EP1090387B1 - Method for applying an attenuating coating on surface wave components - Google Patents

Method for applying an attenuating coating on surface wave components Download PDF

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EP1090387B1
EP1090387B1 EP99936376A EP99936376A EP1090387B1 EP 1090387 B1 EP1090387 B1 EP 1090387B1 EP 99936376 A EP99936376 A EP 99936376A EP 99936376 A EP99936376 A EP 99936376A EP 1090387 B1 EP1090387 B1 EP 1090387B1
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EP
European Patent Office
Prior art keywords
coating
damping
surface wave
curing
resin composition
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
EP99936376A
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German (de)
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EP1090387A1 (en
Inventor
Heiner Bayer
Walter Fischer
Hans Krüger
Wolfgang Pahl
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TDK Electronics AG
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Epcos AG
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    • GPHYSICS
    • G10MUSICAL INSTRUMENTS; ACOUSTICS
    • G10KSOUND-PRODUCING DEVICES; METHODS OR DEVICES FOR PROTECTING AGAINST, OR FOR DAMPING, NOISE OR OTHER ACOUSTIC WAVES IN GENERAL; ACOUSTICS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G10K11/00Methods or devices for transmitting, conducting or directing sound in general; Methods or devices for protecting against, or for damping, noise or other acoustic waves in general
    • G10K11/36Devices for manipulating acoustic surface waves

Definitions

  • the present invention relates to a method for damping Coating of surface wave components.
  • Surface wave components for example surface wave filters, are electronic components of processing serve high-frequency electrical signals. Such components are commonly found in televisions and video devices as well as cell phones used.
  • the electrical signal carrying the information is transformed into mechanical vibrations, so-called surface waves, converted.
  • interdigital converters used on piezoelectric substrates, which consist of certain ceramics or crystalline materials, for example from lithium niobate.
  • EP 0 098 599 A2 proposes for the damping structures of surface wave components UV-curing Use acrylic resin mixtures and these to a high To optimize the modulus of elasticity and a high density. so manufactured and hardened damping structures show in the Practice, however, too high a brittleness and a too low one Liability on chip and converter material.
  • the structures will namely preferably finished on a wafer and then isolated by sawing. If necessary sawing required damping structures to their flaking and peeling and thus to damage the lead entire component.
  • the object of the present invention is accordingly a method for the damping coating of surface acoustic wave components indicate the high structure resolution and position accuracy enables, and with what layers of 0.2-100 microns, preferably 20-50 microns can be realized.
  • the invention accordingly relates to a method for damping Coating of surface wave components by Coating the surface acoustic wave component with a damping, photo-curable resin and curing of the resin accordingly the required damping structure by imagewise exposure with one moving relative to the substrate surface Beam of light and removal of the unhardened areas.
  • Process for the damping coating of surface acoustic wave components becomes a cationically curable, solvent-free Epoxy resin in a thin layer on the surface the surface wave component applied and with the help a computer-controlled UV laser according to the required Damping structure exposed imagewise.
  • damping coatings that are precise and automatable generate on surface acoustic wave devices that have a high Structure resolution and position accuracy.
  • the Procedure is when using a computer controlled UV laser for exposure is used without any effort at possible component design changes customizable. Changeover times in production, as with screen printing, as well as screen storage and logistics are eliminated.
  • the photocurable resin can be essentially anything that meets the usual requirements for a damping mass. That the resins must be in electronic quality be available and for example a suitable glass transition temperature exhibit. Also should be used to separate the component structures for example sawing through the substrate be possible without the damping layer tearing and flaking off the piezoelectric material.
  • epoxy resins with one on the exposure source adapted photoinitiator system used.
  • Epoxy resins are described for example in DE-A 44 43 946.6, to which full reference is made here.
  • the corresponding epoxy resin compositions are there structured by screen printing on the respective piezoceramic Applied substrates.
  • the resins contain especially additives for the lateral limitation of hardening to increase the structure resolution.
  • additives are preferred alkaline in nature and can be selected from the group of salt-like Hydroxides and organic amines can be selected. For example one uses ethanolamine or its organic substituted derivatives.
  • the reaction resin composition through the most varied of methods to be damped Substrates are applied.
  • Conceivable is also still an order in the screen printing process, whereby here the application is unstructured or roughly structured can be done, for example, to save material, Keep edges clear etc.
  • the required layer thickness can be applied by modification the epoxy resin composition, as far as this modification does not influence the damping effect or only influences it insignificantly, and the type of order can be influenced.
  • the required damping structure is then by pictorial Exposure of the applied resin layer generated.
  • the photo structuring of organic layers, both positive as well as negative, is known per se and is used in manufacturing of electronic components and circuit boards in used in many ways.
  • a scanning photo structure is not for the damping coating of Surface wave components and not in combination with the selected resin formulations. Rather is up No system has been found today to match the one outlined above Features and performance combination.
  • Laser stereo lithography is a method of generation three-dimensional structures made of liquid, photosensitive Resins and is for example in DE-A 195 41 075.0 described.
  • a single-layer, damping Coating also created by scanning exposure.
  • the wafer is then suitably positioned under the Laser exposure device. This is similar, for example as described in DE-A 195 41 075.0, from a focused Laser with a suitably designed transfer optics.
  • a helium-cadmium laser can be used as the laser light source with a wavelength of 325 nm can be used.
  • the radiant power is preferably between 1 and 100 mW.
  • alternative lasers would also be suitable for this purpose, in which the laser power in the specified range or above and for their Suitable photoinitiators are available.
  • UV laser would be, for example, an argon ion laser with a wavelength at 351 and 364 nm.
  • Others too Intense UV light sources are for the method according to the invention suitable. Short-wave visible light can also be used be used when making photoinitiation effective is possible.
  • the light beam is also on one Focus diameter from 5 to 200 microns, preferably 20 to 50 microns focused.
  • the focused light beam is now controlled by a computer Mirror system and a transfer optics in one the required damping structure the surface wave component coated with reactive resin directed.
  • a computer Mirror system and a transfer optics in one the required damping structure the surface wave component coated with reactive resin directed.
  • one or more can do this both relative directions of movement are carried out by the wafer. With such an exposure process, only such Places hardened on the resin-coated component, where damping structures should arise.
  • the exposure can be such that none the exposed areas are completely cured. This variation is due to modification of the resin itself or the exposure intensity and / or duration possible. Through the then the required thermal aftertreatment proceeds Resin slightly, so that damping structures with special low-reflection edges arise.

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Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur dämpfenden Beschichtung von Oberflächenwellenbauelementen.The present invention relates to a method for damping Coating of surface wave components.

Oberflächenwellenbauelemente, zum Beispiel Oberflächenwellenfilter, sind elektronische Bauelemente, die der Verarbeitung hochfrequenter elektrischer Signale dienen. Solche Bauteile werden üblicherweise in Fernseh- und Videogeräten sowie Handys verwendet. Das die Information tragende elektrische Signal wird in mechanische Schwingungen, sogenannte Oberflächenwellen, umgewandelt. Zur elektroakustischen Wandlung bzw. zur Erzeugung der Oberflächenwellen werden Interdigitalwandler auf piezoelektrischen Substraten verwendet, welche aus bestimmten Keramiken oder kristallinen Materialien bestehen, zum Beispiel aus Lithiumniobat. Durch einen geeigneten Aufbau des Wandlers, speziell durch eine besondere geometrische Ausgestaltung der schallerzeugenden Wandlerfläche werden die akustischen Eigenschaften dieses Wandlers beeinflußt. Dadurch ist es möglich, das akustische Signal gezielt zu modifizieren und spezielle Wellenlängenbereiche aus dem Gesamtspektrum herauszufiltern.Surface wave components, for example surface wave filters, are electronic components of processing serve high-frequency electrical signals. Such components are commonly found in televisions and video devices as well as cell phones used. The electrical signal carrying the information is transformed into mechanical vibrations, so-called surface waves, converted. For electroacoustic conversion or to generate the surface waves are interdigital converters used on piezoelectric substrates, which consist of certain ceramics or crystalline materials, for example from lithium niobate. By a suitable one Structure of the converter, especially by a special geometric Design of the sound generating transducer surface affects the acoustic properties of this transducer. Thereby it is possible to specifically modify the acoustic signal and special wavelength ranges from the entire spectrum filter out.

Oberflächenwellen, die an den Chipkanten reflektiert werden, stören die Funktion eines Oberflächenwellenbauelementes. Zur Abdämpfung solcher unerwünschter Oberflächenwellen und zur Reduzierung von Reflexionen und Echoeffekten wird die Oberfläche des Wandlerelementes in bestimmten Bereichen mit einem dämpfenden Material versehen, welches die Energie der auslaufenden Wellen aufzehrt und Reflexionen und Echoeffekte reduziert.Surface waves that are reflected at the chip edges, interfere with the function of a surface acoustic wave component. to Attenuation of such unwanted surface waves and The surface is reduced by reflections and echo effects of the transducer element in certain areas with a damping material provided, which the energy of the leaking Consumes waves and reduces reflections and echo effects.

Zur Erzeugung solcher Dämpfungsstrukturen sind organische Materialien mit geeignetem dynamisch-mechanischem Eigenschaftsprofil gefordert. In der EP 0 360 037 wird dazu beispielsweise vorgeschlagen, Zwei-Komponenten-Harze auf Epoxidbasis zu verwenden, welche basenkatalysiert mit Carbonsäuren und sauren Estern vernetzbar sind. Diese Zwei-Komponenten-Harze lassen sich in gewünschter Weise akustisch anpassen und führen zur geforderten Dämpfung, bereiten andererseits aber Probleme bei der Verarbeitung. Das Mischen der beiden Harzkomponenten führt in der Fertigung zu einem erhöhten Aufwand, wobei Harze mit begrenzter Gebrauchsdauer erhalten werden. Der Lösungsmittelgehalt der Reaktionsharze erfordert eine langwierige Ablüft- und Härtungsprozedur, bei der außerdem die Gefahr besteht, daß die in einer besonderen dreidimensionalen Geometrie aufgebrachten Dämpfungsstrukturen unzulässig verlaufen und dann die gewünschten Dämpfungseigenschaften bzw. die geforderte Geometriepräzision nicht mehr aufweisen.Organic materials are used to create such damping structures with a suitable dynamic-mechanical property profile required. In EP 0 360 037, for example proposed two-component epoxy-based resins to use which is base catalyzed with carboxylic acids and acidic esters can be crosslinked. These two-component resins can be acoustically adjusted in the desired manner and lead to the required damping, but on the other hand prepare Processing problems. Mixing the two resin components leads to increased effort in production, Resins with a limited service life are obtained. The solvent content of the reactive resins requires one lengthy flash-off and hardening procedure, in addition there is a risk that the in a special three-dimensional Damping structures applied to geometry not permitted and then the desired damping properties or no longer have the required geometry precision.

In der EP 0 098 599 A2 wird vorgeschlagen, für die Dämpfungsstrukturen von Oberflächenwellenbauelementen UV-härtende Acrylharzmischungen zu verwenden und diese auf einen hohen Elastizitätsmodul und eine hohe Dichte zu optimieren. Derart hergestellte und gehärtete Dämpfungsstrukturen zeigen in der Praxis jedoch eine zu hohe Sprödigkeit und eine zu geringe Haftung auf Chip- und Wandlermaterial. Die Strukturen werden nämlich bevorzugt auf einem Wafer fertiggestellt und anschließend durch Zersägen vereinzelt. Das dabei gegebenenfalls erforderliche Durchsägen von Dämpfungsstrukturen kann zu deren Abplatzen und Ablösen und damit zur Beschädigung des gesamten Bauelements führen.EP 0 098 599 A2 proposes for the damping structures of surface wave components UV-curing Use acrylic resin mixtures and these to a high To optimize the modulus of elasticity and a high density. so manufactured and hardened damping structures show in the Practice, however, too high a brittleness and a too low one Liability on chip and converter material. The structures will namely preferably finished on a wafer and then isolated by sawing. If necessary sawing required damping structures to their flaking and peeling and thus to damage the lead entire component.

In der DE-A 44 43 946.6, oder WO 9618182 A, wird ein UV-initiiert kationisch härtendes Epoxidharz beschrieben, das sich aufgrund seiner Viskositätseigenschaft zum Aufdrucken von Dämpfungsstrukturen auf Oberflächenwellenbauelementen im Siebdruckverfahren eignet.In DE-A 44 43 946.6, or WO 9618182 A, a UV-initiated cationic curing agent is used Epoxy resin described, which due to its viscosity property for printing damping structures on surface wave components using the screen printing process.

Diese organischen Massen müssen hinsichtlich des Applikationsverfahrens - Präzision, Zuverlässigkeit, Rationalität, Automatisierbarkeit, Kosten - der weiteren Verarbeitung der Bauelemente - Durchsägen, Packaging - der Dämpfungswirkung - Erhalt der Filtercharakteristik, Streckenbedämpfung der Oberflächenwelle, keine unzulässigen Reflexionen - und der Lebensdauer der Bauelemente - Korrosion der Fingerstrukturen, dauerhafte Adhäsion - optimiert sein. In diesem-Punkt besteht somit fortwährend Bedarf nach Neuentwicklungen.These organic masses must be used with regard to the application process - precision, reliability, rationality, automatability, Costs - the further processing of the Components - sawing through, packaging - the damping effect - Preservation of the filter characteristics, path attenuation of the surface wave, no impermissible reflections - and the lifespan of the components - corrosion of the finger structures, permanent adhesion - be optimized. In this point there is hence the constant need for new developments.

Es gibt verschiedene bekannte Verfahren zum Aufbringen der Dämpfungsstruktur auf ein Oberflächenwellenbauelement. Früher wurden Formstücke aus einem extrudierten Material zugeschnitten, auf die Wandleroberfläche aufgebracht und anschließend in einem thermischen Schritt durch Aufschmelzen mit der Oberfläche fest verbunden. Dieser Schritt muß für jedes Bauelement einzeln durchgeführt werden, ist umständlich und zeitaufwendig.There are several known methods of applying the Damping structure on a surface wave component. Earlier fittings were cut from an extruded material, applied to the transducer surface and then in a thermal step by melting with the surface firmly connected. This step must be done for each component performed individually is cumbersome and time consuming.

Nach dem heutigen Stand der Technik werden die organischen Massen zur Erzeugung einer Dämpfungsstruktur hauptsächlich im Siebdruckverfahren auf die Oberflächen von Oberflächenwellenbauelementen aufgetragen. Das Auftragen der Dämpfungsstruktur im Siebdruckverfahren bringt verschiedene Nachteile mit sich.According to the current state of the art, the organic Masses to create a damping structure mainly in Screen printing process on the surfaces of surface acoustic wave components applied. Applying the damping structure Screen printing has several disadvantages.

So entstehen durch diese Art des Auftragens bei vielen Harzen Blasen, die in ungünstigen Fällen die erforderliche Dämpfungswirkung gefährden. Das Abwarten, bis solche Blasen verschwinden, kann unerwünschte und für das Verfahren unwirtschaftliche Wartezeiten bedingen. UV-härtbare, lösungsmittelfreie Siebdruckharze neigen gewöhnlich zum Verlaufen. Um dem abzuhelfen, setzt man den Harzen anorganische Thixotropiermittel zu. Die Thixotropierung ist jedoch hinsichtlich der zu erzielenden Dämpfungswirkung kritisch. Allgemein gerät man mit der Verwendung des Siebdruckverfahrens hinsichtlich der Strukturauflösung, der Positionsgenauigkeit und der erzeugbaren Schichtdicke an technische Grenzen. Es bestehen ungünstige Abhängigkeiten von der Strukturhöhe, den Siebtoleranzen, dem Verlaufen der Masse usw. Beim Druck von relativ dicken Schichten ist die Auflösung begrenzt, sehr dünne Schichten sind kaum realisierbar. Darüber hinaus werden beim Siebdruckverfahren für eine Vielzahl von Filtertypen jeweils eigene Masken benötigt und jede Bauelementdesign-Änderung macht neue Siebmasken erforderlich. Das erweist sich insbesondere bei der Erzeugung von Prototypen oder Produkten, welche nur in kleiner Stückzahl erzeugt werden, als nachteilig. Die Siebe müssen gereinigt und getrocknet werden. Die Siebfilme und Siebgewebe haben zudem nur eine endliche Standzeit.This is how this type of application results in many resins Bubbles, which in unfavorable cases have the required damping effect compromise. Waiting for bubbles to go away can be undesirable and uneconomical for the process Waiting times. UV-curable, solvent-free Screen printing resins tend to bleed. To that To remedy this, inorganic thixotropic agents are added to the resins to. However, the thixotropy is too damping effect critical. Generally you get with the use of the screen printing process in terms of Structure resolution, the position accuracy and the producible Layer thickness to technical limits. There are unfavorable ones Dependencies on the structure height, the sieve tolerances, the flow of the mass, etc. When printing relatively thick Layers, the resolution is limited, very thin layers are hardly feasible. In addition, the screen printing process own for a variety of filter types Masks are needed and every component design change makes new ones Screen masks required. This is particularly evident in the production of prototypes or products that are only available in small quantities are generated as disadvantageous. The sieves must be cleaned and dried. The screen films and Screen fabrics also only have a finite service life.

Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es demnach, ein Verfahren zur dämpfenden Beschichtung von Oberflächenwellenbauelementen anzugeben, das eine hohe Strukturauflösung und Positionsgenauigkeit ermöglicht, und mit welchem Schichten von 0,2-100 µm, bevorzugt 20-50 µm realisierbar sind.The object of the present invention is accordingly a method for the damping coating of surface acoustic wave components indicate the high structure resolution and position accuracy enables, and with what layers of 0.2-100 microns, preferably 20-50 microns can be realized.

Gegenstand der Erfindung ist demnach ein Verfahren zur dämpfenden Beschichtung von Oberflächenwellenbauelementen durch Beschichten des Oberflächenwellenbauelementes mit einem dämpfenden, photohärtbaren Harz und Aushärten des Harzes entsprechend der geforderten Dämpfungsstruktur durch bildmäßiges Belichten mit einem relativ zur Substratoberfläche scannend bewegten Lichtstrahl und Abtragen der ungehärteten Bereiche.The invention accordingly relates to a method for damping Coating of surface wave components by Coating the surface acoustic wave component with a damping, photo-curable resin and curing of the resin accordingly the required damping structure by imagewise exposure with one moving relative to the substrate surface Beam of light and removal of the unhardened areas.

Bei einer bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens zur dämpfenden Beschichtung von Oberflächenwellenbauelementen wird ein kationisch härtbares, lösungsmittelfreies Epoxidharz in einer dünnen Schicht auf die Oberfläche des Oberflächenwellenbauelementes aufgetragen und mit Hilfe eines computergesteuerten UV-Lasers entsprechend der geforderten Dämpfungsstruktur bildmäßig belichtet.In a preferred embodiment of the invention Process for the damping coating of surface acoustic wave components becomes a cationically curable, solvent-free Epoxy resin in a thin layer on the surface the surface wave component applied and with the help a computer-controlled UV laser according to the required Damping structure exposed imagewise.

Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind den Unteransprüchen zu entnehmen.Further embodiments of the invention are the subclaims refer to.

Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren lassen sich kostengünstig, präzise und automatisierbar dämpfende Beschichtungen auf Oberflächenwellenbauelementen erzeugen, die über eine hohe Strukturauflösung und Positionsgenauigkeit verfügen. Das Verfahren ist, wenn ein computergesteuerter UV-Laser zur Belichtung verwendet wird, ohne Aufwand an mögliche Bauelementdesign-Änderungen anpassbar. Umrüstungszeiten in der Fertigung, wie beim Siebdruck, sowie Sieblagerhaltung und -logistik entfallen.With the method according to the invention, damping coatings that are precise and automatable generate on surface acoustic wave devices that have a high Structure resolution and position accuracy. The Procedure is when using a computer controlled UV laser for exposure is used without any effort at possible component design changes customizable. Changeover times in production, as with screen printing, as well as screen storage and logistics are eliminated.

Das photohärtbare Harz kann im wesentlichen jedes sein, das den üblichen Anforderungen für eine Dämpfungsmasse entspricht. D.h. die Harze müssen in elektronischer Qualität verfügbar sein und zum Beispiel eine geeignete Glasübergangstemperatur aufweisen. Auch sollte zur Vereinzelung der Bauelementstrukturen beispielsweise ein Durchsägen des Substrates möglich sein, ohne daß die dämpfende Schicht reißt und von dem piezoelektrischen Material abplatzt.The photocurable resin can be essentially anything that meets the usual requirements for a damping mass. That the resins must be in electronic quality be available and for example a suitable glass transition temperature exhibit. Also should be used to separate the component structures for example sawing through the substrate be possible without the damping layer tearing and flaking off the piezoelectric material.

Beispielsweise kommen photohärtbare (Meth-)Acrylate, Polyimide oder Polybenzoxazole in Frage. Bevorzugt werden erfindungsgemäß jedoch Epoxidharze mit einem an die Belichtungsquelle angepaßten Photoinitiatorsystem eingesetzt. Derartige Epoxidharze sind beispielsweise in der DE-A 44 43 946.6 beschrieben, auf die hier voll inhaltlich Bezug genommen wird. Die entsprechenden Epoxidharzzusammensetzungen werden dort durch Siebdruck strukturiert auf die jeweiligen piezokeramischen Substrate aufgetragen.For example, there are photocurable (meth) acrylates, polyimides or polybenzoxazoles in question. Are preferred according to the invention however, epoxy resins with one on the exposure source adapted photoinitiator system used. such Epoxy resins are described for example in DE-A 44 43 946.6, to which full reference is made here. The corresponding epoxy resin compositions are there structured by screen printing on the respective piezoceramic Applied substrates.

Für eine erfindungsgemäße Ausgestaltung enthalten die Harze insbesondere Zusätze für die seitliche Begrenzung der Härtung zur Erhöhung der Strukturauflösung. Diese Zusätze sind bevorzugt basischer Natur und können aus der Gruppe der salzartigen Hydroxide und organische Amine ausgewählt werden. Beispielsweise verwendet man Ethanolamin oder dessen organisch substituierte Derivate.For an embodiment according to the invention, the resins contain especially additives for the lateral limitation of hardening to increase the structure resolution. These additives are preferred alkaline in nature and can be selected from the group of salt-like Hydroxides and organic amines can be selected. For example one uses ethanolamine or its organic substituted derivatives.

Gemäß der vorliegenden Erfindung kann die Reaktionsharzmasse durch die verschiedensten Methoden auf die zu dämpfenden Substrate aufgetragen werden. Der Auftrag kann zum Beispiel durch Aufschleudern geschehen, aber auch durch andere Coating-Verfahren, wie das Roller- oder Curtaincoating. Denkbar ist weiterhin auch ein Auftrag im Siebdruckverfahren, wobei hier das Auftragen unstrukturiert oder ebenfalls grob strukturiert erfolgen kann, zum Beispiel um Material zu sparen, Ränder freizuhalten usw.According to the present invention, the reaction resin composition through the most varied of methods to be damped Substrates are applied. For example, the job done by spin coating, but also by other coating processes, like roller or curtain coating. Conceivable is also still an order in the screen printing process, whereby here the application is unstructured or roughly structured can be done, for example, to save material, Keep edges clear etc.

Die aufzutragende erforderliche Schichtdicke kann durch Modifikation der Epoxidharzzusammensetzung, soweit diese Modifikation die Dämpfungswirkung nicht oder nur unwesentlich beeinflußt, und die Art des Auftrags beeinflußt werden.The required layer thickness can be applied by modification the epoxy resin composition, as far as this modification does not influence the damping effect or only influences it insignificantly, and the type of order can be influenced.

Die erforderliche Dämpfungsstruktur wird dann durch bildmäßiges Belichten der aufgetragenen Harzschicht erzeugt. Die Photostrukturierung von organischen Schichten, sowohl positiv als auch negativ, ist an sich bekannt und wird bei der Fertigung von elektronischen Bauelementen und Leiterplatten in vielfältiger Weise genutzt. Eine scannende Photostrukturierung ist jedoch nicht für die dämpfende Beschichtung von Oberflächenwellenbauelementen und nicht in Kombination mit den ausgewählten Harzformulierungen bekannt. Vielmehr ist bis heute kein System gefunden worden, das die oben angerissene Eigenschafts- und Performancekombination aufweist.The required damping structure is then by pictorial Exposure of the applied resin layer generated. The photo structuring of organic layers, both positive as well as negative, is known per se and is used in manufacturing of electronic components and circuit boards in used in many ways. A scanning photo structure is not for the damping coating of Surface wave components and not in combination with the selected resin formulations. Rather is up No system has been found today to match the one outlined above Features and performance combination.

Die Laserstereolithographie ist ein Verfahren zur Erzeugung dreidimensionaler Strukturen aus flüssigen, photoempfindlichen Harzen und wird beispielsweise in der DE-A 195 41 075.0 beschrieben. Im Rahmen der vorliegenden Erfindung wird auf einem Oberflächenwellenbauelement eine einlagige, dämpfende Beschichtung ebenfalls durch scannende Belichtung erzeugt. Dazu trägt man das ausgewählte dämpfende Reaktionsharz in einer dünnen Schicht von 0,2 bis 100 µm, vorzugsweise 20 bis 50 µm auf die Oberfläche eines Oberflächenwellensubstrats auf. Den Wafer positioniert man dann in geeigneter Weise unter der Laserbelichtungsvorrichtung. Diese besteht zum Beispiel ähnlich wie in der DE-A 195 41 075.0 beschrieben, aus einem fokussierten Laser mit einer geeignet ausgestalteten Transfer-Optik.Laser stereo lithography is a method of generation three-dimensional structures made of liquid, photosensitive Resins and is for example in DE-A 195 41 075.0 described. In the context of the present invention a single-layer, damping Coating also created by scanning exposure. To do this, you wear the selected damping reaction resin in one thin layer of 0.2 to 100 microns, preferably 20 to 50 µm on the surface of a surface wave substrate. The wafer is then suitably positioned under the Laser exposure device. This is similar, for example as described in DE-A 195 41 075.0, from a focused Laser with a suitably designed transfer optics.

Als Laserlichtquelle kann zum Beispiel ein Helium-Cadmium-Laser mit 325 nm Wellenlänge verwendet werden. Die Strahlungsleistung liegt bevorzugt zwischen 1 und 100 mW. Alternativ dazu wären auch Laser geeignet, bei denen die Laserleistung im angegebenen Bereich oder darüberliegt und für deren Wellenlänge geeignete Photoinitiatoren verfügbar sind. Ein alternativer UV-Laser wäre beispielsweise ein Argon-Ionen-Laser mit einer Wellenlänge bei 351 und 364 nm. Auch andere intensive UV-Lichtquellen sind für das erfindungsgemäße Verfahren geeignet. Ebenso kann kurzwelliges sichtbares Licht verwendet werden, wenn damit die Photoinitiierung effektiv möglich ist. Der Lichtstrahl wird darüber hinaus auf einen Fokus-Durchmesser von 5 bis 200 µm, bevorzugt 20 bis 50 µm fokussiert.For example, a helium-cadmium laser can be used as the laser light source with a wavelength of 325 nm can be used. The radiant power is preferably between 1 and 100 mW. alternative lasers would also be suitable for this purpose, in which the laser power in the specified range or above and for their Suitable photoinitiators are available. On an alternative UV laser would be, for example, an argon ion laser with a wavelength at 351 and 364 nm. Others too Intense UV light sources are for the method according to the invention suitable. Short-wave visible light can also be used be used when making photoinitiation effective is possible. The light beam is also on one Focus diameter from 5 to 200 microns, preferably 20 to 50 microns focused.

Der fokussierte Lichtstrahl wird nun mittels eines rechnergesteuerten Spiegelsystemes und einer Transferoptik in einer der geforderten Dämpfungsstruktur entsprechenden Weise über das mit Reaktionsharz beschichtete Oberflächenwellenbauelement gelenkt. Selbstverständlich können dazu eine oder auch beide Relativbewegungsrichtungen vom Wafer ausgeführt werden. Durch ein derartiges Belichtungsverfahren werden nur solche Stellen auf dem mit Harz beschichteten Bauelement gehärtet, an denen Dämpfungsstrukturen entstehen sollen.The focused light beam is now controlled by a computer Mirror system and a transfer optics in one the required damping structure the surface wave component coated with reactive resin directed. Of course, one or more can do this both relative directions of movement are carried out by the wafer. With such an exposure process, only such Places hardened on the resin-coated component, where damping structures should arise.

Nachdem die Harzschicht bildmäßig ausgehärtet ist, kann das unbelichtete Harz nach allen im Stand der Technik bekannten Methoden entfernt werden, d.h. die Dämpfungsstruktur entwikkelt werden. Denkbar sind beispielsweise ein Absaugen, Abblasen oder Abwaschen des unbelichteten Harzes im Lösungsmitteldampf, oder in Kaskadenwäschern, wodurch auch gewissermaßen unverbrauchtes Harz wieder gewonnen werden kann. After the resin layer has cured imagewise, this can unexposed resin according to all known in the art Methods are removed, i.e. the damping structure developed become. Suction, blowing off are conceivable, for example or washing off the unexposed resin in the solvent vapor, or in cascade washers, so to some extent unused resin can be recovered.

Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren tritt kein Verlaufen von erzeugten Strukturen auf, insbesondere auch kein unterschiedliches Verlaufverhalten auf unterschiedlichen Substraten. Diese Eigenschaft bringt einen Entwicklungsspielraum für die auswählbaren Harzformulierungen, da das Fließverhalten, insbesondere die Viskosität in weiten Grenzen variiert werden kann und nicht auf präzisen Siebdruck optimiert werden muß. Dadurch sind insbesondere ein blasenfreier und homogener Auftrag möglich, der eine hochqualitative akustische Dämpfung sowie eine gute Haftung möglich macht.In the method according to the invention there is no bleeding generated structures, especially no different Flow behavior on different substrates. This property creates a scope for development selectable resin formulations because of the flow behavior, in particular the viscosity can be varied within wide limits can and does not have to be optimized for precise screen printing. This means that the application is bubble-free and homogeneous possible of a high quality acoustic damping as well as good liability.

Erforderlichenfalls kann die Belichtung so erfolgen, daß keine vollständige Aushärtung der belichteten Stellen erfolgt. Diese Variation ist durch Modifikation des Harzes selbst oder der Belichtungsintensität und/oder -dauer möglich. Durch die dann erforderliche thermische Nachbehandlung verläuft das Harz geringfügig, so daß Dämpfungsstrukturen mit besonders reflexionsarmen Kanten entstehen.If necessary, the exposure can be such that none the exposed areas are completely cured. This variation is due to modification of the resin itself or the exposure intensity and / or duration possible. Through the then the required thermal aftertreatment proceeds Resin slightly, so that damping structures with special low-reflection edges arise.

Nachdem anhand der vorangegangenen Beschreibung die wesentlichen Merkmale und Vorteile der Erfindung dargestellt worden sind, kann festgestellt werden, daß das erfindungsgemäße Verfahren hinsichtlich Flexibilität und Wirtschaftlichkeit allen bisher bekannten und im Stand der Technik zur Erzeugung von dämpfenden Beschichtungen auf Oberflächenwellenbauelementen verwendeten Verfahren weit überlegen ist.After the essentials based on the previous description Features and advantages of the invention have been presented , it can be stated that the method according to the invention in terms of flexibility and economy previously known and in the prior art for the generation of damping coatings on surface acoustic wave components the method used is far superior.

Claims (8)

  1. Method for applying an attenuating coating on surface wave components by coating the surface wave component with an attenuating, photocurable resin and curing the resin in a way corresponding to the required attenuation structure by imagewise exposure with a light beam moved in a scanning manner in relation to the substrate and removing the uncured regions.
  2. Method according to Claim 1, characterized in that the structuring exposure is carried out by means of laser light.
  3. Method according to either of Claims 1 and 2, characterized in that the photocurable resin is selected from (meth)acrylates, polyimides, polybenzoxazoles or epoxy resins.
  4. Method according to either of Claims 1 and 2, characterized in that an epoxy resin composition with a suitable photoinitiator system is selected.
  5. Method according to Claim 4, characterized in that the epoxy resin composition comprises at least a liquid epoxy compound, a polyhydroxyl compound soluble therein with at least two aliphatic OH groups and a photoinitiator or a photoinitiator system for the cationic curing.
  6. Method according to Claim 5, characterized in that the epoxy resin composition further comprises additives for the lateral limitation of the curing.
  7. Method according to Claim 6, characterized in that the additives for the lateral limitation are selected from the group of salt-like hydroxides and/or organic amines.
  8. Method according to one of Claims 1 to 7, characterized in that, if appropriate, the coating is subsequently subjected to thermal treatment to produce edges of very low reflection, with the said coating running away slightly.
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