DE4140712A1 - Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd. - Google Patents
Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd.Info
- Publication number
- DE4140712A1 DE4140712A1 DE19914140712 DE4140712A DE4140712A1 DE 4140712 A1 DE4140712 A1 DE 4140712A1 DE 19914140712 DE19914140712 DE 19914140712 DE 4140712 A DE4140712 A DE 4140712A DE 4140712 A1 DE4140712 A1 DE 4140712A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- photoresist layer
- prodn
- resin
- photoresist
- cpd
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/022—Quinonediazides
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/242—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers
- G11B7/244—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of recording layers comprising organic materials only
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/254—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers
- G11B7/2542—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of protective topcoat layers consisting essentially of organic resins
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/258—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers
- G11B7/2585—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of reflective layers based on aluminium
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Platte und ein Verfah ren zu deren Herstellung.The present invention relates to an optical disk and a method for their manufacture.
In Fig. 3 ist ein herkömmliches Verfahren für die Herstellung von opti schen Platten wie etwa von Bildplatten gezeigt. Gemäß diesem Verfah ren wird zunächst eine eine Photolackschicht 2 aufweisende Photore sistvorlage, die auf der Hauptfläche einer Glasscheibe 1 gleichmäßig verteilt ist, wie in Fig. 3(a) gezeigt, vorbereitet, anschließend wird auf die Photolackschicht 2 ein Laserstrahl La gerichtet, der gemäß einem vorgegebenen Signal intermittierend eingeschaltet wird, um auf der Photolackschicht 2 ein gespeichertes Bild in Form einer spiralförmig oder konzentrisch geformten Reihe von Punkten, die einer vorgegebe nen Information entsprechen, zu erzeugen. Dann wird die belichtete Photoresistvorlage entwickelt, um auf ihr eine Reihe von sehr kleinen Eintiefungen (die im folgenden als "Gruben" bezeichnet werden) zu schaffen, die dem aufzuzeichnenden Signal entsprechen, so daß sich eine entwickelte Photoresistvorlage ergibt, die die mit den Gruben ver sehene Photolackschicht 2 (Informationsaufzeichnungsschicht) und die Glasscheibe 1 aufweist, wie in Fig. 3(b) gezeigt ist. Dann wird die Photolackschicht 2 auf dieser entwickelten Photoresistvorlage mit dem Ziel ihrer Fixierung auf der Glasscheibe 1 getrocknet (nachgebrannt), so daß sich eine getrocknete Photoresistvorlage ergibt, wie in Fig. 3(c) gezeigt ist. Anschließend wird die Photolackschicht 2 mit einem Metall wie etwa Silber oder Nickel bedampft, um auf ihr einen leitenden Film 3 zu bilden, woraus sich eine Vorlage 3a der Photoresistvorlage mit ei ner Laminierungsstruktur ergibt, wie sie in Fig. 3(d) gezeigt ist. Das bedeutet, daß die die Gruben aufweisende Informationsaufzeichnungs fläche durch die Bedampfung der Photolackschicht mit einem Metall leitend gemacht wird. Anschließend wird die erhaltene Mutterphotore sistvorlage in ein Nickel-Galvano-Formungsbad eingetaucht, um auf dem leitenden Film 3 mittels Elektroplattierung Nickel (Ni) aufzubrin gen, um eine dicke Nickelschicht 4 oder einen Nickelstempel zu schaf fen, wodurch eine Platte erhalten wird, wie sie in Fig. 3(e) gezeigt ist. Anschließend wird der Stempel oder die Nickelschicht 4 von der Glas scheibe 1 abgetrennt, wie in Fig. 3(f) gezeigt ist. Die Photolackschicht 2 und der leitende Film 3, die auf dem Stempel verbleiben, werden daraufhin beseitigt, wodurch ein Nickelstempel geschaffen wird, wie er in Fig. 3(g) gezeigt ist. Dann wird der Nickelstempel an einer vorgege benen Position einer Spritzgußmaschine angebracht und festgeklemmt. Weiterhin wird in den Nickelstempel ein lichtdurchlässiges Harzmate rial wie etwa geschmolzenes und fließfähiges PMMA (Polymethylmeth acrylat) oder PC (Polycarbonat) gespritzt, wobei das Harzmaterial nach seinem Aushärten abgenommen wird, um einen Abdruck der optischen Platte mit einer vorgegebenen Informationsaufzeichnungsfläche zu schaffen. Fig. 3 shows a conventional method for manufacturing optical disks such as image disks. According to this method, a photoresist layer having a photoresist layer 2 is first prepared, which is evenly distributed on the main surface of a glass sheet 1 , as shown in Fig. 3 (a), then a laser beam La is directed onto the photoresist layer 2 , which according to a predetermined signal is switched on intermittently in order to generate a stored image on the photoresist layer 2 in the form of a spiral or concentrically shaped series of points which correspond to a predetermined information. The exposed photoresist template is then developed to provide a series of very small depressions (hereinafter referred to as "pits") which correspond to the signal to be recorded, resulting in a developed photoresist template which verifies the pits seen photoresist layer 2 (information recording layer) and the glass sheet 1 , as shown in Fig. 3 (b). Then, the photoresist layer 2 on this developed photoresist template is dried (post-baked) with the aim of fixing it on the glass sheet 1 , so that a dried photoresist template results, as shown in Fig. 3 (c). Subsequently, the photoresist layer 2 is evaporated with a metal such as silver or nickel to form a conductive film 3 on it, which results in a template 3 a of the photoresist template with a lamination structure, as shown in FIG. 3 (d) . This means that the information recording surface having the pits is made conductive by the evaporation of the photoresist layer with a metal. Subsequently, the mother photoresist obtained is immersed in a nickel plating bath to electroplate nickel (Ni) on the conductive film 3 to create a thick nickel layer 4 or a nickel stamp, thereby obtaining a plate as it is is shown in Fig. 3 (e). Then, the stamp or the nickel layer 4 is separated from the glass sheet 1 , as shown in Fig. 3 (f). The photoresist layer 2 and the conductive film 3 remaining on the stamp are then removed, thereby creating a nickel stamp as shown in Fig. 3 (g). Then the nickel stamp is attached to a pre-specified position of an injection molding machine and clamped. Furthermore, a translucent resin material such as molten and flowable PMMA (polymethyl methacrylate) or PC (polycarbonate) is injected into the nickel stamp, the resin material being removed after it has hardened in order to create an impression of the optical disk with a predetermined information recording area.
