Mit mindestens zwei Vergrößerungslinsen ausgerüstetes Korpuskularstrahlmikroskop
DdeErfindung bezieht sich auf ein mit mindestens zwei Vergrößerungslinsen ausgerüstetes
Korpuskularstrahlmikroskop und hat den Zweck, einfache Einrichtungen zu schaffen,
mit deren Hilfe es möglich ist, unmittelbar hintereinander von der gleichen Objektstelle
eine elektrone.n- (:ionen-) mikroskopische und eine Elektronen- (Ionen-) Beugungsaufnahme
zu machen. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, @daß die Optik der
Projektionslinse unter Vakuum aus dem Strahlengang entfernibar ist, so da,ß eine
den Beugungskegel eines untersuchten Objekts in gewünschter Breite durchlassende
Öffnung entsteht. Man kann die Erfindung sowohl bei Anordnungen anwenden, .deren
Elektronenlinsen elektrom.agnetische Spulen oder Permanentsysteme sind, als auch
bei Anordnungen mit elektrostatischen Linsen. Im ersten Fall wird man die Polschuhe
der Linse aus dem Strahlengang entfernbar anordnen, im zweiten Fall wird man die
mit Strahldurchtrittsöffnungen versehenen Blenden aus dem Strahlengang entfernibar
anordnen. Gemäß ,der weiteren Erfindung wird die Anordnung so durchgebildet, daß
die Optik der Projektionslinse quer zur Strahlrichtung mit Hilfe eines durch die
Vakuumwand hindurchgeführten mechanischen Antriebs verstellt werden kann. Vorzugsweise
wird außerdem in den Strahlengang zwischen, dem Bestrahlungsapparat und dem Objekt
eine kleine Blende
derart angeordnet,.daß sie in den Strahlengang
eingesetzt bzw. daraus entfernt werden kann. Diese Blende wird sa :bemessen, @daß
ein für Beugungsaufnahmen geeigneter kleiner Strahlquerschnitt auf. dem Objekt entsteht.
_ Die Zeichnung zeigt schematisch als Ausführungsbeispielder Erfindung ein Elektronenmikroskop,
das mit elektromagnetischen Linsen ausgerüstet'ist.Corpuscular beam microscope equipped with at least two magnifying lenses
The invention relates to one equipped with at least two magnifying lenses
Corpuscular beam microscope and has the purpose of creating simple facilities,
with the help of which it is possible to move directly one after the other from the same object location
an electron (ion) microscopic and an electron (ion) diffraction image
close. This object is achieved according to the invention in that the optics of the
Projection lens can be removed from the beam path under vacuum, so that ß a
allows the diffraction cone of an examined object to pass in the desired width
Opening arises. The invention can be applied to both arrangements
Electron lenses are electromagnetic coils or permanent systems, as well
for arrangements with electrostatic lenses. In the first case one becomes the pole pieces
the lens can be arranged in a removable manner from the beam path, in the second case the
apertures provided with beam passage openings can be removed from the beam path
arrange. According to the further invention, the arrangement is so formed that
the optics of the projection lens transversely to the beam direction with the help of a through the
Mechanical drive guided through the vacuum wall can be adjusted. Preferably
is also in the beam path between, the radiation device and the object
a small aperture
so arranged that they are in the beam path
can be used or removed from it. This aperture is sa: sized, @ that
a small beam cross-section suitable for diffraction recordings. the object.
_ The drawing shows schematically as an embodiment of the invention an electron microscope,
equipped with electromagnetic lenses.
Fig. i zeigt einen Längsschnitt durch das Mikroskop, Fig. 2 einen.
Querschnitt längs der Linie A-A.
Mit i ist die Kathode des Bestrahlungsapparats
bezeichnet. Diese ist in einem Isolator 2 eingesetzt, :der mit einem konischen Schliff
3 in eine entsprechende konische Paßfläohe :des oberen Bauteils '4 eingesetzt ist.
Mit 5 ist die Ko:ndensorspule, mit 6, die Objektivspule, mit 7 die Projektionsspule
bezeichnet. Zwischen der Kondensorspule und der Objektivspule befindet sich die
Objektschleuse 8, die beispielsweise als drehbares Hahnküken ausgebildet ist, das
eine Bohrung für den Durchtritt ,der Elektronenstrahlen und für die Aufnahme der
in ,der Figur nicht :dargestellten Objektpatrone besitzt. Zwischen der Objektivspule
6 und der Projektionsspule 7 ist der Wandungsteil 9 vorgesehen, in welchem Beobachtungsfenster
io angeordnet sind, die dazu dienen, das Zwischenhild auf einem Zwischenbildleuchtschirm
i i zu beobachten. Der untere Teil 12 des Elektronenmileroskops besitzt Beobachtungsfenster
13, durch die auf einem Leuchtschirm 14 Idas mikroskopische Endbild bow. das Beugungsbild
betrachtet werden kann. Unterhalb des. Leuchtschirms 14 befindet sich die Photoschleuse
15.FIG. I shows a longitudinal section through the microscope, FIG. 2 shows a. Cross section along the line AA. The cathode of the irradiation apparatus is denoted by i. This is inserted in an insulator 2, which is inserted with a conical cut 3 in a corresponding conical fitting surface of the upper component 4. 5 denotes the co: ndensorspule, 6 denotes the objective coil, 7 denotes the projection coil. Between the condenser coil and the objective coil is the object lock 8, which is designed, for example, as a rotatable cock plug that has a bore for the passage, the electron beams and for the reception of the object cartridge not shown in the figure. Between the objective coil 6 and the projection coil 7, the wall part 9 is provided, in which observation windows io are arranged, which serve to observe the intermediate screen on an intermediate luminescent screen ii. The lower part 12 of the electron miloscope has observation windows 13 through which the microscopic end image bow on a luminescent screen 14. the diffraction pattern can be viewed. The photo lock 15 is located below the luminescent screen 14.
Die Polschuhe 16 ,der Projektionsspule sind quer zur Strahlrichtung
verstellbar angeordnet. Zu .diesem Zweck ist das Polschuhsystem in der aus Fig.
2 ersichtlichen Weise an einem Schwenkhebelmechanismus befestigt, der aus dem U-förmigen
Bügel 17 und den beiden, -Hebeln '18 und' 19 besteht, .die um die Pumlete 2o ün@d-2i=
quer zur--Strählrichtung geschwenkt -werden können. Die Hebel a-8 und i9. sind mit
entsprechenden Drehgelenken.22_ und. 2.3 an. :dem Hebel 17 befestigt. Zur Verstellung
des Polschuhsystems dient eine Kurbel 24, .die über einen komischen Dichtungsschliff
25 die Antriebsspindel26 betätigt. Durch diesen Trieb kann das Polschuhsystem aus
der dargestellten ausgeschwenkten Lage in die strichpunktiert angedeutete Betriebslage
geschwenkt werden. In der zuerst :gemannten Lage können Elektronenbeugungsbilder
vom Objekt gemacht werden; in :der zweiten Lage kann die Projektionslinse für elektronenmikroskopische
Aufnahmen benutzt werden;. Mit 27 ist eine Anodenb:lendenscheibe -bezeichnet, .die
Bohrurigen verschiedener Durchmesser be= sitzt: Diese Scheibe ist außen als Kegelrad
28 ausgebildet, -das um die Achse 29, gedreht werden. kann. Zum Antrieb dient das
zugeordnete Kegelrad 30, welches über den Betätigungsschliff 31 mit Hilfe des Handgriffs
32 gedreht werden kann. Auf dieseWeise kann manAnodenblendenverschiedenen Durchmessers
in den Strahlengang einfügen, um :4ie für die je#,veiils gewünschten Beugungsb.i.lider
geeigneten kleinen Objektabschnitte zu bestrahlen. Mit 33: ist in Fig. i der Beugungskegel
eines untersuchten: Objekts bezeichnet. Fig. i läßt erkennen, daß bei ausgeschwenkter
Optik 16,dieser BeugungskegeT-durch --die Projektionslinse nicht behindert wird,
so, dä.ß das Beugungsbild auf dem Leuchtschirm. 14 sichtbar gemacht werden kann.The pole pieces 16 of the projection coil are transverse to the beam direction
adjustable arranged. For this purpose, the pole shoe system is shown in Fig.
2 apparent way attached to a pivot lever mechanism, which consists of the U-shaped
Bracket 17 and the two levers '18 and '19, .which around the Pumlete 2o ün @ d-2i =
can be swiveled transversely to the beam direction. Levers a-8 and i9. are with
corresponding swivel joints.22_ and. 2.3 at. : attached to the lever 17. For adjustment
of the pole shoe system is a crank 24, .the over a strange sealing cut
25 actuates the drive spindle 26. Through this drive, the pole shoe system can
the illustrated swiveled-out position into the operating position indicated by dash-dotted lines
be swiveled. In the first: mentioned position, electron diffraction images can be made
be made by the object; in: the second position can be the projection lens for electron microscopy
Recordings are used. With 27 an anode disk is denoted, .the
Drill holes of different diameters have: This disc is on the outside as a bevel gear
28 formed -that are rotated about the axis 29. can. This is used for the drive
Associated bevel gear 30, which via the actuating section 31 with the help of the handle
32 can be rotated. In this way one can create anode screens of various diameters
Insert into the beam path to: 4ie for each #, sometimes desired diffraction b.i.lider
to irradiate suitable small object sections. With 33: is in Fig. I the diffraction cone
an examined: object designated. Fig. I shows that when swung out
Optic 16, this diffraction cone T-through - the projection lens is not obstructed,
so, that the diffraction pattern on the luminescent screen. 14 can be made visible.
Normalerweise ist der Objekti"vlinse eine Blende zugeordnet, deren
Durchtri:ttsöffnung so groß ist, daß sie den Beugungskegel durchl.äßt. Wenn eine
besonders hohe Auflösung im elektronenoptischen Bild verlangt wird, empfiehlt es
sich, diese Blende mit- verhältnismäßig großem Durchmesser gegen eine Blende :kleineren
Durchmessers auszutauschen.A diaphragm is normally assigned to the objective lens
Opening is so large that it allows the diffraction cone to pass through. When a
It is recommended that a particularly high resolution is required in the electron-optical image
This diaphragm with a relatively large diameter against a diaphragm: smaller
Exchange diameter.