DE69027849T2

DE69027849T2 - Image display device

Info

Publication number: DE69027849T2
Application number: DE1990627849
Authority: DE
Inventors: Kiyoshi Hamada; Jumpei Hashiguchi; Satoshi Kitao; Kinzo Nonomura Kinzo Nonomura; Masayuki Takahashi
Original assignee: Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Holdings Corp
Priority date: 1990-05-04
Filing date: 1990-05-04
Publication date: 1997-02-06
Anticipated expiration: 2010-05-05
Also published as: DE69027849D1

Description

Background of the invention Field of the invention

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Fluoreszenz für eine Bildanzeigevorrichtung, die für einen Farbfernsehempfänger, ein Endanzeigegerät eines Computers und dergleichen verwendet wird.The present invention relates to fluorescence for an image display device used for a color television receiver, a terminal display device of a computer and the like.

Description of the state of the art

Als plattenartige Farbanzeigevorrichtung zur Anzeige eines Farbbildes gibt es eine Farbanzeigevorrichtung, die Kathodenlumineszenz verwendet, wie offenbart in der japanischen Patentanmeldung Kokai (Offenlegungsschrift) Nr. JP-A-57-135590. Diese Anzeigevorrichtung wird unten erklärt. Fig. 4 zeigt den Basisaufbau dieser Anzeigevorrichtung. Bauelemente der Vorrichtung sind in der Reihenfolge von der Hinterseite zur Vorderseite, d.h. in der Reihenfolge von der linken Seite zur rechten Seite in Fig. 4, eine Rückseitenelektrode 51, eine lineare Kathode 52 als Strahlquelle, Vertikalfokussierelektroden 53a und 53b, eine Vertikalablenkungselektrode 54, eine Strahlmodulationselektrode 55, eine Horizontalfokussierelektrode 56, eine Horizontalablenkelektrode 57, eine Strahlbeschleunigungselektrode 58 und ein Schirm 59, die alle zusammen in einem Vakuumflammenglaskolben (vacuum flame glass bulb) (nicht gezeigt) untergebracht sind. Die lineare Kathode 52 als Strahlquelle ist in horizontaler Richtung erstreckt, um einen Elektronenstrahl zu erzeugen, der sich in der horizontalen Richtung linear verteilt, und eine Vielzahl der linearen Kathoden 52 sind in vertikaler Richtung mit geeignetem Abstand dazwischen vorgesehen (nur vier lineare Kathoden 52a&sub1; bis 52d&sub1; sind in der Zeichnung gezeigt). Angenommen, daß in diesem Fall 15 solcher linearen Kathoden vorgesehen sind. Diese linearen Kathoden sind aufgebaut durch Beschichten der Oberfläche eines Wolframdrahts von 10 bis 20 µm mit einem Oxidkathodenmaterial, als Beispiel. Diese linearen Kathoden werden so gesteuert, daß aus jeder von ihnen für eine vorbestimmte Zeit ein Elektronenstrahl emittiert wird, wobei sequentiell bei der linearen Kathode 52a&sub1; begonnen wird, wie später beschrieben. Die Rückenseitenelektrode 51 beschränkt die Erzeugung eines Elektronenstrahls aus den linearen Kathoden 52 auf diejenige lineare Kathode 52, die zur Emission eines Elektronenstrahls für eine vorbestimmte Zeit gesteuert wird, und die Rückenseitenelektrode 51 dient ferner zum Übertragen des erzeugten Elektronenstrahls in ausschließlich der Vorwärtsrichtung Die Rückseitenelektrode 51 kann durch Beschichten der Innenoberfläche der Rückwand des Glaskolbens mit einem leitfähigen Material gebildet sein. Anstelle der Elektronenstrahlquelle, die durch die lineare Kathode 52 und die Rückseitenelektrode 51 gebildet ist, kann auch eine ebene Elektronenquelle verwendet werden. Die Vertikalfokussierelektrode 53a ist eine plattenförmige Elektrode, die einen langen Schlitz 60 in der horizontalen Richtung aufweist, der jeder der linearen Kathoden 52a&sub1; bis 52d&sub1; zugewandt ist. Die Vertikalfokussierelektrode 53a nimmt den aus der linearen Kathode 52 emittierten Elektronenstrahl durch den Schlitz heraus und fokussiert den Strahl in der vertikalen Richtung. Der Schlitz 60 kann aufgebaut sein durch in geeigneten Intervallen angeordnete Kreuzstücke oder durch eine Reihe von vielen in kleinen Intervallen in der horizontalen Richtung angeordnete Durchstoßlöcher. Auch die Vertikalfokussierelektrode 53b weist eine ähnliche Struktur auf.As a plate-type color display device for displaying a color image, there is a color display device using cathode luminescence as disclosed in Japanese Patent Application Kokai (Laid-Open) No. JP-A-57-135590. This display device is explained below. Fig. 4 shows the basic structure of this display device. Components of the device are, in the order from the back to the front, that is, in the order from the left side to the right side in Fig. 4, a back electrode 51, a linear cathode 52 as a beam source, vertical focusing electrodes 53a and 53b, a vertical deflection electrode 54, a beam modulation electrode 55, a horizontal focusing electrode 56, a horizontal deflection electrode 57, a beam acceleration electrode 58 and a screen 59, all of which are housed together in a vacuum flame glass bulb (not shown). The linear cathode 52 as a beam source is extended in the horizontal direction to generate an electron beam linearly distributed in the horizontal direction, and a plurality of the linear cathodes 52 are provided in the vertical direction with an appropriate distance therebetween (only four linear cathodes 52a₁ to 52d₁ are shown in the drawing). In this case, suppose that 15 such linear cathodes These linear cathodes are constructed by coating the surface of a tungsten wire of 10 to 20 µm with an oxide cathode material, for example. These linear cathodes are controlled so that an electron beam is emitted from each of them for a predetermined time, sequentially starting from the linear cathode 52a₁ as described later. The back side electrode 51 restricts the generation of an electron beam from the linear cathodes 52 to the linear cathode 52 which is controlled to emit an electron beam for a predetermined time, and the back side electrode 51 further serves to transmit the generated electron beam in only the forward direction. The back side electrode 51 may be formed by coating the inner surface of the rear wall of the glass bulb with a conductive material. Instead of the electron beam source formed by the linear cathode 52 and the back side electrode 51, a plane electron source may also be used. The vertical focusing electrode 53a is a plate-shaped electrode having a long slit 60 in the horizontal direction facing each of the linear cathodes 52a₁ to 52d₁. The vertical focusing electrode 53a takes out the electron beam emitted from the linear cathode 52 through the slit and focuses the beam in the vertical direction. The slit 60 may be constructed by cross pieces arranged at appropriate intervals or by a series of many piercing holes arranged at small intervals in the horizontal direction. The vertical focusing electrode 53b also has a similar structure.

