DE879429C - Getter arrangement for electron tubes - Google Patents

Getter arrangement for electron tubes

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Publication number
DE879429C
DE879429C DEL5114D DEL0005114D DE879429C DE 879429 C DE879429 C DE 879429C DE L5114 D DEL5114 D DE L5114D DE L0005114 D DEL0005114 D DE L0005114D DE 879429 C DE879429 C DE 879429C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
getter
disk
mica
electron tubes
indentation
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Expired
Application number
DEL5114D
Other languages
German (de)
Inventor
Alfred Gaebel
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Alcatel Lucent Deutschland AG
Original Assignee
Standard Elektrik Lorenz AG
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Publication date
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Priority to DEL5114D priority Critical patent/DE879429C/en
Application granted granted Critical
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Expired legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J7/00Details not provided for in the preceding groups and common to two or more basic types of discharge tubes or lamps
    • H01J7/14Means for obtaining or maintaining the desired pressure within the vessel
    • H01J7/18Means for absorbing or adsorbing gas, e.g. by gettering
    • H01J7/186Getter supports

Landscapes

  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)

Description

13 ei 'der Verstellung von Elektronenröhren werden diese nach. der mechanischen Fertigstellung während bzw. nach dem Pumpverfähren gegettert. Bei der Getterung wird ein Metall, beispielsweise Barium oder Magnesium, verdampft und an der Gefäßwand niedergeschlagen, hierbei werden . die noch im -Vakuumgefäß vorhandenen Gasreste chemisch' gebunden. , Zur Getterung benutzt man eine Getteranordnung, die entweder über dem 'System oder an dem Röhrenfuß angebracht ist; die Richtung des Getterdampfes wird dabei so gewählt, daß das Elektrodensystem und die Stromzuführungen nach Möglichkeit von dem Getterdampf nicht getroffen werden, um Isolationsfehler zu vermeiden. Diese Forderung läßt sich mit den bekannten Anordnungen nur teilweise erfüllen. Man hat aus dem gleichen Grund auch besondere Gettergefäße verwendet, die mit dem eigentlichen Vakuumgefäß durch eine dünne Leitung, beispielsweise ein Glasrohr, verbunden sind. Eine derartige Anordnung ist aber für viele Zwecke nicht tragbar, da sie sehr viel Platz beansprucht. Im allgemeinen wird der Getterspiegel am oberen Ende des Gefäßkolbens über dem Elektrodensystem niedergeschlagen. Hier ist vielfach auch das Pumpröhrchen bzw. nach dem Abziehen des Rohres von der Pumpe die Abschmelzspitze angeordnet. Erfolgt das Abziehen von der Pumpe nach der Getterung, so wird durch die Erhitzung des Pumpröhrchens unmittelbar an dem Kolben auch ein kleiner Teil des Getterspiegels erwärmt und dadurch das an dieser Stelle gebundene Gas wieder freigegeben, wodurch Verschlechterung des Vakuums eintritt. 13 ei 'the adjustment of electron tubes, these are according to. the mechanical completion during or after the pumping process gettered. During gettering, a metal, for example barium or magnesium, is evaporated and deposited on the vessel wall, in the process being. the gas residues still present in the vacuum vessel are chemically bound. For gettering, a getter arrangement is used which is attached either above the system or on the tube foot; the direction of the getter vapor is chosen so that the electrode system and the power supply lines are not affected by the getter vapor, if possible, in order to avoid insulation faults. This requirement can only partially be met with the known arrangements. For the same reason, special getter vessels have also been used which are connected to the actual vacuum vessel by a thin line, for example a glass tube. However, such an arrangement is unsustainable for many purposes because it takes up a lot of space. In general, the getter level is deposited on the upper end of the vessel flask above the electrode system. The pump tube or, after the tube has been pulled off the pump, the melting tip is also often arranged here. If the pump is withdrawn after gettering, the heating of the pump tube directly on the piston also heats a small part of the getter mirror, releasing the gas bound at this point, which worsens the vacuum.

Zur Vermeidung dieser Nachteile wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, eine Getteranordnung zu verwenden, die aus einer unmittelbar über dem Elektrodensystem angeordneten und über dieses hinausragenden Scheibe aus Isoliermaterial, beispielsweise_ Glimmer, besteht, über der mit Hilfe von einer oder mehreren Haltestreben eine das Gettermaterial in einer Einbuchtung tragende Metallscheibe befestigt ist, so däß die Öffnung der Einbuchtung auf die Glimmerscheibe gerichtet ist. Die Scheibe aus Isoliermaterial kann auch aus Glas, Keramik oder einem anderen gegen Wärme unempfindlichen isolierenden Werkstoff bestehen, Ist der Abstand der beiden Scheiben klein, so muß die Metallscheibe verhältnismäßig groß sein, im allgemeinen genügt es, wenn der Durchmesser der Metallscheibe -beispielsweise ungefähr dem halben Durchmesser der Isolierscheibe entspricht. Bei großem Abstand der beiden Scheiben kann der Durchmesser der Metallscheibe klein sein. Bei der Getterung bildet sich auf der Gefäßwand ein ringförmiger Getterspiegel, ein Teil des Getters -schlägt sich auch auf der Glimmerscheibe nieder.To avoid these disadvantages, it is proposed according to the invention that to use a getter arrangement consisting of an immediately above the electrode system arranged and protruding beyond this disc made of insulating material, for example_ Mica, over which a das Getter material is fastened in a metal disc carrying indentation, so that the opening of the indentation is directed towards the mica disk. The disk off Insulating material can also be made of glass, ceramic or another insensitive to heat insulating material, if the distance between the two washers is small, it must the metal disc must be relatively large, in general it is sufficient if the Diameter of the metal disk - for example, approximately half the diameter of the Insulating washer. If the distance between the two disks is large, the diameter of the metal disc must be small. During gettering, it forms on the vessel wall ring-shaped getter mirror, part of the getter - also hits the mica disk low.

Die neue Getteranordnung hat den Vorteil, däß durch die Glimmerscheibe eine vollständige Abschirmung des Elektrodensystems und der Durchführungen gegen eine Bedampfung während der Getterüng erzielt wird. Weiterhin wird durch die beiden Scheiben eine Begrenzung des Getterspiegels erzielt, dies ist bei Kurzwellenröhren mit Rücksicht auf die durch den Getterspiegel gegebene Beeinflussung der Röhrenkapazitäten wichtig. Durch die Begrenzung wird gleichzeitig ein Niederschlag von Gettermaterial an bzw. in dem Pumpröhrchen vermieden.The new getter arrangement has the advantage that through the mica disk a complete shielding of the electrode system and the bushings against a vaporization is achieved during the gettering. Furthermore, through the two Slices a limitation of the getter mirror achieved, this is with shortwave tubes with regard to the influence of the getter mirror on the tube capacities important. As a result of the limitation, getter material is deposited at the same time avoided on or in the pump tube.

Die Abbildung zeigt ein Ausführungsbeispiel der neuen Getteranordnung. In dem Gefäßkolben i ist das nur schematisch dargestellte Elektrodensystern 2 angeordnet. Über dem Elektrodensystem befindet sich, beispielsweise an einigen der zum Aufbau des Elektrodensystems dienenden Haltestreben befestigt, die Glimmerscheibe 3, die mehr oder weniger über das System herausragt. Mit Hilfe der Haltestreben q. ist darüber aus einer Metallscheibe bestehende Getterträger 5 befestigt. Das Gettermaterial 6 liegt in der Einbuchtung 7 der Metallscheibe, die Öffnung der Einbuchtung ist dabei auf die Glimmerscheibe 3 gerichtet. Der sich auf der Gefäßwand bildende Getterspiegel ist mit 8 bezeichnet.The figure shows an embodiment of the new getter arrangement. The electrode system 2, which is only shown schematically, is arranged in the vessel piston i. Above the electrode system is, for example on some of the assembly the electrode system serving holding struts attached, the mica disk 3, the more or less protrudes from the system. With the help of the struts q. is above it consisting of a metal disk getter girder 5 attached. The getter material 6 lies in the indentation 7 of the metal disc, which is the opening of the indentation directed at the mica disk 3. The getter mirror forming on the vessel wall is denoted by 8.

Claims (2)

PATE.NTANSPR.ÜCHE: i. Getteranordnung für Elektronenröhren, dadurch gekennzeichnet, daß unmittelbar über dem Elektrodensystem eine über das System hinausragende dünne Scheibe aus Isoliermaterial, beispielsweise Glimmer, angeordnet ist, über der mit Hilfe von einer öder mehreren Haltebuchsen eine das Gettermaterial in einer Einbuchtung tragende Metallscheibe befestigt ist, so daß die Öffnung der Einbuchtung auf die Glimmerscheibe gerichtet ist. PATENT CLAIM LOOKING FOR: i. Getter arrangement for electron tubes, thereby characterized in that a protruding beyond the system immediately above the electrode system thin disk of insulating material, such as mica, is placed over the getter material in one with the help of one or more retaining sleeves Indentation supporting metal disc is attached so that the opening of the indentation is directed at the mica disk. 2. Getteranordnung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß der Durchmesser der Metallscheibe ungefähr dem halben Durchmesser der Glimmerscheibe entspricht.2. Getter arrangement according to claim i, characterized characterized in that the diameter of the metal disc is approximately half the diameter corresponds to the mica disk.
DEL5114D 1944-07-16 1944-07-16 Getter arrangement for electron tubes Expired DE879429C (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1052562B (en) * 1956-02-07 1959-03-12 British Thomson Houston Co Ltd Vacuum jacket for metal vapor discharge lamps
US3225910A (en) * 1961-02-04 1965-12-28 Porta Paolo Della Getter devices with non-evaporated gettering material, for maintaining vacuum in electronic tubes

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1052562B (en) * 1956-02-07 1959-03-12 British Thomson Houston Co Ltd Vacuum jacket for metal vapor discharge lamps
US3225910A (en) * 1961-02-04 1965-12-28 Porta Paolo Della Getter devices with non-evaporated gettering material, for maintaining vacuum in electronic tubes

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