DE8520163U1

DE8520163U1 - Screening machine

Info

Publication number: DE8520163U1
Application number: DE19858520163
Authority: DE
Original assignee: HEIN LEHMANN AG 4000 DUESSELDORF DE
Current assignee: HEIN LEHMANN AG 4000 DUESSELDORF DE
Priority date: 1985-07-12
Filing date: 1985-07-12
Publication date: 1987-09-24

Description

&idiagr; &iacgr; &idigr; &iacgr; &iacgr; » * ·&idigr;&iacgr;&idigr;&iacgr;&iacgr; » * ·

COHAUSZ & FLORACKCOHAUSZ & FLORACK

pAtentanWAltsbüropatent attorney's office

SCriUMANNSTRiS? D'4000 DÜSSELDORF 1 felefon:(02li) 683346 Telex!085865)3copd SCRIUMANNSTRiS? D'4000 DÜSSELDORF 1 phone:(02li) 683346 Telex!085865)3copd

PATENTANWÄLTE:
Dipl.-Ing. W. COHAUSH · DipHng. R. KNAUF · Dipl.-Ing. H. B. COHAUSZ · Dipl.-Ing, D. H. WERNERPATENT ATTORNEYS:
Dipl.-Ing. W. COHAUSH · DipHng. R. KNAUF · Dipl.-Ing. HB COHAUSZ · Dipl.-Ing, DH WERNER

02.07.T9Ö5 - 3 - HC/wa 85/51002.07.T9Ö5 - 3 - HC/wa 85/510

Hein, Lehmann AG.
Fichtenstr. 75
4000 DüsseldorfHein, Lehmann AG.
Fichtenstr. 75
4000 Dusseldorf

Screening machine

Die Erfindung betrifft eine Siebmaschine mit zwei durch mindestens eine Exzenterwelle Kreisschwingungen ausführenden Bewegungssystemen» aus voneinander getrennten Rahmen oder je zwei Seitenwangen mit zwischen den Rahmen oder Seitenwangen jedes Systems in regelmäßigen Abständen zueinander parallel befestigten Querträgern, wobei die in einer Siebebene befindlichen Querträger beider Systeme einander abwechselnd angeordnet und durch die Systeme so angetrieben sind, daß die zwischen den Querträgern befindlichen, an diesen befestigten, elastischen Siebbelagfelder abwechselnd gestreckt und gestaucht werden.The invention relates to a screening machine with two movement systems that carry out circular oscillations by means of at least one eccentric shaft, consisting of separate frames or two side walls each with cross beams attached parallel to one another at regular intervals between the frames or side walls of each system, whereby the cross beams of both systems located in a screening plane are arranged alternately and driven by the systems in such a way that the elastic screening lining fields located between the cross beams and attached to them are alternately stretched and compressed.

Aus der deutschen Patentschrift 12 06 372 ist eine solche Siebmaschine bekannt. Die einander gegenüberliegenden Seitenwangen beider Bewegungssysteme sind von zwei angetriebenen Exzenterwellen durchdrungen, deren beiden Enden in einem Grundrahmen drehbar gelagert sind. Dieser zusätzliche Grundrahmen ist konstruktiv aufwendig und läßt die Maschine groß bauen. Ferner müssen von diesem Grundrahmen erhebliche Schwingungskräfte aufgenommen werden.Such a screening machine is known from the German patent specification 12 06 372. The opposing side walls of both movement systems are penetrated by two driven eccentric shafts, the two ends of which are rotatably mounted in a base frame. This additional base frame is structurally complex and makes the machine large. Furthermore, this base frame must absorb considerable vibration forces.

^⁰ Aufgabe der Erfindung ist es, eine Siebmaschine der eingangs^ ⁰ The object of the invention is to provide a screening machine of the type

ti iff t f « C C 1 I I · · ·· · ·«·>·ti iff t f « CC 1 II · · ·· · ·«·>·

genannten Art zu schaffen, die von einfacher Konstruktion ist und geringe Außenabmessungen aufweist.type mentioned, which is of simple construction and has small external dimensions.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß jede Exzenterwelle allein in den beiden Bewegungssystemen gelagert ist.This object is achieved according to the invention in that each eccentric shaft is mounted solely in the two movement systems.

Eins solche Sisbmsschins bedsrf keines Grundrshniens - so daß sie konstruktiv wesentlich einfacher ist. Sie ist damit preiswerter herstellbar und durch den fehlenden Grundrahmen sind ihre Außenabraessungen geringer. Die von der oder den Exzenterwellen erzeugten Schwingungen müssen nicht von einem Grundrahmen abgefangen werden, der damit bisher Energien vernichten mußte. Die Schwingungsenergie wird vielmehr vollständig von den Bewegungssystemen verbraucht, so daß weniger Energie benötigt wird, um Materialien zu sieben. Auch zeigt eine solche Konstruktion weniger Verschleiß, da die äußeren, besonders strapazierten Lager der Exzenterwelle (n) fehlen.Such a system does not require a base frame - so that it is structurally much simpler. It is therefore cheaper to manufacture and the lack of a base frame means that its external dimensions are smaller. The vibrations generated by the eccentric shaft(s) do not have to be absorbed by a base frame, which previously had to dissipate energy. Instead, the vibration energy is completely consumed by the movement systems, so that less energy is needed to sift materials. Such a design also shows less wear and tear, since the outer, particularly stressed bearings of the eccentric shaft(s) are missing.

Eine besonders sichere Lagerung und einfache Konstruktion wird dann geschaffen, wenn ein erstes der beiden Bewegungssysteme am zweiten Bewegungssystem federnd gelagert ist und das zweite Bewegungssystem auf dem Untergrund sich federnd abstützt.A particularly safe bearing and simple construction is created when a first of the two movement systems is spring-mounted on the second movement system and the second movement system is spring-supported on the ground.

Vorzugsweise wird vorgeschlagen, daß nur eine Exzenterwelle vorgesehen ist und beide Bewegungssysteme durch Stützfedern stabilisiert sind. Alternativ können zwei Exzenterwellen zueinander parallel in beiden Bewegungssystemen gelagert sein und eine der Exzenterwellen die andere insbesondere über einen Koppelriemen antreiben.Preferably, it is proposed that only one eccentric shaft is provided and that both movement systems are stabilized by support springs. Alternatively, two eccentric shafts can be mounted parallel to one another in both movement systems and one of the eccentric shafts can drive the other, in particular via a coupling belt.

Ferner wird vorgeschlagen, daß oberhalb der ersten Siebebene an den Seitenwangen eine zweite Lagee von Querträgern befestigt ist, aie eine zweite SiebebeneIt is further proposed that a second layer of cross beams is attached to the side walls above the first screen level, which forms a second screen level

telltell

(Siebdeck) bilden. Hierzu alternativ wird vorgeschlagen, däß oberhalb der ersten Siebebene äri dem Rahmen öder ail den Seitenwangen eines der BeWegüngssysteme eine Siebebene(screen deck). Alternatively, it is proposed that a screen level be formed above the first screen level on the frame or on the side walls of one of the movement systems.

\ oder ein Schutzdeck befestigt ist. \ or a protective cover is attached.

Ein Ausführungsbeispiei der Erfindung ist in den Zeichnungen dargestellt und wird im folgenden naher beschrieben; Es zeigenAn embodiment of the invention is shown in the drawings and is described in more detail below;

1Ö Fig. 1 einen senkrechten Schnitt durch die Siebmaschine quer zur Förderrichtung des Siebgutes»1Ö Fig. 1 a vertical section through the screening machine transverse to the conveying direction of the screening material»

Fig. 2 eine Draufsicht auf die Siebmaschine, und Fig. 3 eine Seitenansicht.Fig. 2 is a top view of the screening machine, and Fig. 3 is a side view.

Das äußere Bewegungssystem II weist zwei senkrechte Seitenwangen (Seitenwände) 1a, 1b auf, die im Unteren Bereich von einem Kastenprofil 2a, 2b gebildet werden, das über Schraubenfedern auf dem Untergrund gelagert ist. An den Unterseiten der Kastenprofile 2a, 2b stehen innen Befestigungselemente 4a, 4b vor, die waagerechte Querträger 5 halten. Diese Querträger liegen senkrecht zu den Seitenwangen und quer zur Förderrichtung des Siebgutes.The external movement system II has two vertical side walls 1a, 1b, which are formed in the lower area by a box profile 2a, 2b, which is mounted on the ground via coil springs. On the undersides of the box profiles 2a, 2b, fastening elements 4a, 4b protrude inside, which hold horizontal cross beams 5. These cross beams are perpendicular to the side walls and transverse to the conveying direction of the screening material.

An der Oberseite der Seitenwangen 1a, 1b stehen in gleicher Weise nach innen Befestigungselemente 6a, 6b vor, die für ein über dem unteren Siebdeck darüber angeordnetes zweites Siebdeck Querträger 7 halten, die parallel zu den ^Querträgern 5 liegen.On the upper side of the side walls 1a, 1b, fastening elements 6a, 6b protrude inwards in the same way, which hold cross beams 7 for a second screen deck arranged above the lower screen deck, which cross beams lie parallel to the cross beams 5.

3030

Innerhalb der Seitenwangen 1a, 1b ist ein erstes Bewegungssystem I gelagert, das wiederum zwei Seitenwangen 8a, 8b besitzt, die parallel zu den Seitenwangen 1a, 1b sind. An den Seitenwangen bzw. Seitenwänden 8a, 8b sind in gleicher Weise an der Ober- und Unterseite Querträger 9, 10 befestigt, die parallel zu den Querträgern desA first movement system I is mounted within the side walls 1a, 1b, which in turn has two side walls 8a, 8b, which are parallel to the side walls 1a, 1b. Cross members 9, 10 are attached in the same way to the top and bottom of the side walls 8a, 8b, which are parallel to the cross members of the

ft 111 . t <ft 111 . t <

fr it» fr * i fr it» fr * i

11)11(1 fl > I» ill11)11(1 fl > I» ill

6 -6 -

Bewegürigssysteras I sind und in der gleichen Köhe liegen.Movement systems I and are located in the same position.

Das untere Siebdeck 11 weist somit ca. 12 bis 16 Qüerträ^&r auf, die abwechselnd am einer! und am anderen Bewegungssystem befestigt sind und die zwischen sich Felder eines flexiblen Siebbelages 12 tragen. In gleicher Weise ist das obere Siebdeck 13 ausgeführt.The lower screen deck 11 thus has approximately 12 to 16 cross beams, which are alternately attached to one and the other movement system and which carry fields of a flexible screen covering 12 between them. The upper screen deck 13 is designed in the same way.

Das untere Siebdeok 11 ist seitlich durOh dis Seitenlangen 8a, 8b begrenzt, wobei im unteren Bereich an diesen Wangen &iacgr;&ogr; eine Abdichtung 14 aus elastischem Material befestigt ist. Das obere Siebdeck ist durch seitliche Stützen 15 begrenzt, die an den Seitenwangen la, 1b befestigt sind und wiederum auf der Innenseite Abdichtungen 14 tragen.The lower sieve deck 11 is laterally limited by the side walls 8a, 8b, with a seal 14 made of elastic material being attached to these walls in the lower area. The upper sieve deck is limited by lateral supports 15 which are attached to the side walls 1a, 1b and in turn carry seals 14 on the inside.

Durch die Seitenwangen 1a, 1b, 8a, 8b beider Bewegungssysteme I, II verlaufen quer zur Förderrichtung zwei Exzenterwellen 16, 17, die vierfach gelagert sind. In beiden äußeren Bereichen liegen die Exzenterwellen 16, 17 in Lagern 18a, 18b der Seitenwangen Ia₁Ib ein und in den weiter innen liegenden Bereichen in Lagern 19ä, 19b der Seitenwangen 8a, 8b. Die Exzenterwellen 16, 17 sind zwischen den beiden Lagern 18a und 19a als auch zwischen den beiden Lagern 18b und 19b zweifach abgewinkelt, so daß die Achse der Exzenterwelle im Bereich der Lager 18a und 18b gleichachsig, aber die Achse im Bereich der Lager 18a und 19a zueinander parallel versetzt sind. Dies gilt auch für die Achsen im Bereich der Lager 18b, 19b. Dagegen ist die Achse der Exzenterwellen im Bereich der Lager 19a, 19b wiederum gleichachsig.Two eccentric shafts 16, 17, which are supported on four bearings, run through the side cheeks 1a, 1b, 8a, 8b of both movement systems I, II, transversely to the conveying direction. In both outer areas, the eccentric shafts 16, 17 are located in bearings 18a, 18b of the side cheeks 1a ₁ Ib and in the further inner areas in bearings 19ä, 19b of the side cheeks 8a, 8b. The eccentric shafts 16, 17 are angled twice between the two bearings 18a and 19a as well as between the two bearings 18b and 19b, so that the axis of the eccentric shaft in the area of the bearings 18a and 18b is coaxial, but the axes in the area of the bearings 18a and 19a are offset parallel to one another. This also applies to the axes in the area of the bearings 18b, 19b. In contrast, the axis of the eccentric shafts in the area of the bearings 19a, 19b is again coaxial.

Die Stellungen dieser durch die Exzenterwelle gebildeten Exzenter sind somit um 180° versetzt, wobei die Exzentrizität ca. 5 bis 7 mm beträgt. Jeder Systempunkt wird daher bei einer Umdrehung der Welle auf einer Kreisbahn mit dem Durchmesser von ca. 14 mm bewegt. Da beide Systeme sich um 18O° phasenverschoben nacheilen,The positions of these eccentrics formed by the eccentric shaft are thus offset by 180°, with the eccentricity being approx. 5 to 7 mm. Each system point is therefore moved on a circular path with a diameter of approx. 14 mm during one rotation of the shaft. Since both systems lag behind each other by 180°,

nähern und entfernen sich bestimmte Systempunkte. Dies führt dazu, daß in einer Draufsicht gesehen, die Querträger 9 des Systems I sich während einer Umdrehung einer Exzenterwelle von den Querträgern 5 des Systems II entfernen und danach wieder nähern. Hierdurch wird der zwischen zwei Querträgern 5, 9 befindliche Siebbelag 12 einmal gestreckt und einmal gestaucht.certain system points approach and move away. This means that, seen from above, the cross beams 9 of system I move away from the cross beams 5 of system II during one revolution of an eccentric shaft and then move closer together again. As a result, the screen lining 12 located between two cross beams 5, 9 is stretched once and compressed once.

Die erste Exzenterwelle 16 ist über ein Antriebsrad 20 mit einem Elektromotor verbunden, wobei der Antrieb direkt oder über eine Keilriemenübersetzung als auch über eine Keilriemenübersetzung mit Gelenkwelle geschehen kann. Die zweite Exzenterwelle 17 wird von der ersten Exzenterwelle 16 über einen Koppelriemen 21 angetrieben. 15The first eccentric shaft 16 is connected to an electric motor via a drive wheel 20, whereby the drive can be direct or via a V-belt transmission or via a V-belt transmission with a cardan shaft. The second eccentric shaft 17 is driven by the first eccentric shaft 16 via a coupling belt 21. 15

Alternativ kann die Siebmaschine von einer einzigen Exzenterwelle angetrieben sein, wobei dann die Systeme durch zusätzliche Stützfedern stabilisiert sind. Statt der dargestellten Doppeldeckausführung kann die Maschine auch nur ein einziges Siebdeck besitzen. Ferner kann über einem solchen einzigen Siebdeck ein Schutzdeck befestigt sein, das von den Seitenwangen einer der beiden Bewegungssysteme getragen ist.Alternatively, the screening machine can be driven by a single eccentric shaft, in which case the systems are stabilized by additional support springs. Instead of the double-deck design shown, the machine can also have just a single screening deck. Furthermore, a protective deck can be attached above such a single screening deck, which is supported by the side walls of one of the two movement systems.

fe

Il Il Il ti ·1 · .·" 'MlIl Il Il ti ·1 · .·" 'Ml

III I ( · I t » · IIII I ( · I t » · I

Il III I < · · HI II III I < · · HI II

Claims

■ · ■·· · ■ ■■ · ■·· · ■ ■

ft« fr« ·« &bgr; ■*»» ·«·ft« fr« ·« &bgr; ■*»» ·«·

COHAUSZ & FLORACK

patent attorney's office schumannstr. 97 d-4000 dusseldorf 1

Telephone:(0211) 683346 Tele:08586513copd

PATENT ATTORNEYS:
DrpWng. W. COHAUSZ · DipL-lng. R KNAUF · DipHng. HB COHAUSZ ■ IJipHng. D. K WERNER

02.07.1985

- 1 - HC/wa 85/510

Expectations;

1. Screening machine with two movement systems (I, II) that carry out circular oscillations by means of at least one eccentric shaft, consisting of separate frames or two side walls (1a, 1b, 8a, 8b) with cross beams (5, 7, 9, 10) attached parallel to one another at regular intervals between the frames or side walls of each system, whereby the cross beams of both systems (I, II) located in a screening plane are arranged alternately and are driven by the systems in such a way that the elastic screen lining fields (12) located between the cross beams and attached to them are alternately stretched and compressed, characterized in that each eccentric shaft (16, 17) is mounted solely in the two movement systems (I, II).

2. Screening machine according to claim 1, characterized in that a first (I) of the two movement systems is spring-mounted on the second movement system (II) and the second movement system (II) is spring-supported on the substrate.

3. Screening machine according to one of the preceding claims, characterized in that only one eccentric shaft is provided and both movement systems are stabilized by support springs.

₄ lllll ₄ lllll

4. Screening machine according to one of the preceding claims, characterized in that two eccentric shafts (16, 17) are mounted parallel to one another in both movement systems (I, II) and one of the eccentric shafts (16) drives the other (17), in particular via a coupling belt (21).

5. Screening machine according to one of the preceding claims, characterized in that above the first screening level (11) a second layer of cross beams (7, 10) is attached to the side walls, which form a second screening level (13) (screen deck) (13).

6. Screening machine according to one of claims 1 to 4, characterized in that above the first screening level (11) on the frame or on the side walls (1a, 1b) of one of the movement systems (I, II) a screening level or a protective deck is attached.