DE4242632C1 - Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken - Google Patents
Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von RöntgenmaskenInfo
- Publication number
- DE4242632C1 DE4242632C1 DE19924242632 DE4242632A DE4242632C1 DE 4242632 C1 DE4242632 C1 DE 4242632C1 DE 19924242632 DE19924242632 DE 19924242632 DE 4242632 A DE4242632 A DE 4242632A DE 4242632 C1 DE4242632 C1 DE 4242632C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- mask
- copy
- heat sink
- telescope
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
- G03F7/70866—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of mask or workpiece
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2037—Exposure with X-ray radiation or corpuscular radiation, through a mask with a pattern opaque to that radiation
- G03F7/2039—X-ray radiation
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
- G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
Landscapes
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Description
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Vervielfäl
tigung von Röntgenmasken.
Kopierverfahren zur Herstellung von an einem Stepper einsetzbaren Röntgen
masken werden u. a. aus Wirtschaftlichkeitsüberlegungen durchgeführt. Die Her
stellung einer Röntgenmaske erfolgt nach einem Entwurf im CAD mit einem
Elektronenstrahl-Schreiber, da nur Elektronenstrahl-Schreiber in der Lage sind,
die geforderte Lage- und Strukturgenauigkeit für ein 1 : 1 abbildendes Lithogra
phieverfahren zu erzeugen. Da der Schreibaufwand sehr hoch ist, entstehen er
hebliche Kosten. Für den industriellen Einsatz ist es notwendig, von einer Rönt
genmaske mehrere Exemplare vorrätig zu haben. Durch einen gut beherrschten
Kopierprozeß unter Einsatz paralleler Röntgenstrahlung, wie sie z. B. von einer
Synchrotronstrahlungsquelle geliefert wird, eröffnet sich ein Weg zur Kostensen
kung. Dabei ist ein wesentliches Kriterium die Erzeugung einer 1 : 1-Kopie ohne
Veränderungen der Lagegenauigkeit.
Sowohl durch einen undefinierten Abstand von Muttermaske und zu erzeu
gender Kopie (im folgenden einfach als Kopie oder Maskenkopie bezeichnet) als
auch durch den Keilfehler zwischen Muttermaske und Kopie, wie er bei Verwen
dung von mechanischen Abstandshaltern auftritt, kommt es zu zusätzlichen La
gegenauigkeitsänderungen. Ähnliche Auswirkungen hat eine nicht definiert ein
gestellte Wärmesenke, d. h. der Abstand und Winkel der Wärmesenke zur Mem
bran der Kopie muß justierbar sein. Die Wärmesenke dient zur Abführung von
Wärmeenergie von der Maskenkopie, die durch Absorption von Röntgenstrah
lung verursacht wird. Durch übermäßige Aufheizung der Maskenkopie kann es
zu unerwünschten Lageänderungen der Maskenkopie kommen.
Eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken, bei
dem mechanische Abstandshalter zwischen den Halterungen von Muttermaske
und Kopie eingesetzt werden, ist z. B. aus J. Grimm et al, Microelectronic Engi
neering 11 (1990), 275-278 bekannt.
Da die häufig verwendeten Kunststoff-Folien (Proximity-Fähnchen) zur Ein
stellung des sog. Proximity-Abstandes zwischen Muttermaske und Kopie nur in
bestimmten Dicken verfügbar sind, können nur bestimmte Abstände eingestellt
werden. Ein optimaler Abstand zwischen den vorgegebenen Dicken ist nicht
einstellbar. Ein weiterer Nachteil dieses Verfahrens ist durch die Anordnung der
Fähnchen bedingt. Sie werden zwischen die Maskenränder gelegt und richten
somit nicht die zu übertragenden Ebenen, sondern die Ränder von Muttermaske
und Kopie parallel aus. Aufgrund von vorhandenen Unebenheiten beider Mas
ken kann durch die Proximity-Fähnchen ein Keilfehler erzeugt werden. Eine
Keilfehlerkorrektur ist mit dem bisherigen Verfahren nicht möglich.
Die zur Vermeidung von wärmebedingten Lageänderungen notwendige Wärme
senke wurde bisher auf mechanischen Kontakt mit der Rückseite der Membran
gebracht und anschließend auf den gewünschten Wert zurückgedreht. Dieses
Verfahren birgt ein hohes Bruchrisiko der Membran und führt zu unerwünschter
Rückseitenkontamination.
Ein in der DE 36 23 891 A1 beschriebenes Justiersystem mit Justiermarken, wie es
an Röntgensteppern angewendet wird, ist bei der Vervielfältigung von Röntgen
masken nicht einsetzbar, weil die Muttermasken wie auch die Kopien aufgrund
der Galvanikstartschicht keine optische Transparenz besitzen. In diesem
Stadium des Herstellungsvorgangs ist die Galvanikstartschicht sowohl auf der
Muttermaske wie auf der Kopie nicht entfernt bzw. wird für den weiteren
Prozeßablauf noch gebraucht.
In der EP 453 133 A2 sind eine Vorrichtung und ein Verfahren zum Herstellen von
Röntgenmasken beschrieben. Bei dem Verfahren werden die Ränder einer
Röntgenmaske mit Hilfe von Abstandssensoren oder Abstandshaltern parallel
zur rückseitigen Oberfläche der die Maske tragenden Halterung justiert. Auch
hier ergeben sich die bereits weiter oben angegebenen Nachteile dadurch, daß
nicht die Maskenebene selbst, sondern nur deren Ränder parallel zu einer Be
zugsebene ausgerichtet werden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es daher, eine Vorrichtung und ein Ver
fahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken anzugeben, das gegenüber den
bisherigen Verfahren und Vorrichtungen eine bessere und genauere Justierung
und Abstandseinstellung einzelner Elemente der Vorrichtung zueinander ermög
licht.
Erfindungsgemäße Lösungen der Aufgabe sind in den Ansprüchen 1 und 7
gekennzeichnet. Weiterbildungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen
angegeben.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit der Vorrichtung nach Anspruch 1 gelöst.
Diese Vorrichtung besteht aus zwei Maskenhalterungen, die sich im externen
Strahlengang eines Autokollimationsfernrohrs befinden. Die Maskenhalterungen
sind so gestaltet, daß die Masken, die sie aufnehmen, um zwei Achsen winkel
verstellbar sind, so daß beide Masken parallel zueinander und senkrecht zur op
tischen Achse des Autokollimationsfernrohrs justiert werden können. Vor
zugsweise liegen diese Achsen in der Maskenebene, verlaufen senkrecht zu
einander und schneiden sich im Zentrum der Maske. Doch auch andere sich
schneidende Achsen sind möglich. Weiterhin ist die Maskenhalterung, die näher
am Autokollimationsfernrohr angeordnet ist, so an einem Verschiebeelement
befestigt, daß sie bezüglich der Maskenebene annähernd parallel zur optischen
Achse des Autokollimationsfernrohrs verschoben werden kann. Das Autokolli
mationsfernrohr ist auf einem zweiten Verschiebeelement derart angeordnet,
daß seine optische Achse annähernd parallel zur Verschieberichtung liegt. Die
Vorrichtung umfaßt weiterhin ein Wegmeßgerät, das eine jeweilige relative Posi
tion des Verschiebeelements bzw. des auf ihm befindlichen Autokollimations
fernrohrs anzeigt. Das Wegmeßgerät kann z. B. ein mechanischer Wegaufneh
mer sein, der an das Verschiebeelement des Autokollimationsfernrohrs gekop
pelt ist. Als Verschiebeelemente können z. B. lineare Verschiebetische einge
setzt werden. Zur Wärmeabführung von der Maskenkopie ist eine Wärmesenke
vorgesehen, die unmittelbar hinter der Maskenhalterung für die Maskenkopie
angeordnet ist.
Mit dieser erfindungsgemäßen Vorrichtung läßt sich in vorteilhafter Weise, wie
weiter unten näher beschrieben (Anspruch 7), der Abstand zwischen der Mut
termaske und der Kopie (Proximity-Gap) berührungsfrei mit hoher Genauigkeit
einstellen. Weiterhin ermöglicht die Vorrichtung die Korrektur des Keilfehlers
zwischen Muttermaske und Kopie. Muttermaske und Kopie lassen sich daher
mit hoher Genauigkeit (wenige Winkelsekunden) parallel zueinander einstellen.
