DE4117257A1 - Antireflective optical coating for glass substrates - comprising titanium nitride layer with over-stoichiometric nitrogen content - Google Patents

Antireflective optical coating for glass substrates - comprising titanium nitride layer with over-stoichiometric nitrogen content

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Abstract

A coating for substrates comprises an optically-active layer system with a high anti-reflection effect, according to the parent Patent. The substrate is transparent and pref. has a refractive index of 1.5-1.65. The coating comprises TiNx layers where x = 1-1.16 for at least one layer. USE/ADVANTAGE - The coating is used as an anti-reflection coating in optical equipment. The coating provides good anti-reflection properties, good contrast and optical brilliance, and increases the anti-static effect. The overall coating thickness is low, leading to low materials and mfg. costs.

Description

Die Erfindung betrifft einen Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist nach Hauptpatent ... (Patentanmeldung P 39 42 990.3).The invention relates to a covering consisting of a optically acting layer system, for substrates, wherein the layer system in particular a high anti-reflection effect has after main patent ... (patent application P 39 42 990.3).

Es gibt eine breite Palette von Schichtsystemen für Substrate, insbesondere für Glas, die bestimmte optische Funktionen erfüllen. Die vorliegende Erfindung betrifft die Gattung der Antireflexschichten, beziehungsweise Antireflexschichtsysteme.There is a wide range of coating systems for Substrates, in particular for glass, the particular optical Fulfill functions. The present invention relates the genus of antireflection coatings, respectively Anti-reflective coating systems.

Durch die deutsche Offenlegungsschrift 36 29 996 ist ein Vorsatzaggregat für die Katodenstrahlröhre von Monitoren, Fernsehapparaten und dergleichen, bestehend aus einer Glasscheibe, insbesondere einer Grauglasscheibe, einer vorderseitigen Antireflexionsausrüstung und einer rückseitigen Absorptionsbeschichtung, wobei die Absorptionsbeschichtung Metallatome aufweist, bekannt geworden.By the German patent application 36 29 996 is a Attachment unit for the cathode ray tube of monitors, TV sets and the like, consisting of a Glass pane, in particular a gray glass pane, a Front anti-reflection equipment and one rear absorption coating, wherein the Absorption coating metal atoms, known become.

In dieser deutschen Offenlegungsschrift wird vorgeschlagen, daß die Absorptionsbeschichtung einschichtig aus Chrom, einer Chrom/Nickel-Legierung oder Siliciden aufgebaut und antistatisch eingerichtet und geerdet, sowie mit einer Dicke versehen ist, welche die Lichttransmission gegenüber der unbeschichteten Glasscheibe um etwa ein Drittel absenkt.In this German patent application is suggested that the absorption coating single layer of chrome,  built up of a chromium / nickel alloy or silicides and antistatic and grounded, as well as with a thickness is provided which the light transmission around the uncoated glass pane by about one Third lowers.

In der US-Patentschrift Nr. 38 54 796 wird weiterhin eine Beschichtung vorgeschlagen, die zur Reduzierung der Reflexion dienen soll. Die Beschichtung soll für ein Substrat angewendet werden, das eine Mehrzahl von Schichten aufweist. In der Reihenfolge beginnend beim Substrat ist in der US-Patentschrift folgende Anordnung beschrieben: drei Gruppen von wenigstens zwei Lambda/4-Schichten, die aufeinanderfolgenden Schichten der ersten Gruppe haben einen Brechungsindex, der unterhalb des Brechungsindexes des Substrats liegt. Die Schichten der zweiten Gruppe haben einen sich vergrößernden Brechungsindex und die Schichten der dritten Gruppe haben einen Brechungsindex unterhalb des Brechungsindexes des Substrats. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen.In the US Patent No. 38 54 796 is still a Coating proposed to reduce the To serve reflection. The coating should be for a Substrate, which is a plurality of Has layers. In the order starting at Substrate is the following arrangement in the US patent described: three groups of at least two Lambda / 4-layers, the successive layers of the first group have a refractive index that is below the refractive index of the substrate. The Layers of the second group have one increasing refractive index and the layers of the third Group have a refractive index below the Refractive index of the substrate. more details can be found in the cited US patent.

