DE3825590A1

DE3825590A1 - Master for optical storage media

Info

Publication number: DE3825590A1
Application number: DE19883825590
Authority: DE
Inventors: Hermann Dr Koop; Manfred Feustel
Original assignee: Philips and Du Pont Optical Deutschland GmbH; Philips and Du Pont Optical Co BV
Current assignee: Philips and Du Pont Optical Deutschland GmbH; Philips and Du Pont Optical Co BV
Priority date: 1988-07-28
Filing date: 1988-07-28
Publication date: 1990-02-01

Abstract

According to the invention, a master for optical storage media having a substrate, for example glass, and an applied photoresist layer, containing information, is made suitable for multiple use in electroplating by the photoresist layer being provided with a coupling metal layer, onto which a passivatable and electroplatable metal layer is applied. <IMAGE>

Description

Die Erfindung bezieht sich auf einen Master für optische Speichermedien mit einem Substrat, z.B. Glas, und einer aufgebrachten, mit Informationen versehenen Photoresist schicht. Die Erfindung bezieht sich ferner auf ein Verfah ren zur Herstellung eines derartigen Masters.The invention relates to a master for optical Storage media with a substrate, e.g. Glass, and one applied photoresist with information layer. The invention further relates to a method ren for the production of such a master.

Die bisher bekannten Master der eingangs genannten Art besitzen eine auf die Photoresistschicht aufgedampfte Silberschicht, um eine elektrisch leitende Oberfläche für die galvanische Vervielfältigung zu bekommen. Die galva nische Vervielfältigung erfolgt z. B. in einem Nickelbad. Bei einer derartigen Vervielfältigung wächst eine etwa 400 µm dicke Nickelschicht auf. Nach dem Aufwachsen dieser Nickelschicht (Nickel-Negativ) werden der Master und das Nickel-Negativ getrennt. Beim Trennen geht dabei die vorher auf die Photoresistschicht aufgedampfte Silber schicht vollständig auf das Nickel-Negativ über. Während dieses Trennvorganges wird die Photoresistschicht jedoch beschädigt, so daß der Master für eine erneute Vervielfäl tigung unbrauchbar geworden ist. The previously known masters of the type mentioned have a vapor-deposited layer on the photoresist Silver layer to provide an electrically conductive surface for to get the galvanic duplication. The galva African reproduction takes place e.g. B. in a nickel bath. With such a duplication, one grows approximately 400 µm thick nickel layer. After growing up this Nickel layer (nickel negative) become the master and that Nickel negative separated. When separating it goes silver previously deposited on the photoresist layer completely overlays the nickel negative. While this separation process becomes the photoresist layer damaged, so that the master for a new duplication has become unusable.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Master der eingangs genannten Art zu schaffen, der eine Mehrfach- Verwendung in der Galvanik erlaubt, ohne daß dabei die Photoresistschicht zerstört wird. Diese Aufgabe wird bei einem Master der eingangs genannten Art dadurch gelöst, daß die Photoresistschicht mit einer haftvermittelnden Metallschicht versehen ist, auf die eine passivier- und galvanisierbare Metallschicht aufgebracht ist. Die vor dem Aufbringen der passivier- und galvanisierbaren Metall schicht auf die Photoresistschicht aufgebrachte haft vermittelnde Metallschicht bewirkt eine Haftung zwischen der Photoresistschicht und dem Substrat einerseits und eine Haftung zwischen der Photoresistschicht und der aufgebrachten galvanisier- und passivierbaren Metall schicht andererseits. Dies hat zur Folge, daß bei einer Vervielfältigung während des Trennvorganges zwischen dem Negativ und dem Master die Photoresistschicht nicht mehr zerstört wird, da die Photoresistschicht, die haft vermittelnde Metallschicht und die galvanisier- und passi vierbare Metallschicht auf dem Substrat haften bleiben. Ein derartiger Master kann somit mehrfach für Verviel fältigungen in der Galvanik verwendet werden. Als haft vermittelnde Metallschicht wird vorzugsweise eine Schicht aus Palladium oder einem palladiumverwandten Metall verwendet. Für die galvanisier- und passivierbare Metall schicht wird vorzugsweise Nickel oder eine Chrom-Nickel- Legierung verwendet. Die haftvermittelnde Schicht hat vorzugsweise eine Dicke von ca. 500 Å und die galvanisier und passivierbare Metallschicht vorzugsweise eine Dicke von etwa 600 Å. The invention has for its object a master of to create the type mentioned above, which a multiple Use in electroplating allowed without the Photoresist layer is destroyed. This task is at solved a master of the type mentioned in the beginning, that the photoresist layer with an adhesion-promoting Metal layer is provided on which a passivation and galvanizable metal layer is applied. The before Applying the passivatable and galvanizable metal layer adhered to the photoresist layer mediating metal layer causes an adhesion between the photoresist layer and the substrate on the one hand and adhesion between the photoresist layer and the applied galvanized and passivable metal layer on the other hand. This has the consequence that at a Duplication during the separation process between the Negative and the master no longer the photoresist layer is destroyed because the photoresist layer that adheres mediating metal layer and the galvanizing and passi Quadrable metal layer stick to the substrate. Such a master can therefore be used multiple times wrinkles can be used in electroplating. As detained mediating metal layer is preferably a layer made of palladium or a palladium-related metal used. For the galvanizable and passivable metal layer is preferably nickel or a chrome-nickel Alloy used. The adhesive layer has preferably a thickness of about 500 Å and the galvanized and passivable metal layer preferably a thickness of about 600 Å.

Die Herstellung eines derartigen Masters erfolgt derart, daß zunächst die die Information enthaltende Photoresist schicht des Masters mit einer haftvermittelnden Metall schicht versehen wird, daß danach auf diese Metallschicht eine weitere, für die Vervielfältigung geeignete Metall schicht aufgebracht wird und daß diese weitere Metall schicht danach passiviert wird. Die als Haftvermittler dienende Metallschicht und die passivier- und galvani sierbare Metallschicht werden vorzugsweise aufgedampft. Nach einem derartigen Verfahren hergestellte Master können mehrfach für die Vervielfältigung verwendet werden, da bei der Trennung die Photoresistschicht nicht zerstört wird. Voraussetzung für eine derartige, zerstörungsfreie Trennung ist eine ausreichende Passivierung der aufgedampften Metallschicht, eine gute Haftung zwischen Metallschicht und Photoresistschicht und eine gute Haftung zwischen Photoresistschicht und Substrat. Die Verwendung von Nickel ist deswegen vorteilhaft, da Nickel sich einfach und problemlos mittels bekannter Methoden passi vieren läßt. Damit kann die in dem Galvanisierprozeß galvanisch aufgebrachte Schicht, z.B. eine Nickelschicht, mit einfachen Mitteln von der z.B. physikalisch aufgebrachten Nickelschicht getrennt werden. Nach dem Trennen erhält man einen Master, der für den nächsten Galvanisierprozeß in gleicher Weise wieder voll einsatz fähig ist.Such a master is manufactured in such a way that first the photoresist containing the information layer of the master with an adhesion-promoting metal layer is provided that then on this metal layer another metal suitable for reproduction layer is applied and that this further metal layer is then passivated. The one as an adhesion promoter serving metal layer and the passivating and electroplating The metal layer that can be made is preferably vapor-deposited. Masters produced by such a process can can be used several times for duplication, since at the separation the photoresist layer is not destroyed. Prerequisite for such a non-destructive Separation is sufficient passivation of the evaporated metal layer, good adhesion between Metal layer and photoresist layer and good adhesion between the photoresist layer and the substrate. The usage of nickel is advantageous because nickel is simple and easy using known methods passi four leaves. This can be used in the electroplating process electroplated layer, e.g. a nickel layer, with simple means from e.g. physically applied nickel layer are separated. After this Separating you get a master that is for the next Use the plating process again in the same way is capable.

Die der Erfindung zugrundeliegende Aufgabe kann auch, mit noch weniger Aufwand, dadurch gelöst werden, daß die auf die Photoresistschicht aufgebrachte haftvermittelnde Metallschicht selbst passivier- und galvanisierbar ist. The object on which the invention is based can also be achieved with even less effort, can be solved in that the the photoresist layer applied Metal layer itself can be passivated and galvanized.

Die Erfindung ermöglicht jetzt die Verwendung einer Vater-Matrize, ohne daß bei deren Beschädigung eine Neu überspielung erforderlich ist. Damit ist ein schneller, sicherer und rationeller Zugriff zu einer Matrize ohne eine galvanoplastische Vervielfältigung des Systems Vater- Mutter-Matrize gegeben.The invention now enables the use of a Father die without a new one if damaged dubbing is required. This is a quick, safe and efficient access to a die without a galvanoplastic replication of the father- Given mother matrix.

In der Zeichnung ist schematisch jeweils in mehreren Bildern in Fig. 1 die bisherige Herstellung eines Masters und in Fig. 2 die Herstellung eines Masters nach der Erfindung dargestellt.In the drawing, the previous production of a master is shown schematically in several pictures in FIG. 1 and the production of a master according to the invention in FIG. 2.

Fig. 1a zeigt einen Master mit einer Glasplatte 10 und einer aufgebrachten, Informationen enthaltenden Photo resistschicht 11. Gemäß Fig. 1b ist die Photoresistschicht mit einer aufgedampften Silberschicht 12 versehen. Fig. 1c zeigt eine galvanisch aufgebrachte Nickelschicht 13 mit einer Dicke von etwa 400 µm. Nach Trennung der Nickel schicht 13 gemäß Fig. 1d ist die aufgebrachte Silber schicht 12 vollständig auf das Nickel-Negativ 13 über gegangen. Bei der Trennung nach diesem bekannten Verfahren ist nach erstmaligem Vervielfältigen die Photoresist schicht 11 zerstört (siehe Fig. 1d unten). FIG. 1 a shows a master with a glass plate 10 and an applied photo-resist layer 11 containing information. According to Fig. 1b, the photoresist layer is provided with a vapor-deposited silver layer 12. Fig. 1c shows a galvanically applied nickel layer 13 having a thickness of about 400 microns. After separation of the nickel layer 13 according to FIG. 1d, the applied silver layer 12 has completely passed over to the nickel negative 13 . In the separation according to this known method, the photoresist layer 11 is destroyed after the first duplication (see FIG. 1d below).

Gemäß der Erfindung wird die Photoresistschicht 11 in Fig. 2a zunächst mit einer haftvermittelnden Schicht 14 aus Palladium versehen, wie in Fig. 2b dargestellt. Danach wird, gemäß Fig. 2c, eine dünne galvanisier- und passivierbare Schicht 15 aus Nickel auf die Palladium schicht 14 aufgebracht. Die Schichten 14 und 15 haben etwa eine Dicke von 500 Å bis 600 Å. Fig. 2d zeigt eine auf die Nickelschicht 15 aufgewachsene Vervielfältigung, z. B. ein Nickel-Negativ 16. Nach Trennung dieses Nickel-Negatives von dem Master gemäß Fig. 2e ist die Photoresistschicht 11 unbeschädigt.According to the invention, the photoresist layer 11 in FIG. 2a is first provided with an adhesion-promoting layer 14 made of palladium, as shown in FIG. 2b. Thereafter, according to FIG. 2c, a thin electroplating and passivate layer 15 of nickel on the palladium layer 14 is applied. Layers 14 and 15 are approximately 500 Å to 600 Å thick. Fig. 2d shows a grown on the nickel layer 15 duplication, z. B. a nickel negative 16 . After this nickel negative has been separated from the master according to FIG. 2e, the photoresist layer 11 is undamaged.

Claims

1. Master for optical storage media with a substrate, e.g. B. glass, and an applied, provided with information photoresist layer, characterized in that the photoresist layer ( 11 ) is provided with an adhesion-promoting metal layer ( 14 ) to which a passivatable and galvanizable metal layer ( 15 ) is applied.

2. Master according to claim 1, characterized in that palladium or a palladium-related metal is provided as the adhesion-promoting layer ( 14 ).

3. Master according to claim 1, characterized in that nickel or a chromium-nickel alloy is provided as the galvanizable and passivatable layer ( 15 ).

4. Master according to one of claims 1 to 3, characterized in that the adhesion-promoting layer ( 14 ) has a thickness of approximately 500 Å.

5. Master according to one of claims 1 to 3, characterized in that the galvanizable and passivatable layer ( 15 ) has a thickness of approximately 600 Å.

6. Master for optical storage media with a substrate, e.g. B. glass, and an applied, provided with information photoresist layer, characterized in that the photoresist layer ( 11 ) is provided with an adhesion-promoting metal layer and that this metal layer itself can be passivated and galvanized.

7. A method for producing a master according to one of claims 1 to 5, characterized in that the photoresist layer ( 11 ) containing the information is first provided with an adhesion-promoting metal layer ( 14 ), that on this metal layer ( 14 ) a further one for Reproduction suitable metal layer ( 15 ) is applied and that this further metal layer ( 15 ) is then passivated.

8. The method according to claim 7, characterized in that the adhesion-promoting and passivatable and galvanizable Metal layer can be evaporated.