Eine vorteilhafte Weiterbildung der Erfindung besteht in der Vorrichtung nach
Anspruch 2. Bei dieser Vorrichtung ist in die Wärmesenke mindestens ein
kapazitiver Abstandssensor eingebaut, so daß der Abstand zwischen der Vor
derseite der Wärmesenke und der Membran der Maskenkopie gemessen wer
den kann. Weiterhin ist die Wärmesenke (z. B. über eine Linearführung) an
nähernd senkrecht zur Membranoberfläche der Maskenkopie verschiebbar, so
daß der Abstand definiert einstellbar ist. Die Vorderseite der Wärmesenke läßt
sich so verkippen, daß die Membran der Maskenkopie und die Vorderseite der
Wärmesenke parallel zueinander eingestellt werden können.
Damit ist es in vorteilhafter Weise möglich, die Wärmesenke gegenüber der
Maskenkopie berührungsfrei und mit hoher Genauigkeit zu positionieren.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe weiterhin durch das Verfahren nach An
spruch 7 gelöst. Das Verfahren nutzt das optische Reflexionsvermögen der
Muttermaske und der Maskenkopie zur Justierung mit Hilfe eines Autokollima
tionsfernrohrs aus.
Die Autokollimation ist ein optisches Verfahren, bei dem das Bild einer Strich
plattenmaske mit Hilfe eines Spiegels oder einer reflektierenden Fläche (hier
Muttermaske und Maskenkopie) auf sich selbst abgebildet wird. Eine kleine Än
derung des Winkels zwischen der optischen Achse des Autkollimationsfernrohrs
und der reflektierenden Fläche bewirkt eine genau meßbare Wanderung des
Autokollimationsbildes im Okular. Liegt der Spiegel exakt senkrecht zur opti
schen Achse, so wird das Strahlenbündel in sich zurückgeworfen. Ist der Spie
gel um einen Winkel gekippt, fallen die reflektierten Strahlen schräg in das Ob
jektiv ein. Je nach Schräglage des reflektierten Strahlenbündels wandert das
Autokollimationsbild mehr oder weniger aus. Durch Verwendung von kombi
nierten Vorsatzlinsen ist es möglich, eine Autokollimation ins Unendliche sowie
die Fokussierung durch ein Objektiv der Brennweite f auf einen Objektabstand a
mit hoher Präzision durchzuführen.
Zur Durchführung des Verfahrens wird zunächst die Muttermaske oder die Ko
pie in der nicht verschiebbaren Maskenhalterung befestigt. Dann wird ihre Mem
bran mit Hilfe der Zweiachsen-Winkelverstelleinrichtung so ausgerichtet, daß sie
senkrecht zur optischen Achse des Autokollimationsfernrohrs liegt, und damit
das Bild der Kollimatorstrichplatte genau auf das Kreuz der Okularstrichplatte
abgebildet wird.
Im folgenden Schritt wird in den Strahlengang des Autokollimationsfernrohrs
eine Vorsatzlinse eingeblendet. Mit Hilfe des Verschiebeelementes wird der Kolli
mator soweit verschoben, bis die Kollimatorstrichplatte im Okular scharf er
scheint. Ist dieser Punkt erreicht, liegt der Nullpunkt für die Abstandseinstellung
zwischen Muttermaske und Kopie (Proximity-Einstellung) fest. Das Anzeige
instrument des Wegmeßgerätes wird dann entweder auf Null gesetzt oder die
momentane Stellung registriert.
Anschließend wird die Vorsatzlinse aus dem Strahlengang des Autokollima
tionsfernrohrs ausgeblendet, und die noch nicht installierte Kopiervorlage
(Muttermaske) oder Kopie in der verschiebbaren Maskenhalterung befestigt.
Danach erfolgt die Justierung dieser Membran mit der Zweiachsen-Winkelver
stellung senkrecht zur optischen Achse des Kollimators.
Im nächsten Schritt wird das Autokollimationsfernrohr wieder mit der Vorsatz
linse versehen und mit Hilfe des Verschiebeelementes und des Wegmeßgerätes
soweit verschoben, daß sein Abstand dem der vorher registrierten Position zu
züglich des gewünschten Proximity-Abstandes entspricht. Sollte bei der vorher
registrierten Position die Anzeige des Wegmeßgerätes auf Null gesetzt worden
sein, so zeigt sie nun direkt den gewünschten Proximity-Abstand an.
Im letzten Justierschritt wird die verschiebbare Maskenhalterung soweit in Rich
tung der anderen Maskenhalterung gefahren, bis das Autokollimationsbild
scharf im Okular erscheint. Die beiden Halter werden danach gegen uner
wünschte Verschiebungen gesichert.
