DE8401543U1 - Kontaktkopiereinrichtung - Google Patents
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- 239000000523 sample Substances 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 25
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 24
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000309464 bull Species 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000002706 hydrostatic effect Effects 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03B—APPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
- G03B27/00—Photographic printing apparatus
- G03B27/02—Exposure apparatus for contact printing
- G03B27/14—Details
- G03B27/18—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material
- G03B27/20—Maintaining or producing contact pressure between original and light-sensitive material by using a vacuum or fluid pressure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
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- Fluid Mechanics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19848401543 DE8401543U1 (de) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Kontaktkopiereinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19848401543 DE8401543U1 (de) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Kontaktkopiereinrichtung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE8401543U1 true DE8401543U1 (de) | 1987-02-05 |
Family
ID=6762596
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19848401543 Expired DE8401543U1 (de) | 1984-01-20 | 1984-01-20 | Kontaktkopiereinrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE8401543U1 (ja) |
-
1984
- 1984-01-20 DE DE19848401543 patent/DE8401543U1/de not_active Expired
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