DE8529664U1 - Device for the uniform exposure of a large-format copy surface - Google Patents
Device for the uniform exposure of a large-format copy surfaceInfo
- Publication number
- DE8529664U1 DE8529664U1 DE19858529664 DE8529664U DE8529664U1 DE 8529664 U1 DE8529664 U1 DE 8529664U1 DE 19858529664 DE19858529664 DE 19858529664 DE 8529664 U DE8529664 U DE 8529664U DE 8529664 U1 DE8529664 U1 DE 8529664U1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- diaphragm
- edge
- light source
- copying
- exposure
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/10—Copying apparatus with a relative movement between the original and the light source during exposure
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/16—Illumination arrangements, e.g. positioning of lamps, positioning of reflectors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
- G03F7/201—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by an oblique exposure; characterised by the use of plural sources; characterised by the rotation of the optical device; characterised by a relative movement of the optical device, the light source, the sensitive system or the mask
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Light Sources And Details Of Projection-Printing Devices (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum gleichmäßigen Belichten einer großformatigen Kopierfläche mit einer im Gerätegehäuse längs einer zur Kopierfläche parallel liegenden Bahn mit gleichbleibender Geschwindigkeit bewegten Lichtquelle. The invention relates to a device for uniformly exposing a large-format copying surface with an im Device housing along a path parallel to the copying surface, moving light source at a constant speed.
Derartige Vorrichtungen finden vornehmlich Anwendung beim Kopieren großflächiger Substrate, beispielsweise zur fotochemischen Herstellung großformatiger Leiterplatten oder Masken zur Herstellung von Schattenmasken für Farbfernsehröhren. Such devices are primarily used when copying large-area substrates, for example for photochemical production of large-format printed circuit boards or masks for the production of shadow masks for color television tubes.
• * t Ii• * t Ii
Ϊ Eine bekannte Vorrichtung dieser Art (EP 00 66892Ϊ A known device of this type (EP 00 66892
Ä1) benützt als Lichtquelle eine Leuchtröhre, die sich über die ganze Breite der Köpieirflache parallel zu dieser erstreckt und quer zur RÖhrenächse über die Kopierfläche bewegt v/ird. Die Leuchtröhre streut das Licht notwendig allseitig. Auch durch eine Schlitzblende kann diese Streuung nicht so stark eingedämmt werden, daß die für die eingangs erwähnte Anwendung notwendige Kopiergenauigkeit auch nur annähernd erreicht werden könnte* Auch ist hierfür die Lichtstärkeverteilung längs der Leuchtröhre nicht genügend gleichmäßig.Ä1) uses a fluorescent tube as a light source, which over the entire width of the Köpieirflache parallel to this extends and transversely to the tube axis over the copying surface moved v / ird. The fluorescent tube necessarily scatters the light on all sides. Also through a slit screen this scatter can not be so strongly contained that the application mentioned above is necessary Copying accuracy could only be achieved approximately * The light distribution is also used for this not uniformly enough along the fluorescent tube.
In der Kopiertechnik ist es auch schon bekannt,In copying technology it is already known
für die Ganzflächenbelichtung kleinformatiger Kopier-for the whole area exposure of small format copier
!5 flächen (z.B. bis 200 χ 200 mm) als Lichtquelle einen! 5 areas (e.g. up to 200 χ 200 mm) as a light source
Kollimator zu verwenden, um eine hohe Kopiergenauigkeit r zu -erzielen. Bei solchen Lichtquellen ist die Lichtstärke über die ganze Lichtöffnung gut gleichmäßig und es ist daher möglich, an jedem belichteten Punkt der Kopierflache die gleiche Lichtenergie umzusetzen.Collimator to be used to achieve high copying accuracy -Dramatically r. With such light sources, the light intensity is well uniform over the entire light opening and it is therefore possible to implement the same light energy at every exposed point on the copying surface.
Eine derartige Ganzflächenbelichtung ist aber bei größerformatigen Kopierflächen nicht anwendbar, weil Kollimator-Lichtquellen mit einer derartigen Ausdehnung nicht zur Verfügung stehen und zu extrem voluminösen Kopieranordnungen führen müßten.Such a full-area exposure cannot be used for larger-format copy areas, because collimator light sources with such an extent are not available and too extreme bulky copy arrangements would have to lead.
Aufgabe der Erfindung ist es, die Vorteile der Verwendung einer Kollimator-Lichtquelle auch fürThe object of the invention is to take advantage of the use of a collimator light source for
gQ die Belichtung großformatiger Kopierflächen mit einer relativ einfachen Vorrichtung zur Verfügung zu stellen, bei der besondere Präzisionsanforderungen nicht bestehen. Diese Aufgabe wird durch die im Anspruch 1 gekennzeichnete Erfindung gelöst. Zweckmäßige Ausge--gQ the exposure of large-format copy surfaces with a To provide relatively simple device available, in which there are no special precision requirements. This object is achieved by the invention characterized in claim 1. Appropriate award
gg staltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.gg arrangements are specified in the subclaims.
t t * 4 Λ At t * 4 Λ A
Grundgedanke der Erfindung ist es, das Problem einer gleichmäßigen Belichtung großformatiger Kopierfläshen durch die Verwendung einer in der Belichtungsvorrichtung beweglich angeordneten Kollimator-Lichtquelle mit fortschreitender Teilflächenbelichtung zu lösen. Zu diesem Zweck wird die Lichtquelle mit konstanter Geschwindigkeit in den beiden Hauptrichtungen der Kopierfläche fortbewegt, bis die ganze Kopierfläche exponiert ist. Das von der Kollimator-Lichtquelle auf der Kopierfläche erzeugte Leuchtfeld überstreicht dabei dieselbe in einer festgelegten Spur.The basic idea of the invention is to solve the problem of uniform exposure of large-format copier lenses through the use of a collimator light source movably arranged in the exposure device to solve with progressive partial area exposure. For this purpose, the light source moves at a constant speed in the two main directions of the copy surface moved until the entire copy surface is exposed. That from the collimator light source on the copy surface generated light field sweeps over the same in a fixed track.
Die notwendige Umsetzung gleicher Lichtenergie in jedem belichteten Punkt der Kopierfläche würde es dabei erfordern, daß diese Spuren mit hoher Präzision aneinander anschließen, also ohne Überlappung in den Randzonen und selbstverständlich auch ohne zwischen den Randzonen von Belichtung freibleibende Streifen. Der dazu benötige apparative Aufwand ist jedoch bei der geforderten hohen Genauigkeit erheblich, weshalb die Erfindung in dieser Beziehung einen anderen Weg vorschlägt: The necessary conversion of the same light energy in every exposed point of the copy surface would be require that these tracks connect to one another with high precision, that is, without overlapping in the Edge zones and of course also without stripes remaining free from exposure between the edge zones. The equipment required for this is, however, considerable with the required high accuracy, which is why the Invention suggests another way in this regard:
Die untereinander parallelen Abschnitte der Lichtquellenbahn erhalten einen kleineren Abstand als der Durchmesser des Strahlenbündels. Dadurch entstehen notwendig im Bereich der Überlappung zweimal durchlaufene Randzonen mit doppelter Belichtung. Um nun auch hier jedem Punkt nur die gleiche Lichtenergie zuzuführen, wird eine in den Strahlengang eingebrachte Blende erfindungsgemäße derart ausgebildet, daß sie im Bereich der sich überlappenden Randzonen benachbarter Belichtungs spuren jeweils Blendenrandflachen aufweist, die nur halb so groß sind wie ein gleichbreiter Streifen der übrigen Blendenfläche. Damit wird hier bei jedem Durch-The mutually parallel sections of the light source path are spaced at a smaller distance than the diameter of the beam. This necessarily results in two traversed in the area of the overlap Edge zones with double exposure. In order to only supply the same light energy to each point here, too, an aperture introduced into the beam path according to the invention is designed in such a way that it is in the area the overlapping edge zones of adjacent exposure tracks each has aperture edge areas that only are half the size of a strip of the same width on the rest of the diaphragm surface. This means that every time you go through
lauf der Randzone i;ur die halbe Lichtenergie / in Summe also gerade wieder diejenige Lichtenergie zugeführt/ die auch die übrigen Punkte erhalten«run of the edge zone i; for half the light energy / in total so just that light energy is supplied again / which also receive the other points «
diese Weise ist eine gl'eichmäßige Belichtung großformatiger Kopierflächen gewährleistet* Ein fehlerfreier übergang zu benachbarten Belichtuhgsspüren ist erreicht. Die Anforderungen an die Genauigkeit der Führungsmittel für die bewegliche Lichtquelle sind dabei weniger hoch, da keine scharfe Grenzlinie zwischen benachbarten Spuren eingehalten werden muß.In this way, uniform exposure of large-format copy surfaces is guaranteed. * A fault-free transition to neighboring exposure traces is achieved. The demands on the accuracy of the guide means for the movable light source are less stringent, since there is no need to adhere to a sharp boundary line between adjacent tracks.
Besonders einfach wirkt die Blende, wenn die mittige Blendenfläche quadratisch ist und die sich beidseits anschließenden Blendenrandflachen die Form eines Dreiecks haben, dessen Basis die Seitenlänge der quadratischen mittigen Blenden fläche, dessen Höhe jedoch die Breite der Randzone ist. Mit dieser Dreiecksform der Blendenrandflachen wird das die Doppelbelichtung zulassende Flächenverhältnis einfach sichergestellt.The panel looks particularly simple when the central panel surface is square and that extends itself on both sides adjoining panel edge surfaces the shape have a triangle, the base of which is the side length of the square central aperture, but its height is the width of the edge zone. With this triangular shape of the aperture edge areas, this becomes the double exposure permissible area ratio simply ensured.
Das die Blendenrandflache bildende Dreieck wird am einfachsten gleichschenklig gewählt.The triangle forming the diaphragm edge surface is easiest to choose isosceles.
Im Bereich der zu den parallelen Abschnitten der Lichtquellenbahn parallelen Kopierfeldränder, wo es zur Doppelbelichtung nicht kommt, werden durch zusätzliche geradlinige Randblenden, die zu den Abschnitten der Lichtquellenbahn ebenfalls parallel sind, die dreieckigen Blendenrandflachen jeweils abgedeckt. Dadurch ist sichergestellt, daß auch im Bereich der Kopierfeldränder jeder belichtete Punkt die gleiche Lichtenergie zugeführt erhält, wie jeder übrige Punkt der Kopierfläche.In the area of the copying field edges parallel to the parallel sections of the light source path, where there is double exposure does not occur due to additional straight edge diaphragms that are attached to the sections of the Light source path are also parallel, the triangular diaphragm edge areas are each covered. This is ensures that the same light energy is supplied to each exposed point in the area of the copying field edges like every other point of the copy area.
3535
Ausführungsbeispieleder Erfindung werden nachstehend anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigenEmbodiments of the invention are described below explained in more detail with reference to the drawing. Show it
Fig. 1 und 2 Auf- und Grundriß einer erfindungsgemäßen Vorrichtung, undFigs. 1 and 2 elevation and plan view of an inventive Device, and
Fig. 3 und 4 zwei Varianten der für die Erzeugung der3 and 4 two variants of the for the generation of the
Leuchtfeldspuren zu verwendenden Blenden.Luminous field traces to be used diaphragms.
Fig. 1 und 2 zeigen ein Kopiergerät mit Gehäuse 1,1 and 2 show a copier with housing 1,
das an der Oberseite eine Glasplatte 2 aufweist, die 10which has a glass plate 2 on the top, the 10
die maximale Kopierfläche 3 begrenzt. Auf der Glasplatte..-the maximum copying area 3 is limited. On the glass plate ..- 2 befindet sich das die lichtempfindliche Schicht tragende Substrat 4. Darunter ist die Maske 5 zu erkennen.2 is the substrate 4 carrying the photosensitive layer. The mask 5 can be seen underneath.
an sich bekannter Ausführung (wie in Fig. 1 angedeutet)known design (as indicated in Fig. 1) derart beweglich angeordnet, daß die Kollimator-Lichtquelle 6 parallel zur Kopierfläche mit gleichbleibender Geschwindigkeit in den beiden Hauptrichtungen der Kopierfläche 3 verschoben werden kann. Die dazu erforderlichen Antriebs- und Führungseinrichtungen sind an sich bekannt und müssen hier nicht im einzelnen dargestellt werden. Die Anordnung ist dabei vorzugsweise so getroffen, daß die Achse 7 des von der Kollimatorlichtquelle erzeugten, vertikal zur Kopierfläche 3 nach oben gerichteten zylindrischen Strahlenbündels 8 eine mäanderförmige Lichtquellenbahn 9 beschreibt.arranged movably in such a way that the collimator light source 6 is parallel to the copying surface with a constant Speed in the two main directions of the copying surface 3 can be shifted. The necessary Drive and guide devices are known per se and need not be shown here in detail. The arrangement is preferably such that the axis 7 of the collimator light source generated vertical to the copying surface 3 upwardly directed cylindrical beam 8 describes a meandering light source path 9.
mehreren untereinander parallelen Abschnitten besteht,consists of several parallel sections,
die überdies parallel zur längeren Seite der Kopierfläche 3 gewählt sind. Die Führung der Kollimator-Lichtquelle 6 senkrecht zu diesen untereinander und zur längeren Seite der Kopierfläch · parallelen Abschnittenwhich are also chosen parallel to the longer side of the copying surface 3. The leadership of the collimator light source 6 perpendicular to these with each other and to longer side of the copying surface · parallel sections
der Lichtquellenbahn 9 erfolgt außerhalb der zu belichtenden Kopiert lache, Wie in E1Ig, 2 iStJificihpUnktiert angedeutet.the light source path 9 takes place outside the copied pool to be exposed, as indicated in E 1 Ig, 2 iStJificihpUnktiert.
ti till it Ii Il Il Iti till it Ii Il Il I
«II I I I I I I I«II I I I I I I I
* · III I · * I * · III Il* III I * I * III Il
ι a at ·■§·> ·ι a at · ■ § ·> ·
ι ·* «·»■■■ι · * «·» ■■■
•ta «a• ta «a
Das von der Kollimator-Lichtquelle 6 abgegebene zylindrische Strahlenbündel S, dessen Achse 7 vertikal zur Kopierfläche 3 steht, wird begrenzt durch eine die Austrittsöffnung der Kollimator-Lichtquelle bildende Blende 7. Diese Blende bestimmt Form und Abmessungen des Strahlenbündels 8. Dabei sind die Verhältnisse so gewählt, daß der Abstand der untereinander parallelen Abschnitte der Lichtquellenbahn 9 kleiner ist als der durch die Blende 10 vorgegebene Durchmesser des StrahL^fi bündeis 8.The cylindrical beam S emitted by the collimator light source 6, the axis 7 of which is vertical to the copying surface 3 is limited by a forming the exit opening of the collimator light source Diaphragm 7. This diaphragm determines the shape and dimensions of the beam 8. The relationships are as follows chosen that the distance between the mutually parallel sections of the light source path 9 is smaller than that by the diaphragm 10 predetermined diameter of the beam ^ fi bündeis 8.
Das Strahlenbündel überstreicht also die Kopierfläche 3 in mehreren Parallelen, im Beispiel nach Fig.
in drei Spuren.
15The bundle of rays therefore sweeps over the copying surface 3 in several parallels, in the example according to FIG. In three tracks.
15th
Fig. 3 und 4 zeigen an zwei Ausführungsbeispielen die sich dabei ergebenden Belichtungsverhältnisse.3 and 4 show the resulting exposure conditions in two exemplary embodiments.
Die durch die öffnung der Blende 10 vorgegebene Spurbreite ist für die einzelnen Abschnitte mit B1, B2 bzw. B3 angegeben, wobei sich benachbarte Belichtungsspuren in Randzonen 11 einer bestimmten Breite b teilweise überlappen. Diese Randzonen 11 werden beim Belichtungsvorgang jeweils zweimal durchlaufen. Durch geeignete Formgebung der Blende 10 wird nun erreicht, daß jede der Randzonen 11 bei jedem Durchlauf jeweils die Hälfte der erforderlichen Lichtenergie zugeführt erhält.The predetermined by the opening of the diaphragm 10 The track width is indicated for the individual sections with B1, B2 or B3, with adjacent exposure tracks partially in edge zones 11 of a certain width b overlap. These edge zones 11 are traversed twice during the exposure process. By Suitable shaping of the diaphragm 10 is now achieved that each of the edge zones 11 in each case half of the required light energy is supplied.
Zu diesem Zweck ist für jeden Abschnitt der Lichtquellenbahn 9 eine Blende vorgesehen, deren öffnung aus einer mittleren quadratischen Blendenfläche 12 und jeweils anschließenden Blendenrandflachen 13 besteht, die die Randzonen 11 bestimmen und deren Fläche jeweils halb so groß/wie ein gleichbiSeiter Teil der mittleren Blendenfläche 12. Im vorliegenden BeispielFor this purpose, a diaphragm is provided for each section of the light source path 9, the opening of which from a central square diaphragm surface 12 and in each case adjoining diaphragm edge surfaces 13 exists, which determine the edge zones 11 and their area is half as large / as an equal part the central aperture area 12. In the present example
hat die die Randzone 11 bestimmende Blendenrandflache die Form eines Dreiecks, dessen Basis die Seitenlänge der mittleren Blendenfläche 12 und dessen Höhe die Randzonenbreite b bildet.has the diaphragm edge surface which determines the edge zone 11 the shape of a triangle, the base of which is the side length of the central diaphragm surface 12 and the height of which is the width of the edge zone b forms.
Fig. 3 zeigt, daß für die Kollimator-Lichtquelle 6 austauschbare Blenden unterschiedlicher Form der Blendenöffnung Verwendung finden können. Dabei ist für die am Rand der Kopierfläche 3 verlaufenden Belichtungsspuren (B1, B3) je eine Blendenöffnung mit nur einem, vom Kopierflächenrand wegweisenden dreieckigen Flächenabschnitt als Blendenrandflache 13 vorgesehen. Für die Erzeugung der dazwischen verlaufenden Belichtungsspur (B2) weißt dagegen die Blende 10 eine Blendenöffnung auf, die beidseits der mittigen Blendenfläche 12 jeweils angrenzende dreieckige Blendenrandflachen 13 hat. In diesem Fall bestirnten einzig die von der Kollimator-Lichtquelle 6 iritgeTührten Blenden 10 die äußeren Grenzen der Kopierf lächä?.Fig. 3 shows that for the collimator light source 6 interchangeable diaphragms of different shapes Aperture can be used. It is for the exposure tracks running on the edge of the copying surface 3 (B1, B3) each have a diaphragm opening with only one triangular surface section pointing away from the copying surface edge provided as a diaphragm edge surface 13. For the Generation of the exposure track running in between (B2), on the other hand, the diaphragm 10 has a diaphragm opening on both sides of the central diaphragm surface 12 adjoining triangular diaphragm edge surfaces 13 has. In In this case, only the diaphragms 10 irit guided by the collimator light source 6 define the outer limits the copier is smiling.
Fig. 4 zeigt eine Ausführungsform mit nur einer einzigen Blende, die fest in die Kollimator-Lichtquelle eingearbeitet ist und beidseits der mittleren Blendenfläche 12 je eine dreieckige Blendenrandflache 13 an diese anschließend aufweist. Zur seitlichen Begrenzung der Belichtung an den Rändern der Kopierfläche 3 sind Randblenden 14 vorgesehen, die fest angeordnet beim Durchlaufen der Belichtungsspuren an den Kopierfeldrändern jeweils die randseitige dreieckige Blendenrandfläche abdecken. Bei dieser Ausführungsform kann also eine einzige Blende vor der Lichtquelle für den ganzen Belichtungsvorgang verwendet werden. Der Blendenaustausch wie bei der Ausführungsform nach Fig. 3 ist nicht erforderlich. Fig. 4 shows an embodiment with only a single diaphragm, which is fixed in the collimator light source is incorporated and on both sides of the central panel surface 12 a triangular panel edge surface 13 each this then has. To limit the lateral exposure at the edges of the copying surface 3 are Edge diaphragms 14 are provided, which are fixedly arranged when passing through the exposure tracks at the copying field edges cover the triangular faceplate on each side. In this embodiment, so can a single aperture in front of the light source can be used for the entire exposure process. The aperture replacement as in the embodiment of FIG. 3 is not required.
I* IiIi 11 Il ti ·I * IiIi 11 Il ti
•• itit ι ι * ι ι ι ιι ι * ι ι ι ι
* * * * * 4 * «III III Il* * * * * 4 * «III III Il
• 4 * * • 4 * * II« I ·* «III*II «I · *« III *
Claims (8)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH541984A CH665492A5 (en) | 1984-11-13 | 1984-11-13 | Method for gleichmaessigen illuminate a kopierflaeche and device for implementing the procedure. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE8529664U1 true DE8529664U1 (en) | 1985-11-28 |
Family
ID=4293268
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853532461 Withdrawn DE3532461A1 (en) | 1984-11-13 | 1985-09-11 | Method for uniform exposure of a large-format copying surface, and a device for carrying out the method |
DE19858529664 Expired DE8529664U1 (en) | 1984-11-13 | 1985-10-18 | Device for the uniform exposure of a large-format copy surface |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19853532461 Withdrawn DE3532461A1 (en) | 1984-11-13 | 1985-09-11 | Method for uniform exposure of a large-format copying surface, and a device for carrying out the method |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61126544A (en) |
CH (1) | CH665492A5 (en) |
DE (2) | DE3532461A1 (en) |
NL (1) | NL8501996A (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2822967B1 (en) * | 2001-03-28 | 2003-10-03 | Automa Tech Sa | DEVICE FOR INSOLATING A FACE OF A PRINTED CIRCUIT PANEL |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5629208A (en) * | 1979-08-16 | 1981-03-24 | Ricoh Co Ltd | Light beam scanning method |
-
1984
- 1984-11-13 CH CH541984A patent/CH665492A5/en not_active IP Right Cessation
-
1985
- 1985-07-11 NL NL8501996A patent/NL8501996A/en not_active Application Discontinuation
- 1985-09-11 DE DE19853532461 patent/DE3532461A1/en not_active Withdrawn
- 1985-10-18 DE DE19858529664 patent/DE8529664U1/en not_active Expired
- 1985-11-13 JP JP60255801A patent/JPS61126544A/en active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61126544A (en) | 1986-06-14 |
DE3532461A1 (en) | 1986-05-15 |
NL8501996A (en) | 1986-06-02 |
CH665492A5 (en) | 1988-05-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3001059C2 (en) | X-ray lithography system for the production of integrated circuits | |
DE3145098C2 (en) | Optical code reader | |
DE2260229C3 (en) | ||
DE2339594C3 (en) | Method for producing a screen of a color picture cathode ray tube | |
DE2342110A1 (en) | CATHODE RAY COLOR TUBE | |
DE2047316A1 (en) | A method and device for generating an array of discrete areas with a photoresist layer | |
DE2744510C3 (en) | Arrangement for photographic data marking | |
DE2440575B2 (en) | Exposure device for photographic printing of the screen of a color picture tube | |
DE968430C (en) | Lighting device for projection image devices | |
DE1547361A1 (en) | Character projection device | |
DE2012046A1 (en) | Shadow mask color picture tube and process for their manufacture | |
DE745107C (en) | Method of making latent raster records | |
DE2411508C2 (en) | Device for generating masks for microcircuits | |
DE1671522B2 (en) | PROCESS FOR PRODUCING A CHARGE IMAGE | |
DE8529664U1 (en) | Device for the uniform exposure of a large-format copy surface | |
DE2253492A1 (en) | PROJECTION METHOD FOR CREATING A COPY OF A PHOTOMASK | |
EP0002736A1 (en) | Exposure arrangement for copying apparatuses | |
DE3413995C2 (en) | ||
DE2755294C2 (en) | Exposure device for producing a striped pattern on a faceplate of a color cathode ray tube | |
DE2546504C2 (en) | ||
DE2036904A1 (en) | Method and arrangement for producing point holograms | |
DE19856575A1 (en) | Projection microlithography device | |
EP0297161A1 (en) | Projection exposure system | |
DE262065C (en) | ||
DE693308C (en) | Device for automatic recording of measured values by means of spark marks |