DE4433171C2 - Process for assembling semiconductor chips using tape automated bonding technology - Google Patents
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Montage von Halbleiterchips in der Tape Automated Bonding (TAB) Technologie gemäß den Gattungsbegriffen der Ansprüche 1 bzw. 2.The invention relates to a method for assembling Semiconductor chips in the tape automated bonding (TAB) technology according to the generic terms of claims 1 and 2, respectively.
Die Tape Automated Bonding Technologie ist eine Aufbau- und Verbindungstechnik für integrierte Schaltungen (IC). Beim Tape Automated Bonding (TAB) werden die spinnenartigen Außenkontakte der Integrierten Schaltungen, die sogenannten Leads, photo lithographisch/galvanisch auf einen Kapton bzw. Polyimid-Film, auch TAB Film, appliziert. Der TAB Film ist für den Transport am Rand und an den Stanz-, Biege- bzw. Lötstellen der Kontaktstellen perforiert. Die ICs werden jeweils auf den entsprechenden Stellen auf dem Film positioniert, aufmontiert und mit den Innenanschlüsse bzw. Innerleads der Metall- Filmstruktur durch Lötung oder Thermokompression gebondet. Vor dem Bonden der Außenanschlüsse werden jeweils die Kontakte der Innenanschlüsse bzw. der Innerleads mit den ICs elektrisch geprüft. Anschließend werden die Außenanschlüsse ausgestanzt und geformt. Die ausgestanzten TAB Filme mit den ICs werden auf der Trägersubstratstruktur, z. B. der Leiterplatte, positioniert. Die Außenanschlüsse des TAB Films werden mit Kontakten auf der Trägersubstratstruktur durch Thermokompression oder Löten, z. B. Laserlöten verbunden. The tape automated bonding technology is a construction and Connection technology for integrated circuits (IC). With the tape Automated bonding (TAB) are the spider-like external contacts of the Integrated circuits, the so-called leads, photo lithographically / galvanically on a Kapton or polyimide film, also TAB Film, applied. The TAB film is for transport on the edge and on the Perforated punching, bending or soldering points of the contact points. The ICs are positioned in the appropriate places on the film, mounted and with the inner connections or inner leads of the metal Film structure bonded by soldering or thermocompression. Before the The external connections are bonded to the contacts of Internal connections or the inner leads electrically checked with the ICs. Then the external connections are punched out and shaped. The Die-cut TAB films with the ICs are on the Carrier substrate structure, e.g. B. the circuit board positioned. The External connections of the TAB film are made with contacts on the Carrier substrate structure by thermocompression or soldering, e.g. B. Laser soldering connected.
Das Verfahren wird inzwischen vielseitig eingesetzt, vor allem in der Mikroelektronik bei Schaltungen hoher Komplexität, die in großen Stückzahlen mit einem hohem Automatisierungsgrad gefertigt werden.The process is now used in a variety of ways, especially in the Microelectronics in circuits of high complexity, in large Quantities can be manufactured with a high degree of automation.
Als Vorteile der TAB Technologie sind aufgrund der Filmtechnik die leichte, schnelle, rationelle und positionsgenaue Montage anzusprechen und ferner die einfache serielle Prüfung, leichte Automatisierungsmöglichkeit und hohe Zuverlässigkeit. Die TAB Kontakte sind gegenüber Drahtbonds kürzer und damit induktiv günstiger, sie sind breiter und damit mehrfach haftfester sowie besser wärmeleitend. Die TAB Technologie erlaubt höhere Anschlußzahlen durch kleinere Abstände zwischen den Anschlüssen, z. B. bei Fine Pitch Verbindungen. Die höheren Packungsdichten ermöglichen eine rationelle und zuverlässige Verarbeitung von hochkomplexen Bauteilen.The advantages of TAB technology are due to the film technology to address easy, fast, rational and precise installation and also the simple serial test, easy Automation option and high reliability. The TAB contacts are shorter than wire bonds and therefore cheaper inductively, they are wider and therefore more adhesive and better heat-conducting. The TAB technology allows higher connection numbers due to smaller distances between the connections, e.g. B. Fine pitch connections. The higher packing densities enable a rational and reliable Processing of highly complex components.
