Furthermore, an embodiment which is advantageous in terms of energy efficiency for the beam shaping of area light sources can be achieved by the combination of area light sources with structures for improving the extraction (area light source 805) and reflective structures for beam shaping (beam-forming areal structure 710-1; 710-2) according to the invention it exemplifies in Fig. 8a, b is shown.
  • the lateral dimensions are typically very large in comparison to the thickness of the light source, the ratios of the lateral dimensions to the thickness usually being greater than 10: 1 and may even exceed 100: 1.
  • the reflective structure for beam shaping (beam-forming planar structure) can likewise be made thin. This is achieved, for example, by the fact that the size ratios of input and output Outlet openings of the individual transparent areas and the thickness of the reflective structure can be suitably scaled while maintaining the radiation characteristic.
  • particularly advantageous ratios of the lateral dimensions of the inlet and outlet openings of the light-permeable areas are in the range of 1: 1.5 and 1: 4.
  • particularly advantageous ratios of the lateral dimensions of the exit-side openings and the lengths of the light-permeable areas are in the range from 1: 2 to 1: 5 or even higher.
  • a reflective beamformer according to the invention for producing a desired emission characteristic with a deflection or a deflection angle of 35 ° and a half-value width of the angular distribution of 30 ° has a thickness of 0.8 mm, a radius of the entrance-side opening of the translucent region of 80 ⁇ m and a Ratio of the lateral dimensions of the inlet and outlet openings of the transparent areas of 1: 2.
  • Reflective beamforming sheet structures according to the present invention in which the transmissive regions are hollow (i.e., not filled with a material) can be produced, for example, by embossing techniques. Problems in shaping or demoulding in inclined, light-permeable areas can be avoided, for example, by virtue of the fact that the direction of movement of the punch or die corresponds to the direction of inclination of the light-permeable structure. Other manufacturing methods such. As injection molding are also applicable, but the production techniques cited are not exhaustive list.
  • the structures are produced in transparent materials, for example in thin plastic films, they must be coated in a reflective manner after shaping. This production step can be omitted if metal foils are directly structured. For example, sputtering methods with which reflective metal layers can be produced can be used for the coating. In addition to metallic coatings, it is likewise possible to use dielectric layers in order to design the overall reflection behavior of the interfaces of the reflective structure as a function of the wavelength and the angle of incidence.
  • the translucent beam forming ports may be filled with a transparent material, such as a polymer.
  • a transparent material such as a polymer.
  • the directivity can be influenced by the choice of the filling material via the refractive index, wherein further filling material-specific effects, such as, for example, a wavelength-dependent transmission, can be utilized.
  • filled reflective beam shaper such as by gluing, be brought into direct contact with the surface light source, so that the Auskoppeleffizienz from the surface light source thereby improves that depending on the refractive index ratios, the total internal reflection at the interface of the surface light source at least partially suppressed becomes.
  • the refraction of light occurring at the exit opening of the transparent area which reduces the possibility of the angle restriction, should be taken into account.
  • location-independent angular distributions can be realized on average.
  • the emission characteristic of the surface light source corresponds to 1: 1 of the radiation characteristic of the individual translucent opening.
  • location-dependent radiation characteristics can be realized (see Fig. 6 ). For the design of the individual translucent openings are the same degrees of freedom as shown above.
  • the light distribution in both directions of radiation can be adjusted, as in relation to Fig. 9 is described.
  • the respective reflective beam shaper can have both identical and different designs (see Fig. 9 ).
  • Embodiments of the present invention provide a reflective beamformer for adjusting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources.
  • the reflective beamformer according to the invention the generation of a broadly adjustable radiation characteristic of a planar light source by a reflective overall structure, in which individual translucent and jet-forming openings are arranged periodically or variably, allows.
  • OLED organic light-emitting diodes
  • OLED organic light-emitting diodes
  • transparent OLED transparent OLED
  • embodiments of the present invention allow limited angular distribution and / or deflection of the center of gravity of the angular distribution (see Fig. 10a . b ).
  • embodiments of the present invention provide an improved way of adjusting the radiation characteristic of areal light sources.
  • embodiments of the present invention enable a largely free adjustability of the radiation characteristic of planar light sources, wherein a technologically complex or highly precise alignment of different functional levels (apertures, lenses, etc.) can be avoided in the manufacture of the beam shaper.
  • the present invention can be used primarily in lighting, as well as for all applications in which flat light sources with special emission characteristics must be used.

Description

Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung beziehen sich auf einen reflektiven Strahlformer zum Erzeugen einer gewünschten Abstrahlcharakteristik aus einer Abstrahlcharakteristik einer Flächenlichtquelle. Weitere Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung beziehen sich auf einen reflektiven Strahlformer zur Einstellung beliebig gerichteter Abstrahlprofile von Flächenlichtquellen.Embodiments of the present invention relate to a reflective beamformer for generating a desired radiation characteristic from a radiation characteristic of a surface light source. Further embodiments of the present invention relate to a reflective beam shaper for setting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources.

Zur Gestaltung von speziellen Lichtverteilungen werden im Stand der Technik verschiedene Beleuchtungseinrichtungen eingesetzt.For the design of special light distributions, various lighting devices are used in the prior art.

Bekannte pyramidenartige refraktive Strukturen liefern beispielsweise Winkelverteilungen in ein bzw. zwei Richtungen, die auf etwa + 30° eingeschränkt werden können. Dazu können beispielsweise 1D-Prismen, 2D-Prismen oder gekreuzte 1D-Prismen, wie es beispielsweise in der WO 2006/073916 A1 beschrieben ist, verwendet werden. Mit bekannten eindimensionalen refraktiven Prismen-Arrays lassen sich beispielsweise Ablenkungen von etwa 20° erreichen.Known pyramidal refractive structures provide, for example, angular distributions in one or two directions, which can be limited to approximately + 30 °. For example, 1D prisms, 2D prisms or crossed 1D prisms, as described, for example, in US Pat WO 2006/073916 A1 is described. With known one-dimensional refractive prism arrays, for example, deflections of about 20 ° can be achieved.

Die US 2011/0018009 A1 beschreibt beispielsweise eine selektive Verspiegelung von Teilflächen in prismatischen 1D-Arrays, die größere Ablenkwinkel ermöglicht und Gestaltungsmöglichkeiten für eine Strahlformung in einer Richtung ermöglicht.The US 2011/0018009 A1 describes, for example, a selective mirroring of partial areas in prismatic 1D arrays, which allows larger deflection angles and allows design possibilities for beam shaping in one direction.

In der US 7,706,073 B2 wird beispielsweise beschrieben, wie sich durch die Verwendung von Arrays von Mikrolinsen und Blenden mit gleichen Mittenpositionen eine sehr deutliche Einschränkung der Lichtverteilung ("Kollimation") erreichen lässt.In the US 7,706,073 B2 For example, it is described how the use of arrays of microlenses and diaphragms with the same center positions can achieve a very clear restriction of the light distribution ("collimation").

In der DE 10 2009 016 234 A1 wird beispielsweise beschrieben, wie durch geeignete Blendenformen und deren Anordnung relativ zu Mikrolinsen bzw. refraktiven Freiformelementen weitgehend beliebige Abstrahlcharakteristiken eingestellt werden können.In the DE 10 2009 016 234 A1 For example, it is described how, by means of suitable diaphragm shapes and their arrangement, largely any radiation characteristics can be set relative to microlenses or refractive free-form elements.

Ein generelles Problem der im Vorhergehenden beschriebenen bekannten Konzepte zur Erzeugung einer gewünschten Abstrahlcharakteristik ist jedoch, dass die Abstrahlcharakteristik nur begrenzt eingestellt werden kann und eine präzise Ausrichtung von mehreren zur Formung der Abstrahlcharakteristik notwendigen verschiedenen Funktionsebenen, wie beispielsweise Blenden und Linsen bzw. Freiformelemente, schwierig ist.However, a general problem with the known concepts described above for producing a desired emission characteristic is that the emission characteristic can only be adjusted to a limited extent and precise alignment of several to the other Forming the radiation characteristic necessary various functional levels, such as diaphragms and lenses or free-form elements, is difficult.

Die WO 2008/122907 A2 beschreibt eine Lichtemissionsvorrichtung mit einem Schichtstapel beinhaltend eine zwischen zwei Elektrodenschichten angeordnete organische Lichtemissionsschicht, wobei auf dem Schichtstapel eine Abschirmungsstruktur angeordnet ist, welche eine Mehrzahl von Lamellenelementen aufweist, die sich blatt-förmig von dem Schichtstapel in einer solchen Art und Weise wegerstrecken, dass die Lamellenelemente das künstlich erzeugte Licht der organischen Lichtemissionsschicht aus der Lichtemissionsvorrichtung führen. Die Lamellenelemente sind an dem Schichtstapel über eine nicht näher beschriebene Befestigungseinrichtung befestigt.The WO 2008/122907 A2 describes a light emitting device comprising a layer stack including an organic light emission layer disposed between two electrode layers, wherein a shielding structure is arranged on the layer stack having a plurality of fin elements extending in a sheet shape from the layer stack in such a manner that the fin elements lead the artificially generated light of the organic light emission layer from the light emitting device. The lamellar elements are attached to the layer stack via a fastening device not described in detail.

Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht daher darin, einen reflektiven Strahlformer zu schaffen, der eine flexiblere Einstellbarkeit einer Abstrahlcharakteristik ermöglicht und gleichzeitig durch eine vereinfachte oder sogar zuverlässigere Bauweise ausgezeichnet ist.The object of the present invention is therefore to provide a reflective beam shaper, which allows a more flexible adjustability of a radiation characteristic and at the same time is distinguished by a simplified or even more reliable design.

Diese Aufgabe wird durch einen reflektiven Strahlformer nach Anspruch 1 gelöst.This object is achieved by a reflective beam shaper according to claim 1.

Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen einen reflektiven Strahlformer zum Erzeugen einer gewünschten Abstrahlcharakteristik aus einer Abstrahlcharakteristik einer Flächenlichtquelle mit einer strahlformenden flächigen Struktur mit einer Mehrzahl von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen. Hierbei erstrecken sich die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen von einer der Flächenlichtquelle zuzuwendenden ersten Seite zu einer der ersten Seite gegenüberliegenden zweiten Seite durch die strahlformende flächige Struktur. Ferner weisen die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen reflektierende Seitenwände auf. Eine laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite der strahlformenden flächigen Struktur ist kleiner als eine laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur, so dass die Abstrahlcharakteristik der Flächenlichtquelle bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur auf die gewünschte Abstrahlcharakteristik geändert wird.Embodiments of the present invention provide a reflective beamformer for generating a desired radiation characteristic from an emission characteristic of a surface light source having a beam-forming laminar structure with a plurality of light-transmitting beam-shaping openings. Here, the light-transmitting beam shaping openings extend from a first side facing the surface light source to a second side opposite the first side through the beam-forming planar structure. Furthermore, the translucent beam shaping openings have reflective side walls. A lateral extent of the translucent beam-forming openings on the first side of the beam-forming planar structure is smaller than a lateral extent of the transparent beam-forming openings on the second side of the beam-forming planar structure, such that the emission characteristic of the planar light source changes to the desired radiation characteristic as it passes through the beam-forming planar structure becomes.

Der Kerngedanke der vorliegenden Erfindung ist, dass die oben genannte flexiblere Einstellbarkeit der Abstrahlcharakteristik bei einer gleichzeitig vereinfachten oder sogar zuverlässigeren Bauweise des reflektiven Strahlformers erreicht werden kann, wenn lichtdurchlässige Strahlformungsöffnungen mit reflektierenden Seitenwänden bereitgestellt werden und eine laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite der strahlformenden flächigen Struktur kleiner ist als eine laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur. Dadurch kann die Abstrahlcharakteristik der Flächenlichtquelle bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur auf die gewünschte Abstrahlcharakteristik geändert werden. Somit kann einerseits die flexiblere Einstellbarkeit der Abstrahlcharakteristik erreicht werden, und andererseits kann gleichzeitig ein hoher Aufwand für die präzise Ausrichtung von verschiedenen Funktionsebenen des Strahlformers vermieden werden. Hierbei kann von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen mit reflektierenden Seitenwänden Gebrauch gemacht und gleichzeitig ein ausgewähltes Verhältnis zwischen einer lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite der strahlformenden flächigen Struktur und einer lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur verwendet werden.
Bei weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung sind die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen der strahlformenden flächigen Struktur unter einem vorbestimmten Neigungswinkel gegen eine Normale der strahlformenden flächigen Struktur geneigt. Durch die Neigung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in der strahlformenden flächigen Struktur kann die mit dem reflektiven Strahlformer erzeugte Abstrahlcharakteristik eingestellt werden, so dass beispielsweise ein vorbestimmter Abstrahlwinkel oder eine vorbestimmte Ablenkung eines Schwerpunkts einer Winkelverteilung erhalten werden kann. Erfindungsgemäß ist die strahlformende flächige Struktur auf der ersten Seite derselben reflektierend. Somit können Lichtstrahlen, die von der Flächenlichtquelle in Richtung der strahlformenden flächigen Struktur abgestrahlt werden, an der ersten Seite der strahlformenden flächigen Struktur wieder zurück zu der Flächenlichtquelle reflektiert werden. Die zu der Flächenlichtquelle reflektierten Lichtstrahlen können wiederum an der Flächenlichtquelle in Richtung der strahlformenden flächigen Struktur reflektiert werden. Dadurch können mehrfache Reflexionen (Mehrfachreflexionen) der von der Flächenlichtquelle abgestrahlten Lichtstrahlen zwischen der strahlformenden flächigen Struktur und der Flächenlichtquelle erzeugt werden, so dass eine effiziente Ausnutzung der Lichtmenge bzw. ein effizientes "Licht-Recycling" erhalten werden kann.
Bei weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung ändert sich zwischen benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite und der lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der zweiten Seite oder der Neigungswinkel der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen lateral. Durch die laterale Änderung des Verhältnisses zwischen der lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite und der lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der zweiten Seite oder des Neigungswinkels kann eine ortsabhängige Abstrahlcharakteristik bzw. Winkelverteilung realisiert werden.
The core idea of the present invention is that the above-mentioned more flexible adjustability of the radiation pattern can be achieved with a simultaneously simplified or even more reliable design of the reflective beam shaper, if transparent beam shaping openings with reflective side walls are provided and a lateral extent of the transparent beam shaping openings the first side of the beam-forming areal structure is smaller than a lateral extent of the translucent beam-forming openings on the second side of the beam-forming areal structure. As a result, the emission characteristic of the surface light source can be changed to the desired emission characteristic as it passes through the beam-forming planar structure. Thus, on the one hand, the more flexible adjustability of the emission characteristic can be achieved and, on the other hand, a high outlay for the precise alignment of different functional levels of the beam former can be avoided at the same time. In this case, use can be made of translucent beam shaping openings having reflective side walls and at the same time a selected ratio between a lateral extent of the translucent beam forming openings on the first side of the beam-forming planar structure and a lateral extension of the transparent beam-forming openings on the second side of the beam-forming sheet-like structure can be used.
In further embodiments of the present invention, the translucent beam shaping apertures of the beam-forming sheet structure are inclined at a predetermined angle of inclination to a normal of the beam-forming sheet-like structure. Due to the inclination of the light-transmitting beam shaping openings in the beam-forming planar structure, the emission characteristic generated by the reflective beamformer can be adjusted so that, for example, a predetermined emission angle or a predetermined deflection of a center of gravity of an angular distribution can be obtained. According to the invention, the beam-forming planar structure is reflective on the first side thereof. Thus, light rays emitted from the surface light source in the direction of the beam-forming sheet structure can be reflected back to the surface light source on the first side of the beam-forming sheet structure. The light beams reflected to the surface light source can in turn be reflected at the surface light source in the direction of the beam-forming planar structure. As a result, multiple reflections (multiple reflections) of the light beams emitted by the area light source can be generated between the beam-forming areal structure and the area light source, so that an efficient utilization of the amount of light or an efficient "light recycling" can be obtained.
In other embodiments of the present invention, the ratio between the lateral extent of the translucent beamforming apertures on the first side and the lateral extent of the transmissive beamforming apertures on the second side or the inclination angle of the translucent beamforming apertures changes laterally between adjacent translucent beamforming apertures. By the lateral change of the ratio between the lateral extent of the translucent beam shaping openings on the first side and the lateral extent of the translucent beam shaping openings on the second side or the angle of inclination, a location-dependent emission characteristic or angular distribution can be realized.

