DE4441199A1 - Purifying gases passed into excimer laser chamber - Google Patents

Purifying gases passed into excimer laser chamber

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Abstract

The gases being passed into a laser chamber can be purified by a purifying agent (34) in container(s) (36), linked, in a closed system, to the laser chamber (10) in its housing (12) and the gas reservoir(s) (20) by pressure valves (22) and pipework (24). The purifying agent is located between the reservoir(s) and the laser chamber (10). Also claimed is such an apparatus and method where purifying agent is located in the laser chamber.

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Reinigen von in eine Laserkammer einzuleitenden Gasen. Insbesondere betrifft sie eine Vorrichtung und ein Ver­ fahren zum Reinigen von Gasen, welche in eine Excimer-Laserkam­ mer eingeleitet werden sollen.The present invention relates to a device and a Process for cleaning to be introduced into a laser chamber Gases. In particular, it relates to a device and a ver drive to clean gases that came into an excimer laser should always be initiated.

Im Zusammenhang mit dem Betrieb von Gaslasern ist die Reinheit der verwendeten Gase von höchster Bedeutung. Verunreinigungen eines Lasergases mit Sauerstoff, Stickstoff, Wasser und/oder Kohlendioxid können die Leistung eines Gaslasers sowie die Gas­ lebensdauer deutlich herabsetzen. Eine Verunreinigung eines Lasergases mit Wasser kann darüberhinaus zu einer Korrosion von metallischen Bauteilen des Lasers führen, was eine Zerstörung des Lasers mit sich bringen kann.The purity is related to the operation of gas lasers of the gases used are of paramount importance. Impurities a laser gas with oxygen, nitrogen, water and / or Carbon dioxide can affect the performance of a gas laser as well as the gas significantly reduce service life. Contamination of one Laser gas with water can also cause corrosion of metallic components of the laser lead to destruction of the laser can bring with it.

Verfahren zur Reinigung von Gasen sind seit langem bekannt. Zum Entfernen von Wasser aus Gasen können beispielsweise Molekular­ siebe auf Zeolith-Basis, zum Entfernen von Sauerstoff gegebenen­ falls trägergestütztes Cr₂O₃ eingesetzt werden. Aktivkohle wird zum Entfernen von Kohlenwasserstoffen, Öl, schwefelhaltigen Gasen und Stickoxiden eingesetzt.Processes for cleaning gases have long been known. To the Removing water from gases can be molecular, for example sieves based on zeolite, given to remove oxygen if carrier-supported Cr₂O₃ are used. Activated carbon to remove hydrocarbons, oil, sulphurous Gases and nitrogen oxides used.

Im Betrieb von Gaslasern fanden solche Materialien bislang kei­ ne Verwendung, da man die Reinheit der von der chemischen In­ dustrie zur Verfügung gestellten Reinstgase als ausreichend einschätzte. Zudem sind einige der vorstehend beschriebenen Mittel nicht zum Reinigen von in Gaslasern und insbesondere Excimer-Lasern verwendeten Gasen geeignet. Die hierfür verwen­ deten Gasgemische umfassen neben Edelgasen hochreaktive halogenhaltige Gase, insbesondere HCl oder F₂, welche vom Reinigungsmittel adsorbiert werden oder mit diesem chemisch reagieren.Such materials have so far not been found in the operation of gas lasers ne use, because the purity of the chemical In made available pure gases as sufficient  estimated. In addition, some of those described above Means not for cleaning in gas lasers and in particular Gases used in excimer lasers are suitable. Use them for this The gas mixtures include, in addition to noble gases, highly reactive halogen-containing gases, in particular HCl or F₂, which from Detergents are adsorbed or chemically mixed with it react.

Aufgrund der vorstehend beschriebenen Probleme, die von Verun­ reinigungen im Lasergas hervorgerufen werden können, hat es sich als vorteilhaft erwiesen, die von der Industrie geliefer­ ten Gase vor einem Einleiten in einen Laser nachzureinigen, um ein Einleiten verunreinigter Gase in den Laser sicher zu ver­ meiden. Verunreinigungen der Gase können aufgrund von Qualitäts­ schwankungen beim Hersteller, während einer längeren Lagerzeit der Gasvorratsbehälter oder auch während des Betriebs durch unsachgemäße Handhabung oder Leckagen der Vorratsbehälter und der anschließenden Rohrleitungen auftreten.Due to the problems described by Verun it can cause cleaning in the laser gas proved to be beneficial to those supplied by industry gases after being introduced into a laser in order to to ensure that contaminated gases are introduced into the laser avoid. Impurities in the gases can be due to quality fluctuations at the manufacturer during a longer storage period the gas storage container or even during operation improper handling or leakage of the storage container and of the subsequent pipes.

