DE4341553C1 - Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles - Google Patents
Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines LaserstrahlesInfo
- Publication number
- DE4341553C1 DE4341553C1 DE4341553A DE4341553A DE4341553C1 DE 4341553 C1 DE4341553 C1 DE 4341553C1 DE 4341553 A DE4341553 A DE 4341553A DE 4341553 A DE4341553 A DE 4341553A DE 4341553 C1 DE4341553 C1 DE 4341553C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- partial
- laser
- deflecting
- partial beams
- beam splitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/067—Dividing the beam into multiple beams, e.g. multifocusing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/0604—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams
- B23K26/0613—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by a combination of beams having a common axis
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/0643—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising mirrors
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/02—Positioning or observing the workpiece, e.g. with respect to the point of impact; Aligning, aiming or focusing the laser beam
- B23K26/06—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing
- B23K26/064—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms
- B23K26/0648—Shaping the laser beam, e.g. by masks or multi-focusing by means of optical elements, e.g. lenses, mirrors or prisms comprising lenses
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0905—Dividing and/or superposing multiple light beams
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0927—Systems for changing the beam intensity distribution, e.g. Gaussian to top-hat
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/09—Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
- G02B27/0938—Using specific optical elements
- G02B27/0977—Reflective elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/144—Beam splitting or combining systems operating by reflection only using partially transparent surfaces without spectral selectivity
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Homogenisie
ren der Lichtverteilung eines Laserstrahles.
Viele Laserstrahlquellen, wie zum Beispiel Multimode-
Festkörperlaser oder Excimer-Laser, haben eine Energie
dichteverteilung im Strahlquerschnitt, die von der er
wünschten, möglichst konstanten Energiedichte abweicht
und deren lokale Spitzen zu einer starken Beeinträchti
gung führen können. Wird mit diesen Laserstrahlen bei
spielsweise Material bearbeitet, kann durch diese nicht
konstante Energiedichteverteilung das Bearbeitungser
gebnis erheblich beeinträchtigt werden.
Es sind als Strahlhomogenisatoren ausgebildete Vorrich
tungen bekannt, die eine Homogenisierung durch Überlage
rung einzelner Teilstrahlen eines Strahlenbündels bewir
ken. Dies wird durch Vielfachreflexion des Strahlenbün
dels in einem verspiegelten Kanal (EP-OS 0 493 365 und
EP-OS 0 230 931) oder einer Multimode-Lichtleitfaser
(EP-OS 0 435 825) erzielt. Durch die Vielfachreflexion
wird eine große Anzahl virtueller Lichtquellen gebildet,
deren Teilstrahlen den Homogenisator unter einem relativ
großen Divergenzwinkel verlassen.
Bei einer anderen bekannten Vorrichtung (DE-OS
41 03 615) wird der Strahlquerschnitt in mehrere einzel
ne Strahlsegmente aufgeteilt. Die Segmente werden in ei
ner Bildebene, in der eine Blendeneinrichtung angeordnet
ist, überlappend abgebildet. Eine Strahlhomogenisierung
wird daher nur in einer definierten Ebene in einem be
stimmten Abstand vom Homogenisierer erreicht.
Mit diesen Vorrichtungen ist zwangsläufig eine Erhöhung
der Strahldivergenz verbunden, weshalb für eine effekti
ve Nutzung der so übertragenen optischen Energiefluß
dichte für die weitere Auslegung des Strahlenganges Op
tiken mit hohen numerischen Aperturen verwendet werden
müssen. Bei diesen Anordnungen ist außerdem die Trans
mission der Strahlen aufgrund von geometrischen Verlu
sten oder der Absorption der Strahlung in refraktiven
Elementen auf einen Transmissionsgrad von deutlich klei
ner als 1 begrenzt. Dies ist besonders im Wellenlängen
bereich der tiefen UV-Strahlung der Molekül- oder Exci
mer-Laser (die zum Beispiel Wellenlängen von 157 nm,
193 nm und 248 nm haben) kritisch. Strahlhomogenisatoren
mit refraktiven Elementen zeigen dort eine relativ star
ke Absorption der Strahlung in den optischen Elementen,
was zu einer Minderung der übertragenen Leistung und zu
Standzeitproblemen durch Bildung von Absorptionszentren
unter dem Einfluß der UV-Strahlung (Farbzentrenbildung)
führt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrich
tung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laser
strahls zu schaffen, bei der die Gesamtheit der austre
tenden Teilstrahlen die gleiche Strahldivergenz besitzt
wie der Primärlaserstrahl, so daß Optiken geringer nume
rischer Apertur verwendet werden können.
Diese Aufgabe wird bei der gattungsgemäßen Vorrichtung
erfindungsgemäß mit den kennzeichnenden Merkmalen des
Anspruches 1 gelöst.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung wird der Primärla
serstrahl durch den Strahlteiler aufgeteilt, wobei der
reflektierte Teilstrahl zu den Umlenkspiegeln gelenkt
wird. Der den Strahlteiler transmittierende Teilstrahl
tritt aus der Vorrichtung aus. Nach dem Umlauf des re
flektierten Teilstrahles zwischen den Umlenkspiegeln
wird er am Strahlteiler wiederum aufgeteilt, wobei der
reflektierte Teilstrahl mit dem transmittierten Teil
strahl den aus der Vorrichtung austretenden Gesamtstrahl
bildet. Durch die beiden, einen Versatz aufweisenden
Teilstrahlen ergibt sich eine sehr hohe Homogenität des
Laserstrahlbündels, wobei der Gesamtstrahl die gleiche
Strahldivergenz aufweist wie der Primärlaserstrahl. Die
Umlenkspiegel haben eine geringe numerische Apertur und
sind kostengünstig. Der Aufwand zu ihrer Auslegung ist
außerdem gering. Mit Ausnahme des Strahlteilers, der
sehr dünn sein kann, werden nur reflektive optische Ele
mente verwendet, so daß die speziell im UV-Bereich auf
tretenden Probleme erhöhter Absorption, die beim Einsatz
refraktiver Elemente auftreten, zuverlässig vermieden
werden. Wird eine ungerade Zahl von Umlenkspiegeln ver
wendet, so weist der aus den Teilstrahlen gebildete Ge
samtstrahl eine bezüglich des Schwerpunktes des Primär
laserstrahles symmetrische Energieverteilung auf. Wird
eine gerade Zahl von Umlenkspiegeln verwendet, so über
lappen sich die den Gesamtstrahl bildenden Teilstrahlen
mehr oder weniger. Dadurch ergibt sich ein Gesamtstrahl
mit einem breiteren Strahlprofil, dessen Modulation der
Energieverteilung durch den Versatz am Rekombinations
ort, d. h. dem Strahlteiler, eingestellt werden kann. Die
erfindungsgemäße Vorrichtung wird vorzugsweise in der
Materialbearbeitung mittels Laserstrahlung eingesetzt.
Hierbei erfolgt eine gleichmäßige, flächige Bestrahlung.
Auch kann eine strukturierte Maske verkleinert abgebil
det werden. Durch die gleichförmige Energiedichte der
Strahlung wird ein gleichmäßiger Bearbeitungsgrad er
zielt.
Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus den wei
teren Ansprüchen, der Beschreibung und den Zeichnungen.
Die Erfindung wird anhand einiger in den Zeichnungen
dargestellter Ausführungsbeispiele näher erläutert. Es
zeigen
Fig. 1 in schematischer Darstellung eine erste Aus
führungsform einer erfindungsgemäßen Vor
richtung,
Fig. 2 verschiedene Formen von Laserstrahlen nach
Verlassen der erfindungsgemäßen Vorrichtung,
Fig. 3 in schematischer Darstellung eine zweite
Ausführungsform einer erfindungsgemäßen Vor
richtung,
Fig. 4 in schematischer Darstellung weitere Ausfüh
rungsformen der erfindungsgemäßen Vorrich
tung,
Fig. 5 in schematischer Darstellung die Anordnung
der erfindungsgemäßen Vorrichtung in einer
Bearbeitungsanlage.