Weitere Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen ein System mit einem reflektiven Strahlformer, das ferner einen weiteren erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformer aufweist, wobei die Flächenlichtquelle eine beidseitig abstrahlende Flächenlichtquelle ist, bspw. eine OLED (organic light emitting diode, organische Leuchtdiode), die zwischen dem reflektiven Strahlformer und dem weiteren reflektiven Strahlformer angeordnet ist. Durch die Anordnung der beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle zwischen dem reflektiven Strahlformer und dem weiteren reflektiven Strahlformer kann die Abstrahlcharakteristik der beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur des reflektiven Strahlformers und die strahlformende flächige Struktur des weiteren reflektiven Strahlformers eingestellt werden. Somit kann bei einer beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle die gewünschte Abstrahlcharakteristik in einem ersten Halbraum, der an eine erste Seite der Flächenlichtquelle angrenzt und in einem zweiten Halbraum, der an eine der ersten Seite gegenüberliegende zweite Seite der Flächenlichtquelle angrenzt, erzeugt werden.Further embodiments of the present invention provide a system with a reflective beam shaper, which further comprises a further inventive reflective beam shaper, wherein the surface light source is a two-sided radiating surface light source, for example. An OLED (organic light emitting diode), between the reflective beam shaper and the further reflective beam shaper is arranged. By arranging the surface emitting light source radiating on both sides between the reflective beam shaper and the further reflective beam shaper, the radiation characteristic of the surface light source radiating on both sides can be adjusted as it passes through the beam-forming planar structure of the reflective beam shaper and the beam-forming surface structure of the further reflective beam shaper. Thus, in a two-sided radiating surface light source, the desired radiation characteristic in a first half-space adjacent to a first side of the surface light source and in a second half-space adjacent to one of the first side opposite second side of the surface light source can be generated.

Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend Bezug nehmend auf die beiliegenden Figuren, in denen gleiche oder gleichwirkende Elemente mit gleichen Bezugszeichen bezeichnet sind, näher erläutert. Es zeigen:

Fig. 1
eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2a
eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 2b
eine perspektivische Ansicht des Ausführungsbeispiels des reflektiven Strahlformers gemäß Fig. 2a;
Fig. 3a-3f
Draufsichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen mit zueinander kongruenten Querschnitten gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4a-4d
Seitenansichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen mit einer sich ändernden lateralen Ausdehnung gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 4e-4h
Seitenansichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen mit einer sich ändernden lateralen Ausdehnung gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 5a
eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in einem hexagonalen Gitter;
Fig. 5b
eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in einem quadratischen Gitter;
Fig. 5c
eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in einem rhombischen Gitter;
Fig. 6
eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung;
Fig. 7a,b
Seitenansichten von reflektiven Strahlformern gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 8a,b
Seitenansichten von reflektiven Strahlformern gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung;
Fig. 9
eine Seitenansicht eines Systems mit zwei erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformern zum Einstellen einer Abstrahlcharakteristik einer beidseitig abstrahlenden OLED; und
Fig. 10a,b
schematische Darstellungen zur Veranschaulichung einer Abstrahlcharakteristik eines erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformers.
Embodiments of the present invention will be explained in more detail below with reference to the accompanying figures, in which identical or equivalent elements are designated by the same reference numerals. Show it:
Fig. 1
a side view of a reflective beamformer according to an embodiment of the present invention;
Fig. 2a
a side view of a reflective beam former according to another embodiment of the present invention;
Fig. 2b
a perspective view of the embodiment of the reflective beam shaper according to Fig. 2a ;
Fig. 3a-3f
Top views of translucent beam forming openings with mutually congruent cross-sections according to embodiments of the present invention;
Fig. 4a-4d
Side views of translucent beam shaping apertures with a varying lateral extent according to embodiments of the present invention;
Fig. 4e-4h
Side views of translucent beam forming openings with a varying lateral extent according to further embodiments of the present invention;
Fig. 5a
a plan view of an embodiment of translucent beam forming openings in a hexagonal grid;
Fig. 5b
a plan view of an embodiment of translucent beam shaping openings in a square grid;
Fig. 5c
a plan view of an embodiment of translucent beam forming openings in a rhombic grid;
Fig. 6
a side view of a reflective beam former according to another embodiment of the present invention;
Fig. 7a, b
Side views of reflective beamformers according to further embodiments of the present invention;
Fig. 8a, b
Side views of reflective beamformers according to further embodiments of the present invention;
Fig. 9
a side view of a system with two reflective beam shapers according to the invention for adjusting a radiation characteristic of a double-sided radiating OLED; and
Fig. 10a, b
schematic representations to illustrate a radiation characteristic of a reflective beam shaper according to the invention.

Bevor im Folgenden die vorliegende Erfindung anhand der Figuren näher erläutert wird, wird darauf hingewiesen, dass in den nachfolgend dargestellten Ausführungsbeispielen gleiche Elemente oder funktionell gleiche Elemente in den Figuren mit den gleichen Bezugszeichen versehen sind. Eine Beschreibung von Elementen mit gleichen Bezugszeichen ist daher gegenseitig austauschbar und/oder in den verschiedenen Ausführungsbeispielen aufeinander anwendbar.Before the present invention is explained in more detail below with reference to the figures, it is pointed out that in the exemplary embodiments illustrated below, identical elements or functionally identical elements in the figures are provided with the same reference numerals. A description of elements with the same reference numerals is therefore interchangeable and / or applicable to each other in the various embodiments.

Fig. 1 zeigt eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers 100 gemäß einem Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Wie in Fig. 1 gezeigt, weist der reflektive Strahlformer 100 eine strahlformende flächige Struktur 110 mit einer Mehrzahl von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf. Hierbei erstrecken sich die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 von einer der Flächenlichtquelle 105 zuzuwendenden ersten Seite 112 zu einer der ersten Seite 112 gegenüberliegenden zweiten Seite 114 durch die strahlformende flächige Struktur 110. Ferner weisen die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 reflektierende Seitenwände 117 auf. Bei dem in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel ist eine laterale Ausdehnung L1 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der ersten Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 kleiner als eine laterale Ausdehnung L2 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der zweiten Seite 114 der strahlformenden flächigen Struktur 110. Dadurch wird es ermöglicht, dass die Abstrahlcharakteristik der Flächenlichtquelle 105 bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur 110 auf die gewünschte Abstrahlcharakteristik geändert werden kann. Fig. 1 shows a side view of a reflective beamformer 100 according to an embodiment of the present invention. As in Fig. 1 1, the reflective beam former 100 has a beam-forming planar structure 110 with a plurality of light-transmitting beam shaping openings 115. In this case, the light-transmitting beam shaping openings 115 extend from the first side 112 facing the surface light source 105 to the second side 114 opposite the first side 112 through the beam-forming planar structure 110. Furthermore, the transparent beam-forming openings 115 have reflective side walls 117. At the in Fig. 1 In the embodiment shown, a lateral extent L1 of the translucent beam shaping openings 115 on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 is smaller than a lateral extent L2 of the translucent beam shaping openings 115 on the second side 114 of the beam-forming planar structure 110. This makes it possible for the emission characteristic the surface light source 105 can be changed to the desired radiation characteristic when passing through the beam-forming planar structure 110.

In Fig. 1 ist ein Koordinatensystem 104 mit einer ersten, einer zweiten und einer dritten Achse 101, 102, 103 gezeigt. Hierbei sind die erste und die zweite Achse 101, 102 (x-, y-Achsen) des Koordinatensystems 104 im Wesentlichen parallel zu einer Oberfläche der strahlformenden flächigen Struktur 110, während die dritte Achse 103 des Koordinatensystems 104 (z-Achse) im Wesentlichen senkrecht zu der Oberfläche der strahlformenden flächigen Struktur 110 ist. Ferner entsprechen eine erste laterale Richtung (x-Richtung) einer Richtung parallel zu der ersten Achse 101 (x-Achse) des Koordinatensystems 104 und eine zweite laterale Richtung (y-Richtung) einer Richtung parallel zu der zweiten Achse 102 (y-Achse) des Koordinatensystems 104, während eine vertikale Richtung (z-Richtung) einer Richtung parallel zu der dritten Achse 103 des Koordinatensystems 104 entspricht. In Fig. 1 ist die erste laterale Richtung parallel zur Zeichenebene, während die zweite laterale Richtung senkrecht zur Zeichenebene ist. Die von der ersten und der zweiten Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 aufgespannte Ebene (x-,y-Ebene) ist im Wesentlichen parallel zu der Oberfläche bzw. der flächigen Ausdehnung der strahlformenden flächigen Struktur 110. Ferner erstreckt sich eine laterale Ausdehnung entlang einer lateralen Richtung (z. B. in x-Richtung, in y-Richtung oder in irgendeine andere Richtung in der x-,y-Ebene), während sich eine vertikale Ausdehnung entlang der vertikalen Richtung (bzw. entlang der Dicke-Richtung der strahlformenden flächigen Struktur 110) erstreckt. Wie bei dem Ausführungsbeispiel von Fig. 1 gezeigt, ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 in vertikaler Richtung (d. h., z-abhängig), so dass die laterale Ausdehnung L1 kleiner ist als die laterale Ausdehnung L2.In Fig. 1 For example, a coordinate system 104 having first, second, and third axes 101, 102, 103 is shown. Here, the first and second axes 101, 102 (x, y axes) of the coordinate system 104 are substantially parallel to a surface of the beam-forming sheet 110, while the third axis 103 of the coordinate system 104 (z-axis) is substantially perpendicular to the surface of the jet-forming sheet-like structure 110. Further, a first lateral direction (x direction) corresponds to a direction parallel to the first axis 101 (x axis) of the coordinate system 104 and a second lateral direction (y direction) to a direction parallel to the second axis 102 (y axis) of the coordinate system 104, while a vertical direction (z-direction) corresponds to a direction parallel to the third axis 103 of the coordinate system 104. In Fig. 1 is the first lateral direction parallel to the plane of the drawing, while the second lateral direction is perpendicular to the plane of the drawing. The plane (x, y plane) spanned by the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 is substantially parallel to the surface or areal extent of the beam-forming planar structure 110. Furthermore, a lateral extent extends along one lateral direction (eg in the x-direction, in the y-direction or in any other direction in the x, y plane), while a vertical extension along the vertical direction (or along the thickness direction of the beam-forming planar structure 110). As in the embodiment of Fig. 1 4, the lateral extent of the translucent beam forming openings 115 changes in the vertical direction (ie, z-dependent), so that the lateral extent L1 is smaller than the lateral extent L2.

Bei Ausführungsbeispielen kann die Abstrahlcharakteristik der Flächenlichtquelle 105 durch eine Lambertsche Richtungsverteilung gekennzeichnet sein.In embodiments, the radiation characteristic of the area light source 105 may be characterized by a Lambertian directional distribution.

Bei dem in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel kann das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L1 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 und der lateralen Ausdehnung L2 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 (Öffnungsverhältnis) so ausgewählt werden, dass die gewünschte Abstrahlcharakteristik des reflektiven Strahlformers 100 erhalten werden kann. Durch das Bereitstellen eines ausgewählten Öffnungsverhältnisses kann ein hoher Aufwand für die präzise Ausrichtung von verschiedenen Funktionsebenen des Strahlformers vermieden werden. Gleichzeitig kann eine flexiblere Einstellbarkeit der Abstrahlcharakteristik erreicht werden, indem das Öffnungsverhältnis für die jeweilige Abstrahlcharakteristik angepasst wird.At the in Fig. 1 In the embodiment shown, the ratio between the lateral extent L1 of the translucent beam shaping apertures on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 and the lateral extent L2 of the translucent beam-forming apertures 115 on the second side of the beam-forming planar structure 110 (aperture ratio) can be selected such that the desired emission characteristic of the reflective beamformer 100 can be obtained. By providing a selected aperture ratio, a high outlay for the precise alignment of different functional planes of the beam former can be avoided. At the same time, a more flexible adjustability of the emission characteristic can be achieved by adjusting the aperture ratio for the respective emission characteristic.

Ferner können bei dem in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel die reflektierenden Seitenwände 117 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 dazu verwendet werden, Lichtstrahlen 111, die von der Flächenlichtquelle 105 abgestrahlt werden und bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur 110 an den reflektierenden Seitenwänden 117 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 reflektiert werden, jeweils in eine vorgegebene Richtung abzulenken, so dass die gewünschte Abstrahlcharakteristik erzeugt werden kann. In Fig. 1 sind die Reflexionen der Lichtstrahlen 111 an den reflektierenden Seitenwänden 117 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 durch die gestrichelten Pfeile angedeutet.Furthermore, in the in Fig. 1 In the embodiment shown, the reflecting sidewalls 117 of the translucent beam forming ports 115 are used to reflect light beams 111 radiated from the area light source 105 and reflected on the reflecting sidewalls 117 of the translucent beam forming ports 115 as they pass through the beam-forming laminar structure 110, respectively in a predetermined direction deflect, so that the desired radiation characteristic can be generated. In Fig. 1 the reflections of the light rays 111 on the reflective sidewalls 117 of the translucent beam shaping apertures 115 are indicated by the dashed arrows.

Fig. 2a zeigt eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers 200 gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Der in Fig. 2a gezeigte reflektive Strahlformer 200 entspricht im Wesentlichen dem in Fig. 1 gezeigten reflektiven Strahlformer 100. Allerdings sind bei dem in Fig. 2a gezeigten reflektiven Strahlformer 200 die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 der strahlformenden flächigen Struktur 110 unter einem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen eine Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt. Fig. 2a shows a side view of a reflective beam shaper 200 according to another embodiment of the present invention. The in Fig. 2a Reflective beamformer 200 shown substantially corresponds to that in FIG Fig. 1 The reflective beamformer 100 shown in FIG Fig. 2a The reflective beamformer 200 shown in FIG. 2, the transparent beam shaping openings 115 of the beam-forming sheet-like structure 110 at a predetermined inclination angle α against a normal 201 of the beam-forming sheet-like structure 110 inclined.

In Fig. 2a ist wiederum das Koordinatensystem 104 von Fig. 1 gezeigt, wobei die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 parallel zu der Oberfläche bzw. der flächigen Ausdehnung der strahlformenden flächigen Struktur 110 sind, während die dritte Achse 103 des Koordinatensystems 104 senkrecht zu der Oberfläche bzw. der flächigen Ausdehnung der strahlformenden flächigen Struktur 110 ist. Wie in Fig. 2a gezeigt, erstreckt sich die Normale 201 in vertikaler Richtung und dient als Referenz für den Neigungswinkel α der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115. Bei dem in Fig. 2a gezeigten Ausführungsbeispiel kann der Neigungswinkel α durch eine Gerade (gestrichelte Linie 215) bestimmt werden, wobei die Gerade durch einen ersten Mittelpunkt 211 einer der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der ersten Seite 112 und einen zweiten Mittelpunkt 213 der jeweiligen der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der zweiten Seite 114 definiert ist. Aus dem vorbestimmten Neigungswinkel α der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 ergibt sich bei einer gegebenen Dicke D der strahlformenden flächigen Struktur 110 eine von dem Neigungswinkel α abhängige Länge L der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 entlang der gestrichelten Linie 215. Von dieser Länge L hängt wiederum die Abstrahlcharakteristik ab, die mit dem reflektiven Strahlformer 200 erzeugt werden kann. Somit kann durch die Neigung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α die Abstrahlcharakteristik des reflektiven Strahlformers 200 eingestellt werden. Beispielsweise kann hierbei ein vorbestimmter Abstrahlwinkel oder eine vorbestimmte Ablenkung eines Schwerpunkts einer Winkelverteilung erhalten werden kann.In Fig. 2a is again the coordinate system 104 of Fig. 1 wherein the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 are parallel to the surface of the beam-forming sheet-like structure 110, while the third axis 103 of the coordinate system 104 is perpendicular to the surface Expansion of the beam-forming sheet-like structure 110 is. As in Fig. 2a 2, the normal 201 extends in the vertical direction and serves as a reference for the angle of inclination α of the translucent beam shaping openings 115 Fig. 2a In the exemplary embodiment shown, the angle of inclination α can be determined by a straight line (dashed line 215), the straight line passing through a first center 211 of one of the translucent beam forming openings 115 on the first side 112 and a second center 213 of the respective translucent beam forming openings 115 on the second side 114 is defined. From the predetermined angle of inclination α of the translucent beam shaping apertures 115 results in a given thickness D of the beam-forming sheet-like structure 110 dependent on the inclination angle α length L of the translucent beam forming openings 115 along the dashed line 215th From this length L in turn depends on the emission, the can be generated with the reflective beam shaper 200. Thus, by the inclination of the translucent beam forming openings 115 at the predetermined inclination angle α, the radiation characteristic of the reflective beam former 200 can be adjusted. For example, in this case, a predetermined emission angle or a predetermined deflection of a center of gravity of an angular distribution can be obtained.

Fig. 2b zeigt eine perspektivische Ansicht des Ausführungsbeispiels des reflektiven Strahlformers 200 gemäß Fig. 2a. In der perspektivischen Ansicht von Fig. 2b sind die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115, die sich durch die strahlformende flächige Struktur 210 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 erstrecken, zu erkennen. Ferner ist in Fig. 2b wiederum das Koordinatensystem 104 von Fig. 1 gezeigt. Bei dem in Fig. 2b gezeigten Ausführungsbeispiel weist der reflektive Strahlformer 200 eine zweidimensionale Anordnung von regelmäßig nebeneinander angeordneten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 in der strahlformenden flächigen Struktur 210 auf. Wie es in Fig. 2b dargestellt ist, können die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 beispielweise entlang der regelmäßig nebeneinander angeordneten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 in der zweidimensionale Anordnung (bzw. in dem Raster) von Fig. 2b ausgerichtet sein. Durch die zweidimensionale Anordnung von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 gemäß Fig. 2b kann die Abstrahlcharakteristik der unterhalb der strahlformenden flächigen Struktur 210 angeordneten Flächenlichtquelle 105 (nicht gezeigt in Fig. 2b) eingestellt werden, ohne dass verschiedene Funktionsebenen in der strahlformenden flächigen Struktur 210 des reflektiven Strahlformers 200 präzise zueinander ausgerichtet werden müssen. Somit kann ein hoher Aufwand für die präzise Ausrichtung von verschiedenen Funktionsebenen des Strahlformers vermieden werden. Fig. 2b shows a perspective view of the embodiment of the reflective beam shaper 200 according to Fig. 2a , In the perspective view of Fig. 2b For example, the translucent beam shaping openings 115 that extend through the beam-forming planar structure 210 from the first to the second side 112, 114 can be seen. Furthermore, in Fig. 2b in turn, the coordinate system 104 of Fig. 1 shown. At the in Fig. 2b In the exemplary embodiment shown, the reflective beamformer 200 has a two-dimensional arrangement of translucent beam-forming openings 115 arranged regularly adjacent to one another in the beam-forming planar structure 210. As it is in Fig. 2b For example, the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 may be along the regularly juxtaposed translucent beam forming apertures 115 in the two-dimensional array (or grid) of FIG Fig. 2b be aligned. Due to the two-dimensional arrangement of transparent beam shaping openings 115 according to FIG Fig. 2b For example, the radiation characteristic of the surface light source 105 (not shown in FIG. 2) arranged below the beam-forming planar structure 210 may be used Fig. 2b ) without having to precisely align different functional planes in the beam-forming sheet 210 of the reflective beam former 200. Thus, a high cost for the precise alignment of different functional levels of the beam former can be avoided.

Fig. 3a bis 3f zeigen Draufsichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 310; 320; 330; 340; 350; 360 mit zueinander kongruenten Querschnitten 312, 314; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364 gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung. Die in Fig. 3a bis 3f gezeigten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 310, 320, 330, 340, 350, 360 entsprechen im Wesentlichen den in Fig. 1 gezeigten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 des reflektiven Strahlformers 100. In Fig. 3a bis 3f sind die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 von Fig. 1 gezeigt. Hierbei spannen die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 die x-,y-Ebene auf. Bei den in Fig. 3a bis 3f gezeigten Ausführungsbeispielen weisen die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 310, 320, 330, 340, 350, 360 der strahlformenden flächigen Struktur 110 auf der ersten und der zweiten Seite 112, 114 derselben einen ersten bzw. zweiten Querschnitt 312, 314; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364 auf, die eine runde, elliptische, viereckige oder mehreckige Form (oder jegliche anderweitige Form) haben und zueinander kongruent und in lateraler Richtung gegeneinander versetzt oder zentriert angeordnet sind. Hierbei entspricht die laterale Richtung wiederum einer Richtung parallel zu der von der ersten und der zweiten Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 aufgepannten x-,y-Ebene. Der laterale Versatz der gegeneinander versetzten Querschnitte erfolgt z. B. in x-Richtung, in y-Richtung oder in irgendeine andere laterale Richtung in der x-,y-Ebene. Fig. 3a to 3f show plan views of translucent beam forming ports 310; 320; 330; 340; 350; 360 with mutually congruent cross sections 312, 314; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364 according to embodiments of the present invention. In the Fig. 3a to 3f The translucent beam shaping apertures 310, 320, 330, 340, 350, 360 shown in FIG Fig. 1 shown translucent beam shaping openings 115 of the reflective beam shaper 100. In Fig. 3a to 3f are the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 of FIG Fig. 1 shown. In this case, the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 span the x, y plane. At the in Fig. 3a to 3f In the embodiments shown, the light-transmitting beam shaping openings 310, 320, 330, 340, 350, 360 of the beam-forming planar structure 110 on the first and second sides 112, 114 thereof have first and second cross-sections 312, 314, respectively; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364, which have a round, elliptical, quadrangular or polygonal shape (or any other shape) and are congruent to each other and offset or centered in the lateral direction. In this case, the lateral direction corresponds in turn to a direction parallel to the x, y plane which is spanned by the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104. The lateral offset of the staggered cross sections is z. In x, y, or any other lateral direction in the x, y plane.

In der Draufsicht von Fig. 3a ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 310 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 312, 314) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3a gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der erste und der zweite Querschnitt 312, 314 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine runde Form (z. B. kreisförmige Form). Hierbei sind der erste und der zweite Querschnitt 312, 314 in lateraler Richtung zentriert angeordnet.In the top view of Fig. 3a For example, one of the translucent beam-shaping openings 310 with mutually congruent cross-sections (first and second cross-section 312, 314) is shown in the beam-forming planar structure 110. At the in Fig. 3a 1 and 2, the first and second cross-sections 312, 314 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a round shape (for example, a circular shape). Here, the first and the second cross-section 312, 314 are arranged centered in the lateral direction.

In der Draufsicht von Fig. 3b ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 320 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 322, 324) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3b gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der erste und der zweite Querschnitt 322, 324 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine viereckige Form (z. B. rechteckige Form). Hierbei sind der erste und der zweite Querschnitt 322, 324 in lateraler Richtung zentriert angeordnet.In the top view of Fig. 3b For example, one of the translucent beam-forming openings 320 with mutually congruent cross-sections (first and second cross-section 322, 324) is shown in the beam-forming sheet-like structure 110. At the in Fig. 3b 1 and 2, the first and second cross-sections 322, 324 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a quadrangular shape (eg, rectangular shape). Here, the first and the second cross section 322, 324 are arranged centered in the lateral direction.

In der Draufsicht von Fig. 3c ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 330 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 332, 334) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3c gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der ersten und der zweite Querschnitt 332, 334 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine mehreckige Form (z. B. hexagonale Form). Hier sind der erste und der zweite Querschnitt 332, 334 in lateraler Richtung zentriert angeordnet.In the top view of Fig. 3c is one of the translucent beam-shaping openings 330 with mutually congruent cross-sections (first and second cross-section 332, 334) in the beam-forming sheet-like structure 110. At the in Fig. 3c 1 and 2, the first and second cross-sections 332, 334 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a polygonal shape (eg, hexagonal shape). Here, the first and the second cross section 332, 334 are centered in the lateral direction.

In der Draufsicht von Fig. 3d ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 340 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 342, 344) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3d gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der erste und der zweite Querschnitt 342, 344 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine elliptische Form. Wie in Fig. 3d gezeigt, sind der erste und der zweite Querschnitt 342, 344 in lateraler Richtung gegeneinander versetzt angeordnet.In the top view of Fig. 3d For example, one of the translucent beam-shaping openings 340 is shown with congruent cross-sections (first and second cross-sections 342, 344) in the beam-forming sheet-like structure 110. At the in Fig. 3d In the embodiment shown, the first and second cross-sections 342, 344 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have an elliptical shape. As in Fig. 3d As shown, the first and second cross-sections 342, 344 are offset from one another in the lateral direction.

In der Draufsicht von Fig. 3e ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 350 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 352, 354) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3e gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der erste und der zweite Querschnitt 352, 354 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine viereckige Form (z. B. rechteckige Form). Wie in Fig. 3e gezeigt, sind der erste und der zweite Querschnitt 352, 354 in lateraler Richtung gegeneinander versetzt angeordnet.In the top view of Fig. 3e For example, one of the translucent beam-shaping openings 350 is shown with congruent cross-sections (first and second cross-sections 352, 354) in the beam-forming sheet-like structure 110. At the in Fig. 3e 1 and 2, the first and second cross-sections 352, 354 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a quadrangular shape (eg, rectangular shape). As in Fig. 3e As shown, the first and second cross-sections 352, 354 are staggered in the lateral direction.

In der Draufsicht von Fig. 3f ist eine der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 360 mit zueinander kongruenten Querschnitten (erster und zweiter Querschnitt 362, 364) in der strahlformenden flächigen Struktur 110 gezeigt. Bei dem in Fig. 3f gezeigten Ausführungsbeispiel umfassen der erste und der zweite Querschnitt 362, 364 auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur 110 jeweils eine mehreckige Form (z. B. hexagonale Form). Wie in Fig. 3f gezeigt, sind der erste und der zweite Querschnitt 362, 364 in lateraler Richtung gegeneinander versetzt angeordnet.In the top view of Fig. 3f For example, one of the translucent beam-shaping apertures 360 is shown with cross-sections (first and second cross-sections 362, 364) congruent to each other in the beam-forming sheet-like structure 110. At the in Fig. 3f 1 and 2, the first and second cross-sections 362, 364 on the first and second sides of the jet-forming sheet-like structure 110 each have a polygonal shape (eg, hexagonal shape). As in Fig. 3f As shown, the first and second cross-sections 362, 364 are staggered in the lateral direction.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können die zueinander kongruenten Querschnitte jeweils eine kreisförmige Form aufweisen und in lateraler Richtung gegeneinander versetzt angeordnet werden.In further embodiments, the mutually congruent cross sections may each have a circular shape and be arranged offset in the lateral direction against each other.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können die zueinander kongruenten Querschnitte jeweils eine elliptische Form aufweisen und in lateraler Richtung zentriert angeordnet werden.In further embodiments, the mutually congruent cross sections may each have an elliptical shape and be centered in the lateral direction.

Ferner können bei weiteren Ausführungsbeispielen jegliche andere Formen für die zueinander kongruenten Querschnitte bereitgestellt werden, wobei dieselben in lateraler Richtung gegeneinander versetzt oder zentriert angeordnet werden können.Further, in other embodiments, any other shapes may be provided for the mutually congruent cross-sections, which may be offset or centered in the lateral direction.

Bei weiteren alternativen Ausführungsbeispielen können die Querschnitte der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur ähnlich zueinander oder verschieden voneinander sein.In further alternative embodiments, the cross-sections of the translucent beam shaping apertures on the first and second sides of the beam-forming laminar structure may be similar or different from each other.

Gemäß den in Fig. 3a bis 3f gezeigten Ausführungsbeispielen können verschiedene Implementierungen für die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen realisiert werden. Dabei können die Querschnitte derselben auf der ersten und der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur beispielsweise zueinander kongruent und in lateraler Richtung gegeneinander versetzt oder zentriert angeordnet sein. Durch die verschiedenen Implementierungen für die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen kann eine flexiblere Einstellung der mit dem reflektiven Strahlformer erzeugen Abstrahlcharakteristik erreicht werden. Somit wird es ermöglicht, dass wesentliche Parameter der Abstrahlcharakteristik, wie beispielsweise der Abstrahlwinkel oder die Ablenkung des Schwerpunkts der Winkelverteilung, einfacher oder sogar präziser eingestellt werden können.According to the in Fig. 3a to 3f As shown, various implementations of the translucent beam shaping apertures can be realized. In this case, the cross sections of the same on the first and the second side of the beam-forming planar structure, for example, congruent to each other and offset in the lateral direction against each other or centered. The various implementations for the light-transmitting beam shaping openings can achieve a more flexible adjustment of the emission characteristic produced by the reflective beamformer. Thus, it becomes possible that essential parameters of the radiation characteristic, such as the radiation angle or the deflection of the center of gravity of the angular distribution, can be set more easily or even more precisely.

Fig. 4a bis 4d zeigen Seitenansichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 410, 420, 430, 440 mit einer sich ändernden lateralen Ausdehnung S gemäß Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung. Die in Fig. 4a bis 4d gezeigten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 410, 420, 430, 440 entsprechen im Wesentlichen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 des reflektiven Strahlformers 100 in Fig. 1. In den Seitenansichten von Fig. 4a bis 4d ist die dritte Achse 103 des Koordinatensystems 104 von Fig. 1 gezeigt. Fig. 4a to 4d 11 show side views of translucent beam shaping openings 410, 420, 430, 440 with a varying lateral extent S according to exemplary embodiments of the present invention. In the Fig. 4a to 4d The translucent beam shaping openings 410, 420, 430, 440 shown in FIG. 2 essentially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 in FIG Fig. 1 , In the side views of Fig. 4a to 4d is the third axis 103 of the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.

Die laterale Ausdehnung S erstreckt sich entlang einer lateralen Richtung (z. B. in x-Richtung, in y-Richtung oder in irgendeine andere Richtung in der x-,y-Ebene). Bei einem kreisförmigen Querschnitt der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen ist die laterale Ausdehnung S beispielsweise durch einen Durchmesser des kreisförmigen Querschnitts definiert. Bei einem elliptischen Querschnitt der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen ist die laterale Ausdehnung S beispielsweise durch eine Hauptachse des elliptischen Querschnitts definiert. Bei einem rechteckigen Querschnitt der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen ist die laterale Ausdehnung S beispielsweise durch eine Länge des rechteckigen Querschnitts definiert. Schließlich ist bei einem beliebigen Freiform-Querschnitt der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen die laterale Ausdehnung S beispielsweise durch eine größte laterale Ausdehnung des jeweiligen Freiform-Querschnitts in der x-,y-Ebene definiert.The lateral extent S extends along a lateral direction (eg in the x-direction, in the y-direction or in any other direction in the x, y plane). For a circular cross section of the transparent beam shaping openings, the lateral extent S is defined, for example, by a diameter of the circular cross section. In the case of an elliptical cross section of the transparent beam shaping openings, the lateral extent S is defined, for example, by a main axis of the elliptical cross section. For a rectangular cross-section of the transparent beam-shaping openings, the lateral extent S is defined, for example, by a length of the rectangular cross-section. Finally, in any free-form cross-section of the translucent beam shaping openings, the lateral extent S for example, defined by a maximum lateral extent of the respective free-form cross section in the x, y plane.

Bei dem in Fig. 4a gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 410 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 linear. Hierbei haben die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 410 der strahlformenden flächigen Struktur 110 keine Neigung gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110.At the in Fig. 4a In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 410 changes linearly from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103. Here, the transparent beam-shaping openings 410 of the beam-forming planar structure 110 have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4b gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 420 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 hyperbolisch. Hierbei haben die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 420 der strahlformenden flächigen Struktur 110 wiederum keine Neigung gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110.At the in Fig. 4b In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 420 changes from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103 hyperbolic. In this case, the light-permeable beam-forming openings 420 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4c gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 430 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 parabolisch. Hierbei haben die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 430 der strahlformenden flächigen Struktur 110 wiederum keine Neigung gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110.At the in Fig. 4c In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 430 changes parabolically from the first to the second side 112, 114 or in the vertical direction parallel to the third axis 103. In this case, the transparent beam-shaping openings 430 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4d gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 440 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 segmentiert. Hierbei haben die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 440 der strahlformenden flächigen Struktur 110 wiederum keine Neigung gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110.At the in Fig. 4d In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 440 changes from the first to the second side 112, 114 or segmented in a vertical direction parallel to the third axis 103. In this case, the light-transmitting beam-shaping openings 440 of the beam-forming planar structure 110 in turn have no inclination against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Fig. 4e bis 4h zeigen Seitenansichten von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 450, 460, 470, 480 mit einer sich ändernden lateralen Ausdehnung S gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung. Die in Fig. 4e bis 4h gezeigten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 450, 460, 470, 480 entsprechen im Wesentlichen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 des reflektiven Strahlformers 100 von Fig. 1. In den Seitenansichten von Fig. 4e bis 4h ist wiederum die dritte Achse 103 des Koordinatensystems 104 von Fig. 1 gezeigt. 4e to 4h 10 show side views of translucent beam shaping openings 450, 460, 470, 480 with a varying lateral extent S according to further exemplary embodiments of the present invention. In the 4e to 4h The translucent beam shaping apertures 450, 460, 470, 480 shown in FIG. 2 essentially correspond to the translucent beam shaping apertures 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 , In the side views of 4e to 4h is again the third axis 103 of the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.

Bei dem in Fig. 4e gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 450 ähnlich wie bei dem in Fig. 4a gezeigten Ausführungsbeispiel von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 im Wesentlichen linear. Hierbei sind allerdings die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 450 der strahlformenden flächigen Struktur 110 gleichzeitig unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt.At the in Fig. 4e In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 450 changes similarly to that in FIG Fig. 4a shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially linear. In this case, however, the translucent beam-forming openings 450 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle α against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4f gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 460 ähnlich wie bei dem in Fig. 4b gezeigten Ausführungsbeispiel von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 im Wesentlichen hyperbolisch. Hierbei sind allerdings die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 460 der strahlformenden flächigen Struktur 110 gleichzeitig unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt.At the in Fig. 4f In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 460 changes in a manner similar to that in FIG Fig. 4b shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially hyperbolic. In this case, however, the translucent beam-forming openings 460 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle α against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4g gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 470 ähnlich wie bei dem in Fig. 4g gezeigten Ausführungsbeispiel von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 im Wesentlichen parabolisch. Hierbei sind allerdings die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 470 der strahlformenden flächigen Struktur 110 gleichzeitig unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt.At the in Fig. 4g In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 470 changes in a manner similar to that in FIG Fig. 4g shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially parabolic. In this case, however, the translucent beam-forming openings 470 of the beam-forming planar structure 110 are inclined at the same time at the predetermined inclination angle α against the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Bei dem in Fig. 4h gezeigten Ausführungsbeispiel ändert sich die laterale Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 480 ähnlich wie bei dem in Fig. 4d gezeigten Ausführungsbeispiel von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 bzw. in vertikaler Richtung parallel zu der dritten Achse 103 im Wesentlichen segmentiert. Hierbei sind allerdings die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 480 der strahlformenden flächigen Struktur 110 gleichzeitig unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt.At the in Fig. 4h In the embodiment shown, the lateral extent of the translucent beam shaping openings 480 changes similarly to that in FIG Fig. 4d shown embodiment of the first to the second side 112, 114 and in the vertical direction parallel to the third axis 103 is substantially segmented. In this case, however, the translucent beam-forming openings 480 of the beam-forming planar structure 110 are simultaneously inclined at a predetermined inclination angle α to the normal 201 of the beam-forming planar structure 110.

Somit kann sich bei Ausführungsbeispielen gemäß Fig. 4a bis 4d die laterale Ausdehnung S der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 410; 420; 430; 440 von der ersten zu der zweiten Seite 112, 114 linear, hyperbolisch, parabolisch oder segmentiert ändern (oder anderweitig geeignet ändern). Bei weiteren Ausführungsbeispielen gemäß Fig. 4e bis 4h können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 450; 460; 470; 480 gleichzeitig unter dem vorbestimmten Neigungswinkel α gegen die Normale 201 der strahlformenden flächigen Struktur 110 geneigt sein.Thus, in embodiments according to Fig. 4a to 4d the lateral extent S of the translucent beam-forming openings 410; 420; 430; 440 from the first to the second side 112, 114 linearly, hyperbolic, parabolic or segmented change (or otherwise suitably change). In further embodiments according to 4e to 4h For example, the translucent beam forming ports 450; 460; 470; 480 at the same time be inclined at the predetermined inclination angle α against the normal 201 of the beam-forming sheet-like structure 110.

Durch das jeweilige Bereitstellen einer charakteristischen Änderung der lateralen Ausdehnung der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in vertikaler Richtung können verschiedene Konturen derselben erhalten werden, die dazu verwendet werden können, um die Abstrahlcharakteristik jeweils unterschiedlich entsprechend einzustellen. Somit kann bei Ausführungsbeispielen gemäß Fig. 4a bis 4d bzw. 4e bis 4h die flexiblere Einstellbarkeit der mit dem reflektiven Strahlformer erzeugten Abstrahlcharakteristik erreicht werden. Beispielsweise ist es daher möglich, die Erzeugung der gewünschten Abstrahlcharakteristik des reflektiven Strahlformers durch die Verwendung von verschiedenen Konturen der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen erheblich zu verbessern.By respectively providing a characteristic change in the lateral extent of the light-transmitting beam-shaping openings in the vertical direction, different contours thereof can be obtained, which can be used to adjust the emission characteristic differently, respectively. Thus, in embodiments according to Fig. 4a to 4d or 4e to 4h the more flexible adjustability of the emission characteristic generated by the reflective beamformer can be achieved. For example, it is therefore possible to considerably improve the generation of the desired radiation characteristic of the reflective beam former by the use of different contours of the transparent beam shaping openings.

Fig. 5a bis 5c zeigen Draufsichten von verschiedenen Ausführungsbeispielen von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 in verschiedenen Gitteranordnungen. In den Draufsichten von Fig. 5a bis 5c sind die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 von Fig. 1 gezeigt. Hierbei spannen die erste und die zweite Achse 101, 102 des Koordinatensystems 104 die x-,y-Ebene auf. Die in Fig. 5a bis 5c gezeigten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 entsprechen im Wesentlichen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 des reflektiven Strahlformers 100 von Fig. 1. Bezug nehmend auf Fig. 5a bis 5c bilden die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 jeweils eine regelmäßige zweidimensionale Anordnung (Raster bzw. Array). In den Draufsichten von Fig. 5a bis 5c ist jeweils nur die zweite Seite 114 der strahlformenden flächigen Struktur 110 mit den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 erkennbar. Fig. 5a to 5c show plan views of various embodiments of translucent beam forming apertures 515; 525; 535 in different grid arrangements. In the plan views of Fig. 5a to 5c are the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 of FIG Fig. 1 shown. In this case, the first and second axes 101, 102 of the coordinate system 104 span the x, y plane. In the Fig. 5a to 5c shown translucent beam shaping openings 515; 525; 535 substantially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 , Referring to Fig. 5a to 5c form the translucent beam forming openings 515; 525; 535 each have a regular two-dimensional arrangement (grid or array). In the plan views of Fig. 5a to 5c is only the second side 114 of the beam-forming sheet-like structure 110 with the translucent beam forming openings 515; 525; 535 recognizable.

Fig. 5a zeigt eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515 in einer ersten Anordnung 510 bzw. in einem hexagonalen Gitter. Wie in Fig. 5a gezeigt, sind die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515 der strahlformenden flächigen Struktur 110 auf der zweiten Seite 114 derselben regelmäßig nebeneinander angeordnet. Hierbei ist die erste Anordnung 510 von Fig. 5a dadurch gekennzeichnet, dass die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515 ein hexagonales Gitter bilden. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5a können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515 auf der zweiten Seite 114 beispielsweise eine runde Form aufweisen, so dass die von den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515 gebildete erste Anordnung 510 beispielsweise eine hexagonale Symmetrie hat (hexagonales Gitter oder Gitter mit hexagonaler Symmetrie). Fig. 5a shows a plan view of an embodiment of transparent beam shaping openings 515 in a first arrangement 510 or in a hexagonal grid. As in Fig. 5a 2, the translucent beam-forming openings 515 of the beam-forming laminar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to one another. Here, the first arrangement 510 of Fig. 5a characterized in that the translucent beam shaping apertures 515 form a hexagonal grid. In the embodiment according to Fig. 5a For example, the translucent beam-forming apertures 515 on the second side 114 may have a round shape such that the first array 510 formed by the translucent beam-forming apertures 515 has hexagonal symmetry (hexagonal grating or hexagonal symmetry grating).

Fig. 5b zeigt eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 525 in einer zweiten Anordnung 520 bzw. in einem quadratischen Gitter. Wie in Fig. 5b gezeigt, sind die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 525 der strahlformenden flächigen Struktur 110 auf der zweiten Seite 114 derselben regelmäßig nebeneinander angeordnet. Hierbei ist die zweite Anordnung 520 von Fig. 5b dadurch gekennzeichnet, dass die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 525 ein quadratisches Gitter bilden. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5b können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 525 auf der zweiten Seite 114 beispielsweise eine runde Form aufweisen, so dass die von den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 525 gebildete zweite Anordnung 520 beispielsweise eine quadratische Symmetrie hat (quadratisches Gitter oder Gitter mit quadratischer Symmetrie). Fig. 5b shows a plan view of an embodiment of translucent beam shaping openings 525 in a second arrangement 520 or in a square grid. As in Fig. 5b 2, the translucent beam-forming openings 525 of the beam-forming planar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to each other. Here, the second arrangement 520 of Fig. 5b characterized in that the translucent beam shaping openings 525 form a square grid. In the embodiment according to Fig. 5b For example, the translucent beam-forming apertures 525 on the second side 114 may have a round shape, such that the second array 520 formed by the translucent beam-forming apertures 520 may have a square symmetry (square grid or quadratic symmetry grating).

Fig. 5c zeigt eine Draufsicht eines Ausführungsbeispiels von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 535 in einer dritten Anordnung 530 bzw. in einem rhombischen Gitter. Wie in Fig. 5c gezeigt, sind die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 535 der strahlformenden flächigen Struktur 110 auf der zweiten Seite 114 derselben regelmäßig nebeneinander angeordnet. Hierbei ist die dritte Anordnung 530 von Fig. 5c dadurch gekennzeichnet, dass die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 535 ein rhombisches Gitter bilden. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 5c können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 535 auf der zweiten Seite 114 beispielsweise eine elliptische Form aufweisen, so dass die von den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 535 gebildete dritte Anordnung 530 beispielsweise eine rhombische Symmetrie hat (rhombisches Gitter oder Gitter mit rhombischer Symmetrie). Fig. 5c shows a plan view of an embodiment of translucent beam shaping openings 535 in a third arrangement 530 or in a rhombic grid. As in Fig. 5c The translucent beam shaping openings 535 of the beam-forming planar structure 110 on the second side 114 of the same are regularly arranged next to each other. Here, the third arrangement 530 of Fig. 5c characterized in that the translucent beam shaping openings 535 form a rhombic grid. In the embodiment according to Fig. 5c For example, the translucent beam shaping openings 535 on the second side 114 may have an elliptical shape such that the third arrangement 530 formed by the translucent beam shaping openings 535 has a rhombic symmetry (rhombic grating or rhombic symmetry grating).

Somit sind bei den in Fig. 5a bis 5c gezeigten Ausführungsbeispielen die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 der strahlformenden flächigen Struktur 110 auf der zweiten Seite 114 derselben regelmäßig nebeneinander angeordnet, wobei die regelmäßige Anordnung 510; 520; 530 beispielsweise ein hexagonales, quadratisches oder rhombisches oder dreieckiges Gitter ist (oder ein anderweitig flächenfüllendes Gitter ist). Die regelmäßigen Anordnungen 510; 520; 530 von Fig. 5a bis 5c können eine beliebige Orientierung bzw. Ausrichtung (Gitterorientierung) in der x-,y-Ebene aufweisen. Hierbei kann die Gitterorientierung beispielweise bezüglich der Umrandung der Flächenlichtquelle definiert werden. Bei Ausführungsbeispielen sollten die Anordnungen bezüglich der Umrandung der Flächenlichtquelle geeignet orientiert sein, so dass eine effiziente Strahlformung der von der Flächenlichtquelle abgestrahlten Lichtstrahlen ermöglicht wird. Ferner sind bei weiteren Ausführungsbeispielen jegliche andere Anordnungen, wie beispielsweise periodische oder quasi-periodische Anordnungen mit verschiedenen Gittersymmetrien, möglich.Thus, at the in Fig. 5a to 5c shown embodiments, the translucent beam forming openings 515; 525; 535 of the beam-forming sheet-like structure 110 on the second side 114 thereof are regularly arranged next to one another, the regular arrangement 510; 520; 530 is, for example, a hexagonal, square, or rhombic, or triangular grid (or otherwise a grid filling the area). The regular arrangements 510; 520; 530 from Fig. 5a to 5c may have any orientation or orientation (grid orientation) in the x, y plane. In this case, the grid orientation can be defined, for example, with respect to the border of the area light source. In embodiments, the arrangements should be suitably oriented with respect to the border of the area light source, so that efficient beam shaping of the light beams emitted by the area light source is made possible. Furthermore, in other embodiments, any other arrangements, such as periodic or quasi-periodic arrangements with different lattice symmetries, are possible.