Es ist Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Vorrichtung und ein Verfahren bereitzustellen, durch welche die Lebensdauer von Lasergasen, insbesondere bei einem Excimerlaser, und auch die Lebensdauer der Laserkomponenten verlängert wird.It is an object of the present invention, a device and to provide a method by which the life of Laser gases, especially with an excimer laser, and also the The life of the laser components is extended.

Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe wird durch die in den unabhängigen Ansprüchen beschriebene Vorrichtung bzw. das Verfahren gelöst.The object underlying the invention is achieved by the in the device described in the independent claims or Procedure solved.

Die vorliegende Erfindung umfaßt eine Vorrichtung zum Reinigen von in eine Laserkammer einzuleitenden Gasen, umfassend mindes­ tens ein Mittel zum Reinigen der Gase, welches in mindestens einem Behälter angeordnet ist und welches über Rohrleitungen mit einem geschlossenen System in Verbindung steht, welches ein Lasergehäuse, eine darin angeordnete Laserkammer und mindestens einen Vorratsbehälter für mindestens eines der Gase umfaßt, wobei der mindestens eine Vorratsbehälter mit dem Lasergehäuse und der Laserkammer über durch Druckventile freizugebende Rohr­ leitungen in Verbindung steht, welches sich dadurch auszeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase zwischen dem mindestens einen Vorratsbehälter und der Laserkammer ange­ ordnet ist.The present invention includes an apparatus for cleaning of gases to be introduced into a laser chamber, comprising at least tens a means for cleaning the gases, which in at least a container is arranged and which via pipes is connected to a closed system, which is a Laser housing, a laser chamber arranged therein and at least comprises a storage container for at least one of the gases,  wherein the at least one storage container with the laser housing and the laser chamber via pipe to be released by pressure valves lines connected, which is characterized by that the at least one means for cleaning the gases between the at least one reservoir and the laser chamber is arranged.

In einer bevorzugten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vor­ richtung ist das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase zwischen dem mindestens einen Vorratsbehälter und dem Laserge­ häuse unmittelbar vor dem Lasergehäuse angeordnet.In a preferred embodiment of the invention direction is the at least one means of cleaning the gases between the at least one storage container and the laserge housing immediately in front of the laser housing.

In einer alternativen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase innerhalb des Lasergehäuses angeordnet.In an alternative embodiment of the invention The device is the at least one means for cleaning the Gases arranged inside the laser housing.

In einer anderen abgewandelten Ausführungsform der erfindungsge­ mäßen Vorrichtung ist das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase direkt in der Laserkammer (Gasentladungskammer) des Lasers angeordnet.In another modified embodiment of the fiction The device is at least one means of cleaning of the gases directly in the laser chamber (gas discharge chamber) of the Lasers arranged.

Bei den genannten Varianten ist die erfindungsgemäße Vorrichtung bevorzugt, beispielsweise mittels Flanschen oder anderen lösbaren Verbindungsmitteln, so installiert, daß sie im Rahmen von Wartungs­ arbeiten leicht ausgetauscht werden kann. Darüberhinaus ist das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase in dem Behälter vorzugsweise so angeordnet, daß eine Regenerierung des mindestens einen Mittels im Behälter erfolgen kann.In the variants mentioned, the device according to the invention preferred, for example by means of flanges or other detachable Lanyards installed so that they can be used for maintenance work can be easily exchanged. Furthermore, that is at least one means for cleaning the gases in the container preferably arranged so that a regeneration of the at least an agent can be done in the container.

Die erfindungsgemäße Vorrichtung umfaßt ferner eine Ausfüh­ rungsform, in welcher Vorrichtungen zum Reinigen der Gase in Verbindung stehen mit Vorratsgefäßen von einzelnen Komponenten des Lasergasgemisches, welche erst nach einem Durchströmen der Vorrichtungen zum fertigen Lasergasgemisch vermischt wer­ den. Dadurch können für eine Reinigung der Einzelbestandteile geeignete Mittel verwendet werden, welche für andere Bestand­ teile des Gasgemisches nicht geeignet sind. The device according to the invention further comprises an embodiment tion form in which devices for cleaning the gases in Connected to storage vessels of individual components of the laser gas mixture, which only after flowing through who mixes the devices into the finished laser gas mixture the. This can be used for cleaning the individual components suitable means are used, which for other inventory parts of the gas mixture are not suitable.  

Die vorliegende Erfindung umfaßt gleichfalls ein Verfahren zum Reinigen von in eine Laserkammer einzuleitenden Gasen, welches sich dadurch auszeichnet, daß mindestens ein Gas vor Einströmen in die Laserkammer durch mindestens ein Mittel zum Reinigen des Gases geleitet wird.The present invention also includes a method for Cleaning gases to be introduced into a laser chamber, which is characterized in that at least one gas before inflow into the laser chamber by at least one means for cleaning the Gases is conducted.

In einer Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird das mindestens eine Gas innerhalb des Lasergehäuses vor dem Einströmen in die Laserkammer durch das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase geleitet.In one embodiment of the method according to the invention the at least one gas inside the laser housing in front of the Inflow into the laser chamber through the at least one means directed to cleaning the gases.

Durch die erfindungsgemäße Vorrichtung und das erfindungsgemäße Verfahren können so auch Verunreinigungen, welche erst nach dem Austreten des Gases aus den Vorratsbehältern beispielsweise aufgrund von Handhabungsfehlern an den Behältern, Druckventilen oder Rohrleitungen oder auch im Zuge eines Auswechselns der Vorratsbehälter in das Lasergas eindiffundiert sind, noch vor dem Einströmen des Gases in das Lasergehäuse bzw. vor dem Ein­ strömen des Gases in die Laserkammer aus diesem entfernt wer­ den.By the device according to the invention and the inventive In this way, the process can also remove impurities which only occur after Escaping the gas from the storage containers, for example due to handling errors on the containers, pressure valves or pipelines or also in the course of replacing the Reservoir into which laser gas is diffused, still before the inflow of the gas into the laser housing or before the on flow of gas into the laser chamber which is removed from it the.

In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind zwei oder mehrere Mittel zum Reinigen der Gase so angeordnet, daß sie von dem bzw. den Gasen nacheinander durchströmt werden. Hierzu können die Mittel zum Reinigen der Gase beispielsweise innerhalb eines Behälters in Schichten angeordnet sein; es ist jedoch gleichfalls möglich zwei oder mehrere, jeweils ein Mit­ tel umfassende erfindungsgemäße Vorrichtungen hintereinander anzuordnen.In a preferred embodiment of the invention there are two or several means for purifying the gases arranged so that they are flowed through one after the other by the gases. For this purpose, the means for cleaning the gases can, for example be arranged in layers within a container; it is however, it is also possible to have two or more, one with each tel comprehensive devices according to the invention in a row to arrange.

In einer besonders bevorzugten Ausführungsform ist ferner vorge­ sehen, aus einer Mehrzahl in eine Laserkammer einzuleitender Gase einzelne Gase oder Gasgemische getrennt voneinander durch jeweils mindestens ein Mittel zum Reinigen der Gase zu leiten. Die Gase werden in diesem Falle erst nach einem getrennten Durch­ strömen der erfindungsgemäßen Vorrichtungen zum vollständigen Lasergasgemisch vereinigt. Auf diese Weise ist es möglich, opti­ male Mittel zum Reinigen einzelner Lasergaskomponenten einzusetzen, ohne auf die Verträglichkeit dieser Mittel mit weiteren Bestand­ teilen des Lasergasgemisches Rücksicht nehmen zu müssen.In a particularly preferred embodiment, it is also provided see from a plurality to be introduced into a laser chamber Gases separate gases or gas mixtures separately from each other to conduct at least one means for cleaning the gases. In this case, the gases are only after a separate through flow the devices of the invention to complete Laser gas mixture combined. In this way it is possible to opti  male means to clean individual laser gas components, without affecting the compatibility of these funds with further inventory parts of the laser gas mixture.

Es ist in diesem Zusammenhang auch möglich, nur einen Teil der in die Laserkammer einzuleitenden Gase mittels der erfindungs­ gemäßen Vorrichtung bzw. mittels des erfindungsgemäßen Verfah­ rens zu reinigen und weitere Gase ohne zusätzliche Reinigung bzw. nach einer andersartigen Reinigung zu verwenden.In this context, it is also possible to use only part of the gases to be introduced into the laser chamber by means of the invention according device or by means of the inventive method rens to clean and other gases without additional cleaning or after a different type of cleaning.