Trotz dieser vielen Vorteile hat sich bisher die TAB Technik im wesentlichen nur bei Großserien durchsetzen können, z. B. in der Uhren- und LCD-Elektronik. Bei kleineren und mittleren Serien und bei wechselnden Chipgrößen stehen erhebliche Nachteile im Vordergrund. Beim Thermokompressionsbonden treten insbesondere bei hochpoligen ICs hohe Drücke bei gleichzeitig hohen Temperaturen über mehrere Sekunden auf, die Chip und Substrat schädigen können. Bei nur geringfügig unterschiedlich hohen Löthöckern sind mechanische Spannungsspitzen zu erwarten, die zu Materialbrüchen oder Fehlkontakten führen können. Diese Probleme würden sich mit Hilfe des Laserlötens vermeiden lassen, weil dort nicht gleichzeitig, sondern sequentiell, Lötstelle nach Lötstelle, verarbeitet wird. Darüber hinaus sind aber noch weitere Schwierigkeiten zu überwinden. Die TAB Technologie erfordert eine Kette von hochkomplexen, aufwendigen, bauteilspezifischen Materialien und Werkzeugen, zusätzliche IC- Technologien, z. B. für die Löthöcker, entsprechend strukturierte und perforierte Filme, Stanz- und Biegewerkzeuge, die von verschiedenen Herstellern mit oft unterschiedlichen Entwurfstechniken jeweils angefertigt werden müssen. Ein Re-Design, eine Vorserie sowie die genaue und schnelle Terminierung sind schwierig, aber Voraussetzung für eine erfolgreiche, wirtschaftliche und schnelle Abwicklung von Elektronikentwürfen für kleinere und mittlere Produktionen.Despite these many advantages, the TAB technology has so far can only be enforced in large series, e.g. B. in the watch and LCD electronics. For small and medium series and for changing chip sizes focus on significant disadvantages. Thermocompression bonding occurs particularly with multi-pole ICs high pressures at high temperatures over several Seconds that can damage the chip and substrate. At only slightly different heights are mechanical Stress peaks are expected to result in material breaks or Can lead to incorrect contacts. These problems would be resolved with the help of the Have laser soldering avoided because there is not at the same time, but sequentially, solder joint after solder joint, is processed. Beyond that but to overcome other difficulties. The TAB technology requires a chain of highly complex, complex, component-specific materials and tools, additional IC Technologies, e.g. B. for the solder bumps, appropriately structured and perforated films, punching and bending tools made by different Manufacturers with often different design techniques Need to become. A redesign, a pre-series and the exact and quick scheduling is difficult, but a prerequisite for one successful, economical and fast processing of Electronics designs for small and medium-sized productions.
Aus der EP 0 451 363 A1 ist ein TAB Rahmen Adapter System bekannt, mit dem auf einem TAB Film montierte Halbleiterchips mit einer Leiterplatte montiert werden können. Dabei weist der Rahmen eine darauf angeordnete Leitbahnstruktur auf, mittels der Leitbahnen auf der Leiterplatte mit denen auf dem TAB Film verbunden werden. Die Herstellung der Kontakte Leiterplatte und TAB Rahmen einerseits und TAB Rahmen und TAB Film andererseits erfolgt durch die mechanischen Verbindung der Teile, die durch eine Verschraubung gesichert wird.A TAB frame adapter system is known from EP 0 451 363 A1, with the semiconductor chips mounted on a TAB film with a PCB can be mounted. The frame has one on it arranged interconnect structure, by means of interconnects on the PCB with which to be connected on the TAB film. The Production of the contacts circuit board and TAB frame on the one hand and TAB frame and TAB film on the other hand is done by the mechanical Connection of the parts, which is secured by a screw connection.
In "Die Verarbeitung von Fine Pitch-Bauteilen mit Tape Automated Bonding (TAB)" erschienen in F, 1992, Bd. 100, H. 11, S. 506-510, wird eine kurze Zusammenfassung über die TAB Technik gegeben. Es ist aus dieser Druckschrift insbesondere bekannt, daß auf einem mehrlagigen Träger aus Polyimidfilm und Kupferfolie die Innen- und Außenkontakte herausgestanzt und die Halbleiterchips nach der Strukturierung der Leitbahnen durch Thermokompression mit darauf angeordneten Löthöckern verbunden werden.In "The processing of fine pitch components with tape automated Bonding (TAB) "appeared in F, 1992, Vol. 100, H. 11, pp. 506-510 given a brief summary of the TAB technique. It's over this document is known in particular that on a multi-layer Carrier made of polyimide film and copper foil the internal and external contacts punched out and the semiconductor chips after structuring the Conduits by thermocompression with arranged on them Soldering sticks are connected.
Aus der EP 0 113 895 A1 ist es bekannt, belotete Anschlüsse mittels eines Lasers durch einen transparenten Niederhalter hindurch mit einem Träger zu verlöten.From EP 0 113 895 A1 it is known to use soldered connections a laser through a transparent hold-down with a To solder carrier.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren der eingangs genannten Art aufzuzeigen, mit dem die TAB Technologie auch für Klein- und Mittelserien optimiert und wirtschaftlich vorteilhaft wird. So sollten verschiedenartige Chip-Geometrien und Anschlußzahlen mit dem gleichen TAB Film mit identischer Metall-Filmstruktur verarbeitet werden können.The present invention has for its object a method of to demonstrate the type mentioned at the beginning, with which the TAB technology too optimized for small and medium series and becomes economically advantageous. So should different chip geometries and connection numbers with the same TAB film with identical metal film structure can be processed can.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den Merkmalen der Ansprüche 1 oder 2 gelöst. In den abhängigen Ansprüchen sind Ausgestaltungen und Weiterbildungen der Verfahren angegeben.This task is accomplished through a process with the characteristics of Claims 1 or 2 solved. In the dependent claims are Refinements and developments of the method specified.
In der nachfolgenden Beschreibung werden Ausführungsbeispiele der Verfahren mit Einbeziehung der Figuren erläutert. Es zeigen:In the following description, exemplary embodiments of the Process explained with the inclusion of the figures. Show it:
Fig. 1 eine Ansicht von oben eines Ausführungsbeispiels mit einem Chiprahmen Fig. 1 is a top view of an embodiment with a chip frame
Fig. 1a einen Querschnitt durch das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 1 FIG. 1a is a cross section through the embodiment according to Fig. 1
Fig. 1b einen Querschnitt gemäß Fig. 1a mit wärmeleitendem Verguß Fig. 1b shows a cross section according to Fig. 1a with heat-conductive potting
Fig. 2 eine Ansicht von oben eines weiteren Ausführungsbeispiels mit einem Chipträger Fig. 2 is a top view of another embodiment with a chip carrier
Fig. 2a einen Querschnitt durch das Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 2 Fig. 2a shows a cross section through the embodiment shown in FIG. 2
Fig. 2b einen Querschnitt durch den Aufbau des TAB Films FIG. 2b shows a cross section through the structure of the TAB film
Fig. 3 eine Ansicht von oben eines Chipträgers mit Bauelementen in vergrößerter Darstellung Fig. 3 is a top view of a chip carrier with components in an enlarged view
Fig. 4 eine Ansicht von oben eines Chipträgers in vergrößerter Darstellung. Fig. 4 is a top view of a chip carrier in an enlarged view.
Der allgemeine Erfindungsgedanke sieht vor, die Nachteile der bisherigen TAB Technologie durch eine Standardisierung mit Hilfe eines standardisierten Chiprahmens oder eines standardisierten Chipträgers zu vermeiden. In beiden Fällen werden verschiedene Halbleiterchips bzw. Integrierte Schaltungen, kurz ICs, mit dem gleichen standardisierten TAB Film und denselben Maschinen sowie Werkzeugen verarbeitet. Hierzu wird entweder ein Chiprahmen oder ein Chipträger anstelle der Chips auf den TAB Film appliziert. Chiprahmen oder Chipträger weisen die maximale Zahl der Pad- oder Anschlußflächen auf und werden in TAB Technologie mit der Innenanschlüssen der Metall-Filmstruktur verbunden. Die Halbleiterchips und ICs werden in Drahtbondtechnik mit dem Chiprahmen bzw. dem Chipträger verbunden.The general idea of the invention provides the disadvantages of the previous ones TAB technology through standardization using a standardized chip frame or a standardized chip carrier avoid. In both cases, different semiconductor chips or Integrated circuits, or ICs for short, with the same standardized TAB Film and the same machines and tools processed. For this will either have a chip frame or a chip carrier in place of the chips applied the TAB film. Chip frames or chip carriers have the maximum number of pads or pads and are in TAB Technology associated with the internal connections of the metal film structure. The semiconductor chips and ICs are in wire bonding technology with the Chip frame or the chip carrier connected.
Die Fig. 1 zeigt die Ansicht von oben eines TAB Films 1 mit der darauf angeordneten Metall-Filmstruktur 2, 3. Die Leitbahnen verlaufen in einer spinnenartigen Anordnung derart von innen nach außen, daß ihr gegenseitiger Abstand zunimmt. Innen bilden die Leitbahnen Innenanschlüsse 4, außen entsprechend die Außenanschlüsse 5. Im allgemeinen sind die Innen- und Außenanschlüsse vom Polyimid Trägerfilm befreit, um eine bessere Bondbarkeit zu gewährleisten. Wie später noch gezeigt wird, kann beim Einsatz von Laserlöt-Technologien der Polyimid Trägerfilm auf den Innen- und/oder Außenanschlüssen verbleiben. Im Zentrum der Metall- Filmstruktur ist ein Fenster 7 ausgebildet, in dem ein Chiprahmen 6 angeordnet ist. Die Metall-Filmstruktur auf dem TAB Film entspricht mit ihren Innenanschlüssen der Anschluß- bzw. Padstruktur des Chiprahmens. Der Chiprahmen besteht aus einem Silizium-, Keramik- oder Kunststoffrahmen und wird auf die Schichtstruktur des TAB Films - wie bisher die Chips - aufgeklebt oder aufgelötet. Die Anschluß- bzw. Padstruktur des Chiprahmens wird mit den Innenanschlüssen der Metall- Filmstruktur auf dem TAB Film in der TAB Technologie gebondet. Das geschieht z. B. durch Thermokompression oder Laserlöten. Auf diese Weise entsteht eine Standard-TAB Anordnung, die aus dem TAB Film mit der Metall-Filmstruktur und dem Chiprahmen besteht. Fig. 1 shows the top view of a TAB film 1 having disposed thereon metal film structure 2, 3. The conductor tracks extending in a spider-like arrangement in such a way from the inside to the outside that increases their mutual distance. On the inside, the interconnects form internal connections 4 , on the outside correspondingly the external connections 5. In general, the internal and external connections are freed from the polyimide carrier film in order to ensure better bondability. As will be shown later, when using laser soldering technologies, the polyimide carrier film can remain on the inner and / or outer connections. In the center of the metal film structure, a window 7 is formed, in which a chip frame 6 is arranged. The internal connections of the metal film structure on the TAB film correspond to the connection or pad structure of the chip frame. The chip frame consists of a silicon, ceramic or plastic frame and is glued or soldered onto the layer structure of the TAB film - as was the case with the chips. The connection or pad structure of the chip frame is bonded to the internal connections of the metal film structure on the TAB film using TAB technology. This happens e.g. B. by thermocompression or laser soldering. This creates a standard TAB arrangement consisting of the TAB film with the metal film structure and the chip frame.
Diese Standard-TAB Anordnung wird in bekannter Weise ausgestanzt, die Außenanschlüsse werden geformt und anschließend die Anordnung positionsgenau auf eine Trägersubstratstruktur 9 (z. B. eine Leiterplatte oder einen Hybridträger) die zuvor mit den jeweiligen Halbleiterchips 8 bestückt wurde, gelötet oder geklebt. Das zu kontaktierende Chip 8 muß so auf der Trägersubstratstruktur 9 angeordnet werden, daß es innerhalb des Chiprahmens 6 liegt. Läßt es die Geometrie des Chiprahmens und der Halbleiterchips zu, so können auch mehrere Chips innerhalb des Chiprahmens angeordnet sein. Die Außenanschlüsse der Metall- Filmstruktur auf dem TAB Film werden in der TAB Technologie mit den entsprechenden Anschlußflächen auf der Trägersubstratstruktur gebondet 10. Das geschieht z. B. durch Thermokompression oder Laserlöten. Die elektrisch nicht genutzten Außenanschlüsse sorgen für eine zusätzliche flexible Haftung, so daß keine oder nur geringere thermomechanische Spannungen bei Temperaturzyklen auftreten.This standard TAB arrangement is punched out in a known manner, the external connections are shaped and then the arrangement is soldered or glued onto a carrier substrate structure 9 (for example a printed circuit board or a hybrid carrier) which has been fitted with the respective semiconductor chips 8 beforehand. The chip 8 to be contacted must be arranged on the carrier substrate structure 9 such that it lies within the chip frame 6 . If the geometry of the chip frame and the semiconductor chips permits, a plurality of chips can also be arranged within the chip frame. The external connections of the metal film structure on the TAB film are bonded 10 in TAB technology with the corresponding connection areas on the carrier substrate structure. This happens e.g. B. by thermocompression or laser soldering. The electrically unused external connections provide additional flexible adhesion, so that no or only lower thermomechanical stresses occur during temperature cycles.
Anschließend werden durch ein Drahtbondverfahren die auf den Oberflächen der Halbleiterchips angeordneten Bondpads mit der Metall- Filmstruktur des TAB Films auf dem Chiprahmen verbunden. Die nach diesem Verfahrensschritt vorliegende Anordnung ist im Querschnitt in der Fig. 1a dargestellt. Der Zwischenraum zwischen Halbleiterchips und Chiprahmen wird mit einer wärmeleitenden Masse 12 ausgegossen und abgedeckt. Hierdurch werden die bekanntlich feinen Drahtverbindungen 11 gegen mechanische Beschädigungen geschützt und gleichzeitig die beim Betrieb der Halbleiterchips 8 entstehende Wärme abgeleitet. Die Fig. 1b zeigt die komplettierte Anordnung ebenfalls in einem Querschnitt.The bond pads arranged on the surfaces of the semiconductor chips are then connected to the metal film structure of the TAB film on the chip frame by means of a wire bonding process. The arrangement present after this method step is shown in cross section in FIG. 1a. The space between the semiconductor chips and the chip frame is poured out and covered with a heat-conducting mass 12 . As a result, the known fine wire connections 11 are protected against mechanical damage and, at the same time, the heat generated during operation of the semiconductor chips 8 is dissipated. FIG. 1b shows the completed assembly also in cross section.
Die Fig. 2 zeigt einen TAB Film mit einem Chipträger 9 und auf dem Chipträger 9 montierten Halbleiterchips 8, die mittels eines zweiten Verfahrens hergestellt wurden. Die Fig. 3 und 4 zeigen den Chipträger mit der TAB Struktur einmal mit und einmal ohne Halbleiterchips in vergrößerter Darstellung. Zunächst wird auf dem TAB Film 1 eine Metall- Filmstruktur erzeugt. Fig. 2 shows a TAB film having a chip carrier 9 and on the chip carrier 9 mounted semiconductor chips 8 that have been produced by a second method. FIGS. 3 and 4 show the chip carrier with the TAB structure once with and once without the semiconductor chip in an enlarged scale. First, a metal film structure is created on the TAB film 1 .
Die Leitbahnen der Metall-Filmstruktur verlaufen in einer spinnenartigen Anordnung von innen nach außen. Es kann vorteilhaft sein die Leitbahnen so anzuordnen, daß ihr gegenseitiger Abstand zunimmt, um unterschiedliche Anschlussdichten der Innen- 4 und Außenanschlüsse 5 auszugleichen. Innen bilden die Leitbahnen die Innenanschlüsse 4, außen entsprechend die Außenanschlüsse 5. Im allgemeinen sind die Innen- und Außenanschlüsse vom Polyimid Trägerfilm befreit, um eine bessere Bondbarkeit zu gewährleisten. Wie später noch gezeigt wird, kann beim Einsatz von Laserlöt-Technologien der Polyimid Trägerfilm auf den Innen- und/oder Außenanschlüssen verbleiben. Im Zentrum der Metall-Filmstruktur ist ein Fenster 7 ausgebildet, in dem ein Chipträger 13 angeordnet ist. Die Metall- Filmstruktur auf dem TAB Film entspricht mit ihren Innenanschlüssen der am Umfang des Chipträgers angeordneten Anschlußstruktur 14. Der Chipträger besteht aus einem Silizium- oder Keramiksubstrat mit einer Leitbahnstruktur 16 und einer Vielzahl von Bondflächen 14, 15. Die Leitbahnstruktur wird durch eine dielektrische Schicht bedeckt. Die Bondflächen sind zum einen mit einem festen Abstand zueinander am Umfang des Chipträgers angeordnet und bilden dort die Anschlußstruktur 14 und zum anderen regelmäßig auf der Oberfläche verteilt. Die Bondflächen 14, 15 bleiben von der dielektrischen Schicht ausgespart. Die am Umfang angeordneten Bondflächen 14 sind mit den auf der Oberfläche verteilten 15 durch die Leitbahnstruktur 16 entsprechend verbunden.The interconnects of the metal film structure run in a spider-like arrangement from the inside to the outside. It can be advantageous to arrange the interconnects in such a way that their mutual distance increases in order to compensate for different connection densities of the inner 4 and outer connections 5 . On the inside, the interconnects form the internal connections 4 , on the outside correspondingly the external connections 5. In general, the internal and external connections are freed from the polyimide carrier film in order to ensure better bondability. As will be shown later, when using laser soldering technologies, the polyimide carrier film can remain on the inner and / or outer connections. In the center of the metal film structure, a window 7 is formed, in which a chip carrier 13 is arranged. The internal connections of the metal film structure on the TAB film correspond to the connection structure 14 arranged on the periphery of the chip carrier. The chip carrier consists of a silicon or ceramic substrate with a conductor track structure 16 and a multiplicity of bonding surfaces 14 , 15. The conductor track structure is provided by a dielectric layer covered. The bond areas are arranged on the one hand at a fixed distance from one another on the periphery of the chip carrier and form the connection structure 14 there and on the other hand are regularly distributed on the surface. The bonding areas 14 , 15 remain recessed from the dielectric layer. The bond surfaces 14 arranged on the circumference are correspondingly connected to the 15 distributed on the surface by the interconnect structure 16 .
Auf die Schichtstruktur des TAB Films 1 wird - wie bisher die Chips - der Chipträger 13 aufgeklebt oder aufgelötet. Die Anschluß- bzw. Padstruktur 14 des Chipträgers 13 wird mit den Innenanschlüssen 4 der Metall- Filmstruktur auf dem TAB Film 1 in der TAB Technologie gebondet. Das geschieht z. B. durch Thermokompression oder Laserlöten. Auf diese Weise entsteht eine Standard-TAB Anordnung, die aus dem TAB Film 1 mit einer Metall-Filmstruktur und dem Chipträger 13 besteht.The chip carrier 13 is glued or soldered onto the layer structure of the TAB film 1 , as was the case with the chips. The connection or pad structure 14 of the chip carrier 13 is bonded to the internal connections 4 of the metal film structure on the TAB film 1 using TAB technology. This happens e.g. B. by thermocompression or laser soldering. In this way, a standard TAB arrangement is created, which consists of the TAB film 1 with a metal film structure and the chip carrier 13 .
Anschließend werden auf den Chipträger 13 die Halbleiterchips 8 - z. B. mit einen isolierenden Klebstoff - montiert. Die Anzahl der Halbleiterchips 8 ist lediglich durch die Größe des Chipträgers 13 und die Anzahl der zu Verfügung stehenden Anschlüsse begrenzt. Dann werden die auf den Oberflächen der Halbleiterchips angeordneten Bondpads durch ein Drahtbondverfahren mit den Bondflächen 14, 15 des Chipträgers verbunden.The semiconductor chips are then 8 on the chip carrier 13 - z. B. with an insulating adhesive - mounted. The number of semiconductor chips 8 is only limited by the size of the chip carrier 13 and the number of connections available. The bond pads arranged on the surfaces of the semiconductor chips are then connected to the bond areas 14 , 15 of the chip carrier by a wire bonding process.
Die Anordnung wird nun in bekannter Weise ausgestanzt, die Außenanschlüsse werden geformt und anschließend die Anordnung positionsgenau auf die Trägersubstratstruktur 9 (z. B. eine Leiterplatte oder einen Hybridträger) gelötet oder geklebt. Die Außenanschlüsse 5 der Metall-Filmstruktur auf dem TAB Film werden in der TAB Technologie mit den entsprechenden Anschlußflächen auf der Trägersubstratstruktur 9 gebondet. Das geschieht z. B. durch Thermokompression oder Laserlöten. Die elektrisch nicht genutzten Außenanschlüsse sorgen für eine zusätzliche flexible Haftung, so daß keine oder nur geringere thermomechanische Spannungen bei Temperaturzyklen auftreten (Fig. 2a).The arrangement is then punched out in a known manner, the external connections are formed and then the arrangement is soldered or glued onto the carrier substrate structure 9 (for example a printed circuit board or a hybrid carrier) in a precise position. The external connections 5 of the metal film structure on the TAB film are bonded in TAB technology to the corresponding connection areas on the carrier substrate structure 9 . This happens e.g. B. by thermocompression or laser soldering. The electrically unused external connections provide additional flexible adhesion, so that no or only lower thermomechanical stresses occur during temperature cycles ( Fig. 2a).
Es ist auch möglich einen noch leeren Chipträger 13 zunächst mit der Trägersubstratstruktur 9 in der TAB Technologie zu verbinden und erst anschließend die Halbleiterchips 8 zu montieren und zu bonden.It is also possible to first connect an empty chip carrier 13 to the carrier substrate structure 9 using TAB technology and only then to assemble and bond the semiconductor chips 8 .
Die Halbleiterchips und der Chipträger werden mit einem Kunststoffverguß abgedeckt. Hierdurch werden die bekanntlich feinen Drahtverbindungen gegen mechanische Beschädigungen geschützt.The semiconductor chips and the chip carrier are sealed with a plastic covered. As a result, the known fine wire connections protected against mechanical damage.
Die Fig. 3 zeigt den zentralen Teil der Fig. 2 in einer vergrößerten Darstellung. Man erkennt deutlich, daß die Halbleiterchips einerseits mit den Bondflächen am Umfang des Chipträgers und andererseits mit den auf der Oberfläche des Chipträger angeordneten Bondflächen mit Drahtbonds verbunden sind. Im dargestellten Ausführungsbeispiel sind drei Halbleiterchips unterschiedlicher Größe auf dem Chipträger plaziert. FIG. 3 shows the central part of FIG. 2 in an enlarged view. It can clearly be seen that the semiconductor chips are connected on the one hand to the bond areas on the periphery of the chip carrier and on the other hand to the bond areas arranged on the surface of the chip carrier with wire bonds. In the exemplary embodiment shown, three semiconductor chips of different sizes are placed on the chip carrier.
Die Fig. 4 zeigt den Chipträger der Fig. 3 allerdings ohne die Halbleiterchips. Die dargestellte Struktur der Leitbahnen und der Bondflächen, sowie deren Verbindung untereinander hat sich insbesondere hinsichtlich der Testbarkeit als besonders vorteilhaft erwiesen. FIG. 4 shows the chip carrier of FIG. 3, however, without the semiconductor chips. The structure of the interconnects and the bond areas, as well as their connection to one another, has proven to be particularly advantageous with regard to testability.
Die Fig. 2b zeigt den Aufbau des Polyimid Tägerfilms mit der darauf angeordneten Metall-Filmstruktur. Der Polyimid Trägerfilm weist beispielsweise eine Dicke von ca. 50 µm auf, auf der eine Kupferschicht mit einer Dicke von ca. 25 und eine Vorbelotung mit einer Dicke von ca. 15-20 µm aufgebracht werden. FIG. 2b shows the structure of the polyimide Tägerfilms having disposed thereon metal film structure. The polyimide carrier film has, for example, a thickness of approximately 50 μm, on which a copper layer with a thickness of approximately 25 and a pre-soldering with a thickness of approximately 15-20 μm are applied.
Eine weitere Vereinfachung ist möglich, wenn auf eine Ausstanzung der Innen- und Außenanschlüsse der Metall-Filmstruktur verzichtet werden kann. Dies wird durch Laserstrahlverlöten der Innen- und Außenanschlüsse durch den Trägerfilm hindurch ermöglicht. Hierdurch genügt eine einfache Stanzvorrichtung und der Einsatz eines gepulsten, fein fokusierenden Lasers zum anschließend Löten. Die Anschlußstrukturen werden durch den Film hindurch mit der Metall- Filmstruktur mittels eines temperaturgesteuerten Lasers verlötet. Hierbei ist wesentlich, daß kein hitzeempfindlicher und Laserlicht absorbierender Epoxidharzklebstoff zwischen dem dünnen Polyimidfilm und der Metall- Filmstruktur verwendet wird. Falls die Kanten des Chipträgers nicht isoliert wurden, ist eine entsprechend dünne Lackierung der Metall-Filmstruktur erforderlich, da der Film mit Hilfe einer Halterung angedrückt und mit einem hochauflösenden Bildverarbeitungssystem positioniert wird.A further simplification is possible if the die is cut out Internal and external connections of the metal film structure can be dispensed with can. This is done by laser beam soldering of the interior and External connections made possible through the carrier film. Hereby a simple punching device and the use of a pulsed, finely focusing laser for subsequent soldering. The Connection structures are passed through the film with the metal Film structure soldered using a temperature controlled laser. Here it is essential that no heat sensitive and laser light absorbing Epoxy resin adhesive between the thin polyimide film and the metal Film structure is used. If the edges of the chip carrier are not insulated is a correspondingly thin coating of the metal film structure required because the film is pressed with the help of a holder and with a high-resolution image processing system is positioned.
Die Temperatursteuerung des Lasers garantiert ein eng lokalisiertes Erhitzen, Schmelzen sowie Löten, aber vermeidet eine Schädigung des Polyimid Trägerfilms und des Chipträgers. Innen- und Außenanschlüsse können mit dem gleichen Lasersystem gelötet werden.The temperature control of the laser guarantees a closely localized Heating, melting and soldering, but prevents damage to the Polyimide carrier film and the chip carrier. Internal and external connections can be soldered with the same laser system.
Claims (7)
- 1. daß ein Chiprahmen (6), der aus einem isolierenden Material besteht, auf den TAB Film (1) montiert wird;
- 2. daß der Chiprahmen (6) eine Vielzahl von Anschlussflächen aufweist, die sich mit den Innenanschlüssen (4) der Metall-Filmstruktur (2, 3) decken und die mit den Innenanschlüssen (4) der Metall-Filmstruktur (2, 3) in TAB Technologie verbunden werden;
- 3. daß auf einer Trägersubstratstruktur (9) die Halbleiterchips (8) montiert werden;
- 4. daß die Anordnung bestehend aus TAB Film (1) mit Metall- Filmstruktur (2, 3) und Chiprahmen (6) ausgestanzt wird, die Außenanschlüsse (5) geformt werden und anschließend die Anordnung so auf der Trägersubstratstruktur (9) angeordnet wird, daß die Halbleiterchips (8) innerhalb des Chiprahmens (6) liegen;
- 5. daß die Außenanschlüsse (5) der Metall-Filmstruktur (2, 3) mit der Trägersubstratstruktur (9) in TAB Technologie verbunden werden, und
- 6. daß die Halbleiterchips (8) mit der Metall-Filmstruktur auf dem Chip- Rahmen durch Drahtbonds (11) verbunden werden.
- 1. that a chip frame ( 6 ), which consists of an insulating material, is mounted on the TAB film ( 1 );
- 2. that the chip frame ( 6 ) has a plurality of connection surfaces, which coincide with the inner connections ( 4 ) of the metal film structure ( 2 , 3 ) and with the inner connections ( 4 ) of the metal film structure ( 2 , 3 ) in TAB technology to be connected;
- 3. that the semiconductor chips ( 8 ) are mounted on a carrier substrate structure ( 9 );
- 4. that the arrangement consisting of TAB film ( 1 ) with metal film structure ( 2 , 3 ) and chip frame ( 6 ) is punched out, the external connections ( 5 ) are formed and then the arrangement is arranged on the carrier substrate structure ( 9 ), that the semiconductor chips ( 8 ) lie within the chip frame ( 6 );
- 5. that the outer connections ( 5 ) of the metal film structure ( 2 , 3 ) with the carrier substrate structure ( 9 ) are connected in TAB technology, and
- 6. that the semiconductor chips ( 8 ) with the metal film structure on the chip frame by wire bonds ( 11 ) are connected.