Auf dem auf diese Weise erhaltenen Abdruck wird ein reflektierender Film wie etwa ein Aluminiumfilm unter Verwendung bekannter Ver fahren abgeschieden, anschließend wird der reflektierende Film mit ei nem Schutzfilm überzogen, wodurch die optische Platte erhalten wird. Im allgemeinen werden zwei auf diese Weise erzeugte optische Platten aneinandergeklebt und einem Endbearbeitungsprozeß unterworfen, so daß sich eine doppelseitige optische Platte ergibt.The impression obtained in this way becomes a reflective one Film such as an aluminum film using known ver drive separated, then the reflective film with egg Nem covered protective film, whereby the optical disc is obtained. Generally, two optical disks are produced in this way glued together and subjected to a finishing process, so that there is a double-sided optical disc.
Bei diesem herkömmlichen Verfahren sind jedoch einerseits viele Gal vanoformungsschritte erforderlich, bis der Stempel fertiggestellt ist, so daß für den Vorgang der Elektroplattierung viel Zeit erforderlich ist; andererseits wird für die Erzeugung des Abdrucks eine verhältnismäßig große Spritzgußmaschine benötigt. Da die Produktion des Stempels viel Zeit in Anspruch nimmt und teuer ist, ist das herkömmliche Verfahren für die Produktion von mehreren optischen Platten, die die derzeitige Tendenz zur Herstellung vieler verschiedener Typen von audiovisueller Software in jeweils kleiner Stückzahl erfüllen, nicht optimal geeignet.In this conventional method, however, there are many gal vanoforming steps required until the stamp is finished, see above that much time is required for the process of electroplating; on the other hand, one becomes proportional for the generation of the impression large injection molding machine needed. Since the production of the stamp a lot The traditional method is time consuming and expensive for the production of several optical disks, the current one Tendency to produce many different types of audiovisual Fulfill software in small quantities, not ideal.
Es ist daher die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine optische Platte und ein Verfahren zu deren Herstellung zu schaffen, wobei die optische Platte für die Produktion vieler verschiedener Typen von opti schen Platten in jeweils geringer Stückzahl und für die Massenproduk tion von optischen Platten mittels verhältnismäßig einfacher Prozesse geeignet sein soll.It is therefore the object of the present invention to provide an optical To provide plate and a method for their production, the optical disc for the production of many different types of opti plates in small quantities and for mass production tion of optical disks using relatively simple processes should be suitable.
Diese Aufgabe wird bei einem Verfahren der gattungsgemäßen Art gemäß einem ersten Aspekt der vorliegenden Erfindung gelöst durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil des Anspruches 1.This task is carried out in a method of the generic type solved according to a first aspect of the present invention by the features in the characterizing part of claim 1.
Diese Aufgabe wird ferner bei einer optischen Platte der gattungsge mäßen Art erfindungsgemäß gelöst durch die Merkmale im kennzeich nenden Teil des Anspruches 2.This task is also the genusge in an optical disc according to the invention solved by the features in the characterizing nenden part of claim 2.
Schließlich wird die Aufgabe bei einem Verfahren der gattungsgemä ßen Art gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Erfindung ge löst durch die Merkmale im kennzeichnenden Teil des Anspruches 3.Finally, the task in a method of the generic type type according to a further aspect of the present invention solves by the features in the characterizing part of claim 3.
Erfindungsgemäß kann die Anzahl der Produktionsschritte für die opti sche Platte verringert werden, außerdem kann die Lebensdauer der op tischen Platte verlängert werden.According to the invention, the number of production steps for the opti cal plate can be reduced, the life of the op table top can be extended.
Ferner kann erfindungsgemäß die für die Herstellung eines Stempels erforderliche Zeit abgekürzt werden, wodurch das Herstellungsverfah ren für die optische Platte vereinfacht wird.Furthermore, the invention can be used for the production of a stamp required time can be shortened, whereby the manufacturing process ren for the optical disc is simplified.
Die Erfindung wird im folgenden anhand bevorzugter Ausführungsformen mit Bezug auf die Zeichnungen näher erläutert; es zeigen:The invention is described below on the basis of preferred embodiments explained in more detail with reference to the drawings; show it:
Fig. 1 einen schematischen Querschnitt der Elemente in den einzel nen Schritten eines Herstellungsverfahrens für eine optische Platte gemäß einer ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung; Fig. 1 is a schematic cross section of the elements in the individual steps of a manufacturing process for an optical disc according to a first embodiment of the present invention;
Fig. 2 einen schematischen Querschnitt der Elemente in den einzel nen Schritten eines Herstellungsverfahrens für eine optische Platte gemäß einer zweiten Ausführungsform der vorliegen den Erfindung; und Fig. 2 is a schematic cross section of the elements in the individual steps of a manufacturing method for an optical disk according to a second embodiment of the present invention; and
Fig. 3 einen schematischen Querschnitt der Elemente in den einzel nen Schritten eines herkömmlichen Herstellungsverfahrens für eine optische Platte. Fig. 3 is a schematic cross section of the elements in the individual steps of a conventional manufacturing process for an optical disc.
