DE4311318A1 - Flat panel display unit having pixel activation by low voltage signals - generated for row and columns using pairs of FET devices assigned for each pixel location. - Google Patents

Flat panel display unit having pixel activation by low voltage signals - generated for row and columns using pairs of FET devices assigned for each pixel location.

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DE4311318A1
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    • G09G3/2014Display of intermediate tones by modulation of the duration of a single pulse during which the logic level remains constant

Abstract

A Flat panel display using field emission devices has single pixels that can be individually addressed. The base electrode (23) is separated from the grating (21) and in order that a field emission can be induced the base electrode is coupled to ground by a pair of series coupled FET devices (Qs, Qr). One of the transistors (Qc) receives a signal for the columna and the other a row signal. Each pixel is formed by the emitter coupling (22A-22C). During the activation period the storage difference between the grating (21) and the emitter (22A-22C) is set at a specific level. USE/ADVANTAGE - Provides means of operating with normal integrated circuit technology.

Description

Die Erfindung betrifft Flachtafelanzeigen, insbesondere eine matrix­ adressierbare Flachtafelanzeige, in der hohe Pixel-Aktivierungsspan­ nungen geschaltet werden müssen. Die Erfindung ermöglicht Reihen- und Spaltensignalspannungen, die mit herkömmlichen CMOS-, NMOS- oder anderen üblichen integrierten Schaltkreisen hinsichtlich der logi­ schen Pegel kompatibel sind, wobei außerdem viel höhere Pixel-Akti­ vierungsspannungen erreicht werden.The invention relates to flat panel displays, in particular a matrix addressable flat panel display, in the high pixel activation chip must be switched. The invention enables series and column signal voltages with conventional CMOS, NMOS or other common integrated circuits in terms of logi levels are compatible, with much higher pixel stocks crossing voltages can be reached.

Über ein halbes Jahrhundert hinweg war die Kathodenstrahlröhre (CRT) das Anzeigegerät zur Visualisierung von Information schlechthin. Ob­ schon Kathodenstrahlröhren in diesem Zeitraum bezüglich ihrer speziel­ len Eigenschaften erheblich verbessert wurden, insbesondere hinsichtlich Farbe, Helligkeit, Kontrast und Auflösung, blieben diese Geräte nach wie vor voluminös und in starkem Maße leistungsverbrauchend. Mit dem Aufkommen von tragbaren Rechnern stieg entsprechend das Bedürf­ nis, Anzeigemittel zur Verfügung zu haben, die sich nicht nur durch geringes Gewicht und kompakte Bauweise auszeichnen, sondern außerdem mit geringer Leistung betrieben werden können. Obschon derzeit praktisch bei Laptop-Rechnern überall Flüssigkristallanzeigevor­ richtungen eingesetzt werden, leiden diese jedoch unter einem geringen Kontrast, verglichen mit Kathodenstrahlröhren, einem beschränkten Sichtwinkelbereich, wobei eine beträchtliche Leistungsaufnahme speziell bei den Farbversionen dieser Anzeigevorrichtungen hinzukommt, so daß sich ihr Einsatz für den Batteriebetrieb kaum empfiehlt. Verglichen mit Kathodenstrahlröhren gleicher Bildschirmgröße sind die Flüssigkristall- Farbanzeigevorrichtungen wesentlich teurer. For over half a century, the cathode ray tube (CRT) the display device for the visualization of information par excellence. Whether cathode ray tubes already in this period with regard to their special len properties have been significantly improved, especially with regard to Color, brightness, contrast and resolution, these devices remained as before, voluminous and power-consuming to a large extent. With the need for portable computers grew accordingly nis, to have display means available that are not only through low weight and compact design, but can also be operated with low power. Although Liquid crystal displays are currently practically everywhere in laptop computers directions are used, however, they suffer from a minor Contrast, compared to cathode ray tubes, a limited one Viewing angle range, with significant power consumption specifically added to the color versions of these displays, so that its use for battery operation is hardly recommended. Compared to Cathode ray tubes of the same screen size are the liquid crystal Color display devices are much more expensive.  

Aufgrund der Nachteile der Flüssigkristallanzeigevorrichtungen konzen­ trierten sich die Entwicklungen in der Industrie sehr stark auf die Dünn­ schicht-Feldemissions-Anzeigevorrichtungen. Flachtafelanzeigen, die in dieser Technologie ausgeführt sind, besitzen ein matrixadressierbares Feld von spitz zulaufenden Dünnschicht-Kalt-Feldemissions-Kathoden in Kombination mit einem Leuchtstoffbildschirm. Das Phänomen der Feld­ emission wurde in den fünfziger Jahren entdeckt, und erhebliche For­ schungen durch zahlreiche Personen, beispielsweise Charles A. Spindt von SRI International, haben die Technologie derart verbessert, daß die Aussichten, billige, wenig Leistung aufnehmende, sich durch hohe Auf­ lösung und hohen Kontrast auszeichnende, flache Vollcolor-Anzeigevor­ richtungen herstellen zu können, vielversprechend sind. Allerdings bleibt noch viel Arbeit zu erledigen, um die Technologie bis zur kommerziel­ len Auswertbarkeit voranzutreiben.Concentrate due to the disadvantages of liquid crystal display devices developments in industry are very much focused on the thin layer field emission display devices. Flat panel displays that are in this technology have a matrix addressable Field of tapered thin film cold field emission cathodes in Combination with a fluorescent screen. The phenomenon of the field emission was discovered in the 1950s, and significant for created by numerous people, for example Charles A. Spindt from SRI International, have improved the technology so that the Prospects, cheap, low-power, high-quality solution and high contrast, flat full color display to be able to produce directions are promising. However, remains Lots of work to do to get the technology to the commercial goal to promote len evaluability.