Die Vertikalablenkelektrode 54 ist in mehrfacher Anzahl in der horizontalen Richtung in Zwischenpositionen des Schlitzes 60 angeordnet. Jede der Vertikalablenkelektroden 54 weist Leiter 63a und 63b auf, die an der oberen bzw. unteren Oberfläche eines Isolationssubstrats 62 angeordnet sind. Eine Vertikalablenkspannung ist zwischen die einander zugewandten Leiter 63a und 63b angelegt, und der Elektronenstrahl wird in vertikaler Richtung abgelenkt. In diesem Fall wird ein Elektronenstrahl aus einer linearen Kathode in vertikaler Richtung mit einem Paar von Leitern auf Positionen von 16 Zeilen abgelenkt. 15 Paare von Leitern entsprechend den 15 linearen Kathoden 52 sind aufgebaut durch 16 Vertikalablenkelektroden 64. Im Ergebnis werden die Elektronenstrahlen so abgelenkt, daß 240 horizontale Zeilen auf dem Schirm 59 gezeichnet werden.The vertical deflection electrode 54 is arranged in plural numbers in the horizontal direction at intermediate positions of the slot 60. Each of the vertical deflection electrodes 54 has conductors 63a and 63b arranged on the upper and lower surfaces of an insulating substrate 62, respectively. A vertical deflection voltage is applied between the facing conductors 63a and 63b, and the electron beam is deflected in the vertical direction. In this case, an electron beam from a linear cathode in the vertical direction with a pair of conductors to positions of 16 lines. 15 pairs of conductors corresponding to the 15 linear cathodes 52 are constructed by 16 vertical deflection electrodes 64. As a result, the electron beams are deflected so that 240 horizontal lines are drawn on the screen 59.

Jede der Strahlmodulationselektroden 55 ist aufgebaut durch eine streifenförmige Elektrode mit einem Schlitz in der vertikalen Richtung, und in der horizontalen Richtung sind eine Vielzahl von Strahlmodulationselektroden 55 mit einem vorbestimmten Abstand dazwischen angeordnet. In diesem Fall sind 320 Strahlmodulationselektroden 55a bis 55n vorgesehen (in der Zeichnung sind nur 10 Strahlmodulationselektroden gezeigt). Jede der Strahlmodulationselektroden 55 trennt den Elektronenstrahl auf in jedes einzelne Bildelement und nimmt ihn in der horizontalen Richtung heraus und moduliert die Stärke der passierenden Elektronenstrahlen mit einem Bildsignal zur Anzeige der entsprechenden Bildelemente. Daher ist es durch Vorsehen von 320 Strahlmodulationselektroden 55 möglich, 320 Bildelemente pro horizontale Zeile anzuzeigen. Jedes Bildelement wird mit einem Leuchtstoff der drei Farben einschließlich R, G und B angezeigt, um eine Farbanzeige eines Bildes zu bewerkstelligen. Jeder Strahlmodulationselektrode ist das Bildsignal für R, G und B sequentiell hinzuaddiert. 320 Sätze von Bildsignalen für eine Zeile werden gleichzeitig an die 320 Strahlmodulationselektroden 55 angelegt, und das Bild für eine Zeile wird gleichzeitig angezeigt.Each of the beam modulation electrodes 55 is constructed by a strip-shaped electrode having a slit in the vertical direction, and in the horizontal direction, a plurality of beam modulation electrodes 55 are arranged with a predetermined distance therebetween. In this case, 320 beam modulation electrodes 55a to 55n are provided (only 10 beam modulation electrodes are shown in the drawing). Each of the beam modulation electrodes 55 separates the electron beam into each individual picture element and takes it out in the horizontal direction and modulates the intensity of the passing electron beams with an image signal to display the corresponding picture elements. Therefore, by providing 320 beam modulation electrodes 55, it is possible to display 320 picture elements per horizontal line. Each picture element is displayed with a phosphor of three colors including R, G and B to accomplish color display of an image. Each beam modulation electrode has the image signal for R, G and B sequentially added thereto. 320 sets of image signals for one line are simultaneously applied to the 320 beam modulation electrodes 55, and the image for one line is simultaneously displayed.

Die Horizontalfokussierelektrode 56 ist eine plattenförmige Elektrode 67, die eine Vielzahl (320 Stück) von in der vertikalen Richtung langgestreckten Schlitzen 66 aufweist, die den Schlitzen 64 der Strahlmodulationselektrode 55 gegenüberliegen. Die Horizontalfokussierelektrode 56 fokussiert in der horizontalen Richtung jeden der Elektronenstrahlen für jedes in der horizontalen Richtung getrennte Bildelement und bildet einen feinen Elektronenstrahl.The horizontal focusing electrode 56 is a plate-shaped electrode 67 having a plurality (320 pieces) of vertically elongated slits 66 facing the slits 64 of the beam modulation electrode 55. The horizontal focusing electrode 56 focuses in the horizontal direction each of the electron beams for each in the horizontal direction separated picture element and forms a fine electron beam.

-Die Horizontalablenkelektrode 57 ist aufgebaut durch eine Vielzahl von leitenden Platten 68, die in der vertikalen Richtung in Zwischenpositionen der entsprechenden Schlitze 66 angeordnet sind. Zwischen den entsprechenden leitenden Platten 68 ist eine Horizontalablenkspannung angelegt, um einen Elektronenstrahl jedes Bildelements in der horizontalen Richtung abzulenken und jeden der Leuchtstoffe R, G und B sequentiell zu bestrahlen, um eine Lichtemission auf dem Schirm 59 zu erzeugen. Die Ablenkungsbreite in diesem Fall ist die Breite eines Bildelements für jeden Elektronenstrahl.-The horizontal deflection electrode 57 is constructed by a plurality of conductive plates 68 arranged in the vertical direction at intermediate positions of the corresponding slots 66. A horizontal deflection voltage is applied between the corresponding conductive plates 68 to deflect an electron beam of each picture element in the horizontal direction and irradiate each of the phosphors R, G and B sequentially to produce light emission on the screen 59. The deflection width in this case is the width of one picture element for each electron beam.

Die Beschleunigungselektrode 58 ist aufgebaut durch eine Vielzahl von leitenden Platten 69, die in der horizontalen Richtung in den Positionen der Vertikalablenkelektrode 54 entsprechenden Positionen vorgesehen sind, und die Beschleunigungselektroden 58 beschleunigen Elektronenstrahlen so, daß die Elektronenstrahlen auf dem Schirm mit ausreichender Energie auftreffen.The accelerating electrode 58 is constructed by a plurality of conductive plates 69 provided in the horizontal direction at positions corresponding to the positions of the vertical deflection electrode 54, and the accelerating electrodes 58 accelerate electron beams so that the electron beams impinge on the screen with sufficient energy.

Der Schirm 59 ist aufgebaut durch eine Glasplatte 71, deren Rückseitenoberfläche mit einem Leuchtstoff 70 beschichtet ist, der durch die Bestrahlung mit einem Elektronenstrahl Licht emittiert, und ferner mit einer Metallrückseitenschicht (nicht gezeigt). Ein Paar von Leuchtstoffen 70, die die drei Farben R, G und B beinhalten, sind für einen Schlitz 64 der Strahlmodulationselektrode 55, d.h. für jeden einzelnen in der horizontalen Richtung getrennten Elektronenstrahl vorgesehen, und die Leuchtstoffe sind in einem Streifenmuster in der vertikalen Richtung aufgeschichtet. In Fig. 4 zeigen in dem Schirm 59 eingezeichnete gestrichelte Linien Abschnitte in der vertikalen Richtung, die entsprechend jeder aus der Vielzahl der linearen Kathoden 52 angezeigt werden, und zwei gepunktete Kettenlinien zeigen Abschnitte in der horizontalen Richtung, die entsprechend jeder aus der Vielzahl der Strahlmodulationselektroden 55 angezeigt werden. Jeder einzelne durch diese Zeilen getrennte Abschnitt beinhaltet den Leuchtstoff 70 (G, R, G) für ein Bildelement in der horizontalen Richtung und eine Breite von 16 Zeilen in der vertikalen Richtung, wie in der vergrößerten Zeichnung in Fig. 5 gezeigt. Die Größe eines Abschnitts ist z.B. 1 mm in der horizontalen Richtung und 16 mm in der vertikalen Richtung.The screen 59 is constructed by a glass plate 71 whose back surface is coated with a phosphor 70 which emits light by irradiation with an electron beam and further with a metal back layer (not shown). A pair of phosphors 70 including three colors R, G and B are provided for one slit 64 of the beam modulation electrode 55, that is, for each individual electron beam separated in the horizontal direction, and the phosphors are stacked in a stripe pattern in the vertical direction. In Fig. 4, in the screen 59, dashed lines indicate portions in the vertical direction displayed corresponding to each of the plurality of linear cathodes 52, and two dotted chain lines indicate portions in the horizontal direction displayed corresponding to each of the plurality of beam modulation electrodes 55. Each individual The section separated by these lines includes the phosphor 70 (G, R, G) for one picture element in the horizontal direction and a width of 16 lines in the vertical direction, as shown in the enlarged drawing in Fig. 5. The size of one section is, for example, 1 mm in the horizontal direction and 16 mm in the vertical direction.

Es ist anzumerken, daß in Fig. 4 die Länge in der horizontalen Richtung viel größer als die Länge in der vertikalen Richtung gezeigt ist, um das Verständnis zu erleichtern.It should be noted that in Fig. 4, the length in the horizontal direction is shown much larger than the length in the vertical direction to facilitate understanding.

Obwohl in diesem Fall nur ein Paar von Leuchtstoffen 70 für R, G und B für nur ein Bildelement einer Strahlmodulationselektrode 55, d.h. für einen Elektronenstrahl, gezeigt ist, können zwei oder mehr Paare von Leuchtstoffen für zwei oder mehr Bildelemente vorgesehen sein, in welchem Fall Bildsignale für R, G und B für die zwei oder mehr Bildelemente sequentiell an die Strahlmodulationselektrode angelegt werden und die Horizontalablenkung auch synchron mit dieser Operation ausgeführt wird.Although in this case only one pair of phosphors 70 for R, G and B is shown for only one picture element of a beam modulation electrode 55, i.e., for an electron beam, two or more pairs of phosphors may be provided for two or more picture elements, in which case image signals for R, G and B for the two or more picture elements are sequentially applied to the beam modulation electrode and the horizontal deflection is also carried out in synchronism with this operation.

Die Anzeigevorrichtung nach dem Stand der Technik weist jedoch die folgenden Probleme auf. Es tritt eine Positionsabweichung zwischen der Unterteilung in der horizontalen Richtung eines auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls und der Leuchtstoffstreifenunterteilung auf, die auf eine Positionsabweichung zwischen dem Leuchtstoffstreifenmuster auf dem Schirm 59 und den Elektrodengruppen, die die Strahlmodulationselektrode 55, die Horizontalfokussierelektrode 56, die Horizontalablenkelektrode 57 und andere Elektroden beinhalten, zurückzuführen ist.However, the prior art display device has the following problems. A positional deviation occurs between the division in the horizontal direction of an electron beam irradiated on the screen and the phosphor stripe division, which is due to a positional deviation between the phosphor stripe pattern on the screen 59 and the electrode groups including the beam modulation electrode 55, the horizontal focusing electrode 56, the horizontal deflection electrode 57 and other electrodes.

Eine der Ursachen für die obigen Probleme ist eine Positionsabweichung zwischen dem Schirm und der Elektrodengruppe beim Herstellungsprozeß einer Anzeigevorrichtung. Zum Beispiel wird der Schirm 59 auf der Glasplatte gebildet, und die Glasplatte zieht sich gewöhnlich zusammen, wann immer sie einen Wärmeprozeß durchmacht, und zieht sich möglicherweise einige 10 µm im Fall einer Glasplatte mit einer Länge von 30 bis 40 cm zusammen. Der Wert der Kontraktion ist nicht konstant. Daher tritt eine Veränderung in der Unterteilung des Leuchtstoffstreifenmusters auf.One of the causes of the above problems is a positional deviation between the screen and the electrode group in the manufacturing process of a display device. For example, the screen 59 is formed on the glass plate, and the glass plate tends to contract whenever it undergoes a heat process, and may contract some 10 µm in the case of a glass plate with a length of 30 to 40 cm. The value of the contraction is not constant. Therefore, a change in the division of the phosphor stripe pattern occurs.

Eine zweite Ursache ist ein Unterschied der thermischen Expansion zwischen dem Schirm 59 und der Elektrodengruppe zum Zeitpunkt des Anzeigens eines Bildes, eine 42 - 6 Legierung (42% Ni, 6% Cr, Rest Fe) und dergleichen, deren thermischer Expansionskoeffizient nahe dem von Glas ist, wird als Material für die Elektrodengruppe verwendet, es ist jedoch schwierig, sowohl die Elektrodengruppe als auch den Schirm im Zustand der Bildanzeige auf der gleichen Temperatur zu halten. Daher tritt zwischen der Unterteilung in der horizontalen Richtung des auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls und der Leuchtstoffstreifenunterteilung eine Abweichung auf. Es besteht ferner die Möglichkeit, daß diese Abweichung sich mit der Zeit aufgrund von Temperaturveränderungen verändert.A second cause is a difference in thermal expansion between the screen 59 and the electrode group at the time of displaying an image, a 42-6 alloy (42% Ni, 6% Cr, balance Fe) and the like, whose thermal expansion coefficient is close to that of glass, is used as a material for the electrode group, but it is difficult to keep both the electrode group and the screen at the same temperature in the state of displaying an image. Therefore, a deviation occurs between the division in the horizontal direction of the electron beam irradiated onto the screen and the phosphor stripe division. There is also a possibility that this deviation changes with time due to temperature changes.