Die in Fig. 5a bis 5c gezeigten Anordnungen 510; 520; 530 sind dahin gehend vorteilhaft, dass sie eine hohe oder maximale Transmission der Gesamtstruktur bzw. des reflektiven Strahlformers ermöglichen. Hierzu sollten die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535 auf der zweiten Seite 114 der strahlformenden flächigen Struktur 110 bzw. die Ausgangsöffnungen einen möglichst großen Teil der Gesamtstruktur bedecken. Durch die verschiedenen regelmäßigen Anordnungen mit unterschiedlichen Gittersymmetrien lässt sich somit die Transmission durch die strahlformende flächige Struktur des reflektiven Strahlformers optimieren, so dass eine verbesserte Abstrahlcharakteristik desselben erzeugt werden kann.In the Fig. 5a to 5c shown arrangements 510; 520; 530 are advantageous in that they allow a high or maximum transmission of the entire structure or of the reflective beam former. For this purpose, the light-transmitting beam shaping openings 515; 525; 535 on the second side 114 of the jet-forming planar structure 110 or the outlet openings cover as large a part of the overall structure as possible. As a result of the various regular arrangements with different lattice symmetries, the transmission through the beam-forming planar structure of the reflective beam shaper can thus be optimized so that an improved emission characteristic of the same can be generated.

Fig. 6 zeigt eine Seitenansicht eines reflektiven Strahlformers 600 gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der vorliegenden Erfindung. Der in Fig. 6 gezeigte reflektive Strahlformer 600 entspricht im Wesentlichen dem reflektiven Strahlformer 100 in Fig. 1. In der Seitenansicht von Fig. 6 ist das Koordinatensystem 104 von Fig. 1 gezeigt. Bei dem Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 6 weist der reflektive Strahlformer 600 zwei benachbarte lichtdurchlässige Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf. Die zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 von Fig. 6 entsprechen im Wesentlichen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 des reflektiven Strahlformers 100 von Fig. 1. Fig. 6 shows a side view of a reflective beam shaper 600 according to another embodiment of the present invention. The in Fig. 6 Reflective beamformer 600 shown substantially corresponds to the reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1 , In the side view of Fig. 6 is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown. In the embodiment according to Fig. 6 For example, the reflective beam shaper 600 has two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2. The two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2 of FIG Fig. 6 essentially correspond to the transparent beam shaping openings 115 of the reflective beam former 100 of FIG Fig. 1 ,

Wie es in Fig. 6 beispielhaft dargestellt ist, kann der reflektive Strahlformer 600 so ausgelegt sein, dass sich zwischen den benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L1, L1' der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der ersten Seite 112 und der lateralen Ausdehnung L2, L2' der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der zweiten Seite 114 lateral ändert. Anders ausgedrückt, das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L1 einer ersten der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der ersten Seite 112 und der lateralen Ausdehnung L2 der ersten der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der zweiten Seite 114 (Öffnungsverhältnis L1/L2) unterscheidet sich von dem Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L1' einer zweiten der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der ersten Seite 112 und der lateralen Ausdehnung L2' der zweiten der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der zweiten Seite 114 (Öffnungsverhältnis L1'/L2').As it is in Fig. 6 is exemplified, the reflective beam shaper 600 may be designed so that between the adjacent transparent beam shaping openings 615-1, 615-2, the ratio between the lateral extent L1, L1 'of the transparent beam shaping openings 615-1, 615-2 on the first 112 and the lateral extent L2, L2 'of the translucent beam shaping openings 615-1, 615-2 on the second side 114 changes laterally. In other words, the ratio between the lateral extent L1 of a first of the two adjacent translucent beamforming apertures 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent L2 of the first of the two adjacent translucent beamforming apertures 615-1, 615-2 on the first The second side 114 (aperture ratio L1 / L2) differs from the ratio between the lateral extent L1 'of a second of the two adjacent translucent beam shaping ports 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent L2' of the second of the two adjacent ones translucent beam forming ports 615-1, 615-2 on the second side 114 (opening ratio L1 '/ L2').

Ferner kann bei weiteren Ausführungsbeispielen der reflektive Strahlformer 600 so ausgelegt sein, dass sich der Neigungswinkel (α, α') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 lateral ändert.Further, in other embodiments, the reflective beam shaper 600 may be configured such that the angle of inclination (α, α ') of the translucent beam forming ports 615-1, 615-2 changes laterally.

Gemäß Ausführungsbeispielen kann die laterale Änderung des Verhältnisses bzw. des Öffnungsverhältnisses oder des Neigungswinkels entlang einer lateralen Richtung, wie z. B. in x-Richtung, in y-Richtung oder in irgendeine andere Richtung in der x-,y-Ebene, erfolgen. Hierbei kann die laterale Änderung beispielweise in x-Richtung und in y-Richtung gleich oder beispielweise in beide Richtungen unterschiedlich sein.According to embodiments, the lateral change of the ratio or the pitch angle or the inclination angle along a lateral direction, such. In the x-direction, in the y-direction or in any other direction in the x, y plane. In this case, the lateral change, for example in the x-direction and in the y-direction may be the same or, for example, different in both directions.

Die laterale Änderung des Verhältnisses bzw. des Öffnungsverhältnisses oder des Neigungswinkels ist in Fig. 6 durch die gepunktete Linie 611 angedeutet, die im Wesentlichen parallel zu der ersten Achse 101 des Koordinatensystems 104 verläuft. Durch die laterale Änderung des Öffnungsverhältnisses bzw. des Neigungswinkels oder durch eine Variation von Parametern der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen in eine laterale Richtung können ortsabhängige Abstrahlcharakteristiken realisiert werden. Somit wird es ermöglicht, dass nicht nur ortsunabhängige, sondern auch ortsabhängige Abstrahlcharakteristiken bzw. Winkelverteilungen mit dem reflektiven Strahlformer erzeugt werden können. Dies erhöht zusätzlich die Flexibilität der Einstellbarkeit der mit dem reflektiven Strahlformer erzeugten Abstrahlcharakteristik.The lateral change of the ratio of the opening ratio or the inclination angle is in FIG Fig. 6 indicated by the dotted line 611, which is substantially parallel to the first axis 101 of the coordinate system 104. By the lateral change of the opening ratio or the inclination angle or by a variation of parameters of the transparent beam shaping openings in a lateral direction, location-dependent emission characteristics can be realized. Thus, it is possible that not only location-independent, but also location-dependent emission characteristics or angular distributions can be generated with the reflective beam shaper. This additionally increases the flexibility of the adjustability of the emission characteristic generated by the reflective beamformer.

Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen kann bei dem in Fig. 6 gezeigten reflektiven Strahlformer 600 das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung (L1, L1') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der ersten Seite 112 und der lateralen Ausdehnung (L2, L2') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der zweiten Seite 114 in einer lateralen Richtung größer oder kleiner werden. Mit anderen Worten, das durch die erste der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 definierte Öffnungsverhältnis L1/L2 kann sich von dem durch die zweite der zwei benachbarten lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 definierten Öffnungsverhältnis L1'/L2' unterscheiden. Ferner kann gemäß weiteren Ausführungsbeispielen bei dem in Fig. 6 gezeigten reflektiven Strahlformer 600 der Neigungswinkel (α, α') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 in einer lateralen Richtung größer oder kleiner werden. Durch die Vergrößerung oder Verkleinerung des Öffnungsverhältnisses bzw. des Neigungswinkels in lateraler Richtung kann die Ortsabhängigkeit der mit dem reflektiven Strahlformer erzeugten Abstrahlcharakteristik eingestellt oder an eine vorgegebene Abstrahlcharakteristik angepasst werden.According to further embodiments, in the in Fig. 6 Reflective beam shaper 600 shown, the ratio between the lateral extent (L1, L1 ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent (L2, L2') of the transparent beam shaping openings 615-1, 615- 2 on the second side 114 become larger or smaller in a lateral direction. In other words, the opening ratio L1 / L2 defined by the first of the two adjacent transparent beam-forming openings 615-1, 615-2 may differ from the opening ratio L1 '/ L2 defined by the second of the two adjacent transparent beam-forming openings 615-1, 615-2 'differ. Furthermore, according to further embodiments in the in Fig. 6 shown reflective beam shaper 600, the inclination angle (α, α ') of the transparent beam shaping openings 615-1, 615-2 in a lateral direction become larger or smaller. By increasing or decreasing the aperture ratio or the angle of inclination in the lateral direction, the spatial dependence of the emission characteristic generated by the reflective beamformer can be adjusted or adapted to a predetermined emission characteristic.

Bei manchen Ausführungsbeispielen kann bei dem in Fig. 6 gezeigten reflektiven Strahlformer 600 das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung (L1, L1') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 auf der ersten Seite 112 und der lateralen Ausdehnung (L2, L2') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen (615-1, 615-2) auf der zweiten Seite 114 und/oder der Neigungswinkel (α, α') der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 615-1, 615-2 in einer lateralen Richtung monoton größer oder kleiner werden. Allerdings braucht die laterale Änderung des Öffnungsverhältnisses bzw. des Neigungswinkels nicht monoton zu sein, sondern kann auch periodisch, quasi-periodisch oder segmentiert sein.In some embodiments, in the in Fig. 6 Reflective beam shaper 600 shown, the ratio between the lateral extent (L1, L1 ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 on the first side 112 and the lateral extent (L2, L2') of the translucent beam forming openings (615-1, 615 -2) on the second side 114 and / or the inclination angle (α, α ') of the translucent beam forming openings 615-1, 615-2 monotonically increase or decrease in a lateral direction. However, the lateral change of the opening ratio or the inclination angle need not be monotone, but may also be periodic, quasi-periodic or segmented.

Fig. 7a, b zeigen Seitenansichten von reflektiven Strahlformern 700-1, 700-2 gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung. Die in Fig. 7a, b gezeigten reflektiven Strahlformer 700-1, 700-2 entsprechen im Wesentlichen dem reflektiven Strahlformer 100 in Fig. 1. In den Seitenansichten von Fig. 7a, b ist das Koordinatensystem 104 von Fig. 1 gezeigt. Fig. 7a, b 12 show side views of reflective beamformers 700-1, 700-2 according to further embodiments of the present invention. In the Fig. 7a, b The reflective beamformers 700-1, 700-2 shown in FIG. 1 essentially correspond to the reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1 , In the side views of Fig. 7a, b is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown.

Bei den in Fig. 7a, b gezeigten Ausführungsbeispielen ist die strahlformende flächige Struktur 710-1 des reflektiven Strahlformers 700-1 (Fig. 7a) und die strahlformende flächige Struktur 710-2 des reflektiven Strahlformers 700-2 (Fig. 7b) auf der ersten Seite 112 bzw. 712 derselben reflektierend. Dadurch, dass die strahlformende flächige Struktur 710-1; 710-2 auf der ersten Seite 112; 712 derselben reflektierend ist, können Lichtstrahlen, die von der Flächenlichtquelle 105 in Richtung der strahlformenden flächigen Struktur 710-1; 710-2 abgestrahlt werden, an der ersten Seite 112; 712 (reflektierende Seite) der strahlformenden flächigen Struktur 710-1; 710-2 wieder zurück zu der Flächenlichtquelle 105 reflektiert werden. Die zu der Flächenlichtquelle 105 reflektierten Lichtstrahlen 711 können wiederum an der Flächenlichtquelle 105, die eine eigene Reflektivität besitzt, in Richtung der strahlformenden flächigen Struktur 710-1; 710-2 reflektiert werden. Dadurch können sich Mehrfachreflexionen der von der Flächenlichtquelle 105 abgestrahlten Lichtstrahlen zwischen dem reflektiven Strahlformer 710-1; 710-2 und der Flächenlichtquelle 105 ausbilden. Durch die so erzeugten Mehrfachreflexionen kann die vorhandene Lichtmenge besser genutzt werden, so dass schließlich ein effizientes Licht-Recycling erhalten wird. Somit stellen die in Fig. 7a, b gezeigten Ausführungsbeispiele reflektive Strahlformer 700-1; 700-2 dar, die auf einem effizienten Licht-Recycling basieren und mit denen eine hohe Lichtausbeute erhalten werden kann.At the in Fig. 7a, b In the exemplary embodiments shown, the beam-forming planar structure 710-1 of the reflective beamformer 700-1 (FIG. Fig. 7a ) and the beam-shaping areal structure 710-2 of the reflective beamformer 700-2 (FIG. Fig. 7b ) on the first side 112 and 712 of the same reflective. By virtue of the fact that the beam-shaping areal structure 710-1; 710-2 on the first page 112; 712 thereof, light rays emitted from the surface light source 105 toward the beam-forming sheet 710-1; 710-2, at the first side 112; 712 (reflecting side) of the beam-forming sheet 710-1; 710-2 are reflected back to the area light source 105 again. The light rays 711 reflected to the surface light source 105 can in turn be directed to the surface light source 105, which has its own reflectivity, in the direction of the beam-forming planar structure 710-1; 710-2 are reflected. As a result, multiple reflections of the light beams emitted by the surface light source 105 can occur between the reflective beam shaper 710-1; 710-2 and the area light source 105 form. Due to the multiple reflections thus generated, the amount of light available can be better utilized, so that finally an efficient light recycling is obtained. Thus, the in Fig. 7a b embodiments shown reflective reflectors 700-1; 700-2, which are based on efficient light recycling and with which a high luminous efficacy can be obtained.

Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen kann bei dem in Fig. 7b gezeigten reflektiven Strahlformer 700-2 die erste Seite 712 der strahlformenden flächigen Struktur 710-2 zwischen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 beispielsweise konkav oder konvex gewölbt sein. Ferner kann gemäß weiteren Ausführungsbeispielen die erste Seite 112; 712 zwischen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auch jegliche andere Krümmung oder Wölbung aufweisen. Durch die konkave oder konvexe Wölbung der ersten Seite 712 der strahlformenden flächigen Struktur 710-2 kann beispielsweise eine Winkelmischung des reflektierten Lichtanteils erreicht werden, wodurch die Effizienz des Lichtrecyclings noch weiter erhöht werden kann.According to further embodiments, in the in Fig. 7b shown reflective beam shaper 700-2, the first side 712 of the beam-forming planar structure 710-2 between the translucent beam forming openings 115, for example, concave or be convex. Furthermore, according to further embodiments, the first side 112; 712 between the translucent beam shaping openings 115 also have any other curvature or curvature. By the concave or convex curvature of the first side 712 of the beam-forming planar structure 710-2, for example, an angular mixing of the reflected light component can be achieved, whereby the efficiency of the light recycling can be further increased.