Es gibt eine Reihe von Problemen in Verbindung mit den derzeit verfüg­ baren matrixadressierbaren Feldemissionsanzeigevorrichtungen. Bislang wurden derartige Anzeigevorrichtungen so aufgebaut, daß ein Spaltensig­ nal einen einzelnen leitenden Strahl von innerhalb des Gitters aktivierte, während ein Reihensignal einen leitenden Streifen innerhalb der Emitter- Basiselektrode aktivierte. Am Schnittpunkt einer aktivierten Spalte mit einer aktivierten Reihe existiert dann eine Gitter-Emitter-Spannungsdiffe­ renz, die ausreicht, eine Feldemission zu induzieren, mit der Folge, daß der zugehörige Leuchtstoff in dem phosphoreszierenden Schirm auf­ leuchtet. In Fig. 1, die eine representative Darstellung des derzeitigen Aufbaus der Vorrichtung ist, schneiden sich drei Gitterstreifen (Gitter) 11A, 11B und 11C mit einem Trio von Emitter-Basiselektroden- (Reihen-)Streifen 12A, 12B und 12C. In dieser Darstellung enthält jede Reihen-Spalten-Schnittstelle (das Äquivalent eines einzelnen Pixels oder Bildelements innerhalb der Anzeigevorrichtung) sechzehn Feldemissions­ kathoden (im folgenden "Emitter") 13. In der Praxis kann die Anzahl von Emitterspitzen pro Pixel sehr stark schwanken. Die Spitze jeder Emitterspitze ist umgeben von einer Gitterstreifen-Öffnung 14. Damit eine Feldemission erfolgt, muß die Spannungsdifferenz zwischen einem Reihenleiter und einem Spaltenleiter mindestens so groß sein wie eine Spannung, die akzeptierbaren Feldemissionspegeln entspricht. Die Inten­ sität der Feldemission hängt sehr stark von verschiedenen Faktoren ab, von denen der wichtigste die Schärfe der Kathoden-Emitterspitze und die Stärke des elektrischen Feldes an der Spitze ist. Obschon ein für den Betrieb von Flachtafelanzeigevorrichtungen geeigneter Pegel der Feld­ emission mit Emitter-Gitter-Spannungen von lediglich 80 Volt erreicht wurde (man erwartet, daß sich diese Zahl in den kommenden Jahren durch weitere Verbesserungen der Struktur des Emitters und durch Verbesserungen der Fertigungstechnik verringert), werden die Emissionsspannungen dennoch auch in der Zukunft wesentlich größer als 5 Volt sein, was dem Standardpegel "1" in der CMOS-, NMOS- und TTL-Technologie entspricht. Wenn also die Feldemissions-Schwellen­ spannung 80 Volt beträgt, müssen die Reihen- und Spaltenleitungen so ausgelegt werden, daß sie zwischen 0 und entweder +40 oder -40 Volt schalten können, um zu einer Schnittstellen-Spannungsdifferenz von 80 Volt zu kommen. Folglich ist es notwendig, ein Hochspannungs-Um­ schalten bei diesen Reihen- und Spaltenleitungen hervorzurufen. Es gibt folglich nicht nur das Problem, geeignete Treiber zum Schalten derart hoher Spannungen zu entwickeln, sondern man muß sich auch mit dem Problem übermäßiger Leistungsaufnahme befassen, bedingt durch die kapazitive Kopplung von Reihen- und Spaltenleitern. Das heißt: je höher die Spannung auf den Leitungen, desto größer ist die Leistung, die zum Treiben der Anzeigevorrichtung benötigt wird.There are a number of problems associated with the currently available matrix addressable field emission display devices. Heretofore, such displays have been constructed so that a column signal activates a single conductive beam from within the grid, while a series signal activates a conductive strip within the emitter base electrode. At the intersection of an activated column with an activated row, there is then a grid-emitter voltage difference which is sufficient to induce field emission, with the result that the associated phosphor lights up in the phosphorescent screen. In Fig. 1, which is a representative representation of the current structure of the device, three grid strips (grid) 11 A, 11 B and 11 C intersect with a trio of emitter base electrode (row) strips 12 A, 12 B and 12 C. In this illustration, each row-column interface (the equivalent of a single pixel or picture element within the display device) contains sixteen field emission cathodes (hereinafter "emitter") 13 . In practice, the number of emitter tips per pixel can fluctuate greatly. The tip of each emitter tip is surrounded by a grating strip opening 14 . For field emission to occur, the voltage difference between a row conductor and a column conductor must be at least as large as a voltage that corresponds to acceptable field emission levels. The intensity of the field emission depends very much on various factors, the most important of which is the sharpness of the cathode emitter tip and the strength of the electric field at the tip. Although a level of field emission suitable for the operation of flat panel display devices has been reached with emitter-lattice voltages of only 80 volts (this number is expected to decrease in the coming years as the emitter structure and manufacturing technology improve) , the emission voltages will still be significantly greater than 5 volts in the future, which corresponds to the standard level "1" in CMOS, NMOS and TTL technology. So if the field emission threshold voltage is 80 volts, the row and column lines must be designed so that they can switch between 0 and either +40 or -40 volts to come to an interface voltage difference of 80 volts. Consequently, it is necessary to cause high-voltage switching in these row and column lines. Consequently, there is not only the problem of developing suitable drivers for switching such high voltages, but also the problem of excessive power consumption due to the capacitive coupling of row and column conductors. That is: the higher the voltage on the lines, the greater the power that is required to drive the display device.

Zusätzlich zu dem Problem des Schaltens hoher Spannungen leiden Apertur-Anzeigevorrichtungen aufgrund der Möglichkeit von Emitter- Gitter-Kurzschlüssen an einer geringen Fertigungsausbeute und geringer Zuverlässigkeit. Derartige Kurzschlußerscheinungen beeinflussen die Spannungsdifferenz zwischen den Emittern und dem Gitter innerhalb des gesamten Feldes und können sehr wohl zu einer völligen Unbrauchbar­ keit des Feldes führen, entweder deshalb, weil derart viel Leistung verbraucht wird, daß die Leistungsversorgung keine ausreichend hohe Spannung zur Induzierung der Feldemission zu liefern vermag, oder weil tatsächlich so viel Wärme erzeugt wird, daß ein Teil des Feldes schmilzt.Suffer in addition to the problem of switching high voltages Aperture display devices due to the possibility of emitter Lattice shorts at a low manufacturing yield and less Reliability. Such short-circuit phenomena influence the Voltage difference between the emitters and the grating within the entire field and can very well become completely useless field, either because of so much power is consumed that the power supply is not sufficiently high Can provide voltage to induce field emission, or because actually so much heat is generated that part of the field melts.

Was gebraucht wird, ist ein neuer Typ einer Feldemissionsanzeige- Architektur, der die Probleme des Schaltens hoher Spannungen überwin­ det und das Problem von Emitter-Gitter-Kurzschlüssen erheblich mildert und darüber hinaus die Leistungsaufnahme der Anzeigevorrichtung herab­ setzt.What is needed is a new type of field emission display -  Architecture that overcomes the problems of switching high voltages det and significantly alleviates the problem of emitter lattice short circuits and furthermore the power consumption of the display device puts.

Die vorliegende Erfindung schafft eine Methode zum Schalten einer hohen Pixelaktivierungs-Spannung mit niedrigen Signalspannungen, die kompatibel sind mit den herkömmlichen Pegeln von CMOS-, NMOS- und anderen Technologien bei integrierten Schaltungen. Obschon die Methode entwickelt wurde, um die benötigte hohe Gitter-Emitter-Span­ nungsdifferenz zu steuern, die zum Induzieren der Feldemission benötigt wird, läßt sich die hier vorgestellte Methode auch einsetzen bei jeder anderen matrixadressierbaren Anzeigevorrichtung (beispielsweise Vakuum-Fluoreszenz-Anzeige, Elektrolumineszenz-Anzeige oder Plas­ maanzeige), in der hohe Pixel-Aktivierungsspannungen geschaltet werden müssen. Hier soll die Erfindung jedoch im Zusammenhang mit einer Feldemissionsanzeige erläutert werden aufgrund der potentiellen Vorteile dieser Art von Anzeigevorrichtung gegenüber anderen Anzeige­ vorrichtungen.The present invention provides a method for switching one high pixel activation voltage with low signal voltages that are compatible with the conventional levels of CMOS, NMOS and other integrated circuit technologies. Although that Method was developed to get the high lattice emitter span needed control difference required to induce field emissions the method presented here can also be used with everyone other matrix addressable display device (e.g. Vacuum fluorescence display, electroluminescence display or plas display), in which high pixel activation voltages are switched Need to become. Here, however, the invention is intended in connection with a field emission display are explained due to the potential Advantages of this type of display device over other displays devices.

Anstatt die Spalten und Reihen direkt mit dem Kathoden-Feld zu ver­ binden, werden sie dazu verwendet, mindestens ein Paar von in Reihe geschalteten Feldeffekttransistoren (FETs) offenzusteuern, wobei jedes Paar im leitenden Zustand die Basiselektrode eines einzelnen Emitter­ knotens mit einem Potential koppelt, welches ausreichend niedrig ist in bezug auf ein konstantes, an das Gitter angelegtes Potential, um Feld­ emission zu induzieren. Jede Reihen-/Spalten-Schnittstelle (d. h. jedes Pixel) innerhalb der Anzeigevorrichtung kann mehrere Emitterknoten enthalten, um die Herstellungsausbeute und die Produktzuverlässigkeit zu verbessern. In einer bevorzugten Ausführungsform wird das Gitter des Feldes auf einen konstanten Potential (VFE) gehalten, welches konsistent ist mit einer zuverlässigen Feldemission, wenn die Emitter auf Masse­ potential liegen. Individuelle Basiselektroden können über ein Paar aus in Reihe geschalteten Feldeffekttransistoren dadurch auf Masse gelegt werden, daß man eine Signalspannung sowohl an die Reihen- als auch an die Spaltenleitungen legt, die zu diesem Emitterknoten gehören. Einer der in Reihe geschalteten FETs wird durch ein Signal auf der Reihenlei­ tung offengesteuert, der andere FET wird von einem Signal auf der Spaltenleitung offengesteuert. Zur Klarstellung sei gesagt, daß in einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung jedes Bildelement mehrere Emitterknoten enthält und jeder Emitterknoten mehrere Kathodenemitter aufweist. Damit steuert jede Reihen-/Spaltenschnittstelle mehrere Paare von in Reihe geschalteten FETs und jedes Paar steuert einen einzelnen Emitterknoten, der mehrere Emitter enthält.Instead of connecting the columns and rows directly to the cathode field, they are used to open-control at least one pair of field effect transistors (FETs) connected in series, each pair coupling the base electrode of a single emitter node to a potential in the conductive state, which is sufficiently low with respect to a constant potential applied to the grid to induce field emission. Each row / column interface (ie, each pixel) within the display device can include multiple emitter nodes to improve manufacturing yield and product reliability. In a preferred embodiment, the grid of the field is kept at a constant potential (V FE ), which is consistent with reliable field emission when the emitters are at ground potential. Individual base electrodes can be grounded through a pair of field effect transistors connected in series by applying a signal voltage to both the row and column lines associated with that emitter node. One of the FETs connected in series is open-controlled by a signal on the row line, the other FET is open-controlled by a signal on the column line. For clarification, it should be said that in a preferred embodiment of the invention, each picture element contains several emitter nodes and each emitter node has several cathode emitters. Each row / column interface thus controls several pairs of FETs connected in series and each pair controls a single emitter node that contains several emitters.

In einer Ausführungsform ist das Gitter von jeder Emitterbasis isoliert. Ein Pixel wird ausgeschaltet (d. h. in einen nicht-emittierenden Zustand gebracht), indem einer von beiden oder beide in Reihe geschalteten FETs abgeschaltet werden. Von dem Moment an, in dem mindestens einer der FETs nicht-leitend wird (d. h., die Gatespannung VGS unter die Bauelement-Schwellenspannung VT abfällt), werden Elektronen von den diesem Pixel entsprechenden Emitterspitzen abgeleitet oder entladen, bis die Spannungsdifferenz zwischen der Basis und dem Gitter gerade un­ terhalb der Emissions-Schwellenspannung liegt.In one embodiment, the grating is isolated from each emitter base. A pixel is turned off (ie brought into a non-emissive state) by turning off one or both or both of the FETs connected in series. From the moment at least one of the FETs becomes non-conductive (ie, the gate voltage V GS drops below the device threshold voltage V T ), electrons are derived or discharged from the emitter tips corresponding to that pixel until the voltage difference between the bases and the grid is just below the emission threshold voltage.

In einer anderen Ausführungsform der Erfindung wird jeder Emitter­ basisknoten über einen strombegrenzenden Feldeffekttransistor mit dem Gitter gekoppelt, wobei der Transistor einen kontinuierlichen Niedrig­ stromweg darstellt und eine Schwellenspannung von VT besitzt. Während die Basis normalerweise auf einem Potential von VGERID - VT liegt, reicht die Spannungsdifferenz zwischen dem Gitter und jedem Emitter (im allgemeinen unter einem Volt) nicht aus, eine Feldemission hervorzuru­ fen. Auch wenn die Emitterbasis über einen Masseweg, der durch die beiden in Reihe geschalteten FETs an einer Reihen- und Spalten-Schnitt­ stelle gesteuert wird, auf Masse gelegt wird, tritt Feldemission ein. Damit der Masseweg aktiv wird, müssen beide Reihen- und Spalten- FETs gleichzeitig eingeschaltet sein (d. h. die Gate-Spannung an jedem Feldeffekttransistor muß größer sein als die Bauelement-Schwellenspan­ nung). Der Einsatz von strombegrenzenden Transistoren zum Koppeln jedes Emitterbasisknotens mit dem Gitter liefert bei Bedarf eine präzisere Schaltzeitsteuerung. In another embodiment of the invention, each emitter base node is coupled to the grid via a current-limiting field-effect transistor, the transistor representing a continuous low current path and having a threshold voltage of V T. While the base is normally at a potential of V GERID - V T , the voltage difference between the grid and each emitter (generally below one volt) is insufficient to cause field emission. Field emission also occurs when the emitter base is grounded through a ground path that is controlled by the two FETs connected in series at a row and column interface. In order for the ground path to become active, both row and column FETs must be turned on at the same time (ie the gate voltage on each field effect transistor must be greater than the device threshold voltage). The use of current limiting transistors to couple each emitter base node to the grid provides more precise switching time control when needed.

Gemäß einer weiteren Ausführungsform der Erfindung wird ein Stromre­ gulierwiderstand in Reihe mit jedem Paar von in Reihe geschalteten Niedrigvolt-Schalt-MOSFETs gelegt. Wie oben ausgeführt wurde, kop­ pelt jedes MOSFET-Paar einen eine oder mehrere Feldemitterspitzen aufweisenden Emitterknoten auf Masse. Der Widerstand ist direkt an die Masseschiene und an die Source desjenigen MOSFETs gelegt, der von dem Emitterknoten am weitesten entfernt ist. Dadurch, daß der Strom­ regulierwiderstand direkt auf die Masseschiene gelegt wird, erreicht man stabile Stromwerte unabhängig von der Kathodenspannung innerhalb eines breiten Bereichs von Kathodenspannungen.According to a further embodiment of the invention, a Stromre gulation resistance in series with each pair of series connected Low-voltage switching MOSFETs laid. As stated above, cop Each MOSFET pair has one or more field emitter tips having emitter nodes on ground. The resistance is right on the Ground rail and connected to the source of the MOSFET that of is the farthest away from the emitter node. Because the current regulation resistor is placed directly on the ground rail, you can reach stable current values regardless of the cathode voltage within a wide range of cathode voltages.

In einer noch weiteren Ausführungsform der Erfindung enthält der Strompfad, der über die zwei in Reihe geschalteten FETs führt, bei jedem Emitterbasisknoten eine Schmelzverbindung, die bei der Prüfung durchgeschmolzen werden kann, wenn ein Basis-Emitter-Kurzschluß innerhalb des Emitterknotens existiert, um auf diese Weise den kurzge­ schlossenen Knoten vom Rest des Feldes abzutrennen und dadurch die Produktionsausbeute zu steigern und die Leistungsaufnahme des Feldes zu minimieren. Andere funktionelle Knoten innerhalb des Pixels arbeiten aber noch weiter. Außerdem läßt sich eine Helligkeitssteuerung dadurch erreichen, daß man die Gatespannungen jedes FET in dem Masseweg variiert, wodurch wiederum der Emissionsstrom eingestellt wird.In yet another embodiment of the invention, the Current path, which leads over the two FETs connected in series, at Each emitter base node has a fuse that is used in the test can be melted if a base-emitter short circuit exists within the emitter node in order to shorten the to separate the closed knot from the rest of the field and thereby the Increase production yield and power consumption of the field to minimize. Other functional nodes work within the pixel but still further. It can also be used to control brightness achieve the gate voltages of each FET in the ground path varies, which in turn adjusts the emission current.

Bei sämtlichen Ausführungsformen der Erfindung wird der Strom für jedes Pixel über die in Reihe geschalteten FETs in mindestens einem Emitterelektroden-Masseweg reguliert. Dieses Merkmal verbessert in starkem Maß die Gleichförmigkeit der Helligkeit über die gesamte An­ zeigefläche hinweg. Die Steuerung des Helligkeitspegels erfolgt in ein­ facher Weise dadurch, daß man die Gatespannung jedes FETs variiert. Zusätzlich verbessert das Niederspannungs-Schalten auf Pixel-Ebene die Arbeitsgeschwindigkeit der Anzeigevorrichtungen. Verwendet man die Architektur, in der eine Anzeigereihen-Leitung aktiviert und sämtliche Spalten gleichzeitig aktiviert werden, so läßt sich eine Grauabstufung dadurch erreichen, daß man das Tastverhältnis in jedem Spaltensignal während der Dauer der Aktivierung der Reihenleitung variiert.In all embodiments of the invention, the current for each pixel across the series connected FETs in at least one Regulated emitter electrode ground path. This feature improved in the degree of uniformity of brightness over the entire range display area away. The brightness level is controlled in a times by varying the gate voltage of each FET. In addition, low-voltage switching at the pixel level improves the Working speed of the display devices. If you use the Architecture in which a display line management is activated and all Columns are activated at the same time, so there is a gray gradation by achieving the duty cycle in each column signal varies during the period of activation of the row line.

Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigen:In the following, exemplary embodiments of the invention are described with reference to the Drawing explained in more detail. Show it:

Fig. 1 eine vereinfachte perspektivische Darstellung des Aufbaus der Gitter- und Emitterbasis-Elektroden in einer herkömm­ lichen Flachtafel-Feldemissionsanzeigevorrichtung; Fig. 1 is a simplified perspective view of the structure of the grid and emitter base electrodes in a conventional flat panel field emission display device;

Fig. 2 eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungs­ form eines einzelnen Emitterknotens innerhalb des neuen Flachtafel-Feldemissions-Anzeigeaufbaus, wobei die Emit­ terbasiselektrode von dem Gitter getrennt ist; Fig. 2 is a schematic representation of a first embodiment of a single emitter node within the new flat panel field emission display structure, with the emitter base electrode separated from the grid;

Fig. 3 eine schematische Skizze einer zweiten Ausführungsform eines einzelnen Emitterknotens innerhalb des neuen Flach­ tafel-Feldemissions-Anzeigeaufbaus, wobei eine strombe­ grenzender Transistor die Emitterbasiselektrode mit dem Gitter verbindet; Figure 3 is a schematic sketch of a second embodiment of a single emitter node within the new flat panel field emission display structure, with a current limiting transistor connecting the emitter base electrode to the grid.

Fig. 4 eine schematische Darstellung einer ersten Ausführungs­ form eines einzelnen Emitterknotens innerhalb des Nieder­ spannungs-Schalt-Feldemissionsanzeigeaufbaus, in dem ein Stromregulierwiderstand eingebaut ist; Fig. 4 is a schematic representation of a first embodiment of a single emitter node within the low voltage switching field emission display structure in which a current regulating resistor is installed;

Fig. 5 eine Draufsicht auf ein mögliches Layout für die neue Flachtafel-Anzeigearchitektur, wobei aus der Darstellung hervorgeht, wie mehrere Emitterknoten in eine einzelne Reihen-Spalten-Schnittstelle (d. h. ein einzelnes Pixel) einbaubar sind; und5 is a plan view of a possible layout for new flat panel display architecture, wherein seen from the illustration, as a plurality of emitter node in a single row-column interface (ie, a single pixel) are mountable Fig. and

Fig. 6 eine Draufsicht auf ein mögliches Layout für die Nieder­ spannungs-Schalt-Feldemissions-Anzeigevorrichtung mit Stromregulierwiderstand. Fig. 6 is a plan view of a possible layout for the low voltage switching field emission display device with current regulation resistor.

Gemäß Fig. 2 ist ein einzelner Emitterknoten nach der ersten Ausfüh­ rungsform eines neuen Feldemissions-Anzeigeaufbaus gekennzeichnet durch ein (auch als ein erstes Pixelelement bezeichnetes) leitendes Gitter 21, welches sich über das gesamte Feld kontinuierlich erstreckt und auf einem konstanten Potential VGRID gehalten wird. Jedes Pixelelement innerhalb des Feldes wird beleuchtet durch eine Emittergruppe. Um die Produktzuverlässigkeit und die Fertigungsausbeute zu verbessern, besteht jede Emittergruppe aus mehreren Emitterknoten, wobei jeder Knoten wiederum mehrere Feldemissionskathoden enthält (auch als "Feldemit­ ter" oder nur "Emitter" bezeichnet). Obschon der einzelne Emitterknoten gemäß Fig. 1 lediglich drei Emitter (22A, 22B, 22C) aufweist, kann in der Praxis die Zahl viel höher sein. Jeder der Emitter 22 ist an eine Basiselektrode 23 angeschlossen, die gemeinsam für lediglich die Emit­ ter eines einzelnen Emitterknotens ist. Die Kombination aus Emittern und Basiselektrode wird hier auch als ein zweites Pixelelement bezeich­ net. FIG. 2 is a single emitter node of the first exporting approximate shape of a new field emission display structure characterized by a (also known as a first pixel element hereinafter) conductive grid 21, which extends continuously over the entire field and held at a constant potential V GRID . Each pixel element within the field is illuminated by an emitter group. To improve product reliability and manufacturing yield, each emitter group consists of several emitter nodes, each node in turn containing several field emission cathodes (also referred to as "Feldemit ter" or just "emitter"). Although having individual emitter node of FIG. 1, only three emitter (22 A, 22 B, 22 C), in practice the number may be much higher. Each of the emitters 22 is connected to a base electrode 23 which is common to only the emit ter of a single emitter node. The combination of emitter and base electrode is also referred to here as a second pixel element.

Bei dem in Fig. 2 dargestellten Ausführungsbeispiel ist die Basiselek­ trode 23 von dem Gitter 21 getrennt. Um eine Feldemission zu induzie­ ren, wird die Basiselektrode 23 über ein Paar von in Serie geschalteten Feldeffekttransistoren QC und QR auf Masse gelegt. Der Transistor QC wird von einem Spaltenleitungssignal SC offengesteuert, während der Transistor QR durch ein Reihenleitungssignal SR offengesteuert wird. Die üblichen logischen Signalspannungen für die CMOS-, NMOS-, TTL- und andere Technologien integrierter Schaltkreise betragen durchwegs 5 Volt oder weniger und können hier sowohl für das Spalten- als auch das Reihenleitungssignal hergenommen werden. Es seit angemerkt, daß der Transistor QC ersetzt werden kann durch zwei oder mehr in Reihe ge­ schaltete FETs, die sämtlich von derselben Spaltenleitung offengesteuert werden. In ähnlicher Weise kann der Transistor QR durch zwei oder mehr in Reihe geschaltete FETs ersetzt werden, die sämtlich von dersel­ ben Reihenleitung offengesteuert werden. In ähnlicher Weise können andere durch Steuerlogik offengesteuerte FETs in Reihe innerhalb des Erdungsweges angeordnet sein. Ein Pixel (Bildelement) wird dadurch ausgeschaltet (d. h. in den nicht-emittierenden Zustand gebracht), daß entweder einer oder beide der in Reihe geschalteten FETs (QC und QR) ausgeschaltet werden. Von dem Moment an, zu dem mindestens einer der FETs nicht-leitend wird (d. h. die Gate-Spannung VGS unter den Bauelement-Schwellenspannungswert VT abfällt), werden Elektronen aus den Emitterspitzen, die diesem Pixel entsprechen, so weit entladen, bis die Spannungsdifferenz zwischen der Basis und dem Gitter gerade un­ terhalb des Emissions-Schwellenspannungswerts liegt.In the embodiment shown in FIG. 2, the base electrode 23 is separated from the grid 21 . To induce field emission, base electrode 23 is grounded through a pair of field effect transistors Q C and Q R connected in series. Transistor Q C is open controlled by a column line signal S C , while transistor Q R is open controlled by a row line signal S R. The usual logic signal voltages for the CMOS, NMOS, TTL and other technologies of integrated circuits are consistently 5 volts or less and can be used here for both the column and the row line signal. It has been noted that transistor Q C can be replaced by two or more FETs connected in series, all of which are open controlled by the same column line. Similarly, transistor Q R can be replaced by two or more FETs connected in series, all of which are open controlled by the same series line. Similarly, other FETs open controlled by control logic can be arranged in series within the ground path. A pixel (picture element) is switched off (ie brought into the non-emitting state) by switching off either one or both of the FETs (Q C and Q R ) connected in series. From the moment at least one of the FETs becomes non-conductive (ie, the gate voltage V GS drops below the device threshold voltage value V T ), electrons from the emitter tips corresponding to that pixel are discharged until the Voltage difference between the base and the grid is just below the emission threshold voltage value.

Fig. 3 zeigt eine zweite Ausführungsform eines Emitterknotens, wobei der Emitterknoten funktionell und vom Aufbau her der ersten Ausfüh­ rungsform des Emitterknotens nach Fig. 2 ähnlich ist. Der Hauptunter­ schied besteht darin, daß die Basiselektrode 23 mit dem Gitter 21 über einen strombegrenzenden N-Kanal-Feldeffekttransistor QL, der eine Schwellenspannung VT besitzt, gekoppelt ist. Sowohl der Drain als auch das Gate des Transistors QL sind direkt mit dem Gitter 21 gekoppelt. Der Kanal des Transistors QL ist derart bemessen, daß der Strom nur auf einen derartigen Wert beschränkt ist, der benötigt wird, um die Basis­ elektrode 23 und die zugehörigen Emitter 22A, 22B und 22C auf ein Potential zurückzustellen, das im wesentlichen den Wert VGRID - VT gleicht, und zwar mit einer Geschwindigkeit, die ausreicht, eine ange­ messene Grauabstufungs-Auflösung zu gewährleisten. Fig. 3 shows a second embodiment of an emitter node, the emitter node is functionally and structurally similar to the first embodiment of the emitter node of FIG. 2. The main difference is that the base electrode 23 is coupled to the grid 21 via a current-limiting N-channel field effect transistor Q L , which has a threshold voltage V T. Both the drain and the gate of the transistor Q L are directly coupled to the grid 21 . The channel of the transistor Q L is dimensioned such that the current is only limited to such a value that is required to reset the base electrode 23 and the associated emitters 22 A, 22 B and 22 C to a potential which is essentially equal the value V GRID - V T at a speed sufficient to ensure an adequate gray scale resolution.

Fig. 4 zeigt einen einzelnen Emitterknoten ähnlich dem ersten Ausfüh­ rungsbeispiel gemäß Fig. 2, wobei hier jedoch der Emitterknoten über ein Paar von in Reihe geschaltete Feldeffekttransistoren QC und QR und außerdem über einen stromregulierenden Widerstand R auf Masse gelegt wird. Der Widerstand R liegt zwischen der Source des Transistors QR und Masse. In dem wahrscheinlichen Fall, daß die Gitterspannung größer als 20 Volt ist, muß das dem Gitter 21 am nächsten liegenden MOSFET-Bauelement (in diesem Fall das MOSFET QC) ein Hochspan­ nungs-Bauelement sein, um einen Kathoden-Substrat-Durchbruch zu verhindern. Die Durchbruchsicherheit eines solchen Hochspannungs­ transistors hängt ab von der Einschwingspannung des Emitterknotens. Fig. 4 shows a single emitter node similar to the first embodiment according to FIG. 2, but here the emitter node is connected to ground via a pair of field effect transistors Q C and Q R connected in series and also via a current regulating resistor R. Resistor R is between the source of transistor Q R and ground. In the likely case that the grid voltage is greater than 20 volts, the closest MOSFET device (in this case, the MOSFET Q C ) to the grid 21 must be a high voltage device to prevent cathode substrate breakdown . The breakdown security of such a high-voltage transistor depends on the transient voltage of the emitter node.

Wie in den Fig. 2, 3 und 4 dargestellt, liegt in Serie zu dem Absenk- Strompfad, der von der Basiselektrode 23 über die Transistoren QC und QR zu Masse führt, eine schmelzbare Verbindung. Die schmelzbare Verbindung FL kann während der Prüfung des Bauelements durchge­ brannt werden, wenn ein Basis-Emitter-Kurzschluß innerhalb dieser Emittergruppe vorliegt, um so die kurzgeschlossene Gruppe vom Rest des Feldes zu trennen und so die Bauelementausbeute heraufzusetzen und die Leistungsaufnahme des Anzeigefeldes zu verringern. Es sei angemerkt, daß die Lage der Schmelzsicherung FL innerhalb des Strom­ pfades ohne Auswirkungen ist, soweit es die Schaltungstechnik angeht. Das heißt, der Zweck, einen kurzgeschlossenen Knoten abzutrennen, wird unabhängig davon erreicht, ob die Schmelzsicherung zwischen den Transistoren QC und QR zwischen der Basiselektrode 23 und dem auf Masse führenden Transistorpaar, wie es in Fig. 2 gezeigt ist, oder zwischen Masse und dem auf Masse liegenden Transistorpaar liegt.As shown in FIGS. 2, 3 and 4, there is a fusible connection in series with the lowering current path, which leads from the base electrode 23 via the transistors Q C and Q R to ground. The fusible link FL can be burned through during the test of the component if there is a base-emitter short circuit within this emitter group, so as to separate the short-circuited group from the rest of the field and thus increase the component yield and reduce the power consumption of the display panel. It should be noted that the position of the fuse FL within the current path has no effect as far as the circuit technology is concerned. That is, the purpose of disconnecting a shorted node is accomplished regardless of whether the fuse between transistors Q C and Q R is between base electrode 23 and the pair of transistors grounded, as shown in Figure 2, or between ground and the pair of transistors connected to ground.

Wiederum bezugnehmend auf Fig. 2, 3 und 4 sei angemerkt, daß die Grauabstufung (d. h. das Variieren der Pixel-Beleuchtung) in einer arbeitenden Anzeigevorrichtung dadurch erfolgen kann, daß man den Tastzyklus oder das Tastverhältnis (die Zeitspanne, in der die Emitter innerhalb eines Pixels tatsächlich emittieren, ausdrückt als Prozentsatz der Vollbildzeit) variiert. Die Helligkeitssteuerung kann dadurch erfol­ gen, daß man den Emitterstrom variiert, beispielsweise über das Ändern der Gate-Spannungen entweder des Transistors QC oder des Transistors QR oder beider Transistoren.Referring again to Figs. 2, 3, and 4, it should be noted that the gradation of gray (i.e., varying the pixel lighting) in a working display device can be accomplished by considering the duty cycle or duty cycle (the time period in which the emitters within a Pixels actually emit, expressed as a percentage of full screen time) varies. The brightness control can be carried out by varying the emitter current, for example by changing the gate voltages of either the transistor Q C or the transistor Q R or both transistors.

Fig. 5 zeigt ein vereinfachtes Layout für Mehrfach-Emitterknoten für jede Reihen-Spalten-Schnittstelle des Anzeigefeldes. Ein Paar von Polysi­ lizium-Reihenleitungen R0 und R1 schneiden sich senkrecht mit Metall- Spaltenleitungen C0 und C1 sowie mit einem Paar Metall-Masseleitungen GND0 und GND1. Die Masseleitung GND0 gehört zu einer Spaltenlei­ tung C0, während die Masseleitung GND1 zur Spaltenleitung C1 gehört. Jede Schnittstelle von Reihen- und Spalten (d. h. für jedes individuell adressierbare Pixel innerhalb der Anzeigevorrichtung) gibt es mindestens eine Reihenleitung-Erweiterung, welche die Gates und die Gate-Ver­ bindungsstellen für Mehrfach-Emitterknoten innerhalb dieses Pixels bildet. Beispielsweise gehört die Verlängerung E00 zur der Schnittstelle der Reihe R0 mit der Spalte C0, die Erweiterung E01 gehört zu der Schnittstelle der Reihe R0 mit der Spalte C1; die Erweiterung E10 gehört zu der Schnittstelle der Reihe R1 mit der Spalte C0; und die Erweiterung E11 gehört zu der Schnittstelle der Reihe R1 mit der Spalte C1. Alle diese Schnittstellen funktionieren in identischer Weise, so daß hier lediglich die Komponenten in der Schnittstellenzone R0 - C0 im einzelnen erläutert werden. Fig. 5 shows a simplified layout for multiple emitter nodes for each row-column interface of the display field. A pair of polysilicon row lines R 0 and R 1 intersect perpendicularly with metal column lines C 0 and C 1 and with a pair of metal ground lines GND 0 and GND 1 . The ground line GND 0 belongs to a column line C 0 , while the ground line GND 1 belongs to the column line C 1 . Each row and column interface (ie, for each individually addressable pixel within the display device) there is at least one row line extension which forms the gates and the gate junctions for multiple emitter nodes within that pixel. For example, the extension E 00 belongs to the interface of the row R 0 with the column C 0 , the extension E 01 belongs to the interface of the row R 0 with the column C 1 ; the extension E 10 belongs to the interface of the row R 1 with the column C 0 ; and the extension E 11 belongs to the interface of the row R 1 with the column C 1 . All of these interfaces function in an identical manner, so that only the components in the interface zone R 0 - C 0 are explained in detail here.

Nach Fig. 5 trägt die Schnittzone R0 - C0 drei Emitterknoten EN1, EN2 und EN3. Jeder Emitterknoten enthält einen ersten aktiven Bereich AA1 und einen zweiten aktiven Bereich AA2. Eine Metall-Masseleitung GND stellt Kontakt zu einem Ende eines ersten aktiven Bereichs AA1 an einem ersten Kontakt CT1 her. In Kombination mit dem ersten aktiven Bereich AA1 bildet ein erster L-förmiger Polysilizium-Streifen S1 das Gate des Feldeffekttransistors QC (vgl. Fig. 2). Die Metall-Spaltenleitung C0 stellt den Kontakt zu dem Polysilizium-Streifen G1 an einer zweiten Kontakt­ stelle CT2 her. Die Polysilizium-Erweiterung E00 bildet das Gate des Feldeffekttransistors QR (siehe wiederum Fig. 2 und 3). Ein erster Metallstreifen MS1 verbindet den ersten aktiven Bereich AA1 mit dem zweiten aktiven Bereich AA2 durch Kotaktgabe über einen dritten Kon­ takt CT3 bzw. einen vierten Kontakt CT4.According to FIG. 5, the cutting zone R 0 carries - C 0 three emitter node EN 1, EN 2 and EN3. Each emitter node contains a first active area AA 1 and a second active area AA 2 . A metal ground line GND makes contact with one end of a first active region AA 1 at a first contact CT 1 . In combination with the first active region AA 1 , a first L-shaped polysilicon strip S 1 forms the gate of the field effect transistor Q C (cf. FIG. 2). The metal column line C 0 makes contact with the polysilicon strip G 1 at a second contact point CT 2 . The polysilicon extension E 00 forms the gate of the field effect transistor Q R (see again FIGS. 2 and 3). A first metal strip MS 1 connects the first active area AA 1 to the second active area AA 2 by contacting via a third contact CT 3 or a fourth contact CT 4 .

Der Abschnitt des Metallstreifens MS1, der zwischen dem dritten Kon­ takt CT3 und dem vierten Kontakt CT4 liegt, bildet die Schmelzverbin­ dung FL. Die Emitterbasiselektrode (siehe Position 23 in Fig. 2 und 3, da die Emitterbasiselektrode in diesem Layout nicht gezeigt ist) ist mit dem Metallstreifen MS1 gekoppelt. Ein zweiter L-förmiger Polysilizium- Streifen S2 bildet das Gate des Strombegrenzungstransistors QCL, und ein zweiter Metallstreifen MS2 ist an einem fünften Kontakt CT5 mit dem zweiten Polysilizium-Streifen S2 verbunden, und über einen dritten Kon­ takt CT6 mit dem zweiten aktiven Bereich AA2 verbunden. Die Gitter­ platte (siehe Position 21 in Fig. 2 und 3, da die Gitterplatte in diesem Layout nicht dargestellt ist), ist mit dem zweiten Metallstreifen MS3 verbunden. Es muß betont werden, daß das Layout nach Fig. 5 lediglich beispielhaft ist.The section of the metal strip MS 1 , which lies between the third contact CT 3 and the fourth contact CT 4 , forms the fusible link FL. The emitter base electrode (see position 23 in FIGS . 2 and 3, since the emitter base electrode is not shown in this layout) is coupled to the metal strip MS 1 . A second L-shaped polysilicon strip S 2 forms the gate of the current limiting transistor Q CL , and a second metal strip MS 2 is connected at a fifth contact CT 5 to the second polysilicon strip S 2 , and via a third contact CT 6 with connected to the second active area AA 2 . The grid plate (see position 21 in Fig. 2 and 3, since the grid plate is not shown in this layout) is connected to the second metal strip MS 3 . It must be emphasized that the layout according to FIG. 5 is only exemplary.

Nunmehr bezugnehmend auf Fig. 6, ist ein mögliches Layout für die erste Ausführungsform des Emitterknotens in Kombination mit einem stromregulierenden Transistor des Masseweges dargestellt. Obschon dem Layout nach Fig. 5 sehr ähnlich, besteht ein Unterschied insofern, als kein Strombegrenzungstransistor QL durch eine aktive Zone AA2 und den Streifen S2 gebildet wird, die als das Gate des Strombegrenzungstransi­ stors QL fungiert. Bei diesem Layout werden die Emitterspitzen E1 und E2 direkt auf dem aktiven Bereich AA2 gebildet. Ein weiterer Unter­ schied besteht in dem Vorhandensein des Stromregulierwiderstands R, der hier in Form eines C-förmigen Polysilizium-Streifens SR ausgebildet ist. Ein Ende des C-förmigen Polysilizium-Streifens SR hat direkten Kontakt mit dem ersten aktiven Flächenbereich AA1, während das andere einen Kontakt mit einer metallischen Erdungsleitung oder -schiene GND bei einer ersten Kontaktstelle CT1 hat. Obschon der größte Teil des C-förmigen Polysilizium-Streifens geringfügig mit einem Pegel dotiert ist, der den Widerstandswert für den Widerstand R in geeigneter Weise einstellt, sind seine Enden stark dotiert, so daß ein wirksamer ohmscher Kontakt vorhanden ist.Referring now to Fig. 6, a possible layout for the first embodiment of the emitter node in combination with a current regulating transistor of the ground path is shown. Although the layout of Fig. 5 very similar, there is a difference in that is formed as no current limiting transistor Q L through an active region AA 2 and the strip S 2, which acts as the gate of the Strombegrenzungstransi stors Q L. In this layout, the emitter tips E 1 and E 2 are formed directly on the active area AA 2 . Another difference is the presence of the current regulating resistor R, which is here in the form of a C-shaped polysilicon strip S R. One end of the C-shaped polysilicon strip S R is in direct contact with the first active area AA 1 , while the other is in contact with a metallic ground line or rail GND at a first contact point CT 1 . Although most of the C-shaped polysilicon strip is lightly doped with a level that suitably sets the resistance value for the resistor R, its ends are heavily doped so that there is an effective ohmic contact.

Äquivalente Layouts sind möglich, und es sind andere Widerstands- und Leitermaterialien anstelle der Polysilizium- und Metallstrukturen in den Fig. 5 und 6 möglich.Equivalent layouts are possible, and other resistor and conductor materials are possible instead of the polysilicon and metal structures in FIGS. 5 and 6.

Claims (22)

1. Verfahren zum Betreiben einer Feldemissionsanzeigevorrichtung, mit dem einzelne Pixel (Bildelemente) der Anzeige individuell adressiert werden, wobei die Feldemissionsanzeigevorrichtung um­ faßt: mehrere Reihenadreßleiter (R0, R1), die mehrere Spalten­ adreßleiter (C0, C1) schneiden, wobei die Schnittstellen eines einzel­ nen Reihenadreßleiters mit einem einzelnen Spaltenadreßleiter einem einzelnen Pixel der Anzeige entspricht, und Gruppen von Feld­ emissionskathoden, von denen jede Gruppe einem speziellen Pixel entspricht, gekennzeichnet durch folgende Schritte:
  • - in solchen Zeitspannen, in denen ein spezielles Pixel inaktiv ist, wird eine erste Spannungsdifferenz zwischen dem Gitter (21) und der zu diesem Pixel gehörenden Kathodengruppe (22A- 22C) aufrechterhalten, wobei die erste Spannungsdifferenz für eine Feldemission unzureichend ist;
  • - während solcher Zeitspannen, in denen das Pixel aktiv ist, wird die Spannungsdifferenz zwischen dem Gitter (21) und der zu diesem Pixel gehörenden Kathodengruppe (22A-22C) auf eine zweite Spannungsdifferenz angehoben, die für eine Feldemis­ sion ausreicht, wozu die Anhebung der Spannungsdifferenz dadurch erfolgt, daß das Potential an der zu dem Pixel gehörenden Kathodengruppe über mindestens einen Absenk- Strompfad heruntergezogen wird, welcher durch ein zu dem Pixel gehöriges Reihensignal (SR) und Spaltensignal (SC) offen­ gesteuert wird.
1. A method of operating a field emission display device with which individual pixels (picture elements) of the display are individually addressed, the field emission display device comprising: a plurality of row address conductors (R 0 , R 1 ) which intersect a plurality of column address conductors (C 0 , C 1 ), the interfaces of a single row address conductor with a single column address conductor corresponding to a single pixel of the display, and groups of field emission cathodes, each group corresponding to a specific pixel, characterized by the following steps:
  • - in periods of time in which a particular pixel is inactive, a first voltage difference is maintained between the grid ( 21 ) and the cathode group ( 22 A- 22 C) belonging to this pixel, the first voltage difference being insufficient for field emission;
  • - During such periods in which the pixel is active, the voltage difference between the grid ( 21 ) and the cathode group belonging to this pixel ( 22 A- 22 C) is raised to a second voltage difference, which is sufficient for a field emission, for which the The voltage difference is increased by pulling down the potential at the cathode group belonging to the pixel via at least one lowering current path, which is openly controlled by a row signal (S R ) and column signal (S C ) belonging to the pixel.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem das Potential zu einem akti­ vierten Pixel gehörigen Kathodengruppe auf Massepotential heruntergezogen wird. 2. The method according to claim 1, wherein the potential to act fourth pixel belonging cathode group to ground potential is pulled down.   3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem jeder Absenk-Strompfad auf­ weist: mehrere in Serie geschaltete Feldeffekttransistoren (QC, QR), von denen mindestens einer von einem Reihensignal (SR) und der Rest von einem Spaltensignal (SC) offengesteuert wird.3. The method according to claim 1, wherein each lowering current path comprises: a plurality of field-effect transistors (Q C , Q R ) connected in series, at least one of which is a row signal (S R ) and the rest of a column signal (S C ) is controlled open. 4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem die für das Reihensignal und das Spaltensignal verwendeten Spannungspegel kompatibel mit übli­ chen logischen Signalspannungen sind.4. The method of claim 3, wherein the for the series signal and the column signal used voltage level compatible with übli Chen are logical signal voltages. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß jede Kathodengruppe über mindestens einen strombegrenzenden leitenden Weg von dem Gitter (21) zu jeder Kathodengruppe während inaktiven Phasen des Pixels auf einen Spannungswert in der Nähe der Gitterspannung aufgeladen wird.5. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that each cathode group is charged via at least one current-limiting conductive path from the grid ( 21 ) to each cathode group during inactive phases of the pixel to a voltage value in the vicinity of the grid voltage. 6. Verfahren nach Anspruch 5, bei dem jeder strombegrenzende Pfad aufweist: einen N-Kanal-Feldeffekttransistor (Q1) dessen Drain und Gate mit dem Anzeige-Gitter (21) gekoppelt sind, und dessen Source mit einer Emitterbasiselektrode (23) gekoppelt ist.6. The method of claim 5, wherein each current limiting path comprises: an N-channel field effect transistor (Q 1 ) whose drain and gate are coupled to the display grid ( 21 ) and whose source is coupled to an emitter base electrode ( 23 ) . 7. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem jede zu einem einzelnen Pixel gehörende Kathodengruppe mehrere Emitterknoten (EN1-EN3) aufweist, von denen jeder Knoten seine eigene Emitterbasiselektrode (23) aufweist, an der mehrere Feldemissionskathoden (22A-22C) gelegen sind.7. The method of claim 1, wherein each cathode group belonging to a single pixel has a plurality of emitter nodes (EN 1 -EN 3 ), each node having its own emitter base electrode ( 23 ) on which a plurality of field emission cathodes ( 22 A- 22 C) are located. 8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem jede Emitterbasiselektrode (23) einen Absenk-Strompfad aufweist und jeder Absenk-Strompfad eine Schmelzverbindung (FL) enthält, die während der Prüfung des Bauelements durchbrennbar ist, so daß die Emitterknoten, die ein oder mehrere Emitter-Gitter-Kurzschlüsse aufweisen, funktionell von der Anzeigevorrichtung getrennt werden können.8. The method of claim 7, wherein each emitter base electrode ( 23 ) has a lowering current path and each lowering current path contains a fusible link (FL) which is burnable during the testing of the component, so that the emitter nodes, the one or more emitters Grid shorts, can be functionally separated from the display device. 9. Verfahren nach Anspruch 8, bei dem jedes Bildelement mehrere durch Schmelzen abtrennbare Emittergruppen besitzt. 9. The method of claim 8, wherein each pixel is plural has emitter groups that can be separated by melting.   10. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem Änderungen der Pixel-Hel­ ligkeit dadurch erfolgen, daß die Gatespannungen bei mindestens einem der Feldeffekttransistoren (SC, SR), welche die Absenk-Strom­ pfade des betreffenden Pixels enthalten, variiert werden, so daß der Emissionsstrom für die zu diesem Pixel gehörigen Emitter variiert wird.10. The method according to claim 3, in which changes in the pixel Hel brightness occur in that the gate voltages in at least one of the field effect transistors (S C , S R ), which contain the sink current paths of the pixel in question, are varied so that the emission current for the emitters belonging to this pixel is varied. 11. Feldemissions-Anzeigevorrichtung, umfassend:
mehrere Reihenadreßleiter (R0, R1);
mehrere Spaltenadreßleiter (C0, C1);
wobei die Reihenadreßleiter die Spaltenadreßleiter schneiden und die Schnittstelle eines einzelnen Reihenadreßleiters mit einem einzelnen Spaltenadreßleiter innerhalb der Anzeigevorrichtung zu einem ein­ zelnen Pixel (Bildelement) gehört;
ein Gitter (21), welches der gesamten Anzeigevorrichtung gemein­ sam ist und welches durchgehend auf einem ersten Potential gehal­ ten wird;
Gruppen von Feldemissionskathoden (22A-22C), von denen jede Gruppe zu einem speziellen Pixel gehört und jede Gruppe während inaktiver Phasen des Pixels auf einem zweiten Potential gehalten wird, welches nahe genug bei dem ersten Potential liegt, um Feld­ emission zu unterdrücken, und jede Gruppe während aktiver Phasen des Pixels auf einem dritten Potential gehalten wird, welches aus­ reichend niedrig bezüglich des ersten Potentials ist, um Feldemis­ sion zu induzieren; und
wobei mindestens ein Absenk-Strompfad zwischen der Kathoden­ gruppe jedes Pixels und einem auf einem vierten Potential, welches kleiner oder gleich dem dritten Potential ist, gehaltenen Knoten vorgesehen ist, wobei der Pfad ansprechend auf Signale auf einem zu dem Pixel gehörigen Reihenadreßleiter und Spaltenadreßleiter (SR bzw. SC) aktivierbar ist, um ein Schalten des an die zu diesem Pixel gehörige Kathodengruppe angelegten Potentials zwischen dem zweiten Potential und dem dritten Potential zu ermöglichen.
11. A field emission display device comprising:
several row address conductors (R 0 , R 1 );
several column address conductors (C 0 , C 1 );
wherein the row address conductors intersect the column address conductors, and the interface of a single row address conductor with a single column address conductor within the display device belongs to a single pixel (picture element);
a grid ( 21 ) which is common to the entire display device and which is continuously kept at a first potential;
Groups of field emission cathodes ( 22 A- 22 C), each group belonging to a particular pixel and each group being kept at a second potential close to the first potential during inactive phases of the pixel to suppress field emission, and each group is maintained at a third potential during active phases of the pixel, which is sufficiently low with respect to the first potential to induce field emission; and
wherein at least one sinking current path is provided between the cathode group of each pixel and a node held at a fourth potential which is less than or equal to the third potential, the path in response to signals on a row address conductor and column address conductor (S R or S C ) can be activated in order to enable switching of the potential applied to the cathode group belonging to this pixel between the second potential and the third potential.