Als weiterer Verfahrensschritt, der z. B. auch vor der parallelen Justierung von
Muttermaske und Kopie erfolgen kann, wird die Wärmesenke mit Hilfe des Ver
stellelementes und des kapazitiven Abstandssensors auf den gewünschten Ab
stand zur Maskenkopie gebracht und mit der Winkelverstellung annähernd pa
rallel zur Membranoberfläche eingestellt. Die Kalibrierung der Anzeige des kapa
zitiven Abstandssensors sollte vor der Durchführung des Verfahrens mit Test
membranen erfolgen.
Nach Durchlaufen der beschriebenen Justierschritte sind die Membranbereiche
der Masken von Muttermaske und Kopie und die Wärmesenke exakt parallel zu
einander ausgerichtet und der Proximity-Abstand eingestellt. Die Justierung er
folgte berührungsfrei und unabhängig von der Topographie der beiden zu justie
renden Masken. Für die nachfolgende Belichtungsprozedur wird das Autokolli
mationsfernrohr, das lediglich zur Justierung diente, aus der Vorrichtung ent
fernt.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken er
möglicht in vorteilhafter Weise die genaue Justierung und Abstandseinstellung
der einzelnen Elemente der Kopiervorrichtung zueinander, so daß eine höhere
Qualität der erzeugten Kopien erreicht werden kann.
Bei einer besonderen Ausführungsform der erfindungsgemäßen Vorrichtung
nach Anspruch 1 oder 2 besteht gemäß Anspruch 3 jede Maskenhalterung aus
einer Halterungsplatte, einer Trägerplatte und einer Aufnahmevorrichtung für die
Trägerplatte. Die Halterungsplatte besteht aus einer Metallplatte, in die Vertie
fungen zur Maskenaufnahme gefräst wurden. Die Halterung erfolgt durch einen
Klemmriegel, der die Maske gegen ein Widerlager drückt. Die Halterungsplatte
ist auf der Trägerplatte montiert, die von der Aufnahmevorrichtung aufgenom
men werden kann. Beide Aufnahmevorrichtungen sind senkrecht zur
Strahlachse des Autokollimationsfernrohrs angeordnet, wobei eine Aufnahme
vorrichtung auf einer Grundplatte, die zweite an dem Verschiebeelement und
das Verschiebeelement auf der Grundplatte befestigt sind. Die Aufnahmevor
richtungen erlauben eine Zweiachsen-Winkelverstellung der Trägerplatten, wo
bei die beweglichen Teile der Aufnahmevorrichtungen kinetisch gelagert sind
und mit vorgespannten Mikrometerschrauben verstellt werden können.
Durch diese besondere Ausführungsform lassen sich Muttermaske und Kopie
bereits vor der Durchführung des entsprechenden Justierverfahrens auf Halte
rungs- und Trägerplatte montieren, so daß während der Justierung lediglich die
Trägerplatten mit den Aufnahmevorrichtungen verbunden werden müssen.
Anspruch 4 gibt eine Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung nach
Anspruch 2 oder 3 an. Die Wärmesenke ist so gestaltet, daß sie in Größe und
Form der Membrangeometrie entspricht. Sie besteht aus Vollmaterial, z. B. Alu
minium, und ihre der Maskenkopie zugewandte Seite ist zum besseren Wär
meübergang beschichtet (z. B. mit Silizium).
In Weiterbildung der erfindungsgemäßen Vorrichtung nach Anspruch 3 oder 4
ist die Wärmesenke gemäß Anspruch 5 in einem Halter verschiebbar und win
kelverstellbar gelagert. Der Halter kann mit der Trägerplatte der Maskenkopie
fest verbunden werden, so daß die gegenseitige Einstellung von Maskenkopie
und Wärmesenke durch Verstellung der Trägerplatte in der Aufnahmevorrich
tung nicht verändert wird. Die Wärmesenke kann somit bereits vor Justierung
der Maskenkopie relativ zu dieser eingestellt werden.
Bei der besonderen Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung nach
einem der Ansprüche 1 bis 5 sind gemäß Anspruch 6 die einzelnen Verstell- und
Verschiebeelemente der Vorrichtung mit Präzisions-Einstellschrauben versehen,
die die präzise Einstellung der einzelnen Elemente zueinander erleichtern.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung und das Verfahren zur Vervielfältigung von
Röntgenmasken werden nun anhand von Ausführungsbeispielen in Verbindung
mit den Zeichnungen näher erläutert. Dabei zeigen:
Fig. 1a ein Beispiel für die gegenseitige Anordnung und den Auf
bau der Maskenhalterungen und der Wärmesenke,
Fig. 1b eine in einem Halter gelagerte Wärmesenke,
Fig. 2 ein Beispiel für den Aufbau der Halterungsplatte, und
Fig. 3a-f schematisch den Ablauf des Maskenjustiervorganges mit
Hilfe des Autokollimationsfernrohrs.
Das in Fig. 1a schematisch dargestellte Beispiel eines Teils einer Vorrichtung
zur Vervielfältigung von Röntgenmasken umfaßt eine erste Maskenhalterung 1-
3, die auf einer Grundplatte 10 befestigt ist, und eine zweite Maskenhalterung 4-
6, die sich auf einem Linearverschiebetisch 9 befindet. Der Linearverschie
betisch 9 ist mit der Grundplatte 10 verbunden und durch eine Mikrometer
schraube 16 verstellbar. Jede Maskenhalterung besteht aus einer Halterungs
platte 3, 6 für die Maske 7, 8, einer Trägerplatte 2, 5 und einer Aufnahmevorrich
tung 1, 4 für die Trägerplatte. Jede Trägerplatte ist in der entsprechenden Auf
nahmevorrichtung um zwei Achsen mit xy-Verstellschrauben 11 winkelverstell
bar. Mit der Trägerplatte 5 für die Maskenkopie ist ein Wärmesenkenhalter 14,
der die Wärmesenke 12 enthält, verbunden. Durch die Mikrometerschraube 15
läßt sich die Wärmesenke 12 im Halter 14 über eine Linearführung in der ange
gebenen Richtung verschieben. In Fig. 1b ist der kapazitive Sensor 13 zu er
kennen, den die Wärmesenke aufweist. Die Wärmesenke ist im Halter über zwei
Stellschrauben 17, von denen in der Abbildung nur eine zu sehen ist, um zwei
Achsen kippbar. Das in Fig. 1a nicht dargestellte Autokollimationsfernrohr ist in
diesem Beispiel auf der Seite der Maskenhalterung für die Maskenkopie an
geordnet.
Während des Maskenjustiervorganges wird in diesem Ausführungsbeispiel der
Wärmesenkenhalter 14 mit der Wärmesenke 12 aus dem Strahlengang des
Autokollimationsfernrohrs genommen und nach der gegenseitigen Justage von
Muttermaske und Maskenkopie wieder an der Maskenhalterung der Masken
kopie befestigt.
Fig. 2 zeigt den Aufbau einer Halterungsplatte. Ein Siliziumwafer 20, der die
Membran 21 trägt, ist aus Stabilitätsgründen auf einem Glasring 19 montiert.
Das gesamte System liegt in den Vertiefungen einer Halteplatte 24. Die
Halterung erfolgt durch einen beweglichen Klemmriegel 23, der die Maske
gegen ein Widerlager 22 drückt.
Ein Ausführungsbeispiel für das erfindungsgemäße Verfahren zur Vervielfälti
gung von Röntgenmasken wird anhand von Fig. 3 beschrieben. Dabei wird die
in Fig. 1 gezeigte Vorrichtung verwendet, wobei jedoch in diesem Fall die Mut
termaske in der verschiebbaren und die Kopie in der festen Maskenhalterung
befestigt werden, so daß auch die Wärmesenke auf der gegenüberliegenden
Seite angeordnet ist.
Der Justiervorgang beginnt, nachdem die Muttermaske und die Kopie in den je
weiligen Halterungsplatten befestigt sind. Zunächst wird die Halterungsplatte der
Kopie mit der Aufnahmevorrichtung des Systems verbunden. Anschließend wird
die bewegliche Wärmesenke mit der Trägerplatte verbunden und auf den ge
wünschten Abstand (z. B. 50 bis 100 µm) von hinten an die Membran der Kopie
gefahren.
Das Bild 26 im Okular des Autokollimationsfernrohrs 18 zeigt hier im allgemeinen
noch keine Überlagerung von Kollimator- und Okular-Strichplatte (Fig. 3a).