Die Vorrichtung gemäß Fig. 1 dient dazu, die Energie
dichte eines Laserstrahlungsbündels zu homogenisieren,
ohne den maximalen Divergenzwinkel des Strahlenbündels
zu vergrößern. Die Vorrichtung weist hierzu drei Umlenk
spiegel 1 bis 3 auf, die so angeordnet sind, daß die
Auftreffpunkte 12 bis 14 der Laserstrahlen auf die Spie
gelflächen 15 bis 17 der Umlenkspiegel 1 bis 3 in einer
gemeinsamen Ebene liegen. Im dargestellten Ausführungs
beispiel sind die Umlenkspiegel 1 bis 3 und ein Strahl
teiler 4, der im Bereich zwischen den Umlenkspiegeln 1
und 3 angeordnet ist, in einer Ebene angeordnet. Der vom
(nicht dargestellten) Laser kommende Laserstrahl 5 wird
durch den Strahlteiler 4 in zwei Teilstrahlen 6 und 8
aufgespalten. Der Teilstrahl 8 durchläuft den Strahltei
ler 4 ungehindert. Der andere Teilstrahl 6 entsteht
durch Reflexion am Strahlteiler 4 und trifft auf die
Spiegelfläche 17 des Umlenkspiegels 1. Dort wird der
Teilstrahl 6 zum Umlenkspiegel 2 reflektiert. Der re
flektierte Teilstrahl 6 trifft im Punkt 13 auf die Spie
gelfläche 16 des Umlenkspiegels 2, an dem der Teilstrahl
zum Umlenkspiegel 3 hin reflektiert wird. Der Teilstrahl
6 trifft dort im Auftreffpunkt 12 auf die Spiegelfläche
15, an der dieser Teilstrahl zum Strahlteiler 4 hin re
flektiert wird. An ihm wird der Teilstrahl 6 teilweise
reflektiert, wodurch der Teilstrahl 7 entsteht, während
ein Teilstrahl 11 durch den Strahlteiler 4 hindurchtritt
und im Auftreffpunkt 14′ auf die Spiegelfläche 17 des
Umlenkspiegels 1 trifft. An den Auftreffpunkten 12′ und
13′ wird der Teilstrahl 11 in gleicher Weise wie der
Teilstrahl 6 jeweils reflektiert, bis er wieder zum
Strahlteiler 4 gelangt. An ihm wird der Teilstrahl 11
wiederum in zwei Teilstrahlen aufgespalten, die entspre
chend den Teilstrahlen 6 und 8 den zuvor beschriebenen
Weg nehmen.
Der Reflexionsgrad des Strahlteilers 4 ist so ausgelegt,
daß die Summation aller entsprechend Teilstrahl 8 ver
laufenden Teilstrahlen und die Summation aller entspre
chend Teilstrahl 7 verlaufenden Teilstrahlen möglichst
gleiche Werte der Strahlungsintensitäten bzw. Energie
dichten ergeben. Die Transmission der Teilstrahlen er
gibt sich aus folgender Beziehung:
Hierbei bedeuten:
Aus diesen Beziehungen ergibt sich bei verlustfreien Um
lenkspiegeln eine Reflexion RTS des Strahlteilers 4 von
0,666 für eine Strahlteilung von 50%.
Der Strahlversatz zwischen den Teilstrahlen 7 und 8 kann
durch eine laterale Verschiebung eines der Umlenkspiegel
1 bis 3 eingestellt werden. In Fig. 1 ist beispielhaft
der Umlenkspiegel 3 in X- und/oder in Z-Richtung ver
stellbar. Auch kann ein Versatz zwischen den Teilstrah
len 7 und 8 durch ein entgegengesetztes Verkippen zweier
Umlenkspiegel oder eines Umlenkspiegels und des Strahl
teilers 4 erreicht werden.
In Fig. 1 ist die Intensitätsverteilung des Laserstrah
les 5 anhand der Intensitätskurve 9 dargestellt. Diese
Intensitätskurve 9 verläuft ähnlich einer Glockenkurve.
Durch eine entsprechende Anordnung der Umlenkspiegel 1
bis 3 und des Strahlteilers 4 kann diese Intensitätskur
ve 9 in die Intensitätskurve 10 (gestrichelte Linie)
verändert werden, indem in der beschriebenen Weise der
Laserstrahl 5 in die beiden Teilstrahlen 7 und 8 aufge
teilt wird. Da diese beiden Teilstrahlen 7, 8 einen
Strahlenversatz aufweisen, ergibt sich eine Intensitäts
kurve 10 (gestrichelte Linie in Fig. 1) des aus den bei
den Teilstrahlen gebildeten Laserstrahls. Somit kann,
wie ein Vergleich der Intensitätskurven 9 und 10 bei
spielhaft zeigt, aus einer Energiedichteverteilung des
Laserstrahles 5 gemäß der Kurve 9 eine plateauähnliche
Verteilung entsprechend der Intensitätskurve 10 erzeugt
werden. Die Größe des geeigneten Strahlenversatzes zwi
schen den beiden Teilstrahlen 7 und 8 ist abhängig von
der Struktur des Primärstrahles 5. Durch die beschriebe
nen Verstellungen der Umlenkspiegel 1 bis 3 und/oder des
Strahlteilers 4 lassen sich auf diese Weise unterschied
liche Energiedichteverteilungen leicht einstellen.