- 1. daß ein Chipträger (13), der aus einem isolierenden Material besteht, auf dem TAB Film (1) montiert wird;
- 2. daß der Chipträger (13) an seinem Umfang eine Vielzahl von Anschlussflächen (14) aufweist, die sich mit den Innenanschlüssen (4) der Metall-Filmstruktur decken und die mit den Innenanschlüssen (4) der Metall-Filmstruktur in TAB Technologie verbunden werden;
- 3. daß der Chipträger (13) eine Leitbahnstruktur (16) aufweist, die durch eine dielektrische Schicht abgedeckt ist, die ihrerseits eine Vielzahl von regelmäßig angeordneten Öffnungen aufweist, die als Bondflächen (15) dienen können, wobei die Leitbahnstruktur (16) mit den Anschlussflächen (14) verbunden ist;
- 4. daß auf dem Chipträger (13) die Halbleiterchips (8) montiert werden;
- 5. daß die Halbleiterchips (8) durch Drahtbonds (11) mit den Bondflächen (15) des Chipträgers (13) verbunden werden;
- 6. daß die Anordnung bestehend aus TAB Film (1) mit Metall- Filmstruktur (2, 3) und Chipträger (13) ausgestanzt wird, die Außenanschlüsse (5) geformt werden und anschließend die Anordnung auf einer Trägersubstratstruktur (9) angeordnet wird; und
- 7. daß die Außenanschlüsse (5) der Metall-Filmstruktur mit der Trägersubstratstruktur (9) in TAB Technologie verbunden werden.
- 1. that a chip carrier ( 13 ), which consists of an insulating material, is mounted on the TAB film ( 1 );
- 2. that the chip carrier ( 13 ) on its circumference has a plurality of connection surfaces ( 14 ) which overlap with the inner connections ( 4 ) of the metal film structure and which are connected to the inner connections ( 4 ) of the metal film structure in TAB technology ;
- 3. that the chip carrier ( 13 ) has an interconnect structure ( 16 ) which is covered by a dielectric layer which in turn has a plurality of regularly arranged openings which can serve as bonding surfaces ( 15 ), the interconnect structure ( 16 ) with the Pads ( 14 ) is connected;
- 4. that the semiconductor chips ( 8 ) are mounted on the chip carrier ( 13 );
- 5. that the semiconductor chips ( 8 ) are connected by wire bonds ( 11 ) to the bonding surfaces ( 15 ) of the chip carrier ( 13 );
- 6. that the arrangement consisting of TAB film ( 1 ) with metal film structure ( 2 , 3 ) and chip carrier ( 13 ) is punched out, the external connections ( 5 ) are formed and then the arrangement is arranged on a carrier substrate structure ( 9 ); and
- 7. that the external connections ( 5 ) of the metal film structure are connected to the carrier substrate structure ( 9 ) in TAB technology.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4433171A DE4433171C2 (en) | 1993-09-16 | 1994-09-16 | Process for assembling semiconductor chips using tape automated bonding technology |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4331461 | 1993-09-16 | ||
DE4433171A DE4433171C2 (en) | 1993-09-16 | 1994-09-16 | Process for assembling semiconductor chips using tape automated bonding technology |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4433171A1 DE4433171A1 (en) | 1995-03-23 |
DE4433171C2 true DE4433171C2 (en) | 1999-05-06 |
Family
ID=6497850
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4433171A Expired - Fee Related DE4433171C2 (en) | 1993-09-16 | 1994-09-16 | Process for assembling semiconductor chips using tape automated bonding technology |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4433171C2 (en) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102005063272A1 (en) * | 2005-12-30 | 2007-07-05 | Robert Bosch Gmbh | Flexible circuit board used in integrated electronic components, switches and display elements comprises a flexible substrate, a re-wiring unit arranged on the substrate and an electrically insulating protective layer |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0113895A1 (en) * | 1982-12-21 | 1984-07-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of laser soldering of flexible wirings |
EP0451363A1 (en) * | 1990-04-02 | 1991-10-16 | Hewlett-Packard Company | Tape-automated bonding frame adapter system |
-
1994
- 1994-09-16 DE DE4433171A patent/DE4433171C2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0113895A1 (en) * | 1982-12-21 | 1984-07-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Method of laser soldering of flexible wirings |
EP0451363A1 (en) * | 1990-04-02 | 1991-10-16 | Hewlett-Packard Company | Tape-automated bonding frame adapter system |
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---|
F&M, 1992, Bd. 100, H.11, S. 506-510 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4433171A1 (en) | 1995-03-23 |
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