DE971620C - Rough standard and process for its manufacture - Google Patents
Rough standard and process for its manufactureInfo
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Description
Rauhnormal und Verfahren zu seiner Herstellung Die Erfindung bezieht sich auf Rauhnormale, welche zur Prüfung der Rauhigkeit von hochwertigen Oberflächen od. dgl. sowie zur Messung und Prüfung der Oberflächengüte von Werkstücken aller Art benutzt werden.Rough standard and process for its manufacture The invention relates on rough standards, which are used to test the roughness of high-quality surfaces od. Like. As well as for measuring and testing the surface quality of workpieces of all Kind of used.
Bei den bisher bekannten Rauhnormalen sind in die glatte Oberfläche einer Unterlage auf mechanischem Wege furchenartige Vertiefungen eingeschnitten, eingeritzt oder gegebenenfalls auch eingeätzt. Diese bekannten Rauhnormale haben den Nachteil, daß es außerordentlich schwierig ist, die vorgeschriebenen Tiefen der mechanisch eingearbeiteten oder eingeätzten Furchen, deren Tiefe etwa zwischen O,I p und io F liegt, genau einzuhalten. Noch schwieriger ist es, auf diesem Wege Furchen mit einem vorgegebenen Profil zu erzeugen. The previously known rough normals are in the smooth surface furrow-like indentations cut into a base mechanically, scratched or, if necessary, also etched in. These well-known rough normals have the disadvantage that it is extremely difficult to reach the prescribed depths the mechanically incorporated or etched grooves, the depth of which is roughly between O, I p and io F must be strictly adhered to. It is even more difficult this way Generate furrows with a given profile.
Insbesondere war es bisher nicht möglich, Rauhnormale mit bestimmter und gleichmäßiger Rauhtiefe und bestimmter Profilform serienmäßig und einwandfrei zu erzeugen.In particular, it was previously not possible to match rough normals with certain and uniform surface roughness and certain profile shape as standard and flawless to create.
Durch die Erfindung wird bezweckt, die schwierige genaue Herstellung solcher eingearbeiteter Furchen zu vermeiden und ein Rauhnormal zu schaffen, welches demgegenüber wesentlich einfacher und genauer herstellbar ist, wobei insbesondere auch bestimmte Profile gewünschter Art leicht erzeugt werden können. The invention aims to make it difficult to manufacture accurately to avoid such incorporated furrows and to create a rough normal which in contrast, can be produced much more easily and more precisely, in particular certain profiles of the desired type can also be easily generated.
Die Erfindung besteht im wesentlichen darin, daß die Normalrauhigkeiten des Rauhnormals von auf einer glatten Trägerfläche aufgebrachten wdlenförmigen Erhebungen definierten Profils gleicher Grundebene und Höhe gebildet sind. Vorzugsweise sind diese Erhebungen in Form von parallelen Streifen auf der Trägerfläche angeordnet. The invention consists essentially in the fact that the normal roughness of the rough normal of dome-shaped elevations applied to a smooth support surface defined profile of the same base level and height are formed. Preferably are these elevations are arranged in the form of parallel strips on the support surface.
Durch die Erfindung wird ermöglicllt, Rauhnormale in beliebigen Abstufungen und mit genau vorher bestimmbaren wellenförmigen Profilen und Rauhtiefen mit gleichbleibender Güte und beliebig reproduzierbar herzustellen. Beispielsweise kann man den Erhebungen ein sinusförmiges Profil geben und dabei die Grundebene und Höhe der einzelnen wellenförmigen Erhebungen genau festlegen. The invention makes it possible to produce rough normals in any gradation and with precisely predeterminable wave-shaped profiles and roughness depths with constant Produce quality and reproducible as required. For example, one can use the surveys give a sinusoidal profile and thereby the ground plane and height of each undulating Specify surveys precisely.
Ein solches wellen- oder sinusförmiges Profil der Normalrauhigkeiten hat den Vorteil, daß der Taststift von Rauhigkeitsprüfgeräten dem Verlauf des Profils leicht und genau folgen kann. Ferner kann man die Oberfläche der aufgebrachten wellenförmigen Erhebungen ebenso wie die Trägerfläche vollkommen glatt ausführen, so daß der Taststift leicht über die Erhebungen gleiten kann.Such an undulating or sinusoidal profile of normal roughness has the advantage that the stylus of roughness testers follows the course of the profile can easily and accurately follow. You can also see the surface of the applied wave-shaped Elevations as well as the support surface run completely smooth, so that the stylus can easily slide over the bumps.
Man hat bereits vorgeschlagen, Gitter als Rauhnormale zu verwenden. Diese Gitter wurden aber auf mechanischem Wege durch Einschneiden von Furchen in eine Oberfläche hergestellt. Solche Gitter haben die vorstehend beschriebenen Nachteile aller bisher bekannten Rauhnormale. Auch bei der Herstellung solcher mechanisch erzeugter Gitter ist es nicht möglich, über eine ausreichend große Fläche genau gleiche Rauhtiefen zu erzeugen. Dies hängt mit der mechanischen Herstellungsweise und den dabei auftretenden Bedingungen zusammen, wie z. B. Gratbildung, Verdrängung des Werkstoffes, Abnutzung des Werkzeuges, Schwingungen usw. Es ist ferner bekannt, Gitter, Meßmarken, Strichzeichnungen od. dgl. auf photomechanischem Wege herzustellen. Hierbei handelt es sich aber lediglich um die Herstellung optisch wirksamer Gegenstände, bei denen es nicht auf eine bestimmte Oberflächengestaltung, sondern lediglich auf die Erzeugung bestimmter Lichtdurchlässigkeiten ankommt. Wellenförmige Erhebungen definierten Profils mit gleicher Grundebene und Höhe zwecks Erzeugung von Normalrauhigkeiten sind dadurch nicht bekanntgeworden. It has already been proposed to use grids as rough normals. These grids were made mechanically by cutting furrows in made a surface. Such grids have the disadvantages described above of all previously known rough standards. Even in the manufacture of such mechanically generated grid it is not possible to accurately over a sufficiently large area to produce the same surface roughness. This depends on the mechanical manufacturing method and the conditions that arise, such as B. Burr formation, displacement the material, tool wear, vibrations, etc. It is also known To produce grids, measuring marks, line drawings or the like by photomechanical means. However, this is only about the production of optically effective objects, in which there is not a specific surface design, but only on the generation of certain light transmittances is important. Wavy elevations defined profile with the same base plane and height for the purpose of generating normal roughness have not become known as a result.
Die Herstellung eines Rauhnormals gemäß der Erfindung kann auf verschiedene Weise geschehen. The production of a rough standard according to the invention can be carried out in various ways Way done.
Vorzugsweise werden die erhabenen Normalrauhigkeiten bzw. Streifen oder Wulste durch Aufdampfen eines entsprechenden harten Belages auf die Trägerfläche im Vakuum erzeugt. Es ist aber auch möglich, die Erhebungen durch galvanisches Niederschlagen oder durch Kathodenzerstäubung oder durch Aufspritzen eines entsprechenden Belages auf die Trägerfläche zu erzeugen. Diese Verfahren sind an sich bekannt, wurden aber zur Herstellung von Rauhnormalen, die aus wellenförmigen Erhebungen definierten Profils gleicher Grundebene und Höhe bestehen, noch nicht verwendet. Eine solche Anwendung der bekannten Verfahren lag auch nicht nahe, weil die Normalrauhigkeiten bisher nur auf mechanischem Wege durch Einritzen oder Einschneiden oder durch Einätzen von Vertiefungen in die Trägerfläche erzeugt wurden. The raised normal roughnesses or stripes are preferred or beads by vapor deposition of a corresponding hard coating on the support surface generated in a vacuum. But it is also possible to galvanic deposit the elevations or by cathode sputtering or by spraying on a corresponding coating to generate on the support surface. These methods are known per se, but have been for the production of rough normals, which are defined by wave-shaped elevations Profile of the same base level and height exist, not yet used. Such Application of the known method was also not obvious, because the normal roughness so far only mechanically by scoring or cutting or by etching were created by depressions in the support surface.
Zwecks Erzielung des gewünschten wellenförmigen Profils der Erhebungen erfolgt das Aufdampfen oder sonstige Aufbringen des Belages vorzugsweise hinter einem Blendensystem, z. B. einem paralleldrähtigen Drahtgitter, wobei das Verhältnis zwischen Drahtdicke und Drahtabstand variiert werden kann. Auch kann das Profil der Drähte des Drahtgitters entsprechend dem gewünschten wellenförmigen Profil der Erhebungen gewählt werden. In order to achieve the desired undulating profile of the elevations the vapor deposition or other application of the covering is preferably carried out behind a diaphragm system, e.g. B. a parallel wire mesh, where the ratio can be varied between wire thickness and wire spacing. The profile can also of the wires of the wire mesh according to the desired wavy profile of the Surveys are chosen.
Ferner ist es möglich, zur Erzielung bestimmter Profile der Erhebungen den Abstand zwischen der Verdampfungsquelle od. dgl. und dem Blendensystem einerseits und zwischen dem Blendensystem und der Trägerfläche andererseits zu variieren.It is also possible to achieve certain profiles of the surveys the distance between the evaporation source or the like and the diaphragm system on the one hand and on the other hand to vary between the diaphragm system and the support surface.
Schließlich kann die Profilform der wellenförmigen Erhebungen auch durch Veränderung der Strahlungsdichteverteilung der Verdampfungsquelle, z. B. durch entsprechende Formgebung und Material derselben, bzw. durch Veränderung der Form, der Anordnung und des Materials der Anode bei galvanischer Aufbringung, bzw. durch Veränderung der Form und des Materials der Kathode bei Kathodenzerstäubung, bzw. durch entsprechende Formgebung und Material der Spritzquelle beim Aufspritzen eines Belages beeinflußt werden.Finally, the profile shape of the wave-shaped elevations can also by changing the radiation density distribution of the evaporation source, e.g. B. by corresponding shape and material of the same, or by changing the shape, the arrangement and the material of the anode in the case of galvanic application, or by Change of the shape and the material of the cathode with cathode sputtering, resp. by appropriate shape and material of the spray source when spraying a Covering are influenced.
Man kann auch ein photochemisches Verfahren zur Herstellung eines Rauhnormals mit wellenförmigen Erhebungen anwenden. In diesem Falle wird die photochemische Schicht durch ein parallelstreifiges Gitter hindurch belichtet, dessen Gitterperiode je aus einem Streifen konstanter und möglichst hoher Lichtdurchlässigkeit und einem Streifen mit quer zur Streifenrichtung veränderlicher, jedoch gegenüber den Streifen konstanter Lichtdurchlässigkeit herabgesetzter Lichtdurchlässigkeit besteht. One can also use a photochemical process to make one Use rough normals with undulating elevations. In this case the photochemical Layer exposed through a parallel stripe grating, its grating period each from a strip of constant and as high a light transmission as possible and one Stripes with variable transverse to the direction of the stripes, but compared to the stripes constant light transmission reduced light transmission exists.
In der Zeichnung sind beispielsweise zwei verschiedene Ausführungsformen von Verfahren zur Herstellung eines Rauhnormals gemäß der Erfindung veranschaulicht. In the drawing, for example, are two different embodiments illustrated by methods of making a roughing standard according to the invention.
Fig. 1 zeigt schematisch die Anordnung von Blenden vor einem mit den wellenförmigen Erhebungen zu versehenden Träger, und Fig. 2 und 3 zeigen schematisch die Herstellung der wellenförmigen Erhebungen auf photochemischem Wege. Fig. 1 shows schematically the arrangement of diaphragms in front of a with the wave-shaped projections to be provided support, and Figs. 2 and 3 show schematically the production of the wave-shaped elevations by photochemical means.
Die Erzeugung von Rauhnormalen gemäß der Erfindung wird zunächst an einem vorzugsweise zur Anwendung gelangenden Aufdampfverfahren beschrieben. Die Einzelheiten und Varianten dieses Verfahrens können dann analog auf die anderen Aufbringungsverfahren übertragen werden, welche galvanisch, durch Kathodenzerstäubung oder mittels Aufspritzen arbeiten. The generation of rough normals according to the invention is first described on a vapor deposition process that is preferably used. the Details and variants of this procedure can then be applied analogously to the others Application processes are transferred, which galvanically, by cathode sputtering or work by spraying.
Das Aufdampfen eines Belages auf eine Trägerfläche wird als an sich bekannt vorausgesetzt. Bei der Herstellung von Rauhnormalen gemäß der Erfindung kann nun die Profilform und die vorgeschriebene Höhe der wellenförmigen Erhebungen beisjielsweise durch Einhalten einer bestimmten Bedampfungszeit oder durch Verdampfen einer bestimmten Menge des Verdampfungsgutes bei genauer Einhaltung der geometrischen Bedingungen im Verdampfungsraum, d. h. bezüglich der Größe und Form der Verdampfungsquelle und des Abstandes zwischen dieser und der zu bedampfenden Trägerfläche usw., erzielt werden. The vapor deposition of a coating on a support surface is called per se assuming known. In the production of rough standards according to the invention can now change the profile shape and the prescribed height of the wave-shaped elevations for example by observing a certain steaming time or by evaporation a certain amount of the evaporation material with strict adherence to the geometric Conditions in the evaporation space, d. H. regarding the size and shape of the evaporation source and the distance between this and the support surface to be vaporized, etc. is achieved will.
Man kann aber auch die Höhe der wellenförmigen Erhebungen während des Bedampfungsvorganges laufend kontrollieren und den Vorgang nach Erreichen einer bestimmten Höhe der Erhebungen unterbrechen. Diese Kontrolle kann z. B. durch photoelektrische Dichtemessung des aufgedampften Belages vorgenommen werden. Man kann auch die auftretenden Interferenzfarben auf der bedampften Fläche als Anzeige für die Belaghöhe benutzen. But you can also adjust the height of the undulating elevations during of the steaming process continuously and the process after reaching a interrupt certain height of the surveys. This control can e.g. B. by photoelectric Density measurement of the vapor-deposited coating can be carried out. One can also see the occurring Use interference colors on the vaporized surface as an indicator for the height of the covering.
Gegebenenfalls wird man beide Methoden der Höhenkontrolle gleichzeitig zur Anwendung bringen.If necessary, both methods of height control can be used at the same time apply.
Das Wellenprofil der Erhebungen wird vorzugsweise gemäß Fig. I dadurch erzeugt, daß zwischen der Verdampfungsquelle und der glatten Trägerfläche dicht vor letzterer streifenförmige Blenden z. B. in Gestalt eines Drahtgitters angebracht werden. Das von unten einstrahlende, durch strahlenförmige Linien angedeutete Verdampfungsgut trifft durch die Zwischenräume zwischen den Drähten I des vorgeschalteten Gitters auf den zu bedampfenden Träger 2 und erzeugt auf diesem einen wellenförmigen Belag 3. Die Öffnung u der Dampfbündel ist durch den Abstand der Verdampfungsquelle von dem zu beschichtenden Träger und durch die seitliche Ausdehnung der Verdampfungsquelle gegeben. The wave profile of the elevations is preferably shown in FIG generated that tight between the evaporation source and the smooth support surface in front of the latter strip-shaped panels z. B. attached in the form of a wire mesh will. The evaporation material shining in from below, indicated by radial lines hits through the spaces between the wires I of the upstream grid onto the carrier 2 to be steamed and creates a wave-shaped coating on it 3. The opening u of the bundle of steam is due to the distance from the evaporation source the carrier to be coated and the lateral expansion of the evaporation source given.
Man ersieht aus Fig. I, daß das Profil der auf diese Weise auf dem Träger erzeugten wellenförmigen Erhebungen vor allem durch das Verhältnis der Drahtdicke zum Abstand zwischen den Drähten, durch den Abstand der Drähte von der zu bedampfenden Fläche, durch das Profil der Drähte und durch die Öffnung X der Dampfbündel bestimmt wird. Durch entsprechende Wahl dieser Größen kann man also die Form der wellenförmigen Erhebungen bestimmen. Auch durch bestimmte Auswahl der Verdampfungsquellen hinsichtlich ihres geometrischen Aufbaues und Materials kann man das Profil der wellenförmigen Erhebungen oder Wulste beeinflussen. da man den Verlauf der Strahlungsdichte über die Fläche der Strahlungsquelle in gewissem Maße ändern liam1.It can be seen from Fig. I that the profile of the in this way on the Carriers created wave-like elevations mainly due to the ratio of the wire thickness to the distance between the wires, by the distance between the wires and the one to be vaporized Area determined by the profile of the wires and by the opening X of the bundle of steam will. By choosing these sizes accordingly, you can change the shape of the wave-shaped Determine surveys. Also by certain selection of the evaporation sources with regard to Their geometrical structure and material can be seen in the profile of the undulating Affect elevations or bulges. because you can see the course of the radiation density over change the area of the radiation source to some extent liam1.
Die Erzeugung der Erhebungen in Form von parallelen Streifen kann gemäß Fig. 2 und 3 auch auf photochemischem Wege vorgenommen werden. The production of the elevations in the form of parallel strips can 2 and 3 can also be carried out photochemically.
Man beschichtet gemäß Fig. 2 die glatte Trägerfläche 10 mit einer Schicht 20 aus im Licht härtbarem Bichromatleim, z. B. chromiertem Schellack.According to FIG. 2, the smooth support surface 10 is coated with a Layer 20 of photo-curable dichromate glue, e.g. B. chromed shellac.
Diese Schicht wird durch ein parallelstreifiges Gitter hindurch belichtet, dessen Gitterperiode je aus einem Streifen konstanter und möglichst hoher Lichtdurchlässigkeit und einem Streifen mit quer zur Streifenrichtung veränderlicher, gegenüber den erstgenannten Streifen jedoch herabgesetzter Lichtdurchlässigkeit besteht. Um nun die Wellenform der Profile zu beeinflussen, verwendet man gemäß Fig. 2 Gitterstreifen 6 mit verminderter Lichtdurchlässigkeit, deren Lichtdurchlässigkeit senkrecht zur Streifenrichtung aber nicht konstant ist, sondern einen bestimmten, bei allen Streifen gleichen Verlauf hat, wie dies in Fig. 2 durch eine der I,ichtdurchlässigkeit umgekehrt proportional dichte senkrechte Schraffur der Streifen 6 angedeutet ist.This layer is exposed through a parallel stripe grating, whose grating period consists of a strip of constant and as high a light transmission as possible and a strip with transversely to the strip direction variable, compared to the former However, there is a strip of reduced light transmission. To now the waveform To influence the profiles, one uses according to FIG. 2 grid strips 6 with reduced Light transmission, the light transmission of which is perpendicular to the direction of the stripe but is not constant, but a specific course, the same for all strips has, as shown in Fig. 2 by one of the I, icht permeability inversely proportional dense vertical hatching of the strips 6 is indicated.
Die Lichtdurchlässigkeit der Streifen 6 nimmt also vom Stande nach der Mitte zu ab. Da die Härtung der Bichromatleimschicht und damit deren Kontraktion um so größer ist, je stärker die betreffende Stelle belichtet wurde, erhält man beim Belichten durch ein derartiges Gitter hindurch Wulste oder wellenförmige Erhebungen 20', deren Profilform genau vorher bestimmbar ist.The light permeability of the strips 6 thus increases from the stand the middle to off. Because the hardening of the bichromate glue layer and thus its contraction the greater the exposure, the more the point in question was exposed bulges or wave-shaped elevations through such a grating when exposed to light 20 ', the profile shape of which can be precisely determined beforehand.
PATENTANSPRi CliE: 1. Rauhnormal, dadurch gekennzeichnet, daß die Normalrauhigkeiten aus auf einer glatten Trägerfläche aufgebrachten wellenförmigen Erhebungen definierten Profils gleicher Grundebene und Höhe bestehen. PATENT APPLICATION: 1. Rauhnormal, characterized in that the Normal roughness from wave-shaped applied to a smooth support surface Elevations of a defined profile of the same base level and height exist.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEW12671A DE971620C (en) | 1953-11-27 | 1953-11-27 | Rough standard and process for its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DEW12671A DE971620C (en) | 1953-11-27 | 1953-11-27 | Rough standard and process for its manufacture |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE971620C true DE971620C (en) | 1959-02-26 |
Family
ID=7594867
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DEW12671A Expired DE971620C (en) | 1953-11-27 | 1953-11-27 | Rough standard and process for its manufacture |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE971620C (en) |
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