In dem Herstellungsverfahren gemäß der ersten Ausführungsform wird zunächst mittels eines Schleuderbeschichtungsverfahrens oder derglei chen eine Photoresistvorlage geschaffen, die eine Photolackschicht 20 aufweist, die auf der Hauptseite eines gereinigten, lichtdurchlässigen Substrats 10 aus Glas, PMMA, PC oder dergleichen gleichmäßig aus gebildet ist. Wie in Fig. 1(a) gezeigt, wird auf die Photolackschicht 20 ein Laserstrahl La gerichtet, der gemäß einem vorgegebenen Signal intermittierend eingeschaltet wird, um auf der Photolackschicht 20 ein gespeichertes Bild in einer spiralförmigen oder konzentrischen Reihe von Punkten, die der vorgegebenen Information entsprechen, zu erzeu gen. Die Photolackschicht 20 umfaßt ein Harz, ein lichtempfindliches Material und eine Ballastverbindung, deren Zusammensetzung weiter unten beschrieben wird.In the manufacturing method according to the first embodiment, a photoresist template is first created by means of a spin coating method or the like, which has a photoresist layer 20 which is uniformly formed on the main surface of a cleaned, transparent substrate 10 made of glass, PMMA, PC or the like. As shown in Fig. 1 (a), a laser beam La is directed onto the resist layer 20 , which is switched on intermittently in accordance with a predetermined signal, so as to place on the resist layer 20 a stored image in a spiral or concentric series of points corresponding to the predetermined information The photoresist layer 20 comprises a resin, a light-sensitive material and a ballast compound, the composition of which is described below.
Anschließend wird die belichtete Photoresistvorlage entwickelt, um auf dieser eine Reihe von sehr kleinen Eintiefungen zu schaffen, die dem aufzuzeichnenden Signal entsprechen; dadurch wird eine entwickelte Photoresistvorlage erhalten, die die mit Gruben versehene Photolack schicht 20 (Informationsaufzeichnungsschicht) und das lichtdurchlässige Substrat 10 aufweist, wie in Fig. 1(a) gezeigt ist.The exposed photoresist template is then developed in order to create a series of very small depressions on it which correspond to the signal to be recorded; thereby a developed photoresist template is obtained which has the pitted photoresist layer 20 (information recording layer) and the transparent substrate 10 as shown in Fig. 1 (a).
Die Photolackschicht 20 auf dieser entwickelten Photoresistvorlage wird erwärmt und mit dem Ziel ihrer Fixierung auf dem lichtdurchläs sigen Substrat 10 getrocknet (nachgebrannt), wodurch sich eine ge trocknete Photoresistvorlage ergibt, wie in Fig. 1(c) gezeigt ist. The photoresist layer 20 on this developed photoresist template is heated and dried (post-baked) with the aim of fixing it on the translucent substrate 10 , resulting in a dried photoresist template, as shown in Fig. 1 (c).
Dann wird die Photolackschicht 20 mit Ultraviolettstrahlen bestrahlt, wie in Fig. 1(d) gezeigt, um die Vernetzung des Harzes in der Photo lackschicht 20 zu beschleunigen, damit die Photolackschicht als Infor mationsaufzeichnungsfläche ausgehärtet wird.Then, the photoresist layer 20 is irradiated with ultraviolet rays as shown in Fig. 1 (d) to accelerate the crosslinking of the resin in the photoresist layer 20 so that the photoresist layer is cured as the information recording surface.
Anschließend wird auf der die Reihe von sehr kleinen Gruben aufwei senden Informationsaufzeichnungsfläche ein reflektierender Film 30 aus Aluminium oder dergleichen ausgebildet, wie in Fig. 1(e) gezeigt ist, woraufhin dieser reflektierende Film 30 mit einem Schutzfilm überzogen wird, wodurch eine optische Platte erhalten wird.Then, a reflective film 30 of aluminum or the like is formed on the information recording surface having the series of very small pits, as shown in Fig. 1 (e), and then this reflective film 30 is covered with a protective film, thereby obtaining an optical disk becomes.
Das Herstellungsverfahren für eine optische Platte gemäß dieser ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung ist bis zum Schritt des Nachbrennens mit dem herkömmlichen Verfahren identisch. Ein we sentliches erfindungsgemäßes Merkmal dieser Ausführungsform umfaßt die Ausführung des Schrittes des Beschleunigens des Vernetzens der Photolackschicht 20 nach dem Schritt des Nachbrennens.The manufacturing method for an optical disk according to this first embodiment of the present invention is identical to the conventional method up to the post-baking step. An essential feature of this embodiment according to the invention comprises the execution of the step of accelerating the crosslinking of the photoresist layer 20 after the post-baking step.
Genauer dient die Plattenstruktur gemäß dieser ersten Ausführungs form, die den reflektierenden Film umfaßt, der auf der die Gruben aufweisenden Photolackschicht ausgebildet ist, bei der Produktion einer oder mehrerer optischer Platten als eine solche optische Platte. Es ist daher notwendig, die von der Zeit abhängige Verschlechterung der Photolackschicht 20 zu unterdrücken und die Korrosion des reflektie renden Films durch die Photolackschicht zu verhindern. Dazu wird die Vernetzung der Photolackschicht 20 beschleunigt, um diese Photolack schicht 20 schneller zu stabilisieren, damit die gleichzeitig stattfindende Korrosion des reflektierenden Films unterdrückt wird.More specifically, the disk structure according to this first embodiment, which includes the reflective film formed on the photoresist layer having the pits, serves as such an optical disk in the production of one or more optical disks. It is therefore necessary to suppress the time-dependent deterioration of the photoresist layer 20 and to prevent the corrosion of the reflective film by the photoresist layer. For this purpose, the crosslinking of the photoresist layer 20 is accelerated in order to stabilize this photoresist layer 20 more quickly, so that the corrosion of the reflecting film which occurs at the same time is suppressed.