Fig. 8a, b zeigen Seitenansichten von reflektiven Strahlformern 800-1; 800-2 gemäß weiteren Ausführungsbeispielen der vorliegenden Erfindung. Der reflektive Strahlformer 800-1 in Fig. 8a umfasst beispielsweise die strahlformende flächige Struktur 710-1 von Fig. 7a und eine Flächenlichtquelle 805. Der reflektive Strahlformer 800-2 in Fig. 8d umfasst beispielsweise die strahlformende flächige Struktur 710-2 von Fig. 7b und die Flächenlichtquelle 805. In Fig. 8a, b ist das Koordinatensystem 104 von Fig. 1 gezeigt. Bezug nehmend auf Fig. 8a, b kann die Flächenlichtquelle 805 beispielsweise Strukturen 810 zur Verbesserung der Auskopplung (Lichtauskopplung) aufweisen. Durch das Bereitstellen der Strukturen 810 bzw. von Oberflächenstrukturen auf der Flächenlichtquelle 805 kann die Lichtauskopplung aus der Flächenlichtquelle 805 erheblich verbessert werden, so dass die reflektiven Strahlformer 800-1; 800-2 bzw. die Systeme mit der Flächenlichtquelle 805 hinsichtlich ihrer Energieeffizienz optimiert werden können. Durch die Optimierung der Energieeffizienz kann die Intensität der Abstrahlung der reflektiven Strahlformer 800-1; 800-2 maximiert werden. Ferner ist es möglich, dass durch die Kombination der Flächenlichtquelle 805 (mit den Strukturen 810 bzw. den Auskoppelstrukturen) und der strahlformenden flächigen Struktur 710-1; 710-2 ein verbessertes System geschaffen werden kann, bei dem einerseits eine erhöhte Energieeffizienz und andererseits gleichzeitig eine verbesserte Strahlformung für die Erzeugung der gewünschten Abstrahlcharakteristik erreicht werden kann. Fig. 8a, b show side views of reflective beamformers 800-1; 800-2 according to further embodiments of the present invention. The reflective beam former 800-1 in Fig. 8a includes, for example, the beam-forming planar structure 710-1 of Fig. 7a and a surface light source 805. The reflective beam shaper 800-2 in FIG Fig. 8d includes, for example, the beam-forming planar structure 710-2 of Fig. 7b and the area light source 805. In Fig. 8a, b is the coordinate system 104 of Fig. 1 shown. Referring to Fig. 8a, b For example, the area light source 805 may include structures 810 for improving the outcoupling (light extraction). By providing the structures 810 or surface structures on the area light source 805, the light extraction from the area light source 805 can be significantly improved, so that the reflective beam formers 800-1; 800-2 or the systems with the surface light source 805 can be optimized in terms of their energy efficiency. By optimizing the energy efficiency, the intensity of the radiation of the reflective beam shaper 800-1; 800-2 to be maximized. Furthermore, it is possible that by the combination of the surface light source 805 (with the structures 810 and the coupling-out structures) and the beam-forming planar structure 710-1; 710-2, an improved system can be created in which, on the one hand, increased energy efficiency and, on the other hand, simultaneously improved beam shaping for generating the desired emission characteristic can be achieved.

Fig. 9 zeigt eine Seitenansicht eines Systems 900 mit zwei erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformern 900-1; 900-2 zum Einstellen einer Abstrahlcharakteristik einer beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle, bspw. einer OLED 905. Die zwei reflektiven Strahlformer 900-1; 900-2 des Systems 900 umfassen beispielsweise die strahlformende flächige Struktur 710-1; 710-2 von Fig. 7a, b. Wie in Fig. 9 gezeigt, weist das System 900 den reflektiven Strahlformer 900-1 und den weiteren reflektiven Strahlformer 900-2 auf. Die der Flächenlichtquelle 105 von Fig. 1 entsprechende beidseitig abstrahlende Flächenlichtquelle (bspw. eine OLED) 905 ist zwischen dem reflektiven Strahlformer 900-1 und dem weiteren reflektiven Strahlformer 900-2 angeordnet. Somit kann die Abstrahlcharakteristik der beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle 905 bei Durchtritt durch die strahlformende flächige Struktur 710-1 des reflektiven Strahlformers 900-1 und die strahlformende flächige Struktur 710-2 des weiteren reflektiven Strahlformers 900-2 eingestellt werden. Beispielsweise kann hierbei bei einer beidseitig abstrahlenden Flächenlichtquelle die gewünschte Abstrahlcharakteristik in einem ersten Halbraum, der an eine erste Seite der Flächenlichtquelle angrenzt und in einem zweiten Halbraum, der an eine der ersten Seite gegenüberliegende zweite Seite der Flächenlichtquelle angrenzt, erzeugt werden. Fig. 9 shows a side view of a system 900 with two inventive reflective beam shaper 900-1; 900-2 for setting a radiation characteristic of a surface light source emitting on both sides, for example an OLED 905. The two reflective beamformers 900-1; 900-2 of the system 900 include, for example, the beam-forming laminar structure 710-1; 710-2 from Fig. 7a , b. As in Fig. 9 As shown, the system 900 includes the reflective beamformer 900-1 and the further reflective beamformer 900-2. The area light source 105 of Fig. 1 corresponding two-sided radiating surface light source (eg an OLED) 905 is arranged between the reflective beam shaper 900-1 and the further reflective beam shaper 900-2. Thus, the radiation characteristic of the two-sided radiating surface light source 905 can pass through the beam-forming planar structure 710-1 of the reflective beam shaper 900-1 and the beam-shaping areal structure 710-2 of the further reflective beamformer 900-2 can be adjusted. By way of example, in the case of a surface light source radiating on both sides, the desired emission characteristic can be generated in a first half space which adjoins a first side of the surface light source and in a second half space which adjoins a second side of the surface light source opposite the first side.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen kann in Bezug auf Fig. 1 die erste Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 zwischen den lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 beispielsweise eine diffraktive oder streuende Struktur aufweisen, so dass eine Winkelmischung von reflektierten Lichtanteilen erreicht wird, wodurch eine Verbesserung des Lichtrecyclings erzielt werden kann.In further embodiments, with respect to Fig. 1 For example, the first side 112 of the beam-forming sheet-like structure 110 between the light-transmitting beam-forming openings 115 may have a diffractive or diffusive structure, so that an angular mixing of reflected light components is achieved, whereby an improvement of the light recycling can be achieved.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen gemäß Fig. 1 liegt das Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L1 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der ersten Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 und der lateralen Ausdehnung L2 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der zweiten Seite 114 der strahlformenden flächigen Struktur 110 beispielsweise in einem Bereich von 1:1,4 bis 1:3.In further embodiments according to Fig. 1 the ratio between the lateral extent L1 of the transparent beam shaping openings 115 on the first side 112 of the beam-forming planar structure 110 and the lateral extent L2 of the transparent beam shaping openings 115 on the second side 114 of the beam-forming planar structure 110 is, for example, in a range of 1: 1, 4 to 1: 3.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen kann der in Fig. 1 gezeigte reflektive Strahlformer 100 so ausgelegt sein, dass ein Verhältnis zwischen der lateralen Ausdehnung L2 der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 auf der zweiten Seite 114 und der Dicke D der strahlformenden flächigen Struktur 110 zwischen der ersten Seite 112 und der zweiten Seite 114 beispielsweise in einem Bereich von 1:1,5 bis 1:10 liegt.In further embodiments, the in Fig. 1 Reflective beamformer 100 shown may be designed such that a ratio between the lateral extent L2 of the transparent beam-forming openings 115 on the second side 114 and the thickness D of the beam-forming planar structure 110 between the first side 112 and the second side 114, for example in a range of 1 : 1.5 to 1:10 lies.

Durch die Verwendung der gerade genannten beispielhaften Parameterbereiche für den reflektiven Strahlformer kann eine optimierte Abstrahlcharakteristik mit einer relativ großen Ablenkung des Schwerpunkts und einer vergleichsweise geringen Halbwertsbreite der Winkelverteilung erzeugt werden.By using the just mentioned exemplary parameter ranges for the reflective beam shaper, an optimized emission characteristic with a relatively large deflection of the center of gravity and a comparatively small half width of the angular distribution can be produced.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 der strahlformenden flächigen Struktur 110 mit einem transparenten Material gefüllt sein, so dass die Stabilität des reflektiven Strahlformers 100 signifikant erhöht werden kann.In further embodiments, the translucent beam-forming apertures 115 of the beam-forming sheet-like structure 110 may be filled with a transparent material, so that the stability of the reflective beam-former 100 can be significantly increased.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen kann ein System mit dem reflektiven Strahlformer 100 implementiert werden, das ferner die Flächenlichtquelle 105 umfasst, und bei dem die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 der strahlformenden flächigen Struktur 110 mit einem transparenten Material gefüllt sind, wobei die erste Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 an die Flächenlichtquelle 105 angrenzt. Durch die direkte Kontaktierung der Flächenlichtquelle 105 an die erste Seite 112 der strahlformenden flächigen Struktur 110 kann die Auskoppeleffizienz aus der Flächenlichtquelle 105 verbessert werden, indem unter Berücksichtigung von Brechzahlverhältnissen in dem transparenten Material der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 und in der Flächenlichtquelle 105 die interne Totalreflexion an der Grenzfläche der Flächenlichtquelle 105 vermieden oder zumindest teilweise unterdrückt wird.In further embodiments, a system may be implemented with the reflective beamformer 100, which further includes the area light source 105, and wherein the translucent beamforming apertures 115 of the beamforming areal structure 110 are filled with a transparent material, wherein the first side 112 of the beam-forming sheet-like structure 110 is adjacent to the surface light source 105. By directly contacting the surface light source 105 to the first side 112 of the beam-forming planar structure 110, the coupling-out efficiency of the surface light source 105 can be improved by taking into account the refractive index ratios in the transparent material of the transparent beam shaping openings 115 and in the area light source 105, the total internal reflection at the Interface of the surface light source 105 is avoided or at least partially suppressed.

Figuren 10a,b zeigen schematische Darstellungen zur Veranschaulichung einer Abstrahlcharakteristik eines erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformers. In der schematischen Darstellung von Fig. 10a ist eine von einem Flächenelement dA ausgehende Abstrahlcharakteristik dargestellt. Die Abstrahlcharakteristik bzw. das Abstrahlprofil ist durch ihre Abhängigkeit von Orten, Winkeln und der Wellenlänge gekennzeichnet. Die vom Flächenelement dA einer leuchtenden Fläche in das Raumwinkelelement abgestrahlte Leistung dP ist im allgemeinen Fall orts-, winkel- und wellenlängenabhängig und beispielsweise durch dP = B X , Y , Θ , Φ , λ d A

Figure imgb0001
gegeben. Hierbei sind X und Y die lateralen Ortskoordinaten, während Θ und Φ Polar- und Azimuthwinkel sind. Diese sind in dem Koordinatensystem 1003 von Fig. 10a beispielhaft dargestellt. Die Funktion B (X, Y, Θ, Φ, λ) bezeichnet beispielhaft eine beliebige orts-, winkel- und wellenlängenabhängige Abstrahlcharakteristik. λ ist die Wellenlänge. FIGS. 10a . b show schematic representations to illustrate a radiation characteristic of a reflective beam shaper according to the invention. In the schematic representation of Fig. 10a is shown by a surface element dA outgoing radiation. The emission characteristic or the emission profile is characterized by its dependence on locations, angles and the wavelength. The power dP emitted by the surface element dA of a luminous surface in the solid angle element is in the general case dependent on location, angle and wavelength and, for example, by dP = B X . Y . Θ . Φ . λ d A dw
Figure imgb0001
given. Here, X and Y are the lateral location coordinates, while Θ and Φ are polar and azimuth angles. These are in the coordinate system 1003 of Fig. 10a exemplified. The function B (X, Y, Θ , Φ , λ ) denotes by way of example any location, angle and wavelength-dependent emission characteristic. λ is the wavelength.

Beispielsweise wird die Abstrahlcharakteristik von Festkörperlichtquellen, wie z.B. organischen Leuchtdioden (OLED), durch Interna ihres inneren Aufbaus geregelt. Hierbei erfolgt die Abstrahlung in der Regel in den gesamten Halbraum, wobei das Abstrahlprofil typischerweise durch eine Lambertsche Richtungsverteilung mit einer Flächennormalen (z.B. Flächennormale 1011 in Fig. 10a) als Zentrum charakterisiert ist. Dabei variiert die Ortsverteilung der Abstrahlcharakteristik in der Regel wenig. Mit dem erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformer kann allerdings eine beliebige oder komplexe Abstrahlcharakteristik erzeugt werden, wie es beispielhaft in Fig. 10a,b dargestellt ist.For example, the radiation characteristic of solid-state light sources, such as organic light-emitting diodes (OLED), regulated by internals of their internal structure. In this case, the emission generally takes place in the entire half space, wherein the emission profile typically by a Lambertian direction distribution with a surface normal (eg surface normal 1011 in Fig. 10a ) is characterized as the center. The spatial distribution of the radiation pattern usually varies little. However, with the reflective beamformer according to the invention, any desired or complex emission characteristic can be generated, as shown by way of example in FIG Fig. 10a . b is shown.

In der schematischen Darstellung von Fig. 10b sind beispielhaft zwei Polardiagramme 1001, 1002 dargestellt, womit die mit dem erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformer (z.B. reflektiver Strahlformer 100 gemäß Fig. 1) erzeugte Abstrahlcharakteristik 1010, 1020 bzw. das Abstrahlprofil verdeutlicht werden kann. Die in dem Polardiagramm 1001 von Fig. 10b gezeigte Abstrahlcharakteristik 1010 ist durch eine eingeschränkte Winkelverteilung gekennzeichnet, was für viele Anwendungen des reflektiven Strahlformers von Vorteil sein kann. Darüber hinaus ist die in dem Polardiagramm 1002 von Fig. 10b gezeigte Abstrahlcharakteristik 1020 durch eine vorgegebene (relativ große) Ablenkung des Schwerpunkts der Winkelverteilung ausgezeichnet. Dies ist dahingehend vorteilhaft, dass die erzeugte Abstrahlcharakteristik in weiten Grenzen bzw. flexibel einstellbar ist. Somit kann gemäß den schematischen Darstellungen von Fig. 10a,b eine gewünschte Abstrahlcharakteristik des reflektiven Strahlformers erzeugt werden, wobei die erzeugte Abstrahlcharakteristik durch eine eingeschränkte Winkelverteilung und/oder eine Ablenkung des Schwerpunkts der Winkelverteilung ausgezeichnet sein kann. Dies ist für viele Anwendungen von reflektiven Strahlformern, wie beispielsweise zur Einstellung beliebig gerichteter Abstrahlprofile von Flächenlichtquellen, besonders vorteilhaft.In the schematic representation of Fig. 10b For example, two polar diagrams 1001, 1002 are shown, with which the reflective beam shaper according to the invention (eg reflective beam shaper 100 according to FIG Fig. 1 ) generated radiation characteristic 1010, 1020 and the emission profile can be illustrated. The in the polar diagram 1001 of Fig. 10b shown radiation pattern 1010 is characterized by a limited angular distribution, which may be beneficial for many applications of the reflective beam shaper. In addition, the in the polar diagram 1002 of Fig. 10b shown radiating characteristic 1020 by a predetermined (relatively large) deflection of the center of gravity of the angular distribution excellent. This is advantageous in that the generated radiation characteristic is adjustable within wide limits or flexibly. Thus, according to the schematic representations of Fig. 10a . b a desired radiation characteristic of the reflective beam shaper are generated, wherein the generated radiation characteristic can be distinguished by a limited angular distribution and / or a deflection of the center of gravity of the angular distribution. This is particularly advantageous for many applications of reflective beam shapers, such as for setting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources.

