DE698090C - preparations - Google Patents

preparations

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DE698090C
DE698090C DE1938B0182492 DEB0182492D DE698090C DE 698090 C DE698090 C DE 698090C DE 1938B0182492 DE1938B0182492 DE 1938B0182492 DE B0182492 D DEB0182492 D DE B0182492D DE 698090 C DE698090 C DE 698090C
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DE
Germany
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discharge
gas
gas supply
reaction apparatus
sieve
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Expired
Application number
DE1938B0182492
Other languages
German (de)
Inventor
Bernhard Berghaus
Wilhelm Burkhardt
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Individual
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32431Constructional details of the reactor
    • H01J37/3244Gas supply means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J19/00Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
    • B01J19/08Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
    • B01J19/087Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
    • B01J19/088Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges

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Description

Gaszuleitung und -ableitung für Vakuum-Reaktionsapparate Es sind bei der elektrischen Gasreinigung bereits geerdete Gitter oder Siebe zur Entionisierung von Gasen bekanntgeworden. Man hat auch bereits im Verbindungskanal zwischen Niederschlagskammer und Trockenofen durchlässige Trennwände zur Verhütung von Entzündungen angebracht. Weiter ist es kannt, bei Metalldampfgleichrichtern zur Vermeidung von Stromübergängen nach den Pumpenteilen Isolierstücke mit besonderen Hilfslelektroden anzuordnen, die einen störungsfreien Ausgleich des Potentialgefälles herbeiführen. Alle diese bekannten Maßnahmen dienen dazu, die Entladung zwischen Leitern verschiedenen Potentials ohne Betriebsstörung zu überbrücken.Gas supply and discharge for vacuum reaction apparatus There are at grids or sieves for deionization that are already earthed for electrical gas cleaning of gases became known. One has already in the connecting channel between the precipitation chamber and drying oven installed permeable partitions to prevent inflammation. It is also known for metal vapor rectifiers to avoid current transitions to arrange insulating pieces with special auxiliary electrodes after the pump parts, which bring about an undisturbed equalization of the potential difference. All these known measures serve to reduce the discharge between conductors of different potential without bridging operational disruption.

Eis wurde bei Versuchen festgestellt, daß die Gaszuleitung bzw. Gasableitung durch die Wandung von Vakuumapparaten zur Durchführung chemischer Reaktionen, die unter Verwendung einer elektrischen Gasentladung, z. B. einer Glimmentladung, durchgeführt werden, Schwierigkeiten bietet, wenn die Wandung des Vakuum Reaktionsapparates als Kathode geschaltet ist. Die Glimmentladung breitet sich dabei leicht im Gaszuleitungsrohr oder Gasableitungsrohr aus, wodurch der Betrieb erheblich gestört wird. Durch die Erfindung werden diese unerwünschten Entladungen vermieden. Ice was found in experiments that the gas supply or gas discharge through the wall of vacuum apparatus to carry out chemical reactions that using an electric gas discharge, e.g. B. a glow discharge performed be, presents difficulties if the wall of the vacuum reaction apparatus as Cathode is connected. The glow discharge spreads easily in the gas supply pipe or gas discharge pipe, which significantly disrupts operation. Through the Invention, these undesirable discharges are avoided.

Die Erfindung betrifft eine Gaszuleitung und ableitung für Vakuumapparate zur.Durchführung chemischer Reaktionen zwischen Stoffen beliebigen Aggriegatzustan.des mittels elektrischer leuchtender Entladungen, dadurch gekennzeichnet, daß dort, wo die durch die Kathode des Vakuum-Reaktionsapparates führende und mit ihr elektrisch leitend verbundenen Gaszu- oder ableitung in den Reaktionsraum mündet, ein Sieb oder Filter in die Gasleitung eingebaut ist. Dabei werden die Maschen des Siebes so eng gehalten, daß die Gasentladung, insbesondere Glimmentladung, nicht in die Gaszuleitung bzw. Gas ableitung hineinschlagen kann. Vorzugsweise wird das Sieb mit Löchern oder Machen von weniger als 3 mm Durchmesser, durch die die Glimmentladung nicht mehr hindurchschlagen kann, versehen. Es können auch mehrere Siebe hintereinander so angeordnet werden, daß sich ihre Öffnungen gegenseitig verdecken. An Stelle von Lochsieben kann man auch vorteilhaft Siebe verwenden, die aus einem einfachen oder mehrfachen Drahtgeflecht bestehen. Hierdurch wird eine Abdeckung der Öffnung des Gaszuleirungs- bzw. The invention relates to a gas supply line and discharge line for vacuum apparatus for performing chemical reactions between substances of any aggregate state by means of luminous electrical discharges, characterized in that there, where through the Leading cathode of the vacuum reaction apparatus and gas supply or discharge line connected to it in an electrically conductive manner into the reaction chamber opens, a sieve or filter is built into the gas line. This is where the stitches of the sieve kept so tight that the gas discharge, especially the glow discharge, does not occur can strike into the gas supply line or gas discharge line. Preferably that will Sieve with holes or holes less than 3 mm in diameter through which the glow discharge can no longer penetrate, provided. You can also use several sieves in a row be arranged so that their openings cover each other. Instead of Perforated sieves can also be used advantageously sieves that consist of a simple or consist of multiple wire mesh. This will cover the opening of the Gas supply or

-ableitungsrohres gegen das Durchschlagen von Entladungen erreicht, während das Gas frei durchtreten kann. Das Filter oder Sieb wird vorzugsweise aus dem gleichen Baustoff wie die. Wandung des Reaktionsapparates hergestellt, also z. B. aus Metallen oder Legierungen. Durch das Gaszuleitungsrohr können in den Reaktionsapparat die umzusetzenden Reaktionskompoenenten in geregelter Menge eingeleitet werden, während an das Gasableitungsrohr eine Vakuumpumpe augeschlossen ist, durch die in dem Reaktionsapparat der gewünschte Unterdruck, z. B. 40 bis 0,001 mm Hg, eingestellt wird.pipe against the penetration of discharges, while the gas can pass freely. The filter or sieve is preferably made of the same building material as that. Wall of the reaction apparatus made, so z. B. of metals or alloys. Through the gas supply pipe can into the reaction apparatus the reaction components to be converted are introduced in a regulated amount, while a vacuum pump is attached to the gas discharge pipe through which in the reaction apparatus the desired negative pressure, z. B. 40 to 0.001 mm Hg will.

In der Zeichnung ist die Erfindung an einem Ausführungsbeispiel schematisch näher erläutert, und zwar zeigt die Abbildung einen Schnitt durch eine Gasableitung in größerem Maßstabe. In the drawing, the invention is shown schematically in an exemplary embodiment explained in more detail, namely the figure shows a section through a gas discharge line on a larger scale.

In die als Kathode geschaltete Wandung 2 eines Vakuum-Reaktionsapparates zur Durch führung chemischer Reaktionen ist in die Gasableitung 1 das Sieb 1a eingebaut, welches verhindert, daß die Gasentladung insebsondere Gimmentladung, in die Gasableitung hineinschlagt. Die Maschnweite des Siebes ist z. B. kleiner als 1 mm. Das Sieb ist dabei z. B. in einer auswechselbar,en Hülse 1b angeordnet. In the wall 2 of a vacuum reaction apparatus connected as cathode to carry out chemical reactions, the sieve 1a is built into the gas discharge line 1, which prevents the gas discharge, in particular the gas discharge, from entering the gas discharge line hits it. The mesh width of the sieve is z. B. smaller than 1 mm. The sieve is while z. B. arranged in an exchangeable, en sleeve 1b.

Claims (1)

PATENTANSPRUCH: Gaszuleitung und ableitung für Vakuum-Reaktionsapparate zur Durchführung chemischer Reaktionen zwischen Stoffen beliebigen Aggregatzustandes mittels .elektrischer leuchtender Entladungen, dadurch gekennzeichnet, daß dort, wo die durch die Kathode des Vakuum-Reaktionsapparates führende und mit ihr elektrisch leitend verbundene Gaszu- oder -ableitung - in den Reaktionsraum mündet, ein Sieb oder Filter in die Gasleitung eingebaut ist. PATENT CLAIM: Gas supply and discharge for vacuum reaction apparatus to carry out chemical reactions between substances of any aggregate state by means of .electric luminous discharges, characterized in that there, where the leading through the cathode of the vacuum reaction apparatus and with it electrically Conductively connected gas supply or discharge line - opens into the reaction chamber, a sieve or filter is built into the gas line.
DE1938B0182492 1938-03-23 1938-03-23 preparations Expired DE698090C (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19749348C2 (en) * 1996-11-15 2002-03-21 Lg Semicon Co Ltd Process for cleaning a gas distributor plate in a plant for chemical separation from the gas phase under atmospheric pressure

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19749348C2 (en) * 1996-11-15 2002-03-21 Lg Semicon Co Ltd Process for cleaning a gas distributor plate in a plant for chemical separation from the gas phase under atmospheric pressure

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