EP2635444B1 - Security element and method for producing a security element - Google Patents

Security element and method for producing a security element Download PDF

Info

Publication number
EP2635444B1
EP2635444B1 EP11779583.1A EP11779583A EP2635444B1 EP 2635444 B1 EP2635444 B1 EP 2635444B1 EP 11779583 A EP11779583 A EP 11779583A EP 2635444 B1 EP2635444 B1 EP 2635444B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
zones
security element
layer
relief
reflection layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
EP11779583.1A
Other languages
German (de)
French (fr)
Other versions
EP2635444A2 (en
Inventor
René Staub
Andreas Schilling
Achim Hansen
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
OVD Kinegram AG
Original Assignee
OVD Kinegram AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=44913230&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=EP2635444(B1) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by OVD Kinegram AG filed Critical OVD Kinegram AG
Priority to RS20190475A priority Critical patent/RS58616B1/en
Priority to SI201131727T priority patent/SI2635444T1/en
Priority to PL11779583T priority patent/PL2635444T3/en
Publication of EP2635444A2 publication Critical patent/EP2635444A2/en
Application granted granted Critical
Publication of EP2635444B1 publication Critical patent/EP2635444B1/en
Priority to HRP20190873TT priority patent/HRP20190873T1/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D15/00Printed matter of special format or style not otherwise provided for
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/20Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof characterised by a particular use or purpose
    • B42D25/29Securities; Bank notes
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/324Reliefs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/328Diffraction gratings; Holograms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/342Moiré effects
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/351Translucent or partly translucent parts, e.g. windows
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/30Identification or security features, e.g. for preventing forgery
    • B42D25/36Identification or security features, e.g. for preventing forgery comprising special materials
    • B42D25/364Liquid crystals
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40Manufacture
    • B42D25/405Marking
    • B42D25/41Marking using electromagnetic radiation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40Manufacture
    • B42D25/405Marking
    • B42D25/43Marking by removal of material
    • B42D25/435Marking by removal of material using electromagnetic radiation, e.g. laser
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40Manufacture
    • B42D25/405Marking
    • B42D25/43Marking by removal of material
    • B42D25/44Marking by removal of material using mechanical means, e.g. engraving
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B42BOOKBINDING; ALBUMS; FILES; SPECIAL PRINTED MATTER
    • B42DBOOKS; BOOK COVERS; LOOSE LEAVES; PRINTED MATTER CHARACTERISED BY IDENTIFICATION OR SECURITY FEATURES; PRINTED MATTER OF SPECIAL FORMAT OR STYLE NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; DEVICES FOR USE THEREWITH AND NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; MOVABLE-STRIP WRITING OR READING APPARATUS
    • B42D25/00Information-bearing cards or sheet-like structures characterised by identification or security features; Manufacture thereof
    • B42D25/40Manufacture
    • B42D25/405Marking
    • B42D25/43Marking by removal of material
    • B42D25/445Marking by removal of material using chemical means, e.g. etching
    • B42D2033/04
    • B42D2035/14
    • B42D2035/16

Definitions

  • the invention relates to a security element, in particular a value document, and to methods for producing a security element.
  • a security element which comprises a plastic film in which the surface relief of a hologram is molded. This plastic film is further deposited over the entire surface with arranged in a regular grid point-shaped metal areas. Underneath this security element, the substrate of an ID document, for example a passport, is then arranged, on which, for example, the photograph of the passport holder and details of his / her person are applied. This individualized information is thus visible as background behind the hologram arranged in the foreground.
  • the EP 0 193 334 A2 relates optically cards and methods for their preparation.
  • the WO 2008/095706 A1 describes a security element in the form of a multilayer film body for viewing in reflected light and in transmitted light, wherein the security element has a transparent or semi-transparent region for the human viewer in transmitted light.
  • the invention is now the task of specifying an improved security element and an improved method for producing a security element.
  • the brilliance of a reflective security feature provided in a per se transparent region can be improved by the invention. If, for example, the first zones are additionally additionally overlaid with a relief structure generating an optically variable effect and a decorative layer with a second information is provided below the opaque metallic layer, the brilliance of both the first and the second increases for the human observer second information surprisingly over the known in the prior art solutions.
  • the resolution limit of the unarmed human eye is approximately 300 ⁇ m, This means that objects smaller than about 300 ⁇ m can no longer be reliably resolved, ie they can no longer be perceived as individual objects.
  • a personalized or individualized document such as a photo or a validity date or a serial number
  • a security feature based on an opaque reflection layer
  • the design elements no impairment or design limitation of the diffractive feature result, except for a reduction in brightness.
  • the substructuring of the reflection layer in the design elements is preferably adapted to the size and shape of the design elements in order to avoid problems that would arise, for example, with regular rastering of a reflection layer.
  • the information in particular personalized or individualized information
  • the following method is preferably used for this purpose: Laser is controlled such that the areas with opaque reflection layer are omitted when writing the information or at least applied with reduced power.
  • Laser is controlled such that the areas with opaque reflection layer are omitted when writing the information or at least applied with reduced power.
  • it can be detected whether the region which is to be processed by the laser has or does not have an opaque reflection layer.
  • it is also possible to determine this information from a previously stored data set which includes the design of the opaque reflection layer. In the areas in which the information is to be inscribed but an area with opaque reflection layer is provided, either the power of the laser is reduced or the writing of the information in this area by means of the laser is omitted.
  • the security element has a replication layer, in which an optically active surface relief, in particular for generating an optically variable effect, is formed at least in regions in the first zones.
  • This surface relief preferably has one or more relief structures selected from the group diffractive grating, hologram, blazed grating, linear grating, cross grating, hexagonal grating, asymmetric or symmetric grating structure, retroreflective structure, refractive or diffractive microlens, refractive or diffractive microprism, zero-order diffraction structure, moth-eye structure or anisotropic or isotropic matte structure.
  • the parameters of the relief structure for example the orientation of grid grooves, the profile shape or the pattern depth or several of these parameters in combination.
  • lattice structures can be curved or have a stochastic variation of at least one lattice parameter, such as, for example, spacing, structure depth or profile shape.
  • the surface relief may consist of regular, partially regular or random, arrays of peaks or valleys.
  • the surface relief may have a step-shaped profiled shape and these steps may in particular have a uniform height.
  • this surface relief may comprise an additive or subtractive superposition of two or more of the above-mentioned relief structures.
  • a diffractive grating is understood to mean a relief structure having a spatial frequency of 100 to 5000 lines / mm, whose structural elements preferably have a structure depth between 0.1 and 20 ⁇ m, in particular between 0.1 and 10 ⁇ m.
  • Blazegitter preferably relief structures are used with triangular structural elements, which are spaced from each other between 0.2 and 10 microns. Cylindrical lenses or spherical lenses with a focal length of 5 to 500 ⁇ m and / or a structure depth of 0.1 to 50 ⁇ m are preferably used as microlenses.
  • Microprisms used are preferably microprisms which have a structure depth of 0.1 to 25 ⁇ m, have a structure width at the base of 5 to 300 ⁇ m and are preferably spaced apart between 5 and 300 ⁇ m.
  • Matt structures with a corellation length between 0.2 and 20 ⁇ m are preferably used as matt structures.
  • As zero-order diffraction structures it is preferable to use regular structures having a spatial frequency of more than 2000 lines / mm.
  • the surface relief preferably has different regions which are covered with different relief structures described above.
  • Different relief structures are understood to be relief structures which differ in the shape of the structural elements and / or in their arrangement relative to one another in one or more structural parameters, for example have a different spatial frequency and / or a different azimuth angle.
  • the regions may have borderlines to adjacent regions at which the abovementioned properties of the relief structures change abruptly.
  • continuous local transitions of the parameters of the relief structures are possible.
  • quasi-continuous local transitions of the parameters of the relief structures are possible, e.g. a local interlacing, i. Nesting boxes or the alternating arrangement of subregions of the respective adjacent relief structures in a transition region.
  • the surface relief is provided in the register, ie in the exact position relative to the first zones.
  • no surface relief is molded into the replication lacquer layer or a surface relief is formed there, which differs from the surface relief shaped in the first zones.
  • the surface relief in the second zones and / or in the background region is only determined by the production-related surface roughness of the replication lacquer layer and thus has, for example, a structure depth or a roughness depth of less than 100 nm, or has a different pattern there from the relief structure in the first zones Relief structure on, in particular a relief structure whose aspect ratio differs from the surface relief molded in the first zones by at least 25%, in particular by at least 50%.
  • the aspect ratio is the ratio of relief depth to the width of the structural elements of the Relief structure understood. It has been shown that the brilliance and also the security against forgery of the security element can be significantly increased by such a configuration of the surface relief shaped into the replication lacquer layers.
  • register-accurate, ie positionally accurate alignment of the surface relief to the first zones can be realized only by considerable technological effort and forgery attempts or manipulation attempts are immediately recognizable, for example, in the case of detachment or manipulation of one of the layers optically variable information due to the resulting Passer deviations, ie deviations From the positional accuracy of the orientation of the surface relief to the first zones, is immediately changed and so counterfeits can be clearly identified.
  • the surface relief is preferably shaped in the surface of the replication layer facing the opaque reflection layer and shaped, in particular, into the interface between the replication layer and the opaque reflection layer.
  • a microlens or a microprisma is molded as a surface relief into the replication lacquer layer in a multiplicity of first zones.
  • the surface formation and area dimension of the respective first zones laid down by the microlens or by the microprism are in this case selected in particular such that the respective microlens or the respective microprism occupies the entire area of the respective first zone.
  • the structuring of the opaque reflection layer in the pattern region thus takes place exactly in the register, ie in position relative to the individual lenses, so that each lens completely has the reflection layer, but the background has completely no reflection layer and is transparent or translucent or translucent.
  • the area fraction of the respective first zones, which is occupied by the surface relief varies locally in the pattern area. This makes it possible to vary the brightness in which the pattern area appears in different viewing directions and thus to increase the optical complexity of the security feature provided by the security element. It is particularly advantageous to keep the area size of this first zone constant. This further provides the advantage that the visual appearance of a possibly provided under the opaque optical reflection layer second optical information is not affected and so these changes in brightness appear particularly concise.
  • first zones are subdivided into n subzones in which different relief structures are shaped as a surface relief into the replication layer, where n ⁇ 2.
  • n ⁇ 2.
  • a diffractive grating in a first Sub-zone a matt structure and in a third sub-zone a mirror surface shaped as a relief structure.
  • optically variable effects in the pattern area which can not be realized by a hologram and which, for example, can not be realized in an unregistered, ie not positionally accurate arrangement of first zones to a relief structure.
  • one of the subzones of each of these first zones is assigned to a viewing direction.
  • m viewing directions are provided, and each of these first zones has n ⁇ m subzones each associated with one of the m viewing directions.
  • the partial zones of the first zones assigned to a viewing direction are preferably covered with the same relief structure.
  • the area size of the respective subzones is varied locally to determine the local brightness in the respective subzone associated viewing direction.
  • subzones of the first zones are each assigned to one of k color components.
  • first zones have a partial zone in which no relief structure is molded into the replication layer. That's the way it is, for example it is possible for the first optical information to have a brightness which differs locally in reflection, which is determined by the respective local area size of the first zone and is superimposed by an optically variable information which is determined by the type and area ratio of the relief structures formed in the respective first zones the surface relief is determined. Furthermore, this also generates different information in transmission and in reflection by the security element.
  • the width, length and / or spacing of the first zones in a moiré region are varied to generate hidden moiré information which, when superimposed with an associated moiré verification element, is the third information in the moiré region becomes visible.
  • the moire area is divided into a moire background area and a moire pattern area.
  • the width, length and / or spacing of the first zones in the moire background region and the moire pattern region have slightly different parameter values (selected in the region of the raster widths of the moire verification element features), such that when superimposed with the moire pattern element.
  • Verification element of the moire pattern area becomes visible against the moire background area.
  • a verification element can serve printed, metallized or otherwise structured one-dimensional or two-dimensional grid, in particular one-dimensional or two-dimensional microlens grid or line grid.
  • the differences in the parameter values (width, length, and / or spacing) for moire pattern area and moire background area and the corresponding ones Parameter values of the moiré verification element typically differ in the range of 0.1% to 10%.
  • a substructuring of the optically active surface relief is provided within the optically active surface relief of the first zones for generating a hidden moire information, wherein the hidden moire information becomes visible as a third information when superposed with an associated moire verification element ,
  • the relief shape and / or the texture depth and / or the azimuth angle and / or the spatial frequency of the optically active surface relief in the moire background region and in the moire pattern region of the hidden moire information are slightly different and also slightly different from the corresponding ones Parameters of the moire verification element selected so that when superimposed with the moire verification element of the moire pattern area is visible against the moire background area.
  • the moire verification element may be printed, metallized or otherwise structured one-dimensional or two-dimensional rasters, in particular one-dimensional or two-dimensional microlens rasters or line rasters.
  • the differences in parameter values (width, length, and / or spacing) for moire pattern area and moire background area and the corresponding parameter values of the moiré verification element typically differ in the range of 0.1% to 10%.
  • the moire pattern area and / or the moire background area may be in the form of one-dimensionally compressed design elements that are moire-enlarged by the moiré verification element and exhibit dynamic effects when the moire verification element is moved.
  • the first zones are arranged in the pattern area according to a one- or two-dimensional grid, wherein the screen width is in particular between 5 and 1000 .mu.m, more preferably between 20 and 500 .mu.m, even more preferably between 25 and 250 .mu.m.
  • the raster can be a periodic raster. However, it is also possible that it is an irregular or a stochastic grid, which is particularly adapted to the shape of the design elements.
  • the area ratio of the first zones in the pattern region is between 1 and 80%, in particular between 2 and 50%.
  • the distances between the first zones are between 25 and 250 ⁇ m and / or that the width and / or length of the first zones is selected in the range of 5 to 100 ⁇ m.
  • the first zones are useful as a polygon, in particular rectangular or as a trapezoid, wherein the corners may also be rounded, or elliptical, in particular circular. Furthermore, the first zones may also have simple figurative shapes or motifs, such as a letter, a symbol or a logo.
  • the pattern area comprises one or more design elements, each in the form of a line are formed, the width of which in particular by at least a factor of 10 is greater than the length.
  • the pattern area thus comprises a pattern composed of one or more lines.
  • one or more of these lines are shaped in the form of a guilloche.
  • the width of the lines is preferably between 5 and 250 ⁇ m, more preferably between 10 and 100 ⁇ m.
  • the first zones of such a design element are arranged according to a one-dimensional grid along the longitudinal direction of the respective line, so that in each case only a first zone is provided across the width of the line. It is possible that each of the first zones occupies the entire width of the line and the width of the first zone corresponds to the width of the line. However, it is also possible for the extent of the first zone to vary in the direction of the width of the line, wherein, in particular, the extent of the first zone in the longitudinal direction of the line and / or the spacing of the first zones is constant. It has been found that the contour sharpness of the first information can be increased by such a configuration of the first zones.
  • the area size of the first zones varies in order to generate locally different brightness intensities in reflection. This is preferably realized as set out above. Furthermore, it is also possible for the distances between the first zones to vary along the line so as to generate locally different brightness intensities in reflection.
  • the shape and size of the first zones to the dimensions of the design elements of the molded into the reflective layer Surface reliefs are adapted, as already stated above.
  • different relief structures assigned to different zones are shaped as surface reliefs.
  • -as already explained above-the first zones associated with a line are subdivided into n sub-zones, whereby the subdivision into subzones, the number of subzones as well as the relief structures formed in the subzones preferably also from line to line are different.
  • the pattern region comprises one or more design elements, in the region of which one or more first zones are formed as a line, which follow the outer and / or inner contour of the design element.
  • the width of these lines is preferably between 20 and 300 microns.
  • a plurality of first zones are formed as parallel lines, which follow the outer and / or inner contour of the design element. Further, it is also possible that these lines are partially interrupted.
  • a reflective layer of metal is preferably used as the opaque reflection layer.
  • the layer thickness of the reflection layer is in this case selected so that less than 30% of the light visible to humans transmits through this layer.
  • HRI High Refraction Index
  • LRI Low Refraction Index
  • RF Radio Frequency
  • the opaque reflection layer if it consists of an electrically conductive material, and thus in particular to apply a galvanic reinforcement layer thickness between 0.2 and 20 ⁇ m. It has been found that, as a result, the properties of the security element with respect to a particularly subsequent laser personalization can be improved. If, for example, a laser-sensitive layer is provided below the opaque reflection layer, which is irradiated with personalization or individualization of the security element for writing information with a laser, this layer avoids destruction of the opaque reflection layer and improves the visual appearance of the security features of the security element.
  • the security element has a decorative layer for generating a second optically perceivable information, which is arranged with respect to the viewing direction of the security element below the opaque reflection layer.
  • the second optically perceptible information is preferably a personalized or individualized information, for example personal data of a holder of an ID document, such as passport number, serial number, name, photo of the passport holder, etc.
  • the second optically Perceptible information which is provided, for example, by corresponding shaping or irradiation of the decorative layer, is shaped and / or arranged in such a way that it overlays both the pattern area and the background area at least in each case in regions.
  • all layers of the security element arranged above the opaque reflection layer with respect to the viewing direction of the security element are at least partially transparent or translucent.
  • these layers can also be translucently colored, partially transparent, partially translucent or partially scattering. The properties may also vary locally in terms of transparency.
  • the security element is designed both as a security element acting in transmission and in reflection, and thus all layers of the security element arranged below the opaque reflection layer with respect to the viewing direction of the security element are transparent or translucent.
  • the security element can be designed, on the one hand, as a transfer film or laminating film which has the opaque reflection layer. It is also possible that the security element is formed by a value document, for example a banknote, an ID document, a credit card, etc., or a label for product assurance, which preferably also comprises various further layers in addition to the opaque reflection layer.
  • a value document for example a banknote, an ID document, a credit card, etc.
  • a label for product assurance which preferably also comprises various further layers in addition to the opaque reflection layer.
  • the width, length and / or spacing of the first zones of the security element are preferably varied in order to generate a hidden moire information which, when superposed with an associated moire verification element, becomes visible as third information, the first zones being in particular a 1-d or 2 -d Moire train.
  • the pattern area of the security element is shaped in the form of a macroscopically visible design and has a width and / or a length of more than 1 mm at each location.
  • the first zones are arranged in the pattern area of the security element according to a one- or two-dimensional grid, wherein the grid width is in particular between 5 and 1000 microns.
  • the distances between the first zones are between 25 and 250 ⁇ m and / or the width and / or length of the first zones is between 5 and 200 ⁇ m.
  • the pattern region of the security element comprises one or more design elements, in the region of which first zones are formed as one or more, in particular parallel lines, which follow the outer contour and / or inner contour of the respective design element.
  • the opaque reflection layer of the security element preferably consists of metal, of a combination of a transparent reflection layer with metal or of one or more transparent reflection layers and an opaque lacquer layer.
  • the opaque reflective layer is or includes an electrically conductive material and provides fourth electrically readable information by forming the first zones as RF elements or by affecting the sheet conductivity by the spacing of the first zones.
  • the opaque reflection layer preferably has a galvanic reinforcing layer with a layer thickness between 0.2 and 20 ⁇ m.
  • the laser is controlled such that areas with opaque reflection layer are omitted when writing the personalized information or at least applied with reduced power.
  • Fig. 1a shows a security element 1
  • the layer structure exemplified in Fig. 2 is shown.
  • the security element 1 has a substrate layer 11, a decorative layer 12, an optional adhesive layer 13, a reflection layer 14, an optional replication layer 15, an optional layer 16 and an optional layer 17. In addition to these layers, the security element 1 may comprise further layers.
  • the security element 1 is preferably formed by a security document, in particular by an ID document, for example a passport, a driving license or an access card.
  • an ID document for example a passport, a driving license or an access card.
  • the security element 1 it is also possible for the security element 1 to be a value document, for example a banknote, credit card or the like.
  • the substrate layer 11 may consist, for example, of a paper substrate or a plastic substrate or a sequence of a plurality of paper and / or plastic layers, in particular connected to a laminate or extrudate.
  • the substrate layer 11 preferably has a layer thickness between 25 and 2000 .mu.m, more preferably between 40 and 1000 .mu.m.
  • the decorative layer 12 preferably consists of one or more preferably colored lacquer layers.
  • the coloring of the decorative layer 12 or the lacquer layers forming it can be effected, for example, by dissolved dyes or else by means of pigments or combinations of dyes and pigments. In particular, these may be UV-fluorescent or IR-stimulable dyes or pigments.
  • OVI® Optically Variable Ink
  • paint layers are formed to provide a visually perceptible information and thus provide, for example, in Fig. 1a schematically illustrated optical information 23 and 24 ready.
  • the decorative layer 12 is, for example, in one area of the security element 1 in the form of an image of the owner of the security element 1 as optical information 23 and in another area of the security element 1 in the form of a text specifying the owner of the security element 1, for example comprising the name of the owner , its address and / or its ID number formed.
  • the decorative layer may also have non-personalized or individualized information, such as one or more security prints.
  • the lacquer layers of the decorative layer 12 preferably consist of one or more lacquer layers differently colored with respect to the substrate layer 11 and may also comprise, in addition to dyes or "normal" color pigments, effect pigments such as thin film layer pigments, liquid crystal pigments or metal pigments or effect pigments aligned by magnetic fields.
  • effect pigments such as thin film layer pigments, liquid crystal pigments or metal pigments or effect pigments aligned by magnetic fields.
  • the information 23 and 24 may have optically variable appearance, for example, show a color change effect.
  • the security pressure may have optically variable components and optically non-variable components.
  • the security printing can also have other, in particular non-optical security features.
  • the decorative layer 12 consists of a laser-sensitive material or comprises one or more layers of a laser-sensitive material into which, for example, the optical information 23 and / or 24 are inscribed by means of a laser.
  • Laser-sensitive material here means a material which is excited by the action of a laser to change the color or is thereby at least partially and / or partially removed.
  • the decorative layer 12 and the substrate layer 11 can also be dispensed with. Furthermore, it is also possible that further or different layers than the adhesive layer 13 are arranged between the reflective layer 14 and the decorative layer 12, or the reflective layer 14 directly follows the decorative layer 12.
  • the layers 13 to 17 can be formed, for example, by a transfer film 110 or by the transfer layer of a transfer film.
  • the layer 16 is formed by a release layer and the layer 17 by a carrier layer.
  • the layers 13 to 15 then form the transfer layer, which remains on the carrier substrate 11 after the carrier layer 17 and the release layer 16 have been removed.
  • This can be additional in the FIG. 2 not shown, such as one or more protective layers, which increase the resistance to abrasion or chemical attack.
  • the adhesive layer 13 may consist of several layers, such as a primer and one or more layers of different Adhesive layers. Further additional transferred layers may be interlayer adhesive layers or barrier layers.
  • the carrier layer 17 in this case preferably consists of a plastic film, for example a polyester film, with a layer thickness between 6 and 200 ⁇ m.
  • the plastic film can also be made of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate) or BOPP (biaxially oriented polypropylene).
  • the layers 13 to 17 may form a laminating film.
  • the layer 16 is formed by an adhesion-promoting layer and the layer 17 by a plastic film, which can also function as a protective layer or cover layer of the security element 1.
  • the layer 17 is preferably also formed by a transparent plastic film with a layer thickness between 6 and 200 microns, preferably made of polyester, PET, BOPP or polycarbonate (PC).
  • the security element 1 may also comprise one or more further, preferably transparent layers, which, for example, also serve the function of a cover layer for protection against mechanical and / or chemical effects in the case of a card-shaped formation of the security element.
  • the adhesive layer 13 is preferably made of a hot melt adhesive, in particular a heat-activatable thermoplastic adhesive, a layer thickness between 0.2 and 30 microns.
  • the replication layer 15 preferably consists of a thermoplastic replication varnish having a layer thickness between 0.2 and 10 ⁇ m.
  • a surface relief 18 is formed by the application of heat and pressure by means of a stamping tool. It is also possible for the replication layer 15 to consist of a UV-curable material and for the surface relief 18 to be shaped into the replication layer 15 by UV replication.
  • a single layer may be present, which performs several functions.
  • Suitable materials are, for example, PC or PET.
  • Typical layer thicknesses of the polymer film are in the range from 8 to 500 .mu.m, preferably in the range from 12 to 250 .mu.m, more preferably in the range from 20 to 150 .mu.m.
  • the reflection layer 14 is preferably made of an opaque metal layer, for example of aluminum, copper, silver, gold, chromium or an alloy of these metals.
  • opaque means a reflection layer whose transmission is less than 30%, preferably less than 10%, in the range of the wavelength range of the light visible to the human observer. If the reflection layer 14 is formed by a metal layer, the layer thickness of this metal layer is selected accordingly so that the metal layer forms an opaque reflection layer according to this definition.
  • a metallic reflection layer preferably has a layer thickness greater than 10 nm, in particular greater than 15 nm.
  • the reflection layer 14 consists of several layers.
  • the reflection layer 14 it is possible for the reflection layer 14 to comprise one or more dielectric reflection layers, for example a sequence of high and low refractive index layers (HRI or LRI layers) or a high or low refractive index layer, which is further provided with an opaque layer Formation of an opaque reflection layer is underlaid.
  • an additional dielectric reflection layer may be provided below or above the reflection layer 14, in particular over the full area, only in the pattern area, only in the background area or is provided only in the areas in which the reflection layer 14 is not provided.
  • layers of ZnS, TiO 2 , SiO x or MgF 2 which preferably have a layer thickness between 25 and 2500 nm, can be used as dielectric reflection layers.
  • semiconducting layers are possible, such as Si, Ge, PbS, ZnSe, GaAs.
  • Metallically acting reflection layers can also be applied by a printing process, for example as finely dispersed nanoparticles or thin metallic flakes in a pressure varnish. Furthermore, the reflection layer can also be formed as a photonic crystal.
  • the opaque layer used is preferably an opaque lacquer layer which has a transmissivity of less than 30% in the wavelength range of the light visible to the human observer.
  • This lacquer layer is preferably applied by means of a printing process.
  • the lacquer layer can be dyed and, for example, produce a color impression in reflection.
  • the reflection layer can also consist of a dielectric layer or a sequence of a plurality of dielectric layers, which are covered by a metallic layer.
  • a dielectric layer or a sequence of a plurality of dielectric layers, which are covered by a metallic layer.
  • the security element 1 has a pattern area 21 comprising a plurality of design elements 22 and a background area 20 surrounding the design elements 22.
  • the design elements 22 of the pattern area may also have an identical shape and form a repetitive pattern.
  • the design elements may form complementary motifs, for example a figural representation, or to be designed, for example, in the form of numbers, symbols or letters for generating optically perceptible information.
  • the design elements are formed in the form of lines, which forms, for example, a guilloche or a complex line pattern, as will be explained in more detail below.
  • the pattern area 21 is formed in the form of a macroscopically visible design, that is to say the shape of the pattern area 21 determined by the design elements 22 is visible to the human observer from a viewing distance of approximately 30 cm.
  • the design elements 22 of the pattern region 21 thus preferably have a length of more than 50 ⁇ m, preferably of 300 ⁇ m, and a width of more than 5 ⁇ m, preferably of more than 10 ⁇ m, at each point.
  • the background area 20 is dimensioned at least so large that the pattern area 21-as set out above-can be recognized in front of the background area 20.
  • the background region 20 therefore preferably completely surrounds the design elements 22 formed in each case from a coherent region and has a width and / or length of more than 1 mm, preferably of more than 2 mm.
  • the design elements 22 may also be bounded by the edge of the security element 1 and need not be completely surrounded by the background area.
  • the background region 20 may also be formed by one or more additional layers forming additional security features, which preferably has been applied to the substrate layer 11 in a separate production step.
  • additional layers can be individualized or personalized and / or have a conventional hologram, Kinegram®, which has diffractive structures with one or more full-surface or partial reflection layers, and / or a volume hologram and / or a three- or multi-layer thin-film structure (Fabry-Perot ) and / or have a liquid crystal element.
  • these layers can also comprise combinations of the aforementioned examples and thus provide a plurality of security features, in particular in the background area.
  • the reflection layer 14 is not provided in the background area 20 and is provided in the pattern area in first zones 31, but not in second zones 32.
  • the first zones 31 are here spaced less than 300 microns apart, preferably spaced apart from 25 to 250 microns and have a smallest dimension of less than 300 microns, preferably between 5 and 100 microns.
  • the smallest dimension here means the width of the first zones 31, that is to say the smallest distance between two edge points of the zone which lie on a common straight line running through the centroid of the zone.
  • the reflection layer 14 is provided in the pattern region in inverse form and thus in one or more first zones 31 provided and is not provided in one or more second zones 32.
  • the first zones 31 are in this case, as already described above, spaced less than 300 microns apart, preferably between 25 and 250 microns apart and in this regard, reference is made to the above statements.
  • the area size of the first zones and their spacing is selected such that the area ratio of the first zones on the pattern area 21 and / or the respective first zones on the respective design element 22 is between 1 and 80%, in particular between 5 and 50%, for example 15%. is.
  • the reflection layer 14 is as in FIG Fig. 1a divided - in point or rectangular first zones 31 divided, in which the reflection layer 14 is provided, and which are surrounded by a second zone 32 in which the reflection layer 14 is not provided. In the background area 20 surrounding the design element 22, the reflection layer 14 is not provided.
  • the reflection layer 13 - as in Fig. 1b shown - is not provided in point or rectangular first zones 31, which are surrounded by a second zone 32 in which the reflection layer 14 is provided. In the background area 20 surrounding the design element 22, the reflection layer is not provided.
  • the design elements 22 according to the in Fig. 1a shown arrangement and a part of the design elements 22 of the security element 1 in the in Fig. 1b shown arrangement are designed.
  • Such a configuration of the reflection layer 14 ensures that the design element 32 is still sufficiently transparent so that optically perceptible information provided below the design element 32 is visible through the substantially opaque reflection layer 14, but that information then subsequently differs from one in reflection superimposed on visible information, which is determined by the shape of the pattern area 21 and the surface relief 18.
  • the surface relief 18 is preferably register-accurate, ie, aligned with the first zones 31.
  • the reflection layer 14 and the surface relief 18 are thus formed by processes registered with each other. Registered processes means that the relative positions of the particular pattern-shaped reflection layer 14 and the particular pattern-shaped surface relief 18 are aligned relative to each other during the individual process steps, for example by means of in particular optically detectable register marks.
  • this achieves the result that the surface relief 18 is not molded in the background area 20 and / or in the one or more second zones 32 or that a surface relief is provided there which differs from the surface relief 18 molded in the zones 31, in particular its aspect ratio differs from the surface relief 18 by at least 50%.
  • the relief structures determining the optically variable appearance of the pattern region 22 are shaped only in the zones 31 of the replication layer 15 and, in particular in the production of the security element 1, the shaping and arrangement of the zones 31 as a function of that for the corresponding optical element variable effect to be provided surface relief 18 takes place.
  • the release layer or adhesion-promoting layer 16 is firstly applied, for example by means of printing, to the carrier layer 17, then the replication layer 15 is applied over the entire surface, for example by means of printing and then in the region of the first zones 31, the surface relief 18, as already explained above, molded into the replication layer 15. Then, preferably, in the register for this purpose, that is, in a related position, the reflection layer 14 is applied or patterned.
  • the reflection layer 14 it is possible, for example, for the reflection layer 14 to be applied over the entire surface, for example by vapor deposition or sputtering, and then by positive or negative etching, by means of a washing process, by mechanical ablation or by laser ablation in the region of the second zones 32 and in the background region 20 is removed again. Furthermore, it is also possible for the reflection layer 14 to be applied only in the region of the first zones 31, for example by means of a vapor deposition mask. Reflection layers can also be applied locally by means of a printing process.
  • the material of the reflection layer is dispersed in the printing ink, for example, or the reflection layer forms in a chemical or physical reaction during and / or after printing, and the locally applied pressure serves only to define the opaque regions, for example by local deposition. Furthermore, it is also possible to register these processes, ie to achieve the positional accuracy of the processes in the first zones 31 on the one hand and in the second zones 32 and in the second Background area 20 on the other hand, different relief structures are molded, the properties of which are then used in particular for register-accurate, that is positionally accurate structuring of the reflection layer 14.
  • FIG. 2 a structure is shown in which the replication layer 15 lies between the reflection layer 14 and the viewer.
  • the layer sequence can also be reversed, ie the reflection layer 14 between replication layer 15 and viewer are.
  • the opaque reflection layer 14 is sufficiently thin and thus follows the surface relief sufficiently accurately, so that the surface relief has an optical effect when viewed from both sides.
  • a multilayered layer sequence consisting of one or more transparent or translucent dielectric reflection layers and an opaque layer is used as the reflection layer
  • the dielectric reflection layer it is also possible for the dielectric reflection layer to be provided over the entire area in the security element and only for structuring or structured Applying the opaque layer takes place, so that the reflection layer 14 forms an opaque reflection layer in the region of the first zones 31 and forms a transparent or translucent reflection layer in the second zones 32 in each case.
  • a further advantageous variant consists in that an opaque metallic reflection layer is provided in the zones 31 and that a substantially transparent HRI layer is present partially or completely in the background area 20 as a further reflection layer.
  • the surface relief 18 is preferably composed of one or more relief structures which are selected from the group diffractive grating, hologram, blazed grating, linear grating, cross grating, hexagonal grating, asymmetric or symmetrical grating structure, retroreflective structure, refractive or diffractive grating diffractive microlens, refractive or diffractive microprism, zero-order diffraction structure, moth-eye structure or anisotropic or isotropic matte structure, or a superposition of two or more of the aforementioned relief structures.
  • different relief structures to be provided in different regions of the first zones 31 or for different relief structures to be provided in different first zones 31 or for different relief structures in different design elements 22.
  • the consideration of the security element 1 takes place in accordance with the viewing direction 10.
  • the decorative layer 12 is applied, for example, to the substrate layer 11 by means of a printing process, and then the transfer film 110 is applied to the surface of the substrate layer 11 printed with the decorative layer 12. Furthermore, it is also possible for the decorative layer 12 to be printed on the adhesive layer 13 or on the replication layer 15. Furthermore, it is also possible for the personalized information 23 and 24 to be written into the decorative layer 12 by means of a laser after completion of the security element 1 or during the production of the security element 1, in which case the laser preferably lies on the side of the reflection layer 14 opposite the decorative layer 12 is arranged.
  • Fig. 3 shows a section of a security element 2.
  • the security element 2 in this case has a background area 20 and a pattern area 21, which is formed by a plurality of line-shaped design elements 20, of which in Fig. 3 two design elements 22 are shown by way of example in sections.
  • the layer structure of the security element 2 corresponds to the layer structure of the security element 1 and reference is made to the preceding comments on the security element 1.
  • the security element 2 further has optical information 25 which is provided by the decorative layer 12 arranged below the reflection layer 14 and which, as in FIG Fig. 3 shown, the background area 20 and also the pattern area 21 partially overlaid.
  • the pattern region 21 has, in the case of the security element 2, two or more design elements 22, which are shaped in the form of lines.
  • a line is understood to be a design element whose width is at least a factor of 10 greater than its length.
  • the width of the lines is between 5 and 250 microns, for example, the width of the lines is 50 microns.
  • the line-shaped design elements 22 on first zones 31 and second zones 32 which are arranged according to a one-dimensional grid along the longitudinal direction of the respective lines. It is so provided only a first zone 31 across the width of the respective line. According to the embodiment Fig.
  • the respective first zone 31 occupies the entire width of the lines, the width of the first zones 31 thus corresponds to the width of the respective line.
  • the width of the respective first zones 31 is constant and is for example between 5 and 250 microns, more preferably between 10 and 100 microns. Their spacing varies, causing the human viewer the brightness of these design elements varies along the line.
  • the first zones 31 are here, as described above or later with reference to the figures Fig. 4a . Fig. 4c or Fig. 6a to Fig. 7 described, with surface structures of the surface relief 18 occupied. However, it is also possible to dispense with an impression of the surface relief 18 in the first zones 31.
  • Fig. 4a shows an example of a section of a security element 3, which is constructed according to the security element 2 and the security element 1.
  • the pattern region 21 in this case also linear design elements 22, of which in Fig. 4a three design elements 221, 222, 223 are shown by way of example.
  • the design elements 221 to 223 each have a sequence of first zones 31 and second zones 32, as shown in FIG Fig. 4a is shown.
  • the first zones 31 of the design elements 221, 222, 223 are each covered with different relief structures, as shown in FIG Fig. 4a indicated by the different hatching of these zones.
  • the division of the design elements 221 to 223 into first zones and second zones is in this case individually adapted to each of the design elements 221 to 223, so that no disturbing effects, such as a moiré pattern or a larger interruption occur.
  • the distances of the first zones 31 to each other are selected such that a viewer with unarmed eye recognizes three continuous lines. For example, the distances of the first zones 31 to one another are less than 300 ⁇ m.
  • the distances between the zones 31, their shape and size can vary along the line. Criteria for designing the first zones are, for example, the avoidance of interfering collisions with other, adjacent design elements 22 or to avoid Moire interference with underlying optical information, such as provided by the decorative layer 12 optical information.
  • Fig. 4b shows three different ways to make a line-shaped design element 22. This shows Fig. 4b three line-shaped design elements 224, 225 and 226.
  • the design elements 224 to 226 are each formed in the form of a line, as has been exemplified above for the design elements 22 of the security element 2.
  • the design element 224 has a sequence of first zones 31 separated by a respective second zone 32.
  • the size of the first zones 31 varies here in order to generate a locally different intensity, in particular of an optically variable effect.
  • the extent of the first zones 31 in the direction of the width of the line is varied, whereas the extent of the first zones 31 in the longitudinal direction of the line and / or the spacing of the first zones 31 from each other is constant along the line. Research has shown that this allows the brightness of the design element to be varied along the line without distorting the brightness of underlying information in the area along the line.
  • the area size of the first zones 31 along the line is made constant.
  • the first zones 31 are subdivided here into two subzones 33 and 34, in which case only the subzones 34 are covered with relief structures of the surface relief 18 and the divider zones 33 are not covered with a surface relief or form a mirror surface.
  • the area size of the partial zones 33 and 34 varies along the line, while the area size of the zones 31 remains constant.
  • the average transmission of the design element 225 along the line remains constant, but the brightness in different viewing directions and / or the color of the design element 225 varies along the line.
  • first zones 31 are subdivided into more than two subzones, which are covered with different relief structures, as later also by way of example with reference to the figures Fig. 4c .
  • Fig. 6a and Fig. 7 is explained.
  • the design element 226 thus also has first zones 31, which are subdivided into two subzones 34 and 35, which are covered with different relief structures.
  • the targeted variation of the local area density that is to say the area extent of the first zones 31 and their spacing as well as the occupation of the first zones 31 with relief structures can be used to display additional information.
  • additional information can also consist in a polarization feature, which is only recognizable when viewed through a suitable filter.
  • the distances and the area size of the first zones 31 can be suitably varied so that a viewer recognizes a first diffractive feature and, when viewed through a suitable filter, an independent moiré pattern becomes visible.
  • hidden information can be coded here, for example by deviation of the area size and / or spacing from the corresponding arrangement of opaque surfaces or lenses of a moiré verification element, which information is visible only when superposed with the moiré verification element.
  • first zones 31 can be used to encode further information.
  • Fig. 4c shows, by way of example, a number of further possibilities for subdividing first zones 31 into subzones which are occupied by different relief structures.
  • a first zone 311, which is divided into sub-zones 34 and 35 a first zone 312, which is divided into sub-zones 34 and 35 and a sub-zone 313, which is divided into sub-zones 34, 35 and 36.
  • the partial zones 34, 35 and 36 are each covered with different relief structures.
  • the sub-zone 34 is underlaid with a diffraction grating, which generates a dynamically colored Kinegram® and occupies the sub-zones 35 with an anisotropically scattering matt structure.
  • a design element provided with first zones 311 can show a dynamically colored Kinegram® from one viewing direction, while a static achromatic feature with the same graphic content can be recognized from another viewing direction.
  • first zone 313 three partial zones are provided, which, for example, also show a different optical feature under different viewing directions, or are also covered with grid structures which show a different color and thus allow the formation of a true color image in the pattern region 21, the relative area fraction of the subzones 34, 35 and 36 determining the color tone and the area size of the first zone 313 the respective local brightness (intensity).
  • Fig. 5a and Fig. 5b illustrate on the one hand the formation of the surface relief molded into the replication layer 18 or the structuring of the reflection layer 14 in a partial region of a design element 227.
  • first zones 31 are provided, which are covered with the opaque reflection layer 14 and which are surrounded by a second zone 32.
  • microlenses 181 are formed in the replication layer 18 in the first zones 31. These microlenses may be formed as refractive lenses or as diffractive lenses.
  • the structuring of the metal layer 14 takes place here exactly in the register, that is, in position relative to the lenses 181, so that each lens 181 is completely covered with the reflection layer 14, but the surrounding areas are completely transparent or translucent.
  • the first zones By adapting the first zones to the shape of the lenses 181 and the registered, ie positional arrangement of the lenses 181 to the reflective layer 14, it is possible to increase the transparency of the design element 227 or the contrast compared to an unregistered, ie not positionally accurate arrangement of the security feature.
  • Fig. 6a and Fig. 6b illustrate a further possibility of the formation and arrangement of first zones 31 and relief structure of the surface relief 18 to each other.
  • the Fig. 6a illustrates the arrangement of molded into the replication layer 18 relief structures and Fig. 6b the arrangement and formation of the first zones in the reflection layer 14 in a partial region of a design element 228.
  • the zones 31 are here arranged in the form of a regular two-dimensional grid and shaped in the form of rectangles. It is also possible that the grid is not regular in this case and in particular also adapted to the contour of the design element 228.
  • the zones 31 can furthermore also have a different shape or vary in their surface size, as has already been described above in relation to line-shaped design elements.
  • Each of the first zones 31 is here subdivided into four partial zones, namely the partial zones 34, 35, 36 and 37, which - as already explained above - can have different relief structures.
  • the filling of the partial zone 34 with a relief structure 182 is in Fig. 6a shown by way of example.
  • the relief structures in the sub-zones 34 to 37 are used, for example, to represent four different contents, which are visible, for example, in different viewing directions.
  • the partial zones can have, for example, diffractive relief structures, for example diffractive gratings, refractive relief structures or also scattering relief structures or even mirror surfaces.
  • each zone is 31, as in Fig. 6a shown, divided into four subzones, each of the subzones is associated with a respective viewing direction and the occupancy of the respective subzones, for example, the brightness information of the recognizable in the associated viewing direction image corresponds.
  • the first zones 31 in this exemplary embodiment are preferably spaced apart between 25 and 250 ⁇ m and the dimensions of the first zones 31 are preferably in the range between 5 and 100 ⁇ m.
  • the fill factor that is to say the occupancy of the design element 228 with first zones 31, is preferably approximately 15%, so that 85% of the area remains transparent.
  • Fig. 7 shows a section of a design element 229.
  • the design element 229 has first zones 31, which are separated by a second zone 32 from each other.
  • the area size of the first zones 31 varies locally, so here-as already set out above for line-shaped design element - the local total intensity or brightness of the pattern area is varied.
  • the first zones 31 are divided into sub-zones 34, 35 and 36.
  • Sub-zones 34, 35 and 36 are provided with different relief structures, for example diffraction gratings, which have a different spatial frequency different or a different azimuth angle.
  • Fig. 7 indicated that in addition to the area size of the zones 31 and the relative area size of the zones 34, 35 and 36 to each other.
  • Fig. 8 shows a schematic representation of a design element 230 of the pattern area 21, which has line-shaped first zones 31, which are separated from each other by second zones 32. Furthermore, the design element 230 is surrounded by the background area 20.
  • the first zones 31 are formed as parallel lines which follow the outer and inner contours of the design element 230.
  • the width of these lines is preferably between 5 and 250 microns, more preferably between 10 and 100 microns.
  • the design element 230 is preferably a design element whose width and / or height is greater than 1 mm, preferably greater than 2 mm.
  • the design element 230 is as in FIG Fig. 8 shown as an example formed as a letter. However, the design element 230 may also have a different shape, for example be formed in the form of another letter or a number, or also show a figurative representation, a coat of arms or a pictogram.
  • the design element has both one or more lines which follow the inner and / or outer contour or also have further lines which are not arranged parallel to the inner and / or outer contour and which, for example, an adaptation to a different from the outer contour Allow inner contour.
  • the line-shaped first zones 31 have a different width and, for example, due to a width modulation of the line-shaped first zones 31 give a visually recognizable figurative representation, or that the line-shaped first zones 31 are regionally interrupted regularly, irregularly or stochastically and not like in Fig. 8a represented in each case form a closed line.
  • the lines can also be applied completely independently of the outer shape of the design element 230 and consist for example of parallel or concentric lines. Medium surface coverages in the range of 5 to 40% are particularly advantageous since they permit both sufficient reflection and high transmission. Furthermore, distances of the lines in the range 10-200 ⁇ m are advantageous.
  • the design element 230 may also include a reflective layer in the form of fine text or figurative representations, symbols, letters, numbers, or logos.
  • the details are revealed to an observer only when inspected with an aid, such as a magnifying glass or a microscope.
  • the local brightness distribution which can be recognized by the unaided eye observer can be influenced, for example, by the size of the text, the font, the spacing of the letters or the coverage of microstructures.
  • the surface relief 18 is provided in registry with the zones 31.
  • the surface relief may also have subzones 31 along the line-shaped first zones, which zones are covered with different relief structures in order to generate the effects already explained above.
  • the security element 1 can also have a pattern area 21 which has different design elements 22.
  • design elements 22 For example, one or more line-shaped design elements, which according to FIGS Fig. 3 to Fig. 4c are formed, one or more design elements, which are formed according to the design element 227, one or more design elements, which are formed as the design elements 228 or 229, and / or one or more design elements, which are formed as the design element 230, are combined , Through such combinations of different design elements, a security element can be provided, which is characterized by a particularly high security against counterfeiting.

Description

Die Erfindung betrifft ein Sicherheitselement insbesondere ein Wertdokument, sowie Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements.The invention relates to a security element, in particular a value document, and to methods for producing a security element.

Im Bereich der ID-Dokumente ist es bekannt, transparente Sicherheitselemente einzusetzen, welche ein in Reflexion optisch variables Erscheinungsbild besitzen, aber dennoch über ausreichende Transmissivität verfügen, um unter diesen Sicherheitselementen angeordnete Informationen, beispielsweise individualisierte Angaben zu der Person des Besitzers des ID-Dokuments, noch sichtbar zu machen bzw. zu erhalten. So beschreibt beispielsweise die US 5411296 ein derartiges Sicherheitselement, welches einen Kunststofffilm umfasst, in welcher das Oberflächenrelief eines Hologramms abgeformt ist. Dieser Kunststofffilm ist weiter vollflächig mit in einem regelmäßigen Raster angeordneten punktförmig ausgeformten Metallbereichen hinterlegt. Unterhalb dieses Sicherheitselements wird dann das Substrat eines ID-Dokuments, beispielsweise eines Passes, angeordnet, auf dem beispielsweise das Foto des Passinhabers sowie Angaben zu dessen Person aufgebracht ist. Diese individualisierten Informationen sind so als Hintergrund hinter dem im Vordergrund angeordneten Hologramm sichtbar.In the field of ID documents, it is known to use transparent security elements which have an optically variable appearance in reflection, but nevertheless have sufficient transmissivity to provide information arranged beneath these security elements, for example individualized information about the person of the owner of the ID document, still to be made visible or preserved. For example, describes the US 5411296 Such a security element, which comprises a plastic film in which the surface relief of a hologram is molded. This plastic film is further deposited over the entire surface with arranged in a regular grid point-shaped metal areas. Underneath this security element, the substrate of an ID document, for example a passport, is then arranged, on which, for example, the photograph of the passport holder and details of his / her person are applied. This individualized information is thus visible as background behind the hologram arranged in the foreground.

Die EP 0 193 334 A2 betrifft optisch Karten sowie Verfahren zu ihrer Herstellung.The EP 0 193 334 A2 relates optically cards and methods for their preparation.

Die WO 2008/095706 A1 beschreibt ein Sicherheitselement in Form eines mehrschichtigen Folienkörpers zur Betrachtung im Auflicht und im Durchlicht, wobei das Sicherheitselement einen für den menschlichen Betrachter im Durchlicht transparenten oder semi-transparenten Bereich aufweist.The WO 2008/095706 A1 describes a security element in the form of a multilayer film body for viewing in reflected light and in transmitted light, wherein the security element has a transparent or semi-transparent region for the human viewer in transmitted light.

Der Erfindung liegt nun die Aufgabenstellung zugrunde, ein verbessertes Sicherheitselement sowie ein verbessertes Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements anzugeben.The invention is now the task of specifying an improved security element and an improved method for producing a security element.

Diese Aufgabe wird von einem Sicherheitselement sowie einem Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements gemäß den unabhängigen Ansprüchen gelöst.This object is achieved by a security element and a method for producing a security element according to the independent claims.

Es hat sich überraschenderweise gezeigt, dass durch die Erfindung die Brillanz eines in einem an sich transparenten Bereich bereitgestellten reflektiven Sicherheitsmerkmals verbessert werden kann. Werden so beispielsweise bei dem erfindungsgemäßen Sicherheitselement die ersten Zonen noch zusätzlich mit einer einen optisch variablen Effekt generierenden Reliefstruktur überlagert und unterhalb der opaken metallischen Schicht eine Dekorschicht mit einer zweiten Information bereitgestellt, so erhöht sich für den menschlichen Betrachter die Brillanz sowohl der ersten als auch der zweiten Information überraschenderweise gegenüber dem im Stand der Technik bekannten Lösungen.It has surprisingly been found that the brilliance of a reflective security feature provided in a per se transparent region can be improved by the invention. If, for example, the first zones are additionally additionally overlaid with a relief structure generating an optically variable effect and a decorative layer with a second information is provided below the opaque metallic layer, the brilliance of both the first and the second increases for the human observer second information surprisingly over the known in the prior art solutions.

Üblicherweise wird allgemein angenommen, dass bei einem Betrachtungsabstand, der etwa dem normalen Leseabstand entspricht, d.h. ca. 20-40 cm, die Auflösungsgrenze des unbewaffneten menschlichen Auges bei etwa 300 µm liegt, d.h. dass Objekte, die kleiner als etwa 300 µm sind, nicht mehr sicher aufgelöst, d.h. nicht mehr als Einzelobjekte wahrgenommen werden können.Usually, it is generally assumed that at a viewing distance which corresponds approximately to the normal reading distance, ie approximately 20-40 cm, the resolution limit of the unarmed human eye is approximately 300 μm, This means that objects smaller than about 300 μm can no longer be reliably resolved, ie they can no longer be perceived as individual objects.

So ist es durch die Erfindung möglich, sensitive Bereiche in einem personalisierten oder individualisierten Dokument, wie beispielsweise ein Foto oder ein Gültigkeitsdatum oder eine Seriennummer, durch ein auf einer opaken Reflexionsschicht beruhenden Sicherheitsmerkmal zu überdecken, ohne die Erkennbarkeit dieses Bereichs und dieser Informationen nennenswert zu beeinträchtigen. Die personalisierte oder individualisierte Information lässt sich somit einwandfrei auch unter schlechten Umgebungslichtschichtbedingungen erkennen und das Sicherheitsmerkmal erlaubt die Verifikation der Echtheit und der Unversehrtheit des Dokuments.Thus, it is possible by the invention to cover sensitive areas in a personalized or individualized document, such as a photo or a validity date or a serial number, by a security feature based on an opaque reflection layer, without appreciably impairing the visibility of this area and of this information , The personalized or individualized information can thus be perfectly recognized even under poor ambient light conditions and the security feature allows the verification of the authenticity and the integrity of the document.

Von weiterem Vorteil ist, dass sich durch die feine Strukturierung der Reflexionsschicht im Passer, d.h. in einer registergenauen, d.h. lagegenauen Anordnung, zu den Designelementen keine Beeinträchtigung oder Designeinschränkung des diffraktiven Merkmals ergeben, abgesehen von einer Reduktion der Helligkeit. Weiter wird bevorzugt die Substrukturierung der Reflexionsschicht in den Designelementen an die Größe und Formen der Designelemente angepasst um Probleme zu vermeiden, die sich beispielsweise bei regelmäßiger Rasterung einer Reflexionsschicht ergeben würden. So haben Untersuchungen gezeigt, dass bei einer regelmäßigen Rasterung der Reflexionsschicht insbesondere feine Linien nur unzureichend dargestellt werden können.Another advantage is that the fine structuring of the reflection layer in the register, i. in a register-accurate, i. Precise arrangement, the design elements no impairment or design limitation of the diffractive feature result, except for a reduction in brightness. Furthermore, the substructuring of the reflection layer in the design elements is preferably adapted to the size and shape of the design elements in order to avoid problems that would arise, for example, with regular rastering of a reflection layer. Thus, studies have shown that, in particular, fine lines can only be displayed insufficiently with a regular rastering of the reflection layer.

Wird, wie oben beschrieben, die Information, insbesondere eine personalisierte oder individualisierte Information, in eine unter- oder oberhalb der opaken Reflexionsschicht angeordnete lasersensitive Dekorschicht mittels eines Lasers eingeschrieben, so wird hierzu bevorzugt folgendes Verfahren angewendet: Der Laser wird derart gesteuert, dass die Bereiche mit opaker Reflexionsschicht beim Einschreiben der Information ausgespart oder zumindest mit reduzierter Leistung beaufschlagt werden. Hierzu kann zum einen, beispielsweise mittels eines entsprechenden optischen Sensors, erfasst werden, ob der Bereich, welcher mit dem Laser bearbeitet werden soll, eine opake Reflexionsschicht aufweist oder nicht aufweist. Weiter ist es auch möglich, diese Information aus einem vorher abgespeicherten Datensatz zu ermitteln, welcher das Design der opaken Reflexionsschicht beinhaltet. In den Bereichen, in denen die Information eingeschrieben werden soll, jedoch ein Bereich mit opaker Reflexionsschicht vorgesehen ist, wird entweder die Leistung des Lasers reduziert oder wird das Einschreiben der Information in diesem Bereich mittels des Lasers unterlassen.If, as described above, the information, in particular personalized or individualized information, is inscribed in a laser-sensitive decorative layer arranged below or above the opaque reflection layer by means of a laser, the following method is preferably used for this purpose: Laser is controlled such that the areas with opaque reflection layer are omitted when writing the information or at least applied with reduced power. For this purpose, on the one hand, for example by means of a corresponding optical sensor, it can be detected whether the region which is to be processed by the laser has or does not have an opaque reflection layer. Furthermore, it is also possible to determine this information from a previously stored data set which includes the design of the opaque reflection layer. In the areas in which the information is to be inscribed but an area with opaque reflection layer is provided, either the power of the laser is reduced or the writing of the information in this area by means of the laser is omitted.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung weist das Sicherheitselement eine Replizierschicht auf, in der in den ersten Zonen zumindest bereichsweise ein optisch aktives Oberflächenrelief, insbesondere zur Generierung eines optisch variablen Effekts abgeformt ist. Dieses Oberflächenrelief weist bevorzugt ein oder mehrere Reliefstrukturen ausgewählt aus der Gruppe diffraktives Gitter, Hologramm, Blazegitter, Lineargitter, Kreuzgitter, Hexagonalgitter, asymmetrische oder symmetrische Gitterstruktur, retroreflektierende Struktur, refraktive oder diffraktive Mikrolinse, refraktives oder diffraktives Mikroprisma, Beugungsstruktur nullter Ordnung, Mottenaugenstruktur oder anisotrope oder isotrope Mattstruktur auf.According to a preferred embodiment of the invention, the security element has a replication layer, in which an optically active surface relief, in particular for generating an optically variable effect, is formed at least in regions in the first zones. This surface relief preferably has one or more relief structures selected from the group diffractive grating, hologram, blazed grating, linear grating, cross grating, hexagonal grating, asymmetric or symmetric grating structure, retroreflective structure, refractive or diffractive microlens, refractive or diffractive microprism, zero-order diffraction structure, moth-eye structure or anisotropic or isotropic matte structure.

Weiterhin ist es vorteilhaft, die Parameter der Reliefstruktur lokal zu variieren, beispielsweise die Orientierung von Gitterfurchen, die Profilform oder die Strukturtiefe oder mehrere dieser Parameter in Kombination.Furthermore, it is advantageous to locally vary the parameters of the relief structure, for example the orientation of grid grooves, the profile shape or the pattern depth or several of these parameters in combination.

Gitterstrukturen können zudem gekrümmt sein oder eine stochastische Variation zumindest eines Gitterparameters, wie beispielsweise Abstand, Strukturtiefe oder Profilform, aufweisen.Furthermore, lattice structures can be curved or have a stochastic variation of at least one lattice parameter, such as, for example, spacing, structure depth or profile shape.

Auch kann das Oberflächenrelief aus einer regelmäßigen, teilweise regelmäßigen oder zufällige, Anordnungen von Spitzen oder Vertiefungen bestehen. Zudem kann das Oberflächenrelief eine stufenförmig ausgestaltete Profilform aufweisen und diese Stufen insbesondere eine einheitliche Höhe aufweisen. Weiter kann dieses Oberflächenrelief eine additive oder subtraktive Überlagerung von zwei oder mehreren der oben genannten Reliefstrukturen umfassen. Unter einem diffraktiven Gitter wird eine Reliefstruktur mit einer Spatialfrequenz von 100 bis 5000 Linien/mm verstanden, deren Strukturelemente bevorzugt eine Strukturtiefe zwischen 0,1 und 20 µm, insbesondere zwischen 0,1 und 10 µm aufweisen. Als Blazegitter werden bevorzugt Reliefstrukturen mit dreieckförmigen Strukturelementen eingesetzt, welche voneinander zwischen 0,2 und 10 µm beabstandet angeordnet sind. Als Mikrolinsen werden bevorzugt Zylinderlinsen oder sphärische Linsen mit einer Brennweite von 5 bis 500 µm und/oder einer Strukturtiefe von 0,1 bis 50 µm eingesetzt.Also, the surface relief may consist of regular, partially regular or random, arrays of peaks or valleys. In addition, the surface relief may have a step-shaped profiled shape and these steps may in particular have a uniform height. Further, this surface relief may comprise an additive or subtractive superposition of two or more of the above-mentioned relief structures. A diffractive grating is understood to mean a relief structure having a spatial frequency of 100 to 5000 lines / mm, whose structural elements preferably have a structure depth between 0.1 and 20 μm, in particular between 0.1 and 10 μm. As Blazegitter preferably relief structures are used with triangular structural elements, which are spaced from each other between 0.2 and 10 microns. Cylindrical lenses or spherical lenses with a focal length of 5 to 500 μm and / or a structure depth of 0.1 to 50 μm are preferably used as microlenses.

Als Mikroprismen werden bevorzugt Mikroprismen eingesetzt, welche eine Strukturtiefe von 0,1 bis 25 µm besitzen, eine Strukturbreite an der Basis von 5 bis 300 µm aufweisen und voneinander bevorzugt zwischen 5 und 300 µm beabstandet sind.Microprisms used are preferably microprisms which have a structure depth of 0.1 to 25 μm, have a structure width at the base of 5 to 300 μm and are preferably spaced apart between 5 and 300 μm.

Als Mattstrukturen werden bevorzugt Mattstrukturen mit einer Korellationslänge zwischen 0,2 und 20 µm eingesetzt. Als Beugungsstrukturen nullter Ordnung werden bevorzugt regelmäßige Strukturen mit einer Spatialfrequenz von mehr als 2000 Linien/mm eingesetzt.Matt structures with a corellation length between 0.2 and 20 μm are preferably used as matt structures. As zero-order diffraction structures, it is preferable to use regular structures having a spatial frequency of more than 2000 lines / mm.

Das Oberflächenrelief weist hierbei bevorzugt unterschiedliche Bereiche auf, welche mit unterschiedlichen der oben bezeichneten Reliefstrukturen belegt sind. Unter unterschiedlichen Reliefstrukturen werden zum einen Reliefstrukturen verstanden, welche sich in der Formgebung der Strukturelemente, und/oder in deren Anordnung zueinander in einem oder mehreren Strukturparametern unterscheiden, beispielsweise eine unterschiedliche Spatialfrequenz und/oder einen unterschiedlichen Azimuthwinkel aufweisen. Die Bereiche können Grenzlinien zu benachbarten Bereichen aufweisen, an denen sich die oben genannten Eigenschaften der Reliefstrukturen sprunghaft ändern. Weiterhin sind auch kontinuierliche örtliche Übergänge der Parameter der Reliefstrukturen möglich. Weiterhin sind auch quasi-kontinuierliche örtliche Übergänge der Parameter der Reliefstrukturen möglich, z.B. ein lokales Interlacing, d.h. Ineinanderschachteln bzw. die abwechselnde Anordnung von Teilbereichen der jeweils angrenzenden Reliefstrukturen in einem Übergangsbereich.In this case, the surface relief preferably has different regions which are covered with different relief structures described above. Different relief structures are understood to be relief structures which differ in the shape of the structural elements and / or in their arrangement relative to one another in one or more structural parameters, for example have a different spatial frequency and / or a different azimuth angle. The regions may have borderlines to adjacent regions at which the abovementioned properties of the relief structures change abruptly. Furthermore, continuous local transitions of the parameters of the relief structures are possible. Furthermore, quasi-continuous local transitions of the parameters of the relief structures are possible, e.g. a local interlacing, i. Nesting boxes or the alternating arrangement of subregions of the respective adjacent relief structures in a transition region.

Von besonderem Vorteil ist weiter, wenn das Oberflächenrelief im Register, d.h. lagegenau zu den ersten Zonen vorgesehen ist. So ist es besonders vorteilhaft, wenn in den zweiten Zonen und/oder im Hintergrundbereich kein Oberflächenrelief in die Replizierlackschicht abgeformt ist oder dort ein Oberflächenrelief abgeformt ist, welches sich von dem in den ersten Zonen abgeformten Oberflächenreliefs unterscheidet. So wird beispielsweise das Oberflächenrelief in den zweiten Zonen und/oder im Hintergrundbereich lediglich durch die herstellungsbedingte Oberflächenrauigkeit der Replizierlackschicht bestimmt und weist so beispielsweise dort eine Strukturtiefe oder eine Rauhtiefe von weniger als 100 nm auf, oder weist dort eine zur Reliefstruktur in den ersten Zonen unterschiedliche Reliefstruktur auf, insbesondere eine Reliefstruktur auf, dessen Aspektverhältnis sich vom in den ersten Zonen abgeformten Oberflächenrelief um mindestens 25 %, insbesondere um mindestens 50% unterscheidet. Unter Aspektverhältnis wird hierbei das Verhältnis von Relieftiefe zur Breite der Strukturelemente der Reliefstruktur verstanden. Es hat sich gezeigt, dass sich durch eine derartige Ausgestaltung des in die Replizierlackschichten abgeformten Oberflächenreliefs die Brillanz und auch die Fälschungssicherheit des Sicherheitselements deutlich erhöhen lässt. So ist beispielsweise eine registergenaue, d.h. lagegenaue Ausrichtung des Oberflächenreliefs zu den ersten Zonen nur mittels erheblichem technologischen Aufwand realisierbar und Fälschungsversuche oder Manipulationsversuche werden unmittelbar erkennbar, da beispielsweise bei Ablösung oder Manipulation einer der Schichten die optisch variable Information aufgrund der so entstehenden Passerabweichungen, d.h. Abweichungen von der Lagegenauigkeit der Ausrichtung des Oberflächenreliefs zu den ersten Zonen, unmittelbar verändert wird und so Fälschungen eindeutig identifiziert werden können.It is furthermore of particular advantage if the surface relief is provided in the register, ie in the exact position relative to the first zones. Thus, it is particularly advantageous if, in the second zones and / or in the background area, no surface relief is molded into the replication lacquer layer or a surface relief is formed there, which differs from the surface relief shaped in the first zones. Thus, for example, the surface relief in the second zones and / or in the background region is only determined by the production-related surface roughness of the replication lacquer layer and thus has, for example, a structure depth or a roughness depth of less than 100 nm, or has a different pattern there from the relief structure in the first zones Relief structure on, in particular a relief structure whose aspect ratio differs from the surface relief molded in the first zones by at least 25%, in particular by at least 50%. Here, the aspect ratio is the ratio of relief depth to the width of the structural elements of the Relief structure understood. It has been shown that the brilliance and also the security against forgery of the security element can be significantly increased by such a configuration of the surface relief shaped into the replication lacquer layers. Thus, for example, register-accurate, ie positionally accurate alignment of the surface relief to the first zones can be realized only by considerable technological effort and forgery attempts or manipulation attempts are immediately recognizable, for example, in the case of detachment or manipulation of one of the layers optically variable information due to the resulting Passer deviations, ie deviations From the positional accuracy of the orientation of the surface relief to the first zones, is immediately changed and so counterfeits can be clearly identified.

Vorzugsweise ist das Oberflächenrelief hierbei in der der opaken Reflexionsschicht zugewandten Oberfläche der Replizierschicht abgeformt und insbesondere in die Grenzfläche zwischen Replizierschicht und opaker Reflexionsschicht abgeformt.In this case, the surface relief is preferably shaped in the surface of the replication layer facing the opaque reflection layer and shaped, in particular, into the interface between the replication layer and the opaque reflection layer.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in einer Vielzahl von ersten Zonen jeweils eine Mikrolinse oder ein Mikroprisma als Oberflächenrelief in die Replizierlackschicht abgeformt. Die Flächenausformung und Flächenabmessung der jeweiligen, mit der Mikrolinse oder dem Mikroprisma gelegten ersten Zonen ist hierbei insbesondere so gewählt, dass die jeweilige Mikrolinse oder das jeweilige Mikroprisma die gesamte Fläche der jeweiligen ersten Zone einnimmt. Die Strukturierung der opaken Reflexionsschicht in dem Musterbereich erfolgt somit exakt im Register, d.h. lagegenau zu den einzelnen Linsen, so dass jede Linse vollständig die Reflexionsschicht aufweist, der Hintergrund jedoch vollständig keine Reflexionsschicht aufweist und transparent oder transluzent oder durchscheinend ist. Hierdurch wird die Brillanz der Sicherheitsmerkmale des Sicherheitselements sowie dessen Fälschungssicherheit weiter verbessert.According to a preferred embodiment of the invention, in each case a microlens or a microprisma is molded as a surface relief into the replication lacquer layer in a multiplicity of first zones. The surface formation and area dimension of the respective first zones laid down by the microlens or by the microprism are in this case selected in particular such that the respective microlens or the respective microprism occupies the entire area of the respective first zone. The structuring of the opaque reflection layer in the pattern region thus takes place exactly in the register, ie in position relative to the individual lenses, so that each lens completely has the reflection layer, but the background has completely no reflection layer and is transparent or translucent or translucent. As a result, the brilliance of Security features of the security element and its security against counterfeiting further improved.

Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung wird der Flächenanteil der jeweiligen ersten Zonen, welche von dem Oberflächenrelief belegt ist, in dem Musterbereich lokal variiert. Hierdurch ist es möglich, die Helligkeit, in dem der Musterbereich in verschiedenen Betrachtungsrichtungen erscheint, zu variieren und damit die optische Komplexität des von dem Sicherheitselement bereitgestellten Sicherheitsmerkmals zu erhöhen. Besonders vorteilhaft ist hierbei weiter, die Flächengröße dieser ersten Zone konstant zu halten. Hierdurch wird weiter der Vorteil erzielt, dass das optische Erscheinungsbild einer eventuell unter der opaken optischen Reflexionsschicht vorgesehenen zweiten optischen Informationen jedoch nicht beeinflusst wird und so diese Helligkeitsänderungen besonders prägnant erscheinen.According to a further preferred embodiment of the invention, the area fraction of the respective first zones, which is occupied by the surface relief, varies locally in the pattern area. This makes it possible to vary the brightness in which the pattern area appears in different viewing directions and thus to increase the optical complexity of the security feature provided by the security element. It is particularly advantageous to keep the area size of this first zone constant. This further provides the advantage that the visual appearance of a possibly provided under the opaque optical reflection layer second optical information is not affected and so these changes in brightness appear particularly concise.

Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind erste Zonen, bevorzugt jede der ersten Zonen eines Designelements oder des Musterbereichs, in n Teilzonen unterteilt, in welchen unterschiedliche Reliefstrukturen als Oberflächenrelief in die Replizierschicht abgeformt sind, wobei n ≥ 2. So sind beispielsweise in einer ersten Teilzone ein diffraktives Gitter, in einer zweiten Teilzone eine Mattstruktur und in einer dritten Teilzone eine Spiegelfläche als Reliefstruktur abgeformt. Hierdurch wird es ermöglicht, im Musterbereich ein nur schwer nachahmbares optisches Sicherheitsmerkmal bereitzustellen. So ist es beispielsweise möglich, optisch variable Effekte in dem Musterbereich zu generieren, welche nicht durch ein Hologramm realisiert werden können und welche so beispielsweise bei einer unregistrierten, d.h. nicht lagegenauen Anordnung von ersten Zonen zu einer Reliefstruktur nicht realisiert werden können.According to a further preferred embodiment of the invention, first zones, preferably each of the first zones of a design element or of the pattern area, are subdivided into n subzones in which different relief structures are shaped as a surface relief into the replication layer, where n ≥ 2. For example, in a first Sub-zone a diffractive grating, in a second sub-zone a matt structure and in a third sub-zone a mirror surface shaped as a relief structure. This makes it possible to provide an optical security feature that is difficult to imitate in the pattern area. Thus, it is possible, for example, to generate optically variable effects in the pattern area, which can not be realized by a hologram and which, for example, can not be realized in an unregistered, ie not positionally accurate arrangement of first zones to a relief structure.

Weiter ist es vorteilhaft, wenn jeweils eine der Teilzonen jeder dieser ersten Zonen einer Betrachtungsrichtung zugeordnet ist. So sind beispielsweise m Betrachtungsrichtungen vorgesehen und jeder diesen ersten Zonen weist n ≥ m Teilzonen auf, die jeweils einer der m Betrachtungsrichtungen zugeordnet sind. Die einer Betrachtungsrichtung zugeordneten Teilzonen der ersten Zonen sind vorzugsweise mit derselben Reliefstruktur belegt. Weiter ist es vorteilhaft, wenn die Flächengröße die jeweiligen Teilzonen lokal zur Bestimmung der lokalen Helligkeit in der jeweiligen Teilzone zugeordneten Betrachtungsrichtung variiert ist. Zusätzlich oder alternativ hierzu ist es auch möglich, dass Teilzonen der ersten Zonen jeweils einer von k Farbkomponenten zugeordnet sind. So ist es beispielsweise möglich, dass drei Farbkomponenten (R G B, bedeutend z.B. Rot Grün Blau) vorgesehen sind und erste Zonen jeweils drei Teilzonen aufweisen, von denen jeweils eine erste der Farbkomponente R, eine zweite der Farbkomponente G und eine dritte der Farbkomponente B zugeordnet ist. Auch hier ist es vorteilhaft, wenn die ein und derselben Farbkomponente zugeordneten Teilzonen dieselbe Reliefstruktur aufweisen. Weiter ist es auch hier möglich, dass die Flächengröße der jeweiligen Teilzonen lokal zur Bestimmung der lokalen Helligkeit und des Farbwerts variiert sind. Hierdurch wird es ermöglicht, in einem transparenten Bereich in Reflexion sichtbar Echtfarbenbilder und/oder in unterschiedlichen Richtungen in ihrem Helligkeit- und/oder Farbwert variierenden Bilder als Sicherheitsmerkmal zu generieren. Bereits mit k=2 lassen sich Bilder darstellen, die einen Echtfarbeneindruck erzeugen. Der Farbraum sind zwar eingeschränkt, aber dennoch für viele Anwendungen ausreichend. Der Vorteil besteht insbesondere darin, dass nur noch 2 Teilzonen benötigt werden. Auf der anderen Seite kann mit k≥2, insbesondere k≥3 der darstellbare Farbraum vergrößert werden, während als Nachteil mehr Teilzonen benötigt werden.It is also advantageous if in each case one of the subzones of each of these first zones is assigned to a viewing direction. For example, m viewing directions are provided, and each of these first zones has n ≥ m subzones each associated with one of the m viewing directions. The partial zones of the first zones assigned to a viewing direction are preferably covered with the same relief structure. Furthermore, it is advantageous if the area size of the respective subzones is varied locally to determine the local brightness in the respective subzone associated viewing direction. Additionally or alternatively, it is also possible that subzones of the first zones are each assigned to one of k color components. It is thus possible, for example, for three color components (RGB, meaning, for example, red-green-blue) to be provided and first zones each having three sub-zones, of which in each case a first of the color component R, a second of the color component G and a third of the color component B are assigned , Again, it is advantageous if the one and the same color component associated sub-zones have the same relief structure. Furthermore, it is also possible here for the area size of the respective subzones to be varied locally to determine the local brightness and the color value. This makes it possible to generate in a transparent region in reflection visible true color images and / or in different directions in their brightness and / or color varying images as a security feature. Already with k = 2, images can be created that produce a true color impression. Although the color space is limited, it is still sufficient for many applications. The advantage is in particular that only 2 subzones are needed. On the other hand, with k≥2, in particular k≥3, the representable color space can be increased, while more subzones are needed as a disadvantage.

Weiter ist es vorteilhaft, wenn erste Zonen eine Teilzone aufweisen, in denen keine Reliefstruktur in die Replizierschicht abgeformt ist. So ist es beispielsweise möglich, dass die erste optische Information eine in Reflexion lokal unterschiedliche Helligkeit aufweist, welche durch die jeweilige lokale Flächengröße der ersten Zone bestimmt wird und von einer optisch variablen Information überlagert wird, welche durch die Art und den Flächenanteil der in den jeweilig ersten Zonen abgeformten Reliefstrukturen des Oberflächenreliefs bestimmt wird. Im Weiteren werden hierdurch auch unterschiedliche Informationen in Transmission und in Reflexion durch das Sicherheitselement generiert.Furthermore, it is advantageous if first zones have a partial zone in which no relief structure is molded into the replication layer. That's the way it is, for example it is possible for the first optical information to have a brightness which differs locally in reflection, which is determined by the respective local area size of the first zone and is superimposed by an optically variable information which is determined by the type and area ratio of the relief structures formed in the respective first zones the surface relief is determined. Furthermore, this also generates different information in transmission and in reflection by the security element.

Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind die Breite, Länge und/oder die Beabstandung der ersten Zonen in einem Moire-Bereich zur Generierung einer versteckten Moire-Information variiert, welche bei Überlagerung mit einem zugeordneten Moire-Verifikationselement als dritte Information im Moire-Bereich sichtbar wird.According to a further preferred embodiment of the invention, the width, length and / or spacing of the first zones in a moiré region are varied to generate hidden moiré information which, when superimposed with an associated moiré verification element, is the third information in the moiré region becomes visible.

So ist der Moire-Bereich beispielsweise in einen Moire-Hintergrundbereich und einen Moire-Musterbereich geteilt.For example, the moire area is divided into a moire background area and a moire pattern area.

Beispielsweise haben die Breite, Länge und/oder Beabstandung der ersten Zonen in dem Moire-Hintergrundbereich und dem Moire-Musterbereich leicht unterschiedliche Parameterwerte (die im Bereich der Rasterweiten der Strukturelemente des Moire-Verifikationselements gewählt sind), sodass bei der Überlagerung mit dem Moire-Verifikationselement der Moire-Musterbereich gegen den Moire-Hintergrundbereich sichtbar wird. Als Verifikationselement können gedruckte, metallisierte oder anderweitig strukturierte eindimensionale oder zweidimensionale Raster dienen, insbesondere eindimensionale oder zweidimensionale Mikrolinsenraster oder Linienraster. Die Unterschiede in den Parameterwerten (Breite, Länge und/oder die Beabstandung) für Moire-Musterbereich und Moire-Hintergrundbereich und die entsprechenden Parameterwerte des Moire-Verifikationselements unterscheiden sich typischerweise im Bereich von 0,1% bis 10 %.For example, the width, length and / or spacing of the first zones in the moire background region and the moire pattern region have slightly different parameter values (selected in the region of the raster widths of the moire verification element features), such that when superimposed with the moire pattern element. Verification element of the moire pattern area becomes visible against the moire background area. As a verification element can serve printed, metallized or otherwise structured one-dimensional or two-dimensional grid, in particular one-dimensional or two-dimensional microlens grid or line grid. The differences in the parameter values (width, length, and / or spacing) for moire pattern area and moire background area and the corresponding ones Parameter values of the moiré verification element typically differ in the range of 0.1% to 10%.

Gemäß einem weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung ist innerhalb des optisch aktiven Oberflächenreliefs der ersten Zonen zur Generierung einer versteckten Moire-Information eine Substrukturierung des optisch aktiven Oberflächenreliefs vorgesehen, wobei die versteckte Moire-Information bei Überlagerung mit einem zugeordneten Moire-Verifikationselement als dritte Information sichtbar wird. So sind beispielsweise als Parameter die Reliefform und/oder die Strukturtiefe und/oder der Azimuthwinkel und/oder die Spatialfrequenz des optisch aktiven Oberflächenreliefs im Moire-Hintergrundbereich und im Moire-Musterbereich der versteckten Moire-Information leicht unterschiedlich gewählt und auch leicht unterschiedlich zu den entsprechenden Parametern des Moire-Verifikationselements gewählt, so dass bei Überlagerung mit dem Moire-Verifikationselement der Moire-Musterbereich gegen den Moire-Hintergrundbereich sichtbar wird.According to a further preferred embodiment of the invention, a substructuring of the optically active surface relief is provided within the optically active surface relief of the first zones for generating a hidden moire information, wherein the hidden moire information becomes visible as a third information when superposed with an associated moire verification element , Thus, for example, the relief shape and / or the texture depth and / or the azimuth angle and / or the spatial frequency of the optically active surface relief in the moire background region and in the moire pattern region of the hidden moire information are slightly different and also slightly different from the corresponding ones Parameters of the moire verification element selected so that when superimposed with the moire verification element of the moire pattern area is visible against the moire background area.

Als Moire-Verifikationselement können gedruckte, metallisierte oder anderweitig strukturierte eindimensionale oder zweidimensionale Raster dienen, insbesondere eindimensionale oder zweidimensionale Mikrolinsenraster oder Linienraster. Die Unterschiede in den Parameterwerten (Breite, Länge und/oder die Beabstandung) für Moire-Musterbereich und Moire-Hintergrundbereich und die entsprechenden Parameterwerte des Moire-Verifikationselements unterscheiden sich typischerweise im Bereich von 0,1% bis 10 %. Beispielsweise kann der Moire-Musterbereich und/oder der Moire-Hintergrundbereich in Form von eindimensional gestauchten Designelementen gestaltet sein, die durch das Moire-Verifikationselement moire-vergrößert werden und beim Bewegen des Moire-Verifikationselements dynamische Effekte zeigen.The moire verification element may be printed, metallized or otherwise structured one-dimensional or two-dimensional rasters, in particular one-dimensional or two-dimensional microlens rasters or line rasters. The differences in parameter values (width, length, and / or spacing) for moire pattern area and moire background area and the corresponding parameter values of the moiré verification element typically differ in the range of 0.1% to 10%. For example, the moire pattern area and / or the moire background area may be in the form of one-dimensionally compressed design elements that are moire-enlarged by the moiré verification element and exhibit dynamic effects when the moire verification element is moved.

Besonders interessant sind hierbei animierte, insbesondere eindimensionale oder zweidimensionale Moire-Effekte, die beim Verkippen des Sicherheitselements und/oder bei einer Relativbewegung des Moire-Verifikationselementes relativ zu dem Musterbereich der versteckten Moire-Information sichtbar werden.Particularly interesting here are animated, in particular one-dimensional or two-dimensional moiré effects, which become visible when tilting the security element and / or during a relative movement of the moiré verification element relative to the pattern region of the hidden moire information.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind die ersten Zonen in dem Musterbereich gemäß einem ein- oder zweidimensionalen Raster angeordnet, wobei die Rasterweite insbesondere zwischen 5 und 1000 µm, weiter bevorzugt zwischen 20 und 500 µm, noch weiter bevorzugt zwischen 25 und 250 µm beträgt. Bei dem Raster kann es sich hierbei um ein periodisches Raster handeln. Es ist jedoch auch möglich, dass es sich um ein unregelmäßiges oder auch ein stochastisches Raster handelt, welches insbesondere an die Formgebung der Designelemente angepasst ist.According to a preferred embodiment of the invention, the first zones are arranged in the pattern area according to a one- or two-dimensional grid, wherein the screen width is in particular between 5 and 1000 .mu.m, more preferably between 20 and 500 .mu.m, even more preferably between 25 and 250 .mu.m. The raster can be a periodic raster. However, it is also possible that it is an irregular or a stochastic grid, which is particularly adapted to the shape of the design elements.

Besonders vorteilhaft ist weiter, wenn der Flächenanteil der ersten Zonen am Musterbereich zwischen 1 und 80%, insbesondere zwischen 2 und 50 % beträgt.It is also particularly advantageous if the area ratio of the first zones in the pattern region is between 1 and 80%, in particular between 2 and 50%.

Weiter ist es bevorzugt, wenn die Abstände zwischen ersten Zonen zwischen 25 und 250 µm betragen und/oder dass die Breite und/oder Länge der ersten Zonen im Bereich von 5 bis 100 µm gewählt ist.It is further preferred if the distances between the first zones are between 25 and 250 μm and / or that the width and / or length of the first zones is selected in the range of 5 to 100 μm.

Die ersten Zonen sind zweckmäßig als Polygon, insbesondere rechteckförmig oder als Trapez, wobei die Ecken auch abgerundet sein können, oder elliptisch, insbesondere kreisförmig ausgebildet. Weiterhin können die ersten Zonen auch einfache figürliche Formen oder Motive aufweisen, wie beispielsweise ein Buchstabe, ein Symbol oder ein Logo.The first zones are useful as a polygon, in particular rectangular or as a trapezoid, wherein the corners may also be rounded, or elliptical, in particular circular. Furthermore, the first zones may also have simple figurative shapes or motifs, such as a letter, a symbol or a logo.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung umfasst der Musterbereich ein oder mehrere Designelemente, die jeweils in Form einer Linie ausgeformt sind, deren Breite insbesondere um mindestens den Faktor 10 größer als die Länge ist. Der Musterbereich umfasst somit ein aus ein oder mehreren Linien zusammengesetztes Muster. Vorzugsweise sind ein oder mehrere dieser Linien in Form einer Guilloche ausgeformt.According to a preferred embodiment of the invention, the pattern area comprises one or more design elements, each in the form of a line are formed, the width of which in particular by at least a factor of 10 is greater than the length. The pattern area thus comprises a pattern composed of one or more lines. Preferably, one or more of these lines are shaped in the form of a guilloche.

Vorzugsweise beträgt die Breite der Linien hierbei zwischen 5 und 250 µm, weiter bevorzugt zwischen 10 und 100µm.The width of the lines is preferably between 5 and 250 μm, more preferably between 10 and 100 μm.

Gemäß einem bevorzugten Ausführungsbeispiel der Erfindung sind die ersten Zonen eines derartigen Designelements gemäß einem eindimensionalen Raster entlang der Längsrichtung der jeweiligen Linie angeordnet, so dass jeweils nur eine erste Zone über die Breite der Linie vorgesehen ist. Es ist so möglich, dass jede der ersten Zonen die gesamte Breite der Linie einnimmt und die Breite der ersten Zone der Breite der Linie entspricht. Es ist jedoch auch möglich, dass die Ausdehnung der ersten Zone in Richtung der Breite der Linie variiert, wobei insbesondere die Ausdehnung der ersten Zone in Längsrichtung der Linie und/oder die Beabstandung der ersten Zonen konstant ist. Es hat sich gezeigt, dass durch eine derartige Gestaltung der ersten Zonen die Konturschärfe der ersten Information erhöht werden kann.According to a preferred embodiment of the invention, the first zones of such a design element are arranged according to a one-dimensional grid along the longitudinal direction of the respective line, so that in each case only a first zone is provided across the width of the line. It is possible that each of the first zones occupies the entire width of the line and the width of the first zone corresponds to the width of the line. However, it is also possible for the extent of the first zone to vary in the direction of the width of the line, wherein, in particular, the extent of the first zone in the longitudinal direction of the line and / or the spacing of the first zones is constant. It has been found that the contour sharpness of the first information can be increased by such a configuration of the first zones.

Weiter ist es vorteilhaft, dass entlang der jeweiligen Linie die Flächengröße der ersten Zonen variiert, um lokal unterschiedliche Helligkeitsintensitäten in Reflexion zu erzeugen. Dies wird bevorzugt wie oben dargelegt realisiert. Weiter ist es auch möglich, dass die Abstände zwischen den ersten Zonen entlang der Linie variieren, um so lokal unterschiedliche Helligkeitsintensitäten in Reflexion zu erzeugen.Furthermore, it is advantageous that along the respective line the area size of the first zones varies in order to generate locally different brightness intensities in reflection. This is preferably realized as set out above. Furthermore, it is also possible for the distances between the first zones to vary along the line so as to generate locally different brightness intensities in reflection.

Im Weiteren ist es vorteilhaft, wenn die Form und Größe der ersten Zonen an die Abmessungen der Designelemente des in die Reflexionsschicht abgeformten Oberflächenreliefs angepasst sind, wie bereits oben dargelegt. Hierbei ist es weiter vorteilhaft, dass in unterschiedlichen Linien zugeordneten ersten Zonen unterschiedliche Reliefstrukturen als Oberflächenrelief abgeformt sind. Im Weiteren ist es auch möglich, dass - wie bereits oben dargelegt - die einer Linie zugeordneten ersten Zonen in n Teilzonen unterteilt sind, wobei auch hier die Unterteilung in Teilzonen, die Anzahl der Teilzonen sowie in die den Teilzonen abgeformten Reliefstrukturen vorzugsweise von Linie zu Linie unterschiedlich sind.Furthermore, it is advantageous if the shape and size of the first zones to the dimensions of the design elements of the molded into the reflective layer Surface reliefs are adapted, as already stated above. In this case, it is further advantageous that different relief structures assigned to different zones are shaped as surface reliefs. Furthermore, it is also possible that-as already explained above-the first zones associated with a line are subdivided into n sub-zones, whereby the subdivision into subzones, the number of subzones as well as the relief structures formed in the subzones preferably also from line to line are different.

Gemäß eines weiteren bevorzugten Ausführungsbeispiels der Erfindung umfasst der Musterbereich ein oder mehrere Designelemente, in deren Bereich ein oder mehrere erste Zonen als Linie ausgeformt sind, welche der Außen- und/oder Innenkontur des Designelements folgen. Die Breite dieser Linien beträgt bevorzugt zwischen 20 und 300 µm. Weiter ist es auch bevorzugt, dass mehrere erste Zonen als parallele Linien ausgeformt sind, welche der Außen- und/oder Innenkontur des Designelements folgen. Weiter ist es auch möglich, dass diese Linien bereichsweise unterbrochen sind.According to a further preferred embodiment of the invention, the pattern region comprises one or more design elements, in the region of which one or more first zones are formed as a line, which follow the outer and / or inner contour of the design element. The width of these lines is preferably between 20 and 300 microns. Furthermore, it is also preferred that a plurality of first zones are formed as parallel lines, which follow the outer and / or inner contour of the design element. Further, it is also possible that these lines are partially interrupted.

Als opake Reflexionsschicht wird bevorzugt eine Reflexionsschicht aus Metall eingesetzt. Die Schichtdicke der Reflexionsschicht wird hierbei so gewählt, dass weniger als 30% des für den Menschen sichtbaren Lichtes durch diese Schicht transmittiert. Weiter ist es auch möglich, ein oder mehrere transparente Reflexionsschichten, beispielsweise HRI oder LRI-Schichten einzusetzen (HRI= High Refraction Index (hoher Brechungsindex); LRI= Low Refraction Index (niedriger Brechungsindex)) und diese transparenten oder transluzenten Reflexionsschichten mit einer darunter liegenden opaken Schicht zu kombinieren, beispielsweise mit einer opaken Lackschicht zu unterlegen.As the opaque reflection layer, a reflective layer of metal is preferably used. The layer thickness of the reflection layer is in this case selected so that less than 30% of the light visible to humans transmits through this layer. Furthermore, it is also possible to use one or more transparent reflection layers, for example HRI or LRI layers (HRI = High Refraction Index, LRI = Low Refraction Index) and these transparent or translucent reflection layers with an underlying layer To combine opaque layer, for example, to underlay with an opaque lacquer layer.

Weiter ist es vorteilhaft, wenn die opake Reflexionsschicht aus einem elektrisch leitfähigen Material besteht oder ein solches umfasst und weiter eine vierte, elektrisch lesbare Information durch Ausformung der ersten Zonen als RF-Elemente (RF= Radio Frequency) oder durch Beeinflussung der Flächenleitfähigkeit der ersten Zonen bereitstellt, beispielsweise durch entsprechende Beabstandung der ersten Zonen.Furthermore, it is advantageous if the opaque reflection layer consists of or comprises an electrically conductive material and furthermore a fourth, provides electrically readable information by shaping the first zones as RF elements (RF = Radio Frequency) or by influencing the Flächenleitfähigkeit the first zones, for example, by appropriate spacing of the first zones.

Weiter ist es vorteilhaft, die opake Reflexionsschicht, falls diese aus einem elektrisch leitfähigen Material besteht, galvanisch noch zu verstärken und so insbesondere eine galvanische Verstärkungsschichtdicke zwischen 0,2 und 20 µm aufzubringen. Es hat sich gezeigt, dass hierdurch die Eigenschaften des Sicherheitselements bezüglich einer insbesondere nachträglichen Laser-Personalisierung verbessert werden können. Wird so beispielsweise unterhalb der opaken Reflexionsschicht eine lasersensitive Schicht vorgesehen, welche bei Personalisierung oder Individualisierung des Sicherheitselements zum Einschreiben von Informationen mit einem Laser bestrahlt wird, so wird durch diese Schicht eine Zerstörung der opaken Reflexionsschicht vermieden und das optische Erscheinungsbild der Sicherheitsmerkmale des Sicherheitselements verbessert.Furthermore, it is advantageous to galvanically reinforce the opaque reflection layer, if it consists of an electrically conductive material, and thus in particular to apply a galvanic reinforcement layer thickness between 0.2 and 20 μm. It has been found that, as a result, the properties of the security element with respect to a particularly subsequent laser personalization can be improved. If, for example, a laser-sensitive layer is provided below the opaque reflection layer, which is irradiated with personalization or individualization of the security element for writing information with a laser, this layer avoids destruction of the opaque reflection layer and improves the visual appearance of the security features of the security element.

Wie bereits oben ausgeführt, weist das Sicherheitselement eine Dekorschicht zur Generierung einer zweiten optisch wahrnehmbaren Information auf, welche in Bezug auf die Betrachtungsrichtung des Sicherheitselements unterhalb der opaken Reflexionsschicht angeordnet ist. Bei Betrachtung des Sicherheitselements überlagern sich die erste und die zweite optisch wahrnehmbare Information, so dass die zweite optisch wahrnehmbare Information gegenüber Fälschung und Manipulation gesichert ist. Bei der zweiten optisch wahrnehmbaren Information handelt es sich hierbei bevorzugt um eine personalisierte oder individualisierte Information, beispielsweise persönlichen Daten eines Inhabers eines ID-Dokuments, wie beispielsweise Passnummer, Seriennummer, Name, Foto des Passinhabers usw. Die zweite optisch wahrnehmbare Information, die beispielsweise durch entsprechende Ausformung oder Bestrahlung der Dekorschicht bereitgestellt wird, ist derart ausgeformt und/oder angeordnet, dass sie sowohl den Musterbereich als auch den Hintergrundbereich zumindest jeweils bereichsweise überlagert.As already stated above, the security element has a decorative layer for generating a second optically perceivable information, which is arranged with respect to the viewing direction of the security element below the opaque reflection layer. When viewing the security element, the first and the second optically perceivable information overlap, so that the second optically perceptible information is protected against forgery and manipulation. The second optically perceptible information is preferably a personalized or individualized information, for example personal data of a holder of an ID document, such as passport number, serial number, name, photo of the passport holder, etc. The second optically Perceptible information, which is provided, for example, by corresponding shaping or irradiation of the decorative layer, is shaped and / or arranged in such a way that it overlays both the pattern area and the background area at least in each case in regions.

Weiter ist es vorteilhaft, dass sämtliche in Bezug auf die Betrachtungsrichtung des Sicherheitselements oberhalb der opaken Reflexionsschicht angeordnete Schichten des Sicherheitselements zumindest bereichsweise transparent sind oder transluzent sind. Diese Schichten können aber auch durchscheinend eingefärbt, teilweise transparent, teilweise transluzent oder teilweise streuend sein. Die Eigenschaften können hinsichtlich der Transparenz zudem lokal variieren.Furthermore, it is advantageous that all layers of the security element arranged above the opaque reflection layer with respect to the viewing direction of the security element are at least partially transparent or translucent. However, these layers can also be translucently colored, partially transparent, partially translucent or partially scattering. The properties may also vary locally in terms of transparency.

Weiter ist es auch möglich, dass das Sicherheitselement sowohl als in Transmission als auch in Reflexion wirkendes Sicherheitselement ausgebildet ist und so sämtliche in Bezug auf die Betrachtungsrichtung des Sicherheitselements unterhalb der opaken Reflexionsschicht angeordneten Schichten des Sicherheitselements transparent oder transluzent sind.Furthermore, it is also possible that the security element is designed both as a security element acting in transmission and in reflection, and thus all layers of the security element arranged below the opaque reflection layer with respect to the viewing direction of the security element are transparent or translucent.

Das Sicherheitselement kann zum einen als Transferfolie oder Laminierfolie ausgebildet sein, welche die opake Reflexionsschicht aufweist. Es ist weiter möglich, dass das Sicherheitselement von einem Wertdokument, beispielsweise von einer Banknote, einem ID-Dokument, einer Kreditkarte usw., oder einem Label zur Produktsicherung gebildet wird, welches vorzugsweise neben der opaken Reflexionsschicht noch vielfältige weitere Schichten umfasst.The security element can be designed, on the one hand, as a transfer film or laminating film which has the opaque reflection layer. It is also possible that the security element is formed by a value document, for example a banknote, an ID document, a credit card, etc., or a label for product assurance, which preferably also comprises various further layers in addition to the opaque reflection layer.

Vorzugsweise ist die Breite, Länge und/oder Beabstandung der ersten Zonen des Sicherheitselements zur Generierung einer versteckten Moire-Information variiert, welche bei Überlagerung mit einem zugeordneten Moire-Verifikationselement als dritte Information sichtbar wird, wobei die ersten Zonen insbesondere ein 1-d oder 2-d Moire ausbilden.The width, length and / or spacing of the first zones of the security element are preferably varied in order to generate a hidden moire information which, when superposed with an associated moire verification element, becomes visible as third information, the first zones being in particular a 1-d or 2 -d Moire train.

Vorzugsweise ist der Musterbereich des Sicherheitselements in Form eines makroskopisch sichtbaren Designs ausgeformt und weist an jeder Stelle eine Breite und/oder eine Länge von mehr als 1 mm auf.Preferably, the pattern area of the security element is shaped in the form of a macroscopically visible design and has a width and / or a length of more than 1 mm at each location.

Vorzugsweise sind die ersten Zonen in dem Musterbereich des Sicherheitselements gemäß einem ein- oder zweidimensionalen Raster angeordnet, wobei die Rasterweite insbesondere zwischen 5 und 1 000 µm beträgt.Preferably, the first zones are arranged in the pattern area of the security element according to a one- or two-dimensional grid, wherein the grid width is in particular between 5 and 1000 microns.

Vorzugsweise betragen die Abstände zwischen ersten Zonen zwischen 25 und 250 µm und/oder die Breite und/oder Länge der ersten Zonen beträgt zwischen 5 bis 200 µm.Preferably, the distances between the first zones are between 25 and 250 μm and / or the width and / or length of the first zones is between 5 and 200 μm.

Vorzugsweise umfasst der Musterbereich des Sicherheitselements ein oder mehrere Designelemente, in deren Bereich erste Zonen als ein oder mehrere, insbesondere parallele Linien ausgeformt sind, welche der Außenkontur und/oder Innenkontur des jeweiligen Designelements folgen.Preferably, the pattern region of the security element comprises one or more design elements, in the region of which first zones are formed as one or more, in particular parallel lines, which follow the outer contour and / or inner contour of the respective design element.

Vorzugsweise besteht die opake Reflexionsschicht des Sicherheitselements aus Metall, aus einer Kombination einer transparenten Reflexionsschicht mit Metall oder aus einer oder mehreren transparenten Reflexionsschichten und einer opaken Lackschicht.The opaque reflection layer of the security element preferably consists of metal, of a combination of a transparent reflection layer with metal or of one or more transparent reflection layers and an opaque lacquer layer.

Vorzugsweise besteht die opake Reflexionsschicht aus einem elektrisch leitfähigen Material oder umfasst ein solches und stellt eine vierte elektrisch lesbare Information durch die Ausbildung der ersten Zonen als RF-Elemente oder durch Beeinflussung der Flächenleitfähigkeit durch die Beabstandung der ersten Zonen bereit.Preferably, the opaque reflective layer is or includes an electrically conductive material and provides fourth electrically readable information by forming the first zones as RF elements or by affecting the sheet conductivity by the spacing of the first zones.

Vorzugsweise weist die opake Reflexionsschicht eine galvanische Verstärkungsschicht einer Schichtdicke zwischen 0,2 und 20 µm auf.The opaque reflection layer preferably has a galvanic reinforcing layer with a layer thickness between 0.2 and 20 μm.

Vorzugsweise umfasst das Verfahren zur Herstellung eines Sicherheitselements, insbesondere Wertdokuments, die Schritte:

  • Bereitstellen eines Sicherheitselements,
  • Einschreiben einer personalisierten Information in eine unterhalb der opaken Reflexionsschicht angeordnete lasersensitive Dekorschicht mittels eines Lasers, wobei beim Einschreiben die opake Reflexionsschicht zwischen dem Laser und der Dekorschicht angeordnet ist.
The method for producing a security element, in particular a value document, preferably comprises the steps:
  • Providing a security element,
  • Writing personalized information into a laser-sensitive decorative layer arranged below the opaque reflection layer by means of a laser, the opaque reflection layer being arranged between the laser and the decorative layer during writing.

Vorzugsweise wird der Laser derart gesteuert, dass Bereiche mit opaker Reflexionsschicht beim Einschreiben der personalisierten Information ausgespart oder zumindest mit reduzierter Leistung beaufschlagt werden.Preferably, the laser is controlled such that areas with opaque reflection layer are omitted when writing the personalized information or at least applied with reduced power.

Im Folgenden wird die Erfindung anhand von mehreren Ausführungsbeispielen unter Zuhilfenahme der beiliegenden Zeichnungen beispielhaft erläutert.

  • Fig. 1a zeigt eine schematische Darstellung einer Draufsicht auf ein Sicherheitselement mit einem vergrößerten Ausschnitt.
  • Fig. 1b zeigt eine schematische Darstellung eines vergrößerten Ausschnitts des Sicherheitselements nach Fig. 1a.
  • Fig. 2 zeigt eine schematische Schnittdarstellung eines Ausschnitts aus einem Sicherheitselement.
  • Fig. 3 zeigt eine schematische Draufsicht auf ein Sicherheitselement.
  • Fig. 4a bis 4c zeigen jeweils eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich eine Reflexionsschicht eines Sicherheitselements.
  • Fig. 5a zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich einer Replizierschicht eines Sicherheitselements.
  • Fig. 5b zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich einer Reflexionsschicht eines Sicherheitselements.
  • Fig. 6a zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich einer Replizierschicht eines Sicherheitselements.
  • Fig. 6b zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich einer Reflexionsschicht eines Sicherheitselements.
  • Fig. 7 zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich eines Sicherheitselements.
  • Fig. 8 zeigt eine schematische Draufsicht auf einen Teilbereich einer Reflexionsschicht eines Sicherheitselements.
In the following, the invention will be explained by way of example with reference to several embodiments with the aid of the accompanying drawings.
  • Fig. 1a shows a schematic representation of a plan view of a security element with an enlarged detail.
  • Fig. 1b shows a schematic representation of an enlarged section of the security element after Fig. 1a ,
  • Fig. 2 shows a schematic sectional view of a section of a security element.
  • Fig. 3 shows a schematic plan view of a security element.
  • Fig. 4a to 4c each show a schematic plan view of a portion of a reflective layer of a security element.
  • Fig. 5a shows a schematic plan view of a portion of a replication layer of a security element.
  • Fig. 5b shows a schematic plan view of a portion of a reflective layer of a security element.
  • Fig. 6a shows a schematic plan view of a portion of a replication layer of a security element.
  • Fig. 6b shows a schematic plan view of a portion of a reflective layer of a security element.
  • Fig. 7 shows a schematic plan view of a portion of a security element.
  • Fig. 8 shows a schematic plan view of a portion of a reflective layer of a security element.

Fig. 1a zeigt ein Sicherheitselement 1, dessen Schichtaufbau beispielhaft in Fig. 2 dargestellt ist. Fig. 1a shows a security element 1, the layer structure exemplified in Fig. 2 is shown.

Das Sicherheitselement 1 weist eine Substratschicht 11, eine Dekorschicht 12, eine optionale Kleberschicht 13, eine Reflexionsschicht 14, eine optionale Replizierschicht 15, eine optionale Schicht 16 sowie eine optionale Schicht 17 auf. Neben diesen Schichten kann das Sicherheitselement 1 noch weitere Schichten umfassen.The security element 1 has a substrate layer 11, a decorative layer 12, an optional adhesive layer 13, a reflection layer 14, an optional replication layer 15, an optional layer 16 and an optional layer 17. In addition to these layers, the security element 1 may comprise further layers.

Das Sicherheitselement 1 wird vorzugsweise von einem Sicherheitsdokument, insbesondere von einem ID-Dokument, beispielsweise einem Pass, einem Führerschein oder einer Zugangskarte gebildet. Es ist jedoch auch möglich, dass es sich bei dem Sicherheitselement 1 um ein Wertdokument, beispielsweise um eine Banknote, Kreditkarte oder dergleichen handelt.The security element 1 is preferably formed by a security document, in particular by an ID document, for example a passport, a driving license or an access card. However, it is also possible for the security element 1 to be a value document, for example a banknote, credit card or the like.

Die Substratschicht 11 kann beispielsweise aus einem Papiersubstrat oder einem Kunststoffsubstrat oder einer Abfolge von mehreren, insbesondere zu einem Laminat oder Extrudat verbundenen Papier- und/oder Kunststoffschichten bestehen. Die Substratschicht 11 weist vorzugsweise eine Schichtdicke zwischen 25 und 2000 µm auf, weiter bevorzugt zwischen 40 und 1000 µm.The substrate layer 11 may consist, for example, of a paper substrate or a plastic substrate or a sequence of a plurality of paper and / or plastic layers, in particular connected to a laminate or extrudate. The substrate layer 11 preferably has a layer thickness between 25 and 2000 .mu.m, more preferably between 40 and 1000 .mu.m.

Die Dekorschicht 12 besteht vorzugsweise aus ein oder mehreren vorzugsweise eingefärbten Lackschichten.The decorative layer 12 preferably consists of one or more preferably colored lacquer layers.

Die Farbgebung der Dekorschicht 12 bzw. der diese ausbildenden Lackschichten kann beispielsweise durch gelöste Farbstoffe oder auch vermittels Pigmenten oder Kombinationen aus Farbstoffen und Pigmenten erfolgen. Insbesondere können dies UV-fluoreszierende oder durch IR-Strahlung anregbare Farbstoffe oder Pigmente sein. Die Farbgebung der Dekorschicht 12 kann auch durch optisch variable Farbstoffe oder Pigmente, sogenannte OVI® (OVI=Optically variable Ink) erfolgen, d.h. durch je nach Betrachtungssituation, z.B. je nach Betrachtungs- und/oder Beleuchtungswinkel, unterschiedliche optische Erscheinungsbilder aufweisende Farbstoffe und/oder Pigmente.The coloring of the decorative layer 12 or the lacquer layers forming it can be effected, for example, by dissolved dyes or else by means of pigments or combinations of dyes and pigments. In particular, these may be UV-fluorescent or IR-stimulable dyes or pigments. The coloring of the decorative layer 12 can also be effected by optically variable dyes or pigments, so-called OVI® (OVI = Optically Variable Ink), i. depending on the viewing situation, e.g. depending on the viewing and / or illumination angle, different visual appearance having dyes and / or pigments.

Diese Lackschichten sind zur Bereitstellung einer optisch wahrnehmbaren Information ausgeformt und stellen so beispielsweise die in Fig. 1a schematisch dargestellten optischen Informationen 23 und 24 bereit. So ist die Dekorschicht 12 beispielsweise in einem Bereich des Sicherheitselements 1 in Form eines Bildes des Inhabers des Sicherheitselement 1 als optische Information 23 und in einem anderen Bereich des Sicherheitselements 1 in Form eines den Inhaber des Sicherheitselements 1 spezifizierenden Textes, beispielsweise umfassend den Namen des Inhabers, dessen Adresse und/oder dessen ID-Nummer ausgebildet. Weiterhin kann die Dekorschicht auch nicht personalisierte oder individualisierte Information aufweisen, wie beispielsweise einen oder mehrere Sicherheitsdrucke. Die Lackschichten der Dekorschicht 12 bestehen vorzugsweise aus ein oder mehreren in Bezug auf die Substratschicht 11 unterschiedlich gefärbten Lackschichten und können neben Farbstoffen oder "normalen" Farbpigmenten auch Effektpigmente, wie beispielsweise Dünnfilmschichtpigmente, Flüssigkristallpigmente oder Metallpigmente oder durch Magnetfelder ausgerichtete Effektpigmente umfassen. Bei der Verwendung von Farbpigmenten in der Dekorschicht 12 ist es so auch möglich, dass die Information 23 und 24 ein optisch variables Erscheinungsbild besitzen, beispielsweise ein Farbwechseleffekt zeigen. Der Sicherheitsdruck kann optisch variable Bestandteile aufweisen und optisch nicht variable Bestandteile. Der Sicherheitsdruck kann darüber hinaus auch noch andere, insbesondere nicht optische Sicherheitsmerkmale aufweisen.These paint layers are formed to provide a visually perceptible information and thus provide, for example, in Fig. 1a schematically illustrated optical information 23 and 24 ready. Thus, the decorative layer 12 is, for example, in one area of the security element 1 in the form of an image of the owner of the security element 1 as optical information 23 and in another area of the security element 1 in the form of a text specifying the owner of the security element 1, for example comprising the name of the owner , its address and / or its ID number formed. Furthermore, the decorative layer may also have non-personalized or individualized information, such as one or more security prints. The lacquer layers of the decorative layer 12 preferably consist of one or more lacquer layers differently colored with respect to the substrate layer 11 and may also comprise, in addition to dyes or "normal" color pigments, effect pigments such as thin film layer pigments, liquid crystal pigments or metal pigments or effect pigments aligned by magnetic fields. When using color pigments In the decorative layer 12, it is also possible that the information 23 and 24 have an optically variable appearance, for example, show a color change effect. The security pressure may have optically variable components and optically non-variable components. The security printing can also have other, in particular non-optical security features.

Weiter ist es auch möglich, dass die Dekorschicht 12 aus einem lasersensitiven Material besteht oder ein oder mehrere Schichten aus einem lasersensitiven Material umfasst, in welches beispielsweise die optischen Informationen 23 und/oder 24 mittels eines Lasers eingeschrieben werden. Unter lasersensitivem Material wird hierbei ein Material verstanden, welches durch Einwirken eines Lasers zu einer Farbänderung angeregt wird oder hierdurch zumindest teilweise und/oder bereichsweise abgetragen wird.Furthermore, it is also possible that the decorative layer 12 consists of a laser-sensitive material or comprises one or more layers of a laser-sensitive material into which, for example, the optical information 23 and / or 24 are inscribed by means of a laser. Laser-sensitive material here means a material which is excited by the action of a laser to change the color or is thereby at least partially and / or partially removed.

Auf die Dekorschicht 12 und die Substratschicht 11 kann auch verzichtet werden. Weiter ist es auch möglich, dass zwischen der Reflexionsschicht 14 und der Dekorschicht 12 noch weitere oder andere Schichten als die Kleberschicht 13 angeordnet sind oder die Reflexionsschicht 14 direkt auf die Dekorschicht 12 folgt.The decorative layer 12 and the substrate layer 11 can also be dispensed with. Furthermore, it is also possible that further or different layers than the adhesive layer 13 are arranged between the reflective layer 14 and the decorative layer 12, or the reflective layer 14 directly follows the decorative layer 12.

Die Schichten 13 bis 17 können beispielsweise von einer Transferfolie 110 oder von der Übertragungslage einer Transferfolie gebildet werden. In diesem Fall wird die Schicht 16 von einer Ablöseschicht und die Schicht 17 von einer Trägerschicht gebildet. Die Schicht 13 bis 15 bilden dann die Transferlage, welche nach Abziehen der Trägerschicht 17 und der Ablöseschicht 16 auf dem Trägersubstrat 11 verbleibt. Dabei können zusätzliche in der Figur 2 nicht gezeigte Schichten übertragen werden, wie beispielsweise eine oder mehrere Schutzschichten, welche die Beständigkeit gegenüber Abrieb oder chemischen Einwirkungen erhöhen. Auch kann die Kleberschicht 13 aus mehreren Lagen bestehen, wie beispielsweise einem Primer und einer oder mehreren Lagen unterschiedlicher Kleberschichten. Weitere zusätzlich übertragene Schichten können Zwischenschicht-Haftvermittlerschichten oder Barriereschichten sein. Die Trägerschicht 17 besteht in diesem Fall vorzugsweise aus einer Kunststofffolie, beispielsweise einer Polyesterfolie, mit einer Schichtdicke zwischen 6 und 200 µm. Die Kunststofffolie kann auch beispielsweise aus PET (Polyethylenterephthalat), PEN (Polyethylennaphthalat) oder BOPP (biaxially oriented polypropylene = biaxial gerecktes Polypropylen) bestehen.The layers 13 to 17 can be formed, for example, by a transfer film 110 or by the transfer layer of a transfer film. In this case, the layer 16 is formed by a release layer and the layer 17 by a carrier layer. The layers 13 to 15 then form the transfer layer, which remains on the carrier substrate 11 after the carrier layer 17 and the release layer 16 have been removed. This can be additional in the FIG. 2 not shown, such as one or more protective layers, which increase the resistance to abrasion or chemical attack. Also, the adhesive layer 13 may consist of several layers, such as a primer and one or more layers of different Adhesive layers. Further additional transferred layers may be interlayer adhesive layers or barrier layers. The carrier layer 17 in this case preferably consists of a plastic film, for example a polyester film, with a layer thickness between 6 and 200 μm. The plastic film can also be made of PET (polyethylene terephthalate), PEN (polyethylene naphthalate) or BOPP (biaxially oriented polypropylene).

Im Weiteren ist auch möglich, dass die Schichten 13 bis 17 eine Laminierfolie ausbilden. In diesem Fall wird die Schicht 16 von einer Haftvermittlungsschicht und die Schicht 17 von einer Kunststofffolie gebildet, welche auch als Schutzschicht oder Decklage des Sicherheitselements 1 fungieren kann. In diesem Fall wird die Schicht 17 vorzugsweise ebenfalls von einer transparenten Kunststofffolie mit einer Schichtdicke zwischen 6 und 200 µm, vorzugsweise aus Polyester, PET, BOPP oder aus Polycarbonat (PC) gebildet. Zusätzlich oder anstelle der Schichten 16 und 17 kann das Sicherheitselement 1 noch ein oder mehrere weitere, vorzugsweise transparente Schichten umfassen, welche beispielsweise auch die Funktion einer Decklage zum Schutz vor mechanischen und/oder chemischen Einwirkungen im Fall einer kartenförmigen Ausformung des Sicherheitselements erbringen. Die Kleberschicht 13 besteht vorzugsweise aus einem Heißkleber, insbesondere einem hitzeaktivierbaren thermoplastischen Kleber, einer Schichtdicke zwischen 0,2 und 30 µm. Die Replizierschicht 15 besteht vorzugsweise aus einem thermoplastischen Replizierlack einer Schichtdicke zwischen 0,2 und 10 µm. In die Replizierschicht 15 ist mittels eines Prägewerkzeugs ein Oberflächenrelief 18 durch Einsatz von Hitze und Druck abgeformt. Es ist weiter auch möglich, dass die Replizierschicht 15 aus einem UVhärtbaren Material besteht und das Oberflächenrelief 18 durch UV-Replikation in die Replizierschicht 15 abgeformt ist.Furthermore, it is also possible for the layers 13 to 17 to form a laminating film. In this case, the layer 16 is formed by an adhesion-promoting layer and the layer 17 by a plastic film, which can also function as a protective layer or cover layer of the security element 1. In this case, the layer 17 is preferably also formed by a transparent plastic film with a layer thickness between 6 and 200 microns, preferably made of polyester, PET, BOPP or polycarbonate (PC). In addition to or instead of the layers 16 and 17, the security element 1 may also comprise one or more further, preferably transparent layers, which, for example, also serve the function of a cover layer for protection against mechanical and / or chemical effects in the case of a card-shaped formation of the security element. The adhesive layer 13 is preferably made of a hot melt adhesive, in particular a heat-activatable thermoplastic adhesive, a layer thickness between 0.2 and 30 microns. The replication layer 15 preferably consists of a thermoplastic replication varnish having a layer thickness between 0.2 and 10 μm. In the replication layer 15, a surface relief 18 is formed by the application of heat and pressure by means of a stamping tool. It is also possible for the replication layer 15 to consist of a UV-curable material and for the surface relief 18 to be shaped into the replication layer 15 by UV replication.

Anstelle von mehreren Schichten 15, 16, 17 kann auch nur eine einzelne Schicht vorhanden sein, die mehrere Funktionen übernimmt. So kann beispielsweise direkt in eine Polymerfolie repliziert werden und diese Folie anschließend mit oder ohne Hilfe einer Kleberschicht zu einem Sicherheitselement verbunden werden. Geeignete Materialien sind beispielsweise PC oder PET. Typische Schichtdicken der Polymerfolie liegen im Bereich 8 bis 500 µm, bevorzugt im Bereich 12 bis250 µm, noch bevorzugter im Bereich 20 bis 150 µm.Instead of multiple layers 15, 16, 17, only a single layer may be present, which performs several functions. Thus, for example, can be replicated directly into a polymer film and then this film are connected with or without the aid of an adhesive layer to a security element. Suitable materials are, for example, PC or PET. Typical layer thicknesses of the polymer film are in the range from 8 to 500 .mu.m, preferably in the range from 12 to 250 .mu.m, more preferably in the range from 20 to 150 .mu.m.

Die Reflexionsschicht 14 besteht vorzugsweise aus einer opaken Metallschicht, beispielsweise aus Aluminium, Kupfer, Silber, Gold, Chrom oder einer Legierung dieser Metalle. Unter opak wird hierbei eine Reflexionsschicht verstanden, deren Transmission im Bereich des für den menschlichen Betrachters sichtbaren Wellenlängenbereich des Lichts geringer als 30%, vorzugsweise geringer als 10% ist. Wird die Reflexionsschicht 14 von einer Metallschicht gebildet, so wird die Schichtdicke dieser Metallschicht entsprechend gewählt, damit die Metallschicht eine opake Reflexionsschicht gemäß dieser Definition bildet. Vorzugsweise weist eine derartige metallische Reflexionsschicht eine Schichtdicke größer als 10 nm, insbesondere größer als 15 nm auf.The reflection layer 14 is preferably made of an opaque metal layer, for example of aluminum, copper, silver, gold, chromium or an alloy of these metals. In this case, opaque means a reflection layer whose transmission is less than 30%, preferably less than 10%, in the range of the wavelength range of the light visible to the human observer. If the reflection layer 14 is formed by a metal layer, the layer thickness of this metal layer is selected accordingly so that the metal layer forms an opaque reflection layer according to this definition. Such a metallic reflection layer preferably has a layer thickness greater than 10 nm, in particular greater than 15 nm.

Weiter ist es auch möglich, dass die Reflexionsschicht 14 aus mehreren Schichten besteht. So ist es beispielsweise möglich, dass die Reflexionsschicht 14 ein oder mehreren dielektrische Reflexionsschichten, beispielsweise einer Abfolge von hoch- und niedrigbrechenden Schichten (HRI- oder LRI-Schichten) oder einer hoch- oder einer niedrigbrechenden Schicht besteht, welche weiter mit einer opaken Schicht zur Ausbildung einer opaken Reflexionsschicht unterlegt ist.Furthermore, it is also possible that the reflection layer 14 consists of several layers. For example, it is possible for the reflection layer 14 to comprise one or more dielectric reflection layers, for example a sequence of high and low refractive index layers (HRI or LRI layers) or a high or low refractive index layer, which is further provided with an opaque layer Formation of an opaque reflection layer is underlaid.

Weiter ist es auch möglich, dass unterhalb oder oberhalb der Reflexionsschicht 14 eine zusätzliche dielektrische Reflexionsschicht vorgesehen ist, die insbesondere vollflächig, lediglich im Musterbereich, lediglich im Hintergrundbereich oder lediglich in den Bereichen vorgesehen ist, in denen die Reflexionsschicht 14 nicht vorgesehen ist.Furthermore, it is also possible for an additional dielectric reflection layer to be provided below or above the reflection layer 14, in particular over the full area, only in the pattern area, only in the background area or is provided only in the areas in which the reflection layer 14 is not provided.

Als dielektrische Reflexionsschichten können hier beispielsweise Schichten aus ZnS, TiO2, SiOx oder MgF2 eingesetzt werden, welche vorzugsweise eine Schichtdicke zwischen 25 und 2500 nm aufweisen.For example, layers of ZnS, TiO 2 , SiO x or MgF 2 , which preferably have a layer thickness between 25 and 2500 nm, can be used as dielectric reflection layers.

Weiterhin sind auch halbleitende Schichten möglich, wie beispielsweise Si, Ge, PbS, ZnSe, GaAs.Furthermore, semiconducting layers are possible, such as Si, Ge, PbS, ZnSe, GaAs.

Metallisch wirkende Reflexionsschichten können auch durch einen Druckprozess aufgebracht werden, beispielsweise als in einem Drucklack fein dispergierte Nanopartikel oder dünne metallische Flakes. Weiterhin kann die Reflexionsschicht auch als photonischer Kristall ausgebildet sein.Metallically acting reflection layers can also be applied by a printing process, for example as finely dispersed nanoparticles or thin metallic flakes in a pressure varnish. Furthermore, the reflection layer can also be formed as a photonic crystal.

Als opake Schicht wird vorzugsweise eine opake Lackschicht verwendet, welche eine Transmissivität von weniger als 30% im Wellenlängenbereich des für den menschlichen Betrachter sichtbaren Lichts aufweist. Diese Lackschicht wird vorzugsweise mittels eines Druckverfahrens aufgebracht. Weiterhin kann die Lackschicht einfärbt sein und beispielsweise in Reflexion einen Farbeindruck erzeugen.The opaque layer used is preferably an opaque lacquer layer which has a transmissivity of less than 30% in the wavelength range of the light visible to the human observer. This lacquer layer is preferably applied by means of a printing process. Furthermore, the lacquer layer can be dyed and, for example, produce a color impression in reflection.

Weiterhin kann die Reflexionsschicht auch aus einer dielektrischen Schicht oder einer Abfolge von mehreren dielektrischen Schichten bestehen, welche von einer metallischen Schicht bedeckt sind. Durch geeignete Wahl der Schichten und deren Dicken können insbesondere interessante Farbeffekte erzielt werden, wenn die dielektrischen Schichten transparent oder transluzent ausgebildet sind.Furthermore, the reflection layer can also consist of a dielectric layer or a sequence of a plurality of dielectric layers, which are covered by a metallic layer. By suitable choice of the layers and their thicknesses, in particular interesting color effects can be achieved if the dielectric layers are transparent or translucent.

Wie in Fig. 1a gezeigt, weist das Sicherheitselement 1 einen aus mehreren Designelementen 22 bestehenden Musterbereich 21 und einen die Designelemente 22 umgebenen Hintergrundbereich 20 auf. Die Designelemente 22 des Musterbereichs können hierbei auch eine identische Formgebung besitzen und ein repetitives (ein sich wiederholendes) Muster ausbilden. Weiter ist es auch möglich, dass die Designelemente sich ergänzende Motive, beispielsweise einer figürlichen Darstellung, bilden oder beispielsweise in Form von Zahlen, Symbolen oder Buchstaben zur Generierung einer optisch wahrnehmbaren Information ausgebildet sind. Weiter ist es besonders bevorzugt, dass die Designelemente in Form von Linien ausgebildet sind, welche beispielsweise eine Guilloche oder ein komplexes Linienmuster ausbildet, wie dies weiter unten noch detaillierter erläutert wird.As in Fig. 1a 1, the security element 1 has a pattern area 21 comprising a plurality of design elements 22 and a background area 20 surrounding the design elements 22. The design elements 22 of the pattern area may also have an identical shape and form a repetitive pattern. Furthermore, it is also possible for the design elements to form complementary motifs, for example a figural representation, or to be designed, for example, in the form of numbers, symbols or letters for generating optically perceptible information. Further, it is particularly preferred that the design elements are formed in the form of lines, which forms, for example, a guilloche or a complex line pattern, as will be explained in more detail below.

Vorzugsweise ist der Musterbereich 21 in Form eines makroskopisch sichtbaren Designs ausgeformt, dass heißt die durch die Designelemente 22 bestimmte Formgebung des Musterbereichs 21 ist dem menschlichen Betrachter aus einem Betrachtungsabstand von etwa 30 cm sichtbar. Vorzugsweise weisen die Designelemente 22 des Musterbereichs 21 so an jeder Stelle eine Länge von mehr als 50 µm, vorzugsweise von 300 µm und eine Breite von mehr als 5 µm, vorzugsweise von mehr als 10 µm auf. Der Hintergrundbereich 20 ist hierbei zumindest so groß bemessen, dass der Musterbereich 21 - wie oben dargelegt - vordem Hintergrundbereich 20 erkennbar ist. Der Hintergrundbereich 20 umgibt damit zum einen die jeweils aus einem zusammenhängenden Bereich gebildeten Designelemente 22 vorzugsweise vollständig und weist eine Breite und/oder Länge von mehr als 1 mm, vorzugsweise von mehr als 2 mm auf.
Die Designelemente 22 können auch durch den Rand des Sicherheitselements 1 begrenzt sein und müssen nicht vollständig vom Hintergrundbereich umgeben sein.
Preferably, the pattern area 21 is formed in the form of a macroscopically visible design, that is to say the shape of the pattern area 21 determined by the design elements 22 is visible to the human observer from a viewing distance of approximately 30 cm. The design elements 22 of the pattern region 21 thus preferably have a length of more than 50 μm, preferably of 300 μm, and a width of more than 5 μm, preferably of more than 10 μm, at each point. In this case, the background area 20 is dimensioned at least so large that the pattern area 21-as set out above-can be recognized in front of the background area 20. The background region 20 therefore preferably completely surrounds the design elements 22 formed in each case from a coherent region and has a width and / or length of more than 1 mm, preferably of more than 2 mm.
The design elements 22 may also be bounded by the edge of the security element 1 and need not be completely surrounded by the background area.

Zudem können weitere Designelemente vorhanden sein, die vollflächig eine Reflexionsschicht aufweisen oder Zonen aufweisen, die eine kleinste Abmessung größer als 300 µm aufweisen.In addition, further design elements may be present which have a reflection layer over their entire surface or zones which have a smallest dimension greater than 300 μm.

Der Hintergrundbereich 20 kann auch durch ein oder mehrere weitere, zusätzliche Sicherheitsmerkmale ausbildende Schichten gebildet sein, welche vorzugsweise in einem separaten Produktionsschritt auf die Substratschicht 11 appliziert wurde. Diese weiteren Schichten können individualisiert oder personalisiert sein und/oder ein herkömmliches Hologramm, Kinegram® aufweisen, welches diffraktive Strukturen mit einer oder mehreren vollflächigen oder teilflächigen Reflexionsschichten aufweist, und/oder ein Volumenhologramm und/oder einen drei- oder mehrschichtigen Dünnfilmaufbau (Fabry-Perot) und/oder ein Flüssigkristallelement aufweisen. Weiter können diese Schichten auch Kombinationen aus vorgenannten Beispielen umfassen und somit insbesondere im Hintergrundbereich mehrere Sicherheitsmerkmale bereitstellen.The background region 20 may also be formed by one or more additional layers forming additional security features, which preferably has been applied to the substrate layer 11 in a separate production step. These further layers can be individualized or personalized and / or have a conventional hologram, Kinegram®, which has diffractive structures with one or more full-surface or partial reflection layers, and / or a volume hologram and / or a three- or multi-layer thin-film structure (Fabry-Perot ) and / or have a liquid crystal element. Furthermore, these layers can also comprise combinations of the aforementioned examples and thus provide a plurality of security features, in particular in the background area.

Die Reflexionsschicht 14 ist nicht im Hintergrundbereich 20 vorgesehen und ist im Musterbereich in ersten Zonen 31, nicht jedoch in zweiten Zonen 32 vorgesehen. Die ersten Zonen 31 sind hierbei weniger als 300 µm voneinander beabstandet, vorzugsweise zwischen 25 und 250 µm voneinander beabstandet und weisen eine kleinste Abmessung von weniger als 300 µm, vorzugsweise zwischen 5 und 100 µm auf. Unter kleinster Abmessung wird hierbei die Breite der ersten Zonen 31 verstanden, das heißt die kleinste Entfernung zwischen zwei Randpunkten der Zone, welche auf einer gemeinsamen, durch den Flächenschwerpunkt der Zone verlaufenden Geraden liegen.The reflection layer 14 is not provided in the background area 20 and is provided in the pattern area in first zones 31, but not in second zones 32. The first zones 31 are here spaced less than 300 microns apart, preferably spaced apart from 25 to 250 microns and have a smallest dimension of less than 300 microns, preferably between 5 and 100 microns. The smallest dimension here means the width of the first zones 31, that is to say the smallest distance between two edge points of the zone which lie on a common straight line running through the centroid of the zone.

Weiter ist es auch möglich, dass die Reflexionsschicht 14 im Musterbereich in inverser Form vorgesehen ist und so in einer oder mehreren ersten Zonen 31 vorgesehen und in einer oder mehreren zweiten Zonen 32 nicht vorgesehen ist. Die ersten Zonen 31 sind hierbei, wie bereits oben beschrieben, weniger als 300 µm voneinander beabstandet, vorzugsweise zwischen 25 und 250 µm voneinander beabstandet und diesbezüglich wird auf die obigen Ausführungen verwiesen.Furthermore, it is also possible that the reflection layer 14 is provided in the pattern region in inverse form and thus in one or more first zones 31 provided and is not provided in one or more second zones 32. The first zones 31 are in this case, as already described above, spaced less than 300 microns apart, preferably between 25 and 250 microns apart and in this regard, reference is made to the above statements.

Vorzugsweise ist die Flächengröße der ersten Zonen sowie deren Beabstandung so gewählt, dass der Flächenanteil der ersten Zonen am Musterbereich 21 und/oder der jeweiligen ersten Zonen am jeweiligen Designelement 22 zwischen 1 und 80 %, insbesondere zwischen 5 und 50 % beträgt, beispielsweise 15% beträgt.Preferably, the area size of the first zones and their spacing is selected such that the area ratio of the first zones on the pattern area 21 and / or the respective first zones on the respective design element 22 is between 1 and 80%, in particular between 5 and 50%, for example 15%. is.

So ist beispielsweise in den jeweiligen Designelementen 22 die Reflexionsschicht 14 - wie in Fig. 1a gezeigt - in punkt- oder rechteckförmig ersten Zonen 31 unterteilt, in denen die Reflexionsschicht 14 vorgesehen ist, und welche von einer zweiten Zone 32 umgeben sind, in der die Reflexionsschicht 14 nicht vorgesehen ist. In dem das Designelement 22 umgebenen Hintergrundbereich 20 ist die Reflexionsschicht 14 nicht vorgesehen.For example, in the respective design elements 22, the reflection layer 14 is as in FIG Fig. 1a divided - in point or rectangular first zones 31 divided, in which the reflection layer 14 is provided, and which are surrounded by a second zone 32 in which the reflection layer 14 is not provided. In the background area 20 surrounding the design element 22, the reflection layer 14 is not provided.

Weiter ist es auch möglich, dass in dem jeweiligen Designelement 22 die Reflexionsschicht 13 - wie in Fig. 1b gezeigt - in punkt- oder rechteckförmigen ersten Zonen 31 nicht vorgesehen ist, welche von einer zweiten Zone 32 umgeben sind, in der die Reflexionsschicht 14 vorgesehen ist. In dem das Designelement 22 umgebenden Hintergrundbereich 20 ist die Reflexionsschicht nicht vorgesehen.Further, it is also possible that in the respective design element 22, the reflection layer 13 - as in Fig. 1b shown - is not provided in point or rectangular first zones 31, which are surrounded by a second zone 32 in which the reflection layer 14 is provided. In the background area 20 surrounding the design element 22, the reflection layer is not provided.

Im Weiteren ist es auch möglich, dass ein Teil der Designelemente 22 gemäß der in Fig. 1a gezeigten Anordnung und ein Teil der Designelemente 22 des Sicherheitselements 1 in der in Fig. 1b gezeigten Anordnung gestaltet sind. Es ist so auch möglich, dass das Sicherheitselement 1 zum einen ein oder mehrere Designelemente 22 aufweist, in deren Musterbereich 21 die Reflexionsschicht 14 in den ersten Zonen 31, nicht jedoch in der einen oder mehreren zweiten Zonen 32 vorgesehen ist und ein oder mehrere Designelemente 22 vorgesehen sind, in deren Musterbereich 21 die Reflexionsschicht 14 in einer oder mehreren zweiten Zonen 32, nicht jedoch in den ersten Zonen 31 vorgesehen ist.Furthermore, it is also possible that a part of the design elements 22 according to the in Fig. 1a shown arrangement and a part of the design elements 22 of the security element 1 in the in Fig. 1b shown arrangement are designed. It is also possible that the security element 1 for one or more Design elements 22, in whose pattern region 21, the reflection layer 14 is provided in the first zones 31, but not in the one or more second zones 32 and one or more design elements 22 are provided in the pattern area 21, the reflection layer 14 in one or more second Zones 32, but not provided in the first zones 31.

Durch eine derartige Ausgestaltung der Reflexionsschicht 14 wird erreicht, dass das Designelement 32 noch ausreichend transparent ist, damit unterhalb des Designelements 32 vorgesehene optisch wahrnehmbare Informationen durch die im wesentlichen opaken Reflexionsschicht 14 hindurch sichtbar sind, dass im Weiteren jedoch diese Information dann von einer in Reflexion sichtbaren Information überlagert ist, welche durch die Ausformung des Musterbereichs 21 sowie des Oberflächenreliefs 18 bestimmt wird.Such a configuration of the reflection layer 14 ensures that the design element 32 is still sufficiently transparent so that optically perceptible information provided below the design element 32 is visible through the substantially opaque reflection layer 14, but that information then subsequently differs from one in reflection superimposed on visible information, which is determined by the shape of the pattern area 21 and the surface relief 18.

Wie in Fig. 2 dargestellt, ist das Oberflächenrelief 18 hierbei bevorzugt passergenau, d.h. lagegenau zu den ersten Zonen 31 ausgerichtet. Die Reflexionsschicht 14 und das Oberflächenrelief 18 werden damit mittels zueinander registrierter Prozesse ausgebildet. Registrierte Prozesse heißt, dass die relativen Positionen der insbesondere musterförmigen Reflexionsschicht 14 und des insbesondere musterförmigen Oberflächenrelief 18 zueinander während der einzelnen Prozessschritte beispielsweise mittels insbesondere optisch detektierbarer Registermarken lagegenau zueinander ausgerichtet werden. Vorzugsweise wird hierdurch erreicht, dass im Hintergrundbereich 20 und/oder in den ein oder mehreren zweiten Zonen 32 das Oberflächenrelief 18 nicht abgeformt ist oder dort ein Oberflächenrelief vorgesehen ist, welches sich von dem in den Zonen 31 abgeformten Oberflächenrelief 18 unterscheidet, insbesondere dessen Aspektverhältnis sich von dem Oberflächenrelief 18 um mindestens 50% unterscheidet.As in Fig. 2 In this case, the surface relief 18 is preferably register-accurate, ie, aligned with the first zones 31. The reflection layer 14 and the surface relief 18 are thus formed by processes registered with each other. Registered processes means that the relative positions of the particular pattern-shaped reflection layer 14 and the particular pattern-shaped surface relief 18 are aligned relative to each other during the individual process steps, for example by means of in particular optically detectable register marks. Preferably, this achieves the result that the surface relief 18 is not molded in the background area 20 and / or in the one or more second zones 32 or that a surface relief is provided there which differs from the surface relief 18 molded in the zones 31, in particular its aspect ratio differs from the surface relief 18 by at least 50%.

Von besonderem Vorteil ist somit, wenn die das optisch variable Erscheinungsbild des Musterbereichs 22 bestimmenden Reliefstrukturen lediglich in den Zonen 31 der Replizierschicht 15 abgeformt sind und insbesondere bei der Herstellung des Sicherheitselements 1 die Ausformung und Anordnung der Zonen 31 in Abhängigkeit von dem für den entsprechenden optisch variablen Effekt vorzusehenden Oberflächenrelief 18 erfolgt.It is thus of particular advantage if the relief structures determining the optically variable appearance of the pattern region 22 are shaped only in the zones 31 of the replication layer 15 and, in particular in the production of the security element 1, the shaping and arrangement of the zones 31 as a function of that for the corresponding optical element variable effect to be provided surface relief 18 takes place.

Zur Herstellung des Sicherheitselements 1 wird so beispielsweise auf die Trägerschicht 17 zunächst die Ablöseschicht oder Haftvermittlungsschicht 16 vollflächig beispielsweise mittels Drucken aufgebracht, anschließend vollflächig die Replizierschicht 15 beispielsweise mittels Drucken aufgebracht und sodann im Bereich der ersten Zonen 31 das Oberflächenrelief 18, wie oben bereits ausgeführt, in die Replizierschicht 15 abgeformt. Sodann wird vorzugsweise im Register hierzu, d.h. lagegenau hierzu die Reflexionsschicht 14 aufgebracht oder strukturiert. Hierzu ist es beispielsweise möglich, dass die Reflexionsschicht 14 vollflächig, beispielsweise durch Aufdampfen oder Aufsputtern, aufgebracht wird und sodann mittels Positiv- oder Negativ-Ätzen, mittels eines Waschverfahrens, mittels mechanischer Ablation oder mittels Laserablation im Bereich der zweiten Zonen 32 sowie im Hintergrundbereich 20 wieder entfernt wird. Weiter ist es auch möglich, dass - beispielsweise mittels einer Bedampfungsmaske - die Reflexionsschicht 14 nur im Bereich der ersten Zonen 31 aufgebracht wird. Reflexionsschichten können aber auch vermittels eines Druckprozesses lokal aufgebracht werden. Das Material der Reflexionsschicht ist dabei beispielsweise im Drucklack dispergiert oder die Reflexionsschicht bildet sich in einer chemischen oder physikalischen Reaktion während und/oder nach dem Drucken und der lokal aufgebrachte Druck dient nur zur Festlegung der opaken Bereiche, beispielsweise durch lokale Abscheidung. Weiter ist es auch möglich, dass zur Registrierung dieser Prozesse, d.h. zum Erreichen der Lagegenauigkeit der Prozesse in den ersten Zonen 31 einerseits und in den zweiten Zonen 32 und im Hintergrundbereich 20 andererseits unterschiedliche Reliefstrukturen abgeformt werden, deren Eigenschaften dann insbesondere zur registergenauen, d.h. lagegenauen Strukturierung der Reflexionsschicht 14 eingesetzt werden.In order to produce the security element 1, the release layer or adhesion-promoting layer 16 is firstly applied, for example by means of printing, to the carrier layer 17, then the replication layer 15 is applied over the entire surface, for example by means of printing and then in the region of the first zones 31, the surface relief 18, as already explained above, molded into the replication layer 15. Then, preferably, in the register for this purpose, that is, in a related position, the reflection layer 14 is applied or patterned. For this purpose, it is possible, for example, for the reflection layer 14 to be applied over the entire surface, for example by vapor deposition or sputtering, and then by positive or negative etching, by means of a washing process, by mechanical ablation or by laser ablation in the region of the second zones 32 and in the background region 20 is removed again. Furthermore, it is also possible for the reflection layer 14 to be applied only in the region of the first zones 31, for example by means of a vapor deposition mask. Reflection layers can also be applied locally by means of a printing process. The material of the reflection layer is dispersed in the printing ink, for example, or the reflection layer forms in a chemical or physical reaction during and / or after printing, and the locally applied pressure serves only to define the opaque regions, for example by local deposition. Furthermore, it is also possible to register these processes, ie to achieve the positional accuracy of the processes in the first zones 31 on the one hand and in the second zones 32 and in the second Background area 20 on the other hand, different relief structures are molded, the properties of which are then used in particular for register-accurate, that is positionally accurate structuring of the reflection layer 14.

In Figur 2 ist ein Aufbau dargestellt, bei dem die Replizierschicht 15 zwischen der Reflexionsschicht 14 und dem Betrachter liegt. Die Schichtabfolge kann jedoch auch umgekehrt sein, d.h. die Reflexionsschicht 14 zwischen Replizierschicht 15 und Betrachter liegen. In vielen Ausgestaltungen ist die opake Reflexionsschicht 14 genügend dünn und folgt dadurch dem Oberflächenrelief ausreichend exakt, sodass das Oberflächenrelief bei beidseitiger Betrachtung eine optische Wirkung aufweist.In FIG. 2 a structure is shown in which the replication layer 15 lies between the reflection layer 14 and the viewer. However, the layer sequence can also be reversed, ie the reflection layer 14 between replication layer 15 and viewer are. In many embodiments, the opaque reflection layer 14 is sufficiently thin and thus follows the surface relief sufficiently accurately, so that the surface relief has an optical effect when viewed from both sides.

Falls - wie oben dargelegt - als Reflexionsschicht 14 eine mehrschichtige Schichtabfolge aus ein oder mehreren transparenten oder transluzenten dielektrischen Reflexionsschichten und einer opaken Schicht eingesetzt werden, ist es auch möglich, dass die dielektrische Reflexionsschicht vollflächig in dem Sicherheitselement vorgesehen ist und lediglich eine Strukturierung oder ein strukturiertes Aufbringen der opaken Schicht erfolgt, so dass die Reflexionsschicht 14 im Bereich der ersten Zonen 31 jeweils eine opake Reflexionsschicht ausbildet und in den zweiten Zonen 32 jeweils eine transparente oder transluzente Reflexionsschicht ausbildet. Eine weitere vorteilhafte Variante besteht darin, dass eine opake metallische Reflexionsschicht in den Zonen 31 vorgesehen ist und dass als weitere Reflexionsschicht eine weitgehend transparente HRI-Schicht partiell oder vollflächig im Hintergrundbereich 20 vorliegt.If, as explained above, a multilayered layer sequence consisting of one or more transparent or translucent dielectric reflection layers and an opaque layer is used as the reflection layer, it is also possible for the dielectric reflection layer to be provided over the entire area in the security element and only for structuring or structured Applying the opaque layer takes place, so that the reflection layer 14 forms an opaque reflection layer in the region of the first zones 31 and forms a transparent or translucent reflection layer in the second zones 32 in each case. A further advantageous variant consists in that an opaque metallic reflection layer is provided in the zones 31 and that a substantially transparent HRI layer is present partially or completely in the background area 20 as a further reflection layer.

Das Oberflächenrelief 18 setzt sich bevorzugt aus ein oder mehreren Reliefstrukturen zusammen, welche aus der Gruppe diffraktives Gitter, Hologramm, Blazegitter, Lineargitter, Kreuzgitter, Hexagonalgitter, asymmetrische oder symmetrische Gitterstruktur, retroreflektierende Struktur, refraktive oder diffraktive Mikrolinse, refraktives oder diffraktives Mikroprisma, Beugungsstruktur nullter Ordnung, Mottenaugenstruktur oder anisotrope oder isotrope Mattstruktur oder eine Überlagerung von zwei oder mehr der vorgenannten Reliefstrukturen ausgewählt sind. So ist es beispielsweise möglich, dass in unterschiedlichen Bereichen der ersten Zonen 31 unterschiedliche Reliefstrukturen vorgesehen sind oder in unterschiedlichen ersten Zonen 31 unterschiedliche Reliefstrukturen oder in unterschiedlichen Designelementen 22 unterschiedliche Reliefstrukturen vorgesehen sind. Hierdurch ist es möglich, zu erreichen, dass unterschiedliche Designelemente ein unterschiedliches optisch variables Erscheinungsbild zeigen, dass unterschiedliche Bereiche des Musterbereichs 21 oder unterschiedliche Bereich eines Designelements 22 unterschiedliche Farben oder eine unterschiedliche Helligkeit zeigen oder dass hierdurch optisch variable Effekte generiert werden können, welche beispielsweise nicht mittels eines holographischen Oberflächenreliefs imitiert werden können.The surface relief 18 is preferably composed of one or more relief structures which are selected from the group diffractive grating, hologram, blazed grating, linear grating, cross grating, hexagonal grating, asymmetric or symmetrical grating structure, retroreflective structure, refractive or diffractive grating diffractive microlens, refractive or diffractive microprism, zero-order diffraction structure, moth-eye structure or anisotropic or isotropic matte structure, or a superposition of two or more of the aforementioned relief structures. For example, it is possible for different relief structures to be provided in different regions of the first zones 31 or for different relief structures to be provided in different first zones 31 or for different relief structures in different design elements 22. This makes it possible to achieve that different design elements show a different optically variable appearance, that different areas of the pattern area 21 or different area of a design element 22 show different colors or a different brightness or that thereby optically variable effects can be generated which, for example, not can be imitated by means of a holographic surface relief.

Die Betrachtung des Sicherheitselements 1 erfolgt gemäß der Betrachtungsrichtung 10.The consideration of the security element 1 takes place in accordance with the viewing direction 10.

Bei der Herstellung des Sicherheitselements 1 wird die Dekorschicht 12 beispielsweise auf die Substratschicht 11 mittels eines Druckverfahrens aufgebracht und sodann die Transferfolie 110 auf der mit der Dekorschicht 12 bedruckten Oberfläche der Substratschicht 11 appliziert. Weiter ist es auch möglich, dass die Dekorschicht 12 auf die Kleberschicht 13 oder auf die Replizierschicht 15 aufgedruckt wird. Weiter ist es auch möglich, dass die personalisierten Informationen 23 und 24 nach Fertigstellung des Sicherheitselements 1 oder während der Herstellung des Sicherheitselements 1 mittels eines Lasers in die Dekorschicht 12 eingeschrieben werden, wobei hier bevorzugt der Laser auf der der Dekorschicht 12 gegenüberliegenden Seite der Reflexionsschicht 14 angeordnet ist.In the production of the security element 1, the decorative layer 12 is applied, for example, to the substrate layer 11 by means of a printing process, and then the transfer film 110 is applied to the surface of the substrate layer 11 printed with the decorative layer 12. Furthermore, it is also possible for the decorative layer 12 to be printed on the adhesive layer 13 or on the replication layer 15. Furthermore, it is also possible for the personalized information 23 and 24 to be written into the decorative layer 12 by means of a laser after completion of the security element 1 or during the production of the security element 1, in which case the laser preferably lies on the side of the reflection layer 14 opposite the decorative layer 12 is arranged.

Fig. 3 zeigt einen Ausschnitt aus einem Sicherheitselement 2. Das Sicherheitselement 2 weist hierbei einen Hintergrundbereich 20 und einen Musterbereich 21 auf, der von mehreren linienförmigen Designelementen 20 gebildet wird, von denen in Fig. 3 zwei Designelemente 22 abschnittsweise beispielhaft dargestellt sind. Der Schichtaufbau des Sicherheitselements 2 entspricht dem Schichtaufbau des Sicherheitselements 1 und es wird hierzu auf die vorgehenden Ausführungen zum Sicherheitselement 1 verwiesen. Fig. 3 shows a section of a security element 2. The security element 2 in this case has a background area 20 and a pattern area 21, which is formed by a plurality of line-shaped design elements 20, of which in Fig. 3 two design elements 22 are shown by way of example in sections. The layer structure of the security element 2 corresponds to the layer structure of the security element 1 and reference is made to the preceding comments on the security element 1.

Das Sicherheitselement 2 weist weiter eine optische Information 25 auf, die von der unterhalb der Reflexionsschicht 14 angeordneten Dekorschicht 12 bereitgestellt wird und welche, wie in Fig. 3 gezeigt, den Hintergrundbereich 20 und auch den Musterbereich 21 bereichsweise überlagert.The security element 2 further has optical information 25 which is provided by the decorative layer 12 arranged below the reflection layer 14 and which, as in FIG Fig. 3 shown, the background area 20 and also the pattern area 21 partially overlaid.

Der Musterbereich 21 weist bei dem Sicherheitselement 2 - wie bereits oben dargelegt - zwei oder mehr Designelemente 22 auf, welche in Form von Linien ausgeformt sind. Unter Linie wird hierbei ein Designelement verstanden, dessen Breite um mindestens den Faktor 10 größer als dessen Länge ist. Vorzugsweise liegt die Breite der Linien zwischen 5 und 250 µm, beispielsweise beträgt die Breite der Linien 50 µm. Wie in Fig. 3 angedeutet, weisen die linienförmigen Designelemente 22 erste Zonen 31 und zweite Zonen 32 auf, die gemäß eines eindimensionalen Rasters entlang der Längsrichtung der jeweiligen Linien angeordnet sind. Es ist so jeweils nur eine erste Zone 31 über die Breite der jeweiligen Linie vorgesehen. Bei dem Ausführungsbeispiel nach Fig. 3 nimmt hierbei die jeweilige erste Zone 31 die gesamte Breite der Linien in Anspruch, die Breite der ersten Zonen 31 entspricht so der Breite der jeweiligen Linie. Wie in Fig. 3 dargestellt, ist hier die Breite der jeweiligen ersten Zonen 31 konstant und beträgt beispielsweise zwischen 5 und 250 µm, weiter bevorzugt zwischen 10 und 100 µm. Deren Beabstandung variiert, wodurch für den menschlichen Betrachter die Helligkeit dieser Designelemente entlang der Linie variiert. Die ersten Zonen 31 sind hierbei, wie oben beschrieben oder auch später anhand der Figuren Fig. 4a, Fig. 4c oder Fig. 6a bis Fig. 7 beschrieben, mit Oberflächenstrukturen des Oberflächenreliefs 18 belegt. Es ist jedoch auch möglich, auf eine Abformung des Oberflächenreliefs 18 in den ersten Zonen 31 zu verzichten.As already stated above, the pattern region 21 has, in the case of the security element 2, two or more design elements 22, which are shaped in the form of lines. In this case, a line is understood to be a design element whose width is at least a factor of 10 greater than its length. Preferably, the width of the lines is between 5 and 250 microns, for example, the width of the lines is 50 microns. As in Fig. 3 indicated, the line-shaped design elements 22 on first zones 31 and second zones 32, which are arranged according to a one-dimensional grid along the longitudinal direction of the respective lines. It is so provided only a first zone 31 across the width of the respective line. According to the embodiment Fig. 3 In this case, the respective first zone 31 occupies the entire width of the lines, the width of the first zones 31 thus corresponds to the width of the respective line. As in Fig. 3 illustrated here, the width of the respective first zones 31 is constant and is for example between 5 and 250 microns, more preferably between 10 and 100 microns. Their spacing varies, causing the human viewer the brightness of these design elements varies along the line. The first zones 31 are here, as described above or later with reference to the figures Fig. 4a . Fig. 4c or Fig. 6a to Fig. 7 described, with surface structures of the surface relief 18 occupied. However, it is also possible to dispense with an impression of the surface relief 18 in the first zones 31.

Fig. 4a zeigt beispielhaft einen Ausschnitt aus einem Sicherheitselement 3, welches gemäß dem Sicherheitselement 2 und dem Sicherheitselement 1 aufgebaut ist. Bezüglich des Aufbaus des Sicherheitselements 3 wird so auf die vorgehenden Ausführungen zu den Figuren Fig. 1 bis Fig. 3 verwiesen. Wie in Fig. 4a dargestellt weist der Musterbereich 21 hierbei ebenfalls linienförmige Designelemente 22 auf, von denen in Fig. 4a beispielhaft drei Designelemente 221, 222, 223 gezeigt sind. Die Designelemente 221 bis 223 weisen jeweils eine Abfolge von ersten Zonen 31 und zweiten Zonen 32 auf, wie dies in Fig. 4a gezeigt ist. Die ersten Zonen 31 der Designelemente 221, 222, 223 sind hierbei mit jeweils unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt, wie dies in Fig. 4a durch die unterschiedliche Schraffierung dieser Zonen angedeutet ist. Fig. 4a shows an example of a section of a security element 3, which is constructed according to the security element 2 and the security element 1. With regard to the structure of the security element 3 is so on the preceding statements to the figures Fig. 1 to Fig. 3 directed. As in Fig. 4a illustrated, the pattern region 21 in this case also linear design elements 22, of which in Fig. 4a three design elements 221, 222, 223 are shown by way of example. The design elements 221 to 223 each have a sequence of first zones 31 and second zones 32, as shown in FIG Fig. 4a is shown. The first zones 31 of the design elements 221, 222, 223 are each covered with different relief structures, as shown in FIG Fig. 4a indicated by the different hatching of these zones.

Die Aufteilung der Designelemente 221 bis 223 in erste Zonen und zweite Zonen ist hierbei bei jedem der Designelemente 221 bis 223 individuell angepasst, sodass keine störenden Effekte, wie beispielsweise ein Moire-Muster oder eine größere Unterbrechung auftreten. Die Abstände der ersten Zonen 31 zueinander sind derart gewählt, dass ein Betrachter mit unbewaffnetem Auge drei kontinuierliche Linien erkennt. Beispielsweise betragen die Abstände der ersten Zonen 31 zueinander weniger als 300 µm.The division of the design elements 221 to 223 into first zones and second zones is in this case individually adapted to each of the design elements 221 to 223, so that no disturbing effects, such as a moiré pattern or a larger interruption occur. The distances of the first zones 31 to each other are selected such that a viewer with unarmed eye recognizes three continuous lines. For example, the distances of the first zones 31 to one another are less than 300 μm.

Die Abstände zwischen den Zonen 31, deren Form und Größe können dabei entlang der Linie variieren. Kriterien zur Ausgestaltung der ersten Zonen sind dabei beispielsweise das Vermeiden von störenden Kollisionen mit weiteren, benachbarten Designelementen 22 oder das Vermeiden von Moire-Stör-Effekten mit darunter liegenden optischen Informationen, beispielsweise mit von der Dekorschicht 12 bereitgestellten optischen Informationen.The distances between the zones 31, their shape and size can vary along the line. Criteria for designing the first zones are, for example, the avoidance of interfering collisions with other, adjacent design elements 22 or to avoid Moire interference with underlying optical information, such as provided by the decorative layer 12 optical information.

Bei der Verwendung von linienförmigen Designelementen 22 ist es hierbei besonders bevorzugt, die Anordnung und Ausformung der ersten Zonen sowie deren Belegung mit Reliefstrukturen des Oberflächenreliefs 18 wie im Folgenden anhand der Figuren Fig. 4b bis Fig. 4c zu gestalten. Derartige Designelemente können hierbei beispielsweise bei dem Sicherheitselement nach Fig. 1 oder bei den Sicherheitselementen 2 und 3 nach Fig. 3 oder Fig. 4 eingesetzt werden.In the case of the use of line-shaped design elements 22, it is particularly preferred here for the arrangement and shaping of the first zones and their occupation with relief structures of the surface relief 18 as described below with reference to the figures Fig. 4b to Fig. 4c to design. Such design elements can in this case for example in the security element after Fig. 1 or at security elements 2 and 3 Fig. 3 or Fig. 4 be used.

Fig. 4b zeigt drei unterschiedliche Möglichkeiten, ein linienförmiges Designelement 22 zu gestalten. Hierzu zeigt Fig. 4b drei linienförmige Designelemente 224, 225 und 226. Die Designelemente 224 bis 226 sind jeweils in Form einer Linie ausgebildet, wie dies beispielhaft oben für die Designelemente 22 des Sicherheitselements 2 erläutet worden ist. Fig. 4b shows three different ways to make a line-shaped design element 22. This shows Fig. 4b three line-shaped design elements 224, 225 and 226. The design elements 224 to 226 are each formed in the form of a line, as has been exemplified above for the design elements 22 of the security element 2.

Das Designelement 224 weist eine Abfolge von ersten Zonen 31 auf, welche durch eine jeweilige zweite Zone 32 getrennt sind. Entlang der Linie variiert hier die Größe der ersten Zonen 31, um eine lokale unterschiedliche Intensität insbesondere eines optisch variablen Effekts zu erzeugen. Wie in Fig. 4b gezeigt, wird hierbei die Ausdehnung der ersten Zonen 31 in Richtung der Breite der Linie variiert, wogegen die Ausdehnung der ersten Zonen 31 in Längsrichtung der Linie und/oder die Beabstandung der ersten Zonen 31 voneinander entlang der Linie konstant ist. Untersuchungen haben gezeigt, dass hierdurch die Helligkeit des Designelements entlang der Linie variiert werden kann, ohne jedoch die Helligkeit darunter liegender Informationen im Bereich entlang der Linie zu verfälschen.The design element 224 has a sequence of first zones 31 separated by a respective second zone 32. Along the line, the size of the first zones 31 varies here in order to generate a locally different intensity, in particular of an optically variable effect. As in Fig. 4b In this case, the extent of the first zones 31 in the direction of the width of the line is varied, whereas the extent of the first zones 31 in the longitudinal direction of the line and / or the spacing of the first zones 31 from each other is constant along the line. Research has shown that this allows the brightness of the design element to be varied along the line without distorting the brightness of underlying information in the area along the line.