Zusätzlich kann durch die entstehende Spiegelung des
Teilstrahles 7 an der Y-Z-Ebene, wie in Fig. 2 gezeigt
ist, in Verbindung mit der beschriebenen translatori
schen Verschiebung der Teilstrahlen 7 und 8 gegeneinan
der eine Drehung der Teilstrahlen 7, 8 um die Achse des
einfallenden Primärstrahles 5 erzeugt werden. Die Symme
trieebene der Spiegelung wird durch die Ausbreitungs
richtung des Primärstrahles 5 und durch den Normalenvek
tor der durch die Auftreffpunkte 12 bis 14 des Teil
strahles 6 auf den Umlenkspiegeln 1 bis 6 auf gespannten
Ebene definiert.
Für eine ungerade Zahl von Umlenkspiegeln (i = 3, 5 . . . )
sind die Teilstrahlen spiegelbildlich. Dieser Fall wird
gewählt, wenn es gilt, aus einem asymmetrischen Strahl
profil durch genaue und leicht versetzte Überlagerung
der beiden Teilstrahlen 7 und 8 ein symmetrisches
Strahlprofil zu erzeugen.
Ein einziger Umlenkspiegel (i = 1) kommt aus geometri
schen Gründen nicht in Frage.
Fig. 2 zeigt die Orientierung eines Strahlenbündels 10
mit rechteckigem Querschnitt nach Verlassen des Homoge
nisators in Abhängigkeit der Orientierung des Rechteck
querschnittes zur Symmetrieebene der Spiegelung. Die in
den Fig. 2a bis 2d dargestellten Ausführungsbeispiele
von Strahlenbündeln entstehen bei einer ungeraden Anzahl
von Umlenkspiegeln. Der in Fig. 2a schematisch darge
stellte Strahlquerschnitt ist zum Beispiel typisch für
Excimer-Laser, bei denen aufgrund der Strahlgeometrie in
zwei Raumrichtungen unterschiedliche Strahldivergenzen
auftreten. Bei der Fokussierung der Strahlung führt dies
zu elliptischen Strahldurchmessern. Bei einer Ausbildung
des Strahlenbündels entsprechend den Fig. 2b und 2d ist
eine Mittelung über beide Divergenzen im Überschnei
dungsbereich der Teilbündel 7 und 8 möglich, so daß eine
räumlich isotrope Verteilung der Strahldivergenz erzielt
werden kann. Wie die Fig. 2a und 2c zeigen, liegen die
beiden Teilstrahlen 7 und 8 übereinander, während sie im
Ausführungsbeispiel nach den Fig. 2b und 2d einander
kreuzen.
Auf die beschriebene Weise läßt sich das aus den Teil
strahlen 7, 8 gebildete Strahlenbündel so einstellen,
daß die gewünschte Energiedichteverteilung entsteht. Wie
in Fig. 1 beispielhaft dargestellt worden ist, kann das
Strahlenbündel mit einem breiteren und/oder höheren Ma
ximum ausgebildet werden als die Teilstrahlen 7 oder 8.
Bei einer geraden Anzahl von Umlenkspiegeln bleiben die
Teilstrahlen ungespiegelt. Eine solche Anordnung wird
beispielsweise dann gewählt, wenn aus einem Strahl mit
einem ausreichend symmetrischen Profil ein breiterer
Teilstrahl durch Versatz der beiden Teilstrahlen 7, 8
erzeugt werden soll. Ein Ausführungsbeispiel hierfür ist
in Fig. 3 dargestellt. Bei dieser Ausführungsform hat
die Vorrichtung vier Umlenkspiegel 18 bis 21. Im Bereich
zwischen den beiden Umlenkspiegeln 18 und 19 befindet
sich der Strahlteiler 4. Der primäre Laserstrahl 5
trifft wie bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 auf den
Strahlteiler 4 und wird dort in die beiden Teilstrahlen
6 und 8 aufgeteilt. Der Teilstrahl 6 wird am Strahltei
ler 4 zum Umlenkspiegel 19 reflektiert, während der an
dere Teilstrahl 8 den Strahlteiler 4 passiert. Am Um
lenkspiegel 19 wird der Teilstrahl zum Umlenkspiegel 20
umgelenkt, an dem er wiederum zum Umlenkspiegel 21 und
von dort zum Umlenkspiegel 18 reflektiert wird. Am Um
lenkspiegel 18 wird der Teilstrahl 6 zum Strahlteiler 4
reflektiert. Dort wird der Teilstrahl 6 wiederum in zwei
Teilstrahlen aufgeteilt, wobei der reflektierte Teil
strahl 7 divergierend zum Teilstrahl 8 verläuft. Der an
dere, den Strahlteiler 4 passierende Teilstrahl 6 läuft
dann wieder in der beschriebenen Weise innerhalb des op
tischen Systems um. Somit wird aus dem Primärlaserstrahl
5 ein Strahlenbündel 7, 8 gebildet, das breiter ist als
der Primärlaserstrahl 5.
Mit den beschriebenen Vorrichtungen ist es möglich, eine
Mittelung über einen einzelnen Laserpuls während seiner
Pulsdauer vorzunehmen. Voraussetzung hierfür ist, daß
die Pulsdauer größer ist als die Laufzeit zwischen den
Umlenkspiegeln 1 bis 3 bzw. 18 bis 21. Für einen Exci
mer-Laser mit seiner typischen Pulsdauer im 10 ns-Be
reich und mit Strahlquerschnitten von einigen cm² ist
diese Bedingung leicht zu erfüllen. Wird eine Laser
strahlung mit einer kürzeren Pulsdauer verwendet, muß
die Laufzeit des Laserstrahles zwischen den Umlenkspie
geln verkleinert werden, weil anderenfalls die Teil
strahlen 7, 8 als zwei zeitlich voneinander getrennte
Pulse erscheinen. Die Anpassung der Laufzeit ist bei
spielsweise durch Verkleinern der gesamten Anordnung
möglich.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 3 kann die Modulation
der Energieverteilung durch den Versatz der Teilstrahlen
7, 8 am Rekombinationsort, d. h. am Strahlteiler 4, ein
gestellt werden.
Zur Erzeugung einer sogenannten Top-Hat-Energievertei
lung können mehrere Vorrichtungen gemäß Fig. 3 in Reihe
geschaltet werden. Wenn hierbei zweidimensionale Top-
Hat-Profile erzeugt werden sollen, dann werden diese
Vorrichtungen für zueinander senkrechte Richtungen ein
gesetzt, wodurch eine Symmetrisierung der Energievertei
lung in beiden Richtungen des Strahlprofils erfolgt.
Auch bei der Vorrichtung gemäß Fig. 1 können mehrere
Vorrichtungen hintereinander für zueinander senkrechte
Richtungen eingesetzt werden, um eine Symmetrisierung
der Energieverteilung in beiden Richtungen des Strahl
profiles zu erhalten.
In Fig. 4 ist die Vorrichtung entsprechend Fig. 3 mit
den vier Umlenkspiegeln 18 bis 21 und dem Strahlteiler 4
dargestellt. Die Vorrichtung ist so orientiert, daß die
Auftreffpunkte der Strahlen auf den Umlenkspiegeln 18
bis 21 in der Y-Z-Ebene orientiert sind. Der Laserstrahl
5 wird in der anhand von Fig. 3 beschriebenen Weise re
flektiert und in Teilstrahlen aufgeteilt. Die Intensi
tätsverteilung des Laserstrahles 5 in den zwei zueinan
der senkrechten Raumrichtungen X und Y ist im Schaufen
ster 22 dargestellt.
Das Schaufenster 23 zeigt die Intensitätsverteilung des
Laserstrahles nach der Homogenisierung in Y-Richtung.
In Fig. 4 ist die Vorrichtung mit den vier Umlenkspie
geln 18 bis 21 und dem Strahlteiler 4 in einer solchen
Lage dargestellt, daß die Auftreffpunkte der Strahlen
auf den Umlenkspiegeln 18 bis 21 in der X-Z-Ebene lie
gen. Dadurch wird, wie das Schaufenster 24 zeigt, der
Laserstrahl in X-Richtung homogenisiert.
Die beschriebenen Vorrichtungen eignen sich zum Einsatz
in der Materialbearbeitung, in der Medizintechnik und
dergleichen.
Fig. 5 zeigt beispielhaft eine Anordnung der Vorrichtung
in einer Bearbeitungsanlage. Eine schematisch darge
stellte Laserstrahlquelle 25 sendet den Laserstrahl 5
aus. Die Vorrichtung 26 ist entsprechend der Ausfüh
rungsform nach Fig. 1 dargestellt, kann aber auch eine
Ausbildung entsprechend Fig. 3 haben. Die Vorrichtung 26
ist um die Achse des Laserstrahles 5 drehbar angeordnet.
In der Vorrichtung 26 wird der Laserstrahl 5 in der be
schriebenen Weise homogenisiert und tritt als homogeni
sierter Laserstrahl 27 aus der Vorrichtung 26 aus und
trifft auf einen Umlenkspiegel 28, der den homogenisier
ten Laserstrahl 27 zu einer Bearbeitungsoptik oder -lin
se 29 umlenkt. Durch diese Optik 29 wird der Laserstrahl
auf ein Werkstück 30 gerichtet, das er bearbeitet.
Claims (8)
1. Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung
eines Laserstrahles,
dadurch gekennzeichnet, daß im Strahlengang des La
serstrahles (5) mindestens ein optisches System
liegt, das mindestens einen Strahlteiler (4) und we
nigstens drei Umlenkspiegel (1 bis 3; 18 bis 21)
aufweist, und daß der vom Strahlteiler (4) reflek
tierte und von den Umlenkspiegeln (1 bis 3; 18 bis
21) umgelenkte Teilstrahl (6, 11) sowie der vom
Strahlteiler (4) transmittierte Teilstrahl (8) zu ei
nem Gesamtstrahl (7, 8) zusammengeführt werden, des
sen Teilstrahlen (7, 8) einen Versatz aufweisen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, daß die Auftreffpunkte (12
bis 14; 12′ bis 14′) des zwischen den Umlenkspiegeln
(1 bis 3; 18 bis 21) umlaufenden Teilstrahls (6, 11)
an den Spiegelflächen (15 bis 17) der Umlenkspiegel
in einer gemeinsamen Ebene liegen.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß zumindest einer der Um
lenkspiegel (1 bis 3; 18 bis 21) zur Einstellung des
Versatzes zwischen den Teilstrahlen (7, 8) in X-
oder Z-Richtung verstellbar ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet, daß der Umlenkspiegel (3) in
X- und Z-Richtung verstellbar ist.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlteiler (4)
kippbar ist.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß zwei einander benachbar
te Umlenkspiegel (1 bis 3; 18 bis 21) gegeneinander
kippbar sind.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Symmetrisierung der
Energieverteilung in zwei zueinander senkrechten
Richtungen zwei optische Systeme hintereinander ge
schaltet sind.
8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung einer Top-
Hat-Energieverteilung eine gerade Zahl von Umlenk
spiegeln (18 bis 21) vorgesehen ist.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4341553A DE4341553C1 (de) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4341553A DE4341553C1 (de) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4341553C1 true DE4341553C1 (de) | 1995-04-27 |
Family
ID=6504301
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4341553A Expired - Fee Related DE4341553C1 (de) | 1993-12-07 | 1993-12-07 | Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4341553C1 (de) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19724060A1 (de) * | 1997-06-07 | 1998-12-10 | Univ Stuttgart Strahlwerkzeuge | Verfahren zur Erzeugung eines homogenen, über den gesamten Strahlquerschnitt im wesentlichen konstante Energiedichte aufweisenden Laserstrahles sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
EP1081460A2 (de) * | 1999-08-28 | 2001-03-07 | HILTI Aktiengesellschaft | Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät |
EP1107039A2 (de) * | 1999-12-10 | 2001-06-13 | Carl Zeiss | System zur Kompensation von Richtungs- und Positionsschwankungen eines von einem Laser erzeugten Lichtes |
DE10144521C1 (de) * | 2001-09-10 | 2003-05-08 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Laserbearbeitung mittels eines Laserstrahles |
GB2432964A (en) * | 2004-12-23 | 2007-06-06 | Micromass Ltd | Cross sectionally controlled laser beam |
DE102006004075A1 (de) * | 2006-01-28 | 2007-08-09 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Verringerung des Intensitätsrauschens und Mikroskop mit Vorrichtung zur Verringerung des Intensitätsrauschens |
WO2009000456A1 (de) * | 2007-06-26 | 2008-12-31 | Universität Bielefeld | Verfahren und vorrichtung zur stabilisierung eines laserstrahls |
WO2014108139A1 (de) * | 2013-01-09 | 2014-07-17 | Universität Stuttgart | Optische umlaufvorrichtung zum einkoppeln eines laserstrahles und verfahrenzum positionieren eines laserstrahles |
DE102014008355A1 (de) * | 2014-06-04 | 2015-12-17 | Innovavent Gmbh | Optisches System zum Homogenisieren der Intensität von Laserstrahlung |
CN105195892A (zh) * | 2014-06-11 | 2015-12-30 | 江苏益林金刚石工具有限公司 | 一种三工位金刚石工具激光焊接分光系统 |
GB2557328A (en) * | 2016-12-07 | 2018-06-20 | Csir | Laser apparatus and method having plural excitation sources with associated beam splitting arrangements for adaptive control |
CN111399238A (zh) * | 2020-04-27 | 2020-07-10 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种基于行星转的高能激光束近场强度匀化装置 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0493365A2 (de) * | 1991-08-27 | 1992-07-01 | Kaman Aerospace Corporation | Homogenisieranordnung für Laserstrahlung und dieselbe enthaltendes abbildendes Lidarsystem |
-
1993
- 1993-12-07 DE DE4341553A patent/DE4341553C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0493365A2 (de) * | 1991-08-27 | 1992-07-01 | Kaman Aerospace Corporation | Homogenisieranordnung für Laserstrahlung und dieselbe enthaltendes abbildendes Lidarsystem |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19724060A1 (de) * | 1997-06-07 | 1998-12-10 | Univ Stuttgart Strahlwerkzeuge | Verfahren zur Erzeugung eines homogenen, über den gesamten Strahlquerschnitt im wesentlichen konstante Energiedichte aufweisenden Laserstrahles sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
DE19724060C2 (de) * | 1997-06-07 | 2001-09-13 | Univ Stuttgart Strahlwerkzeuge | Verfahren zur Erzeugung eines homogenen, über den gesamten Strahlquerschnitt im wesentlichen konstante Energiedichte aufweisenden Laserstrahles sowie Vorrichtung zur Durchführung dieses Verfahrens |
EP1081460A2 (de) * | 1999-08-28 | 2001-03-07 | HILTI Aktiengesellschaft | Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät |
EP1081460A3 (de) * | 1999-08-28 | 2002-07-24 | HILTI Aktiengesellschaft | Laseranordnung für ein mehrstrahliges Laserrichtgerät |
EP1107039A2 (de) * | 1999-12-10 | 2001-06-13 | Carl Zeiss | System zur Kompensation von Richtungs- und Positionsschwankungen eines von einem Laser erzeugten Lichtes |
EP1107039A3 (de) * | 1999-12-10 | 2003-08-27 | Carl Zeiss | System zur Kompensation von Richtungs- und Positionsschwankungen eines von einem Laser erzeugten Lichtes |
DE10144521C1 (de) * | 2001-09-10 | 2003-05-08 | Lpkf Laser & Electronics Ag | Verfahren und Vorrichtung zur Laserbearbeitung mittels eines Laserstrahles |
US6627845B2 (en) | 2001-09-10 | 2003-09-30 | Lpkf Laser & Electronic Ag | Method and apparatus for laser machining using a laser beam |
GB2432964A (en) * | 2004-12-23 | 2007-06-06 | Micromass Ltd | Cross sectionally controlled laser beam |
GB2432964B (en) * | 2004-12-23 | 2009-06-24 | Micromass Ltd | Mass spectrometer |
DE102006004075B4 (de) * | 2006-01-28 | 2008-01-03 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Verringerung des Intensitätsrauschens und Mikroskop mit Vorrichtung zur Verringerung des Intensitätsrauschens |
DE102006004075A1 (de) * | 2006-01-28 | 2007-08-09 | Leica Microsystems Cms Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Verringerung des Intensitätsrauschens und Mikroskop mit Vorrichtung zur Verringerung des Intensitätsrauschens |
WO2009000456A1 (de) * | 2007-06-26 | 2008-12-31 | Universität Bielefeld | Verfahren und vorrichtung zur stabilisierung eines laserstrahls |
WO2014108139A1 (de) * | 2013-01-09 | 2014-07-17 | Universität Stuttgart | Optische umlaufvorrichtung zum einkoppeln eines laserstrahles und verfahrenzum positionieren eines laserstrahles |
US9601897B2 (en) | 2013-01-09 | 2017-03-21 | Universitaet Stuttgart | Optical rotating device for injecting a laser beam and method for positioning a laser beam |
DE102014008355A1 (de) * | 2014-06-04 | 2015-12-17 | Innovavent Gmbh | Optisches System zum Homogenisieren der Intensität von Laserstrahlung |
DE102014008355B4 (de) | 2014-06-04 | 2018-05-03 | Innovavent Gmbh | Optisches System zum Homogenisieren der Intensität von Laserstrahlung |
CN105195892A (zh) * | 2014-06-11 | 2015-12-30 | 江苏益林金刚石工具有限公司 | 一种三工位金刚石工具激光焊接分光系统 |
GB2557328A (en) * | 2016-12-07 | 2018-06-20 | Csir | Laser apparatus and method having plural excitation sources with associated beam splitting arrangements for adaptive control |
US10084279B2 (en) | 2016-12-07 | 2018-09-25 | Csir | Laser apparatus and method having plural excitation sources with associated beam splitting arrangements for adaptive control |
CN111399238A (zh) * | 2020-04-27 | 2020-07-10 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种基于行星转的高能激光束近场强度匀化装置 |
CN111399238B (zh) * | 2020-04-27 | 2021-12-03 | 中国人民解放军国防科技大学 | 一种基于行星转的高能激光束近场强度匀化装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE502007012156C5 (de) | Vorrichtung zur strahlformung | |
DE10136611C1 (de) | Optische Anordnung zur Formung und Homogenisierung eines von einer Laserdiodenanordnung ausgehenden Laserstrahls | |
EP3094444B1 (de) | Bearbeitungsvorrichtung und -verfahren zur laserbearbeitung einer oberfläche | |
DE4141890C2 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Materialabtragung von der Oberfläche eines Objektes, insbesondere von der Hornhaut eines Auges | |
DE102007057868B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung einer linienförmigen Intensitätsverteilung | |
EP2288955B1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur strahlformung | |
EP1528425B1 (de) | Anordnung und Vorrichtung zur optischen Strahlbündeltransformation | |
EP0835715A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Laser-Behandlung eines Werkstückes mittels eines Diodenlasers | |
EP0525528A1 (de) | Anordnung zur Kohärenzreduktion und Strahlformung eines Laserstrahls | |
DE4341553C1 (de) | Vorrichtung zum Homogenisieren der Lichtverteilung eines Laserstrahles | |
EP0863588A2 (de) | Laseroptik sowie Diodenlaser | |
DE69724331T2 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Düsenkörpers und Arbeitsgerät | |
DE102004034253A1 (de) | Vorrichtung für die Beleuchtung einer Fläche | |
EP2591875B1 (de) | Laser mit Strahltransformationslinse | |
DE10308708A1 (de) | Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Objektes mit Laserstrahlung, Bearbeitungsvorrichtung für die Bearbeitung eines Objektes sowie Druckvorrichtung für das Drucken von Bildinformationen | |
DE102008027229B4 (de) | Vorrichtung zur Strahlformung | |
DE102016121547A1 (de) | Vorrichtung zur Beaufschlagung eines Arbeitsbereichs mit Laserstrahlung, insbesondere 3D-Druck-Vorrichtung | |
DE102019204032B4 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung einer räumlich modulierbaren Leistungsdichteverteilung aus Laserstrahlung | |
EP1068923B1 (de) | Verfahren zur Erzeugung einer Intensitätsverteilung über einen Arbeitslaserstrahl sowie Vorrichtung hierzu | |
EP1308235B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung der Laserstrahlenergie | |
DE3317022C2 (de) | ||
WO1997043078A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zum abtragen von material mit einem laserstrahl | |
DE19820154A1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur optischen Strahltransformation | |
DE102020109422B4 (de) | Transformationsvorrichtung für Laserstrahlung und Laservorrichtung | |
DE102019206976B3 (de) | Optisches System zum Erzeugen zweier Laserfokuslinien sowie Verfahren zum gleichzeitigen Bearbeiten zweier einander gegenüberliegender, paralleler Werkstückseiten eines Werkstücks |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8320 | Willingness to grant licenses declared (paragraph 23) | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |