DE4435043B4 - Method of making a miniature electrostatic lens - Google Patents

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Abstract

Verfahren zur Herstellung einer elektrostatischen Miniaturlinse mit in mehreren Ebenen liegenden elektrostatischen Blenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Blenden aus leitfähigen Deponatstrukturen (1, 2, 3, 1', 2', 3') bestehen, die mit Hilfe von korpuskularstrahl-induzierter Depositions-Lithographie auf in Planartechnik lithographisch auf einem isolierenden Substrat erzeugten Spannungszuführungen (4, 5, 6) aufgebaut sind, wobei die Blenden (1, 2, 3, 1', 2', 3') kreisförmig oder polygonförmig hergestellt werden.method for making a miniature electrostatic lens with in several Plane lying electrostatic diaphragms, characterized in that the diaphragms made of conductive Deponate structures (1, 2, 3, 1 ', 2', 3 ') exist, with the help from particle beam-induced deposition lithography to in Planar technique lithographically generated on an insulating substrate voltage supplies (4, 5, 6) are constructed, wherein the apertures (1, 2, 3, 1 ', 2', 3 ') circular or made in polygonal shape become.

Figure 00000001
Figure 00000001

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer elektrostatischen Miniaturlinse mit in mehreren Ebenen liegenden elektrostatischen Blenden.The The invention relates to a method for producing an electrostatic Miniature lens with multi-level electrostatic Dazzle.

Bekannte elektrostatische Miniaturlinsen sind aus runden Öffnungen in Metallplatten (Blenden) mit dazwischenliegenden Isolatoren aufgebaut. Derartige bekannte Linsen sind beispielsweise in dem Buch W. Glaser, "Grundlagen der Elektronenoptik", Springer Verlag Wien, 1952 beschrieben. Anwendungen derartiger Miniaturlinsen finden sich in der Mikroelektronik beispielsweise als Immersionslinse in Elektronenstrahlquellen-Bausteinen und Elektronenröhren.Known Electrostatic miniature lenses are made of round openings in metal plates (screens) with built in between insulators. Such known lenses are, for example, in the book W. Glaser, "Fundamentals of Electron Optics", Springer Verlag Vienna, 1952 described. Find applications of such miniature lenses in microelectronics, for example, as an immersion lens in electron beam source devices and electron tubes.

Die DE 44 16 597 A1 beschreibt ein Verfahren zur Herstellung der Bildpunkt-Strahlungsquellen für flache Farb-Bildschirme. Hierbei wird eine Mehrzahl mikrominiaturisierter Elektronenstrahl-Emittersysteme mit Fokussier-Elektroden auf einem mit Leiterbahnen konventionell strukturierten Grundmaterial durch Deposition aufgebracht. Die aus diesen Strahlformungssystemen austretenden Elektronenstrahlen werden beschleunigt und auf das Target fokussiert. Die Beschleunigungslinse besteht aus Elektronen-Emitter-Elektrode, Mittelelektrode mit Lochraster und Target-Elektrode, auf der die Bildpunkte aus Drähten parallel aufgebaut werden. Die Fokussierung wird mittels Sekundärstrahlungs-Detektoren auf der Mittelelektrode kontrolliert. Das Rastern der Bildpunkte wird durch die Fokussierelektroden geführt. Das Target befindet sich auf einem mechanischen Verschiebungsmechanismus für feine und grobe Rasterverschiebung.The DE 44 16 597 A1 describes a method for making the pixel radiation sources for flat color screens. In this case, a plurality of microminiaturized electron beam emitter systems with focusing electrodes are deposited on a base material conventionally structured with conductor tracks by deposition. The electron beams emerging from these beam forming systems are accelerated and focused on the target. The accelerating lens consists of electron emitter electrode, center electrode with hole grid and target electrode on which the pixels are built up of wires in parallel. The focus is controlled by means of secondary radiation detectors on the center electrode. The rasterization of the pixels is guided by the focusing electrodes. The target is on a mechanical displacement mechanism for fine and coarse grid shift.

Die Druckschrift EP 0571 727 A1 beschreibt ein Ionenstrahlgerät, das zur Herstellung der Drähte auf den Leiterbahnstrukturen einsetzbar wäre und welches in der DE 44 16 597 A1 als Stand der Technik zugrundegelegt ist.The publication EP 0571 727 A1 describes an ion beam device which could be used for the production of the wires on the conductor track structures and which in the DE 44 16 597 A1 as state of the art is based.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zu schaffen, welches eine verbesserte Miniaturlinse der eingangs genannten Art liefert.Of the Invention has for its object to provide a method which is an improved miniature lens of the type mentioned supplies.

Diese Aufgabe wird bei der erfindungsgemäßen Miniaturlinse dadurch gelöst, daß die Blenden aus leitfähigen Deponatstrukturen bestehen, die mit Hilfe von korpuskularstrahl-induzierter Depositions-Lithographie auf in Planartechnik lithographisch auf einem isolierenden Substrat erzeugten Spannungszuführungen aufgebaut sind.These Task is solved in the miniature lens according to the invention characterized in that the aperture conductive Deponate structures exist by means of corpuscular-induced Deposition lithography on in planographic technique lithographically an electrical substrate generated voltage supplies are constructed.

Erfindungsgemäß ist vorgesehen, daß die Blenden kreisförmig oder polygonförmig hergestellt sind. Bei letzterem hat sich herausgestellt, daß die Abweichung von der Kreisform keinen negativen Einfluß auf den mittleren Bereich der Blende und damit auf den Strahl hat.According to the invention, it is provided that the apertures circular or polygonal are made. In the latter case, it has been found that the deviation from the circular shape no negative influence on the middle area the aperture and thus on the beam has.

Durch die Herstellung der Blenden durch korpuskularstrahl-induzierter Depositions-Lithographie sind äußerst kleine Abmessungen bei großer Genauigkeit erzielbar. Diese Technik wurde erst in jüngster Zeit bekannt und ist beim Aufbau von Spitzen für Rastersondenmikroskope und zur Charakterisierung von Lithographie-Systemen sowie zur Strukturierung von Oberflächen entwickelt und eingesetzt worden. Eine Beschreibung dieser Technik wurde unter anderem vorgenommen von H.W.P. Koops, R. Weiel, D.P. Kern, T.H. Baum in J. Va. Sci. Technol. B6(1) 1988, 477).By the production of the apertures by corpuscular-beam-induced Deposition lithography are extremely small Dimensions at large Accuracy achievable. This technique has only recently been is known and is in the construction of tips for scanning probe microscopes and for the characterization of lithography systems as well as for the structuring of surfaces developed and used. A description of this technique was carried out inter alia by H.W.P. Koops, R. Weiel, D.P. Core, T.H. Tree in J. Va. Sci. Technol. B6 (1) 1988, 477).

An die Leitfähigkeit der Blenden sind keine allzu großen Ansprüche zu stellen, da diese lediglich auf eine geeignete Spannung, beispielsweise 30 V, aufzuladen sind, ohne daß ein Strom fließt. Es sind daher halbleitende Werkstoffe verwendbar. Mit Edelmetallen, beispielsweise Gold oder Platin, die in eine Kohlenstoffmatrix eingelagert sind, wurden gute Ergebnisse bezüglich der Deposition bei der Herstellung der erfindungsgemäßen Miniaturlinse als auch bezüglich der Leitfähigkeit an der fertigen Linse erzielt. Anstelle des Edelmetalls kann jedoch auch Kupferdioxid verwendet werden. Die erfindungsgemäße Miniaturlinse kann mit äußerst geringen Abmessungen, von beispielsweise 1 μm Kantenlänge und 100 nm Durchmesser der einzelnen Poldrähte, hergestellt werden.At the conductivity The panels are not too big claims to make, as these only on a suitable voltage, for example, 30 V, are charged, without the existence Electricity flows. Therefore semiconducting materials are usable. With precious metals, For example, gold or platinum embedded in a carbon matrix were good results regarding the deposition in the production of the miniature lens according to the invention as well as regarding the conductivity achieved on the finished lens. However, instead of the precious metal can also be used copper dioxide. The miniature lens according to the invention can with extremely low Dimensions, for example, 1 micron edge length and 100 nm diameter the single pigtails, getting produced.

