Claims (1)
diejenigen. Teile der Photoschicht, weiche von
der Drehachse des Leuchtschirmes entfernt liegen, stärker belichtet werden als diejenigen
Teile, die der Achse unmittelbar benachbart sind.those. Parts of the photolayer that are removed from
the axis of rotation of the luminescent screen are more exposed than those
Parts that are immediately adjacent to the axis.
Zweck der Erfindung ist es, eine einfache Vorrichtung zum Belichten der Photoschicht
in Korpuskularstrahlapparaten. zu schaffen, und dabei sicherzustellen, daß die Photoschicht
bei der Aufnahme gleichmäßig belichtet wird. Das wird erfindungsgemäß dadurch erreicht, daß zwei Belichtungsklappen
von solcher Größe vorgesehen sind, daß jede von ihnen die zu belichtende Fläche völlig
vom Strahlengang abzuschirmen gestattet, und deren Drehachsen an zwei gegenüberliegenden
Seiten der Schicht so angeordnet sind, daß beim Belichten der Zutritt der j Strahlen durch Aufklappen der einen und die ,
Abschirmung der Strahlen durch Zuklappen der zweiten Belichtungsklappe erfolgt. Durch ;
die gegenüberliegende Anordnung der beiden , Drehachsen der Belichtungsklappen und die ,
zeitlich nacheinander erfolgende Betätigung j der beiden Klappen kann mit dieser Vorrichtung
erreicht werden, daß alle Teile der zu belichtenden Photoschicht gleich lang belichtet
werden. Man kann die vorliegende Anordnung bei Korpuskularstrahlapparaten beliebiger Art anwenden.The purpose of the invention is to provide a simple device for exposing the photo layer
in corpuscular beam apparatus. to create, ensuring that the photolayer
is evenly exposed when taking the picture. This is achieved according to the invention in that two exposure flaps
of such a size that each of them completely covers the area to be exposed
Allowed to shield from the beam path, and their axes of rotation at two opposite
Sides of the layer are arranged in such a way that during exposure the access of the j rays by opening one and the other
The rays are shielded by closing the second exposure flap. By ;
the opposite arrangement of the two, axes of rotation of the exposure flaps and the,
Successive actuation j of the two flaps can be done with this device
it can be achieved that all parts of the photographic layer to be exposed are exposed for the same length of time
will. The present arrangement can be used in any type of particle beam apparatus.
Das bevorzugte Anwendungsgebiet der Anordnung der vorliegenden Art sind hochauflösende
Elektronenmikroskope. Für dieses zuletzt genannte Anwendungsgebiet ist in der Abbildung schematisch ein Ausführungsbeispiel
der Erfindung dargestellt. Die Abbildung zeigt einen Schnitt durch den unteren Teil eines Elektronenmikroskops. Mit 1 ist
die Vakuumwand des Elektronenmikroskops bezeichnet., im unteren Teil des Mikroskops
befindet sich im Ausführungsbeispiel die Photokassette 2, in welche eine photographische
Platte 3 eingelegt ist. In der dargestellten Lage ist der Kassetten schieber bereits geöffnet.
In der Richtung des Pfeiles 4 treffen die von der nicht dargestellten Optik des
Gerätes her kommenden Elektronenstrahlen auf die Photoschicht. Zum Belichten dienen
erfmdungsgemäß zwei Belichtungsklappen 5 ■ und 6, die um die Drehachsen 7 bzw. 8 mit
Hilfe von in der Abbildung nicht dargestellten, von außen her zu betätigenden Drehschliffen
auf- und zugeklappt werden können. Vor der Aufnahme ist die eine der beiden Belichtungsklappen, beispielsweise die Klappe 5, her-
untergeklappt, so daß sie die Elektronenstrahlen von der Photoschicht abschirmt,
während die zweite Klappe 6 hochgeklappt ist. Bei der Belichtung wird zunächst die
Klappe 5 in der Richtung des Pfeiles 9 hochgeklappt, und zum Abschluß der Belichtung
wird die Klappe 6 in der Richtung des Pfeiles 10 nach unten geklappt. Beide Klappen werden
zweckmäßig auf derjenigen Seite, die im geschlossenen Zustande dem Strahlengang zugekehrt
ist, als Leuchtschirm ausgebildet, so daß man das Bild des Objektes jeweils vor
und nach der Aufnahme durch ein Beobachtungsfenster 11 betrachten kann.The preferred field of application of the arrangement of the present type are high resolution
Electron microscopes. An exemplary embodiment is shown schematically in the figure for this last-mentioned area of application
of the invention shown. The figure shows a section through the lower part of an electron microscope. With 1 is
denotes the vacuum wall of the electron microscope., in the lower part of the microscope
is in the embodiment, the photo cassette 2, in which a photographic
Plate 3 is inserted. In the position shown, the cassette slide is already open.
In the direction of arrow 4 meet the optics of the, not shown
Device coming from electron beams on the photo layer. Serve for exposure
According to the invention, two exposure flaps 5 ■ and 6, which around the axes of rotation 7 and 8 with
With the help of turning grinding, not shown in the figure, to be actuated from the outside
can be opened and closed. Before the exposure, one of the two exposure flaps, for example flap 5, is opened.
folded down so that it shields the electron beams from the photo layer,
while the second flap 6 is folded up. During the exposure, the
Flap 5 folded up in the direction of arrow 9, and to complete the exposure
the flap 6 is folded down in the direction of arrow 10. Both flaps will
expediently on the side that faces the beam path in the closed state
is designed as a fluorescent screen, so that you can see the image of the object in front of each
and can view through an observation window 11 after the recording.
Man wird zweckmäßig geeignete mechanische Mittel verwenden, um sicherzustellen,
daß das öffnen und Schließen der Klappen jeweils mit der gleichen Geschwindigkeit
erfolgt.Appropriate mechanical means will be used to ensure that
that the opening and closing of the flaps at the same speed
he follows.
PaT EX TA X SPRACH:PaT EX TA X LANGUAGE:
Zur Abgrenzung des Erfindungsgegenstands vom Stand der Technik ist im Erteilungsverfahren
folgende Druckschrift in Betracht gezogen worden:To differentiate the subject matter of the invention from the state of the art, the granting process is in progress
the following publication has been considered:
Französische Patentschrift Nr. 859 096.French patent specification No. 859 096.
Vorrichtung zur willkürlichen Belichtung der Photoschicht in Korpuskularstrahlapparaten,
insbesondere Elektronenmikroskopen, dadurch gekennzeichnet, daß zwei Belichtungsklappen von solcher
Größe vorgesehen sind, daß jede von ihnen die zu belichtende Fläche völlig
vom Strahlengang abzuschirmen gestattet und deren Drehachsen an zwei gegenüberliegenden
Seiten der Schicht so angeordnet sind, daß beim Belichten der Zutritt der
Strahlen durch Aufklappen der einen und die Abschirmung der Strahlen durch Zuklappen
der zweiten Belichtungsklappe erfolgt.Device for the random exposure of the photo layer in corpuscular beam devices,
in particular electron microscopes, characterized in that two exposure flaps of such
Size are provided that each of them completely covers the area to be exposed
Allowed to shield from the beam path and their axes of rotation on two opposite one another
Sides of the layer are arranged so that when exposed to the access
Rays by opening one and shielding the rays by closing it
the second exposure flap takes place.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
5809 2.545809 2.54