Im nächsten Schritt wird die Membran 25 mit Hilfe der Mikrometer-Schrauben
der Zweiachsen-Winkelverstelleinrichtung so ausgerichtet, daß sie senkrecht zur
optischen Achse des Autokollimationsfernrohrs liegt, und damit das Bild der Kol
limator-Strichplatte genau auf das Kreuz der Okular-Strichplatte abgebildet wird
(Fig. 3b).
Im folgenden Schritt wird das Autokollimationsfernrohr mit einer kurzbrenn
weitigen (Brennweite ca. 20 mm) Vorsatz-Linse versehen. Wenn die Vorsatz-
Linse einen kleineren Durchmesser aufweist als der Strahl des Autokollimations
fernrohrs, wird der restliche auf unendlich fokussierte Teilstrahl durch eine
Blende abgedeckt.
Mit Hilfe eines linearen Verstelltisches, der das Autokollimationsfernrohr trägt,
wird der Kollimator so weit verschoben, bis die Kollimator-Strichplatte im Okular
scharf erscheint (Fig. 3c). Ist dieser Punkt erreicht, liegt der Null-Punkt für die
Proximity-Einstellung fest. Das Anzeigeinstrument des mechanischen Wegauf
nehmers (als Wegmeßgerät) wird dann auf Null gesetzt. Für diesen Verfahrens
schritt kann aus Gründen der genaueren Einstellbarkeit (bessere Erkennbarkeit
der Fokusebene) der sogenannte Siemensstern als Bild der Kollimatorplatte be
nutzt werden (vgl. Fig. 3c).
Anschließend wird das Autokollimationsfernrohr auf seinen Ausgangspunkt zu
rückgefahren und die Blende aus dem Strahlengang genommen.
Jetzt wird die Trägerplatte der Muttermaske mit der zweiten Aufnahmevorrich
tung des Systems verbunden. Wie weiter oben beschrieben, erfolgt die Justie
rung der Membran mit Hilfe der Mikrometerschrauben senkrecht zur optischen
Achse des Kollimators (Fig. 3d, e).
Die Grobjustierung des Proximity-Abstandes zwischen Muttermaske und Kopie
erfolgt rein visuell auf ca. 1 mm genau. Anschließend wird das Autokollimations
fernrohr wieder abgeblendet und mit Hilfe des Linearverstelltisches soweit ver
schoben, bis die Anzeige des mechanischen Wegaufnehmers den gewünschten
Proximity-Abstand (typisch: 20-50 µm) zwischen Muttermaske und Kopie er
reicht hat.
Der mechanische Wegaufnehmer besteht in diesem Fall aus einem am Linear
verstelltisch befestigten mechanischen Taster, der den Verschiebeweg des Li
nearverstelltisches mißt.
Im letzten Justierschritt wird die Muttermaske soweit an die Kopie gefahren, bis
das Autokollimationsbild scharf im Okular erscheint (Fig. 3 f). Die beiden Halter
werden danach gegen unerwünschte Verschiebungen gesichert.
Für den Belichtungsvorgang wird die gesamte Grundplatte mit den beiden Mas
kenhalterungen vom Autokollimationsfernrohr getrennt und in den Strahlengang
für die Röntgenstrahlung gesetzt.
Claims (7)
1. Vorrichtung zur Vervielfältigung von Röntgenmasken durch Röntgenstrahl
lithographie mit einer ersten (1-3) und einer zweiten Maskenhalterung (4-6)
und einer Wärmesenke (12) für die Maskenkopie,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Vorrichtung mit einem Autokollimationsfernrohr (18), das auf einem Verschiebeelement mit der optischen Achse annähernd parallel zur Verschieberichtung angeordnet ist, einer Vorsatzlinse für das Auto kollimationsfernrohr und einem Wegmeßgerät, das eine jeweilige relati ve Position des Verschiebeelementes anzeigt, ausgestattet ist,
- - daß die beiden Maskenhalterungen im externen Strahlengang des Auto kollimationsfernrohrs angeordnet sind,
- - daß die beiden Maskenhalterungen so gestaltet sind, daß jede Maske (7, 8) um zwei sich schneidende Achsen winkelverstellbar ist,
- - und daß die näher am Autokollimationsfernrohr angeordnete zweite Maskenhalterung gegenüber der ersten über ein weiteres Verschiebe element (9) annähernd parallel zur optischen Achse des Autokollima tionsfernrohrs verschiebbar ist.
2. Vorrichtung zur Vervielfältigung von Röntgenmasken nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Wärmesenke (12)
- - derart winkelverstellbar gelagert ist, daß ihre Vorderseite parallel zur Membranoberfläche der Maskenkopie eingestellt werden kann,
- - mit einem Verstellelement annähernd senkrecht zur Membranoberfläche der Maskenkopie verschiebbar ist,
- - und mindestens einen kapazitiven Abstandssensor (13) aufweist, mit dem der Abstand zur Maskenkopie bestimmbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß jede Maskenhalterung
- - aus einer Halterungsplatte (3, 6) aus Metall mit einer oder mehreren Ausnehmungen zur Maskenaufnahme und einer Klemmvorrichtung, die die Maske gegen ein Widerlager drückt,
- - einer Trägerplatte (2, 5), auf der die Halterungsplatte montiert ist,
- - und einer Aufnahmevorrichtung (1, 4) für die Trägerplatte besteht, wobei die Aufnahmevorrichtung der ersten Maskenhalterung fest auf einer Grundplatte (10), die Aufnahmevorrichtung der zweiten Masken halterung an dem Verschiebeelement (9) und das Verschiebeelement auf der Grundplatte befestigt sind, die Aufnahmevorrichtungen mit den Maskenebenen parallel zueinander und senkrecht zur optischen Achse des Autokollimationsfernrohrs angeordnet sind, und die Trägerplatten in den Aufnahmevorrichtungen mit Mikrometerschrauben (11) um zwei Achsen winkelverstellbar sind.
4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3,
dadurch gekennzeichnet,
- - daß die Vorderseite der Wärmesenke zum besseren Wärmeübergang beschichtet ist,
- - daß die Vorderseite der Wärmesenke den Abmessungen der Mem branoberfläche der Maskenkopie angepaßt ist,
- - und daß die Wärmesenke aus Vollmaterial besteht.
5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 3 oder 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Wärmesenke in einem Halter (14) verschiebbar und winkelverstell
bar gelagert ist, der mit der Trägerplatte (5) für die Maskenkopie verbun
den werden kann.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet,
daß die einzelnen Verstell- und Verschiebeelemente mit Präzisionseinstell
schrauben versehen sind.
7. Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken mit der Vorrichtung
nach einem oder mehreren der Ansprüche 2 bis 6, bei dem durch Rönt
genstrahllithographie die Absorberstruktur einer Muttermaske auf die
Membranoberfläche einer zu erzeugenden Maskenkopie abgebildet wird,
dadurch gekennzeichnet,
daß vor der Belichtung
- - die Membran der zu erzeugenden Maskenkopie oder der Muttermaske in der ersten Maskenhalterung befestigt wird,
- - die Membranoberfläche mit der Winkelverstellung unter Verwendung des Autokollimationsfernrohrs senkrecht zu dessen optischer Achse eingestellt wird,
- - das Autokollimationsfernrohr mit einer Vorsatz-Sammellinse versehen und soweit verschoben wird, daß das Bild der Kollimatorstrichplatte im Okular scharf erscheint,
- - bei diesem Abstand des Autokollimationsfernrohrs zur Membran die re lative Position am Wegmeßgerät registriert oder als Nullpunkt des Weg meßgerätes gewählt wird,
- - die noch nicht installierte Membran in der zweiten Maskenhalterung be festigt wird,
- - die Membranoberfläche mit der Winkelverstellung unter Verwendung des Autokollimationsfernrohrs ohne Vorsatzlinse senkrecht zu dessen optischer Achse eingestellt wird,
- - das Autokollimationsfernrohr erneut mit der Vorsatz-Sammellinse verse hen und soweit verschoben wird, daß sein Abstand zur Membran in der ersten Maskenhalterung dem der vorher registrierten Position zuzüglich des gewünschten Proximity-Abstandes entspricht,
- - und die zweite Maskenhalterung mit dem Verschiebeelement soweit verschoben wird, daß das Bild der Kollimatorstrichplatte im Okular des Autokollimationsfernrohrs scharf erscheint, und daß
- - die Oberfläche der Wärmesenke mit der Winkelverstellung parallel zur Membranoberfläche der Maskenkopie eingestellt wird,
- - und die Wärmesenke mit dem Verstellelement soweit verschoben wird, daß der kapazitive Abstandssensor den gewünschten Abstand zur Mas kenkopie angibt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924242632 DE4242632C1 (de) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924242632 DE4242632C1 (de) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4242632C1 true DE4242632C1 (de) | 1994-05-05 |
Family
ID=6475541