Zum Stand der Technik gehört weiterhin die US-Patentschrift 37 61 160. Dort werden eine Breitbandantireflexionsbeschichtung und Substrate, die damit beschichtet sind, vorgeschlagen. Sie weisen wenigstens vier Schichten für Glas mit hohem Index und wenigstens sechs Schichten für Glas mit niedrigem Index auf. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Schrift zu entnehmen. The state of the art still includes the US Patent 37 61 160th There will be a Broadband antireflection coating and substrates that coated with it are proposed. They point at least four layers for high index glass and at least six layers for low index glass on. Further details are the mentioned US-Script refer to.  

Weiterhin wird in der US-Patentschrift 36 95 910 ein Verfahren zur Anbringung einer Antireflexbeschichtung auf einem Substrat beschrieben. Diese Beschichtung besteht aus mehreren Einzelschichten. Das Verfahren für die Aufbringung der Antireflexionsschichten erfolgt unter Vakuum, und zwar unter Verwendung von Elektronenstrahlen. Weitere Einzelheiten sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.Furthermore, in US Patent 36 95 910 a Method of applying an antireflective coating described on a substrate. This coating exists from several individual layers. The procedure for the Application of the antireflection layers takes place under Vacuum, using electron beams. Further details are the aforementioned US patent refer to.

Weiterhin gehört zum Stand der Technik die US-Patentschrift 38 29 197, die einen Antireflexionsbelag, der als Mehrschichtsystem ausgebildet ist, beschreibt. Dieser Belag soll auf einem stark brechenden Substrat angebracht werden. Das Schichtsystem besteht aus fünf einzelnen Schichten, die gegenseitig angepaßt sind, und zwar in Hinsicht auf ihren Brechungsindex und in Hinsicht auf ihre optische Dicke. Durch diese Anpassung soll eine günstige Antireflexionskurve mit einem breiten, flachen, mittleren Teil erreicht werden. Weitere Einzelheiten dieses Vorschlags sind der genannten US-Patentschrift zu entnehmen.Furthermore, the prior art belongs to the US Pat. No. 3,829,197 which discloses an antireflection coating, which is designed as a multilayer system describes. This surface should be on a strong breaking substrate be attached. The shift system consists of five individual layers, which are mutually adapted, in terms of their refractive index and in Respect to their optical thickness. Through this adaptation should have a favorable antireflection curve with a broad, shallow, middle part can be achieved. Further Details of this proposal are those mentioned US Patent refer to.

Zum Stand der Technik gehört weiterhin die schweizerische Patentschrift 2 23 344. Diese Schrift befaßt sich mit einem Überzug zur Verminderung der Oberflächenreflexion. Der Überzug besteht aus mindestens drei Schichten mit verschiedenen Brechungszahlen. Die Verminderung der Oberflächenreflexion soll nach dieser Schrift durch eine bestimmte Auswahl der Brechungszahlen der einzelnen Schichten erzielt werden.The state of the art still includes the Swiss Patent 2 23 344. This document is concerned with a coating to reduce the surface reflection. The coating consists of at least three layers with different refractive indices. The reduction of Surface reflection should be according to this document by a certain selection of the refractive indices of the individual Layers are achieved.

Der Erfindung liegen folgende Aufgaben zugrunde:
Es sollen Voraussetzungen für die wirtschaftliche Herstellung von Antireflexbeschichtungen für transparente Substrate geschaffen werden.
The invention is based on the following tasks:
It will create conditions for the economic production of antireflective coatings for transparent substrates.

Transparente Substrate werden in einer Vielzahl moderner Einrichtungen und Geräte benötigt. Die Hersteller dieser Einrichtungen und Geräte stellen hohe Anforderungen in Hinsicht auf die optischen und sonstigen Eigenschaften dieser Substrate.Transparent substrates are becoming more modern in a variety of ways Facilities and equipment needed. The manufacturers of this Equipment and devices make high demands Regard to the optical and other properties of these substrates.

Die Erfindung soll diese hohen Anforderungen insbesondere in Hinsicht auf die Entspiegelung, die Kontrasterhöhung und die Erhöhung der Antistatikwirkung erfüllen.The invention is intended to meet these stringent requirements in particular in terms of the anti-reflective coating, the increase in contrast and fulfill the increase in antistatic effect.

Weiterhin sollen Voraussetzungen dafür geschaffen werden, daß eine nur geringe Anzahl von Schichten benötigt wird. Gleichzeitig sollen die Dicken der Einzelschichten klein sein. Die Erfindung macht sich weiterhin zur Aufgabe, Voraussetzungen für den Einsatz preisgünstigerer Materialien zu schaffen.Furthermore, conditions are to be created for that only a small number of layers is needed. At the same time, the thicknesses of the individual layers should be small his. The invention continues to be the task Requirements for the use of cheaper To create materials.

Mit der Erfindung soll ein Konzept vorgeschlagen werden, bei dem DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget gesputtert werden kann.With the invention, a concept is to be proposed, in the DC reactive with magnetron from the metal target can be sputtered.

Die geringe Zahl der Schichten des Schichtsystems, die geringe Dicke der Einzelschichten des Schichtsystems, die Auswahl preisgünstiger Einsatzmaterialien und die Möglichkeit, DC-reaktiv mit Magnetron vom Metalltarget zu sputtern, führen zu einer äußerst wirtschaftlichen Herstellung der erfindungsgemäßen Antireflexschichtsysteme.The small number of layers of the layer system, the small thickness of the individual layers of the layer system, the selection of inexpensive feedstock and the Possibility of DC-reactive with magnetron from the metal target to sputter,  lead to a very economical production the antireflective layer systems according to the invention.

An sich ist die Benutzung von Metallschichten für Antireflexsysteme im Prinzip bekannt. Es hat sich jedoch herausgestellt, daß die bekannten Metallschichten für den Alltagsbetrieb zu weich sind.In itself, the use of metal layers for Antireflection systems known in principle. It has, however proved that the known metal layers for the daily routine is too soft.

Es gehört daher mit zu der Aufgabenstellung der vorliegenden Erfindung, einen Ersatz für die bekannten weichen Metallschichten (Ag, Ni, . . .) zu finden. Dieser Ersatz soll hart und kratzfest sein. Er soll einerseits eine keramische Härte aufweisen, andererseits jedoch auch die Wirkung einer metallähnlichen Optik besitzen.It is therefore part of the task of present invention, a substitute for the known soft metal layers (Ag, Ni, ...). This Replacement should be hard and scratch resistant. He should on the one hand have a ceramic hardness, on the other hand, however also have the effect of a metal-like appearance.

Die gestellten Aufgaben werden durch die im Hauptpatent beschriebenen erfindungsgemäßen Maßnahmen gelöst. Zusätzlich wird vorgeschlagen, daß das Substrat insbesondere transparent ist und vorzugsweise einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,65 aufweist.The tasks are set by those in the main patent solved inventive measures described. In addition, it is suggested that the substrate is especially transparent and preferably one Refractive index of 1.5 to 1.65 has.

Weiterhin wird zusätzlich vorgeschlagen, daß für mindestens eine TiNx-Schicht der im Hauptpatent beschriebenen Schichtsysteme überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.Furthermore, it is additionally proposed that, for at least one of TiN x layer described in the main patent layer systems over-stoichiometric TiN x is used with x in the range 1 to 1.16.

In einem weiteren zusätzlichen Ausführungsbeispiel kann vorgesehen werden, daß alle TiNx-Schichten der im Hauptpatent beschriebenen Schichtsysteme TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 aufweisen. In a further additional embodiment it can be provided that all TiN x layers of the layer systems described in the main patent have TiN x with x in the range from 1 to 1.16.

Weitere Einzelheiten der Erfindung, der Aufgabenstellung und der erzielten Vorteile sind der folgenden Beschreibung mehrerer Ausführungsbeispiele der Erfindung zu entnehmen.Further details of the invention, the task and the advantages achieved are the following description several embodiments of the invention can be seen.

Diese Ausführungsbeispiele werden anhand von fünf Figuren erläutert.These embodiments will be described with reference to five figures explained.

Die Fig. 1, 2 und 5 zeigen je ein Schichtsystem. FIGS. 1, 2 and 5 each show a layer system.

Die Fig. 3 und 4 zeigen Transmissions- beziehungsweise Reflexions-Kurven in Prozent über Wellenlängen in nm. FIGS. 3 and 4 show transmission and reflection curves in percent over wavelengths in nm.

Nachfolgend werden zunächst fünf Ausführungsbeispiele beschrieben:
Das Substrat 1 besteht aus Glas. Die Vorderseite 2 des Substrats ist die Seite des Substrats, die dem Betrachter zugewandt ist. Die Rückseite 9 des Substrats ist die Seite, die vom Betrachter abgewandt ist.
In the following, five exemplary embodiments are described below:
The substrate 1 is made of glass. The front side 2 of the substrate is the side of the substrate facing the viewer. The back 9 of the substrate is the side facing away from the viewer.

Die an der Vorderseite des Substrats anliegende Schicht wird als die "erste" Schicht 4 bezeichnet. Es folgen in Richtung zum Betrachter die "zweite" Schicht 5 und die "dritte" Schicht 6.The layer applied to the front side of the substrate is referred to as the "first" layer 4 . In the direction of the viewer, the "second" layer 5 and the "third" layer 6 follow.

Das Schichtsystem des ersten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)The layer system of the first embodiment is constructed as follows: (see FIG. 1)

  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,on the back of the substrate glass, an optically effective TiN x layer 8 is attached,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1, in the direction of the observer, the substrate follows glass 1 ,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,the first optically active layer 4 , which bears against the substrate, consists of SnO 2 ,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter der ersten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus TiNx,the second optically active layer 5 , which follows in the direction of the observer the first optically active layer, consists of TiN x ,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.- The third optically active layer 6 , which follows in the direction of the viewer of the second optically active layer, consists of Al 2 O 3 .

Das Schichtsystem des zweiten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)The layer system of the second embodiment is constructed as follows: (see FIG. 2)

  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,on the back of the substrate glass, an optically effective TiN x layer 8 is attached,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas,- in the direction of the observer follows the substrate: Glass,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,the first optically active layer 4 , which bears against the substrate, consists of SnO 2 ,
  • - es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCrOx,- It follows in the direction of the viewer a bonding agent layer 7 , consisting of NiCrO x ,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,the second optically active layer 5 , which follows in the direction of the observer, consists of TiN x ,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.- The third optically active layer 6 , which follows in the direction of the viewer of the second optically active layer, consists of Al 2 O 3 .

Das Schichtsystem des dritten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 2)The layer system of the third embodiment is constructed as follows: (see FIG. 2)

  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,on the back of the substrate glass, an optically effective TiN x layer 8 is attached,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1,in the direction of the observer, the substrate follows glass 1 ,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus SnO2,the first optically active layer 4 , which bears against the substrate, consists of SnO 2 ,
  • - es folgt in Richtung auf den Betrachter eine Haftvermittlerschicht 7, bestehend aus NiCr-Suboxid,- It follows in the direction of the viewer, a bonding agent layer 7 , consisting of NiCr suboxide,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,the second optically active layer 5 , which follows in the direction of the observer, consists of TiN x ,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.- The third optically active layer 6 , which follows in the direction of the viewer of the second optically active layer, consists of SiO 2 .

Das Schichtsystem des vierten Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)The layer system of the fourth embodiment is constructed as follows: (see FIG. 1)

  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,on the back of the substrate glass, an optically effective TiN x layer 8 is attached,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat Glas 1, in the direction of the observer, the substrate follows glass 1 ,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrOx; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,the first optically active layer 4 , which bears against the substrate, consists of NiCrO x ; this layer 4 simultaneously acts as a primer layer,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,the second optically active layer 5 , which follows in the direction of the observer, consists of TiN x ,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus SiO2.- The third optically active layer 6 , which follows in the direction of the viewer of the second optically active layer, consists of SiO 2 .

Das Schichtsystem des fünften Ausführungsbeispiels ist wie folgt aufgebaut: (siehe Fig. 1)The layer system of the fifth embodiment is constructed as follows: (see FIG. 1)

  • - auf der Rückseite des Substrats Glas ist eine optisch wirksame TiNx-Schicht 8 angebracht,on the back of the substrate glass, an optically effective TiN x layer 8 is attached,
  • - in Richtung auf den Betrachter folgt das Substrat: Glas 1,- in the direction of the observer follows the substrate: glass 1 ,
  • - die erste optisch wirksame Schicht 4, die am Substrat anliegt, besteht aus NiCrOx; diese Schicht 4 wirkt gleichzeitig als Haftvermittlerschicht,the first optically active layer 4 , which bears against the substrate, consists of NiCrO x ; this layer 4 simultaneously acts as a primer layer,
  • - die zweite optisch wirksame Schicht 5, die in Richtung auf den Betrachter folgt, besteht aus TiNx,the second optically active layer 5 , which follows in the direction of the observer, consists of TiN x ,
  • - die dritte optisch wirksame Schicht 6, die in Richtung auf den Betrachter der zweiten optisch wirksamen Schicht folgt, besteht aus Al2O3.- The third optically active layer 6 , which follows in the direction of the viewer of the second optically active layer, consists of Al 2 O 3 .

Als Substrat können außer Mineralglas, Floatglas auch Plexiglas, durchsichtige Kunststoffschichten, Folien usw. eingesetzt werden.As a substrate except mineral glass, float glass can also Plexiglas, transparent plastic layers, foils etc. are used.

Neben der Vorderseitenentspiegelung durch die beschriebenen, vor der Vorderseite angeordneten, Schichtsystemen wird eine weitere überraschend niedrige Gesamtreflexion durch die auf der Rückseite angeordnete TiNx-Schicht erzielt. Der Grundgedanke der Erfindung läßt eine Vielzahl von Ausführungsbeispielen, bzw. Schichtsystemen, zu, die durch die nachfolgend genannten Materialien und Schichtdicken charakterisiert sind.In addition to the front side mirroring through the described, arranged in front of the front layer systems, a further surprisingly low overall reflection is achieved by the arranged on the back TiN x layer. The basic idea of the invention allows for a multiplicity of exemplary embodiments or layer systems, which are characterized by the following materials and layer thicknesses.

"Erste" Schicht (Bezugsziffer 4), ein Dielektrikum: Metalloxid (SnO2, ZrO2, ZnO, Ta2O5, NiCrOx, TiO2, Sb2O3, In2O3),
Schichtdicke: 80 Angström +/-20%,
"Zweite" Schicht (Bezugsziffer 5) Nitrid (TiN, ZrN) Schichtdicke: 130 Angström +/-20%,
"Dritte" Schicht (Bezugsziffer 6) Dielektrikum: niederbrechende Materialien, n kleiner als 1,7, (SiO2, Al2O3, AlSi-Oxid, NiSi-Oxid, MgO, MgF2) Optische Dicke: 5550/4 Angström +/-10%,
"Haftvermittler-Schicht" (Bezugsziffer 7): Ni, Cr, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr) Schichtdicke: 10 Angström +/-10%.
"First" layer (reference numeral 4 ), a dielectric: metal oxide (SnO 2 , ZrO 2 , ZnO, Ta 2 O 5 , NiCrO x , TiO 2 , Sb 2 O 3 , In 2 O 3 ),
Layer thickness: 80 angstroms +/- 20%,
"Second" layer (reference numeral 5 ) nitride (TiN, ZrN) layer thickness: 130 angstroms +/- 20%,
"Third" layer (reference numeral 6 ) Dielectric: low-refractive materials, n less than 1.7, (SiO 2 , Al 2 O 3 , AlSi oxide, NiSi oxide, MgO, MgF 2 ) Optical thickness: 5550/4 Angstrom + / -10%
"Adhesive Layer" (Ref. 7 ): Ni, Cr, NiCr (80 wt% Ni, 20 wt% Cr) Layer Thickness: 10 Angstroms +/- 10%.

Auf der Rückseite 9 des Substrats ist die "Rückseiten- Schicht" (Bezugsziffer 8), bestehend aus TiNx, angeordnet, Schichtdicke: 40-150 Angström. On the back 9 of the substrate is the "backside layer" (reference numeral 8 ) consisting of TiN x , layer thickness: 40-150 Angstroms.

Es ist selbstverständlich, daß solche Werte für die jeweilige Schichtdicke innerhalb der genannten Schichtdickentoleranzen gewählt werden, die die Interdependenz der einzelnen Schichtdicken und der verwendeten Materialien zueinander berücksichtigen.It goes without saying that such values for the respective layer thickness within the mentioned Layer thickness tolerances are chosen, which are the Interdependence of the individual layer thicknesses and the consider used materials to each other.

Es folgt die Beschreibung zweier Beispiele von Schichtsystemen, bei denen die Reflexion und die Transmission im sichtbaren Wellenbereich des Lichts gemessen wurden.The following is the description of two examples of Layer systems in which the reflection and the Transmission in the visible wavelength range of the light were measured.

Die Messergebnisse sind grafisch anhand von Kurven in den Fig. 3 und 4 dargestellt.The measurement results are graphically illustrated by curves in FIGS. 3 and 4.

Bei der Beschreibung der Schichtsysteme werden die Bezugsziffern der Beschreibung der Fig. 1 benutzt.In describing the layer systems, the reference numerals of the description of Fig. 1 are used.

Das Schichtsystem des ersten Beispiels ist wie folgt aufgebaut:
Substrat: Glas (1), Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52,
Schicht (4) Material: SnO2, Dicke 90 Angström Brechungskoeffizient n = 2,05,
Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 130 Angström,
Schicht (6) Material: Al2O3, Dicke 730 Angström Brechungskoeffizient n = 1,6,
Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 70 Angström.
The layer system of the first example is constructed as follows:
Substrate: glass ( 1 ), thickness 2 mm, refractive index n = 1.52,
Layer ( 4 ) Material: SnO 2 , thickness 90 Angstrom Refractive index n = 2.05,
Layer ( 5 ) Material: TiN x , thickness 130 angstroms,
Layer ( 6 ) material: Al 2 O 3 , thickness 730 Angstrom refractive index n = 1.6,
Layer ( 8 ) Material: TiN x , thickness 70 angstroms.

Der in Fig. 2 mit 7 bezeichnete Haftvermittler ist in diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.The designated in Fig. 2 with 7 adhesion promoter is not present in this embodiment.

Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.For this layer system, the reflection in percent and measured the transmission in percent, for a wavelength range of 400 nm to 700 nm.

Nachfolgend werden die Messergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt:The following are the measurement results for the reflection and determined the transmission in a table Wavelengths faced:

Die Meßergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 3 grafisch dargestellt. Auf der Abzisse 10 des Koordinatensystems in Fig. 3 sind die Wellenlängen in nm eingetragen. Auf der linken Ordinate 11 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Reflexion eingetragen. Auf der rechten Ordinate 12 des Koordinatensystems sind die Prozentwerte für die Transmission eingetragen. As shown, the results of the measurements are graphically represented as curves in FIG . On the abscissa 10 of the coordinate system in Fig. 3, the wavelengths are entered in nm. On the left ordinate 11 of the coordinate system, the percentages for the reflection are entered. The percentages for the transmission are entered on the right-hand ordinate 12 of the coordinate system.

Aus den Kurven ist deutlich erkennbar, daß die Reflexionskurve 14 im Kernwellenlängenbereich des sichtbaren Lichts außerordentlich niedrig ist. Sie liegt weit unter 1%. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung in überraschend deutlicher Weise erzielt worden. Im gleichen Kernwellenlängenbereich hat die Transmissionskurve 13 relativ hohe Werte. Das Schichtsystem des zweiten Beispiels ist wie folgt gekennzeichnet:
Substrat: Glas, Dicke 2 mm, Brechungskoeffizient n = 1,52,
Schicht (4) Material: NiCr-Oxid, Dicke 70 Angström Brechungskoeffizient n = 2,1,
Schicht (5) Material: TiNx, Dicke 130 Angström,
Schicht (6) Material: SiO2, Dicke 790 Angström Brechungskoeffizient n = 1,5
Schicht (8) Material: TiNx, Dicke 70 Angström.
It can clearly be seen from the curves that the reflection curve 14 is extremely low in the core wavelength region of visible light. It is well below 1%. Thus, the desired high antireflection effect has been achieved in a surprisingly clear manner. In the same core wavelength range, the transmission curve 13 has relatively high values. The layer system of the second example is characterized as follows:
Substrate: glass, thickness 2 mm, refractive index n = 1.52,
Layer ( 4 ) Material: NiCr oxide, thickness 70 Angstrom Refractive index n = 2.1,
Layer ( 5 ) Material: TiN x , thickness 130 angstroms,
Layer ( 6 ) Material: SiO 2 , thickness 790 Angstrom Refractive index n = 1.5
Layer ( 8 ) Material: TiN x , thickness 70 angstroms.

Ein gesonderter Haftvermittler, siehe Bezugsziffer 7, ist bei diesem Ausführungsbeispiel nicht vorhanden.A separate adhesion promoter, see reference numeral 7 , is not present in this embodiment.

Für dieses Schichtsystem wurden die Reflexion in Prozent und die Transmission in Prozent gemessen, und zwar für einen Wellenlängenbereich von 400 nm bis 700 nm.For this layer system, the reflection in percent and measured the transmission in percent, for a wavelength range of 400 nm to 700 nm.

Nachfolgend werden die Messergebnisse für die Reflexion und die Transmission in einer Tabelle bestimmten Wellenlängen gegenübergestellt: The following are the measurement results for the reflection and determined the transmission in a table Wavelengths faced:  

Die Messergebnisse werden, wie dargelegt, als Kurven in Fig. 4 grafisch dargestellt. Die Abzisse und die Ordinaten tragen die im Zusammenhang mit Fig. 3 beschriebenen Maßeinheiten.As shown, the measurement results are graphically represented as curves in FIG . The abscissa and the ordinate carry the units of measurement described in connection with FIG .

Aus der Reflexionskurve 16 ist deutlich erkennbar, daß die Reflexion im Bereich von ca. 560 nm Wellenlänge einen ausgesprochenen Tiefpunkt hat. Damit ist die gewünschte hohe Antireflexwirkung auch durch dieses Beispiel in überzeugender Weise erzielt worden. Die Transmissionskurve 15 hat im Kernbereich des sichtbaren Lichts ihr Maximum.From the reflection curve 16 it can be clearly seen that the reflection in the range of about 560 nm wavelength has a pronounced low point. Thus, the desired high antireflection effect has been achieved convincingly by this example. The transmission curve 15 has its maximum in the core region of visible light.

Zu der Transmissionskurve 13 (Fig. 3) und zu der Transmissionskurve 15 (Fig. 4) ist grundsätzlich folgendes zu sagen:
Geringe Transmissionswerte einer Vorsatzscheibe können auf einfache Weise durch Verstärkung der Lichtquelle, z. B. durch Aufdrehen des Potentiometers bei einem LCD, kompensiert werden.
As regards the transmission curve 13 ( FIG. 3) and the transmission curve 15 ( FIG. 4), the following can basically be said:
Low transmission values of an auxiliary lens can be easily achieved by amplifying the light source, for. B. by turning the potentiometer on an LCD, be compensated.

Die Schichtsysteme, mit denen die oben kommentierten Transmissions- und Reflexionswerte erzielt wurden, sind nach dem im folgenden beschriebenen Verfahren hergestellt worden:
Es wurde mit Magnetron gesputtert und zwar in reaktiver Gasatmosphäre.
The layer systems with which the above-commented transmission and reflection values were obtained were prepared by the method described below:
It was sputtered with magnetron in a reactive gas atmosphere.

Nachfolgend wird in der linken Spalte das Sputtermaterial und in der rechten Spalte das reaktive Sputtergemisch angegeben:Subsequently, in the left column, the sputtering material and in the right column the reactive sputter mixture stated:

SnO₂SnO₂ Ar+O₂Ar + O₂ SiO₂SiO₂ Ar+O₂Ar + O₂ Al₂O₃Al₂O₃ Ar+O₂Ar + O₂ TiNTiN Ar+N₂Ar + N₂ NiCrNiCr Ar+O₂Ar + O₂

Druck während des Sputtervorgangs: ca. 5×10-3 mb.Pressure during sputtering: about 5 × 10 -3 mb.

Targetmaterial: Sn, Si, Ti, NiCr (80 Gewichtsprozent Ni, 20 Gewichtsprozent Cr), Al.Target material: Sn, Si, Ti, NiCr (80 weight percent Ni, 20% by weight Cr), Al.

Auf der Vorderseite der Schichtsysteme wurde ein Flächenwiderstand von 150 Ohm pro Quadrat gemessen, auf der Rückseite wurde ein Flächenwiderstand von 240 Ohm pro Quadrat gemessen. Dies sind relativ geringe Flächenwiderstände.On the front of the layer systems was a Sheet resistance of 150 ohms per square measured on the backside had a sheet resistance of 240 ohms measured per square. These are relatively small Surface resistances.

Durch Erdung der Flächen kann daher die statische Aufladung reduziert oder sogar aufgehoben werden. Damit wird der gewünschte Antistatikeffekt erreicht. By grounding the surfaces, therefore, the static Charge reduced or even reversed. In order to the desired antistatic effect is achieved.  

Fig. 5 zeigt ein Ausführungsbeispiel für das weiter oben in der Beschreibungseinleitung besprochene System, bestehend aus zwei Schichten, auf der Vorderseite 2 des Substrats 1. Die "erste" am Substrat anliegende Schicht trägt bei dem Zweischichtsystem nach Fig. 5 die Bezugsziffer 17. Darauf folgt zum Betrachter hin die "zweite" Schicht 18. FIG. 5 shows an exemplary embodiment of the system discussed above in the introduction to the description, consisting of two layers, on the front side 2 of the substrate 1 . The "first" applied to the substrate layer carries in the two-layer system of FIG. 5, the reference numeral 17th The viewer then follows the "second" layer 18 .

Für die "erste" Schicht 17 und die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems nach Fig. 5 werden diejenigen Daten über die chemische Zusammensetzungen, die Schichtdicken, die Brechungsindices und diejenigen Kombinationen dieser Daten eingesetzt, die für die Schichten 5 und 6 der Fig. 1 und 2 weiter oben und in der Beschreibungseinleitung beschrieben wurden.For the "first" layer 17 and the "second" layer 18 of the two-layer system of FIG. 5, those chemical composition data, layer thicknesses, refractive indices, and those combinations of data used for layers 5 and 6 of FIG. 1 and 2 have been described above and in the introduction to the description.

Die für die Schichten 5 und 6 in der Beschreibungseinleitung und im Zusammenhang mit den Fig. 1 und 2 beschriebenen alternativen Ausführungsformen gelten auch für das Zweischichtsystem, wie es beispielsweise in Fig. 5 mit der "ersten" Schicht 17 und der "zweiten" Schicht 18 dargestellt wird.The alternative embodiments described for the layers 5 and 6 in the introduction to the description and in connection with FIGS. 1 and 2 also apply to the two-layer system, as for example in FIG. 5 with the "first" layer 17 and the "second" layer 18 is pictured.

Dabei entspricht die "erste" Schicht 17 des Zweischichtsystems der Fig. 5 der Schicht 5 der Schichtsysteme der Fig. 1 und 2.In this case, the "first" layer 17 of the two-layer system of FIG. 5 corresponds to the layer 5 of the layer systems of FIGS. 1 and 2.

Die "zweite" Schicht 18 des Zweischichtsystems der Fig. 5 entspricht der Schicht 6 der Schichtsysteme der Fig. 1 und 2.The "second" layer 18 of the two-layer system of FIG. 5 corresponds to the layer 6 of the layer systems of FIGS. 1 and 2.

Die Flächenwiderstände des Zweischichtsystems entsprechen denjenigen der Systeme nach Fig. 1 und 2. The surface resistances of the two-layer system correspond to those of the systems according to FIGS. 1 and 2.

Liste der EinzelteileList of items

 1 Substrat, Glas
 2 Vorderseite
 3 Pfeil, Blickrichtung
 4 "erste" Schicht der Fig. 1 und 2
 5 "zweite" Schicht der Fig. 1 und 2
 6 "dritte" Schicht der Fig. 1 und 2
 7 Haftvermittlerschicht
 8 Rückseitenschicht
 9 Rückseite
10 Abzisse
11 linke Ordinate
12 rechte Ordinate
13 Transmissionskurve
14 Reflexionskurve
15 Transmissionskurve
16 Reflexionskurve
17 "erste" Schicht der Fig. 5
18 "zweite" Schicht der Fig. 5
1 substrate, glass
2 front side
3 arrow, line of sight
4 "first" layer of FIGS. 1 and 2
5 "second" layer of FIGS. 1 and 2
6 "third" layer of FIGS. 1 and 2
7 adhesion promoter layer
8 backside layer
9 back side
10 abscissa
11 left ordinate
12 right ordinates
13 transmission curve
14 reflection curve
15 transmission curve
16 reflection curve
17 "first" layer of FIG. 5
18 "second" layer of FIG. 5

Claims (3)

1. Belag, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, nach Hauptpatent . . . (Patentanmeldung P 39 42 990.3), dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat insbesondere transparent ist und vorzugsweise einen Brechungsindex von 1,5 bis 1,65 aufweist.1. covering, consisting of an optically acting layer system, for substrates, wherein the layer system in particular has a high antireflection effect, according to the main patent. , , (Patent Application P 39 42 990.3), characterized in that the substrate is in particular transparent and preferably has a refractive index of 1.5 to 1.65. 2. Belag, insbesondere nach Anspruch 1, bestehend aus einem optisch wirkenden Schichtsystem, für Substrate, wobei das Schichtsystem insbesondere eine hohe Antireflexwirkung aufweist, nach Hauptpatent . . . (Patentanmeldung P 39 42 990.3), dadurch gekennzeichnet, daß für mindestens eine TiNx-Schicht insbesondere überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.2. covering, in particular according to claim 1, consisting of an optically acting layer system, for substrates, wherein the layer system in particular has a high antireflection effect, according to the main patent. , , (Patent Application P 39 42 990.3), characterized in that for at least one TiN x layer in particular superstoichiometric TiN x is used with x in the range of 1 to 1.16. 3. Belag nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß für alle TiNxSchichten überstöchiometrisches TiNx mit x im Bereich von 1 bis 1,16 eingesetzt wird.3. Covering according to claim 1 and / or 2, characterized in that for all TiN x layers superstoichiometric TiN x with x in the range of 1 to 1.16 is used.
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