12. Vorrichtung nach Anspruch 11, bei der das vierte Potential zwischen Massepotential und dem zweiten Potential liegt.12. The apparatus of claim 11, wherein the fourth potential lies between ground potential and the second potential. 13. Verfahren nach Anspruch 11, bei dem jede Kathodengruppe, die zu einem einzelnen Pixel gehört, mehrere Emitterknoten (EN1 - EN3) enthält, wobei jeder Knoten seine eigene Emitterbasiselektrode (23) besitzt, an der mehrere Feldemissionskathoden (22A-22C) liegen.13. The method of claim 11, wherein each cathode group belonging to a single pixel contains a plurality of emitter nodes (EN 1 - EN 3 ), each node having its own emitter base electrode ( 23 ) on which a plurality of field emission cathodes ( 22 A- 22 C) lie. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, bei der jede Emitterbasiselektrode (23) ihren eigenen Absenk-Strompfad aufweist, und jeder Absenk- Strompfad eine Schmelzverbindung (FL) aufweist, die während der Prüfung der Vorrichtung durchbrennbar ist, so daß diejenigen Emit­ terknoten, die einen oder mehrere Emitter-Gitter-Kurzschlüsse auf­ weisen, funktionell von der Anzeigevorrichtung abtrennbar sind.14. The apparatus of claim 13, wherein each emitter base electrode ( 23 ) has its own lowering current path, and each lowering current path has a fusible link (FL) that is burnable during device testing so that those emitter nodes that are one or have multiple emitter lattice short circuits that are functionally separable from the display device. 15. Vorrichtung nach Anspruch 11, bei der der Absenk-Strompfad aufweist: mehrere in Reihe geschaltete Feldeffekttransistoren (QC, QR) von denen mindestens einer von einem Signal auf dem zuge­ hörigen Reihenadreßleiter (SR) offensteuerbar ist, während minde­ stens einer der übrigen durch ein Signal auf dem zugehörigen Spal­ tenadreßleiter (SC) offengesteuert wird.15. The apparatus of claim 11, wherein the lowering current path comprises: a plurality of series-connected field effect transistors (Q C , Q R ) of which at least one of a signal on the associated row address conductor (S R ) is open-controlled, while at least one the rest is open-controlled by a signal on the associated column address address (S C ). 16. Vorrichtung nach Anspruch 11, bei der jeder Absenk-Strompfad aufweist: einen Stromregulierwiderstand (R) und mindestens zwei Feldeffekttransistoren (QC, QR), wobei der Widerstand und die Transistoren in Reihe geschaltet sind und der Widerstand direkt mit dem Knoten gekoppelt ist, während mindestens einer von den Tran­ sistoren durch ein Signal (SR) auf dem zugehörigen Reihenadreßl­ eiter offengesteuert wird, und mindestens ein weiterer Transistor ansprechend auf ein Signal (SC) auf dem zugehörigen Spaltenadreß­ leiter aktivierbar ist. 16. The apparatus of claim 11, wherein each sinking current path comprises: a current regulating resistor (R) and at least two field effect transistors (Q C , Q R ), the resistor and the transistors being connected in series and the resistor directly coupled to the node is while at least one of the transistors is open-controlled by a signal (S R ) on the associated row address conductor, and at least one further transistor can be activated in response to a signal (S C ) on the associated column address conductor. 17. Vorrichtung nach Anspruch 15 oder 16, bei der Änderungen der Pixel-Helligkeit dadurch erreichbar sind, daß man die Gate­ spannungen an mindestens einem der Feldeffekttransistoren variiert, die jeder der Absenk-Strompfade eines speziellen Pixels enthält, so daß der Emissionsstrom innerhalb der Emitter dieses Pixels variiert wird.17. The apparatus of claim 15 or 16, in the changes of Pixel brightness can be achieved by moving the gate voltages on at least one of the field effect transistors varies, that each of the sinking current paths of a particular pixel contains, so that the emission current varies within the emitters of that pixel becomes. 18. Vorrichtung nach einem Ansprüche 11 bis 17, bei der die Gruppe von Feldemissionskathoden (22A-22C) auf das zweite Potential über mindestens einen strombegrenzenden, leitenden Pfad zwischen Gitter und Emitter aufgeladen wird, wenn das zugehörige Pixel deaktiviert ist, wobei der leitende Pfad auch dazu dient, den zwischen Gitter und Emitter fließenden Strom während der Akti­ vierungsphasen des Pixels zu minimieren.18. The device according to one of claims 11 to 17, in which the group of field emission cathodes ( 22 A- 22 C) is charged to the second potential via at least one current-limiting, conductive path between the grid and the emitter when the associated pixel is deactivated, the conductive path also serves to minimize the current flowing between the grid and emitter during the activation phases of the pixel. 19. Vorrichtung nach Anspruch 18, bei der der strombegrenzende leitende Pfad einen N-Kanal-Feldeffekttransistor (Q1) aufweist, dessen Drain und Gate mit dem Anzeigegitter (21) gekoppelt sind, und dessen Source mit einer einzelnen Emitterbasiselektrode (23) gekoppelt ist.19. The apparatus of claim 18, wherein the current limiting conductive path comprises an N-channel field effect transistor (Q 1 ), the drain and gate of which are coupled to the display grid ( 21 ) and the source of which is coupled to a single emitter base electrode ( 23 ) . 20. Flachtafelanzeige, umfassend:
mehrere Reihenadreßleiter (R0, R1);
mehrere Spaltenadreßleiter (C0, C1);
wobei die Reihenadreßleiter die Spaltenadreßleiter schneiden und die Schnittstelle eines einzelnen Reihenadreßleiters mit einem einzelnen Spaltenadreßleiter zu einem einzelnen Pixel (Bildelement) innerhalb der Anzeige gehört;
für jedes Pixel vorgesehene erste und zweite Elemente, wobei das Pixel emittiertes Licht dann erzeugt, wenn eine Spannungsdifferenz zwischen den zwei Elementen (im folgenden Zwischenelement- Spannungsdifferenz) angelegt wird, welche einen Pixel-Akti­ vierungsschwellenwert übersteigt;
einen Absenkknoten, der auf einem konstanten Potential gehalten wird;
wobei mindestens ein selektiv aktivierbarer Absenk-Strompfad zwi­ schen dem zweiten Pixelelement und dem Absenkknoten liegt und der den Knoten mit dem zweiten Pixelelement koppelnde Pfad bei seiner Aktivierung eine Zwischenelement-Spannungsdifferenz bildet, welche den Pixel-Aktivierungsschwellenwert übersteigt, und der Pfad den Knoten von dem zweiten Pixelelement entkoppelt, wenn der Pfad deaktiviert ist, wodurch eine Zwischenelement-Spannungs­ differenz geschaffen wird, die den Pixel-Aktivierungsschwellenwert nicht übersteigt.
20. Flat panel display comprising:
several row address conductors (R 0 , R 1 );
several column address conductors (C 0 , C 1 );
the row address conductors intersect the column address conductors and the interface of a single row address conductor with a single column address conductor belongs to a single pixel (picture element) within the display;
first and second elements provided for each pixel, the pixel generating light emitted when a voltage difference between the two elements (hereinafter the intermediate element voltage difference) is applied which exceeds a pixel activation threshold;
a sink node held at a constant potential;
wherein at least one selectively activatable lowering current path lies between the second pixel element and the lowering node and the path coupling the node to the second pixel element forms, when activated, an intermediate element voltage difference which exceeds the pixel activation threshold value, and the path the node from that decouples the second pixel element when the path is deactivated, thereby creating an inter-element voltage difference that does not exceed the pixel activation threshold.
21. Anzeige nach Anspruch 20, bei der der Absenk-Strompfad aufweist:
mehrere in Reihe geschaltete Feldeffekttransistoren (QC, QR), von denen mindestens einer durch ein Signal auf dem zugehörigen Reihenadreßleiter (SR) offengesteuert wird, während mindestens einer von den übrigen durch ein Signal auf dem zugehörigen Spal­ tenadreßleiter (SC) offengesteuert wird.
21. The display of claim 20, wherein the lowering current path comprises:
a plurality of series-connected field effect transistors (Q C , Q R ), of which at least one is open-controlled by a signal on the associated row address conductor (S R ), while at least one of the others is open-controlled by a signal on the associated column address conductor (S C ) becomes.
22. Verfahren zum Steuern der Pixel-Aktivierungsspannung in einer reihen- und spaltenadressierbaren Flachtafelanzeigevorrichtung mit mehreren Reihenadreßleitern (R0, R1), die mehrere Spaltenadreßl­ eiter (C0, C2) schneiden, so daß die Schnittstelle eines einzelnen Reihenadreßleiters mit einem einzelnen Spaltenadreßleiter zu einem einzelnen Pixel (Bildelement) in der Anzeige gehört und jedes Pixel eine Pixel-Aktivierungsspannung besitzt,
dadurch gekennzeichnet,
daß eine erste Signalspannung (SR) selektiv an individuelle Reihen­ adreßleiter und eine zweite Signalspannung (SC) selektiv an indivi­ duelle Spaltenadreßleiter gelegt wird, wobei die erste und die zweite Signalspannung weniger als die Hälfte der Pixel-Akti­ vierungsspannung betragen.
22. A method of controlling the pixel activation voltage in a row and column addressable flat panel display device having a plurality of row address conductors (R 0 , R 1 ) intersecting a plurality of column address conductors (C 0 , C 2 ) so that the interface of a single row address conductor with a single one Column address conductor belongs to a single pixel (picture element) in the display and each pixel has a pixel activation voltage,
characterized,
that a first signal voltage (S R ) is selectively applied to individual row address conductors and a second signal voltage (S C ) is applied to individual column address conductors, the first and second signal voltages being less than half of the pixel activation voltage.
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