DE50001464D1 - Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung - Google Patents

Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung

Info

Publication number
DE50001464D1
DE50001464D1 DE50001464T DE50001464T DE50001464D1 DE 50001464 D1 DE50001464 D1 DE 50001464D1 DE 50001464 T DE50001464 T DE 50001464T DE 50001464 T DE50001464 T DE 50001464T DE 50001464 D1 DE50001464 D1 DE 50001464D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
arrangement
sample
liquid
even flowing
flowing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE50001464T
Other languages
English (en)
Inventor
Daniel Hosten
Helge Schmidt
Michael Schwab
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TE Connectivity Solutions GmbH
Original Assignee
Tyco Electronics Logistics AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tyco Electronics Logistics AG filed Critical Tyco Electronics Logistics AG
Priority to DE50001464T priority Critical patent/DE50001464D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE50001464D1 publication Critical patent/DE50001464D1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D5/00—Electroplating characterised by the process; Pretreatment or after-treatment of workpieces
    • C25D5/08—Electroplating with moving electrolyte e.g. jet electroplating
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D17/00—Constructional parts, or assemblies thereof, of cells for electrolytic coating
    • C25D17/001—Apparatus specially adapted for electrolytic coating of wafers, e.g. semiconductors or solar cells

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Sustainable Development (AREA)
  • Electroplating Methods And Accessories (AREA)
DE50001464T 1999-08-13 2000-08-10 Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung Expired - Fee Related DE50001464D1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE50001464T DE50001464D1 (de) 1999-08-13 2000-08-10 Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19938409A DE19938409C1 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Anordnung zum gleichmäßigen Umströmen einer Oberfläche einer Probe mit Flüssigkeit und Verwendung der Anordnung
DE50001464T DE50001464D1 (de) 1999-08-13 2000-08-10 Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung
PCT/DE2000/002704 WO2001012882A1 (de) 1999-08-13 2000-08-10 Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer einer probe mit flüssigkeit und verwendung der anordnung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE50001464D1 true DE50001464D1 (de) 2003-04-17

Family

ID=7918289

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19938409A Expired - Fee Related DE19938409C1 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Anordnung zum gleichmäßigen Umströmen einer Oberfläche einer Probe mit Flüssigkeit und Verwendung der Anordnung
DE50001464T Expired - Fee Related DE50001464D1 (de) 1999-08-13 2000-08-10 Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19938409A Expired - Fee Related DE19938409C1 (de) 1999-08-13 1999-08-13 Anordnung zum gleichmäßigen Umströmen einer Oberfläche einer Probe mit Flüssigkeit und Verwendung der Anordnung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6949172B1 (de)
EP (1) EP1204786B1 (de)
DE (2) DE19938409C1 (de)
WO (1) WO2001012882A1 (de)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005515580A (ja) * 2002-01-17 2005-05-26 コーニンクレッカ　フィリップス　エレクトロニクス　エヌ　ヴィ 光走査デバイス
WO2004029937A2 (en) 2002-09-27 2004-04-08 Koninklijke Philips Electronics N.V. Optical scanning device
US7374646B2 (en) * 2003-01-31 2008-05-20 Ebara Corporation Electrolytic processing apparatus and substrate processing method
US20050028929A1 (en) * 2003-08-07 2005-02-10 Kenji Furusawa Substrate processing apparatus and method thereof
DE10352708A1 (de) * 2003-11-07 2005-06-09 Würth Elektronik Pforzheim GmbH & Co. KG Verfahren und Vorrichtung zum Galvanisieren
US8707971B2 (en) * 2008-05-16 2014-04-29 Xyratex Corporation Laminated walls for uniform fluid flow

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4696729A (en) * 1986-02-28 1987-09-29 International Business Machines Electroplating cell
JPH0533196A (ja) 1991-07-31 1993-02-09 Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk メツキ装置
JPH0625899A (ja) * 1992-07-10 1994-02-01 Nec Corp 電解メッキ装置
US5597460A (en) 1995-11-13 1997-01-28 Reynolds Tech Fabricators, Inc. Plating cell having laminar flow sparger
EP0854210B1 (de) * 1996-12-19 2002-03-27 Toshiba Ceramics Co., Ltd. Aufdampfungsvorrichtung zur Herstellung von Dünnfilmen
DE29701092U1 (de) * 1997-01-23 1997-03-20 Technotrans GmbH, 48336 Sassenberg Galvanische Abscheidungsvorrichtung
JP3500050B2 (ja) * 1997-09-08 2004-02-23 東京エレクトロン株式会社 不純物除去装置、膜形成方法及び膜形成システム
US6024856A (en) * 1997-10-10 2000-02-15 Enthone-Omi, Inc. Copper metallization of silicon wafers using insoluble anodes
JP2000138168A (ja) * 1998-10-29 2000-05-16 Shin Etsu Handotai Co Ltd 半導体ウェーハ及び気相成長装置
US6539963B1 (en) * 1999-07-14 2003-04-01 Micron Technology, Inc. Pressurized liquid diffuser
US6655829B1 (en) * 2001-05-07 2003-12-02 Uop Llc Static mixer and process for mixing at least two fluids

Also Published As

Publication number Publication date
EP1204786B1 (de) 2003-03-12
EP1204786A1 (de) 2002-05-15
WO2001012882A1 (de) 2001-02-22
DE19938409C1 (de) 2001-03-22
US6949172B1 (en) 2005-09-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE50015973D1 (de) Messgerät mit Seilsonde und Verfahren zum Kürzen der Seilsonde
DE69931520D1 (de) Anordnung zum messen der dicke eines gewebes
DE69932289D1 (de) Sensor und Messgerät mit dessen Nutzung
DE69921895D1 (de) Sondenkalibrierung zum Feststellen der Verschlechterung eines Katalysators
DE69910667D1 (de) Zusammensetzung zum Nachweis eines Mikroorganismus in einer Probe
DE69921872D1 (de) Biosensorelement für Oberflächen-Plasmon-Resonanz-Messungen und dessen Herstellungsverfahren
DE69814198D1 (de) Messverfahren und Messinstrument mit Triggersonde
DE69917434D1 (de) Vorrichtung für das Überprüfen von Dokumenten mit geschichtlicher Speicherung der Aktivitäten des Prüfers
ATE242476T1 (de) Medium zum nachweis von enterococci in einer probe
DE69800636D1 (de) Gerät und System für Bohrlochmessungen nahe dem Bohrer während des Bohrens
DE60014241D1 (de) Befestigungsvorrichtung für eine Laufrolle und Laufrolle mit einer solchen Vorrichtung
DE10082824T1 (de) Adapter zum Steuern einer Meßvorrichtung, eine Meßvorrichtung, eine Steuervorrichtung für eine Meßvorrichtung, ein Verfahren zum Verarbeiten der Messung und ein Aufzeichnungsmedium
DE69921084D1 (de) Zerstörungsfreie Prüfung ( Ultraschall ) mit positiver Rückkopplungsschleife und Filter
DE50002001D1 (de) Anordnung zum verhältnisgleichen Ausbringen von zwei fliessfähigen Substanzen, insbesondere für Dentalzwecke
DE69817225D1 (de) Verfahren und apparat zum messen der temperatur mit einer integrierten schaltungsanordnung
DE50001464D1 (de) Anordnung zum gleichmässigen umströmen einer oberfläche einer probe mit einer flüssigkeit und verwendung der anordnung
DE69622094D1 (de) Anordnung zum Nachrichtenaustausch zwischen zwei Rechnern und Verfahren zur Befehlsausführung unter Verwendung der Anordnung
DE69720647T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Feststellen der Verschlechterung des Betriebs einer Lambda-Sonde mit grossem Messbereich
TR199902675A3 (tr) Sivi maddelerin içinde ölçme islemi için dalgiç ölçme probu
ATE393236T1 (de) Medium zum nachweis bestimmter mikroben in einer probe
DE69901222T2 (de) Verfahren und Anordnung zur Begrenzung der Verwendung einer Anzeigevorrichtung
DE60041106D1 (de) Gerät zum Messen der Sollform einer Linze und Brillenlinze Bearbeitungsvorrichtung mit demselben
DE60004441D1 (de) System zur Sitzreproduzierbarkeit in einem Tastkopf mit einer Doppelverschiebung der Kontaktpunkte
DE69714787D1 (de) Vorrichtung zur sichtbarmachung der strömung eines fluids über eine oberfläche
DE59810428D1 (de) Geschirrspülmaschine mit einer Einrichtung zum Ermitteln des Verschmutzungsgrades einer Spülflüssigkeit

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee