EP2329884B1 - Verfahren zur Aushärtung eines Klebstoffs - Google Patents

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EP2329884B1
EP2329884B1 EP09013847A EP09013847A EP2329884B1 EP 2329884 B1 EP2329884 B1 EP 2329884B1 EP 09013847 A EP09013847 A EP 09013847A EP 09013847 A EP09013847 A EP 09013847A EP 2329884 B1 EP2329884 B1 EP 2329884B1
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EP
European Patent Office
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adhesive
radiation
component
area
mask
Prior art date
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Not-in-force
Application number
EP09013847A
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English (en)
French (fr)
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EP2329884A1 (de
Inventor
Gert Blankenstein
Ying Yu
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Boehringer Ingelheim Microparts GmbH
Original Assignee
Boehringer Ingelheim Microparts GmbH
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Filing date
Publication date
Application filed by Boehringer Ingelheim Microparts GmbH filed Critical Boehringer Ingelheim Microparts GmbH
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Priority to AT09013847T priority patent/ATE546226T1/de
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Not-in-force legal-status Critical Current
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L3/00—Containers or dishes for laboratory use, e.g. laboratory glassware; Droppers
    • B01L3/50—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes
    • B01L3/502—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures
    • B01L3/5027—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip
    • B01L3/502707—Containers for the purpose of retaining a material to be analysed, e.g. test tubes with fluid transport, e.g. in multi-compartment structures by integrated microfluidic structures, i.e. dimensions of channels and chambers are such that surface tension forces are important, e.g. lab-on-a-chip characterised by the manufacture of the container or its components
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01L—CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE
    • B01L2200/00—Solutions for specific problems relating to chemical or physical laboratory apparatus
    • B01L2200/12—Specific details about manufacturing devices

Definitions

  • the invention relates to a method for curing an adhesive, which is arranged on at least one first component and at least one to be bonded to the first component second component, wherein the curing is initiated by application of the adhesive with a radiation.
  • the DE 198 56 333 A1 discloses, for example, an adhesive method in which two components to be bonded together are provided with an epoxy adhesive between their facing, plane-parallel surfaces, then pre-adjusted with an adjustment device relative to each other and then wetted at its edge region with a UV adhesive. Subsequently, the UV adhesive is exposed to UV radiation and cured, so that the adjustment device can release the so prefixed components again and the components can be fed to a furnace in which then takes place a curing of the epoxy adhesive.
  • the invention is based on the object to provide a generic method in which the initially mentioned negative effects can be reduced. This object is achieved with the characterizing features of claim 1. Advantageous embodiments or developments of the invention can be taken from the respective subclaims.
  • the invention is therefore based on a method for curing an adhesive, which is arranged on at least one first component and at least one to be bonded to the first component second component, wherein the curing is initiated by application of the adhesive with a radiation.
  • a part of the radiation directed in the direction of the adhesive is influenced such that it does not impinge on the adhesive, but at least only on a selected area of the adhesive.
  • This technical measure makes it possible that only a partial curing takes place in the adhesive.
  • the acted upon by the radiation adhesive portion is first cured. During the curing process, a negative pressure arises due to the shrinkage, whereby the still liquid adhesive portion moves towards the shrinking, curing adhesive area. In this way, it is possible to generate cavities in targeted (defined) areas of the adhesive (and indeed in the areas in which the radiation could not hit these areas due to suitable influencing) and thus a desired change or control of the technical properties (For example, adhesion, strength) of the bonded assembly to achieve.
  • suitable influencing of the radiation for example, it can be ensured that cavities are distributed only at uncritical locations or in an orderly manner, so that overall the assembly properties are not adversely affected.
  • the presence of critical or uncritical places depends on the present application or the functional elements used. Uncritically, for example, be places with lower strength or tightness requirements or bodies in the area no bridging through a cavity channels are available.
  • the curing time of commonly used adhesives is about 10 to 20 seconds, whereby already after about 1 to 2 seconds, the adhesive thickened (gelled) so that it barely flows. Moreover, the adhesives commonly used already have only a limited flowability anyway. As a result, the resulting cavities during curing on the length dimensions, which are typically smaller than a few mm.
  • a part of the radiation is blocked or deflected.
  • This is a very effective and easy to implement way of influencing the radiation.
  • the radiation is partially blocked by means which are introduced between the radiation source and the adhesive and are impermeable to the radiation used.
  • a deflection of the radiation can take place in such a way that it can not strike the adhesive either at all or only at another (desired) point on the adhesive.
  • the type of radiation used for example, electron radiation
  • light for example laser beams
  • suitable means for example movable mirrors
  • the ratio of the area or area to which the jets can not impinge on the existing adhesive due to blocking or deflection to the area or area on which the jets impinge on the existing adhesive so too Select that the adhesive volume not exposed to the rays at least slightly larger than the shrinkage volume of the curing adhesive. Due to the shrinkage of the thermosetting adhesive in the areas where the radiation can impinge on it, the still liquid adhesive in the areas where the radiation does not impinge on it, namely, tends to flow in the direction of the curing, shrinking adhesive. This leads to tensions and ultimately to the cavity-like tearing (cavitation).
  • the stress in the adhesive caused by the shrinkage is reduced, since it is ensured that a minimum of liquid adhesive can flow during the partial curing process.
  • a minimum size of the area or the area is to be provided where, overall, the radiation can reach the adhesive unhindered.
  • a further advantageous embodiment of the inventive idea provides that in a further irradiation process a complete admission of the adhesive to the radiation takes place.
  • the adhesive may advantageously be introduced as a layer between the components to be bonded and a flat, radiation-impermeable mask provided with radiation-transmissive regions as a means for partially blocking the radiation is positioned between the radiation source and the components to be bonded.
  • UV radiation has proved to be particularly suitable as radiation and, correspondingly, as adhesive, a UV-curing adhesive.
  • UV adhesives are one-component (easily processable), solvent-free and very quickly curable.
  • acrylate-based adhesives for example Vitralit® 5140 or Vitralit® UV 4024
  • cyanoacrylate-based for example Loctite® 4305.
  • the method according to the invention can even be used for the targeted production of overpressure nominal separation points in a microfluidic system.
  • the method can therefore also be used to produce a microfluidic system comprising at least one component with at least one channel.
  • at least one channel of the microfluidic system is at least partially limited by a radiation-curing adhesive.
  • the channel can in this way partially have a very high surface quality.
  • a microfluidic system comprising at least two components glued together by an adhesive, within which at least one channel or a collecting space for a fluid is formed, wherein at least one cavity in the adhesive, can be produced.
  • the at least one cavity is selected in its position such that in the region of the cavity when a certain fluid pressure is exceeded, the components bonded together are separated.
  • a first planar component 1 for example of plastic
  • a second planar component 2 can be seen from a section of a microfluidic assembly (not shown further).
  • a radiation-curing adhesive 3 is introduced areally.
  • a radiation source not shown, emits beams 4 in the direction of the adhesive 3.
  • a cover mask 5 is positioned, which has radiation-impermeable regions 50 and radiation-permeable regions 51.
  • the radiation 4 passing through the radiation-transmissive regions 51 passes through the likewise radiation-transmissive component 2 (for example glass) onto the adhesive 3 underneath.
  • a UV-curing adhesive is used in combination with a UV radiation source.
  • Most UV adhesives have a shrinkage during curing of about 2-10%.
  • the still liquid adhesive 3 located below the radiopaque regions 50 endeavors to flow in the direction of the irradiated regions of the adhesive 3.
  • cavities 6 form below the radiopaque regions 50 of the mask 5.
  • the mask 5 is selectively positioned or formed so that the formation of the cavities 6 takes place only at non-critical points, that is, for example, at those points where a reduced by the cavities 6 adhesive force can be accepted.
  • the microfluidic assembly shown has correspondingly small dimensions.
  • the thickness of the components 1 and 2 is about 0.5 -1 mm and the layer thickness of the adhesive 3 is about 200-300 microns, wherein the distance between the mask 5 and the adhesive 3 is to be chosen as low as possible, so that caused by scattered radiation disadvantages ( Edge effects) can be avoided as much as possible.
  • the distance is therefore approximately 0.5-1mm, wherein the mask 5 may well rest on the second component 2.
  • Fig. 2 now a second optional process step is shown. It can be seen that in this case the mask 5 has been removed from the beam path, the original position of which is indicated only by dashed lines. It is now possible for all the beams 4 to impinge unhindered on the adhesive 3, whereby a complete curing of the adhesive 3 takes place. As a result of the complete curing of the adhesive 3, the cavities 6 essentially do not change their position. There are also no new cavities. The cavities 6 only slightly increase in size (compare 6 ').
  • a microfluidic assembly consisting of a first component 7 and a second component 9 resting thereon is also shown.
  • the first component 7 may in turn be made of plastic, for example, and the second component 9 of UV-transparent glass.
  • the first component 7 has a circular opening 8, which is to ensure, for example, the fluidic and fluid-tight access of a channel system not shown to a pressure sensor, also not shown.
  • an annular covering mask 10 with an inner diameter 100 located at a concentric distance from the opening 8 is placed on the second component 9.
  • the cover mask 10 is made of a UV-impermeable material, for example chromium or aluminum.
  • a UV-curing adhesive for bonding the components 7 and 9 is introduced in the region of the cover mask 10, which is not shown in greater detail in this illustration.
  • the adhesive is applied so that, radially seen, an area wetted by adhesive 11 results, which in turn subdivides into an area 12 covered by radiation by the covering mask 10 and an area 13 accessible for the UV radiation. If UV radiation is now emitted in the direction of the adhesive, it is blocked in the area 12 by the mask 10 and can impinge unhindered on the adhesive only in the area 13. As a result, curing of the adhesive with concomitant shrinkage in this area takes place, as already described, which leads to liquid adhesive from area 12 flowing into area 13.
  • these cavities 14 are not located in the critical area directly at the opening 8 (in this area should be a reliable bond and tightness), but radially away from it.
  • the surface of the cover mask 10 is selected so that under this sufficient liquid adhesive is absorbed, which can flow into the region 13 upon curing of the irradiated adhesive and thus in the entire region 13 is a cured, void-free adhesive layer.
  • Fig. 4 is shown how the inventive method can be used in a special way.
  • a microfluidic component 15 with a plurality of capillary channels 16 can be seen in a plan view.
  • a not-shown component for capping the capillary channels 16 is also provided.
  • an additional (self-contained) capillary channel 16 ' which partially consists of hardened adhesive 19 and has a very high surface quality.
  • liquid adhesive 17 is introduced, then the component 15 closed by the mentioned, not shown component for capping and then at this point a Abdeckmaske 18 in such Size, position and shape applied that the adhesive 17 can not be hit in the center of the crossing region of the radiation, but at least partially at the edge of the crossing region. During the curing of the adhesive 17 this will shrink in the manner already described (19) and liquid adhesive 17 by pulling so that the capillary channel 16 'is formed.
  • a first microfluidic component 1 ' can be seen on which a second microfluidic component 2' (permeable to the radiation used in the example) is applied.
  • an adhesive 3 ' is provided, which cures by the radiation used.
  • rays 20, 20 '(electron beams) can be seen, with which the adhesive 3 is acted upon.
  • targeted blocking of the rays through a mask does not take place, but partial targeted diversion of the rays 20 'takes place by suitable means in each case (for example controllable electromagnets, not shown in greater detail).
  • suitable means for example controllable electromagnets, not shown in greater detail.
  • a range 21 of increased radiation intensity is produced by the deflected beams 20 '(which may well be desirable and advantageous for certain applications) and a region 22 in which no rays impinge on the adhesive 3'. Due to the shrinkage of the adhesive 3 'during its curing, in turn, a cavity 6 is formed in the region 22 in a controlled manner. Since the deflection of the beams 20 'can be controlled, this can be flexibly adapted to the respective application.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Aushärtung eines Klebstoffs, welcher an wenigstens einem ersten Bauteil und an wenigstens einem mit dem ersten Bauteil zu verklebenden zweiten Bauteil angeordnet ist, wobei die Aushärtung durch Beaufschlagung des Klebstoffs mit einer Strahlung eingeleitet wird.
  • In vielen Bereichen der Technik und insbesondere im Bereich der Mikrosystemtechnik ist es erforderlich, Bauteile und Funktionsgruppen durch Einsatz von diversen Verbindungstechniken zu assemblieren. Für unlösliche Verbindungen ist es üblich und hat sich bewährt, Bauteile durch Kleben zusammenzufügen. Hier kommen wiederum insbesondere Klebstoffe zum Einsatz, die nach Beaufschlagung mit Strahlen vergleichsweise schnell aushärten. Während des Aushärtens der Klebstoffe unterliegen diese jedoch einer mehr oder weniger großen Schrumpfung. Dadurch können undefinierte Hohlräume an bzw. zwischen den zu klebenden Teilen entstehen, beispielsweise dann, wenn der Klebstoff zwischen den zu klebenden Bauteilen aufgebracht ist und der Abstand zwischen den Bauteilen während der Aushärtung des Klebstoffs nicht automatisch angepasst werden kann.
    Durch die Schrumpfung können die Haftung der Bauteile bzw. die Festigkeit der gesamten Baugruppe ungewollt negativ beeinflusst werden.
  • Die DE 198 56 333 A1 offenbart beispielsweise ein Klebeverfahren, bei dem zwei miteinander zu verklebende Bauteile zwischen ihren zugewandten, planparallelen Flächen mit einem Epoxy-Klebstoff versehen, anschließend mit einer Justagevorrichtung relativ zueinander vorjustiert und dann an ihrem Randbereich mit einem UV-Klebstoff benetzt werden. Anschließend wird der UV-Klebstoff mit UV-Strahlung beaufschlagt und härtet aus, so dass die Justagevorrichtung die so vorfixierten Bauteile wieder freigeben kann und die Bauteile einem Ofen zugeführt werden können, in der dann eine Aushärtung des Epoxy-Klebstoffs erfolgt.
  • In der DE 10 2005 058 519 A1 ist ein Verfahren zur hochgenauen Positionierung von Bauteilen im Mikrobereich offenbart. Hierbei werden Bewegungen der Bauteile optisch erfasst und automatisch durch ein Bewegungssystem korrigiert, um die Polymer-Strukturen während des Aushärtungsprozesses eines relativ schnell aushärtbaren UV-Klebstoffs aufzubrechen und durch die Aushärtung des UV-Klebstoffs bedingte Positionsabweichungen rechtzeitig korrigieren zu können.
  • Der Erfindung liegt die Aufgabe zu Grunde, ein gattungsgemäßes Verfahren bereitzustellen, bei dem die anfangs genannten negativen Wirkungen reduziert werden können. Diese Aufgabe wird mit den kennzeichnenden Merkmalen von Anspruch 1 gelöst. Vorteilhafte Ausführungen beziehungsweise Weiterbildungen der Erfindung sind den jeweiligen Unteransprüchen entnehmbar.
  • Die Erfindung geht daher aus von einem Verfahren zur Aushärtung eines Klebstoffs, welcher an wenigstens einem ersten Bauteil und an wenigstens einem mit dem ersten Bauteil zu verklebenden zweiten Bauteil angeordnet ist, wobei die Aushärtung durch Beaufschlagung des Klebstoffs mit einer Strahlung eingeleitet wird.
  • Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass ein Teil der in Richtung auf den Klebstoff gerichteten Strahlung derart beeinflusst wird, dass diese nicht auf den Klebstoff, zumindest jedoch lediglich auf einen ausgewählten Bereich des Klebstoffs auftrifft.
    Durch diese technische Maßnahme wird es ermöglicht, dass im Klebstoff nur eine partielle Aushärtung stattfindet. Der von der Strahlung beaufschlagte Klebstoffanteil wird zunächst ausgehärtet. Während des Aushärtungsprozesses entsteht wegen der Schrumpfung ein Unterdruck, wodurch sich der noch flüssige Klebstoffanteil zu dem schrumpfenden, aushärtenden Klebstoffbereich hin bewegt. Auf diese Weise ist es möglich, in gezielten (definierten) Bereichen des Klebstoffs (und zwar in den Bereichen, in denen die Strahlung aufgrund geeigneter Beeinflussung nicht auf diese Bereiche treffen konnte) Hohlräume zu erzeugen und somit eine gewünschte Veränderung bzw. Kontrolle der technischen Eigenschaften (bspw. Haftung, Festigkeit) der verklebten Baugruppe zu erreichen. Durch geeignete Beeinflussung der Strahlung kann beispielsweise dafür gesorgt werden, dass Hohlräume nur an unkritischen Stellen bzw. geordnet verteilt entstehen, so dass die Baugruppeneigenschaften insgesamt nicht negativ beeinflusst werden. Das Vorliegen kritischer bzw. unkritischer Stellen hängt von der vorliegenden Anwendung bzw. den eingesetzten Funktionselementen ab. Unkritisch können beispielsweise Stellen mit geringeren Festigkeits- oder Dichtigkeitsanforderungen sein oder Stellen, in deren Bereich keine durch einen Hohlraum ggf. überbrückbaren Kanäle vorhanden sind.
    Die Aushärtezeit üblicherweise eingesetzter Klebstoffe beträgt ca. 10 bis 20 Sekunden, wobei schon nach ca. 1 bis 2 Sekunden der Klebstoff derart verdickt (geliert), dass er kaum noch fließt. Überdies weisen die üblicherweise eingesetzten Klebstoffe bereits ohnehin nur eine begrenzte Fließfähigkeit auf. Dadurch bedingt weisen die bei der Aushärtung entstehenden Hohlräume Längendimensionen auf, die typischerweise kleiner als einige mm sind.
  • Gemäß einer ersten vorteilhaften Weiterbildung der Erfindung ist vorgesehen, dass ein Teil der Strahlung blockiert oder abgelenkt wird. Dies stellt eine sehr effektive und einfach zu realisierende Möglichkeit einer Beeinflussung der Strahlung dar. Beispielsweise ist denkbar, dass die Strahlung teilweise durch Mittel blockiert wird, die zwischen die Strahlungsquelle und den Klebstoff eingebracht werden und für die eingesetzte Strahlung undurchlässig sind. Es ist aber auch durchaus denkbar, einen Teil der Strahlung lediglich abzulenken. Eine Ablenkung der Strahlung kann beispielsweise derart erfolgen, dass diese entweder gar nicht auf den Klebstoff oder nur an einer anderen (gewünschten) Stelle auf den Klebstoff treffen kann. Je nach Art der eingesetzten Strahlung (beispielsweise Elektronenstrahlung) ist es auch denkbar, eine Ablenkung elektromagnetisch mittels einer geeigneten Steuerung durchzuführen, was eine enorme Flexibilität im Fertigungsprozess ermöglichen würde. Es ist natürlich beispielsweise auch denkbar, als Strahlung Licht (bspw. Laserstrahlen) einzusetzen und diese Strahlung mit geeigneten Mitteln (bspw. bewegbaren Spiegeln) abzulenken. Natürlich setzt dies entsprechende Klebstoffe voraus, die bei der gewählten Strahlung auch aushärten.
  • Es ist sehr zweckmäßig, das Verhältnis von dem Bereich bzw. der Fläche, auf den die Strahlen aufgrund von Blockierung oder Ablenkung nicht auf den vorhandenen Klebstoff auftreffen können zu dem Bereich bzw. der Fläche, auf den die Strahlen auf den vorhandenen Klebstoff auftreffen derart zu wählen, dass das den Strahlen nicht ausgesetzte Klebstoffvolumen zumindest geringfügig größer ist als das Schrumpfvolumen des aushärtenden Klebstoffs. Bedingt durch die Schrumpfung des aushärtenden Klebstoffs in den Bereichen, wo die Strahlung auf diesen auftreffen kann, ist der noch flüssige Klebstoff in den Bereichen, wo die Strahlung nicht auf diesen auftrifft, nämlich bestrebt, in Richtung des aushärtenden, schrumpfenden Klebstoffs nachzufließen. Hierdurch kommt es zu Spannungen und letztendlich zum hohlraumartigen Aufreißen (Hohlraumbildung). Bei einer entsprechenden Wahl des oben geschilderten Verhältnisses wird die durch die Schrumpfung verursachte Spannung im Klebstoff reduziert, da sichergestellt ist, dass ein Mindestmaß an flüssigem Klebstoff während des partiellen Aushärteprozesses nachfließen kann. Allerdings ist dabei auch zu berücksichtigen, dass zur Bereitstellung einer geforderten Mindest-Klebekraft zwischen den Bauteilen insgesamt, eine Mindestgröße des Bereichs bzw. der Fläche vorzusehen ist, wo insgesamt die Strahlung den Klebstoff ungehindert erreichen kann.
    Ferner sollte darauf geachtet werden, dass im Bereich der auszuhärtenden Klebeverbindung möglichst ein geschlossenes System gebildet wird, also kein unerwünschter Gas- bzw. Luftzugang ermöglicht wird, welcher wieder zu einer unkontrollierten Ausbildung von Hohlräumen führen könnte.
    Eine weitere vorteilhafte Ausbildung des Erfindungsgedankens sieht vor, dass in einem weiteren Bestrahlungsvorgang eine komplette Beaufschlagung des Klebstoffs mit der Strahlung erfolgt. Zwar wird die Haftung der Bauteile miteinander hauptsächlich von den zunächst im ersten Bestrahlungsvorgang bestrahlten Bereichen (in denen eine partielle Aushärtung des Klebstoffs beginnt) gewährleistet, durch eine weitere Beaufschlagung des Klebstoffs mit Strahlung kann dieser jedoch vollends aushärten, ohne dass im übrigen neue Hohlräume entstehen. Die bestehenden Hohlräume werden lediglich noch etwas größer.
  • Wenn mit dem erfindungsgemäßen Verfahren nur zwei planparallele Flächen miteinander verklebt werden sollen, so kann vorteilhaft der Klebstoff als Schicht zwischen den zu verklebenden Bauteilen eingebracht und als Mittel zur teilweisen Blockierung der Strahlung eine flache, strahlungsundurchlässige Maske verwendet werden, die mit strahlungsdurchlässigen Bereichen versehen ist und zwischen der Strahlungsquelle und den zu verklebenden Bauteilen positioniert wird. Hierdurch wird einerseits ein einfacher und vergleichsweise flexibler Fertigungsaufbau ermöglicht, andererseits sind gute Resultate hinsichtlich einer gewünschten Festigkeit der miteinander verklebten Baugruppen erzielbar.
  • Besonders bewährt haben sich als Strahlung eine UV-Strahlung und entsprechend als Klebstoff ein UV-aushärtender Klebstoff. UV-Klebstoffe sind einkomponentig (leicht verarbeitbar), lösungsmittelfrei und sehr schnell aushärtbar. Vorzugsweise werden dabei Klebstoffe auf Acrylat-Basis (bspw. Vitralit ® 5140 oder Vitralit ® UV 4024) oder auf Cyanacrylat-Basis (bspw. Loctite ® 4305) eingesetzt.
  • Der Effekt, dass man bei dem oben beschriebenen Verfahren in definierten Bereichen Hohlräume erzeugen kann, ermöglicht auch eine Verwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur gezielten Strukturierung eines mikrofluidischen Systems. Dies ist beispielsweise für solche Fälle denkbar, wo durch Kleben fluidische Kanalsysteme gedeckelt oder verschlossen werden sollen. Dabei können beispielsweise zusätzliche Mikroverbindungskanäle, Be - oder Entlüftungskanäle sowie Kapillare von einigen Mikrometern im Klebstoff mit einer sehr hohen Oberflächengüte erzeugt werden, die durch andere Strukturierungsverfahren (zum Beispiel wegen der geringen Tiefe oder wegen der Oberflächengenauigkeit) nur schwer möglich wären.
  • Aufgrund des Effekts, dass die im beschriebenen Verfahren entstandenen Hohlräume mechanisch eine geringere Haftung der miteinander verklebtem Bauteile zur Folge haben können, kann das erfindungsgemäße Verfahren sogar zur gezielten Erzeugung von Überdruck-Solltrennstellen in einem mikrofluidischen System verwendet werden.
  • Mit dem Verfahren kann daher auch ein mikrofluidisches System, umfassend wenigstens ein Bauteil mit wenigstens einem Kanal hergestellt werden. Dabei ist wenigstens ein Kanal des mikrofluidischen Systems zumindest bereichsweise durch einen strahlungsaushärtenden Klebstoff begrenzt. Der Kanal kann auf diese Weise bereichsweise eine sehr hohe Oberflächengüte aufweisen.
  • Ferner kann auch ein mikrofluidisches System, umfassend wenigstens zwei durch einen Klebstoff miteinander verklebte Bauteile, innerhalb derer wenigstens ein Kanal oder ein Sammelraum für ein Fluid gebildet ist, wobei im Klebstoff wenigstens ein Hohlraum vorhanden ist, hergestellt werden. Der wenigstens eine Hohlraum ist in seiner Position derart gewählt, dass im Bereich des Hohlraums bei Überschreiten eines bestimmten Fluiddrucks eine Trennung der miteinander verklebten Bauteile erfolgt. Durch diese Maßnahme wird auf einfache Weise ein mikrofluidisches System mit Überdruck-Solltrennstellen bereitgestellt.
  • Weitere Vorteile und Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Verfahrens werden anhand von bevorzugten Ausführungsbeispielen deutlich, was mit Hilfe der beiliegenden Figuren näher erläutert werden soll. Dabei bedeuten
    • Fig. 1
    eine äußerst prinziphafte Schnittdarstellung zur Erläuterung eines ersten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens,
    Fig. 2
    eine äußerst prinziphafte Schnittdarstellung zur Erläuterung eines optionalen zweiten Verfahrensschritts vom ersten Ausführungsbeispiel des erfindungsgemäßen Verfahrens,
    Fig. 3
    eine äußerst prinziphafte Darstellung in einer Draufsicht zur Erläuterung eines zweiten Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens,
    Fig. 4
    eine äußerst prinziphafte Schnittdarstellung zur Erläuterung einer erfindungsgemäßen Verwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens und
    Fig. 5
    eine äußerst prinziphafte Schnittdarstellung zur Erläuterung eines weiteren Ausführungsbeispiels des erfindungsgemäßen Verfahrens.
  • Gleiche Teile sind mit gleichen Bezugszeichen versehen. Zunächst wird auf die Fig. 1 und 2 Bezug genommen. Darin sind ein erstes flächiges Bauteil 1 (beispielsweise aus Kunststoff) und ein zweites flächiges Bauteil 2 aus einem Ausschnitt einer nicht weiter dargestellten mikrofluidischen Baugruppe ersichtlich. Zwischen den Bauteilen 1 und 2 ist flächig ein strahlenhärtender Klebstoff 3 eingebracht. Eine nicht dargestellte Strahlungsquelle sendet Strahlen 4 in Richtung auf den Klebstoff 3 aus. Zwischen der Strahlungsquelle und dem Klebstoff 3 ist eine Abdeckmaske 5 positioniert, welche strahlungsundurchlässige Bereiche 50 und strahlungsdurchlässige Bereiche 51 aufweist. Die durch die strahlungsdurchlässigen Bereiche 51 hindurch tretende Strahlung 4 tritt durch das ebenfalls strahlungsdurchlässige Bauteil 2 (bspw. Glas) hindurch auf den darunter befindlichen Klebstoff 3. Dieser beginnt damit, sich in diesen Bereichen auszuhärten, wodurch er dort in bestimmten Maßen einer Schrumpfung unterliegt, die von der Art des verwendeten Klebstoffs und der eingesetzten Strahlung abhängen. Im konkret dargestellten Ausführungsbeispiel wird ein UV-aushärtender Klebstoff in Kombination mit einer UV-Strahlungsquelle verwendet. Die meisten UV-Klebstoffe haben eine Schrumpfung während der Aushärtung von circa 2-10 %. Durch die Schrumpfung ist der unter den strahlungsundurchlässigen Bereichen 50 befindliche, noch flüssige Klebstoff 3 bestrebt, in Richtung der bestrahlten Bereiche des Klebstoffs 3 nachzufließen. Dadurch bilden sich Hohlräume 6 unterhalb der strahlungsundurchlässigen Bereiche 50 der Abdeckmaske 5 aus. Die Abdeckmaske 5 ist gezielt so positioniert bzw. ausgebildet, dass die Bildung der Hohlräume 6 lediglich an unkritischen Stellen erfolgt, also beispielsweise an solchen Stellen, in denen eine durch die Hohlräume 6 reduzierte Klebekraft in Kauf genommen werden kann. Die gezeigte mikrofluidische Baugruppe weist entsprechend kleine Dimensionen auf. So beträgt die Dicke der Bauteile 1 und 2 ca. 0,5 -1 mm und die Schichtdicke des Klebstoffs 3 circa 200-300 µm, wobei der Abstand zwischen Abdeckmaske 5 und Klebstoff 3 möglichst gering zu wählen ist, damit durch Streustrahlung bedingte Nachteile (Kanteneffekte) möglichst vermieden werden können. Der Abstand beträgt daher circa 0,5-1mm, wobei die Abdeckmaske 5 durchaus auf dem zweiten Bauteil 2 aufliegen kann.
  • In Fig. 2 ist nunmehr ein zweiter optionaler Verfahrensschritt dargestellt. Es ist ersichtlich, dass dabei die Abdeckmaske 5 aus dem Strahlengang entnommen wurde, wobei deren ursprüngliche Position nur noch gestrichelt angedeutet ist. Es können nunmehr alle Strahlen 4 ungehindert auf den Klebstoff 3 auftreffen, wodurch eine komplette Aushärtung des Klebstoffs 3 erfolgt. Durch die komplette Aushärtung des Klebstoffs 3 ändern die Hohlräume 6 ihre Position im Wesentlichen nicht. Es entstehen auch keine neuen Hohlräume. Die Hohlräume 6 nehmen lediglich noch geringfügig an Größe zu (vgl. 6').
  • In der Fig. 3 ist in einer Draufsicht ebenfalls eine aus einem ersten Bauteil 7 und einem darauf aufliegenden zweiten Bauteil 9 bestehende mikrofluidische Baugruppe dargestellt. Das erste Bauteil 7 kann wiederum beispielsweise aus Kunststoff bestehen und das zweite Bauteil 9 aus UV-durchlässigem Glas. Das erste Bauteil 7 weist eine kreisrunde Öffnung 8 auf, welche beispielsweise den fluidischen und auch fluiddichten Zugang eines nicht näher dargestellten Kanalsystems zu einem ebenfalls nicht näher dargestellten Drucksensor sicherstellen soll. Zu einer gezielten Beeinflussung einer Verklebung ist auf das zweite Bauteil 9 eine kreisringförmige Abdeckmaske 10 mit einem in einem konzentrischen Abstand von der Öffnung 8 befindlichen Innendurchmesser 100 aufgelegt. Die Abdeckmaske 10 ist aus einem UVundurchlässigen Material, beispielsweise Chrom oder Aluminium. Zwischen dem ersten Bauteil 7 und dem zweiten Bauteil 9 ist im Bereich der Abdeckmaske 10 ein in dieser Darstellung nicht näher ersichtlicher, UV-härtender Klebstoff zur Verklebung der Bauteile 7 und 9 eingebracht. Konkret ist der Klebstoff so aufgebracht, dass sich radial gesehen ein mit Klebstoff benetzter Bereich 11 ergibt, der sich wiederum in einen durch die Abdeckmaske 10 strahlungsmäßig abgedeckten Bereich 12 und einen für die UV-Strahlung zugänglichen Bereich 13 unterteilt. Wird nun UV-Strahlung in Richtung auf den Klebstoff ausgestrahlt, so wird diese im Bereich 12 durch die Abdeckmaske 10 blockiert und kann lediglich im Bereich 13 ungehindert auf den Klebstoff auftreffen. Hierdurch findet wie bereits beschrieben eine Aushärtung des Klebstoffs mit einhergehender Schrumpfung in diesem Bereich statt, der dazu führt, dass flüssiger Klebstoff aus dem Bereich 12 in den Bereich 13 nachfließt. Dadurch entstehen unterhalb der Abdeckmaske 10 Hohlräume 14. Diese Hohlräume 14 befinden sich jedoch nicht im kritischen Bereich unmittelbar an der Öffnung 8 (in diesem Bereich soll eine zuverlässige Klebung und Dichtigkeit vorliegen), sondern radial gesehen weiter davon entfernt. Die Fläche der Abdeckmaske 10 ist so gewählt, dass unter dieser genügend flüssiger Klebstoff aufgenommen wird, der bei Aushärtung des bestrahlten Klebstoffs in den Bereich 13 nachfließen kann und somit im gesamten Bereich 13 eine ausgehärtete, hohlraumfreie Klebstoffschicht vorliegt.
  • In Fig. 4 ist dargestellt, wie das erfindungsgemäße Verfahren in besonderer Weise verwendet werden kann. So ist wiederum ein mikrofluidisches Bauteil 15 mit mehreren Kapillarkanälen 16 in einer Draufsicht ersichtlich. Auf dem Bauteil 15 ist ebenfalls ein nicht näher dargestelltes Bauteil zur Deckelung der Kapillarkanäle 16 vorgesehen. Mithilfe des erfindungsgemäßen Verfahrens ist es nun möglich, einen zusätzlichen (in sich abgeschlossenen) Kapillarkanal 16' auszubilden, welcher bereichsweise durch ausgehärteten Klebstoff 19 besteht und eine sehr hohe Oberflächengüte aufweist. Dazu wird an der gewünschten Stelle des Bauteils 15 (und zwar im Kreuzungsbereich von zwei vorhandenen Kapillarkanälen) flüssiger Klebstoff 17 eingebracht, dann das Bauteil 15 durch das erwähnte, nicht näher dargestellte Bauteil zur Deckelung verschlossen und anschließend an dieser Stelle eine Abdeckmaske 18 in einer solchen Größe, Position und Form aufgebracht, dass der Klebstoff 17 im Zentrum des Kreuzungsbereichs von der Strahlung nicht getroffen werden kann, am Rand des Kreuzungsbereichs jedoch zumindest teilweise. Während der Aushärtung des Klebstoffs 17 wird dieser in bereits beschriebener Weise schrumpfen (19) und flüssigen Klebstoff 17 derart nach sich ziehen, dass der Kapillarkanal 16' entsteht.
  • Schließlich ist in Fig. 5 eine mit der in den Fig. 1 und 2 vergleichbaren Ansicht gezeigt, mit der eine weitere Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens erläutert werden soll. Auch hier ist ein erstes mikrofluidisches Bauteil 1' ersichtlich, auf dem ein zweites mikrofluidisches (für die im Beispiel eingesetzte Strahlung durchlässiges) Bauteil 2' aufgebracht ist. Zwischen den Bauteilen 1' und 2' ist wiederum ein Klebstoff 3' vorgesehen, der durch die eingesetzte Strahlung aushärtet. Ferner sind Strahlen 20, 20' (Elektronenstrahlen) ersichtlich, mit denen der Klebstoff 3 beaufschlagt wird. Im Gegensatz zum ersten Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 erfolgt hier nicht eine gezielte Blockierung der Strahlen durch eine Maske, sondern es erfolgt teilweise eine gezielte Ablenkung der Strahlen 20' durch jeweils geeignete Mittel (beispielsweise ansteuerbare Elektromagneten, nicht näher dargestellt). Es ist ersichtlich, dass durch die abgelenkten Strahlen 20' ein Bereich 21 erhöhter Strahlungsintensität erzeugt wird (was durchaus gewünscht und für bestimmte Anwendungsfälle vorteilhaft sein kann) und ein Bereich 22, in dem keine Strahlen auf den Klebstoff 3' auftreffen. Bedingt durch die Schrumpfung des Klebstoffs 3' während seiner Aushärtung bildet sich wiederum im Bereich 22 im Wesentlichen kontrolliert ein Hohlraum 6 aus. Da die Ablenkung der Strahlen 20' ansteuerbar ist, kann diese flexibel an den jeweiligen Anwendungsfall angepasst werden.
    • Bezugszeichenliste
    • 1,1'
    erstes Bauteil
    2,2'
    zweites Bauteil
    3,3'
    Klebstoff
    4
    Strahlung
    5
    Abdeckmaske
    50
    strahlungsundurchlässige Bereiche
    51
    strahlungsdurchlässige Bereiche
    6, 6'
    Hohlräume
    7
    erstes Bauteil
    8
    Öffnung im ersten Bauteil
    9
    zweites Bauteil
    10
    kreisringförmige Abdeckmaske
    100
    Innendurchmesser der Abdeckscheibe
    11
    mit Klebstoff benetzter Bereich
    12
    durch Abdeckmaske abgedeckter Bereich
    13
    für Strahlung zugänglicher Bereich
    14
    Hohlräume
    15
    mikrofluidisches Bauteil
    16
    Kapillarkanal
    17
    flüssiger Klebstoff
    18
    Abdeckmaske
    19
    ausgehärteter Klebstoff
    20, 20'
    Strahlung
    21
    Bereich erhöhter Strahlungsintensität
    22
    Bereich, in dem keine Strahlung auf den Klebstoff auftrifft

Claims (10)

  1. Verfahren zur Aushärtung eines Klebstoffs (3,3'), welcher an wenigstens einem ersten Bauteil (1,7,15) und an wenigstens einem mit dem ersten Bauteil (1,7,15) zu verklebenden zweiten Bauteil (2,9) angeordnet ist, wobei die Aushärtung durch Beautschlagung des Klebstoffs (3,3') mit einer Strahlung (4,20,20') eingeleitet wird, und ein Teil der in Richtung auf den Klebstoff (3,3') gerichteten Strahlung (4,20) derart beeinflusst wird, dass Bereiche (12, 22, 50) entstehen, wo die Strahlung (4,20) nicht auf den Klebstoff (3,3'), zumindest jedoch lediglich auf einen ausgewählten Bereich (13,21,51) des Klehstoffs (3,3') auftrifft, dadurch gekennzeichnet, dass in den Bereichen (12, 22, 50), wo die Strahlung (4,20) nicht auf den Klebstoff (3,3') auftrifft, Hohlräume (6, 14) im Klebstoff (3,3') erzeugt werden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Teil der Strahlung (4) blockiert wird.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Teil der Strahlung (20) abgelenkt wird.
  4. Verfahren nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass in einem weiteren Bestrahlungsvorgang eine komplette Beaufschlagung des Klebstoffs (3,3') mit der Strahlung (4,20) erfolgt.
  5. Verfahren nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Klebstoff (3,3') als Schicht zwischen den zu verklebenden Bauteilen (1,2 bzw. 7,9) eingebracht wird und als Mittel zur teilweisen Blockierung der Strahlung (4) eine flache, strahlungsundurchlässige Maske (5,10) verwendet wird, die mit strahlungsdurchlässigen Bereichen (51,100) versehen ist und zwischen der Strahlungsquelle und den zu verklebenden Bauteilen (1,2 bzw. 7,9) positioniert wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Maske (10) kreisringförmig ist.
  7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass der Klebstoff zwischen einem ersten Bauteil (7) und einem zweiten Bauteil (9) eingebracht ist, wobei das erste Bauteil (7) eine kreisrunde Öffnung (8) aufweiset und die Maske (10) in einem konzentrischen Abstand von der Öffnung (8) auf das zweite Bauteil (9) aufgelegt ist.
  8. Verfahren nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Klebstoff (17) zwischen einem mikrofluidischen Bauteil (15) mit mehreren Kapillarkanälen (16) und einem Bauteil zur Deckelung im Kreuzungsbereich von zwei Kapillarkanälen (16) eingebracht wird und eine Maske (18) in einer solchen Größe, Position und Form aufgebracht wird, dass der Klebstoff (17) im Zentrum des Kreuzungsbereiches von der Strahlung nicht getroffen werden kann, am Rand des Kreuzungsbereiches jedoch zumindest teilweise, derart, dass während der Aushärtung des Klebstoffs (17) ein zusätzlicher Kapillarkanal (16') entsteht.
  9. Verfahren nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche 3 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass durch die Ablenkung der Strahlung (20') ein Bereich (21) erhöhter Strahlungsintensität erzeugt wird.
  10. Verfahren nach wenigstens einem der vorhergehenden Ansprüche 3 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Ablenkung der Strahlung (20') ansteuerbar ist.
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