Zusammenfassend besteht der grundlegende Ansatz der vorliegenden Erfindung darin, eine rein reflektive Struktur (z.B. reflektiver Strahlformer 100 in Fig. 1) zu verwenden, bei der die Grund- und Deckfläche (erste und zweite Seite 112, 114) im Wesentlichen parallel zu der lichtemittierenden Oberfläche der flächigen Lichtquelle (Flächenlichtquelle 105) verlaufen.In summary, the basic approach of the present invention is to provide a purely reflective structure (eg, reflective beamformer 100 in FIG Fig. 1 ), in which the top and top surfaces (first and second sides 112, 114) are substantially parallel to the light-emitting surface of the planar light source (area light source 105).

Bezug nehmend auf Fig. 1 sind die Grund- und die Deckfläche bzw. die erste und die zweite Seite 112, 114 dadurch gekennzeichnet, dass dieselben eine Vielzahl von lichtdurchlässigen Öffnungen aufweisen, die durch ebenfalls reflektierende Innenflächen (reflektierende Seitenwände 117) zu lichtdurchlässigen Bereichen verbunden sind bzw. lichtdurchlässige Strahlformungsöffnungen 115 bilden. Bei dem in Fig. 1 gezeigten Ausführungsbeispiel sind die auf der der Lichtquelle zugewandten Seite liegenden Eintrittsöffnungen der lichtdurchlässigen Bereiche kleiner als die auf der der Lichtquelle abgewandten Seite liegenden Austrittsöffnungen. Ferner können gemäß dem Ausführungsbeispiel von Fig. 2a die lichtdurchlässigen Bereiche bzw. die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen 115 unter einem Winkel α gegen die Grenzflächennormale (Normale 201 in Fig. 2a) geneigt sein. Damit kann die Abstrahlcharakteristik, die einem einzelnen lichtdurchlässigen Bereich zugeordnet ist, durch das Verhältnis der Größe der eintritts- und austrittsseitigen Öffnungen, die Dicke D der reflektierenden Struktur (strahlformende flächige Struktur 110) bzw. der sich daraus ergebenden Länge L = D/cos(α) des lichtdurchlässigen Bereichs entlang der gepunkteten Linie (gestrichelte Linie 215) und die spezielle Ausformung der Kontur der Innenflächen bzw. durch die Gestalt des einzelnen lichtdurchlässigen Bereichs bestimmt werden.Referring to Fig. 1 the base and the top surface and the first and second sides 112, 114 are characterized in that they have a plurality of translucent openings, which are also connected by reflective inner surfaces (reflective side walls 117) to transparent areas or translucent beam forming openings 115th form. At the in Fig. 1 In the embodiment shown, the inlet openings of the light-permeable areas lying on the side facing the light source are smaller than the outlet openings located on the side facing away from the light source. Furthermore, according to the embodiment of Fig. 2a the translucent areas or translucent beam shaping openings 115 at an angle α to the interface normal (normal 201 in FIG Fig. 2a ) be inclined. Thus, the radiation characteristic associated with a single translucent area can be determined by the ratio of the size of the entrance and exit openings, the thickness D of the reflecting structure (beam-forming areal structure 110) and the resulting length L = D / cos ( α) of the translucent area along the dotted line (dashed line 215) and the special shape of the contour of the Inner surfaces or by the shape of the individual transparent area can be determined.

Die entsprechende zweidimensionale Anordnung von lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen (strahlformende flächige Struktur 210) in Fig. 2b stellt ein strahlformendes Element dar, womit die Abstrahlcharakteristik flächenhafter Lichtquellen eingestellt werden kann, ohne dass in dem strahlformenden Element verschiedene Funktionsebenen technologisch aufwendig bzw. hochpräzise ausgerichtet werden müssen.The corresponding two-dimensional arrangement of transparent beam shaping openings (beam-forming planar structure 210) in FIG Fig. 2b represents a beam-forming element, with which the radiation characteristic areal light sources can be adjusted without that different functional levels must be technologically complex or highly precisely aligned in the beam-forming element.

Im Folgenden werden grundsätzliche Überlegungen zur Ausgestaltung bzw. zum erfindungsgemäßen Konzept und Vorteile der im Vorhergehenden beschriebenen Ausführungsbeispiele dargestellt.In the following, fundamental considerations for the design or for the inventive concept and advantages of the embodiments described above are presented.

Das theoretische Limit für eine erreichbare Winkeleinschränkung eines individuellen Lichtbündels ergibt sich aus der Etendue-Haltung und führt auf den Spezialfall des "Compound Parabolic Concentrator". Dies ist eine rotationssymmetrische Struktur, die sich aus der Anwendung des sogenannten "edge-ray principle" nach Welford/Winston ergibt. Dabei bestimmt das Verhältnis der Öffnungen die erreichbare Winkeleinschränkung. Dies ist ein grundlegender physikalischer Aspekt mit genereller Gültigkeit.The theoretical limit for an achievable angle restriction of an individual light bundle results from the etendue attitude and leads to the special case of the "Compound Parabolic Concentrator". This is a rotationally symmetric structure, which results from the application of the so-called "edge-ray principle" according to Welford / Winston. The ratio of the openings determines the achievable angle restriction. This is a fundamental physical aspect with general validity.

Bei einem gegebenen Öffnungsverhältnis wird die beste Transmission der Gesamtstruktur erreicht, wenn die Ausgangsöffnungen (Querschnitte auf der zweiten Seite 114) der einzelnen lichtdurchlässigen Öffnungen (Strahlformungsöffnungen) einen möglichst großen Teil der Gesamtstruktur bedecken. Beispielsweise kann dies durch die in Fig. 5a bis 5c gezeigten Ausführungsbeispiele erreicht werden. Vorteilhafte Ausführungen von periodischen oder quasi-periodischen Anordnungen (erste, zweite und dritte Anordnung 510, 520 und 530) der einzelnen lichtdurchlässigen Bereiche (lichtdurchlässige Strahlformungsöffnungen 515; 525; 535) können bei runden Ausgangsöffnungen von hexagonaler oder quadratischer Symmetrie sein, während sie bei elliptischen Ausgangsöffnungen von rhombischer Symmetrie sein können (Fig. 5a bis 5c). Die spezielle Ausformung der Kontur der Innenflächen des einzelnen lichtdurchlässigen Bereichs kann entsprechend der Zielstellung für die Abstrahlcharakteristik erfolgen, wobei Aspekte der Herstellbarkeit berücksichtigt werden sollten. Bei Ausführungsbeispielen können geeignete Formen des Schnittes der Innenkontur des lichtdurchlässigen Bereichs beispielsweise linear (konusförmig), hyperbolisch, parabolisch bzw. segmentiert, sowie ohne oder mit Neigung zur Oberflächennormalen gestaltet sein, wie es in Fig. 4a-h beispielhaft dargestellt ist. Ferner können bei weiteren Ausführungsbeispielen auch andere geeignete Änderungen der lateralen Ausdehnung bzw. des Querschnitts der lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen von der ersten zu der zweiten Seite der strahlformenden flächigen Struktur bzw. entlang der Dicke-Richtung verwendet werden, d. h. dass diese Änderungen z-abhängig sind.For a given aperture ratio, the best transmission of the overall structure is achieved when the exit apertures (cross sections on the second side 114) of the individual translucent apertures (beam shaping apertures) cover as much of the overall structure as possible. For example, this can be done by the in Fig. 5a to 5c shown embodiments can be achieved. Advantageous embodiments of periodic or quasi-periodic arrays (first, second, and third arrays 510, 520, and 530) of the individual transmissive regions (translucent beamforming apertures 515, 525, 535) may be of hexagonal or square symmetry in round output apertures, while in elliptical symmetry Can be initial openings of rhombic symmetry ( Fig. 5a to 5c ). The specific shaping of the contour of the inner surfaces of the individual transparent region can be carried out according to the target position for the emission characteristic, whereby aspects of the manufacturability should be taken into account. In embodiments, suitable shapes of the intersection of the inner contour of the translucent region may be, for example, linear (conical), hyperbolic, parabolic or segmented, as well as without or with a tendency to normal to the surface, as shown in FIG Fig. 4a-h is shown by way of example. Further, in other embodiments, other suitable changes in the lateral extent or cross-section of the translucent beam shaping openings from the first to the second Side of the beam-forming planar structure or along the thickness direction can be used, ie that these changes are z-dependent.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können Schnitte quer zur Achse (dritte Achse 103) bzw. die in Fig. 3a bis 3f gezeigten Querschnitte rund, elliptisch, vier- oder mehreckig sein. In der Draufsicht auf die einzelne lichtdurchlässige Öffnung (Draufsichten von Fig. 3a bis 3f) sind einige der Möglichkeiten gezeigt. Durch den begrenzten Flächenfüllfaktor, der mit den Eingangsseiten der einzelnen lichtdurchlässigen Öffnungen auf der der Lichtquelle zugewandten Seite der reflektiven Struktur bzw. der strahlformenden flächigen Struktur realisiert werden kann, wird nur ein Teil der Strahlen direkt transmittiert, während andere Strahlen zurück in Richtung der Lichtquelle reflektiert werden. Von dort können diese mit der der Flächenlichtquelle eigenen Reflektivität wieder in Richtung des strahlformenden Elements (strahlformende flächige Struktur) reflektiert werden, so dass das effiziente Licht-Recycling erhalten werden kann.In further embodiments, cuts transverse to the axis (third axis 103) or in Fig. 3a to 3f cross-sections shown to be round, elliptical, quadrangular or polygonal. In the plan view of the single translucent opening (top views of Fig. 3a to 3f ) some of the possibilities are shown. Due to the limited Flächenfüllfaktor, which can be realized with the input sides of the individual translucent openings on the side facing the light source side of the reflective structure or the beam-forming planar structure, only a portion of the rays is directly transmitted, while other rays reflected back towards the light source become. From there, they can be reflected back into the direction of the beam-shaping element (beam-forming planar structure) with the reflectivity inherent in the surface light source, so that efficient light recycling can be obtained.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können die der Lichtquelle zugewandten Flächen der reflektiven Struktur zur Strahlformung beispielsweise konkav oder konvex gekrümmt ausgeführt sein. Dadurch kann eine Winkelmischung des reflektierten Lichtanteils erreicht werden, wodurch eine Verbesserung des Licht-Recyclings erreicht werden kann (siehe Fig. 7a,b). Derartige vorteilhafte Winkelmischungen können bei weiteren Ausführungsbeispielen auch durch streuende oder defraktive Strukturen auf den der Lichtquelle zugewandten Flächen des reflektiven Strahlformers bzw. auf der ersten Seite 112 erreicht werden.In further exemplary embodiments, the surfaces of the reflective structure facing the light source may, for example, be concave or convexly curved for beam shaping. Thereby, an angular mixing of the reflected light component can be achieved, whereby an improvement of the light recycling can be achieved (see Fig. 7a, b ). Such advantageous angle mixtures can be achieved in other embodiments by scattering or defractive structures on the light source facing surfaces of the reflective beam shaper or on the first side 112.

Um die Lichtauskopplung aus Flächenlichtquellen, wie beispielsweise aus OLED, zu verbessern, können diese gemäß weiteren Ausführungsbeispielen mit Oberflächenstrukturen versehen werden (siehe Fig. 8a,b). Ferner kann eine hinsichtlich der Energieeffizienz vorteilhafte Ausführung für die Strahlformung von Flächenlichtquellen durch die Kombination von Flächenlichtquellen mit Strukturen zur Verbesserung der Auskopplung (Flächenlichtquelle 805) und erfindungsgemäßen reflektiven Strukturen zur Strahlformung (strahlformende flächige Struktur 710-1; 710-2) erreicht werden, wie es beispielhaft in Fig. 8a,b dargestellt ist.In order to improve the light extraction from surface light sources, such as OLEDs, they can be provided with surface structures according to further embodiments (see Fig. 8a, b ). Furthermore, an embodiment which is advantageous in terms of energy efficiency for the beam shaping of area light sources can be achieved by the combination of area light sources with structures for improving the extraction (area light source 805) and reflective structures for beam shaping (beam-forming areal structure 710-1; 710-2) according to the invention it exemplifies in Fig. 8a, b is shown.

Bei Flächenlichtquellen sind die lateralen Abmessungen im Vergleich zur Dicke der Lichtquelle typischerweise sehr groß, wobei die Verhältnisse der lateralen Abmessungen zur Dicke meist größer 10:1 sind und sogar 100:1 überschreiten können. Um den damit gegebenen Vorteil der geringen Dicke der Flächenlichtquellen erhalten zu können, kann die reflektive Struktur zur Strahlformung (strahlformende flächige Struktur) ebenfalls dünn ausgeführt werden. Das gelingt z.B. dadurch, dass die Größenverhältnisse der Ein- und Austrittsöffnungen der einzelnen lichtdurchlässigen Bereiche und die Dicke der reflektiven Struktur unter Beibehaltung der Abstrahlcharakteristik geeignet skaliert werden. Bei Ausführungsbeispielen liegen besonders vorteilhafte Verhältnisse der lateralen Abmessungen der ein- und ausgangsseitigen Öffnungen der lichtdurchlässigen Bereiche im Bereich von 1:1,5 und 1:4. Ferner liegen bei weiteren Ausführungsbeispielen besonders vorteilhafte Verhältnisse der lateralen Abmessungen der ausgangsseitigen Öffnungen und der Längen der lichtdurchlässigen Bereiche im Bereich von 1:2 bis 1:5 oder auch darüber. Beispielsweise hat ein erfindungsgemäßer reflektiver Strahlformer zur Erzeugung einer gewünschten Abstrahlcharakteristik mit einer Ablenkung bzw. einem Ablenkwinkel von 35° und einer Halbwertsbreite der Winkelverteilung von 30° eine Dicke von 0,8 mm, einen Radius der eintrittsseitigen Öffnung des lichtdurchlässigen Bereichs von 80 µm und ein Verhältnis der lateralen Abmessungen der ein- und ausgangsseitigen Öffnungen der lichtdurchlässigen Bereiche von 1:2.In area light sources, the lateral dimensions are typically very large in comparison to the thickness of the light source, the ratios of the lateral dimensions to the thickness usually being greater than 10: 1 and may even exceed 100: 1. In order to be able to obtain the advantage of the small thickness of the surface light sources, the reflective structure for beam shaping (beam-forming planar structure) can likewise be made thin. This is achieved, for example, by the fact that the size ratios of input and output Outlet openings of the individual transparent areas and the thickness of the reflective structure can be suitably scaled while maintaining the radiation characteristic. In embodiments, particularly advantageous ratios of the lateral dimensions of the inlet and outlet openings of the light-permeable areas are in the range of 1: 1.5 and 1: 4. Furthermore, in further exemplary embodiments, particularly advantageous ratios of the lateral dimensions of the exit-side openings and the lengths of the light-permeable areas are in the range from 1: 2 to 1: 5 or even higher. For example, a reflective beamformer according to the invention for producing a desired emission characteristic with a deflection or a deflection angle of 35 ° and a half-value width of the angular distribution of 30 ° has a thickness of 0.8 mm, a radius of the entrance-side opening of the translucent region of 80 μm and a Ratio of the lateral dimensions of the inlet and outlet openings of the transparent areas of 1: 2.

Erfindungsgemäße reflektive strahlformende flächige Strukturen, bei denen die lichtdurchlässigen Bereiche hohl (d.h. nicht mit einem Material gefüllt) sind, lassen sich beispielsweise durch Prägetechniken herstellen. Probleme bei der Formung bzw. der Entformung bei geneigten lichtdurchlässigen Bereichen können beispielsweise dadurch umgangen werden, dass die Bewegungsrichtung von Stempel bzw. Matrize der Neigungsrichtung der lichtdurchlässigen Struktur entspricht. Andere Herstellungsverfahren wie z. B. Spritzguss sind ebenfalls anwendbar, wobei die angeführten Herstellungstechniken jedoch keine abschließende Aufzählung darstellen.Reflective beamforming sheet structures according to the present invention in which the transmissive regions are hollow (i.e., not filled with a material) can be produced, for example, by embossing techniques. Problems in shaping or demoulding in inclined, light-permeable areas can be avoided, for example, by virtue of the fact that the direction of movement of the punch or die corresponds to the direction of inclination of the light-permeable structure. Other manufacturing methods such. As injection molding are also applicable, but the production techniques cited are not exhaustive list.

Werden die Strukturen in transparenten Materialien, wie beispielsweise in dünnen Kunststofffolien gefertigt, müssen diese nach der Formgebung reflektierend beschichtet werden. Dieser Fertigungsschritt kann entfallen, wenn Metallfolien direkt strukturiert werden. Zur Beschichtung können beispielsweise Sputterverfahren, mit denen reflektierende Metallschichten erzeugt werden können, Verwendung finden. Neben metallischen Beschichtungen ist ebenfalls eine Verwendung dielektrischer Schichten möglich, um insgesamt das Reflexionsverhalten der Grenzflächen der reflektierenden Struktur in Abhängigkeit von der Wellenlänge und dem Einfallswinkel geeignet zu gestalten.If the structures are produced in transparent materials, for example in thin plastic films, they must be coated in a reflective manner after shaping. This production step can be omitted if metal foils are directly structured. For example, sputtering methods with which reflective metal layers can be produced can be used for the coating. In addition to metallic coatings, it is likewise possible to use dielectric layers in order to design the overall reflection behavior of the interfaces of the reflective structure as a function of the wavelength and the angle of incidence.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen des reflektiven Strahlformers können die lichtdurchlässigen Strahlformungsöffnungen mit einem transparenten Material, wie beispielsweise einem Polymer, gefüllt werden. Durch die Füllung der offenen reflektiven Struktur kann deren Festigkeit positiv beeinflusst werden. Zudem sind glatte Grenzflächen, die durch eine Füllung der lichtdurchlässigen Öffnungen hergestellt werden können, weniger anfällig für Verschmutzungen und überdies leichter zu reinigen.In other embodiments of the reflective beamformer, the translucent beam forming ports may be filled with a transparent material, such as a polymer. By filling the open reflective structure, its strength can be positively influenced. In addition, smooth interfaces that can be made by filling the translucent openings are less susceptible to contamination and, moreover, easier to clean.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen kann durch die Wahl des Füllmaterials über den Brechungsindex die Richtwirkung beeinflusst werden, wobei weitere Füllmaterial-spezifische Effekte, wie beispielsweise eine wellenlängenabhängige Transmission, ausgenutzt werden können.In further exemplary embodiments, the directivity can be influenced by the choice of the filling material via the refractive index, wherein further filling material-specific effects, such as, for example, a wavelength-dependent transmission, can be utilized.

Bei weiteren Ausführungsbeispielen können gefüllte reflektive Strahlformer, wie beispielsweise durch Klebung, in direkten Kontakt mit der Flächenlichtquelle gebracht werden, so dass sich die Auskoppeleffizienz aus der Flächenlichtquelle dadurch verbessert, dass je nach den Brechzahlverhältnissen, die interne Totalreflexion an der Grenzfläche der Flächenlichtquelle zumindest teilweise unterdrückt wird. Bei der Gestaltung der Abstrahlcharakteristik sollte die an der Ausgangsöffnung des lichtdurchlässigen Bereichs auftretende Lichtbrechung, die die Möglichkeit der Winkeleinschränkung verringert, berücksichtigt werden.In further embodiments, filled reflective beam shaper, such as by gluing, be brought into direct contact with the surface light source, so that the Auskoppeleffizienz from the surface light source thereby improves that depending on the refractive index ratios, the total internal reflection at the interface of the surface light source at least partially suppressed becomes. In the design of the radiation characteristic, the refraction of light occurring at the exit opening of the transparent area, which reduces the possibility of the angle restriction, should be taken into account.

Bei Ausführungsbeispielen mit streng periodischen Anordnungen der lichtdurchlässigen Bereiche können im Mittel ortsunabhängige Winkelverteilungen realisiert werden. Die Abstrahlcharakteristik der Flächenlichtquelle entspricht dabei 1:1 der Abstrahlcharakteristik der einzelnen lichtdurchlässigen Öffnung. Bei Ausführungsbeispielen mit variierenden Parametern, wie beispielsweise bezüglich des Verhältnisses der lateralen Ausdehnung der ein- und austrittsseitigen Öffnungen der lichtdurchlässigen Bereiche oder deren Neigung, können ortsabhängige Abstrahlcharakteristiken realisiert werden (siehe Fig. 6). Für die Gestaltung der einzelnen lichtdurchlässigen Öffnungen bestehen dabei dieselben Freiheitsgrade wie oben dargestellt.In embodiments with strictly periodic arrangements of the light-transmissive areas, location-independent angular distributions can be realized on average. The emission characteristic of the surface light source corresponds to 1: 1 of the radiation characteristic of the individual translucent opening. In embodiments with varying parameters, such as with respect to the ratio of the lateral extent of the inlet and outlet openings of the transparent areas or their inclination, location-dependent radiation characteristics can be realized (see Fig. 6 ). For the design of the individual translucent openings are the same degrees of freedom as shown above.

Gemäß weiteren Ausführungsbeispielen kann für beidseitig abstrahlende flächenhafte Lichtquellen durch zwei erfindungsgemäße reflektive Strahlformer die Lichtverteilung in beiden Abstrahlrichtungen eingestellt werden, wie es in Bezug auf Fig. 9 beschrieben ist. Dabei können die jeweiligen reflektiven Strahlformer sowohl identische als auch unterschiedliche Bauformen aufweisen (siehe Fig. 9).According to further embodiments, for two-dimensional radiating surface light sources by two inventive reflective beam shaper, the light distribution in both directions of radiation can be adjusted, as in relation to Fig. 9 is described. In this case, the respective reflective beam shaper can have both identical and different designs (see Fig. 9 ).

Die oben beschriebenen Ausführungsbeispiele stellen lediglich eine Veranschaulichung der Prinzipien der vorliegenden Erfindung dar. Es versteht sich, dass Modifikationen und Variationen der hierin beschriebenen Anordnungen und Einzelheiten anderen Fachleuten einleuchten werden. Deshalb ist beabsichtigt, dass die Erfindung lediglich durch den Schutzumfang der nachfolgenden Patentansprüche und nicht durch die spezifischen Einzelheiten, die anhand der Beschreibung und der Erläuterungen der Ausführungsbeispiele hierin präsentiert wurden, beschränkt sei.The embodiments described above are merely illustrative of the principles of the present invention. It will be understood that modifications and variations of the arrangements and details described herein will be apparent to others of ordinary skill in the art. Therefore, it is intended that the invention be limited only by the scope of the appended claims, rather than by the specific details presented in the description and explanation of the embodiments herein.

Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung schaffen einen reflektiven Strahlformer zur Einstellung beliebig gerichteter Abstrahlprofile von Flächenlichtquellen. Mit dem erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformer wird die Erzeugung einer in weiten Grenzen einstellbaren Abstrahlcharakteristik einer flächigen Lichtquelle durch eine reflektive Gesamtstruktur, in der einzelne lichtdurchlässige und strahlformende Öffnungen periodisch oder auch variabel angeordnet sind, ermöglicht.Embodiments of the present invention provide a reflective beamformer for adjusting arbitrarily directed emission profiles of surface light sources. With the reflective beamformer according to the invention, the generation of a broadly adjustable radiation characteristic of a planar light source by a reflective overall structure, in which individual translucent and jet-forming openings are arranged periodically or variably, allows.

Im Gegensatz zur Abstrahlcharakteristik von Festkörperlichtquellen, wie beispielsweise organischen Leuchtdioden (OLED), die durch Interna des inneren Aufbaus geregelt wird und in der Regel in dem ganzen Halbraum erfolgt (meist mit einer Lambertschen Richtungsverteilung mit der Flächennormalen als Zentrum, wobei die Ortsverteilung in der Regel wenig variiert), oder wie beispielsweise transparenten OLED, bei denen die Abstrahlung auch nach oben und unten erfolgen kann, kann mit dem erfindungsgemäßen reflektiven Strahlformer eine spezielle, anders gerichtete Abstrahlung, die für zahlreiche Anwendungen wünschenswert ist, erzeugt werden. Beispielsweise ermöglichen Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung eine eingeschränkte Winkelverteilung und/oder eine Ablenkung des Schwerpunkts der Winkelverteilung (siehe Fig. 10a,b).In contrast to the emission characteristics of solid-state light sources, such as organic light-emitting diodes (OLED), which is controlled by internals of the internal structure and usually in the whole half space occurs (usually with a Lambertian direction distribution with the surface normal as the center, the spatial distribution usually little varies), or as for example transparent OLED, in which the radiation can also be up and down, with the inventive reflective beam shaper, a special, differently directed radiation, which is desirable for many applications can be generated. For example, embodiments of the present invention allow limited angular distribution and / or deflection of the center of gravity of the angular distribution (see Fig. 10a . b ).

Ganz allgemein schaffen Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung eine verbesserte Möglichkeit für die Einstellung der Abstrahlcharakteristik flächenhafter Lichtquellen.In general, embodiments of the present invention provide an improved way of adjusting the radiation characteristic of areal light sources.

Im Übrigen ermöglichen Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung eine weitgehend freie Einstellbarkeit der Abstrahlcharakteristik flächenhafter Lichtquellen, wobei eine technologisch aufwendige bzw. hochpräzise Ausrichtung verschiedener Funktionsebenen (Blenden, Linsen, usw.) bei der Herstellung der Strahlformer vermieden werden kann.Incidentally, embodiments of the present invention enable a largely free adjustability of the radiation characteristic of planar light sources, wherein a technologically complex or highly precise alignment of different functional levels (apertures, lenses, etc.) can be avoided in the manufacture of the beam shaper.

Die vorliegende Erfindung kann vorrangig in der Beleuchtung, sowie für alle Anwendungen, bei denen flächige Lichtquellen mit speziellen Abstrahlcharakteristiken eingesetzt werden müssen, Verwendung finden.The present invention can be used primarily in lighting, as well as for all applications in which flat light sources with special emission characteristics must be used.

Claims (13)

  1. A reflective beam shaper (100) for generating a desired radiation characteristic from a radiation characteristic of a planar light source (105), comprising:
    a beam-shaping planar structure (110) having a plurality of translucent beam-shaping openings (115) which extend from a first side (112) to be facing the planar light source (105) to a second side (114) opposite to the first side (112) through the beam-shaping planar structure (110);
    wherein the translucent beam-shaping openings (115) comprise reflective sidewalls (117); and
    wherein a lateral extension (L1) of the translucent beam-shaping openings (115) on the first side (112) of the beam-shaping planar structure (112) is smaller than a lateral extension (L2) of the translucent beam-shaping openings (115) on the second side (114) of the beam-shaping planar structure (110) so that the radiation characteristic of the planar light source (105) is altered to the desired radiation characteristic when passing through the beam-shaping planar structure (110),
    characterized in that:
    the beam-shaping planar structure (710-1; 710-2) is reflective on its first side (112).
  2. The reflective beam shaper (200) in accordance with claim 1, wherein the translucent beam-shaping openings (115) of the beam-shaping planar structure (110) are tilted relative to a normal (201) of the beam-shaping planar structure (110) under a predetermined tilt angle (α).
  3. The reflective beam shaper (100) in accordance with claims 1 or 2, wherein the translucent beam-shaping openings (310; 320; 330; 340; 350; 360) of the beam-shaping planar structure (110) comprise a first and second cross sections (312, 314; 322, 324; 332, 334; 342, 344; 352, 354; 362, 364) on the first and second sides thereof, respectively, which comprise a round, elliptical, quadrangular or polygonal shape and are arranged relative to each other to be congruent or incongruent and laterally offset from each other or centered.
  4. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 3, wherein the lateral extension (S) of the translucent beam-shaping opening (410; 420; 430; 440; 450; 460; 470; 480) changes from the first to the second side (112, 114) in a linear, hyperbolic, parabolic or segmented manner.
  5. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 4, wherein the translucent beam-shaping openings (515; 525; 535) of the beam-shaping planar structure (110) on the second side (114) thereof are arranged regularly next to one another, wherein the regular arrangement (510; 520; 530) is a hexagonal, squared or rhombic or triangular grid.
  6. The reflective beam shaper (600) in accordance with any of claims 1 to 5, wherein, between neighboring translucent beam-shaping openings (615-1, 615-2), the ratio between the lateral extension (L1, L1') of the translucent beam-shaping openings (614-1, 615-2) on the first side (112) and the lateral extension (L2, L2') of the translucent beam-shaping openings on the second side (114) and/or the tilt angle (α, α') of the translucent beam-shaping openings (615-1, 615-2) change/s laterally.
  7. The reflective beam shaper (700-2) in accordance with any of claims 1 to 6, wherein the first side (712) is curved in a convex or concave manner between the translucent beam-shaping openings (115).
  8. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 7, wherein the first side (112) comprises a diffractive or scattering structure between the translucent beam-shaping openings (115).
  9. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 8, wherein a ratio between the lateral extension (L1) of the translucent beam-shaping openings (115) on the first side (112) of the beam-shaping planar structure (110) and the lateral extension (L2) of the translucent beam-shaping openings (115) on the second side (114) of the beam-shaping planar structure (110) is in a range from 1:1.4 to 1:3.
  10. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 9, wherein a ratio between the lateral extension (L2) of the translucent beam-shaping openings (115) on the second side (114) and a thickness (D) of the beam-shaping planar structure (110) between the first side (112) and the second side (114) is in a range from 1:1.5 to 1:10.
  11. The reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 10, wherein the translucent beam-shaping openings (115) of the beam-shaping planar structure (110) are filled by a transparent material.
  12. A system comprising a reflective beam shaper (100) in accordance with any of claims 1 to 11, further comprising the planar light source (105), wherein the translucent beam-shaping openings (115) of the beam-shaping planar structure (110) are filled by a transparent material, wherein the first side (112) of the beam-shaping planar structure (110) is adjacent to the planar light source (105).
  13. A system (900) comprising a reflective beam shaper (900-1) in accordance with any of claims 1 to 12, further comprising a further reflective beam shaper (900-2) in accordance with any of claims 1 to 12, wherein the planar light source (905) is radiating to both sides and arranged between the reflective beam shaper (900-1) and the further reflective beam shaper (900-2) so that the radiation characteristic of the planar light source (905) radiating to both sides is adjusted when passing through the beam-shaping planar structure (710-1) of the reflective beam shaper (900-1) and the beam-shaping planar structure (710-2) of the further reflective beam shaper (900-2).
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