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924242632 Expired - Fee Related DE4242632C1 (de) | 1992-12-17 | 1992-12-17 | Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4242632C1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10303902A1 (de) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines Justier-Mikroskops mittels verspiegelter Justiermaske |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3623891A1 (de) * | 1986-07-15 | 1988-01-28 | Siemens Ag | Anordnung zur genauen gegenseitigen ausrichtung einer maske und einer halbleiterscheibe in einem lithographiegeraet und verfahren zu ihrem betrieb |
EP0453133A2 (de) * | 1990-04-12 | 1991-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Röntgenmaske |
-
1992
- 1992-12-17 DE DE19924242632 patent/DE4242632C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3623891A1 (de) * | 1986-07-15 | 1988-01-28 | Siemens Ag | Anordnung zur genauen gegenseitigen ausrichtung einer maske und einer halbleiterscheibe in einem lithographiegeraet und verfahren zu ihrem betrieb |
EP0453133A2 (de) * | 1990-04-12 | 1991-10-23 | Canon Kabushiki Kaisha | Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Röntgenmaske |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10303902A1 (de) * | 2003-01-31 | 2004-08-19 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines Justier-Mikroskops mittels verspiegelter Justiermaske |
DE10303902B4 (de) * | 2003-01-31 | 2004-12-09 | Süss Microtec Lithography Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Ausrichten eines Justier-Mikroskops mittels verspiegelter Justiermaske |
AT413305B (de) * | 2003-01-31 | 2006-01-15 | Suess Microtec Lithography | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE602005001011T2 (de) | Methode zur Bestimmung der Aberration eines Projektionssystems eines Lithographieapparats | |
DE2110073C3 (de) | Vorrichtung zur Projektionsmaskierung einer lichtempfindlichen Schicht | |
DE2900921C2 (de) | Verfahren zum Projektionskopieren von Masken auf ein Werkstück | |
DE60128975T2 (de) | Mikrolithographischer Projektionsapparat | |
DE2910280A1 (de) | Optisches abbildungssystem | |
DE10239858A1 (de) | Verfahren und Anordnung zur Kompensation von Unebenheiten in der Oberfläche eines Substrates | |
EP4005195A1 (de) | Sensoranordnung | |
AT413305B (de) | Verfahren und vorrichtung zum ausrichten eines justier-mikroskops mittels verspiegelter justiermaske | |
DE102012206153A1 (de) | Optisches System einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage | |
DE4242632C1 (de) | Vorrichtung und Verfahren zur Vervielfältigung von Röntgenmasken | |
WO2024061905A1 (de) | Optische baugruppe, optisches system und projektionsbelichtungsanlage | |
DE60319087T2 (de) | Lithographische Methode zur Herstellung einer Vorrichtung | |
DE102020211700A1 (de) | Messverfahren und Messanordnung zur Ermittlung der Position und/oder Orientierung eines optischen Elements, sowie Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102017202863A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Ermitteln einer Position und/oder Orientierung eines optischen Elements | |
DE102019209610A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen einer Klebeverbindung zwischen einer ersten Komponente und einer zweiten Komponente | |
DE102019203838A1 (de) | Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie mit einem optischen Element mit Sensorreferenz und Verfahren zur Ausrichtung der Sensorreferenz | |
DE102011006003A1 (de) | Beleuchtungsoptik zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithografie | |
DE102021201162A1 (de) | Verfahren zum tauschen eines ersten optikmoduls gegen ein zweites optikmodul bei einer lithographieanlage | |
DE102020210886A1 (de) | Messanordnung und Messverfahren zur Ermittlung der Position und/oder der Orientierung eines optischen Elements sowie Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102019217629A1 (de) | Verfahren zur Ausrichtung eines Interferometers und Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleitertechnik | |
DE102022205972B3 (de) | Verfahren und austauschwerkzeug | |
DE102015213253A1 (de) | Spiegel, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage | |
DE102015224522B4 (de) | Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen Projektionsanlage und Verfahren zum Betreiben eines solchen Systems | |
DE102017206039A1 (de) | Spiegel, lithographieanlage und verfahren zum herstellen einer lithographieanlage | |
DE102012204142A1 (de) | Kollektor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |