DE4002552A1 - Measurement of wavelength of spectrally narrow-band light source - using reference source, Fabry-Perot interferometer and measurement of intensity maxima separation - Google Patents

Measurement of wavelength of spectrally narrow-band light source - using reference source, Fabry-Perot interferometer and measurement of intensity maxima separation

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DE4002552A1 DE19904002552 DE4002552A DE4002552A1 DE 4002552 A1 DE4002552 A1 DE 4002552A1 DE 19904002552 DE19904002552 DE 19904002552 DE 4002552 A DE4002552 A DE 4002552A DE 4002552 A1 DE4002552 A1 DE 4002552A1
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Abstract

The measurement of the wavelength of a spectrally narrow-band light source involves using a reference light source. Light from both sources (1,6) is fed to a Fabry-Perot interferometer (10), the distance between whose plates (10a,10b) is periodically varied. The intesnity of the transmitted light is measured and the wavelength under investigation determined from the sepration of the intensity maxima (11,12). USE/ADVANTAGE - Esp. for use in microlithography. Enables highly accurate and reliable measurement with samll, low-cost arrangement.

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zur hochgenauen Messung der Wellenlänge einer spektral schmalbandingen Lichtquelle mittels einer Referenzlichtquelle.The invention relates to a method and a device for highly accurate measurement of the wavelength of a spectral narrow-band light source by means of a Reference light source.

Hochgenaue Wellenlängenmessungen sind insbesondere bei der Mikrolithographie sehr wichtig, da die Wellenlänge der dort eingesetzten abstimmbaren Laser hochgenau mit einem vorgebenen Wert übereinstimmen muß. Diese hohe Konstanz der Wellenlänge ermöglicht es erst, mittels eines speziell auf eine exakte Wellenlänge berechneten Objektivs die feinen Strukturen eines Chipbausteins auf die Oberfläche eines Wafers abzubilden. Bei einem Abstimmbereich des Lasers (in der Mikrolithographie sind dies insbesondere abstimmbare Excimerlaser) von typischerweise rund 1 nm muß die Wellenlänge auf ungefähr 1 pm genau bekannt sein. Der Abstimmbereich des Lasers legt dabei auch den Meßbereich für die Wellenlängenmessung fest.High precision wavelength measurements are particularly useful in the Microlithography is very important because the wavelength of there used tunable laser with high precision given value must match. This high consistency of Wavelength first allows using a special on an exact wavelength calculated lens fine Structures of a chip package on the surface of a chip Imagine wafers. At a tuning range of the laser (in In microlithography, these are especially tunable Excimer laser) of typically around 1 nm, the Wavelength to about 1 pm to be known exactly. The Tuning range of the laser also sets the measuring range for the wavelength measurement fixed.

Zur Messung der absoluten Wellenlänge werden fast ausschließlich Monochromatoren verwendet. Diese sind für die erforderliche Meßgenauigkeit (Δλo = 1 pm) sehr voluminos und teuer. Sie lassen sich zwar in einem sehr großen Spektralbereich (z. B. 190-400 nm) verwenden; dies ist jedoch bei der im Bereich der Mikrolithographie auftretenden Meßaufgabe wegen des kleinen Laser-Abstimmbereichs (ca. 1 nm) nicht nötig.Almost exclusively monochromators are used to measure the absolute wavelength. These are very voluminous and expensive for the required measuring accuracy (Δλ o = 1 pm). Although they can be used in a very large spectral range (eg 190-400 nm); However, this is not necessary for the measuring task occurring in the field of microlithography because of the small laser tuning range (about 1 nm).

Fabry-Perot-Etalon (FPE) und -Interferometer (FPI) dienen im allgemeinen zur Bestimmung von spektraler Bandbreite oder Linienabstand. FPE′s haben einen festen Plattenabstand und besitzen den Vorteil eines guten Auflösungsvermögens. Der Nachteil des geringen freien Spektralbereichs fällt bei Laserspektren wegen deren Schmalbandigkeit nicht ins Gewicht. Es ist jedoch problematisch, mit einem FPE eine Messung der absoluten Wellenlänge durchzuführen, da hierfür das FPE mit Hilfe von Wellenlängenstandards erst in einer aufwendigen Art und Weise kalibriert werden muß (siehe z. B. Prinziples of Optics; M. Born, E. Wolf; Sixth Edition, Oxford 1987, S. 338 ff). Das Ringsystem des FPE ist wegen der geringen Intensität der Spektrallampe dabei nur umständlich und langwierig auszuwerten.Fabry-Perot etalon (FPE) and interferometer (FPI) are used in the general for the determination of spectral bandwidth or  Line spacing. FPE's have a fixed plate spacing and have the advantage of good resolution. The Disadvantage of the low free spectral range falls Laserspektren because of their narrowband not into the Mass. However, having a FPE is problematic Measure the absolute wavelength, since this the FPE with the help of wavelength standards only in one expensive way must be calibrated (see eg Principles of Optics; M. Born, E. Wolf; Sixth Edition, Oxford 1987, p. 338 ff). The ring system of the FPE is due to the low intensity of the spectral lamp thereby only cumbersome and to evaluate long.

Der vorliegenden Erfindung liegt nun die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Einrichtung zur hochgenauen Wellenlängenmessung mit folgenden Vorteilen zu schaffen: sichere Messung bei kleinem und preiswert zu erstellendem Meßaufbau.The present invention is based on the object, a method and apparatus for highly accurate Wavelength measurement with the following advantages: safe measurement with a small and inexpensive to create Test setup.

Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch ein Verfahren mit dem Teil des ersten Patentanspruchs und eine Einrichtung gemaß Anspruch 4 gelöst.This object is achieved by a method with the part of the first claim and a device solved according to claim 4.

Das bei der Einrichtung nach der Erfindung verwendete FPI ist aufgrund seines variablen Plattenabstandes sehr gut für die Wellenlängenmessung geeignet. Durch die erfindungsgemäße Lösung können dabei alle Probleme gelöst werden, welche bei dem Einsatz eines FPI auftreten:The FPI used in the device according to the invention is due to its variable plate spacing very good for the Wavelength measurement suitable. By the invention Solution can solve all problems, which at the use of an FPI occur:

  • 1. Es muß parallele Strahlung auf das FPI treffen, da dessen Akzeptanzwinkel sehr klein ist (typisch ≈ m rad). Andernfalls erfolgt unsymmetrische Verbreiterung der Spektrallinien. Diese Bedingung ist bei der Laserstrahlung leicht erfüllbar; bei der erfindungsgemäßen Einrichtung ist sie auch für die Spektrallampe erfüllt. 1. It has to hit parallel radiation on the FPI, as its Acceptance angle is very small (typically ≈ m rad). Otherwise, asymmetric broadening of the Spectral lines. This condition is at the Laser radiation easy to fulfill; in the Device according to the invention, it is also for the Spectral lamp met.  
  • 2. Das Spektrum der Spektrallampe ist durch ein Filter auf den freien Spektralbereich des FPI eingeengt.2. The spectrum of the spectral lamp is through a filter narrowed the free spectral range of the FPI.
  • 3. Laser- und Spektrallampenlicht treffen unter dem gleichen Winkel auf das FPI.3. Laser and spectral lamp light meet below the same Angle on the FPI.

In der nachfolgenden einzigen Figur wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert, wobei dem besseren Verständnis dienende Erläuterungen und Ausgestaltungsmöglichkeiten des Gedankens der Erfindung beschrieben sind.In the following single figure, the invention is based on of an embodiment explained in more detail, wherein the better understanding explanations and Possibilities for designing the idea of the invention are described.

Die in der Figur dargestellte erfindungsgemäße Einrichtung besteht aus einer Spektrallampe (1), welche Strahlung in einem definierten Spektralbereich erzeugt. Nachdem eine Linse (2) den Strahlengang parallelisiert hat, wird das Licht (14a) der Spektrallampe (1) durch ein spektrales Filter (3) - z. B. Interferenzfilter - auf den freien Spektralbereich (FSR - free spectral range) des Fabry-Perot-Interferometer (10) eingeengt, um dann mit Hilfe einer weiteren Linse (5) auf die kreisförmige Eintrittsblende (7) eines Kollimators (8) abgebildet zu werden. Alternativ oder gleichzeitig mit dem Licht der Spektrallampe (1) wird das Licht (14b) des Lasers (6), dessen Wellenlänge zu bestimmen ist, durch die Linse (5) auf die Eintrittsblende (7) eines Kollimators (8) fokussiert. Um das Licht (14b) des Lasers (6) bei geringem Verlust in den Strahlengang des Lichts (14a) der Spektrallampe (1) einzukoppeln, dient ein Strahlteiler (4). Hinter der Blende (7) des Kollimators (8) wird das gemeinsame Licht (14) der Spektrallampe (1) und des Lasers (6) durch eine Linse (9) parallelisiert, das dann unter einem festen Winkel R auf das FPI (10) trifft.The device according to the invention shown in the figure consists of a spectral lamp ( 1 ) which generates radiation in a defined spectral range. After a lens ( 2 ) has parallelized the beam path, the light ( 14 a) of the spectral lamp ( 1 ) through a spectral filter ( 3 ) - z. B. interference filter - narrowed to the free spectral range (FSR - free spectral range) of the Fabry-Perot interferometer ( 10 ), and then with the aid of another lens ( 5 ) on the circular entrance aperture ( 7 ) of a collimator ( 8 ) shown become. Alternatively or simultaneously with the light of the spectral lamp (1), the light (b 14) focuses the laser (6), whose wavelength is to be determined by the lens (5) onto the entrance diaphragm (7) of a collimator (8). In order to couple the light ( 14 b) of the laser ( 6 ) into the beam path of the light ( 14 a) of the spectral lamp ( 1 ) with a small loss, a beam splitter ( 4 ) is used. Behind the aperture ( 7 ) of the collimator ( 8 ), the common light ( 14 ) of the spectral lamp ( 1 ) and the laser ( 6 ) is parallelized by a lens ( 9 ), which then at a fixed angle R on the FPI ( 10 ) meets.

Das FPI (10) besteht aus den beiden Platten (10a, 10b) zwischen denen Piezokristalle (11) angeordnet sind. Der Abstand δ der Platten (10a, 10b) des FPI (10) zueinander kann durch eine an die Piezokristalle (11) angelegte Hochspannung UHV variiert werden. Diese Hochspannung UHV wird von einem Sägezahngenerator (20) erzeugt, so daß es zu einer periodischen Hochspannungs- und damit Abstandsänderung zwischen den Platten (10a, 10b) kommt.The FPI ( 10 ) consists of the two plates ( 10 a, 10 b) between which piezoelectric crystals ( 11 ) are arranged. The distance δ of the plates ( 10 a, 10 b) of the FPI ( 10 ) from one another can be varied by a high voltage U HV applied to the piezocrystals ( 11 ). This high voltage U HV is generated by a sawtooth generator ( 20 ), so that there is a periodic Hochspannungs- and thus change in distance between the plates ( 10 a, 10 b).

Die Transmission T des FPI (10) hängt vom Abstand d der Platten (10a, 10b) und zugleich von der Wellenlänge λ der im freien Spektralbereich des FPI liegenden Strahlung ab. Es gibt zu jeder im freien Spektralbereich liegenden Wellenlänge λ einen definierten Wert d, zu dem die Transmission T einen Maximalwert erreicht. Solche Maximalwerte ergeben sich deshalb bei der Einrichtung nach der Erfindung sowohl für die Wellenlänge des Lichts (14a) der Spektrallampe (1) als auch für die Wellenlänge des Lichts (14b) des Lasers (6).The transmission T of the FPI ( 10 ) depends on the distance d of the plates ( 10 a, 10 b) and at the same time on the wavelength λ of the radiation lying in the free spectral range of the FPI. For each wavelength lying in the free spectral range λ, there is a defined value d at which the transmission T reaches a maximum value. Such maximum values are therefore obtained in the device according to the invention both for the wavelength of the light ( 14 a) of the spectral lamp ( 1 ) and for the wavelength of the light ( 14 b) of the laser ( 6 ).

Beim Durchfahren einer Periode der vom Sägezahngenerator (20) erzeugten Hochspannung UHV wird der Plattenabstand d kontinuierlich geändert. Dabei wird für die Wellenlängen λ1 und λ2 des Lichtes (14a) und (14b) jeweils ein Wertepaar (d, λ) erreicht, bei dem die Transmission T des FPI (10) einen Maximalwert hat. Mißt man also die Intensität I des durch das FPI (10) tretenden Lichtes, so erhält man zwei Maxima I1 und I2, deren Abstand direkt dem Abstand der Wellenlängen λ1 und λ2 des Lichtes (14a) und des Lichtes (14b) proportional ist. Aus diesem Abstand läßt sich mit Hilfe des freien Spektralbereichs des FPI und bekanntem Wert λ1 des Lichtes (14a) der Spektrallampe (1) die Wellenlänge λ2 des Laserlichts (14b) errechnen.When passing through a period of the sawtooth generator ( 20 ) generated high voltage U HV , the plate spacing d is changed continuously. In this case, in each case a value pair (d, λ) is achieved for the wavelengths λ 1 and λ 2 of the light ( 14 a) and ( 14 b), in which the transmission T of the FPI ( 10 ) has a maximum value. If one thus measures the intensity I of the light passing through the FPI ( 10 ), one obtains two maxima I 1 and I 2 , the distance of which is directly the distance of the wavelengths λ 1 and λ 2 of the light ( 14 a) and of the light ( 14 b) is proportional. From this distance can be calculated using the free spectral range of the FPI and known value λ 1 of the light ( 14 a) of the spectral lamp ( 1 ), the wavelength λ 2 of the laser light ( 14 b).

Die Intensität I (λ) wird durch den hinter dem FPI (10) befindlichen Photomultiplier (13) gemessen. Der Photomultiplier (13) ist dazu an einer Öffnung (12) am hinteren Teil des Kollimators (8) angebracht. Eine Leitung (15) verbindet den Photomultiplier (13) mit einem Verstärker (16), welcher seinerseits über eine Leitung (17) mit einer Auswerteeinrichtung (21) verbunden ist. Außer dem verstärkten Meßwert UPM des Photomultipliers (13) steht der Meßwertauswerteeinrichtung (21) noch das (abgeschwächte) Signal UHV des Sägezahngenerators (20) zur Verfügung. Mit diesen beiden Signalen (UHV und UPM) wird im gezeigten Beispiel auf einem x-y-Monitor (22) - welcher sowohl ein Oszillograph oder ein entsprechend ausgestatteter Schreiber sein kann - die Kurve I (d) dargestellt. Die Spannung UHV ≈ d ≈ λ ist dabei abgeschwächt auf den x-Eingang, das Signal UPM ≈ I (d) des Photomultipliers (13) an den y-Eingang gelegt.The intensity I (λ) is measured by the photomultiplier ( 13 ) located behind the FPI ( 10 ). The photomultiplier ( 13 ) is attached to an opening ( 12 ) at the rear of the collimator ( 8 ). A line ( 15 ) connects the photomultiplier ( 13 ) to an amplifier ( 16 ), which in turn is connected via a line ( 17 ) to an evaluation device ( 21 ). Apart from the amplified measured value U PM of the photomultiplier tube ( 13 ), the measured value evaluation device ( 21 ) also has the (attenuated) signal U HV of the sawtooth generator ( 20 ). In the example shown, these two signals (U HV and U PM ) are shown on an xy monitor ( 22 ) -which can be both an oscilloscope or a correspondingly equipped recorder-the curve I (d). The voltage U HV ≈ d ≈ λ is attenuated to the x input, the signal U PM ≈ I (d) of the photomultiplier ( 13 ) to the y input.

Man erkennt die beiden mit I1 und I2 bezeichneten Maximalwerte, die direkt den Wellenlängen λ1 des Lichts (14a) der Spektrallampe (1) und λ2 des Lichts (14b) des Lasers (6) zugeordnet sind.One recognizes the two maximum values denoted by I 1 and I 2 , which are assigned directly to the wavelengths λ 1 of the light ( 14 a) of the spectral lamp ( 1 ) and λ 2 of the light ( 14 b) of the laser ( 6 ).

Von der definierten Wellenlänge λ1 ausgehend läßt sich also die Wellenlänge λ2 des Laserlichts anhand des Abstandes zwischen den Intensitätswerten I1 und I2 sowie des FbR hochgenau bestimmen.Starting from the defined wavelength λ 1 , therefore, the wavelength λ 2 of the laser light can be determined with high precision on the basis of the distance between the intensity values I 1 and I 2 and of the FbR.

Entspricht dieser Abstand nicht dem Wert für die geforderte Wellenlänge λ2, so erzeugt der Stellgrößenrechner (23) der Meßwertauswerteeinrichtung (21) ein Signal, welches zum Laser (6) geleitet wird und mittels eines bekannten Mechanismus dessen Wellenlänge auf den exakt geforderten Wert λ2 nachstimmt.This distance does not match the value for the required wavelength λ 2, the manipulated variable calculator (23) generates a signal which is passed to the laser (6) and the Meßwertauswerteeinrichtung (21) by means of a known mechanism having a wavelength on the exact required value λ 2 nachstimmt.

Um den Einfluß von Umweltparametern wie Temperatur, Luftdruck, Luftfeuchtigkeit usw. bei der Messung berücksichtigen zu können, werden diese von einem Meßwertgeber (24) erfaßt und dem Stellgrößenrechner (23) zugeführt.In order to take into account the influence of environmental parameters such as temperature, air pressure, humidity, etc. in the measurement, they are detected by a transmitter ( 24 ) and fed to the manipulated variable calculator ( 23 ).

Das dargestellte und erläuterte Ausführungsbeispiel zeigt den prinzipiellen Aufbau einer Einrichtung nach der Erfindung. Je nach Ausstattung der einzelnen Komponenten müssen deren Besonderheiten berücksichtigt werden. Im Fall der Verwendung eines Monochromators als Wellenlängenfilter (3) kann das FPI (10) in den parallelen Teil von dessen Strahlengang integriert werden. Ein- und Austrittsspalt müssen dann durch kreisförmige Lochblenden ersetzt werden. Der Kollimator (8) kann wegfallen.The illustrated and illustrated embodiment shows the basic structure of a device according to the invention. Depending on the equipment of the individual components, their special features must be taken into account. In the case of using a monochromator as the wavelength filter ( 3 ), the FPI ( 10 ) can be integrated into the parallel part of its optical path. Inlet and outlet slit must then be replaced by circular pinhole. The collimator ( 8 ) can be omitted.

Eine konkrete Ausführung der Einrichtung hat beispielsweise folgende Daten:A concrete embodiment of the device has, for example following data:

KrF-ExcimerlaserKrF excimer laser λ₀ = 248,38 nmλ₀ = 248.38 nm - spektral eingeengt auf- spectrally concentrated on Δλ = 1,5 ppmΔλ = 1.5 ppm - geforderte Meßgenauigkeit für die absolute Wellenlänge- Required accuracy of measurement for the absolute wavelength Δλ₀ = 1 ppmΔλ₀ = 1 ppm FPI @FPI @ - freier Spektralbereich- free spectral range ΔλFSR = 100 pmΔλ FSR = 100 pm - Finesse- finesse = 20= 20 - freier Durchmesser- free diameter ⌀FPI = 20 mm⌀ FPI = 20 mm Kollimator @collimator @ - Brennweite- focal length f = 200 mmf = 200 mm - max. zulässige Divergenz (halber Winkel)- Max. permissible divergence (half angle) ϕDIV < 3 mradφ DIV <3 mrad - Durchmesser Lochblende- Diameter pinhole ⌀BL = 1,2 mm⌀ BL = 1.2 mm Spektrallampe H₉-Penray (Niederdruck) @Spectral lamp H₉-Penray (low pressure) @ - spektrale Linienbreite- Spectral line width ≈ 0,1 pm≈ 0.1 pm - zur Wellenlängeneichung benutzte Emissionswellenlängen- Emission wavelengths used for wavelength calibration = 248,200 nm= 248,200 nm 248,272 nm248,272 nm 248,382 nm248382 nm

Als optische Materialien kommen dabei alle Materialien in Betracht, welche eine hohe Transmission im relevanten Spektralbereich aufweisen. In dem hier zu beachtenden relevanten Spektralbereich sind dies insbesondere Flußspat und Quarzglas.All materials come in as optical materials Consider which has a high transmission in the relevant Have spectral range. In the here to be considered In the relevant spectral range these are especially fluorspar and quartz glass.

Claims (9)

1. Verfahren zur hochgenauen Messung der Wellenlänge einer spektral schmalbandigen Lichtquelle mittels einer Referenzlichtquelle, dadurch gekennzeichnet, daß das Licht beider Lichtquellen (1, 6) einem Fabry-Perot- Interferometer (10) zugeführt wird, daß der Abstand der Platten (10a, 10b) dieses Interferometers (10) periodisch geändert und dabei die Intensität des transmittierten Lichtes gemessen wird, und daß aus dem Abstand der bei dieser Messung festgestellten Intensitätsmaxima (I1, I2) die gesuchte Wellenlänge bestimmt wird.1. A method for high-precision measurement of the wavelength of a spectrally narrow-band light source by means of a reference light source, characterized in that the light of both light sources ( 1 , 6 ) is fed to a Fabry-Perot interferometer ( 10 ) that the distance of the plates ( 10 a, 10 b) of this interferometer ( 10 ) is changed periodically and the intensity of the transmitted light is measured, and that the wavelength sought is determined from the distance of the intensity maxima (I 1 , I 2 ) determined during this measurement. 2. Verfahren nach Anspruch 1 mit einem abstimmbaren Laser als spektral schmalbandigen Lichtquelle, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem Abstand der bei der Messung festgestellten Intensitätsmaxima (I1, I2) ein Signal zur Verschiebung der Wellenlänge des Lasers (6) auf einen exakt vorbestimmten Wert abgeleitet wird.2. The method of claim 1 with a tunable laser as a spectrally narrow-band light source, characterized in that from the distance of the detected during the measurement intensity maxima (I 1 , I 2 ) a signal for shifting the wavelength of the laser ( 6 ) to a precisely predetermined Value is derived. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Abstand der Platten (10a, 10b) des Fabry-Perot- Interferometers (10) entsprechend einer periodischen Sägezahnkurve verändert wird.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the distance of the plates ( 10 a, 10 b) of the Fabry-Perot interferometer ( 10 ) is changed according to a periodic sawtooth curve. 4. Einrichtung zur hochgenauen Messung der Wellenlänge einer spektral schmalbandigen Lichtquelle mittels einer Referenzlichtquelle nach dem Verfahren des Anspruchs 1, dadurch gekennzeichnet, daß als Referenzlichtquelle eine, Licht definierter Spektrallinien emittierende Lichtquelle (1) verwendet wird, der zur Auswahl einer der Wellenlänge der spektral schmalbandigen Lichtquelle (6) unmittelbar benachbarten Spektrallinie ein Filter (3) vorgeschaltet ist, daß ein Strahlteiler (4) zur Einkopplung des von der spektral schmalbandigen Lichtquelle (6) erzeugten Lichts in den Strahlengang der Referenzlichtquelle (1) dient, daß ein optisches System (5, 7, 9) zur Parallelisierung des Strahlengangs und ein im parallelen Strahlengang angeordnetes Fabry-Perot-Interferometer (10) vorgesehen sind, und daß das vom Interferometer (10) transmittierte Licht einem Detektor (13) zugeführt, der mit einer Auswerteschaltung (21) zur Bestimmung der Wellenlänge der spektral schmalbandigen Lichtquelle (6) in Verbindung steht.4. A device for high-precision measurement of the wavelength of a spectrally narrow-band light source by means of a reference light source according to the method of claim 1, characterized in that a light source of defined spectral lines emitting light source ( 1 ) is used as the reference light source for selecting one of the wavelength of the spectrally narrow-band Light source ( 6 ) immediately adjacent spectral line a filter ( 3 ) is connected upstream, that a beam splitter ( 4 ) for coupling the light from the spectrally narrow-band light source ( 6 ) generated light in the beam path of the reference light source ( 1 ) that an optical system ( 5 , 7 , 9 ) are provided for the parallelization of the beam path and a Fabry-Perot interferometer ( 10 ) arranged in the parallel beam path, and that the light transmitted by the interferometer ( 10 ) is fed to a detector ( 13 ) which is connected to an evaluation circuit ( 21 ). for determining the wavelength of the spectral smear lbandigen light source ( 6 ) is in communication. 5. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Platten (10a, 10b) des Fabry-Perot-Interferometers (10) einen veränderbaren Abstand haben, und daß eine Anordnung (20, 11) zur periodischen Veränderung dieses Abstandes vorgesehen ist.5. A device according to claim 4, characterized in that the plates ( 10 a, 10 b) of the Fabry-Perot interferometer ( 10 ) have a variable distance, and that an arrangement ( 20 , 11 ) is provided for periodically changing this distance , 6. Einrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß Piezokristalle (11) als Abstandshalter zwischen den Platten (10a, 10b) angeordnet sind.6. Device according to claim 5, characterized in that piezoelectric crystals ( 11 ) are arranged as spacers between the plates ( 10 a, 10 b). 7. Einrichtung nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß ein Sägezahngenerator (20) vorgesehen ist, dessen Ausgangssignale den Piezokristallen (11) des Interferometers (10) und abgeschwächt dem Eingang der Auswerteschaltung (21) zugeführt sind.7. Device according to claim 5 or 6, characterized in that a sawtooth generator ( 20 ) is provided, the output signals of the piezocrystal ( 11 ) of the interferometer ( 10 ) and attenuated the input of the evaluation circuit ( 21 ) are supplied. 8. Einrichtung nach Anspruch 4 mit einem abstimmbaren Laser als spektral schmalbandige Lichtquelle, dadurch gekennzeichnet, daß die Auswerteschaltung (21) zur Erzeugung eines Regelsignals zum Verschieben der Wellenlänge des Lasers (6) auf den vorgewählten Wert ausgebildet ist.8. Device according to claim 4 with a tunable laser as a spectrally narrow-band light source, characterized in that the evaluation circuit ( 21 ) for generating a control signal for shifting the wavelength of the laser ( 6 ) is formed to the preselected value. 9. Einrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Auswerteschaltung (21) mit weiteren Meßwertgebern (24) zur Berücksichtigung ausgewählter Umweltfaktoren verbunden ist.9. Device according to claim 4, characterized in that the evaluation circuit ( 21 ) is connected to further transducers ( 24 ) for the consideration of selected environmental factors.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102016212088A1 (en) * 2016-07-04 2018-01-04 Robert Bosch Gmbh Device for limiting an angle of incidence for a spectrometer and method for operating such a device

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