Verfahren zur Verhinderung der AUfladung von Isolierflächen, insbesondere
des Leuchtschirms von Braunschen Röhren deutenden Verringerung der Lichtausbeute,
einer Veränderung der spektralen Zusammensetzung des abgegebenenLichtesoder auch
in einer Verringerung der Lebensdauer des Schirmes. Es ist auch bereits vorgeschlagen
worden, die Aufladung des Leuchtschirmes bei Braunschen Röhren dadurch zu verhindern,
daß gleichzeitig mit dem Strahl schneller Elektronen langsame Elektronen auf den
Schirm gerichtet werden, und zwar langsame Elektronen mit einer Geschwindigkeit,
bei der der Sekundäremissionsfaktor größer als i ist. Bei dieser bekannten Anordnung
wird der Leuchtschirm an seiner ganzen Oberfläche von langsamen Elektronen getroffen.DicStromdichte
auf dem ganzen Schirm muß daher mindestens so hoch sein, daß bei der höchsten Stromdichte
im Strahl der schnellen Elektronen die Dichte der Bei Braunschen Röhren muß dafür
gesorgt werden, daß während des Betriebes keine Aufladung des Leuchtschirms eintritt.
Bei kleinen Anodenspannungen (Elektronengeschwindigkeiten), solange der Sekundäremissionsfaktor
des Leuchtstoffes größer als i ist (Kurve SE in Bild i), stellt sich selbsttätig
ein Schirmpotential etwa gleich dem Kathodenpotential ein. Bei höheren Anodenspannungen
genügt jedoch die Sekundäremission nicht, um die dem Schirm durch den Elektronenstrahl
zugefügte Ladung wieder abzuführen. Es ist bekannt, zur Verhinderung einer Aufladung
den Leuchtschirm beispielsweise mit einer leitenden, aber durchsichtigen Unterlage
zu versehen. Die Mängel dieser und anderer zu dem gleichen Zweck getroffener Maßnahmen
bestehen in einer nicht unbelangsamen
Elektronen zur Verhinderung
der Rufladung ausreicht. Dadurch ist aber ein Mindestmaß der durch die langsamen
Elektronen hervorgerufenen Grundhelligkeit des Schirmes gegeben, die in vielen Fällen
schon als störend empfunden wird.Process for preventing the charging of insulating surfaces, in particular
the luminescent screen of Braun tubes significant reduction in light output,
a change in the spectral composition of the emitted light or also
in a reduction in the life of the screen. It is also already suggested
have been to prevent the charging of the fluorescent screen in Braun tubes by
that simultaneously with the beam of faster electrons slow electrons on the
Screen, namely slow electrons with a speed
where the secondary emission factor is greater than i. In this known arrangement
the entire surface of the luminescent screen is hit by slow electrons
on the whole screen must therefore be at least as high as that at the highest current density
In the beam of fast electrons the density of the Bei Braun tubes must be used for this
it must be ensured that the luminescent screen is not charged during operation.
At low anode voltages (electron speeds), as long as the secondary emission factor
of the phosphor is greater than i (curve SE in Fig. i), is automatically set
a shield potential approximately equal to the cathode potential. At higher anode voltages
However, the secondary emission is not sufficient to prevent the screen from being emitted by the electron beam
to dissipate the charge that has been added. It is known to prevent charging
the luminescent screen, for example, with a conductive but transparent base
to provide. The shortcomings of this and other measures taken for the same purpose
consist in a not incessant
Electrons for prevention
the call charge is sufficient. But this is a minimum of that caused by the slow
Electrons caused the basic brightness of the screen, which in many cases
is already perceived as annoying.
Durch die Erfindung können die geschilderten Nachteile vermieden werden:
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Verhinderung der Rufladung von
Isolierflächen, insbesondere des Leuchtschirmes von Braünschen Röhren, bei Beschießung
mit schnellen Elektronen, wobei die Isolierfläche außer mit den schnellen Elektronen
gleichzeitig noch mit Elektronen solcher Geschwindigkeit beschossen wird, für die
der Sekundäremissiönsfaktor größer als i ist. Gemäß der Erfindung werden bei einem
derartigen Verfahren die langsamen Elektronen in Form eines konzentrierten Strahles
zügeführt,der die Isolierfläche unter dem Einfluß an sich bekannter Ablenkmittel
synchron mit dem Strahl schneller Elektronen so abrastert, daß beide Strahlen immer
zu der gleichen Zeit auf dasselbe Flächenelement der Isolierfläche auftreffen. Dabei
wird der Strahlstrom des zusätzlichen Strahles vorzugsweise so gewählt, däß an jeder
Stelle der gesamte von den beiden Strahlen erzeugte Sekundäremissionsstrorn plus
dem durch den Isolierwiderstand abgeführten Strom gleich oder größer ist als die
Summe der beiden Primärströme. Man kann die Erfindung vorzugsweise anwenden bei
Projektionsröhren für hohe Anodenspannungen mit Durchsichtschirm.The described disadvantages can be avoided by the invention:
The invention relates to a method of preventing call loading from
Insulating surfaces, in particular the fluorescent screen of Braunsch’s tubes, when bombarded
with fast electrons, the insulating surface except with the fast electrons
at the same time is still bombarded with electrons of such speed, for the
the secondary emission factor is greater than i. According to the invention are at a
such method the slow electrons in the form of a concentrated beam
supplied, which the insulating surface under the influence of known deflection means
scans synchronously with the beam of faster electrons so that both beams always
hit the same surface element of the insulating surface at the same time. Included
the jet stream of the additional jet is preferably chosen so that at each
Place the total secondary emission current generated by the two beams plus
the current dissipated through the insulation resistor is equal to or greater than the
Sum of the two primary currents. The invention can preferably be applied to
Projection tubes for high anode voltages with a transparent screen.
Das Raster für die langsamen Elektronen wird zweckmäßig durch die
gleichen Kippströme erzeugt wie das Hauptraster. Die Raster des Hauptstrahls und
des Hilfsstrahls sollen sich dabei möglichst weitgehend decken. Die Intensität des
zusätzlichen Elektronenstrahles wird entsprechend der Intensität des Hauptstrahles
gesteuert.The grid for the slow electrons is expedient by the
same tipping currents generated as the main grid. The grids of the main ray and
of the auxiliary beam should coincide as far as possible. The intensity of the
additional electron beam is according to the intensity of the main beam
controlled.
Bei Schirmen von Braunschen Röhren verursachen die zusätzlichen Elektronen
eine gewisse Aufhellung des Schirmes. Man wird deshalb die Geschwindigkeit der langsamen
Elektronen so klein wie möglich wählen. Bei kleinen Geschwindigkeiten ist die Lichtausbeute
der üblichen Leuchtstoffe gering (s. Kurve J in Bild i, die die Abhängigkeit der
Helligkeit von der Anodenspannung darstellt), und die durch den Hilfselektronenstrahl
verursachte Verringerung des -Bildkontrastes daher nur unbedeutend.In the case of screens from Braun's tubes, the additional electrons cause
some brightening of the screen. One therefore becomes the speed of the slow one
Choose electrons as small as possible. At low speeds the light output is
of the usual phosphors is low (see curve J in Figure i, which shows the dependence of the
Brightness from the anode voltage), and that by the auxiliary electron beam
The resulting reduction in the image contrast is therefore only insignificant.
Wie man aus der Fig. i sieht, kann man die Anodenspannung und den
Strom des zusätzlichen Elektronenstrahles leicht so wählen, daß an jeder Stelle
der gesamte von den beiden Strahlen erzeugte Sekundäremissionsstrom plus dem durch
den Isolierwiderstand abgeführten Strom gleich oder größer- ist als die Summe der
beiden Primärströme. Fig. 2 zeigt-schematisch als Ausführungsbeispiel der Erfindung
eine Braunsche Röhre. Mit K1 ist die Kathode des Hauptstrahlerzeugungssystems, mit
W1 der zugehörige Wehnelt-Zylinder, mit Al die Anode bezeichnet. L1 ist die Konzentrierspule
und S1 das Ablenksystem für den Hauptstrahl. An der Röhre ist seitlich ein zweites
Strahlerzeugungssystem mit der Kathode K2, dem Wehnelt-Zvlinder W2, der Anode A2,
der I,'-onzentrierspule L2 und dem zugehörigen Ablenksystem S2 angeordnet. Dieses
zweite Strahlerzeugungssystem liefert den zur Verhinderung der Rufladung des Leuchtschirmes
Sch erforderlichen Elektronenstrahl. Das Raster dieses zusätzlichen Elektronenstrahles
wird durch die gleichen Kippströme erzeugt wie das Hauptraster. Wegen der geringen
Strahlspannung bei dem zusätzlichen seitlich angeordneten Elektronenstrahler kann
die Windungszahl der Ablenkspulen hier erheblich kleiner sein als bei dem Hauptstrahlerzeugungssystem.
CAs can be seen from FIG. 1, the anode voltage and the current of the additional electron beam can easily be selected so that at each point the total secondary emission current generated by the two beams plus the current dissipated through the insulating resistor is equal to or greater than the sum of the two primary currents. Fig. 2 shows-schematically as an embodiment of the invention a Braun tube. The cathode of the main beam generation system is designated with K1, the associated Wehnelt cylinder with W1, and the anode with Al. L1 is the concentrating coil and S1 is the deflection system for the main beam. A second beam generation system with the cathode K2, the Wehnelt cylinder W2, the anode A2, the centering coil L2 and the associated deflection system S2 is arranged on the side of the tube. This second beam generating system supplies the electron beam required to prevent the fluorescent screen Sch from being charged. The grid of this additional electron beam is generated by the same breakover currents as the main grid. Because of the low beam voltage in the additional laterally arranged electron gun, the number of turns of the deflection coils can be considerably smaller here than in the main beam generation system. C.