Bei dem Designelement 225 ist die Flächengröße der ersten Zonen 31 entlang der Linie konstant gewählt. Die ersten Zonen 31 sind hier in zwei Teilzonen 33 und 34 unterteilt, wobei hierbei lediglich die Teilzonen 34 mit Reliefstrukturen des Oberflächenreliefs 18 belegt sind und die Teilerzonen 33 nicht mit einem Oberflächenrelief belegt sind oder eine Spiegelfläche ausbilden. Wie in Fig. 4b dargestellt, variiert hierbei die Flächengröße der Teilzonen 33 und 34 entlang der Linie, während die Flächengröße der Zonen 31 konstant bleibt. So bleibt die mittlere Transmission des Designelements 225 entlang der Linie konstant, die Helligkeit in unterschiedlichen Betrachtungsrichtungen und/oder die Farbe des Designelements 225 variiert jedoch entlang der Linie. Weiter ist es hier auch möglich, dass die ersten Zonen 31 in mehr als zwei Teilzonen unterteilt sind, welche mit unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt sind, wie dies später auch beispielhaft anhand der Figuren Fig. 4c, Fig. 6a und Fig. 7 erläutert ist.In the design element 225, the area size of the first zones 31 along the line is made constant. The first zones 31 are subdivided here into two subzones 33 and 34, in which case only the subzones 34 are covered with relief structures of the surface relief 18 and the divider zones 33 are not covered with a surface relief or form a mirror surface. As in Fig. 4b In this case, the area size of the partial zones 33 and 34 varies along the line, while the area size of the zones 31 remains constant. Thus, the average transmission of the design element 225 along the line remains constant, but the brightness in different viewing directions and / or the color of the design element 225 varies along the line. Furthermore, it is also possible here for the first zones 31 to be subdivided into more than two subzones, which are covered with different relief structures, as later also by way of example with reference to the figures Fig. 4c . Fig. 6a and Fig. 7 is explained.

Das Designelement 226 weist so auch erste Zonen 31 auf, welche in zwei Teilzonen 34 und 35 unterteilt sind, welche mit unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt sind.The design element 226 thus also has first zones 31, which are subdivided into two subzones 34 and 35, which are covered with different relief structures.

Die gezielte Variation der lokalen Flächendichte, dass heißt die Flächenausdehnung der ersten Zonen 31 und deren Beabstandung sowie die Belegung der ersten Zonen 31 mit Reliefstrukturen kann dazu genutzt werden, zusätzliche Informationen darzustellen. So kann ein Betrachter im Spiegelreflex beispielsweise eine makroskopische Bildinformation oder einen Text erkennen, ohne dass die Darstellung im diffraktiven optischen Merkmal davon beeinflusst würde. Diese zusätzliche Information kann auch in einem Polarisationsmerkmal bestehen, welches erst beim Betrachten durch einen geeigneten Filter erkennbar wird.The targeted variation of the local area density, that is to say the area extent of the first zones 31 and their spacing as well as the occupation of the first zones 31 with relief structures can be used to display additional information. For example, a viewer in the mirror reflex can recognize macroscopic image information or text without affecting the representation in the diffractive optical feature thereof. This additional information can also consist in a polarization feature, which is only recognizable when viewed through a suitable filter.

Zudem können die Abstände und die Flächengröße der ersten Zonen 31 geeignet variiert werden, so dass ein Betrachter ein erstes diffraktives Merkmal erkennt und bei Betrachtung durch einen geeigneten Filter ein davon unabhängiges Moire-Muster sichtbar wird. Wie bereits oben erwähnt, kann hier beispielsweise durch Abweichung der Flächengröße und/oder Beabstandung von der entsprechenden Anordnung von opaken Flächen bzw. Linsen eines Moire-Verifikationselements eine versteckte Information kodiert werden, welche lediglich bei Überlagerung mit dem Moire-Verifikationselement sichtbar wird.In addition, the distances and the area size of the first zones 31 can be suitably varied so that a viewer recognizes a first diffractive feature and, when viewed through a suitable filter, an independent moiré pattern becomes visible. As already mentioned above, hidden information can be coded here, for example by deviation of the area size and / or spacing from the corresponding arrangement of opaque surfaces or lenses of a moiré verification element, which information is visible only when superposed with the moiré verification element.

Im Weiteren kann auf die Anordnung der ersten Zonen 31 zueinander und/oder die Anordnung von Reliefstrukturen innerhalb der jeweiligen ersten Zone zur Kodierung von weiteren Informationen eingesetzt werden.In addition, the arrangement of the first zones 31 relative to one another and / or the arrangement of relief structures within the respective first zone can be used to encode further information.

Fig. 4c zeigt beispielhaft mehrere weitere Möglichkeiten, erste Zonen 31 in Teilzonen zu unterteilen, welche mit unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt sind. Fig. 4c zeigt somit eine erste Zone 311, welche in Teilzonen 34 und 35 unterteilt ist, eine erste Zone 312, welche in Teilzonen 34 und 35 unterteilt ist und eine Teilzone 313, welche in Teilzonen 34, 35 und 36 unterteilt ist. Die Teilzonen 34, 35 und 36 sind jeweils mit unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt. Hierbei ist beispielsweise die Teilzone 34 mit einem Beugungsgitter unterlegt, welches ein dynamisch farbiges Kinegram® generiert und die Teilzonen 35 mit einer anisotrop streuenden Mattstruktur belegt. So kann beispielsweise aus einer Betrachtungsrichtung ein mit ersten Zonen 311 versehenes Designelement ein dynamisch farbiges Kinegram® zeigen, während aus einer anderen Betrachtungsrichtung ein statisches achromatisches Merkmal mit gleichem graphischem Inhalt erkennbar ist. Bei der ersten Zone 313 sind drei Teilzonen vorgesehen, welche beispielsweise ebenfalls unter unterschiedlichen Betrachtungsrichtungen ein unterschiedliches optisches Merkmal zeigen, oder auch mit Gitterstrukturen belegt sind, welche eine unterschiedliche Farbe zeigen und somit die Ausbildung eines Echtfarbenbildes in dem Musterbereich 21 ermöglichen, wobei der relative Flächenanteil der Teilzonen 34, 35 und 36 den Farbton und die Flächengröße der ersten Zone 313 die jeweilige lokale Helligkeit (Intensität) bestimmt. Fig. 4c shows, by way of example, a number of further possibilities for subdividing first zones 31 into subzones which are occupied by different relief structures. Fig. 4c Thus, a first zone 311, which is divided into sub-zones 34 and 35, a first zone 312, which is divided into sub-zones 34 and 35 and a sub-zone 313, which is divided into sub-zones 34, 35 and 36. The partial zones 34, 35 and 36 are each covered with different relief structures. In this case, for example, the sub-zone 34 is underlaid with a diffraction grating, which generates a dynamically colored Kinegram® and occupies the sub-zones 35 with an anisotropically scattering matt structure. Thus, for example, a design element provided with first zones 311 can show a dynamically colored Kinegram® from one viewing direction, while a static achromatic feature with the same graphic content can be recognized from another viewing direction. In the first zone 313, three partial zones are provided, which, for example, also show a different optical feature under different viewing directions, or are also covered with grid structures which show a different color and thus allow the formation of a true color image in the pattern region 21, the relative area fraction of the subzones 34, 35 and 36 determining the color tone and the area size of the first zone 313 the respective local brightness (intensity).

Durch die Ausgestaltung und die Anordnung der ersten Zone 31 wie oben anhand der Figuren Fig. 4a - Fig. 4c erläutert, ist es so möglich, linienförmige Designelemente 22 auszubilden, welche entlang der Linie in unterschiedlichen Betrachtungsrichtungen einen unterschiedlichen optischen Eindruck vermitteln und/oder eine lokal unterschiedliche Farbe und/oder eine lokal unterschiedliche Helligkeit und/oder Transparenz aufweisen. Die Verwendung von linienförmigen Designelementen, die wie oben dargelegt, entlang der Linie angeordnete erste Zonen 31 aufweisen, ermöglichen eine konturscharfe Darstellung feiner Linien im Musterbereich, welche mit einer regelmäßigen Rasterung einer Reflexionsschicht und einer hierzu unregistrierten, d.h. nicht lagegenauen Belegung mit in linienförmigen Bereichen vorgesehenen Reliefstrukturen nur unzulänglich nachgeahmt werden kann. Es wird so ein Sicherheitselement bereitgestellt, welches nur schwer nachgeahmt und manipuliert werden kann.By the configuration and the arrangement of the first zone 31 as above with reference to the figures Fig. 4a - Fig. 4c 1, it is thus possible to form line-shaped design elements 22 which convey a different visual impression along the line in different viewing directions and / or have a locally different color and / or a locally different brightness and / or transparency. The use of line-shaped design elements, as set forth above, along the line arranged first zones 31, allow a contour-sharp representation of fine lines in the pattern area, which provided with a regular screening of a reflection layer and an unregistrierten, ie not accurate registration with in-line areas provided Relief structures can only be mimicked inadequate. It provides a security element that is difficult to imitate and manipulate.

Eine weitere Möglichkeit der Anordnung von ersten Zonen 31 in einem Designelement 31 und der entsprechenden Anordnung von Reliefstrukturen des Oberflächenreliefs 18 hierzu wird beispielhaft im Folgenden anhand der Figuren Fig. 5a und Fig. 5b erläutert.A further possibility for the arrangement of first zones 31 in a design element 31 and the corresponding arrangement of relief structures of the surface relief 18 for this purpose will be described below by way of example with reference to FIGS Fig. 5a and Fig. 5b explained.

Fig. 5a und Fig. 5b verdeutlichen zum einen die Ausbildung des in die Replizierschicht 18 abgeformten Oberflächenreliefs bzw. die Strukturierung der Reflexionsschicht 14 in einem Teilbereich eines Designelements 227. Fig. 5a and Fig. 5b illustrate on the one hand the formation of the surface relief molded into the replication layer 18 or the structuring of the reflection layer 14 in a partial region of a design element 227.

Wie in Fig. 5b angedeutet, sind hierbei erste Zonen 31 vorgesehen, welche mit der opaken Reflexionsschicht 14 belegt sind und welche von einer zweiten Zone 32 umgeben sind. Im Register, d.h. lagegenau hierzu sind, wie in Fig. 5a gezeigt, in der Replizierschicht 18 in den ersten Zonen 31 Mikrolinsen 181 abgeformt. Diese Mikrolinsen können als refraktive Linsen oder als diffraktive Linsen ausgeformt sein. Wie in den Figuren Fig. 5a und Fig. 5b gezeigt ist, erfolgt die Strukturierung der Metallschicht 14 hierbei exakt im Register, d.h. lagegenau zu den Linsen 181, so dass jede Linse 181 vollständig mit der Reflexionsschicht 14 belegt ist, die umgebenen Bereiche jedoch vollständig transparent oder transluzent sind. Durch die Anpassung der ersten Zonen an die Formgebung der Linsen 181 und die registrierte, d.h. lagegenaue Anordnung der Linsen 181 zu der Reflexionsschicht 14 wird es ermöglicht, im Vergleich zu einer unregistrierten, d.h. nicht lagegenauen Anordnung die Transparenz des Designelements 227 zu erhöhen oder den Kontrast des Sicherheitsmerkmals zu verbessern.As in Fig. 5b indicated here, first zones 31 are provided, which are covered with the opaque reflection layer 14 and which are surrounded by a second zone 32. In the register, that is, in relation to this are, as in Fig. 5a 31, microlenses 181 are formed in the replication layer 18 in the first zones 31. These microlenses may be formed as refractive lenses or as diffractive lenses. As in the figures Fig. 5a and Fig. 5b is shown, the structuring of the metal layer 14 takes place here exactly in the register, that is, in position relative to the lenses 181, so that each lens 181 is completely covered with the reflection layer 14, but the surrounding areas are completely transparent or translucent. By adapting the first zones to the shape of the lenses 181 and the registered, ie positional arrangement of the lenses 181 to the reflective layer 14, it is possible to increase the transparency of the design element 227 or the contrast compared to an unregistered, ie not positionally accurate arrangement of the security feature.

Fig. 6a und Fig. 6b verdeutlichen eine weitere Möglichkeit der Ausformung und Anordnung von ersten Zonen 31 und Reliefstruktur des Oberflächenreliefs 18 zueinander. Die Fig. 6a verdeutlicht hierzu die Anordnung von in die Replizierschicht 18 abgeformten Reliefstrukturen und Fig. 6b die Anordnung und Ausformung der ersten Zonen in der Reflexionsschicht 14 in einem Teilbereich eines Designelements 228. Fig. 6a and Fig. 6b illustrate a further possibility of the formation and arrangement of first zones 31 and relief structure of the surface relief 18 to each other. The Fig. 6a illustrates the arrangement of molded into the replication layer 18 relief structures and Fig. 6b the arrangement and formation of the first zones in the reflection layer 14 in a partial region of a design element 228.

Die Zonen 31 sind hier in Form eines regelmäßigen zweidimensionalen Rasters angeordnet und in Form von Rechtecken ausgeformt. Es ist auch möglich, dass das Raster hierbei nicht regelmäßig ist und insbesondere auch an die Kontur des Designelements 228 angepasst ist. Die Zonen 31 können im Weiteren auch eine andere Formgebung besitzen oder auch in ihre Flächengröße variieren, wie dies oben bereits in Bezug auf linienförmige Designelemente beschrieben worden ist.The zones 31 are here arranged in the form of a regular two-dimensional grid and shaped in the form of rectangles. It is also possible that the grid is not regular in this case and in particular also adapted to the contour of the design element 228. The zones 31 can furthermore also have a different shape or vary in their surface size, as has already been described above in relation to line-shaped design elements.

Jede der ersten Zonen 31 ist hier in vier Teilzonen unterteilt, nämlich die Teilzonen 34, 35, 36 und 37, welche - wie bereits oben ausgeführt - unterschiedliche Reliefstrukturen aufweisen können. Die Füllung der Teilzone 34 mit einer Reliefstruktur 182 ist in Fig. 6a beispielhaft gezeigt.Each of the first zones 31 is here subdivided into four partial zones, namely the partial zones 34, 35, 36 and 37, which - as already explained above - can have different relief structures. The filling of the partial zone 34 with a relief structure 182 is in Fig. 6a shown by way of example.

Die Reliefstrukturen in den Teilzonen 34 bis 37 dienen beispielsweise dazu, vier verschiedene Inhalte darzustellen, welche beispielsweise in unterschiedlichen Betrachtungsrichtungen sichtbar sind. Die Teilzonen können hierbei beispielsweise diffraktive Reliefstrukturen, beispielsweise diffraktive Gitter, refraktive Reliefstrukturen oder auch streuende Reliefstrukturen oder auch Spiegelflächen aufweisen. So ist beispielsweise jede Zone 31, wie in Fig. 6a gezeigt, in vier Teilzonen geteilt, wobei jede der Teilzonen jeweils einer Betrachtungsrichtung zugeordnet ist und die Belegung der jeweiligen Teilzonen beispielsweise der Helligkeitsinformation des in der zugeordneten Betrachtungsrichtung erkennbaren Bildes entspricht.The relief structures in the sub-zones 34 to 37 are used, for example, to represent four different contents, which are visible, for example, in different viewing directions. In this case, the partial zones can have, for example, diffractive relief structures, for example diffractive gratings, refractive relief structures or also scattering relief structures or even mirror surfaces. For example, each zone is 31, as in Fig. 6a shown, divided into four subzones, each of the subzones is associated with a respective viewing direction and the occupancy of the respective subzones, for example, the brightness information of the recognizable in the associated viewing direction image corresponds.

Wie bereits oben ausgeführt, sind die ersten Zonen 31 bei diesem Ausführungsbeispiel bevorzugt zwischen 25 und 250 µm voneinander beabstandet und die Abmessungen der ersten Zonen 31 liegen bevorzugt im Bereich zwischen 5 und 100 µm. Der Füllfaktor, dass heißt die Belegung des Designelements 228 mit ersten Zonen 31 liegt hierbei bevorzugt etwa bei 15%, so dass 85% der Fläche transparent bleiben.As already stated above, the first zones 31 in this exemplary embodiment are preferably spaced apart between 25 and 250 μm and the dimensions of the first zones 31 are preferably in the range between 5 and 100 μm. The fill factor, that is to say the occupancy of the design element 228 with first zones 31, is preferably approximately 15%, so that 85% of the area remains transparent.

Fig. 7 zeigt einen Ausschnitt aus einem Designelement 229. Das Designelement 229 weist erste Zonen 31 auf, welche durch eine zweite Zone 32 voneinander getrennt sind. Wie in Fig. 7 angedeutet, variiert die Flächengröße der ersten Zonen 31 lokal, sodass hier-wie oben bereits für linienförmige Designelements dargelegt - die lokale Gesamtintensität bzw. Helligkeit des Musterbereichs variiert ist. Weiter sind die ersten Zonen 31 in Teilzonen 34, 35 und 36 geteilt. In den Teilzonen 34, 35 und 36 sind unterschiedliche Reliefstrukturen vorgesehen, beispielsweise Beugungsgitter, welche eine unterschiedliche Spatialfrequenz unterschiedlich oder einen unterschiedlichen Azimuthwinkel aufweisen. Wie in Fig. 7 angedeutet, variiert damit neben der Flächengröße der Zonen 31 auch die relative Flächengröße der Zonen 34, 35 und 36 zueinander. Werden als Reliefstrukturen in den Teilzonen 34, 35 und 36 somit beispielsweise Reliefstrukturen abgeformt, welche einen unterschiedlichen Farbeindruck vermitteln, so kann durch den relativen Flächenanteil der Teilzonen 34 bis 36 zueinander die sich insgesamt ergebene Farbe und durch die Flächengröße der Zonen 31 die Helligkeit bzw. Intensität eingestellt werden. Durch diese Maßnahmen ist es möglich, lokal in einem Designelement die Farbe sowie die Helligkeit zu variieren und damit beispielsweise ein Echtfarbenbild bereitzustellen, welches als erste Information eine individualisierte zweite Information überlagert. Fig. 7 shows a section of a design element 229. The design element 229 has first zones 31, which are separated by a second zone 32 from each other. As in Fig. 7 indicated, the area size of the first zones 31 varies locally, so here-as already set out above for line-shaped design element - the local total intensity or brightness of the pattern area is varied. Further, the first zones 31 are divided into sub-zones 34, 35 and 36. In the Sub-zones 34, 35 and 36 are provided with different relief structures, for example diffraction gratings, which have a different spatial frequency different or a different azimuth angle. As in Fig. 7 indicated that in addition to the area size of the zones 31 and the relative area size of the zones 34, 35 and 36 to each other. If, for example, relief structures in the subzones 34, 35 and 36 are thus shaped as relief structures which impart a different color impression, then the overall areal color of the subzones 34 to 36 and the brightness of the area 31 of the zones can be Intensity can be adjusted. By means of these measures, it is possible to vary the color and the brightness locally in a design element and thus to provide, for example, a true color image which superimposes individualized second information as first information.

Fig. 8 zeigt eine schematische Darstellung eines Designelements 230 des Musterbereichs 21, welches linienförmige erste Zonen 31 aufweist, welche durch zweite Zonen 32 voneinander getrennt sind. Im Weiteren ist das Designelement 230 von dem Hintergrundbereich 20 umgeben. Fig. 8 shows a schematic representation of a design element 230 of the pattern area 21, which has line-shaped first zones 31, which are separated from each other by second zones 32. Furthermore, the design element 230 is surrounded by the background area 20.

Wie in Fig. 8 dargestellt, sind die ersten Zonen 31 als parallele Linien ausgeformt, welche der Außen- und Innenkontur des Designelements 230 folgen. Die Breite dieser Linien beträgt vorzugsweise zwischen 5 und 250 µm, weiter bevorzugt zwischen 10 und 100 µm. Bei dem Designelement 230 handelt es sich vorzugsweise um ein Designelement, dessen Breite und/oder Höhe größer als 1 mm, vorzugsweise größer als 2 mm ist. Das Designelement 230 ist wie in Fig. 8 gezeigt beispielhaft als Buchstabe ausgeformt. Das Designelement 230 kann jedoch auch eine andere Formgebung besitzen, beispielsweise in Form eines anderen Buchstaben oder einer Zahl ausgeformt sein, oder auch eine figürliche Darstellung, ein Wappen oder ein Piktogramm zeigen. Hierbei ist es auch möglich, dass das Designelement sowohl ein oder mehrere Linien aufweist, welche der Innen- und/oder der Außenkontur folgen oder auch weitere Linien aufweist, die nicht parallel zur Innen- und/oder Außenkontur angeordnet sind und die beispielsweise eine Anpassung an eine sich von der Außenkontur unterscheidende Innenkontur ermöglichen. Im Weiteren ist es auch möglich, dass die linienförmigen ersten Zonen 31 eine unterschiedliche Breite aufweisen und beispielsweise aufgrund einer Breitenmodulation der linienförmigen ersten Zonen 31 eine visuell erkennbare figürliche Darstellung ergeben, oder dass die linienförmigen ersten Zonen 31 bereichsweise regelmäßig, unregelmäßig oder stochastisch unterbrochen sind und nicht wie in Fig. 8a dargestellt jeweils eine geschlossene Linie bilden. Die Linienführung kann jedoch auch völlig unabhängig von der Außenform des Designelementes 230 angelegt sein und beispielsweise aus parallelen oder konzentrischen Linien bestehen. Besonders vorteilhaft sind mittlere Flächenbedeckungen im Bereich 5 bis 40%, da sie sowohl eine genügende Reflexion als auch eine hohe Transmission erlauben. Weiterhin sind Abstände der Linien im Bereich 10 - 200 µm vorteilhaft.As in Fig. 8 1, the first zones 31 are formed as parallel lines which follow the outer and inner contours of the design element 230. The width of these lines is preferably between 5 and 250 microns, more preferably between 10 and 100 microns. The design element 230 is preferably a design element whose width and / or height is greater than 1 mm, preferably greater than 2 mm. The design element 230 is as in FIG Fig. 8 shown as an example formed as a letter. However, the design element 230 may also have a different shape, for example be formed in the form of another letter or a number, or also show a figurative representation, a coat of arms or a pictogram. It is also possible that the design element has both one or more lines which follow the inner and / or outer contour or also have further lines which are not arranged parallel to the inner and / or outer contour and which, for example, an adaptation to a different from the outer contour Allow inner contour. Furthermore, it is also possible that the line-shaped first zones 31 have a different width and, for example, due to a width modulation of the line-shaped first zones 31 give a visually recognizable figurative representation, or that the line-shaped first zones 31 are regionally interrupted regularly, irregularly or stochastically and not like in Fig. 8a represented in each case form a closed line. However, the lines can also be applied completely independently of the outer shape of the design element 230 and consist for example of parallel or concentric lines. Medium surface coverages in the range of 5 to 40% are particularly advantageous since they permit both sufficient reflection and high transmission. Furthermore, distances of the lines in the range 10-200 μm are advantageous.

Anstelle von Linien kann das Designelement 230 auch eine Reflexionsschicht in Form von feinem Text oder figürlichen Darstellungen, Symbolen, Buchstaben, Zahlen oder Logos aufweisen. Die Details erschließen sich einem Betrachter erst bei Inspektion mit einem Hilfsmittel, wie beispielsweise einer Lupe oder einem Mikroskop. Die durch den Beobachter mit unbewaffnetem Auge erkennbare lokale Helligkeitsverteilung kann beispielsweise durch die Größe des Texts, den Font (Schriftart), die Beabstandung der Buchstaben oder die Belegung mit Mikrostrukturen beeinflusst werden.Instead of lines, the design element 230 may also include a reflective layer in the form of fine text or figurative representations, symbols, letters, numbers, or logos. The details are revealed to an observer only when inspected with an aid, such as a magnifying glass or a microscope. The local brightness distribution which can be recognized by the unaided eye observer can be influenced, for example, by the size of the text, the font, the spacing of the letters or the coverage of microstructures.

Auch hier ist es besonders vorteilhaft wenn - wie oben dargelegt - das Oberflächenrelief 18 registergenau zu den Zonen 31 vorgesehen ist. Weiter kann das Oberflächenrelief hier im Weiteren auch entlang der linienförmigen ersten Zonen 31 Teilzonen aufweisen, welche mit unterschiedlichen Reliefstrukturen belegt sind, um so die bereits oben erläuterten Effekte zu generieren.Again, it is particularly advantageous if - as stated above - the surface relief 18 is provided in registry with the zones 31. Furthermore, the surface relief may also have subzones 31 along the line-shaped first zones, which zones are covered with different relief structures in order to generate the effects already explained above.

Das Sicherheitselement 1 kann im Weiteren auch einen Musterbereich 21 aufweisen, welcher unterschiedliche Designelemente 22 aufweist. So können beispielsweise ein oder mehrere linienförmige Designelemente, welche gemäß den Figuren Fig. 3 bis Fig. 4c ausgebildet sind, ein oder mehrere Designelemente, welche gemäß dem Designelement 227 ausgebildet sind, ein oder mehrere Designelemente, welche wie die Designelemente 228 oder 229 ausgebildet sind, und/oder ein oder mehrere Designelemente, welche wie das Designelement 230 ausgebildet sind, miteinander kombiniert werden. Durch derartige Kombinationen unterschiedlicher Designelemente kann ein Sicherheitselement bereitgestellt werden, welches sich durch eine besonders hohe Fälschungssicherheit auszeichnet.The security element 1 can also have a pattern area 21 which has different design elements 22. For example, one or more line-shaped design elements, which according to FIGS Fig. 3 to Fig. 4c are formed, one or more design elements, which are formed according to the design element 227, one or more design elements, which are formed as the design elements 228 or 229, and / or one or more design elements, which are formed as the design element 230, are combined , Through such combinations of different design elements, a security element can be provided, which is characterized by a particularly high security against counterfeiting.

Claims (15)

  1. Security element (1), in particular document of value, having a pattern region (21) consisting of one or more design elements (22), the shaping of said pattern region (21) providing a first piece of optically perceptible information, and having a background region (20) at least regionally surrounding the one or more design elements of the pattern region, wherein the security element (1) has an opaque reflection layer (14) which is not provided in the background region (20) and is provided in the pattern region (21) in first zones (31) but not in one or more second zones or is provided in one or more second zones but not in first zones (31), wherein the first zones (31) are spaced apart from one another by less than 300 µm and have a smallest dimension of less than 300 µm, characterised in that the security element (1) has a decorative layer (12) for generating a second piece of optically perceptible information (23, 24, 25) which is superimposed at least regionally on both the pattern region (21) and the background region (20), wherein the decorative layer (12) is arranged below the opaque reflection layer (14) with respect to the viewing direction (10) of the security element (1), and wherein all layers (13) of the security element which are arranged between the opaque reflection layer (14) and the decorative layer (12) are transparent or translucent.
  2. Security element (1) according to claim 1,
    characterised in that
    the surface proportion of the first zones (31) on the pattern region (21) is between 1 and 80 %, in particular between 2 and 50 %.
  3. Security element according to one of the preceding claims,
    characterised in that
    all layers (15, 16, 17) of the security element (1) which are arranged above the opaque reflection layer (14) with respect to the viewing direction (10) of the security element (1) are at least regionally transparent or translucent and/or translucently coloured, and/or all layers of the security element which are arranged below the opaque reflection layer with respect to the viewing direction of the security element are at least regionally transparent or translucent.
  4. Security element (1) according to one of the preceding claims,
    characterised in that
    the security element (1) has a replication layer (15) in which an optically active surface relief (18) is moulded in the first zones (31) at least regionally, in particular for generating an optically variable effect, wherein the surface relief (18) comprises, in particular, one or more relief structures selected from the group of diffractive grating, hologram, blazed grating, linear grating, crossed grating, hexagonal grating, asymmetrical or symmetrical grating structure, retroreflective structure, microlens, microprism, zeroth order diffraction structure, moth-eye structure or anisotropic or isotropic matt structure, or a superposition of two or more of the above-mentioned relief structures.
  5. Security element (1) according to claim 4,
    characterised in that
    no surface relief is moulded in the replication lacquer layer (15) in the second zones (32) and/or in the background region (20), or a surface relief is moulded whose aspect ratio differs from the surface relief moulded in the first zones by at least 50%, and/or the surface relief (18) is moulded in the surface of the replication layer (15), said surface facing towards the opaque reflection layer (14), in particular is moulded into the boundary face between replication layer (15) and opaque reflection layer (14).
  6. Security element (1) according to one of claims 4 or 5,
    characterised in that
    a microlens or a microprism is respectively moulded as a surface relief (181) into the replication layer (15) in a plurality of first zones (31), wherein, in particular, the respective microlens or the respective microprism occupies the entire surface of the respective first zone (31).
  7. Security element (1) according to one of claims 4 to 6,
    characterised in that
    the surface proportion of the respective first zones (31) which is covered by the surface relief varies locally in the pattern region (21).
  8. Security element (1) according to one of claims 4 to 7,
    characterised in that
    each of the first zones (31) is divided into n sub-zones (32-36), in which different relief structures are moulded into the replication layer (15) as the surface relief, wherein n ≥ 2.
  9. Security element (1) according to claim 8,
    characterised in that
    each of the sub-zones (31-36) of each first zone (31) is assigned to one of m viewing directions, wherein the surface area of the respective sub-zones is varied more locally for determining the local brightness in the viewing direction assigned to the respective sub-zone, and/or each of the sub-zones (32-36) of each first zone (31) is respectively assigned to one of k colour components, wherein the surface area of the respective sub-zone is varied locally for determining the local brightness and the colour value.
  10. Security element (1) according to one of the preceding claims,
    characterised in that
    the first piece of optical information has a locally different brightness in reflection, which is determined by the respective local surface area of the first zones (31) and/or is superimposed by a piece of optically variable information, which is determined by the type and the respective surface area of the relief structures of the surface relief (18) moulded in the first zones (31).
  11. Security element (1) according to one of the preceding claims,
    characterised in that
    the pattern region (21) comprises one or more design elements (22, 221 - 226), which are respectively formed in the shape of a line whose width is preferably larger than its length by at least a factor of 10, wherein the width of the line is, in particular, between 5 and 250 µm, preferably between 10 and 100 µm.
  12. Security element (1) according to claim 11,
    characterised in that
    different relief structures are moulded as the surface relief in the first zones (31) which are assigned to different lines (221 to 223).
  13. Security element (1) according to one of claims 11 or 12,
    characterised in that
    the distances between the different zones (31) vary along the respective line, and/or the extension of the first zones (31) in the direction of the width of the line (224, 226) varies, wherein, in particular, the extension of the first zones (31) in the longitudinal direction of the line (224, 226) and/or the spacing of the first zone (31) is constant, and/or the surface area of the first zones varies along the respective line in order to generate locally different brightnesses or intensities in reflection.
  14. Security element (1) according to one of claims 11 to 13,
    characterised in that
    the first zones (31) are arranged according to a one-dimensional grid along the longitudinal direction of the respective line (221 to 226), such that only one first zone (31) is respectively provided across the width of the line.
  15. Method for producing a security element (1), in particular document of value, comprising the steps of:
    providing a transparent transfer film (110) having a region which is divided into a pattern region whose shaping provides a first piece of information, and into a background region (20) at least regionally surrounding the pattern region,
    forming an opaque reflection layer (14) in the transfer film (110) which is not provided in the background region (20) and is provided in the pattern region (21) in first zones (31) but not in one or more second zones (32), or is provided in the pattern region in one or more second zones (32) but not in first zones (31), wherein the first zones (31) are spaced apart from one another by less than 300 µm and have a smallest dimension of less than 300 µm,
    applying the transfer film to a substrate (11) in such a manner that a personalised decorative layer (12) is arranged between the transfer film (110) and the substrate (11), said personalised decorative layer (12) providing a second piece of optically perceptible information (23, 24, 25), wherein the second piece of optically perceptible information (23, 24, 25) is superimposed at least regionally on both the pattern region (21) and the background region (20), and wherein all layers (13) of the security element which are arranged between the opaque reflection layer (14) and the decorative layer (12) are transparent or translucent.
EP11779583.1A 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element Active EP2635444B1 (en)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
RS20190475A RS58616B1 (en) 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element
SI201131727T SI2635444T1 (en) 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element
PL11779583T PL2635444T3 (en) 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element
HRP20190873TT HRP20190873T1 (en) 2010-11-02 2019-05-13 Security element and method for producing a security element

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102010050031A DE102010050031A1 (en) 2010-11-02 2010-11-02 Security element and method for producing a security element
PCT/EP2011/005489 WO2012059208A2 (en) 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP2635444A2 EP2635444A2 (en) 2013-09-11
EP2635444B1 true EP2635444B1 (en) 2019-03-13

Family

ID=44913230

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP11779583.1A Active EP2635444B1 (en) 2010-11-02 2011-10-31 Security element and method for producing a security element

Country Status (17)

Country Link
US (1) US20130285361A1 (en)
EP (1) EP2635444B1 (en)
JP (1) JP5979506B2 (en)
CN (1) CN103370206B (en)
AU (1) AU2011325516B2 (en)
BR (1) BR112013010547B1 (en)
DE (1) DE102010050031A1 (en)
ES (1) ES2720956T3 (en)
HR (1) HRP20190873T1 (en)
HU (1) HUE044069T2 (en)
MX (1) MX2013004875A (en)
PL (1) PL2635444T3 (en)
RS (1) RS58616B1 (en)
RU (1) RU2596447C2 (en)
SI (1) SI2635444T1 (en)
TR (1) TR201907122T4 (en)
WO (1) WO2012059208A2 (en)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012105571B4 (en) * 2012-06-26 2017-03-09 Ovd Kinegram Ag Decorative element as well as security document with a decorative element
CN104781084A (en) * 2012-07-12 2015-07-15 因特拉斯特数据卡片集团 Secure identification document with ablated foil element
JP6574702B2 (en) * 2012-12-04 2019-09-11 セクタゴ ゲーエムベーハーSectago Gmbh Security device
CN105339179B (en) * 2013-02-12 2018-06-22 赛克达戈有限公司 Safety device
EP2974879B1 (en) 2013-03-12 2018-09-05 Toppan Printing Co., Ltd. Display body
TW201502257A (en) * 2013-07-10 2015-01-16 Sicpa Holding Sa Marking comprising a printable code and a chiral liquid crystal polymer layer
DE102013108666A1 (en) * 2013-08-09 2015-03-05 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Method for producing a multilayer body and multilayer body
US10207531B2 (en) 2013-12-02 2019-02-19 SECTAG GmbH Security device
FR3021583B1 (en) * 2014-05-30 2021-10-22 Hologram Ind CUSTOMIZABLE SAFETY OPTICAL COMPONENT FOR THE MANUFACTURE OF A PERSONALIZED SAFETY DOCUMENT AND MANUFACTURE OF SUCH COMPONENT
RU2557620C1 (en) * 2014-06-02 2015-07-27 Федеральное Государственное Унитарное Предприятие "Гознак" (Фгуп "Гознак") Multilayer polymer structure and method of making same
AT515845B1 (en) * 2014-06-10 2017-05-15 Hueck Folien Gmbh Security element and method for producing a security element with light-scattering structures
AU2015317844B2 (en) * 2014-09-16 2019-07-18 Crane Security Technologies, Inc. Secure lens layer
DE102015100520A1 (en) * 2015-01-14 2016-07-28 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Multilayer body and method for its production
DE102015202252A1 (en) * 2015-02-09 2016-08-11 Bundesdruckerei Gmbh Value or security product and method for its production with decentralized individualization
DE102015207268A1 (en) * 2015-04-22 2016-10-27 Tesa Scribos Gmbh Security element and method for producing a security element
CN107615111B (en) * 2015-06-02 2021-09-28 凸版印刷株式会社 Laminate and method for producing same
WO2017006958A1 (en) * 2015-07-07 2017-01-12 凸版印刷株式会社 Percutaneous administration device
BR112018002225A2 (en) * 2015-08-07 2018-09-18 Rolic Techonologies Ag azimuthally modulated dispersing device
CN105096738A (en) * 2015-09-11 2015-11-25 武汉威杜信息科技有限公司 Anti-counterfeiting method
CN107433817A (en) * 2016-05-27 2017-12-05 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 A kind of decorating film and ambetti
DE102017106545A1 (en) * 2017-03-27 2018-09-27 Ovd Kinegram Ag A method for producing an optical security feature and a security element and a security document
DE102017106721A1 (en) 2017-03-29 2018-10-04 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Method for producing a multilayer film and a multilayer film, and a security element and a security document
DE102017003281A1 (en) 2017-04-04 2018-10-04 Giesecke+Devrient Currency Technology Gmbh Security element with relief structure and manufacturing method therefor
JP6939168B2 (en) * 2017-07-18 2021-09-22 凸版印刷株式会社 Display, transfer foil, adhesive label and labeled article
CN110832366B (en) * 2017-07-26 2021-12-28 凸版印刷株式会社 Optical structure and authentication body
WO2019183736A1 (en) * 2018-03-27 2019-10-03 Orell Füssli Sicherheitsdruck Ag Nanoprinting-based security document and method for its authentication
CA3016788A1 (en) * 2018-09-07 2020-03-07 Canadian Bank Note Company, Limited Security device for security documents
RU2687409C1 (en) * 2018-10-25 2019-05-13 Акционерное общество "ГОЗНАК" Protective element
EP3778256A1 (en) 2019-08-12 2021-02-17 Hueck Folien Gesellschaft m.b.H. Security element
RU2732772C1 (en) * 2020-03-19 2020-09-22 Акционерное Общество "Научно-Производственное Объединение "Криптен" Multilayer protective device and its manufacturing method
DE102020133863B4 (en) * 2020-12-16 2023-06-29 Bundesdruckerei Gmbh VALUABLE OR SECURITY PRODUCT AND PROCESS OF PRODUCTION
CN113805333A (en) * 2021-08-23 2021-12-17 中山大学 Grating structure design method for double pattern encryption
EP4275911A1 (en) * 2022-05-10 2023-11-15 Hueck Folien Gesellschaft m.b.H. Safety element

Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4728377A (en) 1982-11-08 1988-03-01 American Bank Note Company Process for providing holograms on documents or the like
US5032003A (en) 1988-12-12 1991-07-16 Landis & Gyr Betriebs Ag Optially variable surface pattern
EP0439092A2 (en) 1990-01-25 1991-07-31 American Bank Note Holographics, Inc. Holograms with discontinuous metallization including alphanumeric shapes
US5145212A (en) 1988-02-12 1992-09-08 American Banknote Holographics, Inc. Non-continuous holograms, methods of making them and articles incorporating them
WO1997019820A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Electrowatt Technology Innovation Ag Optical information carrier
DE10150293A1 (en) 2001-10-12 2003-04-30 Ovd Kinegram Ag Zug security element
DE10308327A1 (en) 2003-02-26 2004-09-09 Giesecke & Devrient Gmbh security element
WO2005038500A1 (en) 2003-10-15 2005-04-28 Giesecke & Devrient Gmbh Method for the creation of a planar or curved grid image, and object comprising a grid image
WO2005100040A1 (en) 2004-04-05 2005-10-27 Crane & Co., Inc. Counterfeit-resistant, metal-formed images and security devices and security documents employing same
DE102004042136A1 (en) 2004-08-30 2006-03-09 Ovd Kinegram Ag Metallized security element
WO2006084685A2 (en) 2005-02-10 2006-08-17 Ovd Kinegram Ag Method for producing a multilayer body and corresponding multilayer body
WO2008095706A1 (en) * 2007-02-07 2008-08-14 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Security element
WO2009121602A2 (en) 2008-04-04 2009-10-08 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Holographic security elements and method for producing the same
WO2010015384A2 (en) 2008-08-05 2010-02-11 Giesecke & Devrient Gmbh Method for the production of security elements having registered layers of designs
DE102009032697B3 (en) 2009-07-09 2010-10-07 Ovd Kinegram Ag Multi-layer body

Family Cites Families (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4072098A (en) * 1976-09-27 1978-02-07 Ncr Corporation Method and apparatus for embossing diffraction gratings on a record medium
CH604279A5 (en) * 1976-12-21 1978-08-31 Landis & Gyr Ag
CH661368A5 (en) * 1984-01-03 1987-07-15 Landis & Gyr Ag Diffraction optical safety element.
US4754128A (en) * 1985-02-18 1988-06-28 Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha Optical cards and processes for preparing the same
GB8924111D0 (en) * 1989-10-26 1989-12-13 Amblehurst Ltd Optical device
AT403967B (en) * 1992-11-18 1998-07-27 Oesterr Nationalbank DOCUMENT AND FILM STRUCTURE FOR PRODUCING A DOCUMENT
US5757521A (en) * 1995-05-11 1998-05-26 Advanced Deposition Technologies, Inc. Pattern metallized optical varying security devices
US6655719B1 (en) * 1998-02-05 2003-12-02 Yoram Curiel Methods of creating a tamper resistant informational article
JP2001330717A (en) * 2000-05-18 2001-11-30 Toppan Printing Co Ltd Diffraction grating pattern and method for manufacturing the same
GB0015871D0 (en) * 2000-06-28 2000-08-23 Rue De Int Ltd A security device
DK2034039T3 (en) * 2000-10-09 2012-10-01 Hueck Folien Gmbh Metallized foil and method for its preparation and use thereof
GB0117391D0 (en) * 2001-07-17 2001-09-05 Optaglio Ltd Optical device and method of manufacture
AU2003279909A1 (en) * 2002-07-01 2004-01-19 Toray Plastics (America), Inc. Patterned deposition of refractive layers for high security holograms
DE10328760B4 (en) * 2003-06-25 2007-05-24 Ovd Kinegram Ag Optical security element
DE10351129B4 (en) * 2003-11-03 2008-12-24 Ovd Kinegram Ag Diffractive security element with a halftone image
DE102004007379B3 (en) * 2004-02-16 2005-09-01 Ovd Kinegram Ag Valuable object with moiré pattern
DE102005028162A1 (en) * 2005-02-18 2006-12-28 Giesecke & Devrient Gmbh Security element for protecting valuable objects, e.g. documents, includes focusing components for enlarging views of microscopic structures as one of two authenication features
WO2007040486A2 (en) * 2005-09-22 2007-04-12 Daniel Triano Fishing line casting and bait projectile system
DE102005048033B4 (en) * 2005-10-06 2010-01-21 Bundesdruckerei Gmbh The security document
JP4779792B2 (en) * 2006-04-27 2011-09-28 凸版印刷株式会社 Information recording medium and information recording medium authenticity determination device
US20070279718A1 (en) * 2006-05-31 2007-12-06 Cabot Corporation Reflective features with co-planar elements and processes for making them
DE102006034854A1 (en) * 2006-07-25 2008-01-31 Ovd Kinegram Ag A method for generating a laser mark in a security document and such a security document
DE102007061828A1 (en) * 2007-12-20 2009-06-25 Giesecke & Devrient Gmbh Security element and method for its production
US20090230199A1 (en) * 2008-03-12 2009-09-17 Lasercard Corporation Diffractive data storage

Patent Citations (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4728377A (en) 1982-11-08 1988-03-01 American Bank Note Company Process for providing holograms on documents or the like
US5145212A (en) 1988-02-12 1992-09-08 American Banknote Holographics, Inc. Non-continuous holograms, methods of making them and articles incorporating them
US5032003A (en) 1988-12-12 1991-07-16 Landis & Gyr Betriebs Ag Optially variable surface pattern
EP0439092A2 (en) 1990-01-25 1991-07-31 American Bank Note Holographics, Inc. Holograms with discontinuous metallization including alphanumeric shapes
WO1997019820A1 (en) 1995-11-28 1997-06-05 Electrowatt Technology Innovation Ag Optical information carrier
DE10150293A1 (en) 2001-10-12 2003-04-30 Ovd Kinegram Ag Zug security element
DE10308327A1 (en) 2003-02-26 2004-09-09 Giesecke & Devrient Gmbh security element
WO2005038500A1 (en) 2003-10-15 2005-04-28 Giesecke & Devrient Gmbh Method for the creation of a planar or curved grid image, and object comprising a grid image
WO2005100040A1 (en) 2004-04-05 2005-10-27 Crane & Co., Inc. Counterfeit-resistant, metal-formed images and security devices and security documents employing same
DE102004042136A1 (en) 2004-08-30 2006-03-09 Ovd Kinegram Ag Metallized security element
WO2006084685A2 (en) 2005-02-10 2006-08-17 Ovd Kinegram Ag Method for producing a multilayer body and corresponding multilayer body
WO2008095706A1 (en) * 2007-02-07 2008-08-14 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Security element
WO2009121602A2 (en) 2008-04-04 2009-10-08 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Holographic security elements and method for producing the same
WO2010015384A2 (en) 2008-08-05 2010-02-11 Giesecke & Devrient Gmbh Method for the production of security elements having registered layers of designs
DE102009032697B3 (en) 2009-07-09 2010-10-07 Ovd Kinegram Ag Multi-layer body

Also Published As

Publication number Publication date
JP2014500811A (en) 2014-01-16
AU2011325516A1 (en) 2013-05-02
SI2635444T1 (en) 2019-06-28
WO2012059208A8 (en) 2013-08-22
DE102010050031A1 (en) 2012-05-03
CN103370206B (en) 2016-08-17
JP5979506B2 (en) 2016-08-24
WO2012059208A3 (en) 2012-09-20
MX2013004875A (en) 2013-07-02
HRP20190873T1 (en) 2019-07-12
WO2012059208A2 (en) 2012-05-10
BR112013010547B1 (en) 2020-08-25
CN103370206A (en) 2013-10-23
EP2635444A2 (en) 2013-09-11
BR112013010547A2 (en) 2018-06-19
PL2635444T3 (en) 2019-09-30
TR201907122T4 (en) 2019-06-21
ES2720956T3 (en) 2019-07-25
AU2011325516B2 (en) 2014-10-30
RU2013125471A (en) 2014-12-10
RS58616B1 (en) 2019-05-31
RU2596447C2 (en) 2016-09-10
HUE044069T2 (en) 2019-09-30
US20130285361A1 (en) 2013-10-31

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2635444B1 (en) Security element and method for producing a security element
EP3422056B1 (en) Decorative element and safety document comprising a decorative element
EP3216620B1 (en) Security element, valuable document comprising such a security element and method for producing such a security element
EP1853763B2 (en) Security element and method for the production thereof
EP2300241B1 (en) Security element comprising an optically variable element
EP2117840B1 (en) Security element for a security document and method for production thereof
EP3339048B1 (en) Security element having reflective surface area
EP2686172B1 (en) Multilayer body
EP2121320B1 (en) Security element
EP3337674B1 (en) Valuable document
EP2773514B1 (en) Optically variable security element
EP2885135B1 (en) Security device
EP3230079B1 (en) Multi-layer body and method for producing same
WO2005095119A1 (en) Security element provided in the form of a multilayered film body
DE102009048145A1 (en) Disk with window
EP2897812B1 (en) Security element with display arrangement
EP2853411B1 (en) Security element with lenticular image
EP2889152B1 (en) Security element for displaying at least one optically variable item of information
EP2727742B1 (en) Security element with lenticular image
WO2024002680A1 (en) Security document, system for producing a security document, and method for producing a security document

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

17P Request for examination filed

Effective date: 20130531

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A2

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

DAX Request for extension of the european patent (deleted)
STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: EXAMINATION IS IN PROGRESS

17Q First examination report despatched

Effective date: 20180608

GRAP Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR1

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: GRANT OF PATENT IS INTENDED

RIC1 Information provided on ipc code assigned before grant

Ipc: B42D 15/00 20060101AFI20181031BHEP

INTG Intention to grant announced

Effective date: 20181129

GRAS Grant fee paid

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNIGR3

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: THE PATENT HAS BEEN GRANTED

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AL AT BE BG CH CY CZ DE DK EE ES FI FR GB GR HR HU IE IS IT LI LT LU LV MC MK MT NL NO PL PT RO RS SE SI SK SM TR

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

Free format text: NOT ENGLISH

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

Ref country code: AT

Ref legal event code: REF

Ref document number: 1107171

Country of ref document: AT

Kind code of ref document: T

Effective date: 20190315

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: NV

Representative=s name: FIAMMENGHI-FIAMMENGHI, CH

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: LANGUAGE OF EP DOCUMENT: GERMAN

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R096

Ref document number: 502011015490

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: NL

Ref legal event code: FP

REG Reference to a national code

Ref country code: HR

Ref legal event code: TUEP

Ref document number: P20190873

Country of ref document: HR

RAP2 Party data changed (patent owner data changed or rights of a patent transferred)

Owner name: OVD KINEGRAM AG

REG Reference to a national code

Ref country code: HR

Ref legal event code: T1PR

Ref document number: P20190873

Country of ref document: HR

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2720956

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

Effective date: 20190725

Ref country code: LT

Ref legal event code: MG4D

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: NO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190613

Ref country code: LT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

REG Reference to a national code

Ref country code: GR

Ref legal event code: EP

Ref document number: 20190401389

Country of ref document: GR

Effective date: 20190708

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LV

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

REG Reference to a national code

Ref country code: HU

Ref legal event code: AG4A

Ref document number: E044069

Country of ref document: HU

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: RO

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: SK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: EE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: AL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190713

REG Reference to a national code

Ref country code: HR

Ref legal event code: ODRP

Ref document number: P20190873

Country of ref document: HR

Payment date: 20191024

Year of fee payment: 9

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: SM

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R026

Ref document number: 502011015490

Country of ref document: DE

PLBI Opposition filed

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009260

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IS

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190713

PLAX Notice of opposition and request to file observation + time limit sent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS2

REG Reference to a national code

Ref country code: FI

Ref legal event code: MDE

Opponent name: GIESECKE+DEVRIENT CURRENCY TECHNOLOGY GMBH

26 Opposition filed

Opponent name: GIESECKE+DEVRIENT CURRENCY TECHNOLOGY GMBH

Effective date: 20191213

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FI

Payment date: 20191022

Year of fee payment: 9

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: HR

Payment date: 20191024

Year of fee payment: 9

PLBB Reply of patent proprietor to notice(s) of opposition received

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOBS3

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MC

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

PLBP Opposition withdrawn

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009264

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LU

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20191031

REG Reference to a national code

Ref country code: BE

Ref legal event code: MM

Effective date: 20191031

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20191031

PLBD Termination of opposition procedure: decision despatched

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOSNOPC1

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R100

Ref document number: 502011015490

Country of ref document: DE

REG Reference to a national code

Ref country code: HR

Ref legal event code: PBON

Ref document number: P20190873

Country of ref document: HR

Effective date: 20201031

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CY

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

REG Reference to a national code

Ref country code: FI

Ref legal event code: MAE

PLBM Termination of opposition procedure: date of legal effect published

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009276

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: OPPOSITION PROCEDURE CLOSED

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

Ref country code: FI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20201031

Ref country code: HR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20201031

27C Opposition proceedings terminated

Effective date: 20210416

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: MK

Free format text: LAPSE BECAUSE OF FAILURE TO SUBMIT A TRANSLATION OF THE DESCRIPTION OR TO PAY THE FEE WITHIN THE PRESCRIBED TIME-LIMIT

Effective date: 20190313

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PL

Payment date: 20230803

Year of fee payment: 13

Ref country code: NL

Payment date: 20231023

Year of fee payment: 13

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20231025

Year of fee payment: 13

Ref country code: GR

Payment date: 20231019

Year of fee payment: 13

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Payment date: 20231117

Year of fee payment: 13

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: TR

Payment date: 20231020

Year of fee payment: 13

Ref country code: SI

Payment date: 20231020

Year of fee payment: 13

Ref country code: RS

Payment date: 20231026

Year of fee payment: 13

Ref country code: IT

Payment date: 20231031

Year of fee payment: 13

Ref country code: IE

Payment date: 20231019

Year of fee payment: 13

Ref country code: HU

Payment date: 20231027

Year of fee payment: 13

Ref country code: FR

Payment date: 20231023

Year of fee payment: 13

Ref country code: DE

Payment date: 20230920

Year of fee payment: 13

Ref country code: CZ

Payment date: 20231019

Year of fee payment: 13

Ref country code: CH

Payment date: 20231102

Year of fee payment: 13

Ref country code: BG

Payment date: 20231019

Year of fee payment: 13

Ref country code: AT

Payment date: 20231019

Year of fee payment: 13