DE4318767A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer Filme - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer FilmeInfo
- Publication number
- DE4318767A1 DE4318767A1 DE19934318767 DE4318767A DE4318767A1 DE 4318767 A1 DE4318767 A1 DE 4318767A1 DE 19934318767 DE19934318767 DE 19934318767 DE 4318767 A DE4318767 A DE 4318767A DE 4318767 A1 DE4318767 A1 DE 4318767A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- wavelength
- measuring
- layer thickness
- infrared
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 30
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 5
- GGYFMLJDMAMTAB-UHFFFAOYSA-N selanylidenelead Chemical compound [Pb]=[Se] GGYFMLJDMAMTAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 102000003712 Complement factor B Human genes 0.000 claims description 3
- 108090000056 Complement factor B Proteins 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 claims 2
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 claims 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 2
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 2
- 101150087426 Gnal gene Proteins 0.000 description 1
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 1
- 238000000892 gravimetry Methods 0.000 description 1
- 125000001475 halogen functional group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229940072033 potash Drugs 0.000 description 1
- 235000015320 potassium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Substances [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B45/00—Devices for surface or other treatment of work, specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills
- B21B45/02—Devices for surface or other treatment of work, specially combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills for lubricating, cooling, or cleaning
- B21B45/0266—Measuring or controlling thickness of liquid films
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21C—MANUFACTURE OF METAL SHEETS, WIRE, RODS, TUBES OR PROFILES, OTHERWISE THAN BY ROLLING; AUXILIARY OPERATIONS USED IN CONNECTION WITH METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL
- B21C51/00—Measuring, gauging, indicating, counting, or marking devices specially adapted for use in the production or manipulation of material in accordance with subclasses B21B - B21F
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
- G01B11/0633—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection using one or more discrete wavelengths
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung
zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. or
ganischer Filme auf einer Oberfläche, insbesondere der
eingeölten Oberfläche von Kaltwalzerzeugnissen wie Kalt
band.
Kaltwalzerzeugnisse werden aus Gründen des Korrosions
schutzes und der Schmierung bei weiterverarbeitenden Pro
duktionsschritten eingeölt. Neben einem ausreichenden
Korrosionsschutz kommt es auf eine leichte Abwaschbarkeit
an. Hierbei ist es erforderlich, eine möglichst gleichmä
ßige Ölbeschichtung zu erreichen sowie die ölbe
schichteten und gereinigten Bänder in der Produktionsli
nie zu überwachen und dabei die Ölschichtdicke quantita
tiv zu bestimmen.
Die Schichtdicke des Ölfilms liegt dabei zwischen 0 und 5
µm entsprechend etwa 0 bis 5 g/m² Ölauflage.
Bekannt ist es, eine Ölschicht auf Kaltband gravimetrisch
zu messen, indem ein ölbeschichtetes Blech bestimmter
Größe gewogen und mit einem entsprechenden unbe
schichteten Blechstück verglichen wird. Dieses Verfahren
ist zeit- und personalintensiv und erlaubt keine Messung
im Durchlauf.
Demgegenüber ist das Fluoreszenzmeßverfahren für eine
Schichtdickenmessung im Durchlaufverfahren geeignet, je
doch hängt das Meßergebnis stark von der Ölzusammenset
zung ab und benötigen insbesondere bei synthetischen Ölen
den Zusatz von Fluoreszenzfarbstoffen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren
und eine Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke von dün
ner organischen bzw. organischer Filme zu schaffen, mit
denen sich die Schichtdicke sowohl punktweise als auch im
Durchlauf schnell und ausreichend genau bestimmen läßt.