Ferner wird das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase bevorzugt mit einem chemisch und physikalisch inerten Füllstoff vermischt verwendet. Dadurch kann ein Zusammenklumpen oder eine Verdichtung des Mittels verhindert werden, so daß sicherge­ stellt wird, daß das Mittel mit einer großen aktiven Oberfläche für einen Kontakt mit den zu reinigenden Gasen zur Verfügung steht. Aufgrund der verlängerten Wegstrecke, die das Gas über dem Mittel zurückzulegen hat, wird ferner eine lange Kontakt­ zeit mit dem Mittel gewährleistet.Furthermore, the at least one means for purifying the gases preferably with a chemically and physically inert filler mixed used. This can cause a clump or a Compaction of the agent can be prevented, so that sichge is that the agent has a large active surface available for contact with the gases to be cleaned stands. Due to the extended distance that the gas passes The agent has to travel a long time guaranteed time with the medium.

In bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung umfaßt das Mittel zum Reinigen der Gase ein Trockenmittel, ein Adsorp­ tionsmittel und/oder eine mit Verunreinigungen in den Gasen reagierende Verbindung bzw. eine Mischung oder Kombination solcher Materialien.In preferred embodiments of the invention, this includes Means for cleaning the gases a desiccant, an adsorb agent and / or with impurities in the gases reacting compound or a mixture or combination of such materials.

Im Rahmen der Erfindung bevorzugt als Mittel zum Reinigen der Gase verwendete Trockenmittel umfassen insbesondere P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphe Kieselsäure, ein oder mehrere Molekularsiebe auf Basis von Zeolithen oder Mischungen dieser Stoffe.In the context of the invention preferably as a means for cleaning the Desiccants used include in particular P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphous silica, one or more Molecular sieves based on zeolites or mixtures of these Fabrics.

Als Mittel zum Reinigen der Gase bevorzugt eingesetzte Adsorp­ tionsmittel umfassen insbesondere Aktivkohle und NaF, und eine bevorzugte, mit Sauerstoffin den Gasen reagierende Verbindung ist Cr₂O₃. Adsorb used preferably as a means for purifying the gases tion agents include in particular activated carbon and NaF, and a preferred compound reacting with oxygen in the gases is Cr₂O₃.  

Die vorstehend genannten Mittel zum Reinigen der Gase sind nicht in gleicher Weise für sämtliche Bestandteile des Laser­ gasgemisches geeignet. Für eine Reinigung von Edelgasen oder -gasgemischen können sämtliche vorstehend aufgeführte Mittel verwendet werden. Für eine Entfernung von Wasser aus dem hoch­ reaktiven Lasergasbestandteil HCl sind beispielsweise amorphe Kieselsäure sowie Molekularsiebe auf Basis von Zeolithen, aber auch Verbindungen, wie CuCl₂, AlCl₃ und CaCl₂ geeignet.The above-mentioned means for purifying the gases are not in the same way for all components of the laser suitable gas mixture. For cleaning noble gases or -gas mixtures can do all of the above be used. For a removal of water from the high reactive HCl laser gas components are, for example, amorphous Silica and molecular sieves based on zeolites, however also compounds such as CuCl₂, AlCl₃ and CaCl₂ are suitable.

Die vorstehend näher bezeichneten Mittel zum Reinigen von in eine Laserkammer einzuleitenden Gasen können hierbei in kommer­ ziell erhältlichen Qualitäten oder, falls erforderlich, auch durch eine zusätzliche, an sich bekannte Vorbehandlung akti­ viert bzw. modifiziert verwendet werden. Hierzu zählt beispiels­ weise eine vor Verwendung erfolgende Erwärmung von Molekular­ sieben im Vakuum, um möglicherweise darin enthaltene Wasserspu­ ren zu entfernen. Soll Aktivkohle zur Beseitigung organischer oder schwefelhaltiger Verunreinigungen in HCl umfassenden Gasen verwendet werden, wird diese üblicherweise vorab mit HCl behan­ delt, um die Oberfläche hinsichtlich HCl abzusättigen und eine weitere Adsorption von HCl aus dem Lasergas während des Be­ triebs der erfindungsgemäßen Vorrichtung zu verhindern.The above-specified means for cleaning in gases to be introduced into a laser chamber can be used in this case target qualities or, if necessary, also through an additional, known pretreatment acti fourth or modified. This includes, for example as a pre-use molecular heating seven in a vacuum to possibly contain water spoil remove. Is intended to remove activated carbon from organic or sulfur-containing impurities in gases containing HCl are used, this is usually treated with HCl beforehand delt to saturate the surface with HCl and a further adsorption of HCl from the laser gas during loading drive to prevent the device according to the invention.

In einer bevorzugten Ausführungsform werden ferner auch bereits erfindungsgemäß eingesetzte und anschließend durch geeignete, dem Fachmann bekannte Maßnahmen regenerierte Mittel in der erfindungsgemäßen Vorrichtung bzw. für das erfindungsgemäße Verfahren verwendet.In a preferred embodiment are also already used according to the invention and then by suitable measures known to the person skilled in the art regenerated agents in the device according to the invention or for the invention Procedure used.

Die vorliegende Erfindung wird in einer bevorzugten Ausführungs­ form im Folgenden anhand einer Figur näher erläutert.The present invention is in a preferred embodiment form explained below with reference to a figure.

Die anliegende Figur ist nur eine schematische Ansicht eines Excimerlasers mit einer Gasversorgung, in welchem erfindungs­ gemäße Vorrichtungen zum Reinigen von in den Laser einzuleiten­ den Gasen vorgesehen sind. The attached figure is only a schematic view of one Excimer lasers with a gas supply, in which fiction initiate appropriate devices for cleaning in the laser the gases are provided.  

In der Figur ist eine Laseranordnung gezeigt, umfassend eine Laserkammer 10, ein die Laserkammer 10 umgebendes Lasergehäuse 12 und zwei Vorratsbehälter 20a, 20b, welche in den Laser ein­ zuleitende Gase enthalten. Die Vorratsbehälter 20a, 20b sind mit der Laserkammer 10 über durch Druckventile 22a, 22b frei­ zugebende Rohrleitungen eines Rohrleitungssystems 24 verbunden.In the figure, a laser arrangement is shown, comprising a laser chamber 10 , a laser housing 12 surrounding the laser chamber 10 and two storage containers 20 a, 20 b, which contain a gas to be fed into the laser. The storage containers 20 a, 20 b are connected to the laser chamber 10 via pipes of a pipe system 24 to be released by pressure valves 22 a, 22 b.

Einer der Vorratsbehälter 20a enthält in der vorliegenden Aus­ führungsform ein Edelgasgemisch, welches hier Helium, Neon und Xenon umfaßt, der andere Vorratsbehälter 20b umfaßt ein Halogen oder ein halogenhaltiges Gas, welches beim hier beschriebenen Ausführungsbeispiel Helium und Chlorwasserstoff in einem Volumenverhältnis von 95 : 5 umfaßt. Die aus den Vorrats­ behältern 20a, 20b mit einem Druck von 200 atm angelieferten Gasgemische werden mittels der Druckventile 22a, 22b mit einem Druck von beispielsweise jeweils 0,5 bis 5 bar zu der Laserkammer 10 weitergeleitet.One of the storage containers 20 a contains, in the present embodiment, a noble gas mixture which here comprises helium, neon and xenon, the other storage container 20 b comprises a halogen or a halogen-containing gas which, in the exemplary embodiment described here, contains helium and hydrogen chloride in a volume ratio of 95: 5 includes. The gas mixtures supplied from the storage containers 20 a, 20 b with a pressure of 200 atm are passed on to the laser chamber 10 by means of the pressure valves 22 a, 22 b with a pressure of, for example, 0.5 to 5 bar each.

Im vorliegenden Ausführungsbeispiel sind drei erfindungsgemäße Vorrichtungen 30a-c zum Reinigen der in die Laserkammer 10 ein­ zuleitenden Gase zwischen dem Druckventil 22a und der Laserkam­ mer 10 innerhalb des Lasergehäuses 12 so angeordnet, daß diese nacheinander vom Edelgasgemisch aus dem Vorratsbehälter 20a durchströmt werden; zwischen dem Druckventil 22b und der Laser­ kammer 10 ist eine erfindungsgemäße Vorrichtung 30d vorgesehen. Die erfindungsgemäßen Vorrichtungen 30a-d sind hierbei bevor­ zugt möglichst nahe an der Laserkammer 10, d. h. mit einer mög­ lichst kurzen Rohrverbindung zwischen den Vorrichtungen 30 und der Laserkammer 10 vorgesehen.In the present embodiment, three devices 30 a-c according to the invention for cleaning the incoming gases into the laser chamber 10 between the pressure valve 22 a and the Laserkam mer 10 are arranged within the laser housing 12 so that these are successively flowed through by the noble gas mixture from the reservoir 20 a; A device 30 d according to the invention is provided between the pressure valve 22 b and the laser chamber 10 . The devices 30 a-d according to the invention are provided before as close as possible to the laser chamber 10 , that is to say with the shortest possible pipe connection between the devices 30 and the laser chamber 10 .

Die erfindungsgemäßen Vorrichtungen 30a-d sind mittels Flan­ schen 32a-d oder anderen leicht lösbaren Verbindungen, wie Dicht­ ringverschraubungen oder O-Ring-Dichtungen, in die Rohrleitungs­ verbindungen zwischen den Druckventilen 22a, 22b und der La­ serkammer 10 eingebaut, so daß erfindungsgemäße Vorrichtungen 30 beispielsweise bei einem erforderlichen Austausch leicht aus- und wieder eingebaut werden können.The devices 30 a-d are by means of flanges 32 a-d or other easily releasable connections, such as sealing ring fittings or O-ring seals, in the pipeline connections between the pressure valves 22 a, 22 b and the laser chamber 10 , so that devices according to the invention 30 can be easily removed and reinstalled, for example, when replacement is required.

Nach einem Durchströmen der erfindungsgemäßen Vorrichtungen 30a-c sowie 30d, welches eine Reinigung der Gase bewirkt, wer­ den die beiden gereinigten Gasgemische mittels Druckventilen 22c, 22d in eine gemeinsame Rohrleitung zusammengeführt und über ein weiteres Druckventil 22e der Laserkammer 10 zuge­ leitet.After flowing through the devices 30 a-c and 30 d according to the invention, which causes a cleaning of the gases, who merges the two cleaned gas mixtures by means of pressure valves 22 c, 22 d into a common pipeline and via a further pressure valve 22 e to the laser chamber 10 .

Die erfindungsgemäßen Vorrichtungen 30 zum Reinigen der in die Laserkammer 10 einzuleitenden Gase umfassen mindestens ein Mit­ tel 34, welches durch chemische oder physikalische Wirkung dem zu reinigenden Gas Verunreinigungen entziehen soll, in einem druckdichten Behälter 36.The devices 30 according to the invention for cleaning the gases to be introduced into the laser chamber 10 comprise at least one means 34 , which is intended to remove impurities from the gas to be cleaned by chemical or physical action, in a pressure-tight container 36 .

Als Mittel zum Reinigen der Gase 34a-c sind im Behälter 36a der erfindungsgemäßen Vorrichtung 30a Aktivkohle, im Behälter 36b der erfindungsgemäßen Vorrichtung 30b P₂O₅ und im Behälter 36c der erfindungsgemäßen Vorrichtung 30c Cr₂O₃ vorgesehen, welche in dieser Reihenfolge vom Gasgemisch durchströmt werden. Auf diese Weise werden dem Edelgasgemisch nacheinander organische Verbindungen, schwefelhaltige Gase und Stickoxide mittels Aktiv­ kohle, Wasser mittels P₂O₅ sowie Sauerstoff mittels Cr₂O₃ ent­ zogen.As a means for cleaning the gases 34 a-c are in the container 36 a of the device 30 a activated carbon, in the container 36 b of the device 30 b P₂O₅ and in the container 36 c of the device 30 c Cr₂O₃ provided, which flows through the gas mixture in this order become. In this way, the noble gas mixture are successively organic compounds, sulfur-containing gases and nitrogen oxides by means of activated carbon, water by means of P₂O₅ and oxygen by means of Cr₂O₃ ent.

Im Behälter 36d der erfindungsgemäßen Vorrichtung 30d ist als Mittel 34d zum Reinigen des HCl enthaltenden Gasgemischs amor­ phe Kieselsäure vorgesehen, welche dem Gasgemisch Verunreini­ gungen in Form von Wasser entziehen soll.In the container 36 d of the device 30 d according to the invention, as a means 34 d for cleaning the HCl-containing gas mixture, amorphous silica is provided, which is intended to remove impurities in the form of water from the gas mixture.

Wird für einen Laserbetrieb mit F₂ als Halogenkomponente ein F₂ enthaltendes Gasgemisch verwendet, bestehen aufgrund dessen Reaktivität nur begrenzte Möglichkeiten zum Reinigen desselben. Als Mittel 34d zum Reinigen eines F₂ umfassenden Gasgemischs können beispielsweise NaF oder Aktivkohle zum Entfernen organi­ scher und schwefelhaltiger Verunreinigungen verwendet werden; Aktivkohle muß jedoch durch zusätzliche Maßnahmen auf der Tempe­ ratur flüssigen Stickstoffs gehalten werden, um eine Zersetzung derselben durch das aggressive F₂-Gas zu vermeiden. Es besteht ferner die Möglichkeit, Verunreinigungen mittels auf die Tempe­ ratur von flüssigem Stickstoff gekühlten Kühlfingern auszufrie­ ren, durch welche die zu reinigenden Gase geleitet werden, wie beispielsweise in den deutschen Gebrauchsmustern G 90 07 389.4 und G 90 07 390.8 beschrieben.If a gas mixture containing F₂ is used for a laser operation with F₂ as a halogen component, there are only limited possibilities for cleaning the same due to its reactivity. As a means 34 d for cleaning an F₂ comprising gas mixture, for example NaF or activated carbon can be used to remove organic and sulfur-containing impurities; Activated carbon must, however, be kept at the liquid nitrogen temperature by means of additional measures in order to avoid decomposition of the same by the aggressive F₂ gas. There is also the possibility of frying out contaminants by means of cooling fingers cooled to the temperature of liquid nitrogen, through which the gases to be cleaned are passed, as described, for example, in German utility models G 90 07 389.4 and G 90 07 390.8.

Claims (19)

1. Vorrichtung zum Reinigen von in eine Laserkammer (10) ein­ zuleitenden Gasen, umfassend mindestens ein Mittel (34) zum Reinigen der Gase, welches in mindestens einem Behälter (36) angeordnet ist und welches über Rohrleitungen (24) mit einem geschlossenen System in Verbindung steht, welches ein Lasergehäuse (12), eine darin angeordnete Laserkammer (10) und mindestens einen Vorratsbehäl­ ter (20) für mindestens eines der Gase umfaßt, wobei der mindes­ tens eine Vorratsbehälter (20) mit der Laserkammer (10) über durch Druckventile (22) freizugebende Rohrleitungen (24) in Verbindung steht, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase (34) zwi­ schen dem mindestens einen Vorratsbehälter (20) und der Laser­ kammer (10) angeordnet ist.1. Device for cleaning gases to be fed into a laser chamber ( 10 ), comprising at least one means ( 34 ) for cleaning the gases, which is arranged in at least one container ( 36 ) and which is connected via pipes ( 24 ) with a closed system Connection is made which comprises a laser housing ( 12 ), a laser chamber ( 10 ) arranged therein and at least one storage container ( 20 ) for at least one of the gases, the at least one storage container ( 20 ) with the laser chamber ( 10 ) via pressure valves ( 22 ) pipes ( 24 ) to be released are connected, characterized in that the at least one means for cleaning the gases ( 34 ) is arranged between the at least one storage container ( 20 ) and the laser chamber ( 10 ). 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase (34) zwischen dem mindestens einen Vorratsbehälter (20) und dem Lasergehäuse (12) unmittelbar vor dem Lasergehäuse (12) angeordnet ist.2. Device according to claim 1, characterized in that the at least one reservoir (20) and the laser housing (12) is arranged directly in front of the laser housing (12) at least one means for cleaning the gases (34) between. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase (34) inner­ halb des Lasergehäuses (12) angeordnet ist. 3. Apparatus according to claim 1, characterized in that the at least one means for cleaning the gases ( 34 ) is arranged within half of the laser housing ( 12 ). 4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß zwei oder mehrere Mittel zum Reinigen der Gase (32) so angeordnet sind, daß sie von den Gasen nacheinander durchströmt werden.4. Device according to one of claims 1 to 3, characterized in that two or more means for cleaning the gases ( 32 ) are arranged so that the gases flow through them one after the other. 5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase (32) mit einem chemisch und physikalisch inerten Füllstoff vermischt ist.5. Device according to one of claims 1 to 4, characterized in that the at least one means for cleaning the gases ( 32 ) is mixed with a chemically and physically inert filler. 6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Mittel zum Reinigen der Gase (32) ein Trockenmittel und/oder ein Adsorptionsmittel und/oder eine mit Verunreini­ gungen in den Gasen reagierende Verbindung ist.6. Device according to one of claims 1 to 5, characterized in that the means for cleaning the gases ( 32 ) is a desiccant and / or an adsorbent and / or a compound reacting with impurities in the gases. 7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß das als Mittel zum Reinigen der Gase (32) eingesetzte Trok­ kenmittel P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphe Kieselsäure, ein oder mehrere Molekularsiebe auf Basis von Zeolithen oder eine Mischung derselben ist.7. The device according to claim 6, characterized in that the Trok kenmittel used as a means for purifying the gases ( 32 ) P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphous silica, one or more molecular sieves based on zeolites or a mixture thereof. 8. Vorrichtung nach Anspruch 6 oder 7, dadurch gekennzeichnet, daß das als Mittel zum Reinigen der Gase (32) eingesetzte Ad­ sorptionsmittel Aktivkohle und/oder NaF ist.8. The device according to claim 6 or 7, characterized in that the ad sorbent used as a means for cleaning the gases ( 32 ) is activated carbon and / or NaF. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 6 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß die mit Verunreinigungen in den Gasen reagierende Verbin­ dung Cr₂O₃ ist. 9. Device according to one of claims 6 to 8, characterized, that the compound reacting with impurities in the gases dung is Cr₂O₃.   10. Vorrichtung zum Reinigen von in eine Laserkammer einzulei­ tenden Gasen, umfassend mindestens ein Mittel zum Reinigen der Gase, welches in mindestens einem Behälter angeordnet ist und welches über Rohrleitungen mit einem geschlossenen System in Verbindung steht, welches ein Lasergehäuse, eine darin angeordnete Laserkammer und mindestens einen Vorratsbehälter für mindestens eines der Gase umfaßt, wobei der mindestens eine Vorratsbehälter mit der Laserkammer über durch Druckventile freizugebende Rohrleitungen in Verbindung steht, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase in der Laserkammer (10) angeordnet ist.10. Device for cleaning gases to be introduced into a laser chamber, comprising at least one means for cleaning the gases, which is arranged in at least one container and which is connected via pipes to a closed system which has a laser housing, a laser chamber arranged therein and comprises at least one storage container for at least one of the gases, the at least one storage container being connected to the laser chamber via pipes to be released by pressure valves, characterized in that the at least one means for cleaning the gases is arranged in the laser chamber ( 10 ). 11. Verfahren zum Reinigen von in eine Laserkammer einzulei­ tenden Gasen, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens ein Gas vor Einströmen in die Laserkammer durch mindestens ein Mittel zum Reinigen des Gases geleitet wird.11. Procedure for cleaning into a laser chamber tendency gases, characterized, that at least one gas before flowing into the laser chamber at least one means for purifying the gas is passed. 12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß aus einer Mehrzahl in eine Laserkammer einzuleitender Gase einzelne Gase oder Gasgemische getrennt voneinander durch je­ weils mindestens ein Mittel zum Reinigen der Gase geleitet wer­ den.12. The method according to claim 11, characterized, that from a plurality of gases to be introduced into a laser chamber individual gases or gas mixtures separated from each other by because at least one means for purifying the gases is directed the. 13. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Gas vor Einströmen in die Laserkammer innerhalb eines die Laserkammer umgebenden Lasergehäuses durch das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase geleitet wird.13. The method according to claim 11 or 12, characterized, that the at least one gas before flowing into the laser chamber within a laser housing surrounding the laser chamber the at least one means for cleaning the gases is passed. 14. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 13, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Gas durch zwei oder mehr so angeordnete Mittel zum Reinigen der Gase geleitet wird, daß diese von dem oder den Gasen nacheinander durchströmt werden. 14. The method according to any one of claims 11 to 13, characterized, that the at least one gas is so arranged by two or more Means for purifying the gases is directed that this from the or the gases are flowed through in succession.   15. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 14, dadurch gekennzeichnet, daß das mindestens eine Mittel zum Reinigen der Gase mit einem chemisch und physikalisch inerten Füllstoff vermischt verwendet wird.15. The method according to any one of claims 11 to 14, characterized, that the at least one means for cleaning the gases with a mixed chemically and physically inert filler used becomes. 16. Verfahren nach einem der Ansprüche 11 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß als Mittel zum Reinigen der Gase ein Trockenmittel und/oder ein Adsorptionsmittel und/oder eine mit Verunreinigungen in den Gasen reagierende Verbindung verwendet wird.16. The method according to any one of claims 11 to 15, characterized, that a desiccant and / or as a means for cleaning the gases an adsorbent and / or with impurities in the Gas reacting compound is used. 17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß als das als Mittel zum Reinigen der Gase eingesetzte Troc­ kenmittel P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphe Kieselsäure, ein oder mehrere Molekularsiebe auf Basis von Zeolithen oder Mischungen dieser Stoffe verwendet werden.17. The method according to claim 16, characterized, that as the Troc used as a means for purifying the gases kenmittel P₂O₅, CuCl₂, AlCl₃, CaCl₂, amorphous silica, a or several molecular sieves based on zeolites or Mixtures of these substances can be used. 18. Verfahren nach Anspruch 16 oder 17, dadurch gekennzeichnet, daß als das als Mittel zum Reinigen der Gase eingesetzte Adsorptionsmittel Aktivkohle und/oder NaF verwendet werden.18. The method according to claim 16 or 17, characterized, that used as the means for purifying the gases Adsorbent activated carbon and / or NaF can be used. 19. Verfahren nach einem der Ansprüche 16 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß als mit Verunreinigungen in den Gasen reagierende Verbin­ dung Cr₂O₃ verwendet wird.19. The method according to any one of claims 16 to 18, characterized, that as a compound reacting with impurities in the gases dung Cr₂O₃ is used.
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