Eine weitere Ursache ist ferner eine Verkrümmung der Elektrodengruppe oder des Schirms. Bezüglich der individuellen Struktur der Elektrodengruppe und des Schirms werden ferner die Schlitzunterteilungspräzision der Elektrodengruppe und die Leuchtstoffstreifenunterteilungspräzision des Schirms ein Problem werden.Furthermore, another cause is warpage of the electrode group or the screen. Regarding the individual structure of the electrode group and the screen, the slit division precision of the electrode group and the phosphor stripe division precision of the screen will also become a problem.

Aus den obigen Gründen paßt die Unterteilung in der horizontalen Richtung des auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls nicht zu der Leuchtstoffstreifenunterteilung. Wenn der Elektronenstrahl und der Leuchtstoffstreifen in der horizontalen Richtung in der Mitte in der horizontalen Richtung der Anzeigevorrichtung angeordnet sind, sind die Unterteilungsfehler an beiden Enden akkumuliert, und es tritt eine Farbabweichung in der Mitte auf.For the above reasons, the division in the horizontal direction of the electron beam irradiated on the screen does not match the phosphor strip division. When the electron beam and the phosphor strip in the horizontal direction are arranged at the center in the horizontal direction of the display device, the division errors are accumulated at both ends and a color deviation occurs at the center.

Summary description of the invention

Es ist eine Aufgabe dieser Erfindung, eine Bildanzeigevorrichtung anzugeben, die die oben beschriebenen konventionellen Probleme löst und die ein gleichmäßiges und zufriedenstellendes Bild erzielen kann.It is an object of this invention to provide an image display device which solves the above-described conventional problems and which can obtain a uniform and satisfactory image.

Um die obige Aufgabe zu lösen, sieht die vorliegende Erfindung vor, eine plattenartige Anzeigevorrichtung zu schaffen, bei der aus einer Elektronenquelle emittierte Elektronenstrahlen gesteuert werden durch in Folge eine Modulationselektrode, eine flache Horizontalfokussierelektrode und eine flache Horizontalablenkelektrode, von denen jede darin angeordnete Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen aufweist, und ein Bild auf einem Schirm durch Einstrahlen, Modulieren, Ablenken und Fokussieren der Elektronenstrahlen mittels der Elektroden auf auf den Schirm aufgebrachte Leuchtstoffe angezeigt wird, welche dadurch gekennzeichnet ist, daß die horizontale Unterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen einer der Elektroden unterschiedlich von den Horizontalunterteilungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen der anderen beiden Elektroden ausgeführt ist, und eine elektrische Potentialsteuerung vorgesehen ist zum Steuern eines Potentials der einen der Elektroden mit der unterschiedlichen Horizontalunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen, wodurch die Landeposition der Elektronenstrahlen auf dem Schirm durch den Unterschied in der Horizontalunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen der einen der Elektroden und die elektrische Potentialsteuerungseinrichtung gesteuert ist.In order to achieve the above object, the present invention provides a panel-type display device in which electron beams emitted from an electron source are controlled by a modulation electrode, a flat horizontal focusing electrode and a flat horizontal deflection electrode, each of which has electron beam passage openings arranged therein, and an image is displayed on a screen by irradiating, modulating, deflecting and focusing the electron beams by means of the electrodes onto phosphors applied to the screen, which is characterized in that the horizontal division of the electron beam passage openings of one of the electrodes is made different from the horizontal divisions of the electron beam passage openings of the other two electrodes, and an electric potential controller is provided for controlling a potential of one of the electrodes having the different horizontal division of the electron beam passage openings, whereby the landing position of the electron beams on the screen is controlled by the difference in the horizontal division of the electron beam passage openings of one of the electrodes and the electrical potential control device is controlled.

Figur 1 ist eine Zeichnung zur Erklärung eines ersten Ausführungsbeispiels der vorliegenden Erfindung und zeigt einen Querschnitt in der horizontalen Richtung der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode der Anzeigevorrichtung und des Schirmabschnitts.Figure 1 is a drawing for explaining a first embodiment of the present invention and shows a cross section in the horizontal direction of the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode of the display device and the screen portion.

Figur 2 ist eine Zeichnung zur Erklärung des ersten Ausführungsbeispiels der Erfindung und stellt eine Kennlinie dar, die die Beziehung zwischen der Größe der Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalablenkelektrode bezüglich der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalfokussierelektrode, der Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode und der Horizontalrichtungslandeposition des Elektronenstrahls auf dem Schirm darstellt.Figure 2 is a drawing for explaining the first embodiment of the invention and shows a characteristic curve showing the relationship between the amount of positional deviation of the electron beam passing aperture of the horizontal deflection electrode with respect to the electron beam passing aperture of the horizontal focusing electrode, the potential difference between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode, and the horizontal direction landing position of the electron beam on the screen.

Figur 3 ist eine Zeichnung zur Erklärung eines zweiten Ausführungsbeispiels der Erfindung und stellt eine perspektivische Ansicht des Aufbaus der Anzeigevorrichtung dar mit einem Blockdiagramm des Schaltungssystems zur Rückkopplungssteuerung der Horizontallandeposition des auf den Schirm aufgestrahlten Elektronenstrahls.Figure 3 is a drawing for explaining a second embodiment of the invention and is a perspective view of the structure of the display device with a block diagram of the circuit system for feedback control of the horizontal landing position of the electron beam irradiated on the screen.

Figur 4 ist eine perspektivische Ansicht des Aufbaus der Anzeigevorrichtung.Figure 4 is a perspective view of the structure of the display device.

Figur 5 ist ein vergrößertes Diagramm eines Hauptabschnitts der Leuchtstoffschicht auf dem Schirm für die gleiche Vorrichtung.Figure 5 is an enlarged diagram of a main portion of the phosphor layer on the screen for the same device.

Description of the preferred embodiments.

Es wird nun das erste Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben. Dieses Ausführungsbeispiel ist dadurch ausgezeichnet, daß in der in Fig. 4 gezeigten konventionellen Bildanzeigevorrichtung die Horizontalrichtungsunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalablenkelektrode 57 (d.h. der Schlitz zwischen den Leiterplatten 68) etwas größer (z.B. 0,05 % bis 0,2 %) als die Horizontalrichtungsunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen der anderen Elektroden (d.h. der Schlitz 66 der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Schlitz 64 der Strahlmodulationselektrode 55) gemacht ist, so daß die Position der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der zweiten Elektrode (d.h. der Horizontalablenkelektrode 57) bezüglich der Elektronendurchtrittsöffnung der ersten Elektrode (d.h. der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Strahlmodulationelektrode 55) entsprechend der Position auf dem Schirm verändert ist.The first embodiment of the invention will now be described. This embodiment is characterized in that, in the conventional image display device shown in Fig. 4, the horizontal direction pitch of the electron beam passing hole of the horizontal deflection electrode 57 (ie, the slit between the circuit boards 68) is made slightly larger (e.g., 0.05% to 0.2%) than the horizontal direction pitch of the electron beam passing holes of the other electrodes (ie, the slit 66 of the horizontal focusing electrode 56 and the slit 64 of the beam modulating electrode 55), so that the position of the electron beam passing hole of the second electrode (ie the horizontal deflection electrode 57) with respect to the electron passage opening of the first electrode (ie the horizontal focusing electrode 56 and the beam modulation electrode 55) is changed according to the position on the screen.

Fig. 1 zeigt einen Querschnitt in der Horizontalrichtung der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57. Die Horizontalrichtungsunterteilung P7 der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalablenkelektrode 57 (d.h. der Schlitz zwischen der Leiterplatten 68) ist um ΔP größer als die Horizontalrichtungsunterteilung P6 der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalfokussierelektrode 56 (d.h. des Schlitzes 66) gemacht, und eine Einstellung bezüglich der Positionsübereinstimmung wird durchgeführt zwischen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode 57, und zwar in dem Mittenabschnitt der Horizontalrichtung des Schirms. Dementsprechend besteht an dem Mittenabschnitt keine Positionsabweichung zwischen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode 57. Die Positionabweichung wird in der Randrichtung von der Mitte aus größer, und es tritt eine Positionabweichung N x ΔP an der N- ten Position von der Mitte aus (d.h. der N-ten Position der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung, gezählt von der Mittenelektronenstrahldurchtrittsöffnung) auf.Fig. 1 shows a cross section in the horizontal direction of the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57. The horizontal direction pitch P7 of the electron beam passing opening of the horizontal deflection electrode 57 (i.e., the slit between the conductor plates 68) is made larger by ΔP than the horizontal direction pitch P6 of the electron beam passing opening of the horizontal focusing electrode 56 (i.e., the slit 66), and adjustment for positional agreement is performed between the electron beam passing opening (slit) of the horizontal focusing electrode 56 and the electron beam passing opening (slit) of the horizontal deflection electrode 57 in the central portion of the horizontal direction of the screen. Accordingly, at the center portion, there is no positional deviation between the electron beam passing hole (slit) of the horizontal focusing electrode 56 and the electron beam passing hole (slit) of the horizontal deflection electrode 57. The positional deviation becomes larger in the peripheral direction from the center, and a positional deviation N x ΔP occurs at the N-th position from the center (i.e., the N-th position of the electron beam passing hole counted from the center electron beam passing hole).

In Fig. 1 bezeichnen l-N, ---, 1-&sub2;, l-&sub1;, l&sub0;, l&sbplus;&sub1;, l&sbplus;&sub2;, ---, 1+N die Trajektorien der Elektronenstrahlen, die auf den Schirm 59 nach Durchtritt durch die Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57 gestrahlt werden. Diese Trajektorien entsprechen den Positionsabweichungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode von der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode aus, und die Positionsabweichung der Horizontalrichtungslandung auf dem Schirm 59 (d.h. die Positionsabweichung von der Horizontalrichtungsposition der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode aus wird in der Richtung von der Mitte zum Rand hin größer.In Fig. 1, lN, ---, 1-₂, l-₁, l�0, l₋₁, l₋₂, ---, 1+N denote the trajectories of the electron beams irradiated onto the screen 59 after passing through the electron beam passage openings (slits) of the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57. These trajectories correspond to the positional deviations of the electron beam passage openings (slits) of the horizontal deflection electrode from the electron beam passage opening (slit) of the horizontal focusing electrode, and the positional deviation of the horizontal direction landing on the screen 59 (ie, the positional deviation from the horizontal direction position of the electron beam passing opening (slit) of the horizontal focusing electrode) becomes larger in the direction from the center to the edge.

Als nächstes wird anhand Fig. 2 die Beziehung zwischen der Größe der Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöf fnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode von der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode aus, der Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode und der Horizontalrichtungslandeunterteilung des Elektronenstrahls auf dem Schirm beschrieben.Next, the relationship between the amount of positional deviation of the electron beam passing hole (slit) of the horizontal deflection electrode from the electron beam passing hole (slit) of the horizontal focusing electrode, the potential difference between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode, and the horizontal direction landing division of the electron beam on the screen will be described with reference to Fig. 2.

In Fig. 2 zeigt die Abszisse die Größe der Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitze) zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode, und die Ordinate zeigt die Größe der Horizontalrichtungslandepositionsabweichung des auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls. 10a, 10b und 10c zeigen die Beziehung zwischen der Größe der Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) und der Größe der Landepositionsabweichung des Elektronenstrahls, wenn die Potentialdifferenz Vf-d zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode verändert wird zu Va, Vb bzw. Vc. Unter dieser Bedingung wird die Beziehung zwischen ΔP, welches die Differenz ist zwischen der Horizontalrichtungsunterteilung P7 der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode und der Horizontalrichtungsunterteilung P6 der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode, und der Horizontalrichtungslandeunterteilung Lp des Elektronenstrahls auf dem Schirm betrachtet.In Fig. 2, the abscissa shows the magnitude of the positional deviation of the electron beam passage opening (slits) between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode, and the ordinate shows the magnitude of the horizontal direction landing positional deviation of the electron beam irradiated onto the screen. Figs. 10a, 10b and 10c show the relationship between the magnitude of the positional deviation of the electron beam passage opening (slits) and the magnitude of the landing positional deviation of the electron beam when the potential difference Vf-d between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode is changed to Va, Vb and Vc, respectively. Under this condition, the relationship between ΔP, which is the difference between the horizontal direction pitch P7 of the electron beam passing aperture (slit) of the horizontal deflection electrode and the horizontal direction pitch P6 of the electron beam passing aperture (slit) of the horizontal focusing electrode, and the horizontal direction landing pitch Lp of the electron beam on the screen is considered.

Angenommen, daß die Positionsabweichung der i-ten Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) von der Mitte in der Horizontalrichtung des Schirms aus, d.h. des Abschnitts ohne Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz), zu der Schirmrandrichtung i x ΔP beträgt und daß die Größe der Positionsabweichung der Horizontalrichtungslandung des Elektronenstrahls auf dem Schirm Li ist, wenn die Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode Vb ist. Gleichfalls angenommen, daß die Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) an der (i+1)ten Position (i+l) x ΔP ist und daß die Größe der Positionsabweichung in der Horizontalrichtungslandung des Elektronenstrahls auf dem Schirm Li+1 ist. Dann kann die Unterteilung Pi zwischen dem i-ten und (i+1)-ten Elektronenstrahl von der Mitte des Schirms aus zu der Randrichtung wie folgt ausgedrückt werden:Assume that the positional deviation of the i-th electron beam passage opening (slit) from the center in the horizontal direction of the screen, i.e., the portion without positional deviation of the electron beam passage opening (slit), to the screen edge direction is i x ΔP and that the amount of positional deviation of the horizontal direction landing of the electron beam on the screen is Li when the potential difference between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode is Vb. Also, assume that the positional deviation of the electron beam passage opening (slit) at the (i+1)th position is (i+l) x ΔP and that the amount of positional deviation in the horizontal direction landing of the electron beam on the screen is Li+1. Then the division Pi between the i-th and (i+1)-th electron beams from the center of the screen to the edge direction can be expressed as follows:

Pi = Li+1 - Li + P6.Pi = Li+1 - Li + P6.

In 2 sind 10a, 10b und 10c in geraden Linien gezeichnet. Tatsächlich können sie als fast gerade Linien betrachtet werden, wenn die Breiten der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57, der Zwischenraum zwischen den beiden, und die Spannungszustände geschickt gewählt sind und wenn der Bereich der Größe der Positionsabweichung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) begrenzt ist. Daher können 10a, 10b und 10c in diesem Fall als gerade Linien betrachtet werden. Dementsprechend sind die Größen Li und Li+1 der Positionsabweichungen in der Horizontalrichtungslandung der i-ten und (i+1)-ten Elektronenstrahlen von der Mitte des Schirms aus zu der Randrichtung jeweils wie folgt:In Fig. 2, 10a, 10b, and 10c are drawn in straight lines. In fact, they can be regarded as almost straight lines if the widths of the electron beam passage openings (slits) of the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57, the gap between the two, and the voltage states are skillfully selected and if the range of the amount of positional deviation of the electron beam passage opening (slit) is limited. Therefore, 10a, 10b, and 10c can be regarded as straight lines in this case. Accordingly, the amounts Li and Li+1 of the positional deviations in the horizontal direction landing of the i-th and (i+1)-th electron beams from the center of the screen to the edge direction are respectively as follows:

Li+l = Ab x i x ΔPLi+l = Ab x i x ΔP

Li=1 = Ab x (i+1) x ΔP wobei Ab die Steigung der geraden Linie 10b darstellt. Die Unterteilung Pi zwischen dem i-ten und (i+1)-ten Elektronenstrahl ist wie folgt gezeigt:Li=1 = Ab x (i+1) x ΔP where Ab is the slope of the straight line 10b. The partition Pi between the i-th and (i+1)-th electron beam is shown as follows:

Pi = Ab x (i+1) x ΔP - Ab x i x ΔP + P6 = Ab x ΔP + P6Pi = Ab x (i+1) x ΔP - Ab x i x ΔP + P6 = Ab x ΔP + P6

Es sei auch der Fall betrachtet, daß die Potentialdifferenz Vf-d zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode variiert. Wenn z.B. Vf-d Va ist, wird Pi wie folgt:Consider also the case where the potential difference Vf-d between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode varies. For example, if Vf-d is Va, Pi is given as follows:

Pi = Aa x ΔP + P6, und wenn Vf-d Vc ist, wird Pi wie folgt:Pi = Aa x ΔP + P6, and if Vf-d Vc, Pi becomes:

Pi = Ac + jP + P6Pi = Ac + jP + P6

wobei Aa die Steigung der geraden Linie 10a und Ac die Steigung der geraden Linie 10c darstellt.where Aa represents the slope of the straight line 10a and Ac represents the slope of the straight line 10c.

Wenn insgesamt die Unterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode um ΔP größer gemacht ist als die Unterteilungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der Horizontalfokussierelektrode und anderer Elektroden, wird die Unterteilung in der horizontalen Richtung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls Ab x ΔP + P6, und dieser Wert kann durch Verändern von Ab gesteuert werden, d.h. durch Einstellung der Potentialdifferenz Vf-d zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode.When the total pitch of the electron beam passage opening (slit) of the horizontal deflection electrode is made ΔP larger than the pitches of the electron beam passage openings (slits) of the horizontal focusing electrode and other electrodes, the pitch in the horizontal direction of the electron beam to be irradiated onto the screen becomes Ab x ΔP + P6, and this value can be controlled by changing Ab, i.e., by adjusting the potential difference Vf-d between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode.

Genauer gesagt, ist es möglich gewesen, die Steigung einer in Fig. 2 gezeigten Linie (einer fast geraden Linie), die die Beziehung der Größe der Positionsabweichung der Elektronendurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode darstellt, und die Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode und der Horizontalablenkelektrode und die Horizontalrichtungslandeunterteilung des Elektronenstrahls auf dem Schirm einzustellen, und zwar im Bereich von 1 bis 5, was das Verhältnis zwischen den Skalenwerten der Ordinate und der Abszisse des in Fig. 2 gezeigten Graphen angibt (durch Veränderung der Potentialdifferenz zwischen den beiden Elektroden), und zwar indem für die Werte gesorgt wird 1 mm für die Unterteilung P6 der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode 56, 0,3 mm für die Breite der Durchtrittsöf fnung (Schlitz), 0,3 mm für die Breite der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode 57, 0,4 mm für den Zwischenraum zwischen der Horizontalfokussierelektrode 6 und der Horizontalablenkelektrode 57, 20 mm für den Zwischenraum zwischen der Horizontalablenkelektrode 58 und dem Schirm 59, ungefähr 100 V für die an die Horizontalfokussierelektrode 56 und die Horizontalablenkelektrode 57 jeweils angelegten Spannungen und 10 kV für die an den Schirm 59 angelegte Spannung. Wenn daher die Unterteilungsdifferenz ΔP zwischen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalfokussierelektrode und der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode auf 0,001 mm (0,1 %) eingestellt ist, ist es möglich, die Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls einzustellen, so daß er in dem Bereich von 1,001 bis 1,005 mm ist. Dies entspricht dem Bereich von 0,1 bis 0,5 mm im Sinn der Größe der Positionsabweichung der Horizontalrichtungslandung auf dem Schirm der Elektronenstrahlen an beiden Enden des Schirms von 200 mm in der horizontalen Richtung.More specifically, it has been possible to adjust the slope of a line shown in Fig. 2 (an almost straight line) representing the relationship of the magnitude of the positional deviation of the electron passage opening (slit) of the horizontal deflection electrode and the potential difference between the horizontal focusing electrode and the horizontal deflection electrode and the horizontal direction landing division of the electron beam on the screen, in the range of 1 to 5, which indicates the relationship between the scale values of the ordinate and the abscissa of the graph shown in Fig. 2 (by changing the potential difference between the two electrodes), by providing 1 mm for the pitch P6 of the electron beam passing opening (slit) of the horizontal focusing electrode 56, 0.3 mm for the width of the passing opening (slit), 0.3 mm for the width of the electron beam passing opening (slit) of the horizontal deflection electrode 57, 0.4 mm for the gap between the horizontal focusing electrode 6 and the horizontal deflection electrode 57, 20 mm for the gap between the horizontal deflection electrode 58 and the screen 59, about 100 V for the voltages applied to the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57, respectively, and 10 kV for the voltage applied to the screen 59. Therefore, if the pitch difference ΔP between the electron beam passing aperture (slit) of the horizontal focusing electrode and the electron beam passing aperture (slit) of the horizontal deflection electrode is set to 0.001 mm (0.1%), it is possible to set the horizontal direction pitch of the electron beam irradiated onto the screen to be in the range of 1.001 to 1.005 mm. This corresponds to the range of 0.1 to 0.5 mm in the sense of the size of the positional deviation of the horizontal direction landing on the screen of the electron beams at both ends of the screen of 200 mm in the horizontal direction.

Wie oben beschrieben, ist es nach diesem Ausführungsbeispiel möglich, die Abweichung der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm gestrahlten Elektronenstrahls von der Leuchtstoffstreifenunterteilung zu korrigieren und dementsprechend ein gleichmäßiges zufriedenstellendes Bild zu erhalten.As described above, according to this embodiment, it is possible to correct the deviation of the horizontal direction division of the electron beam irradiated onto the screen from the phosphor stripe division and accordingly to obtain a uniform satisfactory image.

Bei diesem Ausführungsbeispiel ist die Horizontalrichtungsunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung (Schlitz) der Horizontalablenkelektrode 57, d.h. der Schlitz zwischen den Leiterplatten 68, von den Horizontalrichtungsunterteilungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der anderen Elektroden, d.h. des Schlitzes 66 der Horizontalfokussierelektrode 56 und des Schlitzes 64 der Strahlmodulationselektrode 55, leicht verändert. Es ist jedoch auch möglich, die Horizontalrichtungsunterteilung des Schlitzes 66 der Horizontalfokussierelektrode 56 oder des Schlitzes 64 der Strahlmodulationselektrode 55 von den Horizontalrichtungsunterteilungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der anderen Elektroden aus zu verändern.In this embodiment, the horizontal direction division of the electron beam passage opening (slot) of the horizontal deflection electrode 57, ie the slot between the circuit boards 68, is separated from the horizontal direction divisions of the electron beam passing holes (slots) of the other electrodes, ie, the slit 66 of the horizontal focusing electrode 56 and the slit 64 of the beam modulation electrode 55. However, it is also possible to change the horizontal direction division of the slit 66 of the horizontal focusing electrode 56 or the slit 64 of the beam modulation electrode 55 from the horizontal direction divisions of the electron beam passing holes (slots) of the other electrodes.

Bei diesem Ausführungsbeispiel wird eine Positionsübereinstimmungseinstellung vorgenommen zwischen den Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der Horizontalfokussierelektrode 56 und den Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der Horizontalablenkelektrode 57 an dem Mittenabschnitt der Horizontalrichtung des Schirms. Es ist jedoch nicht immer erforderlich, eine Positionierung am Mittenabschnitt der Horizontalrichtung des Schirms vorzunehmen; die Positionierung kann nämlich auch z.B. am linken oder rechten Ende des Schirms vorgenommen werden.In this embodiment, positional matching adjustment is made between the electron beam passing holes (slits) of the horizontal focusing electrode 56 and the electron beam passing holes (slits) of the horizontal deflection electrode 57 at the center portion of the horizontal direction of the screen. However, it is not always necessary to make positioning at the center portion of the horizontal direction of the screen; namely, positioning may be made at the left or right end of the screen, for example.

Es wird nun ein zweites Ausführungsbeispiel der Erfindung beschrieben. Dieses Ausführungsbeispiel gibt ein Verfahren zur Kompensation der Zeitveränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls wegen Temperaturveränderungen und dergleichen während eines Zeitraums, in dem das Bild der Anzeigevorrichtung angezeigt wird, an. Fig. 3 zeigt den Aufbau des Ausführungsbeispiels. Die Anzeigevorrichtung in der Zeichnung ist weitgehend gleich der des ersten Ausführungsbeispiels, und die entsprechenden Teile sind mit den gleichen Bezugsziffern bezeichnet. In Fig. 3 ist die Horizontalrichtungsunterteilung der Elektronenstrahldurchtrittsöffnung der Horizontalablenkelektrode 57, der Schlitz zwischen den Leiterplatten 68, etwas größer (Z.B. etwa 0,05 % bis 0,2 %) als die Horizontalrichtungsunterteilungen der Elektronenstrahldurchtrittsöffnungen (Schlitze) der anderen Elektroden gemacht, d.h. des Schlitzes 66 der Horizontalfokussierelektrode 56 und des Schlitzes 64 der Strahlmodulationselektrode 55. Dementsprechend ist es möglich, die Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls durch die Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57 einzustellen.A second embodiment of the invention will now be described. This embodiment provides a method of compensating for the time variation of the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen due to temperature changes and the like during a period in which the image of the display device is displayed. Fig. 3 shows the structure of the embodiment. The display device in the drawing is largely the same as that of the first embodiment, and the corresponding parts are designated by the same reference numerals. In Fig. 3, the horizontal direction division of the electron beam passage opening of the horizontal deflection electrode 57, the slit between the conductor plates 68, is made slightly larger (eg, about 0.05% to 0.2%) than the horizontal direction divisions of the electron beam passage openings (slits) of the other electrodes, i.e., the slit 66 of the horizontal focusing electrode 56 and the slit 64 of the beam modulation electrode 55. Accordingly, it is possible to adjust the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen by the potential difference between the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57.

30 bezeichnet eine Strahllandepositionserfassungseinrichtung, die an dem Horizontalendabschnitt des Schirms 59 vorgesehen ist, um die Strahllandeposition in der horizontalen Richtung an dem Horizontalendabschnitt des Schirms 59 zu erfassen (Ausgabe eines der Landepositionen entsprechenden elektrischen Signals). Genauer gesagt wird ein Halbleiterpositionserfassungselement (PSD) verwendet (z.B. S1771, hergestellt von Hamamatsu Photonics und dgl.). Das Ausgangssignal der Strahllandepositionserfassungseinrichtung 30 wird von einer Verstärkerschaltung 31 auf einen vorbestimmten Pegel verstärkt, die durch eine Pegelverschiebeschaltung 32 auf einige 100 V vorgespannt ist, und an die Horizontalfokussierelektrode 56 angelegt. In anderen Worten wird das Horizontalrichtungsstrahllandepositionssignal zu der Horizontalrichtungsstrahllandepositionssteuereinrichtung rückgekoppelt (d.h. der Horizontalrichtungspositionssteuerung auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls durch die Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57).30 denotes a beam landing position detector provided at the horizontal end portion of the screen 59 for detecting the beam landing position in the horizontal direction at the horizontal end portion of the screen 59 (outputting an electric signal corresponding to the landing positions). More specifically, a semiconductor position detection element (PSD) is used (e.g., S1771 manufactured by Hamamatsu Photonics and the like). The output signal of the beam landing position detector 30 is amplified to a predetermined level by an amplifier circuit 31 biased to several 100 V by a level shift circuit 32 and applied to the horizontal focusing electrode 56. In other words, the horizontal direction beam landing position signal is fed back to the horizontal direction beam landing position controller (i.e., the horizontal direction position controller of the electron beam to be radiated onto the screen by the potential difference between the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflection electrode 57).

Dementsprechend wird es durch Einstellen der Schleifenverstärkung der Rückkoppelungsschleife auf einen geeigneten Wert möglich, eine Rückkopplungssteuerung der Horizontalrichtungslandeposition des Elektronenstrahls auszuführen, um dadurch eine Zeitveränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls zu kompensieren.Accordingly, by setting the loop gain of the feedback loop to an appropriate value, it becomes possible to perform feedback control of the horizontal direction landing position of the electron beam, thereby compensating for a time variation of the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen.

Wie oben beschrieben, ist es nach diesem Ausführungsbeispiel möglich, eine Zeitveränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls zu kompensieren und ein bezüglich der Zeit stabiles Bild zu erzielen.As described above, according to this embodiment, it is possible to achieve a time change of the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen to compensate and achieve a time-stable image.

Bei diesem Ausführungsbeispiel wird die Zeitveränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls unter Verwendung der Strahllandepositionerfassungseinrichtung 30 erfaßt. Es ist jedoch auch möglich, die Größe der Veränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des Elektronenstrahls der Temperatur jedes Abschnitts der Bildanzeigevorrichtung entsprechen zu lassen, wenn ein Hauptanteil der Ursachen der Zeitveränderung der Horizontalrichtungsunterteilung des Elektronenstrahls eine thermische Ausdehnungsdifferenz zwischen der Elektrodengruppe und des Schirms ist, der eine Temperaturveränderung der Bildanzeigevorrichung zuzuschreiben ist. Dementsprechend ist es auch möglich, die gleiche Wirkung zu erzielen, wenn anstelle der Strahllandepositionserfassungseinrichtung 30 eine Temperaturerfassungseinrichtung, etwa ein thermoelektrisches Element und dergleichen, an einem erwünschten Abschnitt der Bildanzeigevorrichtung angeordnet ist und ihr Ausgangssignal zu der Strahllandepositionssteuerungseinrichtung für die horizontale Richtung zurück zugeführt wird (d.h. der Steuerung der Horizontalposition des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls durch die Potentialdifferenz zwischen der Horizontalfokussierelektrode 56 und der Horizontalablenkelektrode 57).In this embodiment, the time change of the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen is detected using the beam landing position detecting means 30. However, it is also possible to make the amount of change of the horizontal direction division of the electron beam correspond to the temperature of each portion of the image display device, if a major part of the causes of the time change of the horizontal direction division of the electron beam is a thermal expansion difference between the electrode group and the screen to which a temperature change of the image display device is attributable. Accordingly, it is also possible to obtain the same effect if, instead of the beam landing position detecting means 30, a temperature detecting means such as a thermoelectric element and the like is arranged at a desired portion of the image display device and its output signal is fed back to the beam landing position controlling means for the horizontal direction (i.e., controlling the horizontal position of the electron beam to be irradiated onto the screen by the potential difference between the horizontal focusing electrode 56 and the horizontal deflecting electrode 57).

Nach der vorliegenden Erfindung ist es möglich, die Abweichung zwischen der Horizontalrichtungsunterteilung des auf den Schirm zu strahlenden Elektronenstrahls und der Leuchtstoffstreifenunterteilung aufzuheben, die auf die Positionsabweichung zwischen dem Leuchtstoffstreifenmuster auf dem Schirm und der Elektrodengruppe zurückzuführen ist, die die Strahlmodulationselektrode, die Horizontalfokussierelektrode, die Horizontalablenkelektrode und andere Elektroden beinhaltet. Daher wird es durch Beheben des obigen Problems des Standes der Technik möglich, ein äußerst gleichmäßiges Bild zu erzielen, das einen großen praktischen Nutzen hat.According to the present invention, it is possible to cancel the deviation between the horizontal direction division of the electron beam to be irradiated onto the screen and the phosphor stripe division due to the positional deviation between the phosphor stripe pattern on the screen and the electrode group including the beam modulating electrode, the horizontal focusing electrode, the horizontal deflection electrode and other electrodes. Therefore, by solving the above problem of the prior art, it becomes possible to obtain a highly uniform image which has great practical utility.

Claims

1. A plate-type display device in which electron beams emitted from an electron source (52) are controlled by a modulation electrode (55), a flat horizontal focusing electrode (56) and a flat horizontal deflection electrode (57), each of which has electron beam passage openings arranged therein, and an image is displayed on a screen (59) by irradiating, modulating, deflecting and focusing the electron beams by means of the electrodes (55, 56, 57) onto phosphors (70) applied to the screen, characterized in that the horizontal division of the electron beam passage openings of one of the electrodes (55, 56, 57) is designed to be different from the horizontal divisions of the electron beam passage openings of the other two electrodes, and an electrical potential control device is provided for controlling a potential of one of the electrodes with the different Horizontal division of the electron beam passage openings, whereby the landing position of the electron beams on the screen (59) is controlled by the difference in the horizontal division of the electron beam passage openings of the one of the electrodes and the electric potential control device.

2. A plate-type display device according to claim 1, characterized in that one of the plurality of parallel electrodes is a horizontal deflection electrode (57) and a second of the plurality of parallel electrodes is an electrode (56) adjacent to the one of the plurality of parallel electrodes.

3. A plate-type display device according to claim 2, characterized in that the plurality of parallel electrodes (55, 56, 57) are arranged so that they overlap each other so that electron beam passage openings of the plurality of parallel electrodes corresponding to a predetermined reference position on the screen (59) are aligned coincidentally with each other.

4. Plate-type display device according to claim 3, characterized in that the predetermined reference position is a center position on the screen (59).

5. A panel-type display device according to claim 2, characterized in that the potential difference between the one of the plurality of parallel electrodes and the second electrode (56) is controlled by the electric potential control means in accordance with a beam landing position signal detected by a beam landing position detecting means provided on the screen (59).

6. A plate-type display device according to claim 1, characterized in that the potential difference between the one of the plurality of parallel electrodes and a second electrode is controlled by the electric potential control means in accordance with a temperature detected by a temperature detecting means provided at a portion of the image display device.