DE9217502U1 - Device for creating a density profile over the thickness of a plate - Google Patents

Device for creating a density profile over the thickness of a plate

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DIPL.-ING. HORST ROSE DIPL.-ING. PETER KOSEL DIPL.-ING. PETER SOBISCHDIPL.-ING. HORST ROSE DIPL.-ING. PETER KOSEL DIPL.-ING. PETER SOBISCH

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Datum/Date 21. Dezember 1992Date/Date 21 December 1992

Fagus-GreCon Greten GmbH & Co. KGFagus-GreCon Greten GmbH & Co. KG

BESCHREIBUNGDESCRIPTION

Vorrichtung zur Erstellung eines Rohdichteprofils Ober die Dicke einer Platte Device for creating a density profile over the thickness of a plate

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.The invention relates to a device according to the preamble of claim 1.

Bei einer bekannten Vorrichtung dieser Art(IEEE Proceedings - 1989 Southeastcon, Session 12D2, Seiten 1366 bis 1371) wird eine aus einer Span- oder Faserplatte ausgeschnittene Probe durch einen Gammastrahl einer Meßvorrichtung hindurchbewegt (S. 1367, Fig. 2). Der Gammastrahl verläuft rechtwinklig zu einer Schmalfläche der Probe. Es handelt sich hier um eine Laborvorrichtung. Die Proben werden aus der laufenden Plattenproduktion entnommen und durchgemessen. Nachteilig sind die Zerstö· rung von Platten für die Probenentnahme und die lange Dauer, bis das Rohdichteprofil vorliegt. Die Produktion läßt sich nur mit entsprechender Verzögerung nachsteu-In a known device of this type (IEEE Proceedings - 1989 Southeastcon, Session 12D2, pages 1366 to 1371), a sample cut out of a chipboard or fiberboard is moved through a gamma ray of a measuring device (p. 1367, Fig. 2). The gamma ray runs at right angles to a narrow surface of the sample. This is a laboratory device. The samples are taken from the ongoing board production and measured. The disadvantages are the destruction of boards for sample taking and the long time until the raw density profile is available. Production can only be adjusted with a corresponding delay.

-2-PK/La -2-PK/La

Bankkonto: NORD/LB, NL Bad Gandersheim (BLZ 250 500 p3j,,Ktq.»Nr. 22 118 9io~ Pcfetgjrpkonto: Postgiroamt Hannover (BLZ 250 100 30), Kto.-Nr. 667 15-307Bank account: NORD/LB, NL Bad Gandersheim (bank code 250 500 p3j,, account no. 22 118 9io~ Postgiro account: Postgiroamt Hannover (bank code 250 100 30), account no. 667 15-307

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, das Rohdichteprofil des Werkstücks schneller zu erstellen.The invention is based on the task of creating the bulk density profile of the workpiece more quickly.

Diese Aufgabe ist durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Die Werkstücke können z.B. mit Spänen oder Fasern aus Holz oder Fasern aus Einjahrespflanzen, wie Flachs oder Bambus, entstehen. Eine mineralische Bindung kann z.B. mit Gips oder Zement geschehen. Als für die Messung geeignete Strahlung kommt insbesondere Gamma- oder gut durchdringende Röntgenstrahlung in Betracht. Die Schmalflächen des Werkstücks sind seine beiden Stirnflächen und seine beiden Seitenflächen. Die erfindungsgemäße Vorrichtung kann wahlweise mit jeder dieser Schmalflächen gesondert oder mit einer beliebigen Anzahl dieser Schmalflächen nacheinander oder gleichzeitig zusammenwirken, um im letzteren Fall von ein und demselben Werkstück mehrere Rohdichteprofile zu erstellen, die eine besonders vollständige und gute Aussage über die Qualität des Werkstücks ermöglichen. Das Werkstück selbst kann sowohl die bekannte, aus einer Platte herausgeschnittene Probe als auch die gesamte Platte selbst sein. Im letzteren Fall kann eine ganze Platte aus dem Herstellungsprozeß abgezweigt und zerstörungsfrei zur Erstellung eines oder mehrerer Rohdichteprofile untersucht werden. Es kann aber auch mit besonderem Vorteil ebenso zerstörungsfrei und ebenso an beliebig vielen Stellen einer oder mehrerer Schmalflächen der Platte "on line", also während des Herstellungsprozesses, an den Platten selbst das Rohdichteprofil erstellt werden. In all diesen Fällen wird das Rohdichteprofil vergleichsweise schnell und sicher erstellt. So können Fehlertendenzen im Herstellungsprozeß frühzeitig geortet und abgestellt werden. Dies führt zu einer erheblichenThis task is solved by the features of claim 1. The workpieces can be made, for example, with chips or fibers from wood or fibers from annual plants such as flax or bamboo. A mineral bond can be made, for example, with gypsum or cement. Gamma or highly penetrating X-rays are particularly suitable for the measurement. The narrow surfaces of the workpiece are its two front surfaces and its two side surfaces. The device according to the invention can optionally work with each of these narrow surfaces separately or with any number of these narrow surfaces one after the other or simultaneously in order to create, in the latter case, several bulk density profiles from one and the same workpiece, which enable a particularly complete and good statement to be made about the quality of the workpiece. The workpiece itself can be either the known sample cut out of a plate or the entire plate itself. In the latter case, an entire plate can be branched off from the manufacturing process and examined non-destructively to create one or more bulk density profiles. However, it is also particularly advantageous to create the density profile on the panels themselves, in a non-destructive manner and at any number of points on one or more narrow surfaces of the panel "on-line", i.e. during the manufacturing process. In all of these cases, the density profile is created relatively quickly and reliably. This means that error tendencies in the manufacturing process can be located and eliminated at an early stage. This leads to a significant

-3--3-

Ol Qualitätsverbesserung der Werkstücke bei Verringerung des Ausschusses.Oil Improved quality of the workpieces while reducing waste.

Die Ausbildung gemäß Anspruch 2 ist baulich und betrieblich besonders einfach.The design according to claim 2 is particularly simple in terms of construction and operation.

Das Strahlungsband gemäß Anspruch 3 kann z.B. eine Dicke von 0,1 mm aufweisen. Die Breite des Strahlungsbandes ist so gewählt, daß bei stationärem Strahler die gesamte Dicke des Werkstücks gleichzeitig bestrahlt wird.The radiation band according to claim 3 can, for example, have a thickness of 0.1 mm. The width of the radiation band is selected so that, with a stationary radiator, the entire thickness of the workpiece is irradiated simultaneously.

Gemäß Anspruch 4 kann insbesondere der Strahler relativ zu dem staionären Werkstück bewegt und dabei die betreffende Schmalfläche des Werkstücks durch den Strahl abgetastet werden.According to claim 4, in particular the emitter can be moved relative to the stationary workpiece and the relevant narrow surface of the workpiece can be scanned by the beam.

Die Detektorelemente gemäß Anspruch 5 können in ihrer Größe entsprechend der gewünschten Auflösung gewähltThe detector elements according to claim 5 can be selected in their size according to the desired resolution

werden. Es sind ohne weiteres Detektorelemente mit einerDetector elements with a

&rgr;
Fläche von 1 pm realisierbar.
&rgr;
Area of 1 pm can be realized.

Im Fall des Anspruchs 6 würde zweckmäßigerweise das Detektorelement synchron mit dem Strahler gemäß Anspruch 4 bewegt werden. Diese Ausbildung bringt baulich besonders geringen Aufwand und den Vorteil, daß die Meßwerte sämtlicher Meßstrecken aus nur einem Strahl und nur einem Detektorelement gewonnen werden.In the case of claim 6, the detector element would expediently be moved synchronously with the radiator according to claim 4. This design results in particularly low construction costs and the advantage that the measured values of all measuring sections are obtained from only one beam and only one detector element.

Durch die Merkmale des Anspruchs 7 ergeben sich besondere betriebliche Vorteile. Vorzugsweise beschickt jeder der beiden Strahler die Hälfte der Meßstrecken.The features of claim 7 result in particular operational advantages. Preferably, each of the two radiators supplies half of the measuring sections.

Gemäß Anspruch 8 lassen sich gleichzeitig mehrere Rohdichteprofile von jeder der Schmalflächen erstellen. Dieses Vorgehen ist zeitsparend und führt zu besondersAccording to claim 8, several density profiles can be created simultaneously from each of the narrow surfaces. This procedure saves time and leads to particularly

-A--A-

Ol sicherer Beurteilung der Qualität des Werkstücks.Ol reliable assessment of the quality of the workpiece.

Gemäß Anspruch 9 kann insbesondere bei stationärem Werkstück mit traversierender Meßvorrichtung gearbeitet werden.According to claim 9, it is possible to work with a traversing measuring device, particularly in the case of a stationary workpiece.

Gemäß Anspruch 10 läßt sich besonders schnell bei auftretenden Fehlern im Herstellungsprozeß reagieren.According to claim 10, it is possible to react particularly quickly to errors that occur in the manufacturing process.

Gemäß Anspruch 11 können die Messungen zur Erstellung des Rohdichteprofils ohne Verlängerung der Zyklusdauer bei einem ohnehin hier und da erforderlichen Stillstand des Werkstücks durchgeführt werden. Dazu eignet sich z.B. der Aufenthalt der plattenförmigen Werkstücke im sogenannten Kühlwender.According to claim 11, the measurements for creating the raw density profile can be carried out without extending the cycle time while the workpiece is at a standstill, which is necessary anyway. For example, the plate-shaped workpieces can be kept in the so-called cooling turner.

Gemäß Anspruch 12 wird der Strahler vorzugsweise rechtwinklig zu der Richtung der Strahlung bewegt.According to claim 12, the radiator is preferably moved at right angles to the direction of radiation.

-5--5-

'. Ol Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachfolgenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen anhand der Zeichnungen. Es zeigt:'. Ol Further features and advantages of the invention will become apparent from the following description of embodiments with reference to the drawings. It shows:

Fig. 1 in schematischer Darstellung eine Seitenansicht einer Meßvorrichtung,Fig. 1 shows a schematic side view of a measuring device,

Fig. 2 die Ansicht gemäß Linie II-II in Fig. 1,Fig. 2 the view according to line II-II in Fig. 1,

Fig. 3 in schematischer Darstellung eine Seitenansicht zweier an einem Werkstück angesetzter Meßvorrichtungen,Fig. 3 shows a schematic side view of two measuring devices attached to a workpiece,

Fig. 4 in schematischer Darstellung ein Rohdichteprofil über die Dicke des Werkstücks,Fig. 4 shows a schematic representation of a density profile across the thickness of the workpiece,

Fig. 5 ein Werkstück mit mehreren stationären Meßvorrichtungen an mehreren Schmalflächen,Fig. 5 a workpiece with several stationary measuring devices on several narrow surfaces,

Fig. 6 ein Werkstück mit einer entlang einer Schmalfläche bewegbaren Meßvorrichtung,Fig. 6 a workpiece with a measuring device movable along a narrow surface,

Fig. 7 eine schematische Darstellung einer anderen Meßvorrichtung, deren Strahler über die Dicke des Werkstücks bewegbar ist,Fig. 7 is a schematic representation of another measuring device whose emitter can be moved over the thickness of the workpiece,

Fig. 8 eine schematische Seitenansicht einer anderen Meßvorrichtung, die insgesamt über die Dicke des Werk-Stücks bewegbar ist, undFig. 8 is a schematic side view of another measuring device which is movable over the entire thickness of the workpiece, and

Fig. 9 Schaltschema einer Vorrichtung zur Erstellung eines Rohrdichteprofils.Fig. 9 Circuit diagram of a device for creating a pipe density profile.

Fig. 1 zeigt in schematischer Darstellung eine Vorrichtung 5 zur Erstellung eines Rohdichteprofils über die Dicke 6 eines plattenförmigen Werkstücks 7, z.B. einerFig. 1 shows a schematic representation of a device 5 for creating a bulk density profile over the thickness 6 of a plate-shaped workpiece 7, e.g. a

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Ol Span- oder Faserplatte. Eine Meßvorrichtung 8 weist einen Strahler 9 und eine Linearanordnung 10 von Detektorelementen auf, von denen in Fig. 1 nur Detektorelemente 11 bis 14 gezeichnet sind.Ol chipboard or fiberboard. A measuring device 8 has a radiator 9 and a linear arrangement 10 of detector elements, of which only detector elements 11 to 14 are shown in Fig. 1.

Der Strahler 9 beherbergt z.B. ein radioaktives Isotop, das eine Gammastrahlung in Gestalt eines parallelen Strahlungsbandes 15 aussendet. Eine Höhe 16 des Strahlungsbandes 15 ist in Fig. 1 eingezeichnet.The radiator 9 houses, for example, a radioactive isotope, which emits gamma radiation in the form of a parallel radiation band 15. A height 16 of the radiation band 15 is shown in Fig. 1.

Zur Erzeugung des Strahlungsbandes 15 ist der Strahler mit einem schmalen rechteckigen Schlitz 17 (Fig. 2) von einer Dicke 18 versehen.To generate the radiation band 15, the radiator is provided with a narrow rectangular slot 17 (Fig. 2) of a thickness 18.

Aus dem in Richtung seiner Höhe 16 kontinuierlichen Strahlungsband 15 werden zum Zweck der Erläuterung vier Strahlen 1 bis 4 herausgegriffen und nachfolgend näher betrachtet. Die Strahlen 1 bis 4 sind parallel zueinander und dringen jeweils unter einem Winkel 19, der < und > 0 ist, in eine Schmalfläche 20 des Werkstücks 7 ein. Die Strahlen 1 bis 4 durchdringen sodann das Werkstück 7 auf Meßstrecken 21 bis 24 von in dieser Reihenfolge abnehmender Länge. Am Ende der Meßstrecken 21 bis 24 verlassen die Strahlen 1 bis 4 das Werkstück wieder und treffen auf die Detektorelemente 11 bis 14 auf. Das Strahlungsband 15, die Meßstrecken 21 bis 24 und die Linearanordnung 10 mit ihren Detektorelementen, z.B. 11 bis 14, liegen in einer gemeinsamen, zu der Schmalfläche 20 zumindest annähernd rechtwinkligen Meßebene. Bei der Schmalfläche 20 kann es sich um eine der beiden Stirnflächen oder eine der beiden Seitenflächen des Werkstücks 7 handeln.For the purpose of explanation, four beams 1 to 4 are selected from the radiation band 15, which is continuous in the direction of its height 16, and are examined in more detail below. The beams 1 to 4 are parallel to one another and each penetrate a narrow surface 20 of the workpiece 7 at an angle 19 that is < and > 0. The beams 1 to 4 then penetrate the workpiece 7 on measuring sections 21 to 24 of decreasing length in this order. At the end of the measuring sections 21 to 24, the beams 1 to 4 leave the workpiece again and strike the detector elements 11 to 14. The radiation band 15, the measuring sections 21 to 24 and the linear arrangement 10 with its detector elements, e.g. 11 to 14, lie in a common measuring plane that is at least approximately perpendicular to the narrow surface 20. The narrow surface 20 can be one of the two end faces or one of the two side faces of the workpiece 7.

Bei Span- und Faserplatten strebt man Decklagen von verhältnismäßig hoher Rohdichte und eine zwischen denFor chipboard and fibreboard, the aim is to achieve top layers of relatively high density and a

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&eegr;&lgr;: &lgr; -^ J &eegr;&lgr;: &lgr; -^ J

Ol Decklagen angeordnete Mittellage von geringerer Rohdichte an. In Fig. 1 sind über die Dicke 6 stellvertretend vier Schichten 25 bis 28 eingezeichnet, die in dieser Reihenfolge Rohdichten p., p&ldquor;, p_ und p4 aufweisen.Ol cover layers arranged middle layer of lower bulk density. In Fig. 1, four layers 25 to 28 are shown across the thickness 6, which have bulk densities p., p&rdquo;, p_ and p 4 in this order.

Der Strahl 1 legt in der Schicht 25 einen Weg d*, danach in der Schicht 26 einen Weg dp, danach in der Schicht 27 einen Weg d3 und schließlich in der Schicht 28 einen Weg d. zurück. Die Summe der Wege d. bis d. ist gleich der Meßstrecke 21. Der Strahl 2 legt die Wege ä. + o&ldquor; + d3, also die Meßstrecke 22, zurück. Der Strahl 3 legt die Wege d1 + d&ldquor;, also die Meßstrecke 23, zurück. Der Strahl 4 schließlich legt nur den Weg d1 zurück, der gleich der Meßstrecke 24 ist.Beam 1 travels a distance d* in layer 25, then a distance dp in layer 26, then a distance d 3 in layer 27 and finally a distance d. in layer 28. The sum of the distances d. to d. is equal to the measuring distance 21. Beam 2 travels the distances ä. + o&ldquor; + d 3 , i.e. the measuring distance 22. Beam 3 travels the distances d 1 + d&ldquor;, i.e. the measuring distance 23. Finally, beam 4 only travels the distance d 1 , which is equal to the measuring distance 24.

Die Anfangsintensität In aller Strahlen 1 bis 4 vor ihrem Eintritt in die Schmalfläche 20 ist gleich. Durch die unterschiedlich langen Meßstrecken 21 bis 24 und die entlang der Meßstrecken 21 bis 24 angetroffenen unterschiedlichen Rohdichten werden die Strahlen 1 bis 4 auf ihrem Weg durch das Werkstück 7 unterschiedlich stark geschwächt, so daß die Detektorelemente 11 bis 14 in dieser Reihenfolge steigende Endintensitäten I1 bis I. der Strahlen 1 bis 4 feststellen.The initial intensity I n of all beams 1 to 4 before they enter the narrow surface 20 is the same. Due to the different lengths of the measuring sections 21 to 24 and the different densities encountered along the measuring sections 21 to 24, the beams 1 to 4 are attenuated to different degrees on their way through the workpiece 7, so that the detector elements 11 to 14 determine increasing final intensities I 1 to I . of the beams 1 to 4 in this order.

Maßgebend für die Schwächung jedes Strahls 1 bis 4 beim Durchdringen des Werkstücks 7 ist das Lambertsche GesetzThe attenuation of each beam 1 to 4 when penetrating the workpiece 7 is determined by Lambert's law

I = &Igr;&eegr;.&bgr;
in dem sind:
I = Λ η
in which are:

In die eindringende Anfangsintensität des Strahls [Zählungen/s]I n is the initial penetrating intensity of the beam [counts/s]

-8--8th-

Ol &mgr; der Absorptionskoeffizient [cm /g]Ol μ is the absorption coefficient [cm /g]

&rgr; die Rohdichte [g/cm ]&rgr; is the bulk density [g/cm ]

d der im Werkstück durch den Strahl zurückgelegte Weg [cm]d the distance travelled by the beam in the workpiece [cm]

I die Endintensität des Strahls nach Durchdringen des absorbierenden Werkstücks [Zählungen/s].I is the final intensity of the beam after penetrating the absorbing workpiece [counts/s].

Danach ergeben sich die Endintensitäten I. bis I. der Strahlen 1 bis 4 in folgender Weise:The final intensities I. to I. of the rays 1 to 4 are then calculated as follows:

T _ I -&mgr;(&rgr; d +&rgr; d +&rgr; d +&rgr; d ) 1I " 0'e 112 2 3 3 4 4 T _ I -&mgr;(&rgr; d +&rgr; d +&rgr; d +&rgr; d ) 1 I "0' e 112 2 3 3 4 4

m T-T &rgr;~^(&Rgr; d +&rgr; d +&rgr; d ) 1U X2 ~ 1O'6 2 2 3 3 4 4m TT &rgr;~^(&Rgr; d +&rgr; d +&rgr; d ) 1U X 2 ~ 1 O' 6 2 2 3 3 4 4

&tgr; _ &tgr; p~^(P d +p d )
X3 " 0-e 3 3 4 4
&tgr; _ &tgr; p~^(P d +pd )
X 3 " 0 -e 3 3 4 4

j = ! e-P(P d )
1A L0'e 4 4 *
j = ! e -P(P d )
1 A L 0' e 4 4 *

Mit diesen Endintensitäten I wird ein Rohdichteprofil (vgl. Fig. 4) für die Schmalfläche 20 erstellt. Dies geschieht grundsätzlich durch Bildung der Differenz zweier benachbarter Endintensitäten. In der Praxis weist die Linearanordnung 10 je nach gewünschter Auflösung sehr viel mehr als nur die in Fig. 1 dargestellten vier Detektorelemente 11 bis 14 auf.With these final intensities I, a raw density profile (see Fig. 4) is created for the narrow surface 20. This is basically done by forming the difference between two adjacent final intensities. In practice, depending on the desired resolution, the linear arrangement 10 has many more than just the four detector elements 11 to 14 shown in Fig. 1.

In Fig. 1 ist unterhalb des Strahls 4 noch ein Strahl eingezeichnet, der einen minimalen Weg in der unteren Kante bzw. am unteren Ende der Schmalfläche 20 des Werkstücks 7 zurücklegt. Das dem Strahl 29 zugeordnete, in Fig. 1 nicht gezeichnete Detektorelement registriert demzufolge eine nur minimale Schwächung der Anfangsin-In Fig. 1, another beam is drawn below beam 4, which travels a minimal path in the lower edge or at the lower end of the narrow surface 20 of the workpiece 7. The detector element assigned to beam 29, not shown in Fig. 1, therefore registers only a minimal weakening of the initial intensity.

-9--9-

Ol tensität in Gestalt einer bestimmten Endintensität des Strahls 29. Von dieser bestimmten Endintensität des Strahls 29 wird dann z.B. die Endintensität I, des Strahls 4 subtrahiert. Die Endintensität I. ist geringer als die Endintensität des Strahls 29, aus der sich die Rohdichte am unteren Ende der Schmalfläche 20 errechnen läßt. Aus der vorerwähnten Differenz läßt sich sodann die Rohdichte des Werstücks 7 in demjenigen Punkt errechnen, in dem der Strahl 4 in die Schmalfläche 20 eintritt. Durch ähnliche Differenzbildungen können nach und nach die Rohdichtewerte aller Punkte errechnet werden, in denen die einzelnen Strahlen des Strahlungsbandes 15 in die Schmalfläche 20 eintreten. Ol intensity in the form of a certain final intensity of the beam 29. The final intensity I, of the beam 4, for example, is then subtracted from this certain final intensity of the beam 29. The final intensity I, is less than the final intensity of the beam 29, from which the gross density at the lower end of the narrow surface 20 can be calculated. From the aforementioned difference, the gross density of the workpiece 7 can then be calculated at the point at which the beam 4 enters the narrow surface 20. By similar subtraction, the gross density values of all points at which the individual beams of the radiation band 15 enter the narrow surface 20 can be calculated one after the other.

In allen Zeichnungsfiguren sind gleiche Teile mit gleichen Bezugszahlen versehen.In all drawings, identical parts are provided with identical reference numbers.

Gemäß Fig. 3 finden zwei Strahler 9 und 30 Verwendung, die jeweils ein Strahlungsband 15 und 31 jeweils unter dem Winkel 19 auf die Schmalfläche 20 senden. Dabei sind die Strahler 9, 30 jedoch spiegelbildlich so angeordnet, daß das Strahlungsband 15 lediglich die Schichten 27, 28 und das Strahlungsband 31 nur die Schichten 25, 26 durchdringt. Außer der Meßvorrichtung 8 ist in Fig. 3 also noch eine weitere Meßvorrichtung 32 vorgesehen, die eine weitere Linearanordnung 33 von einzelnen Detektorelementen aufweist.According to Fig. 3, two radiators 9 and 30 are used, each of which sends a radiation band 15 and 31 at an angle of 19 to the narrow surface 20. However, the radiators 9, 30 are arranged in mirror image so that the radiation band 15 only penetrates the layers 27, 28 and the radiation band 31 only penetrates the layers 25, 26. In addition to the measuring device 8, Fig. 3 also provides a further measuring device 32, which has a further linear arrangement 33 of individual detector elements.

Ein unterster Strahl 34 des Strahlungsbandes 31 legt in der Schicht 26 einen Weg d?R und in der Schicht 25 einen Weg d?c- zurück. Alle übrigen Strahlen des Strahlungsbandes 31 legen in dem Werkstück 7 kürzere Gesamtwege zurück. Von besonderem Vorteil für die Erstellung des Rohdichteprofils auf diese Weise ist, daß bei gegebener Dicke 6 des Werkstücks 7 die maximalen Meßstrecken do~ +A lowest beam 34 of the radiation band 31 travels a distance d ?R in the layer 26 and a distance d ?c - in the layer 25. All other beams of the radiation band 31 travel shorter total distances in the workpiece 7. A particular advantage for the creation of the bulk density profile in this way is that for a given thickness 6 of the workpiece 7, the maximum measuring distances d o ~ +

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dp5 kürzer sind als im Fall der Fig. 1, bei dem das einzige Strahlungsband 15 die gesamte Höhe der Schmalfläche 20 zu bestrahlen hat.dp 5 are shorter than in the case of Fig. 1, in which the single radiation band 15 has to irradiate the entire height of the narrow surface 20.

Fig. 4 zeigt ein typisches Rohdichteprofil 35 über der Dicke 6 des Werkstücks, in diesem Fall einer Spanplatte. Mit einer gestrichelten waagerechten Linie ist außerdem ein Mittelwert 36 der Rohdichte eingezeichnet. Die Maxima 37 und 38 des Rohdichteprofils 35 liegen wie gewünscht weit außen, wo im Bereich der Decklagen des Werkstücks 7 besonders hohe Rohdichtewerte angestrebt werden. Die Zonen in Fig. 4 links von dem Maximum 37 und rechts von dem Maximum 38 werden in der üblichen Weise später durch Abschliff oder Kalibrierschliff abgetragen, so daß die Maxima 37, 38 der Rohdichte schließlich tatsächlich in den Außenflächen des Werkstücks liegen.Fig. 4 shows a typical bulk density profile 35 over the thickness 6 of the workpiece, in this case a chipboard. A dashed horizontal line also shows an average value 36 of the bulk density. The maxima 37 and 38 of the bulk density profile 35 are located far outwards as desired, where particularly high bulk density values are sought in the area of the cover layers of the workpiece 7. The zones in Fig. 4 to the left of the maximum 37 and to the right of the maximum 38 are later removed in the usual way by grinding or calibrating, so that the maxima 37, 38 of the bulk density are ultimately actually located in the outer surfaces of the workpiece.

Fig. 4 zeigt auch, daß man in der zwischen den beiden Decklagen angeordneten Mittellage der Spanplatte mit verhältnismäßig geringen Rohdichtewerten auskommt.Fig. 4 also shows that relatively low density values are sufficient in the middle layer of the chipboard arranged between the two cover layers.

Bei der Vorrichtung 5 gemäß Fig. 5 sind an der Schmalfläche 20 in seitlichem Abstand voneinander zwei stationäre Meßvorrichtungen 8 gemäß Fig. 1 angesetzt. An der angrenzenden Schmalfläche 39 des Werkstücks 7 ist eine weitere stationäre Meßvorrichtung 8 angesetzt. Vorzugsweise wird das Werkstück 7 in einer Meßposition relativ zu (jen verschiedenen Meßvorrichtungen 8 angehalten. Im Fertigungsprozeß der Werkstücke 7 sind in der Regel ohnehin Stillstandsdauern für die Werkstücke 7 erforderlich, in denen dann die Messungen zur Erstellung des Rohdichteprofils ohne Verlängerung der gesamten Zyklusdauer durchgeführt werden können.In the device 5 according to Fig. 5, two stationary measuring devices 8 according to Fig. 1 are attached to the narrow surface 20 at a lateral distance from one another. A further stationary measuring device 8 is attached to the adjacent narrow surface 39 of the workpiece 7. The workpiece 7 is preferably held in a measuring position relative to the various measuring devices 8. In the manufacturing process of the workpieces 7, downtimes for the workpieces 7 are generally required anyway, during which the measurements for creating the raw density profile can then be carried out without extending the entire cycle time.

Die Vorrichtung 5 gemäß Fig. 6 weist an der SchmalseiteThe device 5 according to Fig. 6 has on the narrow side

-11--11-

Ol 20 nur eine Meßvorrichtung 8 auf. Die Meßvorrichtung 8 ist in den Richtungen des Doppelpfeils 40 auf einer Führungsschiene 41 durch nicht weiter gezeigte Mittel entlang der Schmalfläche 20 verfahrbar. Während diesesOl 20 has only one measuring device 8. The measuring device 8 can be moved in the direction of the double arrow 40 on a guide rail 41 by means not shown along the narrow surface 20. During this Verfahrens oder während eines Stillstands der Meßvorrichtung 8 wird jeweils das Rohdichteprofil an unterschiedlichen Stellen entlang der Schmalfläche 20 aufgenommen. In der gleichen Weise könnte eine Meßvorrichtung auch entlang der Schmalfläche 39 Meßwerte für die ErDuring the process or during a standstill of the measuring device 8, the density profile is recorded at different points along the narrow surface 20. In the same way, a measuring device could also record measured values for the Er along the narrow surface 39. stellung von Rohdichteprofilen aufnehmen.recording of bulk density profiles.

Sowohl in Fig. 5 als auch in Fig. 6 können nicht nur Rohdichteprofile für die Schmalflächen 20, 39, sondern auch für die jeweils gegenüberliegende Schmalfläche erstellt werden.In both Fig. 5 and Fig. 6, not only bulk density profiles can be created for the narrow surfaces 20, 39, but also for the opposite narrow surface.

Bei der Vorrichtung 5 gemäß Fig. 7 sendet der Strahler der Meßvorrichtung 8 nicht ein Strahlungsband, sondern nur einen Strahl 42 aus, der nacheinander die Schmalfläche 20 auf der gesamten Dicke 6 abtastet. Dazu ist der Strahler 9 in den Richtungen des Doppelpfeils 43In the device 5 according to Fig. 7, the radiator of the measuring device 8 does not emit a radiation band, but only a beam 42, which successively scans the narrow surface 20 over the entire thickness 6. For this purpose, the radiator 9 is in the direction of the double arrow 43 entlang einer Führungsschiene 44 durch nicht dargestellte Mittel verschiebbar. Die Linearanordnung 10 ist stationär angeordnet. Ihre einzelnen Detektorelemente werden nacheinander durch den in der Intensität abnehmend geschwächten Strahl 42 getroffen. Dabei ist Bewe-along a guide rail 44 by means not shown. The linear arrangement 10 is arranged stationary. Its individual detector elements are hit one after the other by the beam 42, which is weakened in decreasing intensity. Movement is gung des Strahlers 9 in Fig. 7 von oben nach unten angenommen.The direction of the radiator 9 in Fig. 7 is assumed to be from top to bottom.

Der Grundaufbau der Vorrichtung 5 gemäß Fig. 8 ist ähnlich dem in Fig. 7. In Fig. 8 ist allerdings anstelle der Linearanordnung 10 mit einer Vielzahl von Detektorelementen gemäß Fig. 7 nur ein einziges Detektorelement 45 vorgesehen, das über eine Haltevorrichtung 46 an dem Gehäuse des Strahlers 9 befestigt ist. Auf diese WeiseThe basic structure of the device 5 according to Fig. 8 is similar to that in Fig. 7. In Fig. 8, however, instead of the linear arrangement 10 with a plurality of detector elements according to Fig. 7, only a single detector element 45 is provided, which is attached to the housing of the radiator 9 via a holding device 46. In this way

-12--12-

Ol macht das Detektorelement 45 alle Bewegungen des Strahlers 9 in den Richtungen des Doppelpfeils 43 mit. Das Detektorelement 45 registriert nacheinander die sich während des Abtastens der Schmalfläche 20 durch denOl, the detector element 45 follows all movements of the radiator 9 in the directions of the double arrow 43. The detector element 45 registers one after the other the movements that occur during the scanning of the narrow surface 20 by the Strahl 42 ergebenden unterschiedlichen Endintensitäten, aus denen sich die entsprechend unterschiedlichen Rohdichtewerte ergeben.Beam 42 resulting in different final intensities, from which the correspondingly different raw density values result.

Gemäß Fig. 9 ist jedes Detektorelement 11 bis 14 über eine Leitung 47 bis 50 mit einer Auswerteschaltung 51According to Fig. 9, each detector element 11 to 14 is connected via a line 47 to 50 to an evaluation circuit 51 verbunden. Jedes Detektorelement 11 bis 14 erzeugt ein der Endintensität der geschwächten Strahlung entsprechendes elektrisches Signal, das in der Auswerteschaltung 51 ausgewertet wird. Die Auswerteschaltung 51 ist über eine Leitung 52 mit einem Rechner 53 verbunden, anEach detector element 11 to 14 generates an electrical signal corresponding to the final intensity of the attenuated radiation, which is evaluated in the evaluation circuit 51. The evaluation circuit 51 is connected via a line 52 to a computer 53, to which den über Leitungen 54 bis 56 ein Bildschirm 57, einwhich, via lines 54 to 56, a screen 57, a Drucker 58 und eine Speichervorrichtung 59 angeschlossen sind. Das Rohdichteprofil 35 (Fig. 4) läßt sich einerseits auf dem Bildschirm 57 darstellen und andererseits durch den Drucker 58 ausdrucken. Es kann ferner in derprinter 58 and a storage device 59 are connected. The density profile 35 (Fig. 4) can be displayed on the screen 57 and printed out by the printer 58. It can also be stored in the Speichervorrichtung 59 zu späterer anderweitiger Verwendung protokolliert werden.Storage device 59 for later use.

Claims (12)

SCHUTZANSPRÜCHEPROTECTION CLAIMS 1. Vorrichtung (5) zur Erstellung eines Rohdichteprofils (35) über die Dicke (6) eines plattenförmigen Werkstücks (7) aus nichthomogenem Stoff, z.B. einer mit Leim oder Mineralien gebundenen Span- oder Faserplatte, 1. Device (5) for creating a bulk density profile (35) over the thickness (6) of a plate-shaped workpiece (7) made of non-homogeneous material, e.g. a chipboard or fiberboard bonded with glue or minerals, 1010 mit einem Strahler (9;30) einer Meßvorrichtung (8; 32), dessen Strahlung das Werkstück (7) durchdringt, dabei in Abhängigkeit von der örtlichen Rohdichte des Werkstücks (7) durch Absorption geschwächt und auf einen Detektor (10;33;45) der Meßvorrichtung (8;32) geleitet wird,with a radiator (9; 30) of a measuring device (8; 32), the radiation of which penetrates the workpiece (7), thereby being weakened by absorption depending on the local density of the workpiece (7) and directed to a detector (10; 33; 45) of the measuring device (8; 32), 1515 wobei der Detektor (10;33;45) ein der Endintensität (I ) der geschwächten St
trisches Signal erzeugt,
wherein the detector (10;33;45) is a final intensity (I ) of the attenuated St
tric signal is generated,
(I ) der geschwächten Strahlung entsprechendes elek·(I ) the attenuated radiation corresponding electrical und wobei der Detektor (10;33;45) mit einer Einrich-and wherein the detector (10;33;45) is provided with a device -2-PK/La -2-PK/La Bankkonto: NORD/LB, NL Bad Gandersheim (BLZ 250" äÖO Od), Kto.-Nr.'22 118 S7Ci ■ PDstgfrokonto: Postgiroamt Hannover (BLZ 250 100 30), Kto.-Nr. 667 15-307Bank account: NORD/LB, NL Bad Gandersheim (bank code 250" äÖO Od), account no.'22 118 S7Ci ■ Postgiro account: Postgiroamt Hannover (bank code 250 100 30), account no. 667 15-307 -2--2- Ol tung (51,53) zur Erstellung des Rohdichteprofils elektrisch verbunden ist,Ol tung (51,53) for creating the density profile is electrically connected, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlung in einer unter einem Winkel (19) < 90° und > 0° gegenüber einer Schmalfläche (20;39) des Werkstücks (7) geneigten Richtung in wenigstens eine der Schmalflächen (20;39) des Werkstücks (7) über die gesamte Dicke (6) des Werkstücks (7) in mehrere Meßstrecken (21 bis 24) einleitbar ist,characterized in that the radiation can be introduced into at least one of the narrow surfaces (20; 39) of the workpiece (7) over the entire thickness (6) of the workpiece (7) in a direction inclined at an angle (19) < 90° and > 0° with respect to a narrow surface (20; 39) of the workpiece (7), into several measuring sections (21 to 24), und daß in der Einrichtung (51,53) zur Erstellung des Rohdichteprofils (35) mit Differenzbildung der Endintensitäten (I ) der geschwächten Strahlung jeweils benachbarter Meßstrecken (21 bis 24) das Rohdichteprofil (35) erstellbar ist.and that the raw density profile (35) can be created in the device (51, 53) for creating the raw density profile (35) by forming the difference between the final intensities (I ) of the attenuated radiation of adjacent measuring sections (21 to 24).
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß alle zu der Meßvorrichtung (8;32) gehörenden Meßstrecken (21 bis 24) in einer gemeinsamen, zu der jeweiligen Schmalfläche (20;39) zumindest annähernd rechtwinkligen Meßebene angeordnet sind.2. Device according to claim 1, characterized in that all measuring sections (21 to 24) belonging to the measuring device (8; 32) are arranged in a common measuring plane that is at least approximately perpendicular to the respective narrow surface (20; 39). 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß alle zu der Meßvorrichtung (8;32) gehörenden Meßstrecken (21 bis 24) durch ein von dem Strahler (9;30) ausgesandtes, gemeinsames Strahlungsband (15;31) mit der Strahlung beschickbar sind. 3. Device according to claim 1 or 2, characterized in that all measuring sections (21 to 24) belonging to the measuring device (8; 32) can be supplied with radiation by a common radiation band (15; 31) emitted by the radiator (9; 30). 4. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß alle zu der Meßvorrichtung (8) gehörenden Meßstrecken (21 bis 24) nacheinander durch einen von dem Strahler (9) ausgesandten Strahl (42) mit der Strahlung beschickbar sind.4. Device according to claim 1 or 2, characterized in that all measuring sections (21 to 24) belonging to the measuring device (8) can be supplied with radiation one after the other by a beam (42) emitted by the radiator (9). -3--3- -3--3- Ol Oil 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jeder Meßstrecke (21 bis 24) ein mit der Einrichtung (51,53) elektrisch verbundenes Detektorelement (11 bis 14) zugeordnet ist.5. Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that each measuring section (21 to 24) is assigned a detector element (11 to 14) electrically connected to the device (51, 53). 6. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Detektor nur ein mit der Einrichtung (51,53) elektrisch verbundenes, dem Strahl (42) zugeordnetes Detektorelement (45) aufweist.6. Device according to claim 4, characterized in that the detector has only one detector element (45) electrically connected to the device (51, 53) and associated with the beam (42). 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß alle für das Rohdichteprofil (35) benötigten Meßstrecken in einer gemeinsamen, zu der jeweiligen Schmalfläche (20) zumindest annähernd rechtwinkligen Meßebene angeordnet sind,7. Device according to one of claims 1 to 6, characterized in that all measuring sections required for the bulk density profile (35) are arranged in a common measuring plane that is at least approximately perpendicular to the respective narrow surface (20), und daß zur Erzielung möglichst kurzer Meßstrecken ein von dem Strahler (9) weiter entfernter Teil der Meßstrecken durch den Strahler (9) mit Strahlung versorgt wird, während der Rest der Meßstrecken durch einen zu dem Strahler (9) zumindest annähernd spiegelbildlich angeordneten weiteren Strahler (30) mit Strahlung versorgt wird.and that in order to achieve the shortest possible measuring distances, a part of the measuring distances further away from the radiator (9) is supplied with radiation by the radiator (9), while the rest of the measuring distances are supplied with radiation by a further radiator (30) arranged at least approximately in mirror image to the radiator (9). 8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens einer der Schmalflächen (20;39) des Werkstücks (7) mehrere im Abstand voneinander angeordnete Meßvorrichtungen (8) zugeordnet sind.8. Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that at least one of the narrow surfaces (20; 39) of the workpiece (7) is assigned a plurality of measuring devices (8) arranged at a distance from one another. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß entlang wenigstens einer der Schmalflächen (20;39) des Werkstücks (7) durch die Meßvorrichtung (8) nacheinander an unterschiedlichen Stellen Messungen durchführbar und das entsprechende9. Device according to one of claims 1 to 7, characterized in that along at least one of the narrow surfaces (20; 39) of the workpiece (7) measurements can be carried out successively at different points by the measuring device (8) and the corresponding -4--4- -A--A- Ol Rohdichteprofil (35) erstellbar sind.Ol density profile (35) can be created. 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Rohdichteprofil (35) zerstörungsfrei "on line" während des Herstellungsprozesses des Werkstücks (7) erstellbar ist.10. Device according to one of claims 1 to 9, characterized in that the raw density profile (35) can be created non-destructively "on line" during the manufacturing process of the workpiece (7). 11. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Rohdichteprofil (35) bei stillstehendem Werkstück (7) erstellbar ist.11. Device according to one of claims 1 to 10, characterized in that the bulk density profile (35) can be created when the workpiece (7) is stationary. 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahler (9) zur Erstellung des Rohdichteprofils (35) quer zu der Richtung der Strahlung bewegbar ist.12. Device according to one of claims 1 to 11, characterized in that the radiator (9) is movable transversely to the direction of the radiation in order to create the raw density profile (35).
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN113119251A (en) * 2019-12-31 2021-07-16 杭州庄宜家具有限公司 Bamboo planing and milling equipment and bamboo processing method

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