Ausgehend von dieser Aufgabenstellung wird ein Verfahren
vorgeschlagen, bei dem erfindungsgemäß die der Schicht
dicke proportionale Absorption von Infrarotlicht im Wel
lenlängenbereich der CH-Valenzschwingungen von λ = 3,3
bis 3,5 µm durch Reflexionsmessung mit einer Reflexions
messung von Infrarotlicht im nicht absorbierten Wellen
längenbereich von λ = 3,6 bis 4,2 µm, vorzugsweise min
destens 3,7 µm, beispielsweise etwa 3,8 µm verglichen und
daraus die Schichtdicke entsprechend der Formel
d = F × ln A/B mit
d = Schichtdicke
F = Kalibrierfaktor
A = Quotient aus dem Meßsignal mit der Wellenlänge λM und dem Referenzsignal mit der Wellenlänge λR auf freier Oberfläche (Nullpunkt)
B = Quotient aus Meß- und Referenzsignal auf belegter Oberfläche
d = Schichtdicke
F = Kalibrierfaktor
A = Quotient aus dem Meßsignal mit der Wellenlänge λM und dem Referenzsignal mit der Wellenlänge λR auf freier Oberfläche (Nullpunkt)
B = Quotient aus Meß- und Referenzsignal auf belegter Oberfläche
berechnet und/oder angezeigt wird.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Schichtdickenmessung
beruht auf der Ausnutzung der Infrarotabsorption durch
den Film im Bereich der CH-Valenzschwingungen bei Wellen
längen von beispielsweise λ = 3,3 bis 3,5 µm. Das Ergeb
nis dieser Reflexionsmessung wird mit dem Ergebnis einer
gleichzeitigen oder späteren Reflexionsmessung vergli
chen, die im Wellenlängenbereich von λ = 3,6 bis 4,2
µm, beispielsweise bei 3,8 µm erfolgt, d. h. bei einer
Wellenlänge, die nicht zu einer Absorption durch den Film
führt. Aus den beiden Meßwerten läßt sich nach der ange
gebenen Formel die Schichtdicke berechnen, wenn der Kali
brierfaktor F vorab durch Ermittlung des Auflagewertes
mittels eines absoluten Vergleichsverfahrens, insbeson
dere mittels Gravimetrie, bestimmt wird.
Um den Einfluß des Reflexuntergrundes, d. h. der Träger
oberfläche zu minimieren, kann der Faktor A auf einer
freien Oberfläche durch Reflexionsmessung der Wellenlän
gen von beispielsweise λ₁ = 3,3 bis 3,5 µm und λ₂ =
3,8 µm und Quotientbildung sowie der Faktor B auf beleg
ter Oberfläche durch Reflexionsmessung der Wellenlängen
beispielsweise λ′₁ = 3,3 bis 3,5 µm und λ′₂ = 3,8 µm und
Quotientbildung ermittelt werden.
Die Referenzwellenlänge im Bereich von 3,8 µm ist beson
dern günstig, da kürzere Referenzwellenlängen als die
Meßwellenlänge von λ = 3,3 bis 3,5 µm stark von den Was
serabsorptionsbanden beeinflußt werden, was sich bei
spielsweise bei Öl-Wasser-Emulsionen störend auswirkt,
und die Referenzwellenlängen oberhalb von λ = 4 µm Spezi
alkomponenten für die Infrarotstrahler, die Infrarotoptik
und die Infrarotdetektoren erfordern.
Die Oberfläche eines Kaltbandes kann mittels eines Infra
rotstrahlers bestrahlt und die reflektierte Strahlung
durch ein Schmalbandmeßfilter mit einer Zen
tralwellenlänge von λ = 3,46 µm sowie ein Schmalbandre
ferenzfilter mit einer Zentralwellenlänge von λ = 3,8 µm
gemessen werden. Dabei kann das Schmalbandmeßfilter vor
zugsweise eine Halbwertsbreite von 4% und das Schmal
bandreferenzfilter eine Halbwertsbreite von 5% aufweisen.
Werden mehrere Schmalbandmeß- und Schmalbandreferenzfil
ter abwechselnd auf einer schrittweise drehbaren Scheibe
angeordnet und die Reflexionsmessung abwechselnd nachein
ander mit dem Schmalbandmeßfilter und mit dem Schmal
bandreferenzfilter mittels derselben Signalverarbeitungs
einheit durchgeführt, lassen sich die dem Schmalbandmeß
filter und dem Schmalbandreferenzfilter zuzuordnenden
Meßwerte getrennt integrieren und ggf. mitteln, wodurch
Quantisierungsfehler und das Rauschen vermindert werden.
Die Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke von dünner
Filme auf einer Oberfläche, insbesondere der eingeölten
Oberfläche von Kaltwalzerzeugnissen wie Kaltband, kann
aus einem gegen die Oberfläche gerichteten Infrarotstrah
ler, einem selektiv für die Wellenlänge λ = 3,3 bis 3,5
µm empfindlichen Infrarotdetektor im Strahlengang der re
flektierten Strahlen und einer Auswerteelektronik zum Be
rechnen und Anzeigen der gemessenen Schichtdicke beste
hen.
Bei dieser einfachsten Ausführungsform muß eine Kalibrie
rung durchgeführt werden, indem zunächst die von einer
schichtfreien Oberfläche reflektierten Strahlen gemessen
und dieser Meßwert registriert wird. Des weiteren ist es
erforderlich, die Meßwerte der von beschichteten Oberflä
chen reflektierten Strahlen zu beispielsweise gravime
trisch bestimmten Schichtdicken in Beziehung zu setzen,
wie sich das aus dem Diagramm der Fig. 1 ergibt, das den
Zusammenhang für eingeöltes Kaltband wiedergibt.
Um den Infrarotdetektor selektiv für die Wellenlänge λ =
3,3 bis 3,5 µm empfindlich zu machen, kann der Infrarot
detektor ein Schmalbandmeßfilter mit der Zentralwellen
länge von λ = 3,46 µm aufweisen.
Ein bei jeder Messung zur Verfügung stehendes Referenzsi
gnal, das den nicht absorbierten bzw. reflektierten In
frarotstrahlen entspricht, läßt sich dadurch erzeugen,
daß der Infrarotdetektor zusätzlich ein Schmalbandrefe
renzfilter mit der Zentralwellenlänge beispielsweise
von λ = 3,8 µm zum Messen des vom Ölfilm nicht absor
bierten Wellenlängenbereichs aufweist. Hierdurch kann der
Infrarotdetektor gleichzeitig oder nacheinander eine Mes
sung des vom Ölfilm absorbierten und eine Messung des vom
Ölfilm nicht absorbierten Wellenlängenbereichs durchfüh
ren, während die Auswerteelektronik daraus unmittelbar
die Schichtdicke berechnen und anzeigen kann, wenn vorab
eine Kalibrierung durch Bestimmen des Kalibrierfaktors F
in der beschriebenen Art durchgeführt wird.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung eignet sich als Handge
rät für Messungen an ruhendem Material und auch als über
bewegtem Material fest installierte Vorrichtung, die ggf.
quer über dem bewegten Material hin- und herbewegbar ist,
um die Filmdicke über die gesamte Breite des Bandes zu
messen.
Vorzugsweise sind die Schmalbandmeßfilter und die Schmal
bandreferenzfilter abwechselnd auf einer drehbaren
Scheibe vor einem Blei-Selenid-Detektor angeordnet, so
daß durch Drehen der Scheibe abwechselnd der Faktor A und
der Faktor B gemessen und in der Auswerteelektronik zu
einer Schichtdickenanzeige verarbeitet werden.
Der Infrarotstrahler kann aus einem handelsüblichen Halo
genstrahler mit Aluminiumreflektor bestehen, während im
Strahlengang der reflektierten Strahlen vor den Schmal
bandmeß- und den Schmalbandreferenzfiltern sowie dem
Blei-Selenid-Detektor eine handelsübliche Infrarot-Optik
angeordnet sein kann und das Drehen der Scheibe mit den
Schmalbandmeß- und Schmalbandreferenzfiltern mittels ei
nes Motors bewirkt wird.
Mit dieser Anordnung, bei der zwischen dem Infrarotstrah
ler und dem Infrarotdetektor ein Winkel von 15° bis 45°
liegen kann, wurde festgestellt, beispielsweise vertikale
Bandbewegungen, wie sie in den Einölungslinien der Walz
werke auftreten, bis zu einer Größenordnung von ± 5 mm
keinen oder nur einen sehr geringen Einfluß auf die
Meßunsicherheit ausüben, wenn ein Abstand zur Meßoberflä
che von 200 bis 300 mm eingehalten wird.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines in Fig. 2 der
Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispiels
des näheren erläutert.
Um die Dicke einer auf die Oberfläche eines Blechs 1 auf
gebrachten Ölschicht 2 zu messen, werden durch einen In
frarotstrahler 3, der aus einer handelsüblichen Nieder
volt-Halogenlampe bestehen kann, erzeugte Infrarotstrah
len, die von einem parabolischem Aluminiumreflektor 4 ge
bündelt werden, auf das Blech 1 mit der Ölschicht 2 unter
einem Winkel von 10° bis 22,5° gerichtet. Unter dem glei
chen entgegengesetzten Winkel von 10° bis 22,5° ist ein
Gehäuse 5 angeordnet, das eine Öffnung mit einer In
frarot-Optik 6 aufweist. Es handelt sich hierbei um eine
Infrarotlinse, wie sie unter der Bezeichnung JRG-N6 mit
einer Brennweite f = 52 mm im Handel erhältlich ist.
Im Gehäuse 5 ist eine mittels eines Motors 10 drehbare
Scheibe 9 angeordnet, in der abwechselnd Schmalbandmeß
filter 7 mit einer Zentralwellenlänge von λ = 3,46 µm
und einer Halbwertsbreite von 4% sowie Schmalbandrefe
renzfilter 8 mit einer Zentralwellenlänge von λ = 3,8 µm
und einer Halbwertsbreite von 5% angeordnet sind.
Die von der Ölschicht 2 reflektierten Infrarotstrahlen
gelangen durch die Infrarot-Optik 6 und abwechselnd durch
die Schmalbandmeßfilter 7 sowie die Schmalbandreferenz
filter 8 in einen Blei-Selenid-Detektor 11 mit einem Vor
verstärker. Die hier gebildeten Meßsignale werden in eine
Auswerteelektronik 12 geleitet, die mittels Mikroprozes
sor und einer Programmablaufsteuerung aus den Meßwerten
und der vorab vorgenommenen Eichung des Geräts die
Schichtdicke errechnet und auf einem Bildschirm, bei
spielsweise einem LCD-Bildschirm anzeigt. Da die Meßwerte
als Analogsignale anliegen und für den Mikroprozessor
durch einen Analog-Digitalwandler für die Verarbeitung im
Mikroprozessor aufbereitet werden, ist bei Bedarf auch
eine direkte Anzeige der Meßwerte über ein eingebautes
Digital-Voltmeter möglich.
Die Zahl n der Messungen, über die der Analog-Digital
wandler zur Meßwertbestimmung mittelt oder integriert,
läßt sich vorgeben. Der Analog-Digitalwandler greift dann
die durch jedes Schmalbandmeßfilter bzw. Schmalbandrefe
renzfilter hindurchtretenden Signalspannungen n-mal ab
und mittelt bzw. integriert diese. Auf diese Weise lassen
sich Quantisierungsfehler und das Rauschen vermindern.
Alle systembedeutenden und konstanten Werte des Meßgeräts
lassen sich speichern, so daß auch nach längerem Abschal
ten keine Fehlfunktion auftritt.
Die im Meßeinsatz häufiger zu verändernden Parametern
lassen sich über eine Folientastatur am Meßgerät einge
ben. Die Kontrolle der Eingabe erfolgt dabei auf dem LCD-
Bildschirm.
Über einen angeschlossenen Kleinrechner lassen sich alle
Parameter des Geräts einstellen oder kontrollieren. Hier
für ist eine abschaltbare Meßwertübertragung vorgesehen.
Für den Kleinrechner gibt es ein Rechenprogramm, das als
Terminal-Programm den Dialog mit dem Meßgerät
(Meßwertausgabe-Einstellung von Betriebsdaten und ähnli
ches), darüber hinaus auch das Auslesen und Löschen der
gespeicherten Meßwerte ermöglicht.
Zum Kleinrechner übertragene Meßwerte lassen sich am
Bildschirm auflisten oder über einen Drucker ausdrucken.
Sie werden des weiteren als Datei im Speicher des Klein
rechners abgelegt.
Claims (11)
1. Verfahren zum Messen der Schichtdicke dünner organi
scher Filme auf einer Oberfläche, insbesondere der
eingeölten Oberfläche von Kaltwalzerzeugnissen, bei
dem
- - die der Schichtdicke proportionale Absorption von Infrarotlicht im Wellenlängenbereich der CH-Va lenzschwingungen von λ = 3,3 bis 3,5 µm durch Re flexionsmessung mit
- - einer Reflexionsmessung von Infrarotlicht im nicht absorbierten Wellenlängenbereich von λ = 3,6 bis 4,2 µm verglichen und
- - daraus die Schichtdicke entsprechend der Formel
d = F × ln A/B mit
d = Schichtdicke
F = Kalibrierfaktor
A = Quotient aus dem Meßsignal mit der Wellenlänge λM und dem Referenzsignal mit der Wellenlänge λR auf freier Oberfläche (Nullpunkt)
B = Quotient aus Meß- und Referenzsignal auf belegter Oberfläche
berechnet und angezeigt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Faktor A auf unbelegter Oberfläche durch Re
flexionsmessung der Wellenlänge λ₁ = 3,3 bis 3,5 µm
und der Wellenlänge λ₂ = 3,8 µm und Quotientbildung
sowie der Faktor B auf belegter Oberfläche durch Re
flexionsmessung der Wellenlänge λ′₁ = 3,3 bis 3,5 µm
und der Wellenlänge λ′₂ = 3,8 µm und Quotientbil
dung ermittelt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Kalibrierfaktor F durch Ermittlung
des Auflagewertes mittels eines absoluten Ver
gleichsverfahrens bestimmt wird.
4. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch
gekennzeichnet, daß die Oberfläche mittels eines In
frarotstrahlers bestrahlt und die reflektierte Strah
lung durch einen Schmalbandmeßfilter mit einer Zen
tralwellenlänge von λ = 3,46 µm sowie einen Schmal
bandreferenzfilter mit einer Zentralwellenlänge von
λ 3,8 µm gemessen wird.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet,
daß mehrere Schmalbandmeß- und Schmalbandreferenzfil
ter abwechselnd auf einer drehbaren Scheibe angeord
net sind und die Reflexionsmessung abwechselnd nach
einander mit dem Schmalbandmeßfilter mit der Zentral
wellenlänge von λ = 3,46 µm und mit dem Schmalbandre
ferenzfilter mit der Zentralwellenlänge von λ = 3,8
µm mittels derselben Signalverarbeitungseinheit
durchgeführt wird.
6. Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke von dünnen
Filmen auf einer Oberfläche, insbesondere der ein
geölten Oberfläche von Kaltwalzerzeugnissen mit
- - einem gegen die Oberfläche gerichteten Infrarot strahler (3, 4)
- - einen selektiv für die Wellenlänge λ = 3,3 bis 3,5 µm empfindlichen Infrarotdetektor (7, 8, 11) im Strahlengang der reflektierten Strahlen und
- - einer Auswerteelektronik (12) zum Berechnen und Anzeigen der gemessenen Schichtdicke.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß der Infrarotdetektor ein Schmalbandmeßfilter (7)
mit der Zentralwellenlänge von λ = 3,46 µm aufweist.
8. Vorrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß der Infrarotdetektor zusätzlich ein Schmalbandre
ferenzfilter (8) mit der Zentralwellenlänge von λ =
3,8 µm zum Messen des vom Film nicht absorbierten
Wellenlängenbereichs aufweist.
9. Vorrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet,
daß abwechselnd Schmalbandmeßfilter (7) mit der Zen
tralwellenlänge von λ = 3,46 µm und Schmalbandrefe
renzfilter (8) mit der Zentralwellenlänge λ = 3,8 µm
auf einer drehbaren Scheibe (9) vor einem Blei-Sele
nid-Detektor (11) angeordnet sind.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß der Infrarotstrahler aus einem Halogenstrahler
(3) mit Aluminiumreflektor (4) besteht, im Strahlen
gang der reflektierten Strahlen vor den Schmalband
meß- und Schmalbandreferenzfiltern (7, 8) und dem
Blei-Selenid-Detektor (11) eine Infrarot-Optik (6)
angeordnet ist und die Scheibe (9) mit den Schmal
bandmeß- und Schmalbandreferenzfiltern (7, 8) mittels
eines Motors (10) bewegt wird.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934318767 DE4318767A1 (de) | 1993-06-05 | 1993-06-05 | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer Filme |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19934318767 DE4318767A1 (de) | 1993-06-05 | 1993-06-05 | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer Filme |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4318767A1 true DE4318767A1 (de) | 1994-12-08 |
Family
ID=6489738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19934318767 Withdrawn DE4318767A1 (de) | 1993-06-05 | 1993-06-05 | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer Filme |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4318767A1 (de) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5914490A (en) * | 1997-02-13 | 1999-06-22 | Valmet Automatic, Inc. | Procedure for measuring the components of a coating on a moving base material |
EP2130623A1 (de) * | 2008-06-06 | 2009-12-09 | CENTRE DE RECHERCHES METALLURGIQUES asbl - CENTRUM VOOR RESEARCH IN DE METALLURGIE vzw | Verfahren und Vorrichtung zum Messen einer Ölmenge auf einer Metalloberfläche |
WO2017220677A1 (de) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | Michael Tummuscheit | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung einer schichtdicke einer organischen schicht auf einer oberfläche mittels infrarotspektroskopie |
-
1993
- 1993-06-05 DE DE19934318767 patent/DE4318767A1/de not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5914490A (en) * | 1997-02-13 | 1999-06-22 | Valmet Automatic, Inc. | Procedure for measuring the components of a coating on a moving base material |
EP2130623A1 (de) * | 2008-06-06 | 2009-12-09 | CENTRE DE RECHERCHES METALLURGIQUES asbl - CENTRUM VOOR RESEARCH IN DE METALLURGIE vzw | Verfahren und Vorrichtung zum Messen einer Ölmenge auf einer Metalloberfläche |
WO2017220677A1 (de) * | 2016-06-22 | 2017-12-28 | Michael Tummuscheit | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung einer schichtdicke einer organischen schicht auf einer oberfläche mittels infrarotspektroskopie |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2557872C2 (de) | Vorrichtung zum Messen des Reflexionsvermögens von Reagenzträgern eines Teststreifens | |
DE2739585C2 (de) | Spektrophotometer | |
DE69636403T2 (de) | Spektrometrie und optisches Messverfahren und Vorrichtung | |
DE3587641T2 (de) | Verteilter, gemäss raumauflösung aufgestellter dehnungsmesser mit optischer faser. | |
DE3874125T2 (de) | Uv-abtastsystem fuer zentrifuge. | |
DE69416001T2 (de) | Vorrichtung zur messung des brechungsindex | |
DE19615366A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Nachweis physikalischer, chemischer, biologischer oder biochemischer Reaktionen und Wechselwirkungen | |
DE1026555B (de) | Verfahren und Vorrichtung fuer die spektrochemische Analyse | |
EP0174496B1 (de) | Verfahren zur Bestimmung der Strahlungswellenlänge und der wellenlängenkorrigierten Strahlungsleistung monochromatischer Lichtquellen, sowie Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
DE68921249T2 (de) | Mikroskop-Spektralgerät. | |
DE3414261A1 (de) | Interferenz-refraktometer | |
DE112014001353T5 (de) | Filmproduktionsverfahren , Filmherstellungsprozessüberwachungsvorrichtung und Filminspektionsverfahren | |
DE102014226827A1 (de) | Verfahren, Vorrichtung und Sensor zum Bestimmen eines Absorptionsverhaltens eines Mediums | |
EP1287310B1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur bestimmung der dicke von transparenten organischen schichten | |
DE4318767A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Messen der Schichtdicke dünner organischen bzw. organischer Filme | |
DE3331175A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur messung kurzer abstaende | |
DE2253933A1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erfassung der temperfarbe eines metallbandes | |
DE3208737A1 (de) | Optisches mehrstrahl-gasmessgeraet | |
CH423274A (de) | Verfahren und Vorrichtung zum automatischen und kontinuierlichen Messen von Schichtdicken | |
EP0123672A2 (de) | Verfahren zur Bestimmung der Massen von absorbierenden Anteilen einer Probe und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens | |
EP0555508B1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur simultanen Bestimmung der Konzentrationen von Molekülverbindungen in Gasen und Flüssigkeiten | |
DE10324934A1 (de) | Anordnung und ein Verfahren zur Erkennung von Schichten, die auf Oberflächen von Bauteilen angeordnet sind, und Bestimmung deren Eigenschaften | |
DE10119072C1 (de) | Reflektometeranordnung und Verfahren zur Bestimmung des Reflexionsvermögens ausgewählter Messorte von spektral abhängig reflektierenden Messobjekten | |
DE19647632C1 (de) | Infrarot-Gasanalysator | |
DE19612093A1 (de) | Verfahren und Einrichtung zum Messen von Oberflächenwelligkeiten |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8130 | Withdrawal |