Obwohl grundsätzlich auch durch korpuskularstrahl-induzierte Depositions-Lithographie plattenförmige Körper herstellbar sind, ist bei der erfindungsgemäßen Miniaturlinse vorzugsweise vorgesehen, daß die leitfähigen Deponatstrukturen drahtförmig sind. mit dieser Weiterbildung der Erfindung wird Zeit und Material bei der Herstellung der Deponatstrukturen erspart, während die gewünschten elektronenoptischen Eigenschaften gewährleistet bleiben.Even though in principle also by corpuscular beam induced deposition lithography disc-shaped body can be produced, is preferably in the miniature lens according to the invention provided that the conductive Deponate structures wire-shaped are. With this development of the invention time and material saved in the production of landfill structures, while the desired electron optical Features are guaranteed.

Eine andere Weiterbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens zur Herstellung der Miniaturlinse besteht darin, daß mindestens eine der Blenden aus mehreren nahe beieinanderstehenden stabförmigen Elektroden besteht, die voneinander isoliert sind und jeweils mechanisch und elektrisch mit einer Spannungszuführung in Verbindung stehen.A Another development of the method according to the invention for the production the miniature lens is that at least one of the apertures consists of several closely spaced rod-shaped electrodes, which are isolated from each other and each mechanical and electrical with a power supply keep in touch.

Diese Weiterbildung hat den Vorteil, daß lediglich stabförmige Elektroden aufzubauen sind. Außerdem können die stabförmigen Elektroden mit voneinander abweichenden Spannungen beaufschlagt werden. Dadurch können je nach Anzahl der stabförmigen Elektroden und Potentialunterschieden dazwischen Dipole, Hexapole und Oktupole realisiert werden, womit beispielsweise Linsenfehler korrigiert, Strahlablenkungen und andere Beeinflussungen des Elektronenstrahls vorgenommen werden können.This development has the advantage that only rod-shaped electrodes are to be constructed. In addition, the rod-shaped electrodes can be subjected to deviating voltages become. As a result, depending on the number of rod-shaped electrodes and potential differences between them, dipoles, hexapoles and octupoles can be realized, with which, for example, lens aberrations can be corrected, beam deflections and other influences on the electron beam can be made.

Bei dieser Weiterbildung kann vorgesehen sein, daß sich die stabförmigen Elektroden im wesentlichen in der jeweiligen Ebene erstrecken. Dadurch wird – abgesehen von der Möglichkeit, den Elektroden unterschiedliche Spannungen zuzuführen – ein Verhalten der Blende bzw. der Miniaturlinse erzielt, das sich demjenigen von Blenden in dünnen Metetallplatten annähert. Es kann jedoch auch vorgesehen sein, daß sich die stabförmigen Elektroden im wesentlichen parallel zur Achse der Linse erstrecken.at This development can be provided that the rod-shaped electrodes extend substantially in the respective plane. This will - apart from the possibility to supply different voltages to the electrodes - a behavior of the diaphragm or the miniature lens, which is that of aperture in thin metal plates approaches. However, it can also be provided that the rod-shaped electrodes in the extend substantially parallel to the axis of the lens.

Eine vorteilhafte Ausgestaltung dieser Weiterbildung besteht darin, daß mindestens zwei sich einander gegenüberstehende stabförmige Elektroden mit getrennten Spannungszuführungen versehen sind. Werden an diese Spannungszuführungen Spannungen verschiedener Höhe gelegt, ist eine Ablenkung des Elektronenstrahls in einfacher Weise möglich. Dieses kann beispielsweise zur Bildung von mikroelektronischen Umschaltelementen genutzt werden.A advantageous embodiment of this development is that at least two opposing ones rod-shaped Electrodes are provided with separate power supply lines. Become to these voltage supplies voltages different height placed, a deflection of the electron beam is possible in a simple manner. This For example, to form microelectronic switching elements be used.

Bei einer anderen Weiterbildung der erfindungsgemäßen Miniaturlinse ist vorgesehen, daß die Blenden zweier eine weitere Ebene einschließenden Ebenen eine gemeinsame Spannungszuführung aufweisen. Diese Weiterbildung eignet sich insbesondere zur Bildung einer Sammellinse mit vorzugsweise drei Ebenen dadurch, daß an die Blenden der äußeren Ebenen Umgebungspotential und an die Blende der mittleren Ebene eine davon abweichende Spannung angelegt wird. Die erfindungsgemäße Miniaturlinse kann jedoch auch als Immersionslinse betrieben werden. Dazu wird die Blende der einen äußeren Ebene auf Umgebungspotential, vorzugsweise Massepotential, gelegt, während die beiden anderen Blenden mit Spannungen beaufschlagt werden, die sich nur wenig voneinander unterscheiden.at another development of the miniature lens according to the invention is provided that the apertures two levels including another level a common voltage supply exhibit. This development is particularly suitable for education a convergent lens preferably three levels in that the Dazzle the outer levels Environment potential and one of the iris of the middle level deviating voltage is applied. The miniature lens according to the invention However, it can also be operated as an immersion lens. This will be the aperture of an outer plane at ambient potential, preferably ground potential, placed while the tensions are applied to both other diaphragms differ only slightly from each other.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung anhand mehrerer Figuren dargestellt und in der nachfolgenden Beschreibung näher erläutert. Es zeigt:embodiments The invention are illustrated in the drawing with reference to several figures and explained in more detail in the following description. It shows:

1 ein erstes Ausführungsbeispiel mit einer vierzähligen Näherung für ein Rundlinsenfeld, 1 a first embodiment with a fourfold approximation for a circular lens field,

2 ein zweites Ausführungsbeispiel mit einer dreizähligen Näherung für ein Rundlinsenfeld, 2 A second embodiment with a threefold approximation for a round lens field,

3 eine Immersionslinse mit vierzähliger Näherung, 3 an immersion lens with fourfold approximation,

4 eine Immersionslinse mit dreizähliger Näherung, 4 an immersion lens with threefold approximation,

5 ein Ausführungsbeispiel, bei welchem die Blende in der mittleren Ebene von einzelnen gegeneinander isolierten stabförmigen Deponatstrukturen gebildet wird und eine vierzählige Näherung vorgesehen ist, 5 an embodiment in which the diaphragm is formed in the middle plane of individual mutually insulated rod-shaped deposit structures and a four-fold approximation is provided,

6 ein ähnliches Ausführungsbeispiel mit dreizähliger Näherung, 6 a similar embodiment with threefold approximation,

7 eine Blende mit achteckigen Feldgrenzen, 7 an aperture with octagonal field boundaries,

8 eine Blende mit sechseckigen Feldgrenzen, 8th an aperture with hexagonal field boundaries,

9 eine weitere Blende mit achteckigen Feldgrenzen und vollständiger Beeinflußbarkeit der Multipolkomponenten und 9 another aperture with octagonal field boundaries and complete influenceability of the multipole components and

10 eine Miniaturlinse mit einer mittleren Blende mit achteckigen Feldgrenzen und zwei quadratischen Blenden. 10 a miniature lens with a central aperture with octagonal field boundaries and two square apertures.

Gleiche Teile sind in den Figuren mit gleichen Bezugszeichen versehen.Same Parts are provided in the figures with the same reference numerals.

Bei dem Ausführungsbeispiel nach 1 sind drei Blenden 1, 2, 3 vorgesehen, die jeweils aus drei stabförmigen Teilen – im folgenden auch Poldrähte genannt – und je einem Teil je einer Spannungszuführung 4, 5, 6 bestehen. Die Spannungszuführungen sind planare Strukturen auf einem lediglich angedeuteten Substrat 7, wobei die Spannungszuführungen 4, 6 zu einem Anschluß 8 für Massepotential zusammengefaßt sind, während die Spannungszuführung 5 einen eigenen Anschluß 9 aufweist.According to the embodiment 1 are three apertures 1 . 2 . 3 provided, each consisting of three rod-shaped parts - also called pigtails - and one part each a voltage supply 4 . 5 . 6 consist. The voltage leads are planar structures on a merely indicated substrate 7 , where the power supplies 4 . 6 to a connection 8th are summarized for ground potential, while the voltage supply 5 a separate connection 9 having.

Durch eine gestrichelte Linie 10 ist die Achse des durch die Linse hindurchtretenden Elektronenstrahls angedeutet.Through a dashed line 10 the axis of the electron beam passing through the lens is indicated.

Eine der in 1 dargestellten ähnliche Linse zeigt 2, wobei die Blenden 1', 2', 3' jeweils aus drei Poldrähten bestehen. Aus in den 1 und 2 ferner gezeigten schematischen Darstellungen der Potentiallinien ist ersichtlich, daß im Bereich des Elektronenstrahls die Potentiallinien die zur Verzeichnungsfreiheit der Linse erforderliche Kreisform aufweisen.One of the in 1 shown similar lens 2 , where the aperture 1' . 2 ' . 3 ' each consist of three Poldrähten. Out in the 1 and 2 Furthermore, shown schematic representations of the potential lines, it can be seen that in the region of the electron beam, the potential lines have the circle required for the distortion freedom of the lens.

Die 3 und 4 zeigen Linsen, die bezüglich ihrer Struktur denjenigen nach den 1 und 2 gleichen. Die Spannungszuführungen 4, 5, 6 sind allerdings mit getrennten Anschlüssen 8, 9, 9' versehen. Dadurch kann die Blende 3 auf Massepotential gelegt werden, während die Blenden 9 und 9' eine untereinander ähnliche jedoch von Masse abweichende Spannung erhalten, wodurch die dargestellte Linse als Immersionslinse wirkt.The 3 and 4 show lenses that are structurally similar to those of the 1 and 2 same. The voltage supply 4 . 5 . 6 are however with separate connections 8th . 9 . 9 ' Mistake. This allows the aperture 3 be placed at ground potential while the aperture 9 and 9 ' a mutually similar but different from ground voltage, whereby the lens shown acts as an immersion lens.

Gegenüber den in den 1 und 2 dargestellten Miniaturlinsen besteht bei den Miniaturlinsen nach den 5 und 6 die mittlere Blende aus mehreren gegeneinander isolierten Poldrähten. Die mittlere Blende der Miniaturlinse nach 5 wird von drei Poldrähten 11, 12, 13 gebildet, die auf je einer Spannungszuführung 14, 15, 16 aufgebaut sind. Eine weitere Spannungszuführung 17 dient als vierter Poldraht. Ein zur Halterung des Poldrahts 11 erforderlicher Draht 18 ist gegenüber dem Poldraht 13 weiter von der Achse 10 entfernt, so daß die Wirkung der Ladung des Drahts 18 gegenüber der Wirkung derjenigen des Poldrahtes 13 auf den Strahl zurücktritt.Opposite in the 1 and 2 Miniature lenses shown in the miniature lenses after the 5 and 6 the middle panel of several mutually insulated poled wires. The middle aperture of the miniature lens after 5 becomes of three Poldrähten 11 . 12 . 13 formed, each on a voltage supply 14 . 15 . 16 are constructed. Another power supply 17 serves as fourth Poldraht. One to hold the polder wire 11 required wire 18 is opposite the pole wire 13 further from the axis 10 removed, so that the effect of the charge of the wire 18 against the effect of that of the Poldrahtes 13 step back on the beam.

In entsprechender Weise sind bei der Miniaturlinse nach 6 zwei Poldrähte 21, 22 auf Spannungszuführungen 23, 24 aufgebaut, während eine dritte Spannungszuführung 25 gleichzeitig als dritter Poldraht dient.Correspondingly, the miniature lens is after 6 two pigtails 21 . 22 on power supplies 23 . 24 constructed while a third power supply 25 at the same time serves as third Poldraht.

Die 7 und 8 zeigen jeweils eine Blende mit acht- bzw. sechseckigen Feldgrenzen. Bei der Blende nach 7 sind zwei senkrecht verlaufende Poldrähte 31, 32 auf je einer Zuleitung 33, 34 aufgebracht. Eine Begrenzung des Feldes nach unten und oben wird durch eine Spannungszuführung 35 und einen Poldraht 36 bewirkt, der von zwei Drähten 37, 38 auf dem Substrat gehalten wird und zusätzlich leitend über den Draht 38 mit einer Spannungszuführung 39 verbunden ist. Im Winkel von 45° sind weitere Feldgrenzen in Form von Poldrähten 40, 41, 42, 43 auf weiteren Spannungszuführungen 44, 45, 46, 47 angeordnet.The 7 and 8th each show an aperture with eight or hexagonal field boundaries. At the aperture after 7 are two vertical pigtails 31 . 32 on each one supply line 33 . 34 applied. A limitation of the field down and up is by a voltage supply 35 and a pole wire 36 causes of two wires 37 . 38 held on the substrate and additionally conductive over the wire 38 with a power supply 39 connected is. At an angle of 45 °, further field boundaries are in the form of pear wires 40 . 41 . 42 . 43 on further power supplies 44 . 45 . 46 . 47 arranged.

Bei der Miniaturlinse nach 8 werden die Feldgrenzen von Poldrähten 51, 52, 53, 54, 55 und einer Spannungszuführung 56 gebildet. Die Poldrähte 51, 52, 54, 55 sind in einem Winkel von 60° auf Spannungszuführungen 57, 58, 59, 60 angeordnet, während der Poldraht 53 von Drähten 61, 62, gehalten wird, von denen der letztere auf einer Spannungszuführung 63 Kontakt findet.At the miniature lens after 8th become the field boundaries of Poldrähten 51 . 52 . 53 . 54 . 55 and a power supply 56 educated. The pear wires 51 . 52 . 54 . 55 are at an angle of 60 ° to power supplies 57 . 58 . 59 . 60 arranged while the putter wire 53 of wires 61 . 62 , of which the latter is on a voltage feed 63 Contact finds.

Die in 9a dargestellte Blende ist ähnlich wie die Blende nach 7 aufgebaut. Der Poldraht 36 wird allerdings bei diesem Ausführungsbeispiel nur von einem Draht 38 gehalten. Für viele Anwendungsfälle, insbesondere solchen mit kleinen Potentialdifferenzen zwischen den einzelnen Poldrähten, ist eine solche einseitige Halterung stabil genug.In the 9a shown aperture is similar to the aperture after 7 built up. The pole wire 36 However, in this embodiment, only one wire is used 38 held. For many applications, especially those with small potential differences between the individual Poldrähten, such a one-sided support is stable enough.

9b stellt schematisch die Wirkrichtung der tangentialen Poldrähte dar, die das Linsenfeld aufbauen, wobei die Bezeichnungen entsprechend den Spannungszuführungen in 9a gewählt wurden. Legt man an alle Spannungszuführungen eine gleiche Spannung an, so entsteht ein Rundlinsenfeld. Weicht man bei zwei gegenüberliegenden Poldrähten in verschiedenen Richtungen von der Spannung an den übrigen Poldrähten ab, entsteht ein Dipol mit einem Ablenk- bzw. Zentrierfeld. Ferner ist durch Anlegen geeigneter Spannungen die Bildung eines Quadrupolfeldes und eines Oktupolfeldes sowie eine Mischung der verschiedenen Feldformen möglich. Mit einem Quadrupolfeld können beispielsweise Astigmatismusfehler des Strahls kompensiert werden, während mit einem Oktupolfeld Öffnungsfehler beeinflußt werden können. 9b schematically represents the effective direction of the tangential Poldrähte that make up the lens array, the names corresponding to the power supply lines in 9a were chosen. If a voltage is applied to all voltage leads, a round lens field is created. If one deviates from the tension at the other pigtails in two different directions with two opposite pigtails, a dipole with a deflection or centering field is created. Furthermore, the formation of a quadrupole field and an octupole field as well as a mixture of the different field shapes is possible by applying suitable voltages. With a quadrupole field, for example, astigmatism errors of the beam can be compensated, while with an octupole field opening errors can be influenced.

10 zeigt eine Linse, deren mittlere Ebene entsprechend 8 aufgebaut ist und deren äußeren Ebenen jeweils aus einer quadratischen Blende bestehen. 10 shows a lens whose middle plane accordingly 8th is constructed and whose outer planes each consist of a square aperture.

Claims (7)

Verfahren zur Herstellung einer elektrostatischen Miniaturlinse mit in mehreren Ebenen liegenden elektrostatischen Blenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Blenden aus leitfähigen Deponatstrukturen (1, 2, 3, 1', 2', 3') bestehen, die mit Hilfe von korpuskularstrahl-induzierter Depositions-Lithographie auf in Planartechnik lithographisch auf einem isolierenden Substrat erzeugten Spannungszuführungen (4, 5, 6) aufgebaut sind, wobei die Blenden (1, 2, 3, 1', 2', 3') kreisförmig oder polygonförmig hergestellt werden.Method for producing a miniature electrostatic lens with multilevel electrostatic diaphragms, characterized in that the diaphragms consist of conductive deposit structures ( 1 . 2 . 3 . 1' . 2 ' . 3 ' ), which by means of corpuscular beam-induced deposition lithography on planar in a lithographic on an insulating substrate generated voltage supplies ( 4 . 5 . 6 ) are constructed, wherein the aperture ( 1 . 2 . 3 . 1' . 2 ' . 3 ' ) are made circular or polygonal. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die leitfähigen Deponatstrukturen (1, 2, 3, 1', 2', 3') drahtförmig hergestellt werden.Method for producing a miniature lens according to Claim 1, characterized in that the conductive deposit structures ( 1 . 2 . 3 . 1' . 2 ' . 3 ' ) are made wire-shaped. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß mindestens eine der Blenden aus mehreren nahe beieinanderstehenden stabförmigen Elektroden (11, 12, 13, 21, 22, 31, 32, 36, 40, 41, 42, 43, 51, 52, 53, 54, 55) hergestellt wird, die voneinander isoliert sind und jeweils mechanisch und elektrisch mit einer Spannungszuführung in Verbindung stehen.Method for producing a miniature lens according to claim 1 or 2, characterized in that at least one of the diaphragms consists of a plurality of closely spaced rod-shaped electrodes ( 11 . 12 . 13 . 21 . 22 . 31 . 32 . 36 . 40 . 41 . 42 . 43 . 51 . 52 . 53 . 54 . 55 ), which are isolated from each other and each mechanically and electrically in communication with a voltage supply. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Linse so hergestellt wird, daß sich die stabförmigen Elektroden (11, 12, 13, 21, 22, 31, 32, 36, 40, 41, 42, 43, 51, 52, 53, 54, 55) im wesentlichen in der jeweiligen Ebene erstrecken.Method for producing a miniature lens according to Claim 3, characterized in that the lens is produced in such a way that the rod-shaped electrodes ( 11 . 12 . 13 . 21 . 22 . 31 . 32 . 36 . 40 . 41 . 42 . 43 . 51 . 52 . 53 . 54 . 55 ) extend substantially in the respective plane. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die Linse so hergestellt wird, daß sich die stabförmigen Elektroden im wesentlichen parallel zur Achse der Linse erstrecken.Method for producing a miniature lens according to claim 3, characterized in that the lens is manufactured so that the rod-shaped Extend electrodes substantially parallel to the axis of the lens. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Linse so hergestellt wird, daß mindestens zwei sich einander gegenüberstehende stabförmige Elektroden (31, 32) mit getrennten Spannungszuführungen (33, 34) versehen sind.Method for producing a miniature lens according to one of Claims 3 to 5, characterized in that the lens is produced such that at least two rod-shaped electrodes (FIG. 31 . 32 ) with separate power supply lines ( 33 . 34 ) are provided. Verfahren zur Herstellung einer Miniaturlinse nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Miniaturlinse so hergestellt wird, daß die Blenden (1, 3, 1', 3') zweier eine weitere Ebene einschließenden Ebenen eine gemeinsame Spannungszuführung (8) aufweisen.Method for producing a miniature lens according to one of the preceding claims, characterized in that the miniature lens is produced in such a way that the apertures ( 1 . 3 . 1' . 3 ' ) of two levels enclosing a further level a common voltage supply ( 8th ) exhibit.
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