EP0842527A1 - Gas-discharge device with electrodes for use in vacuum technology - Google Patents

Gas-discharge device with electrodes for use in vacuum technology

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EP0842527A1
EP0842527A1 EP96927550A EP96927550A EP0842527A1 EP 0842527 A1 EP0842527 A1 EP 0842527A1 EP 96927550 A EP96927550 A EP 96927550A EP 96927550 A EP96927550 A EP 96927550A EP 0842527 A1 EP0842527 A1 EP 0842527A1
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EP
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magnet
housing
electrodes
gas discharge
ion
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EP96927550A
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German (de)
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Ludolf Gerdau
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Leybold GmbH
Original Assignee
Leybold Vakuum GmbH
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Publication date
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J41/00—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas; Discharge tubes for evacuation by diffusion of ions
    • H01J41/02—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas
    • H01J41/06—Discharge tubes for measuring pressure of introduced gas or for detecting presence of gas with ionisation by means of cold cathodes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01L—MEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L21/00—Vacuum gauges
    • G01L21/30—Vacuum gauges by making use of ionisation effects
    • G01L21/34—Vacuum gauges by making use of ionisation effects using electric discharge tubes with cold cathodes

Definitions

  • the invention relates to a device with the features of the preamble of claim 1.
  • Devices that can be used in vacuum technology and require gas discharge for their operation are, for example, ionization (Penning) vacuum meters, gas discharge ion sources, ion atomizing pumps or the like. They are equipped with one or more magnets, the fields of which lengthen the path of the ionizing electrons.
  • a cold cathode ionization or Penning vacuum meter of this type is known from DE-A-36 42 670.
  • Your transducer comprises two non-heated electrodes (cathode and anode), between which a discharge is ignited and maintained by means of a direct voltage (order of magnitude 2 KV), which burns stationary even at very low pressures. This is achieved by making the path of the electrons so long with the help of a magnetic field that their collision rate with the gas molecules still present becomes sufficiently large, to form the number of carriers required to maintain the discharge.
  • the magnetic field (order of magnitude 0.1 T) is arranged such that the magnetic lines of force are superimposed on the electric lines of force. This forces the electrons onto a helical path on their way to the anode.
  • the positive and negative charge carriers generated here by impact migrate to the corresponding electrodes and form the pressure-dependent discharge current.
  • the electrodes are located within a vacuum-tight housing. Two permanent magnets are arranged outside the housing. When ready for use, the entire system is located within a protective cap.
  • Gas discharge ion sources and ion atomizing pumps of a known type have a similar structure. They are operated with correspondingly dimensioned electrical voltages and magnetic fields.
  • the magnets used to generate the magnetic fields are located outside the respective device housing.
  • the electrodes are located inside the housing, the housing itself being able to form one of the electrodes - frequently the cathode.
  • the housing is expediently at earth potential.
  • the anode inside the housing is then to be supplied with a positive high voltage.
  • the object of the present invention is to simplify the construction of a device of the type concerned here.
  • this object is achieved in that the magnet is inside the housing and at the same time forms one of the electrodes.
  • the construction of a device of the type concerned here is particularly simple if the housing forms the second electrode. Separate, separately manufactured and assembled components for electrodes can be omitted in this embodiment.
  • FIG. 1 shows a sensor for a cold cathode ionization vacuum meter
  • FIG. 2 is a gas discharge ion source
  • FIG. 3 shows a diode ion atomizing pump
  • the housing equipped with a flange 2 is designated by 3. Inside the housing 3 there is an annular magnet 4, the end faces 5, 6 of which form the poles. Some magnetic lines 7 are shown.
  • the magnet 4 is connected to a high-voltage source, not shown, via a lead 8 which is isolated from the housing 3.
  • the housing is grounded.
  • the polarity is expediently chosen so that the magnet 4 forms the anode and the housing 3 the cathode. Electrical field lines, not shown, extend between the magnets 4 and the housing 3.
  • the polarity can also Conversely chosen, that is, the magnet 4 forms the cathode, which is achieved by appropriate voltage selection.
  • the magnet 4 simultaneously forms the anode and the housing 3 simultaneously the cathode, separate electrode components can be omitted. Its structure is therefore particularly suitable for transmitter designs in which the electronic components have to be accommodated in the immediate vicinity of the sensor.
  • FIG. 2 shows an exemplary embodiment for a gas discharge ion source.
  • Its housing 3 is essentially cylindrical.
  • the axis of the housing is designated 9. It is also the axis of the ring-shaped magnet 4.
  • the gas to be ionized is metered in via a connecting piece 10.
  • an ion cloud is located in the center of the ring-shaped magnet 4.
  • ions are sucked out of the ion cloud in a manner known per se and formed into an ion beam, which is then e.g. a quadrupole mass spectrometer can be supplied for analysis of the gas.
  • FIG. 3 shows a diode ion atomizing pump, the anode of which is formed by the ring-shaped magnet 4.
  • Plates 12 and 13 made of suitable cathode material (e.g. titanium) applied to the inside of the housing serve as the cathode.
  • the electrons generate ions which are accelerated onto the plates 12 and 13.
  • the cathode material atomizes and forms the getter layers implanting the gas molecules in a manner known per se.
  • the invention can also be used in a triode ion atomizing pump.
  • the magnet 4 does not have to have a ring shape. Other designs of the magnet - and also of the housing - are possible. It is just make sure that the polarization of the magnet 4 and the polarity of the electric field are selected so that magnetic and electric field lines intersect. The extension of the path of the electrons necessary for the operation of the gas discharge is then always guaranteed.
  • a plurality of ring-shaped magnets can be arranged side by side in such a way that their axes are approximately perpendicular to the cathode plates. They thus form the multi-cell anode that is particularly useful in ion atomizing pumps.
  • the housing expediently consists of a ferromagnetic material, e.g. Stainless steel, so that the course of the magnetic field lines can be influenced with the help of the housing.
  • a ferromagnetic material e.g. Stainless steel
  • magnets e.g. Iron-neodymium-boron magnets or cobalt-samarium magnets
  • the magnet 4 is therefore expediently coated, e.g. to avoid Ha embrittlement.
  • a coating is shown and designated 14.
  • the coating can consist of a hard material layer, which is applied by plasma evaporation or plasma polymerization.
  • magnets 4 e.g. made of stainless steel, completely encapsulated. It is sufficient if these sheet metal sections have a thickness of approximately 0.05 mm. Impairment of the magnetic fields by the sheet metal capsule is negligible with this thickness of the sheet metal sections.

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Abstract

The invention concerns a vacuum-technology device (1) with a housing (3) and, inside the housing, electrodes between which a gas discharge is maintained while the device is operating, the device also having at least one magnet (4) whose field extends the path of the ionizing electrons. In order to simplify the design of a device of this kind, the invention proposes that the magnet (4) is located inside the housing (3) and forms one of the electrodes.

Description

In der Vakuumtechnik einsetzbares Gerät mit Elektroden für eine GasentladungDevice with electrodes for gas discharge that can be used in vacuum technology
Die Erfindung betrifft ein Gerät mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Patentanspruchs 1.The invention relates to a device with the features of the preamble of claim 1.
In der Vakuumtechnik einsetzbare Geräte, die für ihren Betrieb eine Gasentladung benötigen, sind beispielsweise Ionisations-(Penning-)Vakuumeter, Gasentladungs-Ionen- quellen, Ionenzerstäuberpumpen oder dergleichen. Sie sind mit einem oder mehreren Magneten ausgerüstet, deren Felder eine Verlängerung des Weges der ionisierenden Elektronen bewirken.Devices that can be used in vacuum technology and require gas discharge for their operation are, for example, ionization (Penning) vacuum meters, gas discharge ion sources, ion atomizing pumps or the like. They are equipped with one or more magnets, the fields of which lengthen the path of the ionizing electrons.
Ein Kaltkatoden-Ionisations- oder Penning-Vakuummeter dieser Art ist aus der DE-A-36 42 670 bekannt. Ihr Meßwertaufnehmer umfaßt zwei nicht beheizte Elektroden (Katode und Anode), zwischen denen mittels einer Gleichspannung (Größenordnung 2 KV) eine Entladung gezündet und aufrechterhalten wird, die auch noch bei sehr tiefen Drücken stationär brennt. Dieses wird dadurch erreicht, daß mit Hilfe eines Magnetfeldes der Weg der Elektronen so lang gemacht wird, daß ihre Stoßrate mit den noch vorhandenen Gasmolekülen hinreichend groß wird, um die zur Aufrechterhaltung der Entladung erforderliche Anzahl von Ladungsträgern zu bilden. Das Magnetfeld (Grö¬ ßenordnung 0,1 T) ist so angeordnet, daß die magnetischen Kraftlinien den elektrischen Kraftlinien überlagert sind. Dadurch werden die Elektronen auf ihrem Weg zur Anode auf eine schraubenförmige Bahn gezwungen. Die hierbei durch Stoß erzeugten positiven und negativen Ladungsträger wandern zu den entsprechenden Elektroden und bilden den druckabhängigen Entladungsstrom.A cold cathode ionization or Penning vacuum meter of this type is known from DE-A-36 42 670. Your transducer comprises two non-heated electrodes (cathode and anode), between which a discharge is ignited and maintained by means of a direct voltage (order of magnitude 2 KV), which burns stationary even at very low pressures. This is achieved by making the path of the electrons so long with the help of a magnetic field that their collision rate with the gas molecules still present becomes sufficiently large, to form the number of carriers required to maintain the discharge. The magnetic field (order of magnitude 0.1 T) is arranged such that the magnetic lines of force are superimposed on the electric lines of force. This forces the electrons onto a helical path on their way to the anode. The positive and negative charge carriers generated here by impact migrate to the corresponding electrodes and form the pressure-dependent discharge current.
Beim Penning-Ionisationsvakuummeter nach dem Stand der Technik befinden sich die Elektroden innerhalb eines vakuum¬ dichten Gehäuses. Zwei Permanentmagneten sind außerhalb des Gehäuses angeordnet. Im betriebsfertigen Zustand befindet sich das gesamte System innerhalb einer Schutzkappe.In the Penning ionization vacuum meter according to the prior art, the electrodes are located within a vacuum-tight housing. Two permanent magnets are arranged outside the housing. When ready for use, the entire system is located within a protective cap.
Gasentladungs-Ionenquellen und Ionenzerstäuberpumpen be¬ kannter Art sind ähnlich aufgebaut. Sie werden mit entspre¬ chend bemessenen elektrischen Spannungen sowie Magnetfeldern betrieben. Die der Erzeugung der Magnetfelder dienenden Magnete befinden sich außerhalb des jeweiligen Gerätegehäu¬ ses. Innerhalb des Gehäuses befinden sich die Elektroden, wobei das Gehäuse selbst eine der Elektroden - häufig die Katode - bilden kann. Zweckmäßig liegt das Gehäuse auf Erdpotential. Die innerhalb des Gehäuses befindliche Anode ist dann mit einer positiven Hochspannung zu versorgen.Gas discharge ion sources and ion atomizing pumps of a known type have a similar structure. They are operated with correspondingly dimensioned electrical voltages and magnetic fields. The magnets used to generate the magnetic fields are located outside the respective device housing. The electrodes are located inside the housing, the housing itself being able to form one of the electrodes - frequently the cathode. The housing is expediently at earth potential. The anode inside the housing is then to be supplied with a positive high voltage.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, den Aufbau eines Gerätes der hier betroffenen Art zu vereinfa¬ chen.The object of the present invention is to simplify the construction of a device of the type concerned here.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe dadurch gelöst, daß sich der Magnet innerhalb des Gehäuses befindet und gleichzeitig eine der Elektroden bildet. Infolge dieses vereinfachten Aufbaus ergibt sich der Vorteil, daß die Abmessungen eines Gerätes nach der Erfindung wesentlich kleiner gehalten werden können als bei entsprechenden Geräten nach dem Stand der Technik. Auch ist das Magnetfeld nicht mehr beeinträch¬ tigt durch die Gehäusewand.According to the invention, this object is achieved in that the magnet is inside the housing and at the same time forms one of the electrodes. As a result of this simplified structure, there is the advantage that the dimensions of a device according to the invention can be kept significantly smaller than that of corresponding devices according to the prior art of the technique. The magnetic field is also no longer impaired by the housing wall.
Der Aufbau eines Gerätes der hier betroffenen Art wird besonders einfach, wenn das Gehäuse die zweite Elektrode bildet. Gesonderte, separat herzustellende und zu montie¬ rende Bauteile für Elektroden können bei dieser Ausfuh¬ rungsform entfallen.The construction of a device of the type concerned here is particularly simple if the housing forms the second electrode. Separate, separately manufactured and assembled components for electrodes can be omitted in this embodiment.
Weitere Vorteile und Einzelheiten der Erfindung sollen anhand von in den Figuren schematisch dargestellten Bei¬ spielen erläutert werden. Es zeigenFurther advantages and details of the invention will be explained with reference to examples shown schematically in the figures. Show it
- Figur 1 einen Meßwertaufnehmer für ein Kaltkatoden-Ionisationsvakuumeter,FIG. 1 shows a sensor for a cold cathode ionization vacuum meter,
- Figur 2 eine Gasentladungs-Ionenguelle und- Figure 2 is a gas discharge ion source and
- Figur 3 eine Dioden-Ionenzerstäuberpumpe- Figure 3 shows a diode ion atomizing pump
In allen Figuren sind einander entsprechende Bauteile mit gleichen Bezugszeichen versehen.Corresponding components are provided with the same reference symbols in all the figures.
Bei dem in Figur 1 dargestellten Meßwertaufnehmer 1 ist das mit einem Flansch 2 ausgerüstete Gehäuse mit 3 bezeichnet. Innerhalb des Gehäuses 3 befindet sich ein ringförmiger Magnet 4, dessen Stirnseiten 5,6 die Pole bilden. Einige Magnetlinien 7 sind eingezeichnet.In the measuring sensor 1 shown in FIG. 1, the housing equipped with a flange 2 is designated by 3. Inside the housing 3 there is an annular magnet 4, the end faces 5, 6 of which form the poles. Some magnetic lines 7 are shown.
Über eine isoliert aus dem Gehäuse 3 hinausgeführte Zulei¬ tung 8 steht der Magnet 4 mit einer nicht dargestellten Hochspannungsquelle in Verbindung. Das Gehäuse ist geerdet. Die Polarität wird zweckmäßig so gewählt, daß der Magnet 4 die Anode und das Gehäuse 3 die Katode bilden. Nicht einge¬ zeichnete elektrische Feldlinien erstrecken sich zwischen den Magneten 4 und dem Gehäuse 3. Die Polarität kann auch umgekehrt gewählt sein, d.h. daß der Magnet 4 die Katode bildet, was durch entsprechende Spannungswahl erreicht wird.The magnet 4 is connected to a high-voltage source, not shown, via a lead 8 which is isolated from the housing 3. The housing is grounded. The polarity is expediently chosen so that the magnet 4 forms the anode and the housing 3 the cathode. Electrical field lines, not shown, extend between the magnets 4 and the housing 3. The polarity can also Conversely chosen, that is, the magnet 4 forms the cathode, which is achieved by appropriate voltage selection.
Da der Magnet 4 gleichzeitig die Anode und das Gehäuse 3 gleichzeitig die Katode bilden, können separate Elektroden¬ bauteile entfallen. Sein Aufbau ist deshalb besonders geeignet für Transmitter-Ausführungen, bei deren elektro¬ nische Bauteile in unmittelbarer Nähe des Aufnehmers unter¬ gebracht werden müssen.Since the magnet 4 simultaneously forms the anode and the housing 3 simultaneously the cathode, separate electrode components can be omitted. Its structure is therefore particularly suitable for transmitter designs in which the electronic components have to be accommodated in the immediate vicinity of the sensor.
Figur 2 zeigt ein Ausführungsbeispiel für eine Gasentla- dungs-Ionenquelle. Ihr Gehäuse 3 ist im wesentlichen zylin¬ drisch. Die Achse des Gehäuses ist mit 9 bezeichnet. Sie ist gleichzeitig die Achse des ringförmigen Magneten 4. Auf der einen Seite des Magneten 4 wird über einen Anschlußstutzen 10 das zu ionisierende Gas dosiert zugeführt. Während des Betriebs befindet sich im Zentrum des ringförmigen Magneten 4 eine Ionenwolke. Mit Hilfe der schematisch dargestellten, aus drei ringförmigen Elektroden bestehenden Ionenlinse 11 werden in an sich bekannter Weise Ionen aus der Ionenwolke abgesaugt und zu einem Ionenstrahl geformt, der dann z.B. einen Quadrupol-Massenspektrometer zwecks Analyse des Gases zugeführt werden kann.FIG. 2 shows an exemplary embodiment for a gas discharge ion source. Its housing 3 is essentially cylindrical. The axis of the housing is designated 9. It is also the axis of the ring-shaped magnet 4. On one side of the magnet 4, the gas to be ionized is metered in via a connecting piece 10. During operation, an ion cloud is located in the center of the ring-shaped magnet 4. With the aid of the schematically illustrated ion lens 11 consisting of three ring-shaped electrodes, ions are sucked out of the ion cloud in a manner known per se and formed into an ion beam, which is then e.g. a quadrupole mass spectrometer can be supplied for analysis of the gas.
Figur 3 zeigt eine Dioden-Ionenzerstäuberpumpe, deren Anode vom ringförmigen Magneten 4 gebildet wird. Als Katode dienen auf die Gehäuseinnenseite aufgebrachte Platten 12 und 13 aus geeignetem Katodenmaterial (z.B. Titan). Im Zentrum des Magneten 4 erzeugen die Elektronen Ionen, die auf die Platten 12 und 13 beschleunigt werden. Das Katodenmaterial zerstäubt und bildet in an sich bekannter Weise die die Gasmoleküle implantierenden Getterschichten. Auch bei einer Trioden-Ionenzerstäuberpumpe kann die Erfindung eingesetzt werden.FIG. 3 shows a diode ion atomizing pump, the anode of which is formed by the ring-shaped magnet 4. Plates 12 and 13 made of suitable cathode material (e.g. titanium) applied to the inside of the housing serve as the cathode. In the center of the magnet 4, the electrons generate ions which are accelerated onto the plates 12 and 13. The cathode material atomizes and forms the getter layers implanting the gas molecules in a manner known per se. The invention can also be used in a triode ion atomizing pump.
Der Magnet 4 muß nicht Ringform haben. Andere Gestaltungen des Magneten - und auch des Gehäuses - sind möglich. Es ist lediglich darauf zu achten, daß die Polarisierung des Magneten 4 und die Polarität des elektrischen Feldes so gewählt sind, daß sich magnetische und elektrische Feldli¬ nien schneiden. Die für den Betrieb der Gasentladung not¬ wendige Verlängerung der Wege der Elektronen ist dann stets gewährleistet.The magnet 4 does not have to have a ring shape. Other designs of the magnet - and also of the housing - are possible. It is just make sure that the polarization of the magnet 4 and the polarity of the electric field are selected so that magnetic and electric field lines intersect. The extension of the path of the electrons necessary for the operation of the gas discharge is then always guaranteed.
Bei einer Ionenzerstäuberpumpe können z.B. eiine Vielzahl von ringförmigen Magneten derart nebeneinander angeordnet sein, daß ihre Achsen etwa senkrecht auf den Katodenplatten stehen. Sie bilden damit die bei Ionenzerstäuberpumpen besonders zweckmäßige Vielzellenanode.With an ion atomizing pump, e.g. A plurality of ring-shaped magnets can be arranged side by side in such a way that their axes are approximately perpendicular to the cathode plates. They thus form the multi-cell anode that is particularly useful in ion atomizing pumps.
Zweckmäßig besteht das Gehäuse aus einem ferromagnetischen Werkstoff, z.B. Edelstahl, sodaß mit Hilfe des Gehäuses Einfluß auf den Verlauf der Magnetfeldlinien genommen werden kann.The housing expediently consists of a ferromagnetic material, e.g. Stainless steel, so that the course of the magnetic field lines can be influenced with the help of the housing.
Bei der Verwendung von Magneten - z.B. Eisen- Neodym-Bor- Magneten oder Kobalt-Samarium-Magneten, im Vakuum besteht das Problem, daß die Magnetwerkstoffe insbesondere von Wasserstoff angegriffen werden. Zweckmäßig ist deshalb der Magnet 4 beschichtet, um z.B. eine Ha-Versprödung zu ver¬ meiden. In Figur 3 ist eine Beschichtung dargestellt und mit 14 bezeichnet. Die Beschichtung kann aus einer Hartstoff- schicht bestehen, die durch Plasmabedampfung oder Plasmapo¬ lymerisation aufgebracht wird. Eine weitere Möglichkeit besteht darin, den Magneten 4 mit Hilfe von Blechabschnit¬ ten, z.B. aus Edelstahl, vollständig einzukapseln. Es reicht aus, wenn diese Blechabschnitte eine Dicke von etwa 0,05 mm haben. Eine Beeinträchtigung der Magnetfelder durch die Blechkapsel ist bei dieser Dicke der Blechabschnitte vernachlässigbar. When using magnets - e.g. Iron-neodymium-boron magnets or cobalt-samarium magnets, in vacuum there is the problem that the magnetic materials are attacked in particular by hydrogen. The magnet 4 is therefore expediently coated, e.g. to avoid Ha embrittlement. In Figure 3, a coating is shown and designated 14. The coating can consist of a hard material layer, which is applied by plasma evaporation or plasma polymerization. Another possibility is to use magnets 4, e.g. made of stainless steel, completely encapsulated. It is sufficient if these sheet metal sections have a thickness of approximately 0.05 mm. Impairment of the magnetic fields by the sheet metal capsule is negligible with this thickness of the sheet metal sections.

Claims

In der Vakuumtechnik einsetzbares Gerät mit Elektroden für eine GasentladungPATENTANSPRÜCHE Device that can be used in vacuum technology with electrodes for a gas discharge
1. In der Vakuumtechnik einsetzbares Gerät (1) mit einem Gehäuse (3), mit innerhalb des Gehäuses befindlichen Elektroden, zwischen denen während des Betriebs des Gerätes eine Gasentladung aufrechterhalten wird, sowie mit mindestens einem Magneten (4), dessen Magnetfeld eine Verlängerung des Weges der ionisierenden Elek¬ tronen bewirkt, dadurch gekennzeichnet, daß sich der Magnet (4) innerhalb des Gehäuses (3) befindet und eine der Elektroden bildet.1. In vacuum technology usable device (1) with a housing (3), with electrodes inside the housing, between which a gas discharge is maintained during operation of the device, and with at least one magnet (4), whose magnetic field is an extension of the Path of the ionizing electrons causes, characterized in that the magnet (4) is inside the housing (3) and forms one of the electrodes.
2. Gerät nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (3) die zweite Elektrode bildet.2. Apparatus according to claim 1, characterized in that the housing (3) forms the second electrode.
3. Gerät nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (4) die Anode ist.3. Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the magnet (4) is the anode.
4. Gerät nach Anspruch 1,2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (4) Ringform hat. 4. Apparatus according to claim 1, 2 or 3, characterized in that the magnet (4) has an annular shape.
5. Gerät nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Stirnseiten (5,6) des ringförmigen Magneten (4) die Magnetpole bilden.5. Apparatus according to claim 4, characterized in that the end faces (5,6) of the annular magnet (4) form the magnetic poles.
6. Gerät nach einem der vorhergehenden6. Device according to one of the preceding
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (4) beschichtet ist.Claims, characterized in that the magnet (4) is coated.
7. Gerät nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß der Magnet (4) mit Hilfe von Blechabschnitten eingekapselt ist.7. Apparatus according to claim 6, characterized in that the magnet (4) is encapsulated with the aid of sheet metal sections.
8. Gerät nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es ein Meßwertaufnehmer eines Kaltkatoden-Ionisationsvakuumeters ist.8. Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that it is a sensor of a cold cathode ionization vacuum meter.
9. Gerät nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Gasentladungsionenquelle ist.9. Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that it is a gas discharge ion source.
10. Gerät nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (3) der Ionenquelle zylindrisch ist, daß der ringförmige Magnet (4) etwa gleichachsig im Gehäuse (3) angeordnet ist, daß auf einer Seite des Magneten (4) ein Gaseinlaß (10) angeordnet ist und daß sich auf der anderen Seite des Magneten (4) eine elektrostatische oder magnetostatische Linse (11) befindet.10. Apparatus according to claim 9, characterized in that the housing (3) of the ion source is cylindrical, that the annular magnet (4) is arranged approximately coaxially in the housing (3) that on one side of the magnet (4) has a gas inlet ( 10) is arranged and that there is an electrostatic or magnetostatic lens (11) on the other side of the magnet (4).
11. Gerät nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß es eine Ionenzerstäuberpumpe ist.11. Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that it is an ion atomizing pump.
12. Gerät nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß eine Vielzahl von nebeneinanderliegenden ringförmigen Magneten (4) eine Vielzellenanode der Ionenzerstäuber¬ pumpe bildet. 12. Apparatus according to claim 11, characterized in that a plurality of adjacent annular magnets (4) forms a multi-cell anode of the ion atomizer pump.
EP96927550A 1995-08-02 1996-07-19 Gas-discharge device with electrodes for use in vacuum technology Withdrawn EP0842527A1 (en)

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DE19528314 1995-08-02
PCT/EP1996/003185 WO1997005645A1 (en) 1995-08-02 1996-07-19 Gas-discharge device with electrodes for use in vacuum technology

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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19717263A1 (en) 1997-04-24 1998-10-29 Leybold Vakuum Gmbh Penning vacuum gauge
KR100860274B1 (en) 2007-06-29 2008-09-25 포항공과대학교 산학협력단 Compact uhv sputter ion pump bakable at low temperature and manufacturing method at the same
CN111433593A (en) * 2017-10-24 2020-07-17 丸中机械设备有限公司 Gas analyzer

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2882429A (en) * 1957-05-09 1959-04-14 Cons Electrodynamics Corp Gas measuring apparatus
NL261279A (en) * 1960-03-08
DE1539142A1 (en) * 1964-07-20 1969-04-30 Varian Associates Device for magnetically constricted glow discharge
NL6516537A (en) * 1965-12-18 1966-02-25
US3756682A (en) * 1967-02-13 1973-09-04 Schlumberger Technology Corp Method for outgassing permanent magnets
US3505554A (en) * 1968-01-05 1970-04-07 Sergei Arkadievich Vekshinsky Ionization pressure gauge
HU179482B (en) * 1979-02-19 1982-10-28 Mikroelektronikai Valalat Penning pulverizel source
DE3045468C2 (en) * 1980-12-02 1985-05-09 Sergej Ivanovič Tomsk Beljuk Gas discharge electron ion source
JPS60170141A (en) * 1984-02-13 1985-09-03 Toshiba Corp Ion source device
DE3642670A1 (en) * 1986-12-13 1988-06-23 Leybold Ag PENNING IONIZATION VACUUM METER

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
See references of WO9705645A1 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19528314A1 (en) 1997-02-06
WO1997005645A1 (en) 1997-02-13
JPH11510644A (en) 1999-09-14

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