Im Stand der Technik ist versucht worden, die Plattenstruktur, die eine Gruben aufweisende und mit einem reflektierenden Film überzogene Photolackschicht 20 aufweist, direkt als optische Platte zu verwenden. Die sich daraus ergebende optische Platte konnte jedoch ihre Lei stungsmerkmale aufgrund der Verschlechterung der Photolackschicht und des mit der Photolackschicht eng verbundenen reflektierenden Films nicht über eine lange Zeitperiode beibehalten. Mit dem erfin dungsgemäßen Verfahren gemäß der ersten Ausführungsform können sowohl diese Nachteile als auch die obenerwähnten Probleme des Stan des der Technik bezüglich des zeitaufwendigen Herstellungsprozesses und der vielen Produktionsschritte beseitigt werden. Die durch das Verfahren gemäß dieser Ausführungsform erhaltene optische Platte benötigt während des gesamten Produktionsprozesses keinen Stempel für die Erzeugung eines Abdrucks, so daß sie eine getreue Informa tionsaufzeichnungsfläche erhält.In the prior art, attempts have been made to use the plate structure, which has a photoresist layer 20 which has pits and is coated with a reflective film, directly as an optical plate. However, the resulting optical disk was unable to maintain its performance characteristics for a long period of time due to the deterioration of the photoresist layer and the reflective film closely related to the photoresist layer. With the inventive method according to the first embodiment, both these disadvantages and the above-mentioned problems of the prior art with regard to the time-consuming manufacturing process and the many production steps can be eliminated. The optical disc obtained by the method according to this embodiment does not require a stamp for the production of an impression during the entire production process, so that it obtains a true information recording area.
Wie oben beschrieben, können mit dem Herstellungsverfahren für eine optische Platte gemäß der ersten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Produktionsschritte vereinfacht werden, so daß dieses Verfahren für die Produktion von optischen Platten in geringer Stück zahl geeignet ist; daher ist mit diesem erfindungsgemäßen Verfahren das Problem vielfältiger Typen von audiovisueller Software in jeweils geringer Stückzahl beherrschbar. Die erfindungsgemäße optische Platte kann eine Informationsaufzeichnungsfläche mit richtig geformten Gru ben erhalten.As described above, the manufacturing process for a optical disk according to the first embodiment of the present Invention the production steps are simplified so that this Process for the production of optical disks in small pieces number is suitable; therefore with this method according to the invention the problem of diverse types of audiovisual software in each small quantities manageable. The optical disc according to the invention can be an information recording area with properly shaped group ben received.
Nun wird die zweite Ausführungsform der vorliegenden Erfindung be schrieben. Bei der Herstellung einer oder mehrerer optischer Platten kann ein Verfahren angewendet werden, bei dem das als Informations aufzeichnungsfläche dienende Muster der sehr kleinen Gruben der Mutterphotoresistvorlage unter Verwendung eines Harzstempels und nicht eines Metallstempels übertragen wird und anhand dieses Harz stempels ein Abdruck erstellt wird. Dieses Abdruck-Herstellungsver fahren ist ein sogenanntes 2P-Verfahren (Photopolymer-Verfahren), bei dem ein ("2P" genanntes) Photopolymer-Fluid verwendet wird, das ein durch Ultraviolettstrahlen härtendes Harz ist, mit dem die Informati onsaufzeichnungsfläche überzogen wird, wobei die Schicht gemäß die sem Verfahren anschließend mit ultravioletten Strahlen bestrahlt wird, um das 2P zu härten und anschließend das gehärtete 2P als Übertra gungsschicht für die Informationsaufzeichnungsfläche verwendet wird. Bei der Übertragung der Informationsaufzeichnungsfläche, die der Schaffung eines Abdrucks unter Verwendung des 2P-Verfahrens dient, muß auf der Oberfläche der Photolackschicht der Mutterphotoresist vorlage eine Sperrschicht wie etwa ein Metallfilm ausgebildet werden, um eine Korrosion des Photoresists durch das 2P-Material zu verhin dern. Die Ausbildung der Sperrschicht kann die folgenden drei Pro bleme (1) bis (3) zur Folge haben, die jedoch durch das Verfahren ge mäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung besei tigt werden können.Now the second embodiment of the present invention will be wrote. When manufacturing one or more optical disks a method can be used in which the information pattern of the very small pits of the Mother photoresist template using a resin stamp and is not transferred to a metal stamp and based on this resin stamp an impression is created. This imprint manufacturing ver driving is a so-called 2P process (photopolymer process) which uses a photopolymer fluid (called "2P") that contains a ultraviolet curing resin with which the Informati ons Recording area is coated, the layer according to the this process is then irradiated with ultraviolet rays, to harden the 2P and then the hardened 2P as a transfer is used for the information recording surface. When transferring the information recording area that the Creation of an impression using the 2P process, must be on the surface of the photoresist layer of the mother photoresist a barrier layer such as a metal film is formed, to prevent corrosion of the photoresist by the 2P material other. The formation of the barrier layer can be the following three pro bleme (1) to (3) result, but ge according to the second embodiment of the present invention can be done.
- 1) Die Ausbildung des Metallfilms ist schwierig und zeitaufwendig.1) The formation of the metal film is difficult and time consuming.
- 2) Da die Sperrschicht auf den in der Photolackschicht ausgebildeten Gruben vorgesehen wird, werden die Formen der Gruben auf der Übertragungsfläche geändert, was eine Verschlechterung der Re produktion der Signale aus der mittels des Harzstempels aus einem Abdruck erhaltenen optischen Platte zur Folge hat.2) Since the barrier layer on the formed in the photoresist layer Pits are provided, the shapes of the pits on the Transfer area changed, which worsened the re production of the signals from the by means of the resin stamp from a Optical disc obtained.
- 3) Da die Abdeckungsabdeckung aus einer Reinraum-Atmosphäre entnommen und anschließend in einer Dampfabscheidungsma schine angeordnet wird, kann an der Abdeckung Staub anhaften, der Signalausfälle zur Folge haben kann.3) Because the cover cover comes from a clean room atmosphere removed and then in a steam separator machine, dust can adhere to the cover, which can result in signal failures.
Nun wird das Herstellungsverfahren für eine optische Platte gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung, mit dem die obenerwähnten Probleme beseitigt werden können, beschrieben.Now the manufacturing process for an optical disk according to the second embodiment of the present invention, with which the problems mentioned above can be eliminated.
Zunächst wird auf der Hauptseite einer gereinigten, lichtdurchlässigen Platte 100 aus Glas, die als Substrat der Photoresistvorlage dient, eine Photolackschicht 200 gleichmäßig ausgebildet, wobei ein Schleuderbe schichtungsverfahren oder dergleichen verwendet wird und die Photo resistvorlage geschaffen wird. Wie in Fig. 2(a) gezeigt, wird die Pho tolackschicht 200 mit einem Laserstrahl La bestrahlt, der gemäß einem vorgegebenen aufzuzeichnenden Signal intermittierend eingeschaltet wird, so daß auf der Photolackschicht 200 ein gespeichertes Bild in Form spiraligförmiger oder konzentrischer Reihen von Punkten, die der vorgegebenen Information entsprechen, ausgebildet wird. Die Photolackschicht 200 umfaßt ein Harz, ein lichtempfindliches Material und eine Ballastverbindung, deren Zusammensetzung weiter unten be schrieben wird.First, a photoresist layer 200 is uniformly formed on the main surface of a cleaned, transparent plate 100 made of glass, which serves as the substrate of the photoresist template, using a spin coating method or the like, and the photo resist template is created. As shown in Fig. 2 (a), the photoresist layer 200 is irradiated with a laser beam La, which is switched on intermittently according to a predetermined signal to be recorded, so that on the photoresist layer 200, a stored image in the form of spiral or concentric rows of dots correspond to the given information. The photoresist layer 200 comprises a resin, a photosensitive material and a ballast compound, the composition of which will be described below.
Anschließend wird die belichtete Photoresistvorlage entwickelt, wo durch auf dieser eine Reihe von sehr kleinen Eintiefungen, die dem aufzuzeichnenden Signal entsprechen, geschaffen wird, woraus sich eine entwickelte Photoresistvorlage ergibt, die die mit Gruben verse hene Photolackschicht 200 (Informationsaufzeichnungsschicht) und die lichtdurchlässige Platte 100 enthält, wie in Fig. 2(b) gezeigt ist.Subsequently, the exposed photoresist template is developed, whereby a series of very small recesses corresponding to the signal to be recorded is created on it, resulting in a developed photoresist template which comprises the pitted photoresist layer 200 (information recording layer) and the translucent plate 100 includes, as shown in Fig. 2 (b).
Anschließend wird die Photolackschicht 200 auf dieser entwickelten Vorlage erwärmt und mit dem Ziel ihrer Fixierung auf der lichtdurch lässigen Scheibe 100 getrocknet (nachgebrannt), wodurch eine getrock nete Photoresistvorlage erhalten wird, wie in Fig. 2(c) gezeigt ist.Subsequently, the photoresist layer 200 is heated on this developed template and dried (post-baked) with the aim of fixing it on the translucent disk 100 , whereby a dried photoresist template is obtained, as shown in Fig. 2 (c).
Anschließend werden auf die Photolackschicht 200 ultraviolette Strah len gerichtet, wie in Fig. 2(d) gezeigt ist, um die Vernetzung des Harzes in der Photolackschicht 200 zu beschleunigen, damit die als In formationsaufzeichnungsfläche dienende Photolackschicht aushärtet, wodurch sich eine Mutterphotoresistvorlage ergibt. Abschließend wird die sehr kleine Gruben aufweisende Informationsaufzeichnungsfläche mit einem 2P-Fluid, das ein mittels ultravioletter Strahlen härtendes Harz ist, überzogen, woraufhin auf die so überzogene Informationsauf zeichnungsfläche ultraviolette Strahlen gerichtet werden, um das 2P- Fluid zu einer Übertragungsschicht 400 der Informationsaufzeichnungs fläche zu härten, wie in Fig. 2(e) gezeigt ist. Diese Übertragungs schicht 400 kann auf einer geeigneten Stempelhalteplatte gehalten wer den. Zu diesem Zweck kann die Übertragungsschicht 400 zwischen der entwickelten Photoresistvorlage und einer (nicht gezeigten) Stempel halteplatte, die im oberen Bereich der Darstellung vorgesehen wird, ausgebildet werden.Subsequently, ultraviolet rays are directed onto the photoresist layer 200 , as shown in Fig. 2 (d), to accelerate the crosslinking of the resin in the photoresist layer 200 so that the photoresist layer serving as the information recording surface hardens, resulting in a mother photoresist template. Finally, the very small pit information recording surface is coated with a 2P fluid which is an ultraviolet ray curing resin, whereupon ultraviolet rays are directed onto the information recording surface thus coated to apply the 2P fluid to a transfer layer 400 of the information recording surface cure as shown in Fig. 2 (e). This transfer layer 400 can be held on a suitable stamp holding plate. For this purpose, the transfer layer 400 can be formed between the developed photoresist template and a stamp holding plate (not shown), which is provided in the upper area of the illustration.
Dann wird die Übertragungsschicht 400 von der entwickelten Vorlage abgetrennt, wie in Fig. 2(f) gezeigt ist. Das heißt, daß die Übertra gungsschicht 400 einen Harzstempel darstellt.Then, the transfer layer 400 is separated from the developed template, as shown in Fig. 2 (f). That is, the transfer layer 400 is a resin stamp.
Bis zum Schritt des Nachbrennens ist das Herstellungsverfahren für eine optische Platte gemäß der zweiten Ausführungsform der vorlie genden Erfindung mit dem herkömmlichen Verfahren identisch. Ein wesentliches Merkmal dieser zweiten Ausführungsform umfaßt die Schaffung des Schrittes des Beschleunigens der Vernetzung der Photo lackschicht 200 nach dem Schritt des Nachbrennens.Up to the post-baking step, the optical disk manufacturing method according to the second embodiment of the present invention is identical to the conventional method. An essential feature of this second embodiment involves the creation of the step of accelerating the crosslinking of the photoresist layer 200 after the post-baking step.
Genauer wird gemäß der zweiten Ausführungsform bei der Herstellung einer oder mehrerer optischen Platten die Vernetzung der Photolack schicht beschleunigt, um den Widerstand gegenüber dem 2P-Material zu erhöhen, um so eine 2P-Übertragung auf der Photolackschicht zu verwirklichen, ohne daß eine Sperrschicht vorgesehen werden muß.More specifically, according to the second embodiment, it is manufactured one or more optical plates crosslink the photoresist layer accelerates to the resistance to the 2P material to increase 2P transfer on the photoresist layer realize without having to provide a barrier layer.
Wie oben beschrieben, können mit dem Herstellungsverfahren für eine optische Platte gemäß der zweiten Ausführungsform der vorliegenden Erfindung die Herstellungsschritte vereinfacht werden, wobei eine ge treue Übertragung der Informationsaufzeichnungsfläche im Herstel lungsprozeß der optischen Platte erzielt wird, so daß dieses Verfahren für die Herstellung von optischen Platten in geringer Stückzahl geeignet ist; daher ist mit diesem Verfahren die Herstellung vielfältiger Typen von audiovisueller Software in jeweils geringer Stückzahl beherrscha bar.As described above, the manufacturing process for a optical disk according to the second embodiment of the present Invention the manufacturing steps are simplified, with a ge faithful transfer of the information recording area in the manufacturer tion process of the optical disc is achieved, so that this method suitable for the production of small quantities of optical discs is; therefore, this method is used to manufacture various types of audiovisual software in small quantities bar.
Vorzugsweise umfaßt die Photolackschicht des Herstellungsverfahrens für optische Platten gemäß der ersten und der zweiten Ausführungsform die im folgenden angegebenen Komponenten (1) bis (3). Preferably, the photoresist layer comprises the manufacturing process for optical disks according to the first and second embodiments components (1) to (3) specified below.
(1) Harzkomponente (Basispolymer): Vorzugsweise umfaßt das Harz im wesentlichen Kresol-Novolak, das durch die folgende chemische Formel 1 gegeben ist.(1) Resin component (base polymer): Preferably, the resin comprises essentially cresol novolak by the following chemical Formula 1 is given.
(2) Lichtempfindliches Material: Vorzugsweise umfaßt das lichtemp findliche Material hauptsächlich den Ester, der aus 1,2-Naphthochinon- Diazo-5-Sulfonchlorid gebildet wird, wobei dieses Chlorid durch die folgende chemische Formel 2 und durch eine Ballastverbindung, die durch eine der weiter unten angegebenen Formeln 3 bis 15 oder durch ein Gemisch derselben dargestellt wird, gegeben ist.(2) Photosensitive material: Preferably the photosensitive comprises sensitive material mainly the ester, which consists of 1,2-naphthoquinone Diazo-5-sulfonyl chloride is formed, this chloride by the following chemical formula 2 and through a ballast compound that by one of the formulas 3 to 15 given below or by a mixture of the same is shown is given.
(3) Ballastverbindung: Vorzugsweise wird die Ballastverbindung durch eine der folgenden Formeln 3 bis 15 dargestellt und in einer Menge von 3 bis 9 Gewichts- % relativ zum gesamten Photoresist bei gemischt.(3) Ballast connection: Preferably the ballast connection represented by one of the following formulas 3 to 15 and in one Amount of 3 to 9% by weight relative to the total photoresist mixed.
Die durch ultraviolette Strahlen induzierte (hv-induzierte) Photoreaktion des lichtempfindlichen Materials des Photoresists wie etwa Naphtho chinon-Diazo, das durch die Formel 2 dargestellt wird, läuft entspre chend der unten angegebenen chemischen Formel 16 ab.The (UV-induced) photoreaction induced by ultraviolet rays the photosensitive material of the photoresist such as naphtho quinone diazo represented by Formula 2 runs accordingly according to chemical formula 16 below.
Bezüglich der Beschleunigung der Vernetzung kann festgestellt werden, daß bei einer direkten Erwärmung (Brennen) des leicht vernetzbaren Indenketens oder bei Einwirkung von Licht (Ultraviolettstrahlen) auf das in einem wasserfreien Zustand befindliche Indenketen das Basispolymer durch dieses Indenketen wirksam vernetzt wird. Insbesondere im Falle des Kresol-Novolak, das die Hauptkomponente des Basispolymers des vorhandenen positiven Photoresists darstellt, schafft die Beschleunigung von dessen Vernetzung schließlich ein stabiles wärmehärtendes Bakelit (Kresolformalinharz). Die Ballastverbindung ermöglicht es, an seine OH-Gruppen ein lichtempfindliches Material anzufügen, wodurch die Einbringung einer großen Menge von lichtempfindlichem Material in das Resist gewährleistet wird. Dadurch kann der Vernetzungsgrad mit dem Basispolymer erhöht werden.Regarding the acceleration of networking can be determined be that with direct heating (burning) of the easily networkable indency or when exposed to light (Ultraviolet rays) on that which is in an anhydrous state Indenketen effectively cross-links the base polymer with this Indenketen becomes. Especially in the case of the cresol novolak, which the Main component of the base polymer of the existing positive Represents photoresists, accelerates it Finally, crosslinking is a stable thermosetting bakelite (Cresol formaline resin). The ballast connection allows to his OH groups add a light-sensitive material, whereby the Introducing a large amount of photosensitive material into the resist is guaranteed. This allows the degree of crosslinking with the base polymer can be increased.
Claims (3)
einen Belichtungsschritt, in dem ein fokussierter Laserstrahl (La) auf eine ein lichtdurchlässiges Substrat (10) und eine darauf aus gebildete Photolackschicht (20) umfassende Vorlage gerichtet wird, wobei in diesem Schritt die ein Harz, ein lichtempfindliches Material und eine Ballastverbindung enthaltende Photolackschicht (20) belichtet wird;
einen Entwicklungsschritt, in dem die Vorlage (10, 20) ent wickelt wird, um in der Oberfläche der Photolackschicht (20) sehr kleine Vertiefungen auszubilden;
einen Nachbrennschritt des Erwärmens der Photolackschicht (20), um diese zu fixieren;
einen Ultraviolettbestrahlungsschritt, in dem die Oberfläche der Vorlage (10,20) mit ultravioletten Strahlen bestrahlt wird;
einen Schritt des Ausbildens eines reflektierenden Films (30) auf der Photolackschicht (20); und
einen Schritt des Ausbildens eines Schutzfilms auf dem re flektierenden Film (30).1. Manufacturing method for an optical disc, characterized by
an exposure step in which a focused laser beam (La) is directed onto a template comprising a translucent substrate ( 10 ) and a photoresist layer ( 20 ) formed thereon, in which step the photoresist layer containing a resin, a light-sensitive material and a ballast compound ( 20 ) is exposed;
a development step in which the template ( 10 , 20 ) is developed to form very small depressions in the surface of the photoresist layer ( 20 );
a post-baking step of heating the resist layer ( 20 ) to fix it;
an ultraviolet irradiation step in which the surface of the original ( 10, 20 ) is irradiated with ultraviolet rays;
a step of forming a reflective film ( 30 ) on the photoresist layer ( 20 ); and
a step of forming a protective film on the reflective film ( 30 ).
einem lichtdurchlässigen Substrat (10);
einer Photolackschicht (20), die auf dem lichtdurchlässigen Substrat (10) ausgebildet ist und sehr kleine Vertiefungen aufweist; und
einem reflektierenden Film (30), der auf der Photolackschicht (20) ausgebildet ist,
dadurch gekennzeichnet, daß die Photolackschicht (20) ein Harz, ein lichtempfindliches Material und eine Ballastverbindung aufweist.2. Optical disc, with
a translucent substrate ( 10 );
a photoresist layer ( 20 ) formed on the translucent substrate ( 10 ) and having very small depressions; and
a reflective film ( 30 ) formed on the photoresist layer ( 20 ),
characterized in that the photoresist layer ( 20 ) comprises a resin, a photosensitive material and a ballast compound.
einen Belichtungsschritt, in dem ein fokussierter Laserstrahl (La) auf eine ein lichtdurchlässiges Substrat (100) und eine darauf aus gebildete Photolackschicht (200) umfassende Vorlage gerichtet wird, wobei in diesem Schritt die ein Harz, ein lichtempfindliches Material und eine Ballastverbindung umfassende Photolackschicht (200) belichtet wird;
einen Entwicklungsschritt, in dem die Vorlage (100, 200) entwickelt wird, um in einer Oberfläche der Photolackschicht (200) sehr kleine Vertiefungen auszubilden;
einen Nachbrennschritt, in dem die Photolackschicht (200) erwärmt wird, um diese zu fixieren;
einen Ultraviolettbestrahlungsschritt, in dem eine Oberfläche der Vorlage (100, 200) mit ultravioletten Strahlen bestrahlt wird; und
einen Übertragungsschritt, in dem eine Übertragungsschicht (400) aus einem lichtdurchlässigen, mittels ultravioletter Strahlen härtenden Harz auf der Oberfläche der Photolackschicht (200) ausge bildet wird.3. Manufacturing process for an optical disk, characterized by
an exposure step in which a focused laser beam (La) is directed onto a template comprising a transparent substrate ( 100 ) and a photoresist layer ( 200 ) formed thereon, in which step the photoresist layer comprising a resin, a light-sensitive material and a ballast compound ( 200 ) is exposed;
a development step in which the template ( 100 , 200 ) is developed to form very small depressions in a surface of the photoresist layer ( 200 );
a post-bake step in which the photoresist layer ( 200 ) is heated to fix it;
an ultraviolet irradiation step in which a surface of the original ( 100 , 200 ) is irradiated with ultraviolet rays; and
a transfer step in which a transfer layer ( 400 ) made of a translucent resin hardened by ultraviolet rays is formed on the surface of the photoresist layer ( 200 ).
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP06461291A JP3187067B2 (en) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | Optical disc manufacturing method |
| JP06461391A JP3212628B2 (en) | 1991-03-28 | 1991-03-28 | Optical disc manufacturing method |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4140712A1 true DE4140712A1 (en) | 1992-10-01 |
Family
ID=26405701
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19914140712 Withdrawn DE4140712A1 (en) | 1991-03-28 | 1991-12-10 | Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd. |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE4140712A1 (en) |
| NL (1) | NL9102062A (en) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0561079A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| EP0561080A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| DE4424236A1 (en) * | 1994-07-09 | 1996-01-18 | Deutsche Bundespost Telekom | Process for structuring a component surface, esp. a plate, made of a polymer |
| US5661715A (en) * | 1994-10-20 | 1997-08-26 | Sony Corporation | Mass produced multisessions disc for playback on audio-only and CD-ROM players |
| DE19612329A1 (en) * | 1996-03-28 | 1997-10-02 | Leybold Ag | Metal master production for CD manufacture |
| US6280910B1 (en) | 1992-11-23 | 2001-08-28 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| WO2003052513A2 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-26 | Motorola Inc., A Corporation Of The State Of Delaware | Lithographic template |
| US6728196B2 (en) | 1998-04-06 | 2004-04-27 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disks |
| US7427466B2 (en) | 2004-11-29 | 2008-09-23 | Imation Corp. | Anti-reflection optical data storage disk master |
-
1991
- 1991-12-10 DE DE19914140712 patent/DE4140712A1/en not_active Withdrawn
- 1991-12-10 NL NL9102062A patent/NL9102062A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0561079A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| EP0561080A1 (en) * | 1992-03-16 | 1993-09-22 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| US6280910B1 (en) | 1992-11-23 | 2001-08-28 | Pioneer Electronic Corporation | Photoresist for optical disc and method of preparing optical disc utilizing photoresist |
| DE4424236A1 (en) * | 1994-07-09 | 1996-01-18 | Deutsche Bundespost Telekom | Process for structuring a component surface, esp. a plate, made of a polymer |
| US5661715A (en) * | 1994-10-20 | 1997-08-26 | Sony Corporation | Mass produced multisessions disc for playback on audio-only and CD-ROM players |
| US5905709A (en) * | 1994-10-20 | 1999-05-18 | Sony Corporation | Mass production of multisession discs for playback on audio-only and CD-ROM players |
| DE19612329A1 (en) * | 1996-03-28 | 1997-10-02 | Leybold Ag | Metal master production for CD manufacture |
| US6890704B2 (en) | 1998-04-06 | 2005-05-10 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disks |
| US8363534B2 (en) | 1998-04-06 | 2013-01-29 | Legger Col. A.B. Llc | Reverse optical mastering for data storage disk replicas |
| US6728196B2 (en) | 1998-04-06 | 2004-04-27 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disks |
| US8705334B2 (en) | 1998-04-06 | 2014-04-22 | Legger Col. A.B. Llc | Replica disk for data storage |
| USRE44633E1 (en) | 1998-04-06 | 2013-12-10 | Legger Col. A.B. Llc | Reverse optical mastering for data storage disk replicas |
| US7349323B2 (en) | 1998-04-06 | 2008-03-25 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disks |
| US7352685B2 (en) | 1998-04-06 | 2008-04-01 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disk replicas |
| US8593931B2 (en) | 1998-04-06 | 2013-11-26 | Legger Col. A.B. Llc | Replica disk for data storage |
| US7600992B2 (en) | 1998-04-06 | 2009-10-13 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disk stamper |
| US7801016B2 (en) | 1998-04-06 | 2010-09-21 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disk replicas |
| US7952986B2 (en) | 1998-04-06 | 2011-05-31 | Imation Corp. | Reverse optical mastering for data storage disk replicas |
| US6890688B2 (en) | 2001-12-18 | 2005-05-10 | Freescale Semiconductor, Inc. | Lithographic template and method of formation and use |
| WO2003052513A3 (en) * | 2001-12-18 | 2003-11-27 | Motorola Inc | Lithographic template |
| WO2003052513A2 (en) * | 2001-12-18 | 2003-06-26 | Motorola Inc., A Corporation Of The State Of Delaware | Lithographic template |
| US7427466B2 (en) | 2004-11-29 | 2008-09-23 | Imation Corp. | Anti-reflection optical data storage disk master |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| NL9102062A (en) | 1992-10-16 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| DE69022796T2 (en) | Process for the production of matrices for optical disks and optical disks. | |
| DE69223306T2 (en) | Process for the production of optical disks | |
| DE60126613T2 (en) | METHOD FOR PRODUCING A PLATE SUBSTRATE AND METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING AN OPTICAL PLATE | |
| DE3751348T2 (en) | DRAW TYPE RECORDING MEDIA. | |
| DE3875423T2 (en) | OPTICAL PLATE FOR USE IN OPTICAL STORAGE DEVICES. | |
| DE2443077C3 (en) | ||
| DE68910546T2 (en) | Information recording medium, manufacturing process and embossing die of the substrate therefor. | |
| DE69023586T2 (en) | Process for producing a high density optical recording medium. | |
| DE2443020B2 (en) | METHOD OF MANUFACTURING VIDEO DISC AND MOLD FOR CARRYING OUT THE METHOD | |
| DE2832144A1 (en) | INFORMATION CARRIER PLATE AND METHOD FOR ITS MANUFACTURING | |
| DE2439848A1 (en) | RECORDING MATERIAL FOR LASER RAYS AND RECORDING METHODS | |
| DE3036902C2 (en) | Recording medium responsive to laser beams | |
| DE69624771T2 (en) | OPTICAL PLATE AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME | |
| DE2443077B2 (en) | METHOD OF MANUFACTURING A REPLACEMENT MATRIX AND THE MATRIX ITSELF | |
| EP0141389A2 (en) | Process for the production of image-wise structured resists, and dry resist therefor | |
| DE4140712A1 (en) | Optical disc and prodn. esp. small scale prodn. of audio-visual disc - by laser exposure of photoresist contg. resin, light-sensitive cpd. and ballast cpd. | |
| US3954469A (en) | Method of creating a replicating matrix | |
| DE3882345T2 (en) | Method and photomask for producing an optical storage element. | |
| DE2603888C3 (en) | ||
| DE2934343C2 (en) | Process for duplicating recorded discs | |
| DE3042101C2 (en) | Substrate for recording media and process for its manufacture | |
| DE68919105T2 (en) | Casting mold for casting a laminate for information carriers, method for preparing the laminate for the information carrier and method for preparing the information carrier by using the laminate. | |
| DE69805322T2 (en) | METHOD FOR PRODUCING A MATRICE FOR PRODUCING OPTICAL DISKS, MATRICE OBTAINED THEREOF, AND OPTICAL DISC THEREFORE PRODUCED BY IT | |
| DE69024415T2 (en) | Master matrix with direct marking for optical recordings | |
| DE3333969C2 (en) | Method for producing a data carrier having optical data |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| 8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |