EP1810283A2 - Recording and/or playback device comprising multiple magnetic heads with azimuth gaps - Google Patents
Recording and/or playback device comprising multiple magnetic heads with azimuth gapsInfo
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- EP1810283A2 EP1810283A2 EP05819144A EP05819144A EP1810283A2 EP 1810283 A2 EP1810283 A2 EP 1810283A2 EP 05819144 A EP05819144 A EP 05819144A EP 05819144 A EP05819144 A EP 05819144A EP 1810283 A2 EP1810283 A2 EP 1810283A2
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- recording
- pairs
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G—PHYSICS
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- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
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- G11B5/48—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed
- G11B5/58—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following
- G11B5/584—Disposition or mounting of heads or head supports relative to record carriers ; arrangements of heads, e.g. for scanning the record carrier to increase the relative speed with provision for moving the head for the purpose of maintaining alignment of the head relative to the record carrier during transducing operation, e.g. to compensate for surface irregularities of the latter or for track following for track following on tapes
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- Y10T29/49048—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing]
- Y10T29/49052—Machining magnetic material [e.g., grinding, etching, polishing] by etching
Definitions
- the subject of the present invention is a device for recording and / or reading with multiple magnetic heads with azimuth gaps as well as a method for producing such a device.
- This device with multiple magnetic heads finds its application in the magnetic recording and / or reading of data on any recording medium that is magnetic or magneto-optical and more particularly on magnetic tape.
- magnetic medium has been used and this includes magnetic media and magneto-optical media.
- magnetic tracks it includes the tracks of a magnetic medium and those of a magneto-optical medium.
- the end applications of tape storage are typically the archiving and backup of computer or more generally digital data. These data can be for example those of bases of data, digitized films, audio or computer files often from computers or digital devices such as camcorders, VCRs or servers. These data are often called "multimedia" and have an industrial, professional or consumer background.
- the invention can be applied to linear recording, helical recording or magneto-optical recording.
- FIG. 1 gives a schematic representation of a recording and / or reading device of the prior art.
- a bar 1 of heads magnetic spacers 3 spaced apart by a pitch D is arranged along a generatrix of a fixed cylindrical support 2 (drum).
- Each magnetic head 3 comprises two pole pieces 3.1, 3.2 separated by a gap 3.3 non-magnetic. Subsequently, when we talk about the air gap of a pair of polar parts it is the air gap between two polar parts of a pair.
- the magnetic recording medium 4 to be read or recorded moves linearly close to the bar 1.
- This type of recorder has the advantage of being relatively simple mechanically (fixed or weakly moving magnetic heads) and allows, thanks to its multiple magnetic heads, high data rates.
- the tracks 5 recorded in a single pass being relatively long distance
- the simultaneous reading of these relatively spaced tracks is penalized by the mechanical flexibility of the magnetic recording medium 4 which can cause read errors due to misalignment of the bits of these tracks.
- US Pat. No. 5,452,165 discloses a device for recording and / or reading a magnetic medium with magnetic tracks.
- Several pairs of pole pieces are carried by the same support. Any two pairs of successive polar pieces have non-zero, equal and opposite azimuth angles, and between ⁇ 90 ° excluded.
- the support has a given angle of inclination (non-zero and different from 90 °) with respect to the tracks.
- the widths of the tracks are not equal, so that the electrical signals recorded on successive tracks have different amplitudes. Reading errors may occur.
- Patent application FR-A-2 774 797 also discloses a recording and / or reading device with multiple azimuth magnetic heads.
- This device comprises several assembled supports on which are distributed magnetic heads.
- This device does not provide that the supports have an angle of inclination with respect to the tracks. It does not therefore make heads magnetic "massively parallel", the realization of magnetic heads to read or write n tracks requiring n supports assembled, which limits in practice n to 2, 3 or 4 for reasons of efficiency.
- the constraints during the assemblies lead to a weakening of the recording and / or reading device.
- This device also does not provide magnetic heads cooperating with overlapping tracks, as is done today in industry, because the distance, normal to the supports between two pairs of pole pieces belonging to two consecutive supports is greater or equal to zero. This configuration does not allow the recording and / or playback device to adapt to various recording standards.
- the object of the present invention is precisely to propose a recording and / or reading device with multiple magnetic heads which does not have the drawbacks mentioned above.
- An object of the invention is to perform recordings and / or readings of the magnetic recording medium in a limited number of passes due to the high degree of parallelism of the multiple magnetic heads of the device.
- Another object of the invention is to obtain a good accuracy of alignment of the magnetic heads with respect to the tracks to overcome the problems encountered during the reading as well as a good precision for industrial production in mass production of the azimuth angle and the width of the pole pieces which condition recording and reading on magnetic tracks of width and precise positioning.
- Yet another object of the invention is to increase the recording densities by decreasing the widths of tracks and interpistes.
- a further object of the invention is to facilitate track tracking of the magnetic recording medium.
- the manufacturing method allows better control of the key parameters of the recording and / or reading device in mass production compared to existing methods.
- the present invention relates to a device for recording and / or reading a magnetic medium with magnetic tracks. It comprises several magnetic heads each comprising a pair of pole pieces separated by a nonmagnetic air gap. These pairs of pole pieces are grouped on at least one support having a non-zero angle of inclination, between ⁇ 90 ° with respect to the tracks, all the air gaps of the pairs of pole pieces of the support having the same azimuth angle between ⁇ 90 ° limits excluded in relation to a direction normal to the support. It is advantageous for the device to comprise at least two consecutive supports defining, when they are parallel, a polar inter-piece spacing between face planes facing polar parts situated on the two consecutive supports.
- Magnetic shielding and / or magnetoresistive reading means may be placed between the two supports in a space corresponding to the inter-piece polar distance.
- the azimuth angle and the inclination angle are equal in module or in absolute value.
- the azimuth angle and the tilt angle are different, which makes it possible to record and / or read azimuth bits on the magnetic medium.
- the device comprises several supports
- the latter can be superimposed.
- it comprises at least two consecutive supports, they can have different angles of inclination.
- the azimuth angles of the air gaps of the pair of pole pieces of one of the supports may then be different from the azimuth angles of the pairs of pole pieces of the other support.
- two pairs of pole pieces belonging to different media for example consecutive, cooperate with two consecutive magnetic tracks for reading or recording.
- the device may comprise at least one block of at least one support for recording and at least one block of at least one support for reading, these blocks being arranged one after the other in the direction tracks.
- the device may comprise at least one block of one or more media for recording and at least one block of one or more media for reading, the supports of these blocks being secured to each other.
- Each track can be recorded and read respectively by a pair of pole pieces, the pair of pole pieces for recording and the pair of pole pieces for playback belonging to different media.
- a block for reading can be separated from a block for recording by a shielding screen.
- the device comprises, for each magnetic head, a magnetic circuit incorporating a pair of pole pieces and possibly a magnetic flux guide, this magnetic circuit cooperating with recording and / or reading means.
- a magnetic flux guide may comprise several parts: the core of a solenoid winding, pads, a rear magnetic piece, a magnetoresistive sensor flux guide.
- the recording and / or reading means may be inductive or magnetoresistive.
- Signal processing means may cooperate with the recording and / or reading means.
- the present invention also relates to a method for producing a recording and / or reading device on a magnetic strip recording magnetic medium which comprises the following steps: on at least one substrate forming several pairs of polar pieces of magnetic heads, these pole pieces being separated by a nonmagnetic air gap, the air gaps of these pairs of pole pieces all having the same azimuth angle, between ⁇ 90 ° excluded terminals relative to a normal direction to the substrate; production of recording and / or reading means and possibly magnetic flux guides able to cooperate each with a pair of pole pieces; treatment of the substrate to give it a non-zero angle of inclination between ⁇ 90 ° with respect to the magnetic tracks.
- the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be made on at least one additional substrate which is assembled after positioning with the substrate carrying the pairs of pole pieces.
- the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be made on the substrate carrying the pairs of pole pieces.
- the treatment may consist in performing a grinding of the substrate (s).
- the treatment may consist of mounting one or more parts of the substrate or substrates or substrates in the same mechanical support.
- this layer may optionally comprise magnetoresistive reading means and / or a magnetic shielding screen.
- the method may consist of producing, on a substrate, pairs of magnetic connection pads for magnetically connecting each a flow guide or a recording means and / or reading to a pair of pole pieces carried by an identical or different substrate.
- the assembly of two of the substrates is preferably done after turning one of them to face the faces worked.
- a step of thinning at least one of the substrates may be provided before and / or after assembly.
- the substrates may have different angles of inclination, in which case the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar pieces of a substrate is different from the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar pieces of a other substrate.
- a pair of pole pieces can be made by anisotropically etching a first box in the substrate, forming a non-magnetic layer on the substrate, by filling the first box with magnetic material, by isotropically etching a second box that is adjacent to the first box. box, filling the second box with magnetic material.
- pairs of boxes in the substrate When there are several substrates carrying pairs of pole pieces, to achieve the pairs of magnetic studs, it is possible by isotropic etching, pairs of boxes in the substrate to accommodate the pairs of magnetic studs and fill the pairs of boxes. magnetic material.
- the substrate carrying pairs of pole pieces may be formed of electrically insulating material located between two layers, one of which carrying the boxes is monocrystalline, the other optionally being removed partially or completely later.
- the substrate carrying pairs of pole pieces may be formed of an electrically insulating material located between a layer of wear resistant material and a layer of monocrystalline material comprising the boxes.
- the assembly can be done by gluing, by molecular assembly, by anodic assembly or by fusible beads.
- the additional substrate within which the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be, may optionally be multilayered with a layer of electrically insulating material.
- the additional substrate within which the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may comprise may include a layer of wear resistant material possibly covered with electrically insulating material.
- the method comprises a step of producing signal processing means (for example preamplifiers, multiplexers, demultiplexers) which cooperate with the recording and / or reading means.
- signal processing means for example preamplifiers, multiplexers, demultiplexers
- FIG. 2 shows an example of a recording and / or reading device according to the invention
- FIGS. 3A, 3B, 3C show three other examples of a recording and / or reading device according to the invention.
- FIG. 4 shows another example of a recording and / or read device according to the invention in which the pairs of pole pieces are distributed on either side of an insulating layer of a support;
- FIGS. 5A, 5B show in three dimensions a recording and / or reading device of the prior art and a recording and / or reading device according to the invention
- FIGS. 6A to 6E show steps for producing pairs of pole pieces and rear closing parts of the magnetic circuit of a recording and / or read device according to the invention
- FIGS. 7A to 7E show steps for producing the rest of the magnetic circuit and means for recording and / or reading a recording and / or reading device according to the invention
- Figures 8A, 8B show assembly and finishing steps of the structures of Figures 6D and 7E;
- FIG. 9 illustrates the grouping on the same mechanical support of two groups of magnetic heads, these groups of magnetic heads having the same angle of inclination with respect to the tracks of the magnetic recording medium;
- FIG. 10 shows a recording and / or reading device according to the invention comprising recording heads and read heads placed alternately;
- FIGS. HA to HD show steps for producing pairs of pole pieces of the recording heads of FIG. 10;
- FIGS. 12A to 12D show steps for making the pairs of pole pieces of the read heads of FIG. 10 as well as the assembly and finishing of these pairs of pole pieces to those illustrated in FIG.
- FIGS. 13A and 13B show steps for producing the magnetic circuit and means for recording and / or reading a recording and / or reading device according to the invention
- FIGS. 14A and 14B show assembly and finishing steps of the structure of FIG. 12D to that of FIG. 13B, FIG. 14C showing another variant of a reading device according to the invention
- FIG. 15 shows yet another variant of a device according to the invention.
- This device is intended for recording and / or reading information on tracks 36 carried by a magnetic recording medium 35.
- This magnetic recording medium 35 is represented as a band but other forms would be possible, for example a disk.
- a magnetic head conventionally comprises a magnetic magnetic flux closing circuit terminating on a pair of polar parts separated by a non-magnetic gap.
- This Magnetic circuit may include in addition to pairs of pole pieces a magnetic flux guide.
- the magnetic flux guide is absent and the pairs of pole pieces have a shape suitable for this magnetic flux guide function.
- Recording and / or reading means cooperate with the magnetic circuit, it may be at least one coil which surrounds the magnetic circuit for the inductive recording and / or reading heads or at least one a magnetoresistance for the magnetic reading heads.
- This magnetoresistance can be inserted into the magnetic circuit at an air gap thereof. It can advantageously take the form of a rod made of giant magnetoresistance material GMR (abbreviation Anglo-Saxon Giant Magneto Resistance) or magnetoresistance tunnel TMR effect. In the absence of flux guide, the magnetoresistance cooperates with a pair of pole pieces.
- the device according to the invention comprises several magnetic heads 30.1 to 30.4 which are each represented in FIG. 2 by a pair of pole pieces separated by a non-magnetic air gap.
- the device also comprises at least one support 1000 and the pairs of pole pieces of the magnetic heads 30.1 to 30.4 are distributed one after the other while being aligned on this support 1000.
- two supports 1000, 1001 are shown which are assembled to one another. We can of course consider using more than two brackets assembled after precise positioning.
- the support 1000 is substantially plane, the pairs of pole pieces 30.1 to 30.4 of the magnetic heads rest on a main surface of the support which is substantially flat.
- the device according to the invention comprises at least two parallel supports 1000, 1001 as in FIG. 4, at least one inter-support layer 33 is provided making it possible to separate the levels of pairs of pole pieces by a well-adjusted distance d.
- This distance d is counted between face planes facing polar pieces on two consecutive supports.
- This inter-support layer 33 may advantageously comprise a magnetic shielding to avoid problems of cross-talk between magnetic heads located on different supports. It may also include magnetoresistive reading means.
- the magnetic heads are azimuthed, and on the same support, all pairs of pole pieces have an air gap e which has the same azimuth angle ⁇ between ⁇ 90 ° excluded terminals compared to a normal direction to support 1000.
- an azimuth angle ⁇ zero is perpendicular to the main face of the support 1000 and an azimuth angle ⁇ equal to ⁇ 90 ° would be parallel to the main face of the support 1000.
- the azimuth angle ⁇ is less than or equal to at ⁇ 45 °.
- a magnetic flux guide and / or a magnetoresistive element may rest on a main face of a support 1000, possibly in an insulating layer 33 near the pair of polar parts concerned.
- the functional faces of the pole pieces are the faces perpendicular to the main faces of the initial supports which come into contact with the magnetic recording medium, and which will appear after cutting chips (or blocks) in the support.
- Each magnetic head is intended to cooperate with the magnetic recording medium 35 oriented substantially parallel to the functional faces of the pole pieces and therefore substantially perpendicular to the main face of the support 1000.
- This magnetic medium 35 comprises numerous parallel magnetic recording tracks 36 on which the magnetic heads 30.1 to 30.4 are intended to write or read information in the form of a succession of bits.
- These tracks 36 have a general direction x and have an angle of inclination ⁇ with respect to the main surface of the support 1000 (or with respect to the length of the magnetic heads 30.1 to 30.4).
- the support 1000 has the angle of inclination ⁇ with respect to the tracks 36.
- This inclination angle ⁇ is non-zero and lies between ⁇ 90 °.
- the recording and / or reading device comprises several supports 1000, 1001 assembled, these can have the same angle of inclination ⁇ with respect to the general direction x of the magnetic recording tracks 36.
- This angle of inclination ⁇ can be obtained for example by means of a suitable mechanical machining of the support 1000.
- the tracks 36 may not be joined and be separated by an interpiste 37.
- P denote the width of the pairs of pole pieces 30.1 to 30.4 on the support 1000 and the longitudinal pitch of the gaps of the pairs of polar pieces on the support 1000.
- L be the width of a track 36 and i the width of an interpiste 37 (counted perpendicular to the x direction).
- the width of the tracks registered is given by:
- the magnetic heads dedicated to the reading are preferably magneto-resistor type MR, giant magnetoresistance GMR or magnetoresistance TMR tunnel while the magnetic write heads are preferably inductive magnetic heads. Referring to Figures 3A, 3B, 3C.
- the recording and / or reading device may comprise one or more first blocks B1 of at least one support 45 comprising recording heads (materialized by their pairs of pole pieces 40w and their gap e) and one or more seconds B2 blocks of at least one support 46 comprising reading heads (represented by their pairs of pole pieces 4Or and their gap e), these first and second blocks B1, B2 being placed one after the other in the general direction x of the tracks 47 of the magnetic recording medium 44.
- the interpistes are referenced 41.
- FIG. 3A there is only one first block Bl dedicated to writing (the recording) and it is followed by a single second block B2 dedicated to reading.
- Each of the first and second blocks B1, B2 has as many write heads 4Ow 4Or read that are aligned with each other to cooperate.
- the recording and / or reading device comprises several (two in the example) first blocks B 1 which follow each other in the general direction of the tracks 47 and which are dedicated to writing and several (two in the example) second blocks B2 which follow in the general direction of the tracks 47 and which are dedicated to reading.
- the set of first blocks B1 like the set of second blocks B2, comprises as many write heads 4Ow (respectively as many read heads 4Or) as the magnetic medium 44 comprises tracks 47 which will be written in a single past. This The last configuration allows to increase the recording density by reducing the width of the tracks as well as that of the interpistes without necessarily removing the latter.
- FIG. 3C shows a similar recording and / or reading device capable of writing and reading "double azimuth" tracks 47, that is to say that the azimuth angle of the bits written on the odd tracks starting from the high is ⁇ l- ⁇ l and that of the bits written on the even tracks is ⁇ 2- ⁇ 2.
- This type of device makes it possible to maximize the recording density by allowing a non-zero interphase without crosstalk on reading.
- one of the supports 45 has an inclination angle ⁇ 1 and the other ⁇ 2 which can be different from ⁇ 1.
- the gap of pairs of pole pieces 40w of one of the supports has an azimuth angle ⁇ l and the air gap of the pole pieces 40w of the other support has an azimuth angle ⁇ 2.
- one of the supports 46 has the inclination angle ⁇ 1 and the other ⁇ 2 so that the heads of the block B2 can read the information written by the heads of the block B1.
- the two supports of each block are assembled for example by means of wedges 49 which make it easy to adjust the angles of inclination of each of the supports.
- a magnetic shielding screen 48 may be placed between the first blocks Bl and the second blocks B2.
- Suitable means known to those skilled in the art can be provided for combining the recording and reading functions.
- all the blocks B1, B2 can be made integral by mechanical assembly.
- a recording and reading device called RWW in English read while write is read during recording.
- a write block Bl formed of several recording heads 4Ow placed on at least one support 1000 to a reading block B2 formed of several read heads 4Or placed on at least support 1001.
- the read heads 40r and the recording heads 40w are represented by their pairs of pole pieces and their gap e.
- each block B1 or B2 has only one support 1000 or 1001.
- the supports 1000, 1001 which are initially distinct, are assembled by arranging the space 33 conditioning the distance d inter-pole piece.
- the space 33 may contain a magnetic shield and / or an electrical insulator. It can also contain magnetoresistive reading means. This space 33 makes it possible to parameterize the alignment between the magnetic heads of writing and those of reading by its thickness d.
- the two supports could be one and the same, the magnetic writing heads and the magnetic reading heads would be placed on either side of an insulating layer 33 of the support 63 as illustrated in FIG. 5B.
- the support is multilayer, it may be for example a SOI type substrate (semiconductor on insulator) or more generally an XOI type substrate where X represents a monocrystalline material.
- the pole pieces are on both sides of the insulation layer.
- the outer layers of the common support are comparable to two supports assembled to one another.
- all the azimuth angles ⁇ of the magnetic heads, whether dedicated to writing or to reading, are equal.
- the two supports 1000 and 1001 have the same inclination angle ⁇ .
- An advantage of a recording and / or reading device such as that illustrated in FIG. 4 and in FIGS. 3A, 3B is to facilitate the positioning of the read heads 4Or with respect to the write heads 4Ow.
- An interpiste referenced 41 is kept to take into account possible misalignment problems called tracking or to insert tracks written by another head or another similar device with a different azimuth angle.
- the recording and / or reading device represented is RWW (abbreviation of read while write, ie in which reading is done during writing).
- RWW abbreviation of read while write, ie in which reading is done during writing.
- the magnetic write heads 4Ow and the magnetic reading heads 4Or may have advantageous alignment when the following parameters obey the formula:
- n 1
- d the distance between the reading and writing gaps.
- FIGS. 5A, 5B show in three dimensions, respectively, a conventional recording and / or reading device and according to the invention associated with a magnetic recording medium 64 having substantially parallel linear tracks 61 separated by an interger 62.
- Interperist 62 has a width w0 in Fig. 5A and a width w1 in Fig. 5B.
- Recorded information, taking the form of a succession of bits orthogonal to the tracks, is represented on two of the tracks 61.
- the recording device comprises a succession of magnetic recording and / or reading heads 60 whose pairs of pole pieces are carried on the same substantially plane support 63.
- the magnetic heads 60 are represented in their entirety. They each comprise in addition to a pair of pole pieces 50, 51 separated by the nonmagnetic air gap 52, a magnetic flux guide 53 which magnetically couples the two pole pieces 50, 51 of a pair and recording means and / or reading 54 which cooperate with the magnetic circuit consisting of pole pieces 50, 51 and the magnetic flux guide 53.
- the recording and / or reading means may be inductive or magnetoresistive.
- the recording and / or reading means 54 are inductive and take, for each magnetic head 60, the shape of at least one solenoid which surrounds the magnetic flux guide 53.
- the magnetic circuit is in a plane perpendicular to the support 63, it is substantially horseshoe-shaped and ends at each of its ends by one of the pole pieces 50, 51 of a pair.
- the gap 52 is directed parallel to the plane of the support 63.
- the magnetic recording medium 64 passes in front of the magnetic recording and / or reading heads 60 in the direction indicated by the arrow.
- the plane of the support 63 is substantially perpendicular to the general direction x of the tracks 61.
- the inclination angle ⁇ is equal to 90 °, the angle of inclination ⁇ being the angle between the support and the general direction of the tracks.
- the magnetic flux guide 53 has two legs 53.1, 53.2 magnetically connected on one side to a pole piece 50, 51 and the other to a single rear magnetic piece 53.3 closure.
- the recording and / or reading means 54 take the form of solenoids 54 which cooperate with the legs 53.1, 53.2 of the magnetic flux guide 53.
- a monolithic magnetic circuit structure could be used in a magnetic head of a magnetic resonance device. recording and / or reading according to the invention.
- the support 63 is common for two sets of magnetic heads. They are placed on either side of an insulating layer 33 of the support 63.
- this structure can be likened to a structure having two consecutive supports 63.1, 63.2 forming a common support 63 on which two sets of pairs of polar parts are placed on either side of an electrically insulating layer 33 of the common support 63.
- the magnetic heads are azimuthed, their air gap 52 has an azimuth angle ⁇ counted with respect to a direction normal to the plane of the magnetic circuit (plane of the support 63 in Figure 5B). This azimuth angle is between ⁇ 90 ° excluded.
- the plane of the magnetic circuit (plane of the support 63 in FIG. 5B) is inclined by a non-zero angle ⁇ between ⁇ 90 ° with respect to the general direction x of the tracks 61.
- the structure of FIGS. 2 and 5B can easily lead to closely spaced tracks, that is to say to lesser (wl ⁇ wO) or even zero interpiste widths: to choose the angle of inclination ⁇ sufficiently low.
- the inter-support layer 33 may be composed of an insulator, for example silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), alumina (Al 2 O 3 ), zirconia (ZrO 2 ), silicon carbide (SiC), AlSiC (mixture of alumina and silicon carbide), titanium carbide (TiC), AlTiC (mixture of alumina and titanium carbide) or any other insulator with good resistance to corrosion. 'wear.
- This layer can be made in one or more times, for example by a deposition process using microelectronic equipment or micro or nano technology for example sputtering type (PVD, PECVD ).
- the thickness of an SOI / XOI substrate will be adjusted by the substrate manufacturer by any method of this type of industry.
- the inter layer ⁇ support on one, the other or both supports 1000, 1001 with, for example, chemical-mechanical planarization steps and appropriate surface preparations for subsequent assembly with precise positioning.
- the inter-support distance will then of course be the sum of the thicknesses deposited on each support 1000 and 1001.
- Each of these thicknesses may optionally contain one or more magnetic screens and / or magnetoresistive elements (GMR or more generally XMR) embedded in the insulation 33 (deposited and / or etched by appropriate micro ⁇ technology equipment).
- FIGS. 6A to 6E An exemplary method of producing a recording and / or reading device according to the invention similar to that illustrated in FIG. 5B will now be described with reference to FIGS. 6A to 6E.
- This method is based essentially on the teaching issued by patent applications FR-A-2,664,729 and FR-A-2,745,111 in the name of the applicant.
- the magnetic heads are made collectively, it is assumed in this example that they are inductive heads.
- the magnetic heads are made on substrates, they correspond to the supports that have been described previously.
- the recording and / or reading device comprises two substrates each carrying three magnetic heads.
- SOI substrate silicon on insulator
- Such a substrate consists of an electrically insulating layer 102 sandwiched between two semiconductor layers 101, 103.
- one of the semiconductor layers is thicker than the other.
- Such a semiconductor on insulator substrate is however not mandatory.
- the other outer layer 101 may be made of a material resistant to wear, this material may be neither semiconductor nor monocrystalline. It can be made for example of zirconia ZrO 2 , AlSiC silicon carbide and alumina, AlTiC titanium carbide and alumina, alumina Al 2 O 3 or other. This outer layer 101 is advantageously thicker than that which is monocrystalline.
- At least one of the outer layers is monocrystalline will be used to make engravings conditioning the azimuth angle of the air gaps. So we choose its orientation crystallographic as a function of the desired azimuth angle.
- the pairs of pole pieces 106, 108 of each magnetic head, the gaps e, as well as the rear magnetic closing pieces 55.3 which are parts of the flux guide of the magnetic circuit of each of the magnetic heads of the magnetic head, will first be produced. recording and / or reading device.
- first flared casings 104 to house one of the pole pieces of each pair of pole pieces to be on this first substrate ( Figure 6A).
- This etching is, for example in the case of silicon, an anisotropic wet chemical etching, for example in a KOH potash bath.
- the inclination of one of the flanks of each first caisson conditions the value of the azimuth angle ⁇ .
- This azimuth angle is the same for all air gaps that will be made.
- This inclination takes advantage of the monocrystalline nature of the substrate, the anisotropic etching taking place along a crystallographic plane of the substrate. In silicon, it is the ⁇ 111> family planes that limit the etching edges. These substrates are commercially available. This process is described, for example, in document FR-A-2,664,729.
- the layer of electrically insulating material 102 of the substrate 100 serves as a stop layer during the etching of the first caissons 104.
- the thickness of the semiconducting surface layer 103 of the substrate 100 determines the width of the pole pieces of the pairs on this first support.
- a layer 105 of non-magnetic material, of substantially uniform thickness, is then formed on the flanks of the first caissons 104.
- the first caissons are made of silicon, it is possible to carry out a surface thermal oxidation of the first substrate as well as worked ( Figure 6A).
- the layer 105 of non-magnetic material which lines one of the flanks flared of each of the first boxes 104 will constitute the azimuth gap e of each pairs of polar parts on the substrate 100.
- An electromagnetic material is deposited, for example by electromagnetic material, in the first boxes 104.
- the magnetic material may or may not be laminated, for example an alloy of NiFe, CoFe or CoFeX where X represents a suitable material such as Cr, Cu Or other.
- the surface of the substrate 100 thus worked is planarized so that the oxide is flush and that the magnetic material has the desired thickness
- This magnetic material forms a first pole piece 106 of each pair of pole pieces.
- Isotropic is then etched second boxes 107 to accommodate the other pole piece of each pair of pole pieces to be on the first substrate 100 (Figure 6C).
- These seconds caissons 107 are contiguous with the first caissons 104 and are all on the same side of these first caissons 104. In the example, they are on the left of the first caissons 104. They could be on the right. The angle of azimuth would then be different, it would be another plane of the family ⁇ 111>.
- the monocrystalline material of the surface layer 103 which is close to the air gap e is removed by etching.
- the non-magnetic material of the gap e serves as a flank for these second boxes 107.
- third boxes 128 are located in front of each pair of pole pieces 106, 108.
- FIG. 6E shows in plan view the pairs of pole pieces 106, 108 and the rear magnetic closure pieces 55.3.
- These second boxes 107 and third chambers 128 are filled with magnetic material and are terminated by a planarization step as previously described (FIG. 6D).
- the magnetic material forms the second pole piece 108 of each pair and the rear magnetic piece 55.3 closing.
- This planarization step makes it possible to finally adjust the width P of pairs of pole pieces. It also allows to equalize the surface of the pole pieces of each pair giving them a very good alignment on their upper face (in Figure 6D) their lower face, resting on the insulating layer 102, being already flat and having a very good alignment.
- the recording and / or reading means are solenoids that surround the magnetic circuit at the level of the legs or branches of the horseshoe.
- Figures 7A-7E are sections along a leg of the magnetic circuit.
- a second substrate 130 called additional, with a base layer 131 for example semiconductor covered with a layer of electrically insulating material 132. It could very well use a bulk substrate (in English bulk) for the layer base 131, possibly resistant to wear.
- first parallel grooves 134 directed substantially perpendicular to the axis of the magnetic cores of the solenoids. These cores correspond to the legs 53.1, 53.2 illustrated in FIG. 5B.
- first grooves 134 are filled by depositing, for example by electrolysis, a conductive material 135, for example copper-based (FIG. 7A).
- This conductive material 135 forms conductor portions of the first layer of conductors.
- a planarization is then carried out, for example mechanical or preferably mechano-chemical, to remove the superfluous conductive material 135 located above the grooves 134.
- An electrically insulating layer 136 for example silicon oxide, for example PECVD, is deposited over the entire planarized surface with a thickness greater than that desired for the legs.
- the insulating layer 136 is etched to reveal caissons 133 at the legs of the magnetic circuit that is to be made.
- the bottom of these boxes 133 has a sufficient thickness to electrically isolate the conductors of the first layer of conductors of the magnetic circuit.
- a magnetic material 137 optionally laminated as indicated above for producing the pole pieces ( Figure 7B). The surface obtained is planarized as explained above.
- FIG. 7D then produces a second horizontal layer (in the figure) of solenoid conductors by depositing a layer of electrically insulating material 141 on the surface of the structure obtained, by etching second grooves 142 in this material, the ends of which the lateral conductors 140 thus produced.
- the second grooves 142 are filled with conductive material 143 based on copper deposited for example by electrolysis. Planarize the resulting surface.
- the conductive material 143 forms the conductors of the second conductor ply of the solenoids.
- the conductive material 143 is covered with a layer of electrically insulating material 144. It is intended to make contact resumptions at the ends of the conductor of the solenoids (not visible).
- FIGS. 7C and 7D it has been shown, by showing the boxes 133 in dotted lines, that they are not in the same plane of section as the wells 139. These are just “in front” of the boxes 133, they do not cross the magnetic material 137 which fills the boxes but the material of the insulating layer 136. As for the grooves 134, they are not quite perpendicular to the axis of the boxes 133.
- FIG. 7E illustrates with a scale other than those of FIGS. 7A to 7D and in side view with respect to FIG. 7D the configuration of the second substrate 130 ready to be assembled to the first substrate 100.
- the second substrate 130 may optionally accommodate signal processing means delivered or acquired by the magnetic heads.
- Positioning is aligned and assembles the second substrate 130 of Figure 7E and the first substrate shown in Figure 6D, after turning one of them. Care is taken to magnetic contact the legs of the magnetic circuit on one side with the pairs of pole pieces and the other with a magnetic rear closure part.
- the assembly can be done by any technique known to those skilled in the art in the field of micro-technologies and in particular electromechanical microsystems (MEMS).
- MEMS electromechanical microsystems
- Advantageous assembly methods are bonding with glue, anodic bonding, and direct bonding as described in FR-A-2,774,797 or microbead bonding. (English bail bonding or flip chip bonding).
- the second substrate 130 has been assembled by molecular bonding or other, with alignment, so that the magnetic circuits 137 are magnetically connected each with a pair of pole pieces 106, 108, this connection being made directly.
- the alignment can be done by infrared sighting for example or under X-rays.
- each of the magnetic heads could have been made on the first substrate 100 at the stage of FIG. 6D, following the steps described in FIGS. 7A to 7E.
- a structure obtained in this way would be similar to that of Figure 8B. It is then superfluous to show the various steps leading to such a structure, it is sufficient to refer to the description of FIGS. 7A to 7E, with the difference that the electrically insulating layer 132 will be deposited on the first substrate 100 at the stage of FIG. 6D.
- silicon oxide can be deposited by PECVD.
- the structure obtained in FIG. 8B is then processed so as to give the substrates a given angle of inclination ⁇ with respect to the magnetic tracks of the magnetic recording medium.
- This treatment can consist of an integration of one or more blocks (or chips) of magnetic heads on a common mechanical support.
- a common mechanical support We can refer to Figure 9.
- One or more of these blocks 300, 301 are mounted on the same mechanical support 350. This step is known by the English name of "back-end” or "packaging”.
- the mechanical support 350 will advantageously be made of a material resistant to wear such as for example AlTiC (titanium carbide and alumina) which is commonly used by manufacturers of linear magnetic heads.
- the contour of the mechanical support 350 is then rectified, for example at its faces 351 so that the first substrate 100 can have an angle of inclination. ⁇ desired with respect to the tracks 47 of the magnetic recording medium 44.
- FIG. 8A could be directly corrected before or after the chip blanking in order to reveal the angle of inclination ⁇ , especially if it is small, on the external faces of the substrates 100 and 110. in this case, electrical contact resumption will be advantageously by local etching.
- FIG. 10 A second embodiment of a recording and / or reading device according to the invention will be described, this device is illustrated in FIG. 10. It is a device called in English read while write in which reading is done during writing. This device is particularly interesting because it makes it possible to check the integrity of the data recorded during the recording.
- the device according to the invention comprises first magnetic heads 90 dedicated to writing and second magnetic heads 91 dedicated to reading. These first and second magnetic heads form an alternating succession, that is to say that in the succession a first magnetic head 90 is close to a second magnetic head 91.
- the first pairs of pole pieces ppll, ppl2 of the first magnetic heads 90 are distributed on a substrate 93 and the second pairs of polar parts pp21, pp22 second magnetic heads 91 are distributed on another substrate 94, the two substrates are stacked.
- the first and second magnetic heads 90, 91 are azimutated and they all have the same azimuth angle ⁇ defined as explained above.
- the recording means of the first recording magnetic heads 90 take the form of solenoid sl.l, si.2, whereas the reading means of the second magnetic reading heads 91 are of magnetoresistance type and take the form of minus a bar g, for example GMR material.
- the flow guide cl, c2 of the magnetic circuit of each of the first and second magnetic heads 90, 91 magnetically connects the pole pieces ppll, ppl2, pp21, pp22 of a head 90, 91 respectively.
- This flow guide c1, c2 may comprise two legs jl.l, jl-2, J2.1, j2.2 magnetically connected on one side to a pole piece ppll, ppl2, pp21, pp22 and on the other side to a single magnetic rear piece al, a2 closing.
- the connection between legs J1, J1, J2.1, J2.2 and the pole pieces ppl1, ppl2, pp21, pp22 can be direct or via magnetic pads pl.l, pi. 2 connection depends on the substrate on which are the pole pieces of the magnetic head.
- the flux guide of the magnetic circuit could be monolithic, substantially in the form of a horseshoe or the like of which each end would be magnetically connected to a pole piece.
- first substrate 1000 Starting from a first substrate 1000 with an electrically insulating layer 1002 sandwiched between two outer layers 1001, 1003 of which at least one 1003 is monocrystalline material.
- It may be a semi ⁇ conductive type on-insulator substrate, such as a SOI type substrate. Such a semiconductor on insulator substrate is however not mandatory.
- the other outer layer 1001 may be made of a material resistant to wear, this material may be neither semiconductor nor monocrystalline. It may be made for example of ZrO 2 zirconia, AlSiC (silicon carbide and alumina), AlTiC (titanium carbide and alumina), alumina Al 2 O 3 or other. This outer layer 1001 is advantageously thicker than that which is monocrystalline.
- the first pairs of polar parts ppll, ppl2 of the first magnetic heads 90 will be made.
- the first 1004 single-crystal layers 1003 are etched in the monocrystalline layer to house one of the pole pieces of each first pair of pole pieces to be on this first substrate. 1000 ( Figure HA).
- the thickness and the crystallographic orientation of the monocrystalline layer 1003 are chosen to give the first pole pieces the desired thickness and the desired azimuth angle. This etching is an anisotropic etching similar to that described in FIG. 6A, which is why it is not described any more.
- a layer 1005 of non-magnetic material is then formed, for example by surface thermal oxidation of the first substrate 1000 as well as worked ( Figure HA) when its layer 1003 is silicon.
- the substrate 1000 may be formed of the silicon layer 1003.
- the layer 1005 of non-magnetic material which lines one of the flanks flared of each of the first caissons will constitute the air gap azimuth e of each of the first pair of polar pieces that will be on this substrate 1000.
- the magnetic material may be, for example, an alloy of NiFe, CoFe or CoFeX where X represents a suitable material such as Cr, Cu Or other.
- the surface of the substrate 1000 thus worked is optionally planarized so that the oxide is flush and that the magnetic material has the desired thickness (Figure HB).
- This magnetic material forms a first pole piece ppll of each first pair of pole pieces.
- Isotropic is then etched second boxes 1007 to accommodate the other pole piece ppl2 of each first pair of pole pieces to be on the first substrate 1000 ( Figure HC).
- These second boxes 1007 are contiguous to the first boxes 1004 and are all on the same side of these first boxes 1004. In the example, they are on the right of the first boxes 1004. They could be on the left.
- the monocrystalline material of the outer layer 1003 which is close to the gap e is removed by etching.
- the non-magnetic material of the air gap serves flank to these second boxes 1007.
- the depth of these second boxes is substantially the same as that of the first boxes because of the insulating layer 1002 which serves as a barrier layer.
- These second boxes 1007 are filled with magnetic material, laminated or not, by electrolysis and a planarization step is completed as described above (FIG. HD).
- This magnetic material forms a second pole piece ppl2 of each first pair of pole pieces.
- This planarization step makes it possible to finally adjust the width of the pole pieces and to align their edges.
- FIG. 12A Starting from a second substrate 1100 having an insulating layer 1120 buried between two outer layers 1110, 1130 at least one of which is monocrystalline (for example an SOI substrate).
- monocrystalline for example an SOI substrate.
- anisotropic etching is carried out of the first boxes 1140 which are filled with magnetic material (laminated or not) by providing a step of forming a layer of non-magnetic material, (for example by superficial thermal oxidation in the case of silicon), before filling and planarization as described in Figures HA and HB.
- the nonmagnetic material layer has the reference 1150 and one of the second polar parts the reference pp22. The portion of material non-magnetic 1150 on one of the flanks of the first caissons 1140 will form the gap e second pairs of polar parts.
- Second boxes 1170 are made by isotropic etching as described in FIG.
- the second caissons 1170 adjoin the first caissons 1140 and are all on the same side of these first caissons 1140. In the example, they are on the right of the first caissons 1140 as explained previously in the realization of the first pairs of polar parts on the first substrate 1000. They could be on the left, it depends in particular on the relative movement that is desired to perform during the reversal of one of the substrates relative to the other at the time of assembly.
- the position of the second boxes 1170 also depends on the final azimuth angle of pairs of pole pieces located on the second substrate. His sign can thus change during the subsequent step of assembling the first substrate to the second substrate.
- pairs of third boxes 1180 can be made at the same time, between the groups of first and second boxes 1140, 1170, intended to house the pairs of magnetic connection pads pl.l, pi.2 each intended to magnetically connect the pole pieces. ppll, ppl2 of the first pairs of pole pieces located on the first substrate 1000 to the magnetic circuit finalized later.
- These third boxes 1180 are positioned so that the magnetic pads of a pair are magnetically connected to the pole pieces ppll, ppl2 a first pair of pole pieces when the first substrate 1000 and the second substrate 1100 are assembled to each other after turning one of them.
- a rotation of 180 ° about an axis transverse to the substrate may optionally be introduced so that the desired azimuth angles on the two substrates are obtained.
- fourth rear boxes 1210 intended to house the rear closure magnetic pieces al, a2 which are parts of the magnetic circuit of each of the first and second magnetic heads of the recording device and / or reading. These rear parts are visible in Figure 12B which is a view from above. These fourth boxes 1210 are positioned so that the closing rear magnetic parts al, a2 are opposite first and second pairs of pole pieces ppll, ppl2, pp21, pp22. They are at the same level as the second pairs of polar pieces pp21, pp22 but not at the same level as the first pairs of polar pieces ppll, ppl2.
- FIG. 12B shows in partial top view pairs of magnetic pads pl.l, pi.2 and closing magnetic rear parts al, a2.
- the realization of these fourth boxes 1210 takes all its importance when the magnetic circuit has two magnetic legs and a magnetic rear closing part. This step is superfluous when the magnetic circuit is monolithic.
- These second caissons 1170, third caissons 1180 and fourth caissons 1210 are filled with magnetic material (laminated or not) as described in FIG. HD and a planarization of the surface is carried out. The magnetic material will form in the end on the one hand the second pole pieces pp21 second pairs of pole pieces and secondly the connection pads pl.l, pi.2.
- the azimuth angle of the air gaps e of the first and second pairs of pole pieces has been suitably adjusted. These azimuth angles will be equal at the moment of their realization since in the final after assembly of the substrates 1000 and 1100, the azimuth angles must be equal and of the same sign. It has also been desired to adjust the width of the pole pieces which is not necessarily equal from one substrate to another. Magnetic reading heads often read only part of the written track.
- an insulating layer 500 for example of silicon oxide
- a shielding layer magnetic it is advantageous before resorting to the assembly of the two substrates, to deposit on the surface of at least one of the substrates 1000, 1100, an insulating layer 500 (for example of silicon oxide) and / or a shielding layer magnetic and prepare the surface to adjust the inter-piece polar distance.
- This layer 500 also makes it possible to optimize the assembly of the substrates.
- the material of the insulating layer may advantageously be in a material resistant to wear so as to limit the wear of the recording device and / or reading. His choice may also facilitate the assembly of substrates. It will be possible advantageously to leave apertures in the shielding layer 500 at the magnetic pads pl.l, pi.2, that the shielding layer is located on one and / or the other of the substrates.
- the insulating layer 500 on the read head side may also contain magnetoresistive reading means, which is particularly advantageous for the magnetoresistive bars (MR, GMR) directly coupled to the pole pieces. They are shown in Figure 14C.
- first substrate 1000 and the second substrate 1100 by their worked faces, after turning one of them. Care is taken to align each magnetic pad pl.l, pi.2 with a pole piece ppll, ppl2 of the first substrate. This alignment can be done by infrared sighting, for example or under X-rays.
- the reversal of one of the substrates 1000 or 1100 can cause the sign change of the azimuth angle of the pairs of polar pieces that are on this substrate. . It depends on how you do it. If there is both reversal and 180 ° rotation of the substrate around a transverse axis there will be sign change.
- the assembly can be done by any technique used in micro-technologies known to those skilled in the art or by molecular assembly as described in the first embodiment.
- Another particularly interesting method of assembly is the assembly by conductive fusible beads (English flip chip bonding).
- the figure 12C schematically illustrates the two substrates 1000, 1100 as shown in Figures 10D and HA respectively about to be assembled by beads 230 fusible alloy.
- the untreated layer 1110 can then be removed from the second substrate 1001. This removal can be carried out selectively, for example by etching with, for example, potassium hydroxide KOH or by chemical mechanical etching with stopping on the buried insulating layer. 112 ( Figure 12D). If necessary, it may be necessary to thin the buried insulating layer 1120 to reveal or almost appear the second pair of polar pieces pp21, pp22 and the pairs of magnetic pads pl.l, pi.2.
- the embodiment of the legs and solenoids is similar to what has been described in FIGS. 7A-7E, which is why it is not fully described again.
- a third substrate 1300 (called additional substrate) with a base layer 1310 (for example semiconductive or resistant to wear) covered with a layer of electrically insulating material 1320.
- additional substrate a third substrate 1300 (called additional substrate) with a base layer 1310 (for example semiconductive or resistant to wear) covered with a layer of electrically insulating material 1320.
- the procedure is as described in FIGS. 7 and 7C. However, the engravings of the boxes to accommodate the conductors 134, 139 are not carried out at the locations where the legs 137 are to cooperate with the bars g of material GMR.
- an air gap is made by any known means of the state of the art, for example by producing two adjacent sub-boxes 133 'instead of one in the insulating layer 136. These sub-boxes are illustrated in Figure 13A.
- the deposition of the insulating layer 138 of FIG. 7C will be done in several steps.
- a thin insulator layer 138a (typically a few nanometers) is deposited on the planarized surface, for example by spraying.
- a layer of GMR material is then deposited. We engrave this layer where we want remove GMR material.
- the remaining GMR material is referenced g. It can be a dry etching for example.
- Another insulating sub-layer 138b is then deposited to complete the layer 138.
- the solenoid coils can be continued as described in FIGS. 7C, 7D. It is not necessary to describe these steps.
- the bars g of material GMR could be made under the legs j2.2.
- FIG. 13B shows, in the manner of FIG. 7E, the third substrate 1300 with a base layer 1310 (for example semiconducting) covered with a layer of electrically insulating material 1320 supporting the magnetic legs jl.l , J1.2, J2.1, J2.2, the solenoids s11, sl2 and the bars g made of GMR material.
- a base layer 1310 for example semiconducting
- a layer of electrically insulating material 1320 supporting the magnetic legs jl.l , J1.2, J2.1, J2.2, the solenoids s11, sl2 and the bars g made of GMR material.
- Figure 14A is positioned with alignment and assembles the third substrate 1300 and the structure shown in Figure 12D, after turning one of them.
- the assembly can be done by one of the methods described above.
- the insulating layer 1120 may be partially or completely removed.
- the layers 1120 and 1320 being of the same nature, it is not necessarily beneficial to eliminate the layer 1120 because it may be useful for molecular bonding. Chemical mechanical polishing can remove some of it.
- the third substrate 1300 has been assembled by molecular bonding or the like with alignment.
- the magnetic circuits jl.l, jl.2 are magnetically connected each with a pair of polar pieces ppll, ppl2 via a pad magnetic pl.l, pi.2 and both with a magnetic closure part al.
- the magnetic circuits J2.1, J2.2 are magnetically connected each with a pair of pole pieces pp21, pp22 and both with a magnetic closure piece. It remains only to partially or completely eliminate the base layer 1310 of the third substrate 1300 (FIG. 14B), for example by selective etching of the semiconductor material with a stop on the insulating layer 1320.
- FIG. 13A and FIGS. 13B and 14A, 14B are sections made in different planes, for this reason the air gap eg is visible only in FIG. 13A.
- FIG. 14C illustrates another example of a recording and reading device according to the invention derived from the example of FIGS. 14A, 14B.
- the first pairs of polar pieces ppll, ppl2 are dedicated to reading and the second pairs of polar pieces pp21, pp22 are dedicated to the recording.
- the layer 500 inserted between the first substrate 1000 and the second substrate 1100 contains a magnetic shielding screen 600.
- magneto-resistive reading means g cooperate with the first pairs of polar pieces ppll, ppl2. They take the form of bars of material MR or GMR for example and are located in the layer 500, on the side of the first substrate 1000 relative to the shielding screen 600.
- Magnetic circuits J2.1, J2.2 similar to those described in Figures 7 are magnetically connected to the second pair of polar parts pp21, pp22. They are located in the insulating layer 1320 of the third substrate 1300. Recording means s2.1, s2.2 inductive type similar to those described in Figures 7 cooperate with the second pairs of polar parts pp21, pp22. They are also located in the insulating layer 1320 of the third substrate 1300.
- the magnetic connection pads pl.l, pi.2 are absent.
- Signal processing means 302 for example preamplifier circuits, multiplexers, demultiplexers, cooperate with reading means g and / or recording s2.1, s2.2. They are made in a substrate 400 which overcomes the third substrate 1300 or in a layer of the third substrate 1300 if it is multilayered. They could be mounted on the surface of the third substrate 1300. They are positioned and aligned with the reading means and the recording means. They are electrically connected to the reading and recording means via connection via 303 which pass through the third and second substrates 1300 and 1100. It is understood that such signal processing means would cooperate with reading means in the case of a read-only device or with recording means in the case of a recording device alone.
- first pairs of pole pieces 1060, 1080 are made on a first substrate 1500, for example as described in FIGS. 6A to 6D.
- a second substrate 1800 is made of first flux guides 21, 21 of magnetic circuits (at least partially) and first recording and / or read means sl.l, if. 2 as described for example in Figures 7 or 13A.
- Positioning is aligned and the first substrate 1500 and the second substrate 1800 are assembled after turning one of them so that each of the first magnetic flux guides 21 is connected magnetically with a first pair of polar pieces 1060, 1080.
- a second substrate 1600, second pairs of pole pieces 1160, 1190 and, on a fourth substrate 1700 (so-called additional substrate), second magnetic flux guides J2.1, j2.2 and second means of diffusion are produced in the same way on a third substrate 1600. recording and / or reading s2.1, s2.2. We position with alignment and assemble the third substrate 1600 and the fourth substrate 1700, after turning one of them so that each of the first magnetic flux guides J2.1, j2.2 is magnetically connected to one of the first pairs of pole pieces 1160, 1190.
- the unworked layer 1510, 1610 and the dielectric material layer 1520, 1620 (at least partially) of the first substrate 1500 and the third substrate 1600 are eliminated.
- At least one layer of insulating material 500 is deposited on the faces carrying the pairs of pole pieces of the two previously obtained structures.
- This layer can contain a shielding screen
- Repetitions of electrical contacts (not shown) of the recording and / or reading means can be done using an intra-connection technology or for example by local etching (dry or wet).
Landscapes
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- Manufacturing & Machinery (AREA)
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Abstract
The invention relates to a recording and/or playback device of a magnetic recording medium (35) with magnetic tracks (36), comprising numerous magnetic heads (30.1 to 30.4) which each consist of a pair of pole pieces that are separated by a non-magnetic gap (e). According to the invention, the pairs of pole pieces are grouped together on at least one medium (1000) having a non-zero angle of inclination (?) of between ± 90° in relation to the tracks. Moreover, all of the gaps (e) in the pairs of pole pieces of the medium (1000) have the same azimuth angle (a) of between ± 90°, terminals excluded, in relation to an axis normal to the medium (1000).
Description
DISPOSITIF D'ENREGISTREMENT ET/OU DE LECTtJRE A TETES MAGNETIQtJES MULTIPLES A ENTREFERS AZIMUTES RECORDING AND / OR PLAYING DEVICE WITH MULTIPLE MAGNETIC HEADS WITH AZIMUTES
DESCRIPTIONDESCRIPTION
DOMAINE TECHNIQUETECHNICAL AREA
La présente invention a pour objet un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture à têtes magnétiques multiples à entrefers azimutés ainsi qu'un procédé de réalisation d'un tel dispositif.The subject of the present invention is a device for recording and / or reading with multiple magnetic heads with azimuth gaps as well as a method for producing such a device.
Ce dispositif à têtes magnétiques multiples trouve son application dans l'enregistrement magnétique et/ou la lecture de données sur tout support d'enregistrement qu'il soit magnétique ou magnéto- optique et plus particulièrement sur bande magnétique. Par la suite, on a employé le terme support magnétique et cela englobe les supports magnétiques et les supports magnéto-optiques. De la même manière, lorsqu'on parle de pistes magnétiques cela englobe les pistes d'un support magnétique et celles d'un support magnéto-optique.This device with multiple magnetic heads finds its application in the magnetic recording and / or reading of data on any recording medium that is magnetic or magneto-optical and more particularly on magnetic tape. Subsequently, the term magnetic medium has been used and this includes magnetic media and magneto-optical media. In the same way, when we speak of magnetic tracks it includes the tracks of a magnetic medium and those of a magneto-optical medium.
ÉTAT DE LA TECHNIQUE ANTERIEURESTATE OF THE PRIOR ART
Rappelons que la bande magnétique est le support d'informations le plus adapté aujourd'hui pour le stockage compact de grandes quantités d'informations, typiquement de l'ordre du téraoctet (1 téraoctet = 632 octets = 8 632 bits) et au-delà. Les applications finales du stockage sur bande magnétique sont typiquement l'archivage et la sauvegarde de données informatiques ou plus généralement numériques. Ces données peuvent être par exemple celles de bases de
données, de films numérisés, de l'audio ou des fichiers informatiques provenant souvent d' ordinateurs ou d'appareils numériques comme les caméscopes, magnétoscopes ou serveurs. Ces données sont souvent appelées « multimédia » et ont une origine industrielle, professionnelle ou grand public.Recall that the magnetic tape is the information carrier most suitable today for the compact storage of large amounts of information, typically of the order of a terabyte (1 terabyte = 63 2 bytes = 8 63 2 bits) and -of the. The end applications of tape storage are typically the archiving and backup of computer or more generally digital data. These data can be for example those of bases of data, digitized films, audio or computer files often from computers or digital devices such as camcorders, VCRs or servers. These data are often called "multimedia" and have an industrial, professional or consumer background.
Parmi les différents types d'enregistrements sur support magnétique, nous pouvons citer :Among the different types of recordings on magnetic media, we can mention:
- l'enregistrement linéaire dans lequel un ensemble fixe de têtes magnétiques multiples écrit et lit plusieurs pistes magnétiques en parallèle sur une bande magnétique défilant linéairement,the linear recording in which a fixed set of multiple magnetic heads writes and reads several magnetic tracks in parallel on a linearly moving magnetic tape,
- l'enregistrement hélicoïdal dans lequel une ou plusieurs paires de têtes magnétiques, montées sur un tambour cylindrique tournant à grande vitesse, écrivent et lisent des pistes magnétiques en forme de portions d'hélices sur une bande magnétique défilant lentement en s' enroulant et glissant autour du tambour,the helical registration in which one or more pairs of magnetic heads, mounted on a cylindrical drum rotating at high speed, write and read magnetic tracks in the form of portions of helices on a magnetic tape slowly scrolling while winding and sliding around the drum,
- l'enregistrement magnéto-optique dans lequel un ensemble de têtes magnétiques écrit des pistes sur un support, la lecture étant assurée par un faisceau laser détectant directement ou indirectement, par effet Kerr ou Faraday, l'aimantation des bits préalablement écrits.- The magneto-optical recording in which a set of magnetic heads writes tracks on a support, the reading being provided by a laser beam detecting directly or indirectly, by Kerr or Faraday effect, the magnetization of previously written bits.
L'invention peut s'appliquer à l'enregistrement linéaire, à l'enregistrement hélicoïdal ou à l'enregistrement magnéto-optique.The invention can be applied to linear recording, helical recording or magneto-optical recording.
La figure 1 donne une représentation schématique d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture de l'art antérieur. Une barrette 1 de têtes
magnétiques 3 espacées d'un pas D est disposée le long d'une génératrice d'un support 2 cylindrique fixe (tambour) . Chaque tête magnétique 3 comporte deux pièces polaires 3.1, 3.2 séparées par un entrefer 3.3 amagnétique. Par la suite, quand on va parler de l'entrefer d'une paire de pièces polaires il s'agit de l'entrefer séparant deux pièces polaires d'une paire. Le support magnétique d'enregistrement 4 à lire ou à enregistrer se déplace linéairement à proximité de la barrette 1. Ce type d'enregistreur a l'avantage d'être relativement simple mécaniquement (têtes magnétiques fixes ou faiblement mobiles) et permet, grâce à ses têtes magnétiques multiples, des débits de données élevés .FIG. 1 gives a schematic representation of a recording and / or reading device of the prior art. A bar 1 of heads magnetic spacers 3 spaced apart by a pitch D is arranged along a generatrix of a fixed cylindrical support 2 (drum). Each magnetic head 3 comprises two pole pieces 3.1, 3.2 separated by a gap 3.3 non-magnetic. Subsequently, when we talk about the air gap of a pair of polar parts it is the air gap between two polar parts of a pair. The magnetic recording medium 4 to be read or recorded moves linearly close to the bar 1. This type of recorder has the advantage of being relatively simple mechanically (fixed or weakly moving magnetic heads) and allows, thanks to its multiple magnetic heads, high data rates.
Cependant, il n'est pas optimum en terme de densité d'enregistrement. Le fait d'avoir un pas D entre têtes magnétiques 3 relativement important dans la configuration standard à cause de l'encombrement du circuit magnétique et des moyens d'enregistrement et/ou de lecture oblige :However, it is not optimum in terms of recording density. The fact of having a pitch D between magnetic heads 3 relatively large in the standard configuration because of the bulk of the magnetic circuit and the recording means and / or reading requires:
- d'une part à avoir un enregistrement en « serpentin », c'est-à-dire un nombre important d'allers-retours pour enregistrer l'ensemble du support magnétique 4 avec des pistes 5 dont le pas T' est plus petit que le pas D,on the one hand to have a "serpentine" recording, that is to say a large number of round trips to record the whole of the magnetic medium 4 with tracks 5 whose pitch T 'is smaller that step D,
- d'autre part, compte tenu des problèmes de suivi de piste 5 et des écarts de températures possibles, d'avoir un espace 6 entre pistes 5 (dit interpiste) important, d'où une perte de place.- On the other hand, given the problems of tracking 5 and possible temperature differences, to have a space 6 between tracks 5 (said intergrator) important, resulting in a loss of space.
De plus, les pistes 5 enregistrées en une seule passe étant à relativement grande distance, la
lecture simultanée de ces pistes 5 relativement espacées est pénalisée par la flexibilité mécanique du support magnétique d'enregistrement 4 qui peut provoquer des erreurs de lecture liées au mauvais alignement des bits de ces pistes.In addition, the tracks 5 recorded in a single pass being relatively long distance, the simultaneous reading of these relatively spaced tracks is penalized by the mechanical flexibility of the magnetic recording medium 4 which can cause read errors due to misalignment of the bits of these tracks.
On connaît dans le brevet US-A-5 452 165 un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture d'un support magnétique avec des pistes magnétiques. Plusieurs paires de pièces polaires sont portées par un même support. Deux paires de pièces polaires successives quelconques possèdent des angles d'azimut non nuls, égaux et opposés, et compris entre ± 90° bornes exclues. Le support présente un angle d'inclinaison donné (non nul et différent de 90°) par rapport aux pistes. De plus les largeurs des pistes ne sont pas égales, ce qui fait que les signaux électriques enregistrés sur des pistes successives ont des amplitudes différentes. Des erreurs de lecture peuvent intervenir.US Pat. No. 5,452,165 discloses a device for recording and / or reading a magnetic medium with magnetic tracks. Several pairs of pole pieces are carried by the same support. Any two pairs of successive polar pieces have non-zero, equal and opposite azimuth angles, and between ± 90 ° excluded. The support has a given angle of inclination (non-zero and different from 90 °) with respect to the tracks. In addition, the widths of the tracks are not equal, so that the electrical signals recorded on successive tracks have different amplitudes. Reading errors may occur.
La méthode proposée dans ce brevet, pour réaliser l'angle d'azimut ne permet pas une définition et une reproductibilité parfaites de cet angle, ce qui sera réalisé par la présente invention.The method proposed in this patent, to achieve the azimuth angle does not allow a perfect definition and reproducibility of this angle, which will be achieved by the present invention.
On connaît également dans la demande de brevet FR-A-2 774 797 un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture à têtes magnétiques multiples azimutées. Ce dispositif comporte plusieurs supports assemblés sur lesquels sont réparties des têtes magnétiques. Ce dispositif ne prévoit pas que les supports aient un angle d'inclinaison par rapport aux pistes. Il ne permet donc pas de réaliser des têtes
magnétiques « massivement parallèles », la réalisation de têtes magnétiques pour lire ou écrire n pistes demandant n supports assemblés, ce qui limite en pratique n à 2, 3 ou 4 pour des raisons de rendement. Les contraintes lors des assemblages conduisent à une fragilisation du dispositif d'enregistrement et/ou de lecture.Patent application FR-A-2 774 797 also discloses a recording and / or reading device with multiple azimuth magnetic heads. This device comprises several assembled supports on which are distributed magnetic heads. This device does not provide that the supports have an angle of inclination with respect to the tracks. It does not therefore make heads magnetic "massively parallel", the realization of magnetic heads to read or write n tracks requiring n supports assembled, which limits in practice n to 2, 3 or 4 for reasons of efficiency. The constraints during the assemblies lead to a weakening of the recording and / or reading device.
Ce dispositif ne prévoit pas non plus de têtes magnétiques coopérant avec des pistes se chevauchant, comme on le fait aujourd'hui dans l'industrie, car la distance, normale aux supports, entre deux paires de pièces polaires appartenant à deux supports consécutifs est supérieure ou égale à zéro. Cette configuration ne permet pas au dispositif d'enregistrement et/ou de lecture de s'adapter à des normes d'enregistrement variées.This device also does not provide magnetic heads cooperating with overlapping tracks, as is done today in industry, because the distance, normal to the supports between two pairs of pole pieces belonging to two consecutive supports is greater or equal to zero. This configuration does not allow the recording and / or playback device to adapt to various recording standards.
EXPOSÉ DE I/ INVENTIONSTATEMENT OF I / INVENTION
La présente invention a justement comme but de proposer un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture à têtes magnétiques multiples qui ne présente pas les inconvénients mentionnés ci-dessus.The object of the present invention is precisely to propose a recording and / or reading device with multiple magnetic heads which does not have the drawbacks mentioned above.
Un but de l'invention est de réaliser des enregistrements et/ou des lectures du support magnétique d'enregistrement en un nombre de passes limité du fait du haut degré de parallélisme des têtes magnétiques multiples du dispositif.An object of the invention is to perform recordings and / or readings of the magnetic recording medium in a limited number of passes due to the high degree of parallelism of the multiple magnetic heads of the device.
Un autre but de l'invention est d'obtenir une bonne précision d' alignement des têtes magnétiques par rapport aux pistes pour s'affranchir des problèmes rencontrés lors de la lecture ainsi qu'une bonne
précision pour la réalisation industrielle en production de masse de l'angle d'azimut et de la largeur des pièces polaires qui conditionnent enregistrement et lecture sur des pistes magnétiques de largeur et positionnement précis.Another object of the invention is to obtain a good accuracy of alignment of the magnetic heads with respect to the tracks to overcome the problems encountered during the reading as well as a good precision for industrial production in mass production of the azimuth angle and the width of the pole pieces which condition recording and reading on magnetic tracks of width and precise positioning.
Encore un autre but de l'invention est d'augmenter les densités d'enregistrement en diminuant les largeurs de pistes et d' interpistes .Yet another object of the invention is to increase the recording densities by decreasing the widths of tracks and interpistes.
Un but supplémentaire de l'invention est de faciliter le suivi des pistes du support magnétique d' enregistrement .A further object of the invention is to facilitate track tracking of the magnetic recording medium.
Le procédé de fabrication permet un meilleur contrôle des paramètres clés du dispositif d'enregistrement et/ou de lecture en production de masse par rapport aux procédé existants.The manufacturing method allows better control of the key parameters of the recording and / or reading device in mass production compared to existing methods.
Il permet donc notamment d' augmenter le nombre de têtes magnétiques pouvant fonctionner en parallèle et de les produire à un coût compétitif avec de bons rendements.It thus makes it possible in particular to increase the number of magnetic heads that can operate in parallel and to produce them at a competitive cost with good yields.
Pour y parvenir la présente invention concerne un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture d'un support magnétique avec des pistes magnétiques. Il comporte plusieurs têtes magnétiques comprenant chacune une paire de pièces polaires séparées par un entrefer amagnétique. Ces paires de pièces polaires sont regroupées sur au moins un support présentant un angle d'inclinaison non nul, compris entre ± 90° par rapport aux pistes, tous les entrefers des paires de pièces polaires du support présentant un même angle d'azimut compris entre ± 90° bornes exclues par rapport à une direction normale au support.
II est avantageux que le dispositif comporte au moins deux supports consécutifs définissant, lorsqu'ils sont parallèles, une distance d inter-pièce polaire entre des plans de faces en regard de pièces polaires situées sur les deux supports consécutifs .To achieve this, the present invention relates to a device for recording and / or reading a magnetic medium with magnetic tracks. It comprises several magnetic heads each comprising a pair of pole pieces separated by a nonmagnetic air gap. These pairs of pole pieces are grouped on at least one support having a non-zero angle of inclination, between ± 90 ° with respect to the tracks, all the air gaps of the pairs of pole pieces of the support having the same azimuth angle between ± 90 ° limits excluded in relation to a direction normal to the support. It is advantageous for the device to comprise at least two consecutive supports defining, when they are parallel, a polar inter-piece spacing between face planes facing polar parts situated on the two consecutive supports.
Cette distance d inter-pièce polaire est telle que P + d = (D + nT) .tg(θ) avec θ angle d'inclinaison des supports par rapport aux pistes, T pas longitudinal des entrefers des paires de pièces polaires placées sur un même support, D décalage longitudinal par rapport aux supports entre deux paires de pièces polaires consécutives placées sur deux supports consécutifs, P largeur des pièces polaires et n nombre entier.This polar inter-piece distance is such that P + d = (D + nT) .tg (θ) with θ angle of inclination of the supports relative to the tracks, T longitudinal pitch of the gaps of the pairs of polar pieces placed on a same support, D longitudinal shift relative to the supports between two pairs of consecutive pole pieces placed on two consecutive supports, P width of the pole pieces and n integer.
Un blindage magnétique et/ou des moyens de lecture magnétorésistifs peuvent être placés entre les deux supports dans un espace correspondant à la distance inter-pièce polaire.Magnetic shielding and / or magnetoresistive reading means may be placed between the two supports in a space corresponding to the inter-piece polar distance.
Dans une variante qui permet que les bits des signaux inscrits soient orthogonaux aux pistes, l'angle d'azimut et l'angle d'inclinaison sont égaux en module ou en valeur absolue.In a variant that allows the bits of the inscribed signals to be orthogonal to the tracks, the azimuth angle and the inclination angle are equal in module or in absolute value.
Dans un autre mode de réalisation l'angle d'azimut et l'angle d'inclinaison sont différents, ce qui permet d'enregistrer et/ou de lire des bits azimutés sur le support magnétique.In another embodiment, the azimuth angle and the tilt angle are different, which makes it possible to record and / or read azimuth bits on the magnetic medium.
Lorsque le dispositif comporte plusieurs supports, ces derniers peuvent être superposés.
Lorsqu'il comporte au moins deux supports consécutifs, ils peuvent avoir des angles d'inclinaison différents .When the device comprises several supports, the latter can be superimposed. When it comprises at least two consecutive supports, they can have different angles of inclination.
Les angles d'azimut des entrefers des paires de pièces polaires de l'un des supports peuvent alors être différents des angles d'azimut des paires de pièces polaires de l'autre support.The azimuth angles of the air gaps of the pair of pole pieces of one of the supports may then be different from the azimuth angles of the pairs of pole pieces of the other support.
De manière avantageuse, deux paires de pièces polaires appartenant à des supports différents, par exemple consécutifs, coopèrent avec deux pistes magnétiques consécutives pour les lire ou les enregistrer.Advantageously, two pairs of pole pieces belonging to different media, for example consecutive, cooperate with two consecutive magnetic tracks for reading or recording.
Le dispositif peut comporter au moins un bloc d'au moins un support pour l'enregistrement et au moins un bloc d'au moins un support pour la lecture, ces blocs étant disposés à la suite l'un de l'autre dans le sens des pistes.The device may comprise at least one block of at least one support for recording and at least one block of at least one support for reading, these blocks being arranged one after the other in the direction tracks.
En variante, le dispositif peut comporter au moins un bloc d'un ou plusieurs supports pour l'enregistrement et au moins un bloc d'un ou plusieurs supports pour la lecture, les supports de ces blocs étant solidarisés les uns aux autres.Alternatively, the device may comprise at least one block of one or more media for recording and at least one block of one or more media for reading, the supports of these blocks being secured to each other.
Chaque piste peut être enregistrée et lue respectivement par une paire de pièces polaires, la paire de pièces polaires pour l'enregistrement et la paire de pièces polaires pour la lecture appartenant à des supports différents.Each track can be recorded and read respectively by a pair of pole pieces, the pair of pole pieces for recording and the pair of pole pieces for playback belonging to different media.
Pour éviter des risques de diaphonie, un bloc pour la lecture peut être séparé d'un bloc pour l'enregistrement par un écran de blindage.
Le dispositif comporte, pour chaque tête magnétique, un circuit magnétique intégrant une paire de pièces polaires et éventuellement un guide de flux magnétique, ce circuit magnétique coopérant avec des moyens d'enregistrement et/ou de lecture. Dans ce contexte, un guide de flux magnétique peut comprendre plusieurs parties : le noyau d'un bobinage solénoïde, des plots, une pièce magnétique arrière, un guide de flux de capteur magnétorésistif.To avoid the risk of crosstalk, a block for reading can be separated from a block for recording by a shielding screen. The device comprises, for each magnetic head, a magnetic circuit incorporating a pair of pole pieces and possibly a magnetic flux guide, this magnetic circuit cooperating with recording and / or reading means. In this context, a magnetic flux guide may comprise several parts: the core of a solenoid winding, pads, a rear magnetic piece, a magnetoresistive sensor flux guide.
Les moyens d'enregistrement et/ou de lecture peuvent être inductifs ou magnétorésistifs .The recording and / or reading means may be inductive or magnetoresistive.
Des moyens de traitement du signal peuvent coopérer avec les moyens d'enregistrement et/ou de lecture.Signal processing means may cooperate with the recording and / or reading means.
La présente invention concerne également un procédé de réalisation d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture sur un support magnétique d'enregistrement à pistes magnétiques qui comporte les étapes suivantes : sur au moins un substrat réalisation de plusieurs paires de pièces polaires de têtes magnétiques, ces pièces polaires étant séparées par un entrefer amagnétique, les entrefers de ces paires de pièces polaires présentant tous un même angle d'azimut, compris entre ± 90° bornes exclues par rapport à une direction normale au substrat ; réalisation de moyens d'enregistrement et/ou de lecture et éventuellement de guides de flux magnétiques aptes à coopérer chacun avec une paire de pièces polaires ;
traitement du substrat pour lui donner un angle d'inclinaison non nul compris entre ± 90° par rapport aux pistes magnétiques.The present invention also relates to a method for producing a recording and / or reading device on a magnetic strip recording magnetic medium which comprises the following steps: on at least one substrate forming several pairs of polar pieces of magnetic heads, these pole pieces being separated by a nonmagnetic air gap, the air gaps of these pairs of pole pieces all having the same azimuth angle, between ± 90 ° excluded terminals relative to a normal direction to the substrate; production of recording and / or reading means and possibly magnetic flux guides able to cooperate each with a pair of pole pieces; treatment of the substrate to give it a non-zero angle of inclination between ± 90 ° with respect to the magnetic tracks.
Les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique peuvent être réalisés sur au moins un substrat additionnel qui est assemblé après positionnement avec le substrat portant les paires de pièces polaires.The recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be made on at least one additional substrate which is assembled after positioning with the substrate carrying the pairs of pole pieces.
En variante, les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique peuvent être réalisés sur le substrat portant les paires de pièces polaires.As a variant, the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be made on the substrate carrying the pairs of pole pieces.
Le traitement peut consister à réaliser une rectification du ou des substrats.The treatment may consist in performing a grinding of the substrate (s).
En variante, le traitement peut consister à monter une ou plusieurs parties du ou des substrats ou le ou les substrats dans un même support mécanique.Alternatively, the treatment may consist of mounting one or more parts of the substrate or substrates or substrates in the same mechanical support.
Lorsqu'il y a plusieurs substrats portant des paires de pièces polaires, ces substrats sont assemblés après alignement.When there are several substrates carrying pairs of pole pieces, these substrates are assembled after alignment.
On peut prévoir d' insérer une couche en matériau électriquement isolant ou des cales entre deux substrats consécutifs portant les paires de pièces polaires, cette couche peut éventuellement comporter des moyens de lecture magnétorésistifs et/ou un écran de blindage magnétique.It may be provided to insert a layer of electrically insulating material or shims between two consecutive substrates carrying pairs of pole pieces, this layer may optionally comprise magnetoresistive reading means and / or a magnetic shielding screen.
Le procédé peut consister à réaliser, sur un substrat, des paires de plots magnétiques de raccordement destinées à raccorder magnétiquement chacune un guide de flux ou un moyen d'enregistrement
et/ou de lecture à une paire de pièces polaires portée par un substrat identique ou différent.The method may consist of producing, on a substrate, pairs of magnetic connection pads for magnetically connecting each a flow guide or a recording means and / or reading to a pair of pole pieces carried by an identical or different substrate.
L'assemblage de deux des substrats se fait préférentiellement après retournement de l'un d'entre eux pour mettre en vis-à-vis les faces travaillées.The assembly of two of the substrates is preferably done after turning one of them to face the faces worked.
Une étape d'amincissement de l'un au moins des substrats peut être prévue avant et/ou après 1' assemblage.A step of thinning at least one of the substrates may be provided before and / or after assembly.
Les substrats peuvent avoir des angles d'inclinaison différents, dans ce cas l'angle d'azimut des entrefers des paires de pièces polaires d'un substrat est différent de l'angle d'azimut des entrefers des paires de pièces polaires d'un autre substrat .The substrates may have different angles of inclination, in which case the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar pieces of a substrate is different from the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar pieces of a other substrate.
On peut réaliser une paire de pièces polaires en gravant de manière anisotrope un premier caisson dans le substrat, en formant une couche amagnétique sur le substrat, en remplissant de matériau magnétique le premier caisson, en gravant de manière isotrope un second caisson qui jouxte le premier caisson, en remplissant de matériau magnétique le second caisson.A pair of pole pieces can be made by anisotropically etching a first box in the substrate, forming a non-magnetic layer on the substrate, by filling the first box with magnetic material, by isotropically etching a second box that is adjacent to the first box. box, filling the second box with magnetic material.
Lorsqu'il y a plusieurs substrats portant des paires de pièces polaires, pour réaliser les paires de plots magnétiques, on peut réaliser par gravure isotrope, des paires de caissons dans le substrat devant accueillir les paires de plots magnétiques et remplir les paires de caissons de matériau magnétique.When there are several substrates carrying pairs of pole pieces, to achieve the pairs of magnetic studs, it is possible by isotropic etching, pairs of boxes in the substrate to accommodate the pairs of magnetic studs and fill the pairs of boxes. magnetic material.
On peut réaliser une planarisation de surface après l'une quelconque des étapes de remplissage de matériau magnétique.
Le substrat portant des paires de pièces polaires peut être formé de matériau électriquement isolant situé entre deux couches, dont l'une portant les caissons est monocristalline, l'autre étant éventuellement éliminée ultérieurement partiellement ou totalement .Surface planarization can be carried out after any one of the magnetic material filling steps. The substrate carrying pairs of pole pieces may be formed of electrically insulating material located between two layers, one of which carrying the boxes is monocrystalline, the other optionally being removed partially or completely later.
En variante le substrat portant des paires de pièces polaires peut être formé d'un matériau électriquement isolant situé entre une couche de matériau résistant à l'usure et une couche de matériau monocristallin comportant les caissons.Alternatively the substrate carrying pairs of pole pieces may be formed of an electrically insulating material located between a layer of wear resistant material and a layer of monocrystalline material comprising the boxes.
L'assemblage peut se faire par collage, par assemblage moléculaire, par assemblage anodique ou par billes fusibles.The assembly can be done by gluing, by molecular assembly, by anodic assembly or by fusible beads.
Le substrat additionnel au sein duquel se trouveront les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique, peut être éventuellement multicouche avec une couche de matériau électriquement isolant.The additional substrate within which the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may be, may optionally be multilayered with a layer of electrically insulating material.
En variante, le substrat additionnel au sein duquel se trouveront les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique peut comporter une couche en matériau résistant à l'usure éventuellement recouverte de matériau électriquement isolant.In a variant, the additional substrate within which the recording and / or reading means and the possible magnetic flux guides may comprise may include a layer of wear resistant material possibly covered with electrically insulating material.
De plus, le procédé comporte une étape de réalisation de moyens de traitement du signal (par exemple préamplificateurs, multiplexeurs, démultiplexeurs) qui coopèrent avec les moyens d'enregistrement et/ou de lecture.
BRÈVE DESCRIPTION DES DESSINSIn addition, the method comprises a step of producing signal processing means (for example preamplifiers, multiplexers, demultiplexers) which cooperate with the recording and / or reading means. BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS
La présente invention sera mieux comprise à la lecture de la description d'exemples de réalisation, donnés à titre purement indicatif et nullement limitatif, en faisant référence aux dessins annexés sur lesquels :The present invention will be better understood on reading the description of exemplary embodiments, given purely by way of indication and in no way limiting, with reference to the appended drawings in which:
- la figure 1 (déjà décrite) montre un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture linéaire de l'art antérieur ;- Figure 1 (already described) shows a recording device and / or linear reading of the prior art;
- la figure 2 montre un exemple d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à 1' invention ;FIG. 2 shows an example of a recording and / or reading device according to the invention;
- les figures 3A, 3B, 3C montrent trois autres exemples d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à l'invention ;FIGS. 3A, 3B, 3C show three other examples of a recording and / or reading device according to the invention;
- la figure 4 montre encore un exemple d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à l'invention dans lequel les paires de pièces polaires sont réparties de part et d'autre d'une couche isolante d'un support ;FIG. 4 shows another example of a recording and / or read device according to the invention in which the pairs of pole pieces are distributed on either side of an insulating layer of a support;
- les figures 5A, 5B montrent en trois dimensions un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture de l'art antérieur et un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à l'invention ;FIGS. 5A, 5B show in three dimensions a recording and / or reading device of the prior art and a recording and / or reading device according to the invention;
- les figures 6A à 6E montrent des étapes de réalisation de paires de pièces polaires et de pièces arrière de fermeture du circuit magnétique d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à 1' invention ;
- les figures 7A à 7E montrent des étapes de réalisation du reste du circuit magnétique et des moyens d'enregistrement et/ou de lecture d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conforme à l'invention ;FIGS. 6A to 6E show steps for producing pairs of pole pieces and rear closing parts of the magnetic circuit of a recording and / or read device according to the invention; FIGS. 7A to 7E show steps for producing the rest of the magnetic circuit and means for recording and / or reading a recording and / or reading device according to the invention;
- les figures 8A, 8B montrent des étapes d'assemblage et de finition des structures de figures 6D et 7E ;- Figures 8A, 8B show assembly and finishing steps of the structures of Figures 6D and 7E;
- la figure 9 illustre le regroupement sur un même support mécanique de deux groupes de têtes magnétiques, ces groupes de têtes magnétiques présentant un même angle d' inclinaison par rapport aux pistes du support magnétique d'enregistrement ;FIG. 9 illustrates the grouping on the same mechanical support of two groups of magnetic heads, these groups of magnetic heads having the same angle of inclination with respect to the tracks of the magnetic recording medium;
- la figure 10 montre un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention comportant des têtes d'enregistrement et des têtes de lecture placées de manière alternée ;FIG. 10 shows a recording and / or reading device according to the invention comprising recording heads and read heads placed alternately;
- les figures HA à HD montrent des étapes de réalisation des paires de pièces polaires des têtes d'enregistrement de la figure 10 ;FIGS. HA to HD show steps for producing pairs of pole pieces of the recording heads of FIG. 10;
- les figures 12A à 12D montrent des étapes de réalisation des paires de pièces polaires des têtes de lecture de la figure 10 ainsi que l'assemblage et la finition de ces paires de pièces polaires à celles illustrées sur la figure HD ;FIGS. 12A to 12D show steps for making the pairs of pole pieces of the read heads of FIG. 10 as well as the assembly and finishing of these pairs of pole pieces to those illustrated in FIG.
- les figures 13A et 13B montrent des étapes de réalisation du circuit magnétique et des moyens d'enregistrement et/ou de lecture d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention ;
- les figures 14A et 14B montrent des étapes d'assemblage et de finition de la structure de la figure 12D à celle de la figure 13B, la figure 14C montrant une autre variante d'un dispositif de lecture selon l'invention ;FIGS. 13A and 13B show steps for producing the magnetic circuit and means for recording and / or reading a recording and / or reading device according to the invention; FIGS. 14A and 14B show assembly and finishing steps of the structure of FIG. 12D to that of FIG. 13B, FIG. 14C showing another variant of a reading device according to the invention;
- la figure 15 montre encore une autre variante d'un dispositif selon l'invention.- Figure 15 shows yet another variant of a device according to the invention.
Des parties identiques, similaires ou équivalentes des différentes figures décrites ci-après portent les mêmes références numériques de façon à faciliter le passage d'une figure à l'autre.Identical, similar or equivalent parts of the different figures described below bear the same numerical references so as to facilitate the passage from one figure to another.
Les différentes parties représentées sur les figures ne le sont pas nécessairement selon une échelle uniforme, pour rendre les figures plus lisibles .The different parts shown in the figures are not necessarily in a uniform scale, to make the figures more readable.
EXPOSÉ DÉTAILLÉ DE MODES DE RÉALISATION PARTICULIERSDETAILED PRESENTATION OF PARTICULAR EMBODIMENTS
On va maintenant décrire un exemple de dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention en se référant à la figure 2.An example of a recording and / or reading device according to the invention will now be described with reference to FIG. 2.
Ce dispositif est destiné à l'enregistrement et/ou la lecture d'informations sur des pistes 36 portées par un support magnétique d'enregistrement 35. Ce support magnétique d'enregistrement 35 est représenté comme une bande mais d'autres formes seraient possibles, par exemple un disque.This device is intended for recording and / or reading information on tracks 36 carried by a magnetic recording medium 35. This magnetic recording medium 35 is represented as a band but other forms would be possible, for example a disk.
On rappelle qu'une tête magnétique comporte classiquement un circuit magnétique de fermeture de flux magnétique se terminant sur une paire de pièces polaires séparées par un entrefer amagnétique. Ce
circuit magnétique peut inclure en plus des paires de pièces polaires un guide de flux magnétique. Dans certaines configurations, le guide de flux magnétique est absent et les paires de pièces polaires ont une forme appropriée pour avoir cette fonction de guide de flux magnétique.It will be recalled that a magnetic head conventionally comprises a magnetic magnetic flux closing circuit terminating on a pair of polar parts separated by a non-magnetic gap. This Magnetic circuit may include in addition to pairs of pole pieces a magnetic flux guide. In some configurations, the magnetic flux guide is absent and the pairs of pole pieces have a shape suitable for this magnetic flux guide function.
Des moyens d'enregistrement et/ou de lecture coopèrent avec le circuit magnétique, il peut s'agir d'au moins un bobinage qui entoure le circuit magnétique pour les têtes inductives d'enregistrement et/ou de lecture ou bien d'au moins une magnétorésistance pour les têtes magnétiques de lecture. Cette magnétorésistance peut être insérée dans le circuit magnétique au niveau d'un entrefer de celui- ci. Elle peut avantageusement prendre la forme d'un barreau en matériau à magnétorésistance géante GMR (abréviation anglo-saxonne de Giant Magnéto Résistance) ou à magnétorésistance à effet tunnel TMR. En l'absence de guide de flux, la magnétorésistance coopère avec une paire de pièces polaires.Recording and / or reading means cooperate with the magnetic circuit, it may be at least one coil which surrounds the magnetic circuit for the inductive recording and / or reading heads or at least one a magnetoresistance for the magnetic reading heads. This magnetoresistance can be inserted into the magnetic circuit at an air gap thereof. It can advantageously take the form of a rod made of giant magnetoresistance material GMR (abbreviation Anglo-Saxon Giant Magneto Resistance) or magnetoresistance tunnel TMR effect. In the absence of flux guide, the magnetoresistance cooperates with a pair of pole pieces.
Le dispositif objet de l'invention comporte plusieurs têtes magnétiques 30.1 à 30.4 qui sont matérialisées chacune sur la figure 2, par une paire de pièces polaires séparées par un entrefer e amagnétique. Le dispositif comporte également au moins un support 1000 et les paires de pièces polaires des têtes magnétiques 30.1 à 30.4 sont réparties à la suite l'une de l'autre en étant alignées sur ce support 1000. Dans un exemple décrit ultérieurement à la figure 4, on a représenté deux supports 1000, 1001 qui sont assemblés l'un à l'autre. On peut bien sûr envisager d'utiliser
plus de deux supports assemblés après positionnement précis .The device according to the invention comprises several magnetic heads 30.1 to 30.4 which are each represented in FIG. 2 by a pair of pole pieces separated by a non-magnetic air gap. The device also comprises at least one support 1000 and the pairs of pole pieces of the magnetic heads 30.1 to 30.4 are distributed one after the other while being aligned on this support 1000. In an example described later in FIG. two supports 1000, 1001 are shown which are assembled to one another. We can of course consider using more than two brackets assembled after precise positioning.
Le support 1000 est sensiblement plan, les paires de pièces polaires 30.1 à 30.4 des têtes magnétiques reposent sur une face principale du support qui est sensiblement plane.The support 1000 is substantially plane, the pairs of pole pieces 30.1 to 30.4 of the magnetic heads rest on a main surface of the support which is substantially flat.
Lorsque le dispositif selon l'invention comporte au moins deux supports 1000, 1001 parallèles comme sur la figure 4, on prévoit au moins une couche inter-support 33 permettant de séparer les niveaux de paires de pièces polaires par une distance d bien ajustée. Cette distance d est comptée entre des plans de faces en regard de pièces polaires sur deux supports consécutifs. Cette couche inter-support 33 peut comporter avantageusement un blindage magnétique pour éviter des problèmes de diaphonie entre têtes magnétiques situées sur des supports différents. Elle peut également comporter des moyens de lecture magnétorésistifs .When the device according to the invention comprises at least two parallel supports 1000, 1001 as in FIG. 4, at least one inter-support layer 33 is provided making it possible to separate the levels of pairs of pole pieces by a well-adjusted distance d. This distance d is counted between face planes facing polar pieces on two consecutive supports. This inter-support layer 33 may advantageously comprise a magnetic shielding to avoid problems of cross-talk between magnetic heads located on different supports. It may also include magnetoresistive reading means.
Les têtes magnétiques (ou les paires de pièces polaires) sont azimutées, et sur un même support, toutes les paires de pièces polaires ont un entrefer e qui présente un même angle d'azimut α compris entre ± 90° bornes exclues par rapport à une direction normale au support 1000.The magnetic heads (or pairs of pole pieces) are azimuthed, and on the same support, all pairs of pole pieces have an air gap e which has the same azimuth angle α between ± 90 ° excluded terminals compared to a normal direction to support 1000.
Un angle d'azimut α nul est perpendiculaire à la face principale du support 1000 et un angle d'azimut α égal à ± 90° serait parallèle à la face principale du support 1000. Typiquement l'angle d'azimut α est inférieur ou égal à ± 45°.
Pour chaque paire de pièces polaires, un guide de flux magnétique et/ou un élément magnétorésistif (non visibles sur la figure 2 mais visibles sur la figure 10) peuvent reposer sur une face principale d'un support 1000, éventuellement dans une couche isolante 33 à proximité de la paire de pièce polaire concernée. Dans le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture de l'invention, les faces fonctionnelles des pièces polaires, ce sont les faces perpendiculaires aux faces principales des supports initiaux qui viennent au contact du support magnétique d'enregistrement, et qui apparaîtront après découpe de puces (ou blocs) dans le support.An azimuth angle α zero is perpendicular to the main face of the support 1000 and an azimuth angle α equal to ± 90 ° would be parallel to the main face of the support 1000. Typically the azimuth angle α is less than or equal to at ± 45 °. For each pair of pole pieces, a magnetic flux guide and / or a magnetoresistive element (not visible in FIG. 2 but visible in FIG. 10) may rest on a main face of a support 1000, possibly in an insulating layer 33 near the pair of polar parts concerned. In the recording and / or reading device of the invention, the functional faces of the pole pieces are the faces perpendicular to the main faces of the initial supports which come into contact with the magnetic recording medium, and which will appear after cutting chips (or blocks) in the support.
Chaque tête magnétique est destinée à coopérer avec le support magnétique d'enregistrement 35 orienté sensiblement parallèlement aux faces fonctionnelles des pièces polaires et donc sensiblement perpendiculairement à la face principale du support 1000.Each magnetic head is intended to cooperate with the magnetic recording medium 35 oriented substantially parallel to the functional faces of the pole pieces and therefore substantially perpendicular to the main face of the support 1000.
Ce support magnétique 35 comprend de nombreuses pistes magnétiques d'enregistrement 36 parallèles sur lesquelles les têtes magnétiques 30.1 à 30.4 sont destinées à écrire ou à lire des informations sous forme d'une succession de bits. Ces pistes 36 possèdent une direction générale x et présentent un angle d' inclinaison θ par rapport à la surface principale du support 1000 (ou par rapport à la longueur des têtes magnétiques 30.1 à 30.4) . Autrement dit le support 1000 présente l'angle d'inclinaison θ par rapport aux pistes 36. Cet angle d'inclinaison θ est non nul et compris entre ± 90°.
Lorsque le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture comporte plusieurs supports 1000, 1001 assemblés, ces derniers peuvent présenter un même angle d' inclinaison θ par rapport à la direction générale x des pistes magnétiques d'enregistrement 36. Cet angle d'inclinaison θ peut être obtenu par exemple à l'aide d'un usinage mécanique approprié du support 1000.This magnetic medium 35 comprises numerous parallel magnetic recording tracks 36 on which the magnetic heads 30.1 to 30.4 are intended to write or read information in the form of a succession of bits. These tracks 36 have a general direction x and have an angle of inclination θ with respect to the main surface of the support 1000 (or with respect to the length of the magnetic heads 30.1 to 30.4). In other words, the support 1000 has the angle of inclination θ with respect to the tracks 36. This inclination angle θ is non-zero and lies between ± 90 °. When the recording and / or reading device comprises several supports 1000, 1001 assembled, these can have the same angle of inclination θ with respect to the general direction x of the magnetic recording tracks 36. This angle of inclination θ can be obtained for example by means of a suitable mechanical machining of the support 1000.
Toutefois, il est possible prévoir comme sur la figure 3C un assemblage de plusieurs supports, parmi lesquels au moins deux supports consécutifs ont des angles d'inclinaison différents θl, Θ2.However, it is possible to provide, as in FIG. 3C, an assembly of several supports, among which at least two consecutive supports have different angles of inclination θ1, Θ2.
Les pistes 36 peuvent ne pas être jointives et être séparées par un interpiste 37.The tracks 36 may not be joined and be separated by an interpiste 37.
D'une façon générale, appelons P la largeur des paires de pièces polaires 30.1 à 30.4 sur le support 1000 et T le pas longitudinal des entrefers des paires de pièces polaires sur le support 1000. Appelons L la largeur d'une piste 36 et i la largeur d'un interpiste 37 (compté perpendiculairement à la direction x) .Generally speaking, let P denote the width of the pairs of pole pieces 30.1 to 30.4 on the support 1000 and the longitudinal pitch of the gaps of the pairs of polar pieces on the support 1000. Let L be the width of a track 36 and i the width of an interpiste 37 (counted perpendicular to the x direction).
L'angle d'inclinaison θ s'exprime par : sin(θ) = (L+i)/(T)The angle of inclination θ is expressed by: sin (θ) = (L + i) / (T)
La largeur des pistes inscrites est donnée par :The width of the tracks registered is given by:
L = P.cos (α -θ) /cos (α)L = P.cos (α -θ) / cos (α)
Voici maintenant une application numérique réaliste. Si T=200 μm, L=5 μm et i=0,l μm (interpiste le plus petit possible) , on en déduit : sin(θ) = (L+i)/(T)= 5,1/200 = 0,0255, d'où θ≈l,5° .
II est possible, comme sur la figure 2, que l'angle d'azimut α ait une valeur différente de celle de l'angle d'inclinaison θ. Les bits enregistrés présenteront un angle α-θ avec la direction générale x de la piste inscrite. En variante, il est possible, comme représenté sur les figures 3A, 3B, que l'angle d'azimut α et l'angle d'inclinaison θ soient égaux : α = θ. Dans ce cas les bits seront inscrits perpendiculairement à la direction générale des pistes. Cette variante correspond au standard d'enregistrement actuel.Here is now a realistic digital application. If T = 200 μm, L = 5 μm and i = 0, 1 μm (smallest interpist possible), we deduce: sin (θ) = (L + i) / (T) = 5.1 / 200 = 0.0255, hence θ≈l, 5 °. It is possible, as in FIG. 2, for the azimuth angle α to have a value different from that of the angle of inclination θ. The recorded bits will have an angle α-θ with the general direction x of the recorded track. As a variant, it is possible, as shown in FIGS. 3A and 3B, for the azimuth angle α and the inclination angle θ to be equal to α = θ. In this case the bits will be written perpendicular to the general direction of the tracks. This variant corresponds to the current registration standard.
On obtient alors :We then obtain:
L = P.cos (α - θ)/cos(α)= P/cos (α) , ou bienL = P.cos (α - θ) / cos (α) = P / cos (α), or else
P = L.cos (α)P = L.cos (α)
En reprenant les valeurs de l'application numérique précédente on obtient P ≈ 5 μm si α = θ et α ≈ 1 S°By taking the values of the previous digital application P ≈ 5 μm is obtained if α = θ and α ≈ 1 S °
On verra par la suite un procédé de fabrication d'un tel dispositif d'enregistrement et/ou de lecture qui permet d'obtenir un angle d'azimut α aussi petit.We will see later a method of manufacturing such a recording device and / or reading which provides an azimuth angle α as small.
Lorsque l'on veut réaliser un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture, il est préférable pour des raisons de performance de dissocier les têtes magnétiques dédiées à l'enregistrement de celles dédiées à la lecture. Les têtes magnétiques dédiées à la lecture étant de préférence de type à magnétorésistance MR, à magnétorésistance géante GMR ou à magnétorésistance à effet tunnel TMR alors que les têtes magnétiques d'écriture sont de préférence des têtes magnétiques inductives.
On se réfère aux figures 3A, 3B, 3C.When it is desired to make a recording and / or reading device, it is preferable for reasons of performance to separate the magnetic heads dedicated to the recording from those dedicated to reading. The magnetic heads dedicated to the reading are preferably magneto-resistor type MR, giant magnetoresistance GMR or magnetoresistance TMR tunnel while the magnetic write heads are preferably inductive magnetic heads. Referring to Figures 3A, 3B, 3C.
Le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture peut comporter un ou plusieurs premiers blocs Bl d'au moins un support 45 comportant des têtes d'enregistrement (matérialisées par leurs paires de pièces polaires 4Ow et leur entrefer e) et un ou plusieurs seconds blocs B2 d'au moins un support 46 comportant des têtes de lecture (représentées par leurs paires de pièces polaires 4Or et leur entrefer e) , ces premiers et seconds blocs Bl, B2 étant placés à la suite l'un de l'autre dans la direction générale x des pistes 47 du support magnétique d'enregistrement 44. Les interpistes sont référencés 41.The recording and / or reading device may comprise one or more first blocks B1 of at least one support 45 comprising recording heads (materialized by their pairs of pole pieces 40w and their gap e) and one or more seconds B2 blocks of at least one support 46 comprising reading heads (represented by their pairs of pole pieces 4Or and their gap e), these first and second blocks B1, B2 being placed one after the other in the general direction x of the tracks 47 of the magnetic recording medium 44. The interpistes are referenced 41.
Sur la figure 3A, il n'y a qu'un seul premier bloc Bl dédié à l'écriture (l'enregistrement) et il est suivi d'un seul second bloc B2 dédié à la lecture. Chacun des premier et second blocs Bl, B2 comporte autant de têtes d'écriture 4Ow que de lecture 4Or qui sont alignées entre elles pour coopérer.In FIG. 3A, there is only one first block Bl dedicated to writing (the recording) and it is followed by a single second block B2 dedicated to reading. Each of the first and second blocks B1, B2 has as many write heads 4Ow 4Or read that are aligned with each other to cooperate.
Sur la figure 3B, le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture comporte plusieurs (deux dans l'exemple) premiers blocs Bl qui se suivent dans la direction générale des pistes 47 et qui sont dédiés à l'écriture et plusieurs (deux dans l'exemple) seconds blocs B2 qui se suivent dans la direction générale des pistes 47 et qui sont dédiés à la lecture. L'ensemble des premiers blocs Bl, tout comme l'ensemble des seconds blocs B2, comporte autant de têtes d'écriture 4Ow (respectivement autant de têtes de lecture 4Or) que le support magnétique 44 comporte de pistes 47 qui seront écrites en une seule passe. Cette
dernière configuration permet d' augmenter la densité d'enregistrement en réduisant la largeur des pistes ainsi que celle des interpistes sans toutefois supprimer obligatoirement ces derniers.In FIG. 3B, the recording and / or reading device comprises several (two in the example) first blocks B 1 which follow each other in the general direction of the tracks 47 and which are dedicated to writing and several (two in the example) second blocks B2 which follow in the general direction of the tracks 47 and which are dedicated to reading. The set of first blocks B1, like the set of second blocks B2, comprises as many write heads 4Ow (respectively as many read heads 4Or) as the magnetic medium 44 comprises tracks 47 which will be written in a single past. This The last configuration allows to increase the recording density by reducing the width of the tracks as well as that of the interpistes without necessarily removing the latter.
La figure 3C montre un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture similaire apte à écrire et lire des pistes 47 « double azimutées », c'est à dire que l'angle d'azimut des bits inscrits sur les pistes impaires en partant du haut est αl-θl et que celui des bits inscrits sur les pistes paires est α2- Θ2. Ce type de dispositif permet de maximiser la densité d'enregistrement en autorisant un interpiste non nul sans diaphonie à la lecture.FIG. 3C shows a similar recording and / or reading device capable of writing and reading "double azimuth" tracks 47, that is to say that the azimuth angle of the bits written on the odd tracks starting from the high is αl-θl and that of the bits written on the even tracks is α2- Θ2. This type of device makes it possible to maximize the recording density by allowing a non-zero interphase without crosstalk on reading.
Dans le bloc Bl d'enregistrement qui possède deux supports 45, l'un des supports 45 présente un angle d'inclinaison θl et l'autre Θ2 qui peut être différent de θl. L'entrefer des paires de pièces polaires 4Ow d'un des supports a un angle d'azimut αl et l'entrefer des pièces polaires 4Ow de l'autre support a un angle d'azimut α2. De la même manière, dans le bloc B2 de lecture qui possède aussi deux support 46, l'un des supports 46 présente l'angle d'inclinaison θl et l'autre Θ2 pour que les têtes du bloc B2 puisse lire les informations écrites par les têtes du bloc Bl. L'entrefer des paires de pièces polaires 4Or d'un des supports a l'angle d'azimut αl et l'entrefer des pièces polaires 4Ow de l'autre support a l'angle d'azimut α2. Les deux supports de chaque bloc sont assemblés par exemple à l'aide de cales 49 qui permettent aisément d'ajuster les angles d'inclinaison de chacun des supports.
Pour éviter la diaphonie entre les blocs dédiés à des fonctions différentes, un écran de blindage 48 magnétique peut être placé entre les premiers blocs Bl et les seconds blocs B2.In the recording block Bl which has two supports 45, one of the supports 45 has an inclination angle θ1 and the other Θ2 which can be different from θ1. The gap of pairs of pole pieces 40w of one of the supports has an azimuth angle αl and the air gap of the pole pieces 40w of the other support has an azimuth angle α2. In the same way, in the reading block B2 which also has two supports 46, one of the supports 46 has the inclination angle θ1 and the other Θ2 so that the heads of the block B2 can read the information written by the heads of the block B1. The pair of polar pieces 4Or of one of the supports at the azimuth angle α1 and the air gap of the pole pieces 4Ow of the other support at the azimuth angle α2. The two supports of each block are assembled for example by means of wedges 49 which make it easy to adjust the angles of inclination of each of the supports. To avoid cross-talk between the blocks dedicated to different functions, a magnetic shielding screen 48 may be placed between the first blocks Bl and the second blocks B2.
Des moyens appropriés connus de l'homme de l'art peuvent être prévus pour combiner les fonctions d'enregistrement et de lecture. Par exemple tous les blocs Bl, B2 peuvent être rendus solidaires par assemblage mécanique. On obtient ainsi après l'assemblage des blocs Bl, B2 et de l'écran de blindage 48 (s'il existe) un dispositif d'enregistrement et de lecture dénommé RWW (en anglais read while write soit lecture pendant l'enregistrement) . Un intérêt d'un tel dispositif est qu'il permet de vérifier l'intégrité des données enregistrées pendant l'écriture. L'écriture précède la lecture.Suitable means known to those skilled in the art can be provided for combining the recording and reading functions. For example, all the blocks B1, B2 can be made integral by mechanical assembly. Thus, after assembling blocks Bl, B2 and shielding screen 48 (if it exists), a recording and reading device called RWW (in English read while write is read during recording). An advantage of such a device is that it makes it possible to check the integrity of the data recorded during the writing. The writing precedes the reading.
On se réfère à la figure 4. Au lieu que les blocs d'écriture Bl et de lecture B2 soient à la suite l'un de l'autre dans le sens axial des pistes 47 du support magnétique d'enregistrement 44, ils sont empilés l'un sur l'autre. On peut combiner un bloc d'écriture Bl formé de plusieurs têtes d'enregistrement 4Ow placées sur au moins un support 1000 à un bloc de lecture B2 formé de plusieurs têtes de lecture 4Or placées sur au moins support 1001. Les têtes de lecture 40r et les têtes d'enregistrement 40w sont représentées par leurs paires de pièces polaires et leur entrefer e.Referring to Fig. 4. Instead of the writing block B1 and read block B2 following each other in the axial direction of the tracks 47 of the magnetic recording medium 44, they are stacked one over the other. It is possible to combine a write block Bl formed of several recording heads 4Ow placed on at least one support 1000 to a reading block B2 formed of several read heads 4Or placed on at least support 1001. The read heads 40r and the recording heads 40w are represented by their pairs of pole pieces and their gap e.
Sur la figure 4, chaque bloc Bl ou B2 ne comporte qu'un seul support 1000 ou 1001. Les supports 1000, 1001 distincts initialement, sont assemblés en aménageant l'espace 33 conditionnant la distance d
inter-pièce polaire. L'espace 33 peut contenir un blindage magnétique et/ou un isolant électrique. Il peut aussi contenir des moyens de lecture magnétorésistifs . Cet espace 33 permet de paramétrer l'alignement entre les têtes magnétiques d'écriture et celles de lecture par son épaisseur d.In FIG. 4, each block B1 or B2 has only one support 1000 or 1001. The supports 1000, 1001, which are initially distinct, are assembled by arranging the space 33 conditioning the distance d inter-pole piece. The space 33 may contain a magnetic shield and / or an electrical insulator. It can also contain magnetoresistive reading means. This space 33 makes it possible to parameterize the alignment between the magnetic heads of writing and those of reading by its thickness d.
En variante, les deux supports pourraient être confondus et ne faire qu'un, les têtes magnétiques d'écriture et les têtes magnétiques de lecture seraient placées de part et d'autre d'une couche isolante 33 du support 63 comme illustré sur la figure 5B. Dans ce cas le support est multicouche, il peut s'agir par exemple d'un substrat de type SOI (semi-conducteur sur isolant) ou plus généralement d'un substrat de type XOI où X représente un matériau monocristallin. Les pièces polaires se trouvent de part et d' autre de la couche d'isolant. Les couches externes du support commun sont assimilables à deux supports assemblés l'un à l'autre.As a variant, the two supports could be one and the same, the magnetic writing heads and the magnetic reading heads would be placed on either side of an insulating layer 33 of the support 63 as illustrated in FIG. 5B. In this case the support is multilayer, it may be for example a SOI type substrate (semiconductor on insulator) or more generally an XOI type substrate where X represents a monocrystalline material. The pole pieces are on both sides of the insulation layer. The outer layers of the common support are comparable to two supports assembled to one another.
Dans le mode de réalisation de la figure 4, tous les angles d'azimut α des têtes magnétiques, qu'elles soient dédiées à l'écriture ou à la lecture sont égaux. Les deux supports 1000 et 1001 présentent le même angle d'inclinaison θ.In the embodiment of FIG. 4, all the azimuth angles α of the magnetic heads, whether dedicated to writing or to reading, are equal. The two supports 1000 and 1001 have the same inclination angle θ.
Un avantage d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture tel que celui illustré sur la figure 4 et sur les figures 3A, 3B est de faciliter le positionnement des têtes de lecture 4Or par rapport aux têtes d'écriture 4Ow. Un interpiste référencé 41 est conservé pour tenir compte d'éventuels problèmes de désalignement dits de suivi de piste ou pour intercaler des pistes écrites par une autre tête
ou un autre dispositif similaire avec un angle d'azimut différent .An advantage of a recording and / or reading device such as that illustrated in FIG. 4 and in FIGS. 3A, 3B is to facilitate the positioning of the read heads 4Or with respect to the write heads 4Ow. An interpiste referenced 41 is kept to take into account possible misalignment problems called tracking or to insert tracks written by another head or another similar device with a different azimuth angle.
Sur la figure 4, le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture représenté est de RWW (abréviation de read while write, c'est à dire dans lequel la lecture se fait pendant l'écriture) . Les têtes magnétiques d'écriture 4Ow et les têtes magnétiques de lecture 4Or peuvent présenter un alignement avantageux lorsque les paramètres suivants obéissent à la formule :In FIG. 4, the recording and / or reading device represented is RWW (abbreviation of read while write, ie in which reading is done during writing). The magnetic write heads 4Ow and the magnetic reading heads 4Or may have advantageous alignment when the following parameters obey the formula:
P + d = (D + nT)tg(θ) avec θ angle d'inclinaison des supports 1000, 1001 par rapport aux pistes 47, T pas longitudinal des entrefers des paires de pièces polaires placées sur un même support, D décalage longitudinal par rapport aux supports entre deux paires de pièces polaires consécutives placées sur deux supports consécutifs, P largeur des pièces polaires et n nombre entier. L'optimisation technico- économique de ces têtes magnétiques jouera sur le choix des paramètres de la formule.P + d = (D + nT) tg (θ) with θ inclination angle of the supports 1000, 1001 with respect to the tracks 47, T longitudinal pitch of the gaps of the pair of pole pieces placed on the same support, D longitudinal offset by relative to the supports between two pairs of consecutive pole pieces placed on two consecutive supports, P width of the pole pieces and n integer. The technical and economic optimization of these magnetic heads will play on the choice of parameters of the formula.
Sur la figure 4, l'entier n vaut 1. La distance d peut s'ajuster sans contraintes technologiques lourdes. Il semble opportun de choisir n ≤2 pour limiter la taille des têtes magnétiques, et la distance entre les entrefers de lecture et d'écriture.In FIG. 4, the integer n is 1. The distance d can be adjusted without heavy technological constraints. It seems appropriate to choose n ≤2 to limit the size of the magnetic heads, and the distance between the reading and writing gaps.
Les figures 5A, 5B montrent en trois dimensions, respectivement, un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture conventionnel et selon l'invention associés à un support magnétique d'enregistrement 64 présentant des pistes 61 linéaires sensiblement parallèles séparées par un interpiste 62.
L' interpiste 62 a une largeur wO sur la figure 5A et une largeur wl sur la figure 5B. Des informations enregistrées, prenant la forme d'une succession de bits orthogonaux aux pistes, sont représentées sur deux des pistes 61.FIGS. 5A, 5B show in three dimensions, respectively, a conventional recording and / or reading device and according to the invention associated with a magnetic recording medium 64 having substantially parallel linear tracks 61 separated by an interger 62. Interperist 62 has a width w0 in Fig. 5A and a width w1 in Fig. 5B. Recorded information, taking the form of a succession of bits orthogonal to the tracks, is represented on two of the tracks 61.
Dans ces deux cas, le dispositif d'enregistrement comporte une succession de têtes magnétiques 60 d'enregistrement et/ou de lecture dont les paires de pièces polaires sont portées sur un même support 63 sensiblement plan.In these two cases, the recording device comprises a succession of magnetic recording and / or reading heads 60 whose pairs of pole pieces are carried on the same substantially plane support 63.
Sur ces figures, les têtes magnétiques 60 sont représentées dans leur totalité. Elles comportent chacune en plus d'une paire de pièces polaires 50, 51 séparées par l'entrefer amagnétique 52, un guide de flux magnétique 53 qui couple magnétiquement les deux pièces polaires 50, 51 d'une paire et des moyens d'enregistrement et/ou de lecture 54 qui coopèrent avec le circuit magnétique constitué des pièces polaires 50, 51 et du guide de flux magnétique 53.In these figures, the magnetic heads 60 are represented in their entirety. They each comprise in addition to a pair of pole pieces 50, 51 separated by the nonmagnetic air gap 52, a magnetic flux guide 53 which magnetically couples the two pole pieces 50, 51 of a pair and recording means and / or reading 54 which cooperate with the magnetic circuit consisting of pole pieces 50, 51 and the magnetic flux guide 53.
Les moyens d'enregistrement et/ou de lecture peuvent être inductifs ou magnétorésistifs . Dans les exemples des figures 5A, 5B, les moyens d'enregistrement et/ou de lecture 54 sont inductifs et prennent, pour chaque tête magnétique 60 la forme d'au moins un solénoïde qui entoure le guide de flux magnétique 53.The recording and / or reading means may be inductive or magnetoresistive. In the examples of FIGS. 5A, 5B, the recording and / or reading means 54 are inductive and take, for each magnetic head 60, the shape of at least one solenoid which surrounds the magnetic flux guide 53.
Sur la figure 5A, le circuit magnétique est dans un plan perpendiculaire au support 63, il est sensiblement en forme de fer à cheval et se termine à chacune de ses extrémités par l'une des pièces polaires 50, 51 d'une paire. L'entrefer 52 est dirigé
parallèlement au plan du support 63. Ces têtes magnétiques 60 présentent un angle d'azimut α = 90°, l'angle d'azimut α est compté par rapport à une normale au support. Le support magnétique d'enregistrement 64 défile devant les têtes magnétiques d'enregistrement et/ou de lecture 60 selon la direction repérée par la flèche. Le plan du support 63 est sensiblement perpendiculaire à la direction générale x des pistes 61. L'angle d'inclinaison θ vaut 90°, l'angle d'inclinaison θ étant l'angle entre le support et la direction générale des pistes.In Figure 5A, the magnetic circuit is in a plane perpendicular to the support 63, it is substantially horseshoe-shaped and ends at each of its ends by one of the pole pieces 50, 51 of a pair. The gap 52 is directed parallel to the plane of the support 63. These magnetic heads 60 have an azimuth angle α = 90 °, the azimuth angle α is counted relative to a normal to the support. The magnetic recording medium 64 passes in front of the magnetic recording and / or reading heads 60 in the direction indicated by the arrow. The plane of the support 63 is substantially perpendicular to the general direction x of the tracks 61. The inclination angle θ is equal to 90 °, the angle of inclination θ being the angle between the support and the general direction of the tracks.
Au contraire, sur la figure 5B, le guide de flux magnétique 53 comporte deux jambes 53.1, 53.2 reliées magnétiquement d'un côté à une pièce polaire 50, 51 et de l'autre à une unique pièce magnétique arrière 53.3 de fermeture. Les moyens d'enregistrement et/ou de lecture 54 prennent la forme de solénoïdes 54 qui coopèrent avec les jambes 53.1, 53.2 du guide de flux magnétique 53. Une structure de circuit magnétique monolithique pourrait être employée dans une tête magnétique d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention.In contrast, in Figure 5B, the magnetic flux guide 53 has two legs 53.1, 53.2 magnetically connected on one side to a pole piece 50, 51 and the other to a single rear magnetic piece 53.3 closure. The recording and / or reading means 54 take the form of solenoids 54 which cooperate with the legs 53.1, 53.2 of the magnetic flux guide 53. A monolithic magnetic circuit structure could be used in a magnetic head of a magnetic resonance device. recording and / or reading according to the invention.
Sur la figure 5B, le support 63 est commun pour deux séries de têtes magnétiques. Elles sont placées de part et d'autre d'une couche isolante 33 du support 63. Ainsi, cette structure peut être assimilée à une structure ayant deux supports consécutifs 63.1, 63.2 formant un support commun 63 sur lequel deux séries de paires de pièces polaires sont placées de part et d'autre d'une couche électriquement isolante 33 du support commun 63.
Les têtes magnétiques sont azimutées, leur entrefer 52 présente un angle d'azimut α compté par rapport à une direction normale au plan du circuit magnétique (plan du support 63 sur la figure 5B) . Cet angle d'azimut est compris entre ± 90° bornes exclues. Le plan du circuit magnétique (plan du support 63 sur la figure 5B) est incliné d'un angle θ non nul compris entre ± 90° par rapport à la direction générale x des pistes 61.In FIG. 5B, the support 63 is common for two sets of magnetic heads. They are placed on either side of an insulating layer 33 of the support 63. Thus, this structure can be likened to a structure having two consecutive supports 63.1, 63.2 forming a common support 63 on which two sets of pairs of polar parts are placed on either side of an electrically insulating layer 33 of the common support 63. The magnetic heads are azimuthed, their air gap 52 has an azimuth angle α counted with respect to a direction normal to the plane of the magnetic circuit (plane of the support 63 in Figure 5B). This azimuth angle is between ± 90 ° excluded. The plane of the magnetic circuit (plane of the support 63 in FIG. 5B) is inclined by a non-zero angle θ between ± 90 ° with respect to the general direction x of the tracks 61.
Par rapport à la structure de la figure 5A, la structure des figures 2 et 5B peuvent conduire aisément à des pistes rapprochées, c'est-à-dire à des largeurs d' interpistes moindres (wl < wO) ou même nulles : il suffit de choisir l'angle d'inclinaison θ suffisamment faible. En outre, les bits enregistrés sont orthogonaux à la direction générale des pistes lorsque l'on choisit α = θ.With respect to the structure of FIG. 5A, the structure of FIGS. 2 and 5B can easily lead to closely spaced tracks, that is to say to lesser (wl <wO) or even zero interpiste widths: to choose the angle of inclination θ sufficiently low. In addition, the recorded bits are orthogonal to the general direction of the tracks when α = θ is chosen.
La couche inter-support 33 pourra être composée d'un isolant, par exemple d'oxyde de silicium (SiO2) , nitrure de silicium (Si3N4) , alumine (Al2O3) , zircone (ZrO2) , carbure de silicium (SiC) , AlSiC (mélange d' alumine et de carbure de silicium) , carbure de titane (TiC), AlTiC (mélange d'alumine et de carbure de titane) ou de tout autre isolant présentant une bonne résistance à l'usure. On pourra réaliser cette couche en une ou plusieurs fois, par exemple par un procédé de dépôt utilisant des équipements de microélectronique ou de micro ou nano technologie par exemple de type pulvérisation cathodique (PVD, PECVD...) . Dans le cas d'utilisation de la couche isolante d'un substrat SOI/XOI en tant que couche inter-support 33,
son épaisseur sera ajustée par le fabricant de substrats par toute méthode de ce type d'industrie. Pour pouvoir assembler convenablement les supports 1000 et 1001 de la figure 4, de part et d'autre de la couche inter-support 33, on pourra réaliser la couche inter¬ support sur l'un, l'autre ou les deux supports 1000, 1001 avec par exemple des étapes de planarisation mécano-chimique et des préparations de surfaces appropriées pour réaliser ensuite l'assemblage avec positionnement précis. La distance d inter-support sera alors bien sûr la somme des épaisseurs déposées sur chaque support 1000 et 1001. Chacune de ces épaisseurs pourra éventuellement contenir un ou plusieurs écrans magnétiques et/ou des éléments magnétorésistifs (GMR ou plus généralement XMR) enfouis dans l'isolant 33 (déposés et/ou gravés par les équipements de micro¬ technologie adéquats) .The inter-support layer 33 may be composed of an insulator, for example silicon oxide (SiO 2 ), silicon nitride (Si 3 N 4 ), alumina (Al 2 O 3 ), zirconia (ZrO 2 ), silicon carbide (SiC), AlSiC (mixture of alumina and silicon carbide), titanium carbide (TiC), AlTiC (mixture of alumina and titanium carbide) or any other insulator with good resistance to corrosion. 'wear. This layer can be made in one or more times, for example by a deposition process using microelectronic equipment or micro or nano technology for example sputtering type (PVD, PECVD ...). In the case of using the insulating layer of an SOI / XOI substrate as an inter-support layer 33, its thickness will be adjusted by the substrate manufacturer by any method of this type of industry. In order to properly assemble the supports 1000 and 1001 of Figure 4, on both sides of the inter-substrate layer 33, it is possible to realize the inter layer ¬ support on one, the other or both supports 1000, 1001 with, for example, chemical-mechanical planarization steps and appropriate surface preparations for subsequent assembly with precise positioning. The inter-support distance will then of course be the sum of the thicknesses deposited on each support 1000 and 1001. Each of these thicknesses may optionally contain one or more magnetic screens and / or magnetoresistive elements (GMR or more generally XMR) embedded in the insulation 33 (deposited and / or etched by appropriate micro ¬ technology equipment).
On va maintenant décrire, en se référant aux figures 6A à 6E un exemple de procédé de réalisation d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention similaire à celui illustré à la figure 5B. Ce procédé se base essentiellement sur l'enseignement délivré par les demandes de brevet FR- Al-2 664 729 et FR-Al-2 745 111 au nom du demandeur. Les têtes magnétiques sont réalisées collectivement, on suppose dans cet exemple que ce sont des têtes inductives. Les têtes magnétiques sont réalisées sur des substrats, ils correspondent aux supports qui ont été décrits précédemment.An exemplary method of producing a recording and / or reading device according to the invention similar to that illustrated in FIG. 5B will now be described with reference to FIGS. 6A to 6E. This method is based essentially on the teaching issued by patent applications FR-A-2,664,729 and FR-A-2,745,111 in the name of the applicant. The magnetic heads are made collectively, it is assumed in this example that they are inductive heads. The magnetic heads are made on substrates, they correspond to the supports that have been described previously.
Dans les exemples, le dispositif d'enregistrement et/ou de lecture comporte deux
substrats chacun portant trois têtes magnétiques. Dans un dispositif réel il y aura beaucoup plus de têtes magnétiques de l'ordre de plusieurs centaines par exemple.In the examples, the recording and / or reading device comprises two substrates each carrying three magnetic heads. In a real device there will be many more magnetic heads of the order of several hundred for example.
On part d'un substrat 100 avec une couche électriquement isolante 102 prise en sandwich entre deux couches externes 101, 103 dont une 103 au moins est en matériau monocristallin.It starts from a substrate 100 with an electrically insulating layer 102 sandwiched between two outer layers 101, 103 of which at least one is made of monocrystalline material.
Il peut s'agir d'un substrat de type semi¬ conducteur sur isolant par exemple un substrat de type SOI (silicium sur isolant) . On rappelle qu'un tel substrat se compose d'une couche électriquement isolante 102 prise en sandwich entre deux couches semi- conductrices 101, 103. Généralement l'une des couches semi-conductrices est plus épaisse que l'autre. Un tel substrat semi-conducteur sur isolant n'est toutefois pas obligatoire.It may be a semi ¬ conductive type on-insulator substrate, for example a SOI substrate (silicon on insulator). Recall that such a substrate consists of an electrically insulating layer 102 sandwiched between two semiconductor layers 101, 103. Generally one of the semiconductor layers is thicker than the other. Such a semiconductor on insulator substrate is however not mandatory.
Avantageusement l'autre couche externe 101 pourra être réalisée dans un matériau résistant à l'usure, ce matériau pouvant être ni semi-conducteur, ni monocristallin. Elle peut être réalisée par exemple en zircone ZrO2, en AlSiC carbure de silicium et alumine, en AlTiC carbure de titane et alumine, en alumine Al2O3 ou autre. Cette couche externe 101 est avantageusement plus épaisse que celle qui est monocristalline.Advantageously, the other outer layer 101 may be made of a material resistant to wear, this material may be neither semiconductor nor monocrystalline. It can be made for example of zirconia ZrO 2 , AlSiC silicon carbide and alumina, AlTiC titanium carbide and alumina, alumina Al 2 O 3 or other. This outer layer 101 is advantageously thicker than that which is monocrystalline.
Le fait que l'une au moins des couches externes soit monocristalline va être utilisé pour réaliser des gravures conditionnant l'angle d'azimut des entrefers. On choisit donc son orientation
cristallographique en fonction de l'angle d'azimut désiré.The fact that at least one of the outer layers is monocrystalline will be used to make engravings conditioning the azimuth angle of the air gaps. So we choose its orientation crystallographic as a function of the desired azimuth angle.
On va réaliser dans un premier temps les paires de pièces polaires 106, 108 de chaque tête magnétique, les entrefers e, ainsi que les pièces magnétiques arrière de fermeture 55.3 qui sont des parties du guide de flux du circuit magnétique de chacune des têtes magnétiques du dispositif d'enregistrement et/ou de lecture.The pairs of pole pieces 106, 108 of each magnetic head, the gaps e, as well as the rear magnetic closing pieces 55.3 which are parts of the flux guide of the magnetic circuit of each of the magnetic heads of the magnetic head, will first be produced. recording and / or reading device.
On grave dans la couche externe monocristalline 103 des premiers caissons 104 évasés devant loger une des pièces polaires de chaque paire de pièces polaires devant se trouver sur ce premier substrat (figure 6A) . Cette gravure est, par exemple dans le cas du silicium, une gravure chimique humide anisotrope par exemple dans un bain de potasse KOH. L'inclinaison d'un des flancs de chaque premier caisson conditionne la valeur de l'angle d'azimut α. Cet angle d'azimut est le même pour tous les entrefers qui vont être réalisés. Cette inclinaison tire profit du caractère monocristallin du substrat, la gravure anisotrope se faisant selon un plan cristallographique du substrat. Dans du silicium, ce sont les plans de la famille <111> qui limitent les bords de gravure. Ces substrats sont disponibles dans le commerce. Ce procédé est décrit par exemple dans le document FR-Al-2 664 729.In the outer monocrystalline layer 103 is etched first flared casings 104 to house one of the pole pieces of each pair of pole pieces to be on this first substrate (Figure 6A). This etching is, for example in the case of silicon, an anisotropic wet chemical etching, for example in a KOH potash bath. The inclination of one of the flanks of each first caisson conditions the value of the azimuth angle α. This azimuth angle is the same for all air gaps that will be made. This inclination takes advantage of the monocrystalline nature of the substrate, the anisotropic etching taking place along a crystallographic plane of the substrate. In silicon, it is the <111> family planes that limit the etching edges. These substrates are commercially available. This process is described, for example, in document FR-A-2,664,729.
La couche de matériau électriquement isolant 102 du substrat 100 sert de couche d'arrêt lors de la gravure des premiers caissons 104. L'épaisseur de la couche superficielle semi-conductrice 103 du
substrat 100 conditionne la largeur des pièces polaires des paires se trouvant sur ce premier support.The layer of electrically insulating material 102 of the substrate 100 serves as a stop layer during the etching of the first caissons 104. The thickness of the semiconducting surface layer 103 of the substrate 100 determines the width of the pole pieces of the pairs on this first support.
On forme ensuite une couche 105 de matériau amagnétique, d'épaisseur sensiblement uniforme sur les flancs des premiers caissons 104. Dans le cas où les premiers caissons sont réalisés dans du silicium, on peut pour cela procéder à une oxydation thermique superficielle du premier substrat ainsi travaillé (figure 6A) . On aurait pu en variante déposer le matériau amagnétique sur les flancs des premiers caissons .A layer 105 of non-magnetic material, of substantially uniform thickness, is then formed on the flanks of the first caissons 104. In the case where the first caissons are made of silicon, it is possible to carry out a surface thermal oxidation of the first substrate as well as worked (Figure 6A). One could have alternatively deposit the non-magnetic material on the flanks of the first boxes.
La couche 105 de matériau amagnétique qui tapisse un des flancs évasés de chacun des premiers caissons 104 va constituer l'entrefer azimuté e de chacune des paires de pièces polaires se trouvant sur ce substrat 100.The layer 105 of non-magnetic material which lines one of the flanks flared of each of the first boxes 104 will constitute the azimuth gap e of each pairs of polar parts on the substrate 100.
On dépose, par exemple par électrolyse, un matériau magnétique dans les premiers caissons 104. Le matériau magnétique peut être feuilleté ou non, par exemple un alliage de NiFe, CoFe ou de CoFeX où X représente un matériau approprié tel que du Cr, du Cu ou autre.An electromagnetic material is deposited, for example by electromagnetic material, in the first boxes 104. The magnetic material may or may not be laminated, for example an alloy of NiFe, CoFe or CoFeX where X represents a suitable material such as Cr, Cu Or other.
La surface du substrat 100 ainsi travaillé est planarisée de manière à ce que l'oxyde affleure et que le matériau magnétique présente l'épaisseur voulueThe surface of the substrate 100 thus worked is planarized so that the oxide is flush and that the magnetic material has the desired thickness
(figure 6B) . Ce matériau magnétique forme une première pièce polaire 106 de chaque paire de pièces polaires.(Figure 6B). This magnetic material forms a first pole piece 106 of each pair of pole pieces.
On grave ensuite de manière isotrope des seconds caissons 107 devant loger l'autre pièce polaire de chaque paire de pièces polaires devant se trouver sur le premier substrat 100 (figure 6C) . Ces seconds
caissons 107 sont contigus aux premiers caissons 104 et se trouvent tous d'un même côté de ces premiers caissons 104. Dans l'exemple, ils sont à gauche des premiers caissons 104. Ils pourraient être à droite. L'angle d'azimut serait alors différent, il s'agirait d'un autre plan de la famille <111>. Le matériau monocristallin de la couche superficielle 103 qui avoisine l'entrefer e est ôté par la gravure. Le matériau amagnétique de l'entrefer e sert de flanc à ces seconds caissons 107.Isotropic is then etched second boxes 107 to accommodate the other pole piece of each pair of pole pieces to be on the first substrate 100 (Figure 6C). These seconds caissons 107 are contiguous with the first caissons 104 and are all on the same side of these first caissons 104. In the example, they are on the left of the first caissons 104. They could be on the right. The angle of azimuth would then be different, it would be another plane of the family <111>. The monocrystalline material of the surface layer 103 which is close to the air gap e is removed by etching. The non-magnetic material of the gap e serves as a flank for these second boxes 107.
On peut également graver lors de cette étape, des troisièmes caissons 128 devant accueillir les pièces magnétiques arrière de fermeture du circuit magnétique qui sera terminé ultérieurement. Ces troisièmes caissons 128 sont situés en face de chacune des paires de pièces polaires 106, 108. On peut se référer à la figure 6E qui montre en vue de dessus les paires de pièces polaires 106, 108 et les pièces magnétiques arrière de fermeture 55.3.It is also possible to engrave during this step, third boxes 128 to accommodate magnetic magnetic circuit closing rear parts that will be completed later. These third boxes 128 are located in front of each pair of pole pieces 106, 108. Reference can be made to FIG. 6E which shows in plan view the pairs of pole pieces 106, 108 and the rear magnetic closure pieces 55.3.
La profondeur de ces seconds caissons et de ces troisièmes caissons est sensiblement la même que celle des premiers caissons du fait de la couche d'arrêt 102 qui limite les deux gravures.The depth of these second boxes and third boxes is substantially the same as that of the first boxes because of the stop layer 102 which limits the two engravings.
On remplit ces seconds caissons 107 et troisièmes caissons 128 de matériau magnétique et on termine par une étape de planarisation comme décrit précédemment (figure 6D) . Le matériau magnétique forme la seconde pièce polaire 108 de chaque paire et la pièce magnétique arrière 55.3 de fermeture. Cette étape de planarisation permet d'ajuster en final la largeur P des paires de pièces polaires. Elle permet aussi
d'égaliser la surface des pièces polaires de chaque paire en leur donnant un très bon alignement sur leur face supérieure (sur la figure 6D) leur face inférieure, reposant sur la couche isolante 102, étant déjà plane et ayant un très bon alignement.These second boxes 107 and third chambers 128 are filled with magnetic material and are terminated by a planarization step as previously described (FIG. 6D). The magnetic material forms the second pole piece 108 of each pair and the rear magnetic piece 55.3 closing. This planarization step makes it possible to finally adjust the width P of pairs of pole pieces. It also allows to equalize the surface of the pole pieces of each pair giving them a very good alignment on their upper face (in Figure 6D) their lower face, resting on the insulating layer 102, being already flat and having a very good alignment.
On va maintenant réaliser le reste du guide de flux du circuit magnétique de chacune des têtes magnétiques du dispositif, c'est-à-dire, dans cet exemple, les jambes magnétiques qui relient magnétiquement les deux pièces polaires d'une paire à la pièce magnétique arrière de fermeture ainsi que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture. La méthode employée se base sur l'enseignement de la demande de brevet FR-Al-2 745 111.We will now realize the rest of the flow guide of the magnetic circuit of each of the magnetic heads of the device, that is to say, in this example, the magnetic legs that magnetically connect the two pole pieces of a pair to the piece magnetic rear closure and the recording means and / or reading. The method employed is based on the teaching of the patent application FR-A-2,745,111.
On rappelle que dans cet exemple, les moyens d'enregistrement et/ou de lecture sont des solénoïdes qui entourent le circuit magnétique au niveau des jambes ou des branches du fer à cheval. On se réfère aux figures 7A à 7E. Les figures 7A à 7D sont des coupes le long d'une jambe du circuit magnétique.It will be recalled that in this example, the recording and / or reading means are solenoids that surround the magnetic circuit at the level of the legs or branches of the horseshoe. Referring to Figures 7A-7E. Figures 7A-7D are sections along a leg of the magnetic circuit.
On dispose d'un second substrat 130, dit additionnel, avec une couche de base 131 par exemple semi-conductrice recouverte d'une couche en matériau électriquement isolant 132. On pourrait très bien utiliser un substrat massif (en anglais bulk) pour la couche de base 131, éventuellement résistant à l'usure.There is a second substrate 130, called additional, with a base layer 131 for example semiconductor covered with a layer of electrically insulating material 132. It could very well use a bulk substrate (in English bulk) for the layer base 131, possibly resistant to wear.
On va commencer par former pour chaque solénoïde une première nappe de conducteurs qui va s'étendre entre une pièce polaire et une pièce magnétique arrière de fermeture ou le long d'une branche du circuit magnétique en fer à cheval.
Pour cela, dans la couche isolante 132, aux endroits où doivent se trouver des solénoïdes, des premiers sillons 134 parallèles dirigés sensiblement perpendiculairement à l'axe des noyaux magnétiques des solénoïdes. Ces noyaux correspondent aux jambes 53.1, 53.2 illustrées sur la figure 5B.We will start by forming for each solenoid a first layer of conductors that will extend between a pole piece and a closing rear magnetic piece or along a branch of the magnetic circuit horseshoe. For this, in the insulating layer 132, at the locations where should be solenoids, first parallel grooves 134 directed substantially perpendicular to the axis of the magnetic cores of the solenoids. These cores correspond to the legs 53.1, 53.2 illustrated in FIG. 5B.
On comble ces premiers sillons 134 par dépôt, par exemple par électrolyse, d'un matériau conducteur 135 par exemple à base de cuivre (figure 7A) . Ce matériau conducteur 135 forme des portions de conducteur de la première nappe de conducteurs .These first grooves 134 are filled by depositing, for example by electrolysis, a conductive material 135, for example copper-based (FIG. 7A). This conductive material 135 forms conductor portions of the first layer of conductors.
On réalise ensuite une planarisation, par exemple mécanique ou préférablement mécano-chimique pour éliminer le matériau conducteur 135 superflu se trouvant au dessus des sillons 134.A planarization is then carried out, for example mechanical or preferably mechano-chemical, to remove the superfluous conductive material 135 located above the grooves 134.
On dépose une couche électriquement isolante 136 par exemple de l'oxyde de silicium, par exemple par PECVD, sur toute la surface planarisée avec une épaisseur supérieure à celle désirée pour les jambes. On grave la couche isolante 136 pour faire apparaître des caissons 133 au niveau des jambes du circuit magnétique que l'on désire réaliser. Le fond de ces caissons 133 a une épaisseur suffisante pour isoler électriquement les conducteurs de la première nappe de conducteurs du circuit magnétique. On dépose dans ces caissons 133 un matériau magnétique 137 éventuellement feuilleté comme indiqué précédemment pour la réalisation des pièces polaires (figure 7B) . On planarise la surface obtenue comme expliqué plus haut.An electrically insulating layer 136, for example silicon oxide, for example PECVD, is deposited over the entire planarized surface with a thickness greater than that desired for the legs. The insulating layer 136 is etched to reveal caissons 133 at the legs of the magnetic circuit that is to be made. The bottom of these boxes 133 has a sufficient thickness to electrically isolate the conductors of the first layer of conductors of the magnetic circuit. In these boxes 133 is deposited a magnetic material 137 optionally laminated as indicated above for producing the pole pieces (Figure 7B). The surface obtained is planarized as explained above.
On va maintenant réaliser des conducteurs latéraux des solénoïdes. On dépose une couche
électriquement isolante 138 sur la surface planarisée (par exemple de l'oxyde de silicium par PECVD) . On grave des puits 139 dans les couches isolantes 138 et 136 jusqu'à atteindre les extrémités des conducteurs 135 de la première nappe de conducteurs. On remplit ces puits 139, par exemple par électrolyse, de matériau conducteur 140, par exemple à base de cuivre (figure 7C) . On planarise la surface obtenue. Ce matériau conducteur forme les conducteurs latéraux 140 des solénoïdes .Lateral conductors of the solenoids will now be made. We lay a layer electrically insulating 138 on the planarized surface (for example silicon oxide by PECVD). Wells 139 are etched in the insulating layers 138 and 136 until the ends of the conductors 135 of the first layer of conductors are reached. These wells 139 are filled, for example by electrolysis, with conductive material 140, for example copper-based (FIG. 7C). Planarize the resulting surface. This conductive material forms the lateral conductors 140 of the solenoids.
On réalise ensuite à la figure 7D une seconde nappe horizontale (sur la figure) de conducteurs des solénoïdes en déposant une couche de matériau électriquement isolant 141 en surface de la structure obtenue, en gravant des seconds sillons 142 dans ce matériau dont les extrémités mettent à nu les conducteurs latéraux 140 ainsi réalisés. On comble les seconds sillons 142 avec du matériau conducteur 143 à base de cuivre déposé par exemple par électrolyse. On planarise la surface obtenue. Le matériau conducteur 143 forme les conducteurs de la seconde nappe de conducteurs des solénoïdes. On recouvre le matériau conducteur 143 d'une couche de matériau électriquement isolant 144. On prévoit de faire des reprises de contact au niveau des extrémités du conducteur des solénoïdes (non visibles) .FIG. 7D then produces a second horizontal layer (in the figure) of solenoid conductors by depositing a layer of electrically insulating material 141 on the surface of the structure obtained, by etching second grooves 142 in this material, the ends of which the lateral conductors 140 thus produced. The second grooves 142 are filled with conductive material 143 based on copper deposited for example by electrolysis. Planarize the resulting surface. The conductive material 143 forms the conductors of the second conductor ply of the solenoids. The conductive material 143 is covered with a layer of electrically insulating material 144. It is intended to make contact resumptions at the ends of the conductor of the solenoids (not visible).
Sur les figures 7C et 7D, on a voulu montrer, en représentant les caissons 133 en pointillés, qu'ils ne se trouvent pas dans le même plan de coupe que les puits 139. Ces derniers sont juste « en avant » des caissons 133, ils ne traversent pas le
matériau magnétique 137 qui remplit les caissons mais le matériau de la couche isolante 136. Quant aux sillons 134, ils ne sont pas tout à fait perpendiculaires avec l'axe des caissons 133.In FIGS. 7C and 7D, it has been shown, by showing the boxes 133 in dotted lines, that they are not in the same plane of section as the wells 139. These are just "in front" of the boxes 133, they do not cross the magnetic material 137 which fills the boxes but the material of the insulating layer 136. As for the grooves 134, they are not quite perpendicular to the axis of the boxes 133.
La figure 7E illustre avec une échelle autre que celles des figures 7A à 7D et en vue de côté par rapport à la figure 7D la configuration du second substrat 130 prêt à être assemblé au premier substrat 100.FIG. 7E illustrates with a scale other than those of FIGS. 7A to 7D and in side view with respect to FIG. 7D the configuration of the second substrate 130 ready to be assembled to the first substrate 100.
Le second substrat 130 peut éventuellement accueillir des moyens de traitement de signaux délivrés ou acquis par les têtes magnétiques.The second substrate 130 may optionally accommodate signal processing means delivered or acquired by the magnetic heads.
On positionne avec alignement et on assemble le second substrat 130 de la figure 7E et le premier substrat illustré à la figure 6D, après retournement de l'un d'entre eux. On prend garde à mettre en contact magnétique les jambes du circuit magnétique d'un côté avec les paires de pièces polaires et de l'autre avec une pièce magnétique arrière de fermeture.Positioning is aligned and assembles the second substrate 130 of Figure 7E and the first substrate shown in Figure 6D, after turning one of them. Care is taken to magnetic contact the legs of the magnetic circuit on one side with the pairs of pole pieces and the other with a magnetic rear closure part.
L'assemblage peut se faire par toute technique connue de l'homme de l'art dans le domaine des micro-technologies et en particulier des microsystèmes électromécaniques (MEMS) .The assembly can be done by any technique known to those skilled in the art in the field of micro-technologies and in particular electromechanical microsystems (MEMS).
Des modes d'assemblage avantageux sont le collage avec de la colle, le soudage anodique (en anglais anodic bonding) , le collage moléculaire (en anglais direct bonding) comme décrit dans le document FR-A- 2 774 797 ou le collage par microbilles (en anglais bail bonding ou flip chip bonding) .
Sur la figure 8A, le second substrat 130 a été assemblé par collage moléculaire ou autre, avec alignement, de manière à ce que les circuits magnétiques 137 soient raccordés magnétiquement chacun avec une paire de pièces polaires 106, 108, ce raccordement se faisant directement. L'alignement peut se faire par visée infrarouge par exemple ou sous rayons X.Advantageous assembly methods are bonding with glue, anodic bonding, and direct bonding as described in FR-A-2,774,797 or microbead bonding. (English bail bonding or flip chip bonding). In FIG. 8A, the second substrate 130 has been assembled by molecular bonding or other, with alignment, so that the magnetic circuits 137 are magnetically connected each with a pair of pole pieces 106, 108, this connection being made directly. The alignment can be done by infrared sighting for example or under X-rays.
Il ne reste plus qu'à éventuellement éliminer totalement ou partiellement la couche de base 131 du second substrat 130 (figure 8B) , par exemple par gravure sélective complète ou locale du matériau de cette couche de base 131 avec arrêt sur la couche isolante 132. On peut ainsi réaliser des reprises de contact à travers le matériau isolant de la couche 132 pour l'alimentation des moyens d'enregistrement et/ou de lecture (les solénoïdes formés par 135, 140, 143 dans ce cas particulier) .It remains only to eventually totally or partially eliminate the base layer 131 of the second substrate 130 (Figure 8B), for example by complete or local selective etching of the material of this base layer 131 with a stop on the insulating layer 132. It is thus possible to make contact resumptions through the insulating material of the layer 132 for feeding the recording and / or reading means (the solenoids formed by 135, 140, 143 in this particular case).
Il peut être intéressant de conserver la couche non travaillée 101 du premier substrat 100, dans ce cas elle pourra avantageusement être réalisée en un matériau résistant à l'usure par exemple en AlTiC, ZrO2, AlSiC.It may be advantageous to preserve the unworked layer 101 of the first substrate 100, in which case it may advantageously be made of a material resistant to wear, for example AlTiC, ZrO 2 , AlSiC.
Au lieu de réaliser le reste du guide de flux de chacune des têtes magnétiques ainsi que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture sur le substrat additionnel, on aurait pu les réaliser sur le premier substrat 100 au stade de la figure 6D en suivant les étapes décrites aux figures 7A à 7E. Une structure obtenue de cette façon serait similaire à celle de la figure 8B. Il est alors superflu de montrer
les différentes étapes conduisant à une telle structure, il suffit de se reporter à la description des figures 7A à 7E à la différence près que la couche électriquement isolante 132 sera déposée sur le premier substrat 100 au stade de la figure 6D. On peut par exemple déposer de l'oxyde de silicium par PECVD.Instead of making the rest of the flux guide of each of the magnetic heads as well as the recording and / or reading means on the additional substrate, they could have been made on the first substrate 100 at the stage of FIG. 6D, following the steps described in FIGS. 7A to 7E. A structure obtained in this way would be similar to that of Figure 8B. It is then superfluous to show the various steps leading to such a structure, it is sufficient to refer to the description of FIGS. 7A to 7E, with the difference that the electrically insulating layer 132 will be deposited on the first substrate 100 at the stage of FIG. 6D. For example, silicon oxide can be deposited by PECVD.
On procède ensuite à un traitement de la structure obtenue à la figure 8B de manière à donner aux substrats un angle d'inclinaison donné θ par rapport aux pistes magnétiques du support magnétique d' enregistrement .The structure obtained in FIG. 8B is then processed so as to give the substrates a given angle of inclination θ with respect to the magnetic tracks of the magnetic recording medium.
Ce traitement peut consister en une intégration d'un ou plusieurs blocs (ou puces) de têtes magnétiques sur un support mécanique commun. On peut se référer à la figure 9. Au préalable, on effectue un test des têtes magnétiques et on découpe la structure de la figure 8B en blocs (ou puces) 300, 301. En effet, comme on l'a vu précédemment, on a réalisé collectivement plusieurs centaines de têtes magnétiques. On monte un ou plusieurs de ces blocs 300, 301 sur un même support mécanique 350. Cette étape est connue sous la dénomination anglaise de « back-end » ou « packaging ». Le support mécanique 350 sera avantageusement réalisé dans un matériau résistant à l'usure tel que par exemple l'AlTiC (carbure de titane et alumine) qui est couramment utilisé par les fabricants de têtes magnétiques linéaires.This treatment can consist of an integration of one or more blocks (or chips) of magnetic heads on a common mechanical support. We can refer to Figure 9. Beforehand, we perform a test of the magnetic heads and cut the structure of Figure 8B blocks (or chips) 300, 301. Indeed, as we saw previously, we collectively made several hundred magnetic heads. One or more of these blocks 300, 301 are mounted on the same mechanical support 350. This step is known by the English name of "back-end" or "packaging". The mechanical support 350 will advantageously be made of a material resistant to wear such as for example AlTiC (titanium carbide and alumina) which is commonly used by manufacturers of linear magnetic heads.
On procède ensuite à une rectification du contour du support mécanique 350, par exemple au niveau de ses faces 351 de manière à ce que le premier substrat 100 puissent présenter un angle d'inclinaison
θ voulu par rapport aux pistes 47 du support magnétique d'enregistrement 44.The contour of the mechanical support 350 is then rectified, for example at its faces 351 so that the first substrate 100 can have an angle of inclination. θ desired with respect to the tracks 47 of the magnetic recording medium 44.
On pourrait bien sûr se passer du support mécanique. On pourrait directement réaliser une rectification de la structure de la figure 8A avant ou après la découpe en puces afin de faire apparaître l'angle d'inclinaison θ, notamment s'il est faible, sur les faces externes des substrats 100 et 110. Dans ce cas, des reprises de contact électrique se feront avantageusement par gravure locale.We could of course do without mechanical support. The structure of FIG. 8A could be directly corrected before or after the chip blanking in order to reveal the angle of inclination θ, especially if it is small, on the external faces of the substrates 100 and 110. in this case, electrical contact resumption will be advantageously by local etching.
Un deuxième mode de réalisation d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'invention va être décrit, ce dispositif est illustré sur la figure 10. Il s'agit d'un dispositif dénommé en anglais read while write dans lequel la lecture se fait pendant l'écriture. Ce dispositif est particulièrement intéressant car il permet de vérifier l'intégrité des données enregistrées pendant l'enregistrement.A second embodiment of a recording and / or reading device according to the invention will be described, this device is illustrated in FIG. 10. It is a device called in English read while write in which reading is done during writing. This device is particularly interesting because it makes it possible to check the integrity of the data recorded during the recording.
Le dispositif objet de l'invention comporte des premières têtes magnétiques 90 dédiées à l'écriture et des secondes têtes magnétiques 91 dédiées à la lecture. Ces premières et secondes têtes magnétiques forment une succession alternée, c'est-à-dire que dans la succession une première tête magnétique 90 est voisine d'une seconde tête magnétique 91.The device according to the invention comprises first magnetic heads 90 dedicated to writing and second magnetic heads 91 dedicated to reading. These first and second magnetic heads form an alternating succession, that is to say that in the succession a first magnetic head 90 is close to a second magnetic head 91.
Les premières paires de pièces polaires ppll, ppl2 des premières têtes magnétiques 90 sont réparties sur un substrat 93 et les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22 des secondes têtes magnétiques 91 sont réparties sur un autre substrat 94, les deux substrats sont empilés. Les premières et
secondes têtes magnétiques 90, 91 sont azimutées et elles ont toutes le même angle d'azimut α défini comme expliqué précédemment .The first pairs of pole pieces ppll, ppl2 of the first magnetic heads 90 are distributed on a substrate 93 and the second pairs of polar parts pp21, pp22 second magnetic heads 91 are distributed on another substrate 94, the two substrates are stacked. The first and second magnetic heads 90, 91 are azimutated and they all have the same azimuth angle α defined as explained above.
Les moyens d'enregistrement des premières têtes magnétiques 90 d'enregistrement prennent la forme de solénoïdes sl.l, si.2, alors que les moyens de lecture des secondes têtes magnétiques 91 de lecture sont de type magnétorésistance et prennent la forme d' au moins un barreau g, par exemple de matériau GMR .The recording means of the first recording magnetic heads 90 take the form of solenoid sl.l, si.2, whereas the reading means of the second magnetic reading heads 91 are of magnetoresistance type and take the form of minus a bar g, for example GMR material.
Le guide de flux cl, c2 du circuit magnétique de chacune des premières et secondes têtes magnétiques 90, 91 relie magnétiquement les pièces polaires ppll, ppl2, pp21, pp22 d'une tête 90, 91 respectivement. Ce guide de flux cl, c2 peut comporter deux jambes jl.l, jl-2, J2.1, j2.2 reliées magnétiquement d'un côté à une pièce polaire ppll, ppl2, pp21, pp22 et de l'autre à une unique pièce magnétique arrière al, a2 de fermeture. La liaison entre les jambes jl.l, jl.2, J2.1, j2.2 et les pièces polaires ppll, ppl2, pp21, pp22 peut être directe ou se faire par l'intermédiaire de plots magnétiques pl.l, pi.2 de raccordement cela dépend du substrat sur lequel se trouvent les pièces polaires de la tête magnétique.The flow guide cl, c2 of the magnetic circuit of each of the first and second magnetic heads 90, 91 magnetically connects the pole pieces ppll, ppl2, pp21, pp22 of a head 90, 91 respectively. This flow guide c1, c2 may comprise two legs jl.l, jl-2, J2.1, j2.2 magnetically connected on one side to a pole piece ppll, ppl2, pp21, pp22 and on the other side to a single magnetic rear piece al, a2 closing. The connection between legs J1, J1, J2.1, J2.2 and the pole pieces ppl1, ppl2, pp21, pp22 can be direct or via magnetic pads pl.l, pi. 2 connection depends on the substrate on which are the pole pieces of the magnetic head.
En variante le guide de flux du circuit magnétique pourrait être monolithique, sensiblement en forme de fer à cheval ou similaire dont chacune des extrémités seraient reliées magnétiquement à une pièce polaire.As a variant, the flux guide of the magnetic circuit could be monolithic, substantially in the form of a horseshoe or the like of which each end would be magnetically connected to a pole piece.
On se réfère aux figures HA à HD.Referring to Figures HA to HD.
On part d'un premier substrat 1000 avec une couche électriquement isolante 1002 prise en sandwich
entre deux couches externes 1001, 1003 dont une 1003 au moins est en matériau monocristallin.Starting from a first substrate 1000 with an electrically insulating layer 1002 sandwiched between two outer layers 1001, 1003 of which at least one 1003 is monocrystalline material.
Il peut s'agir d'un substrat de type semi¬ conducteur sur isolant, par exemple un substrat de type SOI. Un tel substrat semi-conducteur sur isolant n'est toutefois pas obligatoire.It may be a semi ¬ conductive type on-insulator substrate, such as a SOI type substrate. Such a semiconductor on insulator substrate is however not mandatory.
Avantageusement l'autre couche externe 1001, pourra être réalisée dans un matériau résistant à l'usure, ce matériau pouvant n'être ni semi-conducteur, ni monocristallin. Elle peut être réalisée par exemple en zircone ZrO2, en AlSiC (carbure de silicium et alumine) , en AlTiC (carbure de titane et alumine) , en alumine Al2O3 ou autre. Cette couche externe 1001 est avantageusement plus épaisse que celle qui est monocristalline.Advantageously, the other outer layer 1001 may be made of a material resistant to wear, this material may be neither semiconductor nor monocrystalline. It may be made for example of ZrO 2 zirconia, AlSiC (silicon carbide and alumina), AlTiC (titanium carbide and alumina), alumina Al 2 O 3 or other. This outer layer 1001 is advantageously thicker than that which is monocrystalline.
On va réaliser les premières paires de pièces polaires ppll, ppl2 des premières têtes magnétiques 90. On grave dans la couche monocristalline 1003 des premiers caissons 1004 évasés devant loger une des pièces polaires de chaque première paire de pièces polaires devant se trouver sur ce premier substrat 1000 (figure HA) . Comme dans l'exemple décrit aux figures 6, l'épaisseur et l'orientation cristallographique de la couche monocristalline 1003 sont choisis pour donner aux premières pièces polaires l'épaisseur souhaitée et l'angle d'azimut voulu. Cette gravure est une gravure anisotrope similaire à celle décrite à la figure 6A, c'est pourquoi on ne la décrit pas plus.The first pairs of polar parts ppll, ppl2 of the first magnetic heads 90 will be made. The first 1004 single-crystal layers 1003 are etched in the monocrystalline layer to house one of the pole pieces of each first pair of pole pieces to be on this first substrate. 1000 (Figure HA). As in the example described in FIG. 6, the thickness and the crystallographic orientation of the monocrystalline layer 1003 are chosen to give the first pole pieces the desired thickness and the desired azimuth angle. This etching is an anisotropic etching similar to that described in FIG. 6A, which is why it is not described any more.
On forme ensuite une couche 1005 de matériau amagnétique par exemple par oxydation thermique superficielle du premier substrat 1000 ainsi
travaillé (figure HA) quand sa couche 1003 est du silicium. Le substrat 1000 peut être formé que de la couche 1003 en silicium. La couche 1005 de matériau amagnétique qui tapisse un des flancs évasés de chacun des premiers caissons va constituer l'entrefer azimuté e de chacune des premières paires de pièces polaires qui vont se trouver sur ce substrat 1000.A layer 1005 of non-magnetic material is then formed, for example by surface thermal oxidation of the first substrate 1000 as well as worked (Figure HA) when its layer 1003 is silicon. The substrate 1000 may be formed of the silicon layer 1003. The layer 1005 of non-magnetic material which lines one of the flanks flared of each of the first caissons will constitute the air gap azimuth e of each of the first pair of polar pieces that will be on this substrate 1000.
On dépose par exemple par électrolyse, un matériau magnétique, feuilleté ou non, dans les premiers caissons 1004. Le matériau magnétique peut être par exemple un alliage de NiFe, CoFe ou de CoFeX où X représente un matériau approprié tel que du Cr, du Cu ou autre.For example, by electrolysis, a magnetic material, laminated or not, is deposited in the first boxes 1004. The magnetic material may be, for example, an alloy of NiFe, CoFe or CoFeX where X represents a suitable material such as Cr, Cu Or other.
La surface du substrat 1000 ainsi travaillé est éventuellement planarisée de manière à ce que l'oxyde affleure et que le matériau magnétique présente l'épaisseur voulue (figure HB) . Ce matériau magnétique forme une première pièce polaire ppll de chaque première paire de pièces polaires.The surface of the substrate 1000 thus worked is optionally planarized so that the oxide is flush and that the magnetic material has the desired thickness (Figure HB). This magnetic material forms a first pole piece ppll of each first pair of pole pieces.
On grave ensuite de manière isotrope des seconds caissons 1007 devant loger l'autre pièce polaire ppl2 de chaque première paire de pièces polaires devant se trouver sur le premier substrat 1000 (figure HC) . Ces seconds caissons 1007 sont contigus aux premiers caissons 1004 et se trouvent tous du même côté de ces premiers caissons 1004. Dans l'exemple, ils sont à droite des premiers caissons 1004. Ils pourraient être à gauche.Isotropic is then etched second boxes 1007 to accommodate the other pole piece ppl2 of each first pair of pole pieces to be on the first substrate 1000 (Figure HC). These second boxes 1007 are contiguous to the first boxes 1004 and are all on the same side of these first boxes 1004. In the example, they are on the right of the first boxes 1004. They could be on the left.
Le matériau monocristallin de la couche externe 1003 qui avoisine l'entrefer e est ôté par la gravure. Le matériau amagnétique de l'entrefer e sert
de flanc à ces seconds caissons 1007. La profondeur de ces seconds caissons est sensiblement la même que celle des premiers caissons du fait de la couche isolante 1002 qui sert de couche d'arrêt.The monocrystalline material of the outer layer 1003 which is close to the gap e is removed by etching. The non-magnetic material of the air gap serves flank to these second boxes 1007. The depth of these second boxes is substantially the same as that of the first boxes because of the insulating layer 1002 which serves as a barrier layer.
On remplit ces seconds caissons 1007 du matériau magnétique, feuilleté ou non, par électrolyse et on termine par une étape de planarisation comme décrit précédemment (figure HD) . Ce matériau magnétique forme une seconde pièce polaire ppl2 de chaque première paire de pièces polaires. Cette étape de planarisation permet d'ajuster en final la largeur des pièces polaires et d'aligner leurs bords.These second boxes 1007 are filled with magnetic material, laminated or not, by electrolysis and a planarization step is completed as described above (FIG. HD). This magnetic material forms a second pole piece ppl2 of each first pair of pole pieces. This planarization step makes it possible to finally adjust the width of the pole pieces and to align their edges.
On va maintenant réaliser les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22 des secondes têtes magnétiques 91. On se réfère à la figure 12A. On part d'un second substrat 1100 comportant une couche d'isolant 1120 enterrée entre deux couches externes 1110, 1130 dont l'une 1130 au moins est monocristalline (par exemple un substrat SOI) . Les explications sur le choix du premier substrat et l'épaisseur de sa couche monocristalline s'appliquent pour le second substrat.The second pair of polar pieces pp21, pp22 of the second magnetic heads 91 will now be made. Reference is made to FIG. 12A. Starting from a second substrate 1100 having an insulating layer 1120 buried between two outer layers 1110, 1130 at least one of which is monocrystalline (for example an SOI substrate). The explanations on the choice of the first substrate and the thickness of its monocrystalline layer apply for the second substrate.
On réalise dans la couche monocristalline 1130 par gravure anisotrope des premiers caissons 1140 que l'on remplit de matériau magnétique (feuilleté ou non) en prévoyant une étape de formation d'une couche de matériau amagnétique, (par exemple par oxydation thermique superficielle dans le cas du silicium) , avant le remplissage et la planarisation comme décrit aux figures HA et HB. La couche de matériau amagnétique porte la référence 1150 et l'une des secondes pièces polaires la référence pp22. La portion de matériau
amagnétique 1150 sur l'un des flancs des premiers caissons 1140 va former l'entrefer e des secondes paires de pièces polaires.In the monocrystalline layer 1130 anisotropic etching is carried out of the first boxes 1140 which are filled with magnetic material (laminated or not) by providing a step of forming a layer of non-magnetic material, (for example by superficial thermal oxidation in the case of silicon), before filling and planarization as described in Figures HA and HB. The nonmagnetic material layer has the reference 1150 and one of the second polar parts the reference pp22. The portion of material non-magnetic 1150 on one of the flanks of the first caissons 1140 will form the gap e second pairs of polar parts.
On réalise des seconds caissons 1170 par gravure isotrope comme décrit à la figure HC. Les seconds caissons 1170 jouxtent les premiers caissons 1140 et se situent tous du même côté de ces premiers caissons 1140. Dans l'exemple, ils sont à droite des premiers caissons 1140 comme expliqué précédemment lors de la réalisation les premières paires de pièces polaires sur le premier substrat 1000. Ils pourraient être à gauche, cela dépend notamment du mouvement relatif que l'on souhaite effectuer lors du retournement de l'un des substrats par rapport à l'autre au moment de leur assemblage. La position des seconds caissons 1170 dépend également de l'angle d'azimut final des paires de pièces polaires situées sur le second substrat. Son signe peut ainsi changer lors de l'étape ultérieure d'assemblage du premier substrat au second substrat.Second boxes 1170 are made by isotropic etching as described in FIG. The second caissons 1170 adjoin the first caissons 1140 and are all on the same side of these first caissons 1140. In the example, they are on the right of the first caissons 1140 as explained previously in the realization of the first pairs of polar parts on the first substrate 1000. They could be on the left, it depends in particular on the relative movement that is desired to perform during the reversal of one of the substrates relative to the other at the time of assembly. The position of the second boxes 1170 also depends on the final azimuth angle of pairs of pole pieces located on the second substrate. His sign can thus change during the subsequent step of assembling the first substrate to the second substrate.
On peut réaliser en même temps, entre les groupes de premiers et seconds caissons 1140, 1170, des paires de troisièmes caissons 1180 destinés à loger les paires de plots de raccordement magnétique pl.l, pi.2 destinés chacun à raccorder magnétiquement les pièces polaires ppll, ppl2 des premières paires de pièces polaires situées sur le premier substrat 1000 au circuit magnétique finalisé ultérieurement. Ces troisièmes caissons 1180 sont positionnés de manière à ce que les plots magnétiques d'une paire soient raccordés magnétiquement aux pièces polaires ppll, ppl2
d'une première paire de pièces polaires lorsque le premier substrat 1000 et le second substrat 1100 sont assemblés l'un à l'autre après retournement de l'un d'entre eux. Une rotation de 180° autour d'un axe transversal au substrat peut éventuellement être introduite pour que les angles d'azimut souhaités sur les deux substrats soient obtenus.At the same time, pairs of third boxes 1180 can be made at the same time, between the groups of first and second boxes 1140, 1170, intended to house the pairs of magnetic connection pads pl.l, pi.2 each intended to magnetically connect the pole pieces. ppll, ppl2 of the first pairs of pole pieces located on the first substrate 1000 to the magnetic circuit finalized later. These third boxes 1180 are positioned so that the magnetic pads of a pair are magnetically connected to the pole pieces ppll, ppl2 a first pair of pole pieces when the first substrate 1000 and the second substrate 1100 are assembled to each other after turning one of them. A rotation of 180 ° about an axis transverse to the substrate may optionally be introduced so that the desired azimuth angles on the two substrates are obtained.
On peut réaliser à ce stade toujours par gravure isotrope des quatrièmes caissons 1210 arrière destinés à loger les pièces magnétiques arrière de fermeture al, a2 qui sont des parties du circuit magnétique de chacune des premières et secondes têtes magnétiques du dispositif d'enregistrement et/ou de lecture. Ces pièces arrière sont visibles sur la figure 12B qui est une vue de dessus. Ces quatrièmes caissons 1210 sont positionnés de manière à ce que les pièces magnétiques arrière de fermeture al, a2 soient en regard des premières et secondes paires de pièces polaires ppll, ppl2, pp21, pp22. Elles sont au même niveau que les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22 mais pas au même niveau que les premières paires de pièces polaires ppll, ppl2. On pourra se référer à la figure 12B qui montre en vue de dessus partielle des paires de plots magnétiques pl.l, pi.2 et des pièces magnétiques arrière de fermeture al, a2. La réalisation de ces quatrièmes caissons 1210 prend toute son importance lorsque le circuit magnétique comporte deux jambes magnétiques et une pièce magnétique arrière de fermeture. Cette étape est superflue lorsque le circuit magnétique est monolithique.
On remplit ces seconds caissons 1170, troisièmes caissons 1180 et quatrièmes caissons 1210 de matériau magnétique (feuilleté ou non) comme décrit à la figure HD et on réalise une planarisation de surface. Le matériau magnétique va former en final d'une part les secondes pièces polaires pp21 des secondes paires de pièces polaires et d' autre part les plots de raccordement pl.l, pi.2.At this stage, it is still possible to carry out, by isotropic etching, fourth rear boxes 1210 intended to house the rear closure magnetic pieces al, a2 which are parts of the magnetic circuit of each of the first and second magnetic heads of the recording device and / or reading. These rear parts are visible in Figure 12B which is a view from above. These fourth boxes 1210 are positioned so that the closing rear magnetic parts al, a2 are opposite first and second pairs of pole pieces ppll, ppl2, pp21, pp22. They are at the same level as the second pairs of polar pieces pp21, pp22 but not at the same level as the first pairs of polar pieces ppll, ppl2. 12B shows in partial top view pairs of magnetic pads pl.l, pi.2 and closing magnetic rear parts al, a2. The realization of these fourth boxes 1210 takes all its importance when the magnetic circuit has two magnetic legs and a magnetic rear closing part. This step is superfluous when the magnetic circuit is monolithic. These second caissons 1170, third caissons 1180 and fourth caissons 1210 are filled with magnetic material (laminated or not) as described in FIG. HD and a planarization of the surface is carried out. The magnetic material will form in the end on the one hand the second pole pieces pp21 second pairs of pole pieces and secondly the connection pads pl.l, pi.2.
On a ajusté de manière voulue l'angle d'azimut des entrefers e des premières et secondes paires de pièces polaires. Ces angles d'azimut seront égaux au moment de leur réalisation puisqu'en final après assemblage des substrats 1000 et 1100 les angles d'azimut doivent être égaux et de même signe. On a également ajusté de manière voulue la largeur des pièces polaires qui n'est pas forcément égale d'un substrat à l'autre. Les têtes magnétiques de lecture lisent souvent seulement une partie de la piste écrite.The azimuth angle of the air gaps e of the first and second pairs of pole pieces has been suitably adjusted. These azimuth angles will be equal at the moment of their realization since in the final after assembly of the substrates 1000 and 1100, the azimuth angles must be equal and of the same sign. It has also been desired to adjust the width of the pole pieces which is not necessarily equal from one substrate to another. Magnetic reading heads often read only part of the written track.
Il est avantageux avant de recourir à l'assemblage des deux substrats, de déposer en surface d'au moins un des substrats 1000, 1100, une couche isolante 500 (par exemple de l'oxyde de silicium) et/ou une couche de blindage magnétique et en préparer la surface de manière à ajuster la distance d inter-pièce polaire. Cette couche 500 permet aussi d'optimiser l'assemblage des substrats. Le matériau de la couche isolante pourra avantageusement être dans un matériau résistant à l'usure de manière à limiter l'usure du dispositif d'enregistrement et/ou de lecture. Son choix pourra aussi faciliter l'assemblage des substrats.
On pourra avantageusement laisser des ouvertures dans la couche de blindage 500 au niveau des plots magnétiques pl.l, pi.2, que la couche de blindage soit située sur l'un et/ou l'autre des substrats.It is advantageous before resorting to the assembly of the two substrates, to deposit on the surface of at least one of the substrates 1000, 1100, an insulating layer 500 (for example of silicon oxide) and / or a shielding layer magnetic and prepare the surface to adjust the inter-piece polar distance. This layer 500 also makes it possible to optimize the assembly of the substrates. The material of the insulating layer may advantageously be in a material resistant to wear so as to limit the wear of the recording device and / or reading. His choice may also facilitate the assembly of substrates. It will be possible advantageously to leave apertures in the shielding layer 500 at the magnetic pads pl.l, pi.2, that the shielding layer is located on one and / or the other of the substrates.
La couche isolante 500 du côté des têtes de lecture peut aussi contenir des moyens de lecture magnétorésistifs, ce qui est particulièrement intéressant pour les barreaux magnétorésistifs (MR, GMR) directement couplés aux pièces polaires. Ils sont représentés sur la figure 14C.The insulating layer 500 on the read head side may also contain magnetoresistive reading means, which is particularly advantageous for the magnetoresistive bars (MR, GMR) directly coupled to the pole pieces. They are shown in Figure 14C.
On va ensuite positionner avec alignement et assembler le premier substrat 1000 et le second substrat 1100 par leurs faces travaillées, après retournement de l'un d'entre eux. On prend garde à aligner chaque plot magnétique pl.l, pi.2 avec une pièce polaire ppll, ppl2 du premier substrat. Cet alignement peut se faire par visée infrarouge par exemple ou sous rayons X. Le retournement de l'un des substrats 1000 ou 1100 peut entraîner le changement de signe de l'angle d'azimut des paires de pièces polaires qui se trouvent sur ce substrat. Cela dépend de la manière dont l'on procède. S'il y a à la fois retournement et rotation de 180° du substrat autour d'un axe transversal il y aura changement de signe.We will then position with alignment and assemble the first substrate 1000 and the second substrate 1100 by their worked faces, after turning one of them. Care is taken to align each magnetic pad pl.l, pi.2 with a pole piece ppll, ppl2 of the first substrate. This alignment can be done by infrared sighting, for example or under X-rays. The reversal of one of the substrates 1000 or 1100 can cause the sign change of the azimuth angle of the pairs of polar pieces that are on this substrate. . It depends on how you do it. If there is both reversal and 180 ° rotation of the substrate around a transverse axis there will be sign change.
L'assemblage peut se faire par toute technique employée en micro-technologies connue de l'homme de l'art ou par assemblage moléculaire comme décrit dans le premier exemple de réalisation. Une autre méthode d'assemblage particulièrement intéressante est l'assemblage par billes fusibles conductrices (en anglais flip chip bonding) . La figure
12C illustre schématiquement les deux substrats 1000, 1100 tels que représentés sur les figures 10D et HA respectivement sur le point d'être assemblés par des billes 230 en alliage fusible.The assembly can be done by any technique used in micro-technologies known to those skilled in the art or by molecular assembly as described in the first embodiment. Another particularly interesting method of assembly is the assembly by conductive fusible beads (English flip chip bonding). The figure 12C schematically illustrates the two substrates 1000, 1100 as shown in Figures 10D and HA respectively about to be assembled by beads 230 fusible alloy.
Cette solution permet à la fois d' avoir un alignement très précis (submicronique) en X-Y et de pouvoir assurer des connexions électriques entre les différents substrats. La demande de brevet FR-A-2 807 546 décrit cette méthode d'assemblage pour notamment des têtes d'impression c'est pourquoi on ne donne pas plus de détails ici.This solution makes it possible to have a very precise alignment (submicron) in X - Y and to be able to ensure electrical connections between the different substrates. The patent application FR-A-2 807 546 describes this method of assembly for particular printheads that is why we do not give more details here.
On peut ensuite éliminer la couche 1110 non travaillée du second substrat 1001. Cette élimination peut se faire de manière sélective par exemple par attaque chimique avec par exemple de l'hydroxyde de potassium KOH ou par attaque mécano-chimique avec arrêt sur la couche isolante enterrée 112 (figure 12D) . On peut si nécessaire, être amené à amincir la couche isolante enterrée 1120 pour faire apparaître ou quasi apparaître les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22 et les paires de plots magnétiques pl.l, pi.2.The untreated layer 1110 can then be removed from the second substrate 1001. This removal can be carried out selectively, for example by etching with, for example, potassium hydroxide KOH or by chemical mechanical etching with stopping on the buried insulating layer. 112 (Figure 12D). If necessary, it may be necessary to thin the buried insulating layer 1120 to reveal or almost appear the second pair of polar pieces pp21, pp22 and the pairs of magnetic pads pl.l, pi.2.
On se réfère aux figures 13A et 13B. On va maintenant réaliser le reste du guide de flux de chacune des têtes magnétiques, c'est à dire dans cet exemple les jambes magnétiques jl.l, jl.2, J2.1, J2.2, ainsi que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture qui sont sous forme de solénoïdes sll, sl2 pour les premières têtes magnétiques 90 et sous forme de barreau g par exemple de matériau GMR pour les secondes têtes magnétiques. Si à la figure 12A, les pièces magnétiques arrière de fermeture n'ont pas été réalisée, le circuit
magnétique monolithique sera sensiblement en forme de fer à cheval. La méthode employée s'inspire de celle décrite dans la demande de brevet FR-Al-2 745 111.Referring to Figures 13A and 13B. We will now realize the rest of the flow guide of each of the magnetic heads, ie in this example the magnetic legs jl.l, jl.2, J2.1, J2.2, and the recording means and / or reading which are in the form of solenoids s11, sl2 for the first magnetic heads 90 and in the form of a bar g for example of material GMR for the second magnetic heads. If in Figure 12A, the rear magnetic closing parts have not been realized, the circuit Monolithic magnetic will be substantially horseshoe shaped. The method employed is inspired by that described in patent application FR-A-2 745 111.
La réalisation des jambes et des solénoïdes est similaire à ce qui a été décrit aux figures 7A à 7E, c'est pourquoi on ne le décrit pas de nouveau entièrement. On dispose d'un troisième substrat 1300 (dit substrat additionnel) avec une couche de base 1310 (par exemple semi-conductrice ou résistante à l'usure) recouverte d'une couche en matériau électriquement isolant 1320. On pourrait très bien utiliser un substrat massif (en anglais bulk) électriquement isolant ou recouvert d'un isolant. On procède comme décrit aux figures 7 jusqu'à la figure 7C. Toutefois, on ne réalise pas les gravures des caissons devant accueillir les conducteurs 134, 139 aux endroits où se trouvent les jambes 137 devant coopérer avec les barreaux g de matériau GMR.The embodiment of the legs and solenoids is similar to what has been described in FIGS. 7A-7E, which is why it is not fully described again. There is a third substrate 1300 (called additional substrate) with a base layer 1310 (for example semiconductive or resistant to wear) covered with a layer of electrically insulating material 1320. One could very well use a substrate massive (in English bulk) electrically insulating or covered with insulation. The procedure is as described in FIGS. 7 and 7C. However, the engravings of the boxes to accommodate the conductors 134, 139 are not carried out at the locations where the legs 137 are to cooperate with the bars g of material GMR.
Par contre on réalise sur chacune des jambes J2.2 concernées un entrefer eg par tout moyen connu de l'état de l'art par exemple en réalisant deux sous-caissons 133' voisins au lieu d'un seul dans la couche isolante 136. Ces sous-caissons sont illustrés sur la figure 13A. On remplit les sous-caissons 133' de matériau magnétique (feuilleté ou non) et on planarise. Le dépôt de la couche d'isolant 138 de la figure 7C va se faire en plusieurs étapes. On dépose sur la surface planarisée une mince sous-couche d'isolant 138a (typiquement de quelques nanomètres) par exemple par pulvérisation. On dépose ensuite une couche de matériau GMR. On grave cette couche aux endroits où l'on désire
éliminer le matériau GMR. Le matériau GMR qui subsiste est référencé g. Il peut s'agir d'une gravure sèche par exemple. On dépose ensuite une autre sous-couche d'isolant 138b pour compléter la couche 138. On peut continuer les bobinages de solénoïde comme décrit aux figures 7C, 7D. Il n'est pas nécessaire de décrire ces étapes. Par un procédé similaire, on aurait pu réaliser les barreaux g de matériau GMR sous les jambes j2.2.On the other hand, on each of the legs J2.2 concerned, an air gap is made by any known means of the state of the art, for example by producing two adjacent sub-boxes 133 'instead of one in the insulating layer 136. These sub-boxes are illustrated in Figure 13A. The sub-boxes 133 'are filled with magnetic material (laminated or not) and planarized. The deposition of the insulating layer 138 of FIG. 7C will be done in several steps. A thin insulator layer 138a (typically a few nanometers) is deposited on the planarized surface, for example by spraying. A layer of GMR material is then deposited. We engrave this layer where we want remove GMR material. The remaining GMR material is referenced g. It can be a dry etching for example. Another insulating sub-layer 138b is then deposited to complete the layer 138. The solenoid coils can be continued as described in FIGS. 7C, 7D. It is not necessary to describe these steps. By a similar method, the bars g of material GMR could be made under the legs j2.2.
Sur la figure 13B, on a représenté à la manière de la figure 7E, le troisième substrat 1300 avec une couche de base 1310 (par exemple semi- conductrice) recouverte d'une couche en matériau électriquement isolant 1320 supportant les jambes magnétiques jl.l, jl.2, J2.1, J2.2, les solénoïdes sll, sl2 et les barreaux g en matériau GMR.FIG. 13B shows, in the manner of FIG. 7E, the third substrate 1300 with a base layer 1310 (for example semiconducting) covered with a layer of electrically insulating material 1320 supporting the magnetic legs jl.l , J1.2, J2.1, J2.2, the solenoids s11, sl2 and the bars g made of GMR material.
A la figure 14A, on positionne avec alignement et on assemble le troisième substrat 1300 et la structure illustrée à la figure 12D, après retournement de l'un d'entre eux. L'assemblage peut se faire par l'une des méthodes décrites plus haut. La couche isolante 1120 peut être éliminée partiellement ou totalement. Les couches 1120 et 1320 étant de même nature, on n'a pas forcément intérêt à éliminer la couche 1120 car elle peut être utile pour le collage moléculaire. Un polissage mécano-chimique peut en enlever une partie.In Figure 14A is positioned with alignment and assembles the third substrate 1300 and the structure shown in Figure 12D, after turning one of them. The assembly can be done by one of the methods described above. The insulating layer 1120 may be partially or completely removed. The layers 1120 and 1320 being of the same nature, it is not necessarily beneficial to eliminate the layer 1120 because it may be useful for molecular bonding. Chemical mechanical polishing can remove some of it.
Sur la figure 14A, le troisième substrat 1300 a été assemblé par collage moléculaire ou autre avec alignement. Ainsi les circuits magnétiques jl.l, jl.2 sont raccordés magnétiquement chacun avec une paire de pièces polaires ppll, ppl2 via un plot
magnétique pl.l, pi.2 et tous les deux avec une pièce magnétique de fermeture al. De même, les circuits magnétiques J2.1, j2.2 sont raccordés magnétiquement chacun avec une paire de pièces polaires pp21, pp22 et tous les deux avec une pièce magnétique de fermeture. Il ne reste plus qu'à éliminer partiellement ou totalement la couche de base 1310 du troisième substrat 1300 (figure 14B) , par exemple par gravure sélective du matériau semi-conducteur avec arrêt sur la couche isolante 1320. On peut ainsi réaliser des reprises de contact à travers le matériau isolant des couches 1320 et suivantes pour l'alimentation des moyens d'enregistrement et/ou de lecture (les solénoïdes sl.l, si.2 et les barreaux g en matériau GMR) . La figure 13A et les figures 13B et 14A, 14B sont des coupes faites dans des plans différents, c'est pour cela que l'entrefer eg n'est visible que sur la figure 13A.In Fig. 14A, the third substrate 1300 has been assembled by molecular bonding or the like with alignment. Thus the magnetic circuits jl.l, jl.2 are magnetically connected each with a pair of polar pieces ppll, ppl2 via a pad magnetic pl.l, pi.2 and both with a magnetic closure part al. Similarly, the magnetic circuits J2.1, J2.2 are magnetically connected each with a pair of pole pieces pp21, pp22 and both with a magnetic closure piece. It remains only to partially or completely eliminate the base layer 1310 of the third substrate 1300 (FIG. 14B), for example by selective etching of the semiconductor material with a stop on the insulating layer 1320. contact through the insulating material of the layers 1320 and following for the supply of the recording and / or reading means (solenoid sl.l, si.2 and bars g GMR material). FIG. 13A and FIGS. 13B and 14A, 14B are sections made in different planes, for this reason the air gap eg is visible only in FIG. 13A.
On peut procéder ensuite au montage d'une ou plusieurs puces de têtes magnétiques multiples sur un même support mécanique comme décrit à la figure 9. On procède alors également à la rectification, comme expliqué lors de la description de cette figure 9.We can then proceed to the mounting of one or more chips of multiple magnetic heads on the same mechanical support as described in Figure 9. It is then also rectified, as explained in the description of this figure 9.
La figure 14C illustre un autre exemple d'un dispositif d'enregistrement et de lecture selon l'invention dérivé de l'exemple des figures 14A, 14B. Dans cet exemple, les premières paires de pièces polaires ppll, ppl2 sont dédiées à la lecture et les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22 sont dédiées à l'enregistrement. La couche 500 insérée entre le premier substrat 1000 et le second substrat 1100 contient un écran de blindage magnétique 600. Des
moyens de lecture magnétorésistifs g coopèrent avec les premières paires de pièces polaires ppll, ppl2. Ils prennent la forme de barreaux de matériau MR ou GMR par exemple et sont situés dans la couche 500, du côté du premier substrat 1000 par rapport à l'écran de blindage 600.FIG. 14C illustrates another example of a recording and reading device according to the invention derived from the example of FIGS. 14A, 14B. In this example, the first pairs of polar pieces ppll, ppl2 are dedicated to reading and the second pairs of polar pieces pp21, pp22 are dedicated to the recording. The layer 500 inserted between the first substrate 1000 and the second substrate 1100 contains a magnetic shielding screen 600. magneto-resistive reading means g cooperate with the first pairs of polar pieces ppll, ppl2. They take the form of bars of material MR or GMR for example and are located in the layer 500, on the side of the first substrate 1000 relative to the shielding screen 600.
Des circuits magnétiques J2.1, j2.2 similaires à ceux décrits sur les figures 7 sont raccordés magnétiquement aux secondes paires de pièces polaires pp21, pp22. Ils ont situés dans la couche isolante 1320 du troisième substrat 1300. Des moyens d'enregistrement s2.1, s2.2 de type inductifs similaires à ceux décrits sur les figures 7 coopèrent avec les secondes paires de pièces polaires pp21, pp22. Ils sont également situés dans la couche isolante 1320 du troisième substrat 1300.Magnetic circuits J2.1, J2.2 similar to those described in Figures 7 are magnetically connected to the second pair of polar parts pp21, pp22. They are located in the insulating layer 1320 of the third substrate 1300. Recording means s2.1, s2.2 inductive type similar to those described in Figures 7 cooperate with the second pairs of polar parts pp21, pp22. They are also located in the insulating layer 1320 of the third substrate 1300.
Par rapport à l'exemple des figures 14A et 14B, les plots de raccordement magnétique pl.l, pi.2 sont absents.Compared to the example of FIGS. 14A and 14B, the magnetic connection pads pl.l, pi.2 are absent.
Des moyens de traitement du signal 302, par exemple des circuits préamplificateurs, multiplexeurs, démultiplexeurs, coopèrent avec les moyens de lecture g et/ou d'enregistrement s2.1, s2.2. Ils sont réalisés dans un substrat 400 qui surmonte le troisième substrat 1300 ou dans une couche du troisième substrat 1300 s'il est multicouche. Ils pourraient être montés en surface du troisième substrat 1300. Ils sont positionnés et alignés avec les moyens de lecture et les moyens de d'enregistrement. Ils sont reliés électriquement aux moyens de lecture et d'enregistrement par des via de connexion 303 qui traversent les troisièmes et seconds
substrats 1300 et 1100. Ils est bien entendu que de tels moyens de traitement du signal coopéreraient avec des moyens de lecture dans le cas d'un dispositif de lecture seule ou avec des moyens d'enregistrement dans le cas d'un dispositif d'enregistrement seul.Signal processing means 302, for example preamplifier circuits, multiplexers, demultiplexers, cooperate with reading means g and / or recording s2.1, s2.2. They are made in a substrate 400 which overcomes the third substrate 1300 or in a layer of the third substrate 1300 if it is multilayered. They could be mounted on the surface of the third substrate 1300. They are positioned and aligned with the reading means and the recording means. They are electrically connected to the reading and recording means via connection via 303 which pass through the third and second substrates 1300 and 1100. It is understood that such signal processing means would cooperate with reading means in the case of a read-only device or with recording means in the case of a recording device alone.
En variante, dans le cas où les paires de pièces polaires sont réparties sur plusieurs substrats, on peut réaliser les moyens d'enregistrement et/ou de lecture également sur plusieurs substrats. On se réfère à la figure 15. On réalise des premières paires de pièces polaires 1060, 1080 sur un premier substrat 1500 par exemple comme décrit aux figures 6A à 6D. On réalise sur un second substrat 1800 (dit substrat additionnel) des premiers guides de flux jl.l, jl.2 des circuits magnétiques (au moins partiellement) et des premiers moyens d'enregistrement et/ou de lecture sl.l, si.2 comme décrit par exemple aux figures 7 ou en figure 13A.As a variant, in the case where the pairs of pole pieces are distributed over several substrates, the recording and / or reading means can also be made on several substrates. Referring to FIG. 15, first pairs of pole pieces 1060, 1080 are made on a first substrate 1500, for example as described in FIGS. 6A to 6D. A second substrate 1800 (said additional substrate) is made of first flux guides 21, 21 of magnetic circuits (at least partially) and first recording and / or read means sl.l, if. 2 as described for example in Figures 7 or 13A.
On positionne avec alignement et on assemble le premier substrat 1500 et le second substrat 1800 après retournement de l'un d'entre eux de manière à ce que chacun des premiers guides de flux magnétiques jl.l, jl.2 soit raccordé magnétiquement avec une des premières paires de pièces polaires 1060, 1080.Positioning is aligned and the first substrate 1500 and the second substrate 1800 are assembled after turning one of them so that each of the first magnetic flux guides 21 is connected magnetically with a first pair of polar pieces 1060, 1080.
On réalise de la même manière sur un troisième substrat 1600, des secondes paires de pièces polaires 1160, 1190 et sur un quatrième substrat 1700 (dit substrat additionnel) des seconds guides de flux magnétiques J2.1, j2.2 et des seconds moyens d'enregistrement et/ou de lecture s2.1, s2.2. On positionne avec alignement et on assemble le troisième
substrat 1600 et le quatrième substrat 1700, après retournement de l'un d'entre eux de manière à ce que chacun des premiers guides de flux magnétiques J2.1, j2.2 soit raccordé magnétiquement avec une des premières paires de pièces polaires 1160, 1190.A second substrate 1600, second pairs of pole pieces 1160, 1190 and, on a fourth substrate 1700 (so-called additional substrate), second magnetic flux guides J2.1, j2.2 and second means of diffusion are produced in the same way on a third substrate 1600. recording and / or reading s2.1, s2.2. We position with alignment and assemble the third substrate 1600 and the fourth substrate 1700, after turning one of them so that each of the first magnetic flux guides J2.1, j2.2 is magnetically connected to one of the first pairs of pole pieces 1160, 1190.
On élimine la couche non travaillée 1510, 1610 et la couche de matériau diélectrique 1520, 1620 (au moins partiellement) du premier substrat 1500 et du troisième substrat 1600.The unworked layer 1510, 1610 and the dielectric material layer 1520, 1620 (at least partially) of the first substrate 1500 and the third substrate 1600 are eliminated.
On dépose au moins une couche de matériau isolant 500 sur les faces portant les paires de pièces polaires des deux structures obtenues précédemment. Cette couche peut contenir un écran de blindageAt least one layer of insulating material 500 is deposited on the faces carrying the pairs of pole pieces of the two previously obtained structures. This layer can contain a shielding screen
On positionne avec alignement et on assemble les deux structures par leurs faces qui viennent d'être travaillées après retournement de l'une d'entre elle en prenant soin de placer les premières paires de pièces polaires et les secondes paires de pièces polaires en quinconce. L'assemblage et l'alignement peuvent se faire comme décrit précédemment à la figure 10C. On peut éventuellement éliminer l'une des couches non travaillées 1700, 1800 et/ou partiellement la deuxième par gravure chimique par exemple.We position with alignment and assemble the two structures by their faces that have just been worked after turning one of them, taking care to place the first pair of pole pieces and second pairs of pole pieces staggered. Assembly and alignment can be done as previously described in Figure 10C. It is possible to eliminate one of the non-worked layers 1700, 1800 and / or the second one by chemical etching for example.
Des reprises de contacts électriques (non représentées) des moyens d'enregistrement et ou de lecture peuvent se faire en utilisant une technologie d' intra-connexion ou par exemple par gravure locale (sèche ou humide) .Repetitions of electrical contacts (not shown) of the recording and / or reading means can be done using an intra-connection technology or for example by local etching (dry or wet).
Il est bien sûr possible de se passer du second substrat et/ou du quatrième substrat (c'est à
dire des substrats additionnels) comme on l'a expliqué précédemment en réalisant directement les guides de flux et les moyens d'enregistrement et/ou de lecture sur le premier substrat 1500 et sur le troisième substrat 1600 respectivement après des éventuels amincissements .It is of course possible to dispense with the second substrate and / or the fourth substrate (that is, to say additional substrates) as explained above by directly producing the flux guides and the recording and / or reading means on the first substrate 1500 and on the third substrate 1600 respectively after any thinning.
Bien que plusieurs modes de réalisation de la présente invention aient été représentés et décrits de façon détaillée, on comprendra que différents changements et modifications puissent être apportés sans sortir du cadre de l'invention.Although several embodiments of the present invention have been shown and described in detail, it will be understood that various changes and modifications can be made without departing from the scope of the invention.
Les différentes variantes décrites doivent être comprises comme n'étant pas exclusives les unes des autres.
The different variants described must be understood as not being exclusive of each other.
Claims
1. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture d'un support magnétique (35) avec des pistes magnétiques (36), comportant plusieurs têtes magnétiques (30.1 à 30.4) comprenant chacune une paire de pièces polaires séparées par un entrefer (e) amagnétique, caractérisé en ce que ces paires de pièces polaires sont regroupées sur plusieurs supports (1000, 1001) superposés, présentant un angle d'inclinaison (θ) non nul compris entre ± 90° par rapport aux pistes, tous les entrefers (e) des paires de pièces polaires du support (1000) présentant un même angle d'azimut (α) , compris entre ± 90° bornes exclues par rapport à une direction normale au support (1000), au moins deux supports (1000, 1001) consécutifs définissant une distance (d) inter-pièce polaire non nulle, cette distance (d) étant la distance entre des plans de faces en regard de pièces polaires situées sur les deux supports .1. Device for recording and / or reading a magnetic medium (35) with magnetic tracks (36), comprising a plurality of magnetic heads (30.1 to 30.4) each comprising a pair of pole pieces separated by a gap (e) non-magnetic, characterized in that these pairs of pole pieces are grouped on several supports (1000, 1001) superimposed, having a non-zero angle of inclination (θ) of between ± 90 ° with respect to the tracks, all the gaps (e) pairs of pole pieces of the support (1000) having the same azimuth angle (α), between ± 90 ° excluded from a normal direction to the carrier (1000), at least two consecutive carriers (1000, 1001) defining a distance (d) inter-pole piece non-zero, this distance (d) being the distance between facing planes facing polar pieces located on the two supports.
2. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon la revendication 1, caractérisé en ce que la superposition se fait via une couche (33) apte à définir de manière précise la distance (d) inter-pièce polaire.2. Recording and / or reading device according to claim 1, characterized in that the superposition is via a layer (33) capable of precisely defining the distance (d) inter-pole piece.
3. Dispositif d'enregistrement et /ou de lecture l'une des revendications 1 ou 2, caractérisé en ce que la distance d inter-pièce polaire est telle que : P+d = (D+nT) tg (θ) avec θ angle d'inclinaison des supports par rapport aux pistes, T pas longitudinal des entrefers des paires de pièces polaires placées sur un même support, D décalage longitudinal par rapport aux supports entre deux paires de pièces polaires consécutives placées sur deux supports consécutifs, P largeur des pièces polaires et n nombre entier.3. Recording and / or reading device according to one of claims 1 or 2, characterized in that the inter-piece polar distance is such that: P + d = (D + nT) tg (θ) with θ inclination angle of the supports with respect to the tracks, T longitudinal pitch of the pairs of pairs of pole pieces placed on the same support, D longitudinal shift with respect to the supports between two pairs of consecutive pole pieces placed on two consecutive supports, P width of the pole pieces and n integer.
4. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 3, caractérisé en ce qu'un blindage magnétique (600) et/ou des moyens de lecture magnétorésistifs (g) sont insérés entre les deux supports (1000, 1001) dans un espace correspondant à la distance (d) inter-pièce polaire.Recording and / or readout device according to one of Claims 1 to 3, characterized in that a magnetic shielding (600) and / or magnetoresistive reading means (g) are inserted between the two supports ( 1000, 1001) in a space corresponding to the distance (d) inter-pole piece.
5. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'angle d'azimut (α) et l'angle d'inclinaison (θ) sont égaux en module.5. Recording and / or reading device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the azimuth angle (α) and the angle of inclination (θ) are equal in module.
6. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 4, caractérisé en ce que l'angle d'azimut (α) et l'angle d'inclinaison (θ) sont différents.Recording and / or readout device according to one of Claims 1 to 4, characterized in that the azimuth angle (α) and the angle of inclination (θ) are different.
7. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 6, caractérisé en ce qu'il comporte au moins deux supports consécutifs ayant respectivement des angles d'inclinaison différents (θl, Θ2) . 7. A recording and / or reading device according to one of claims 1 to 6, characterized in that it comprises at least two consecutive supports respectively having different angles of inclination (θl, Θ2).
8. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon la revendication 7, caractérisé en ce que les angles d'azimut (αl) des entrefers des paires de pièces polaires de l'un des supports sont différents des angles d'azimut (α2) des paires de pièces polaires de l'autre support.8. A recording and / or read device according to claim 7, characterized in that the azimuth angles (α1) of the air gaps of the pair of pole pieces of one of the supports are different from the azimuth angles (α2). ) pairs of polar pieces on the other support.
9. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 8, caractérisé en ce que deux paires de pièces polaires (4Ow, 4Or) appartenant à des supports différents (1000, 1001) coopèrent avec deux pistes magnétiques consécutives (47) pour les lire ou les enregistrer.9. Recording and / or reading device according to one of claims 1 to 8, characterized in that two pairs of pole pieces (4Ow, 4Or) belonging to different supports (1000, 1001) cooperate with two magnetic tracks. consecutive (47) to read or record.
10. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 9, caractérisé en en ce qu'il comporte au moins un bloc (Bl) d'au moins un support (1000) pour l'enregistrement et au moins un bloc (B2) d'au moins un support (1001) pour la lecture, ces blocs étant disposés à la suite l'un de l'autre dans le sens des pistes (47) .10. A recording and / or reading device according to one of claims 1 to 9, characterized in that it comprises at least one block (B1) of at least one support (1000) for recording and at least one block (B2) of at least one support (1001) for reading, these blocks being arranged one after the other in the direction of the tracks (47).
11. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 10, caractérisé en ce qu'il comporte au moins un bloc (Bl) d'un ou plusieurs supports pour l'enregistrement et au moins un bloc (B2) d'un ou plusieurs supports pour la lecture, les supports de ces blocs étant solidarisés les uns sur les autres. 11. A recording and / or read device according to one of claims 1 to 10, characterized in that it comprises at least one block (Bl) of one or more media for recording and at least one block (B2) one or more supports for reading, the supports of these blocks being secured to one another.
12. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 11, caractérisé en ce que chaque piste (47) est enregistrée et lue respectivement par une paire de pièces polaires (4Ow, 4Or) , la paire de pièces polaires pour l'enregistrement et la paire de pièces polaires pour la lecture appartenant à des supports différents (45, 46) .Recording and / or readout device according to one of Claims 1 to 11, characterized in that each track (47) is recorded and read respectively by a pair of pole pieces (4Ow, 4Or), the pair of polar pieces for recording and the pair of polar pieces for reading belonging to different media (45, 46).
13. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 10 à 12, caractérisé en ce qu'un bloc (B2) pour la lecture est séparé d'un bloc pour l'enregistrement (Bl) par un écran de blindage (48) .Recording and / or read device according to one of Claims 10 to 12, characterized in that a block (B2) for reading is separated from a block for recording (B1) by a screen shielding (48).
14. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 13, caractérisé en ce qu'il comporte pour chaque tête magnétique un circuit magnétique intégrant une paire de pièces polaires (ppll, ppl2) et éventuellement un guide de flux magnétique (cl) , ce circuit magnétique coopérant avec des moyens d'enregistrement et/ou de lecture (sl.l, si.2, g) .14. A recording and / or reading device according to one of claims 1 to 13, characterized in that it comprises for each magnetic head a magnetic circuit incorporating a pair of pole pieces (ppll, ppl2) and possibly a guide magnetic flux (cl), this magnetic circuit cooperating with recording and / or reading means (sl.l, si.2, g).
15. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon la revendication 14, caractérisé en ce que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture (sl.l, si.2, g) et l'éventuel guide de flux magnétique pour chaque tête magnétique sont sur un support additionnel (130) assemblé au support portant la paires de pièces polaire de la tête magnétique. 15. A recording and / or read device according to claim 14, characterized in that the recording and / or read means (sl.l, si.2, g) and the possible magnetic flux guide for each magnetic head is on an additional support (130) assembled to the support carrying the pairs of pole pieces of the magnetic head.
16. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 14 ou 15, caractérisé en ce que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture sont inductifs ou magnétorésistifs .16. Recording device and / or reading according to one of claims 14 or 15, characterized in that the recording means and / or reading are inductive or magnetoresistive.
17. Dispositif d'enregistrement et/ou de lecture selon l'une des revendications 1 à 16, caractérisé en ce que des moyens de traitement du signal (302) coopèrent avec les moyens d'enregistrement et/ou de lecture (s2.1, s2.2, g)Recording and / or readout device according to one of Claims 1 to 16, characterized in that signal processing means (302) cooperate with the recording and / or read means (s2.1). , s2.2, g)
18. Procédé de réalisation d'un dispositif d'enregistrement et/ou de lecture sur un support magnétique à pistes magnétiques caractérisé en ce qu'il comporte les étapes suivantes : sur plusieurs substrats (1000, 1001) réalisation de plusieurs paires de pièces polaires18. A method of producing a recording device and / or reading on a magnetic strip magnetic medium characterized in that it comprises the following steps: on several substrates (1000, 1001) realization of several pairs of polar parts
(108, 106) de têtes magnétiques, ces pièces polaires étant séparées par un entrefer amagnétique (e) , les entrefers (e) de ces paires de pièces polaires sur un même substrat, présentant tous un même angle d'azimut(108, 106) of magnetic heads, these pole pieces being separated by a nonmagnetic air gap (e), the air gaps (e) of these pairs of pole pieces on the same substrate, all having the same azimuth angle
(α) compris entre ± 90° bornes exclues, par rapport à une direction normale au substrat ; assemblage des substrats en les superposant de manière à définir entre deux substrats consécutifs, une distance (d) inter-pièce polaire non nulle, cette distance (d) étant la distance entre des plans de faces en regard de pièces polaires situées sur les deux supports ; réalisation de moyens d'enregistrement et/ou de lecture (135, 140, 143) et éventuellement de guides de flux magnétique (137) aptes à coopérer chacun avec une paire de pièces polaires ; traitement des substrats (1000, 1001) pour leur donner un angle d'inclinaison non nul (θ) compris entre ± 90° par rapport aux pistes magnétiques.(α) between ± 90 ° excluded, with respect to a direction normal to the substrate; assembling the substrates by superimposing them so as to define between two consecutive substrates a non-zero inter-piece spacing (d), this distance (d) being the distance between facing planes of polar parts located on the two supports ; performing recording and / or reading means (135, 140, 143) and possibly magnetic flux guides (137) able to cooperate each with a pair of pole pieces; processing the substrates (1000, 1001) to give them a non-zero inclination angle (θ) of between ± 90 ° with respect to the magnetic tracks.
19. Procédé selon la revendication 18, caractérisé en ce que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture (135, 140, 143, g) et les éventuels guides de flux magnétique (137) sont réalisés sur au moins un substrat additionnel (130) qui est assemblé après positionnement avec le substrat (1000, 1001) portant les paires de pièces polaires avec lesquelles ils coopèrent .19. The method as claimed in claim 18, characterized in that the recording and / or reading means (135, 140, 143, g) and the possible magnetic flux guides (137) are made on at least one additional substrate ( 130) which is assembled after positioning with the substrate (1000, 1001) carrying the pairs of pole pieces with which they cooperate.
20. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique sont réalisés sur le substrat portant les paires de pièces polaires.20. The method of claim 19, characterized in that the recording means and / or reading and any magnetic flux guides are formed on the substrate carrying pairs of pole pieces.
21. Procédé selon l'une des revendications 18 à 20, caractérisé en ce que le traitement consiste à réaliser une rectification d'un ou des substrats.21. Method according to one of claims 18 to 20, characterized in that the treatment consists in performing a grinding of one or more substrates.
22. Procédé selon l'une des revendications 18 à 20, caractérisé en ce que le traitement consiste à monter une ou plusieurs parties d'un ou des substrats ou le ou les substrats (1000, 1001) dans un même support mécanique (350) . 22. Method according to one of claims 18 to 20, characterized in that the treatment consists in mounting one or more parts of one or more substrates or the substrate or substrates (1000, 1001) in the same mechanical support (350) .
23. Procédé selon l'une des revendications 18 à 22, caractérisé en ce que les substrats (1000, 1100) portant des paires de pièces polaires, sont assemblés après alignement.23. Method according to one of claims 18 to 22, characterized in that the substrates (1000, 1100) carrying pairs of pole pieces, are assembled after alignment.
24. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce qu'une couche en matériau électriquement isolant (500) comportant éventuellement des moyens de lecture magnétorésistifs (g) et/ou un écran de blindage magnétique (600) est insérée entre deux substrats consécutifs portant les paires de pièces polaires .24. The method of claim 23, characterized in that a layer of electrically insulating material (500) optionally comprising magneto-resistive reading means (g) and / or a magnetic shielding screen (600) is inserted between two consecutive substrates bearing pairs of polar pieces.
25. Procédé selon la revendication 23, caractérisé en ce que des cales (49) sont insérées entre deux substrats consécutifs portant les paires de pièces polaires.25. The method of claim 23, characterized in that wedges (49) are inserted between two consecutive substrates carrying pairs of pole pieces.
26. Procédé selon l'une des revendications26. Process according to one of the claims
18 à 25, caractérisé en ce qu'il consiste à réaliser, sur l'un des substrats, des paires de plots magnétiques (pl.l, pi.2) de raccordement destinées à raccorder magnétiquement chacune, un guide de flux ou un moyen d'enregistrement et/ou de lecture à une paire de pièces polaires portée par un substrat identique ou différent.18 to 25, characterized in that it consists in producing, on one of the substrates, pairs of magnetic studs (pl.l, pi.2) of connection intended to magnetically connect each, a flux guide or a means recording and / or reading to a pair of pole pieces carried by an identical or different substrate.
27. Procédé selon l'une des revendications27. Method according to one of the claims
19 ou 23, caractérisé en ce que l'assemblage de deux substrats (1000, 1100) se fait après retournement de l'un d'entre eux. 19 or 23, characterized in that the assembly of two substrates (1000, 1100) is done after turning one of them.
28. Procédé selon l'une des revendications 18 à 27, caractérisé en ce qu'au moins un substrat (1100) est aminci.28. Method according to one of claims 18 to 27, characterized in that at least one substrate (1100) is thinned.
29. Procédé selon l'une des revendications 18 à 28, caractérisé en ce que des substrats portant des paires de pièces polaires ont des angles d'inclinaison différents.29. Method according to one of claims 18 to 28, characterized in that substrates bearing pairs of pole pieces have different angles of inclination.
30. Procédé selon la revendication 29, caractérisé en ce que l'angle d'azimut des entrefers des paires de pièces polaires d'un substrat est différent de l'angle d'azimut des entrefers des paires de pièces polaires d'un autre substrat.30. The method according to claim 29, characterized in that the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar parts of a substrate is different from the azimuth angle of the air gaps of pairs of polar parts of another substrate. .
31. Procédé selon l'une des revendications 18 à 30, caractérisé en ce qu'une paire de pièces polaires (ppll, ppl2) est réalisée en gravant de manière anisotrope un premier caisson (1004) dans le substrat, en formant une couche amagnétique (1005) sur le substrat, en remplissant de matériau magnétique le premier caisson, en gravant de manière isotrope un second caisson (1007) qui jouxte le premier caisson, en remplissant de matériau magnétique le second caisson.31. Method according to one of claims 18 to 30, characterized in that a pair of pole pieces (ppll, ppl2) is produced by anisotropically etching a first box (1004) in the substrate, forming a non-magnetic layer. (1005) on the substrate, by filling the first box with magnetic material, by isotropically etching a second box (1007) which adjoins the first box, filling the second box with magnetic material.
32. Procédé selon la revendication 31 reliée à la revendication 26, caractérisé en ce que pour obtenir les paires de plots magnétiques (pl.l, pi.2), on réalise par gravure isotrope, des paires de caissons dans le substrat devant accueillir les paires de plots magnétiques et on remplit les paires de caissons de matériau magnétique.32. The method of claim 31 connected to claim 26, characterized in that to obtain the pairs of magnetic studs (pl.l, pi.2) is made by isotropic etching, pairs of boxes in the substrate to accommodate the pairs magnetic studs and fill the pairs of boxes of magnetic material.
33. Procédé selon l'une des revendications 31 ou 32, caractérisé en ce qu'une une planarisation de surface est réalisée après l'une quelconque des étapes de remplissage de matériau magnétique.33. Method according to one of claims 31 or 32, characterized in that a surface planarization is performed after any one of the magnetic material filling steps.
34. Procédé selon l'une des revendications 31 à 33, caractérisé en ce que le substrat (1000) portant des paires de pièces polaires (ppll, ppl2) est formé de matériau électriquement isolant (1002) situé entre deux couches (1001, 1003), dont l'une comportant les caissons est monocristalline, l'autre étant éventuellement éliminée partiellement ou totalement ultérieurement .34. Method according to one of claims 31 to 33, characterized in that the substrate (1000) carrying pairs of pole pieces (ppll, ppl2) is formed of electrically insulating material (1002) located between two layers (1001, 1003). ), one of which comprises the boxes is monocrystalline, the other possibly being eliminated partially or completely later.
35. Procédé selon la revendication 34, caractérisé en ce que le substrat portant des paires de pièces polaires est formé de matériau électriquement isolant situé entre une couche de matériau résistant à l'usure et une couche de matériau monocristallin comportant les caissons.35. The method of claim 34, characterized in that the substrate carrying pairs of pole pieces is formed of electrically insulating material between a layer of wear-resistant material and a layer of monocrystalline material comprising the boxes.
36. Procédé selon l'une des revendications 19 à 35, caractérisé en ce que l'assemblage se fait par collage, par assemblage moléculaire, par assemblage anodique ou par billes fusibles.36. Process according to one of claims 19 to 35, characterized in that the assembly is done by gluing, by molecular assembly, by anode assembly or by fusible beads.
37. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que le substrat additionnel au sein duquel se trouveront les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique est éventuellement multicouche avec une couche de matériau électriquement isolant.37. The method of claim 19, characterized in that the additional substrate within which will be the recording means and / or reading and possible magnetic flux guides is optionally multilayer with a layer of electrically insulating material.
38. Procédé selon la revendication 19, caractérisé en ce que le substrat additionnel au sein duquel se trouveront les moyens d'enregistrement et/ou de lecture et les éventuels guides de flux magnétique, comporte une couche en matériau résistant à l'usure éventuellement recouverte de matériau électriquement isolant .38. The method of claim 19, characterized in that the additional substrate within which will be the recording means and / or reading and possible magnetic flux guides, comprises a layer of wear-resistant material possibly covered of electrically insulating material.
39. Procédé selon l'une des revendications 18 à 38, caractérisé en ce qu'il comporte une étape de réalisation de moyens de traitement du signal (302) qui coopèrent avec les moyens d'enregistrement et/ou de lecture (g, s2.1, s2.2) . 39. Method according to one of claims 18 to 38, characterized in that it comprises a step of producing signal processing means (302) which cooperate with the recording means and / or reading (g, s2 .1, s2.2).
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