DE3721296A1 - Einrichtung zum messen und bearbeiten von werkstuecken - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zum Messen und Bearbeiten von Werkstücken, insbesondere für prozeß­ interne Meßtechnik bei Werkzeugmaschinen großer Abmes­ sungen, bei denen es weniger auf hohe Reproduzierbarkeit, als auf hohe Koordinatengenauigkeit ankommt, für Koordi­ natenmeßgeräte, insbesondere für große Werkstücke und für aus mehreren Modulen zusammengesetzte Fertigungseinrich­ tungen mit gemeinsamer Koordinatenbasis.

Aus der DE-OS 32 01 007 sind Einrichtungen bekannt, bei denen die Koordinatenbasis durch drei zueinander rechtwinklig ausgerichtete Spiegel gebildet wird, welche in je einem Interferometerstrahlengang angeordnet sind. Drei Inter­ ferometer kontrollieren dabei die Meßkopfposition und zwei weitere Interferometer die Meßkopflage oder -richtung, so daß für alle meßtechnisch bedeutsamen Freiheitsgrade ein Interferometer vorhanden ist. Komparatorfehler, die durch lange mechanische Fühler bei der Antastung des Werkstückes hervorgerufen werden können, lassen sich durch Verknüpfung mit einem Rechner unwirksam machen. Nachteilig jedoch ist, daß der Arbeitsbereich und damit die Größe der zu messenden oder zu bearbeitenden Werkstücke infolge der begrenzten Größe der Spiegel stark eingeschränkt ist.

Außerdem wird durch die Spiegelanordnung die allseitig freie Zugänglichkeit zum Werkstück behindert. Diese Ein­ richtungen sind jedoch gegen wechselnde Umwelteinflüsse empfindlich, was z. B. die Anwendung an Werkzeugmaschinen verhindert.

Bei der Vorrichtung zum Messen und Bearbeiten von Werk­ stücken gemäß DD-PS 1 09 197 ist ein Meßkopf oder ein Werk­ zeug vorgesehen, dessen Lagefixierung und Führung mit Hilfe optischer Leitstrahlen und fotoelektrischer Emp­ fänger erfolgt. Die Vorrichtung vermeidet Fehler, die durch Abnutzung oder Deformation des Ständers auftreten. Da jedoch nur ein Punkt im Koordinatensystem des Meßraumes angesteuert wird, verbleibt ein Komparatorverstoß und zwar vom angemessenen Koordinatenpunkt bis zum Meßpunkt des verwendeten Tasters bzw. bis zum Angriffspunkt eines Werk­ zeuges am Werkstück.

Es ist ferner eine Einrichtung zum Messen und Bearbeiten von Gegenständen vorgeschlagen worden, bei welcher der Ort und die Lage eines Meßkopfes oder Werkzeuges in allen er­ forderlichen Freiheitsgraden im Raum mittels interferome­ trischer Meßsysteme bestimmbar sind, wobei jedes der drei Meßsysteme zwei Laserinterferometer mit je einem, um einen Drehpunkt steuerbar durch eine Servoeinrichtung verstell­ baren Lenkreflektor umfaßt. Jedes der sechs Interferometer besitzt einen strahllageempfindlichen, fotoelektrischen Empfänger, der mit einer, den zugeordneten Reflektor auf einen Reflektor ausrichtenden bzw. nachführenden Servoein­ richtung verbunden ist. Die Anwendbarkeit der Einrichtung wird jedoch begrenzt durch die pro Zeiteinheit durch den verwendeten Rechner durchzuführenden Rechenoperationen, durch den Meßbereich, der bei großen Längenausdehnungen in nur einer Achse nicht optimal genutzt werden kann und die relativ hohe Empfindlichkeit gegen Luftunruhe im Meßraum der Einrichtung.

Bei der Koordinatenmeßmaschine nach der DE-OS 33 34 460 mit interferometrischer Erfassung der Verschiebewege in den Meßachsen ist für jede Meßachse mindestens ein Interfero­ meterkopf vorgesehen, der aus Strahlenteiler, Referenz­ spiegel und fotoelektrischem Detektor besteht. Von einem einzigen feststehenden Lasergenerator erhalten die Inter­ ferometerköpfe über Lichtleiter das Licht zugeführt. Zur Ermittlung von Verdrehungen oder Verkippungen des betref­ fenden Maschinenteiles sind auch mehrere Interferometer je Meßachse vorgesehen.

Es ist der Zweck der Erfindung, die Nachteile des Standes der Technik zu beseitigen und bei Koordinatenmeßgeräten und Werkzeugmaschinen den Meßbereich bei hoher Genauigkeit wesentlich zu vergrößern.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Einrichtung zum Messen und Bearbeiten von Werkstücken zu schaffen, bei welcher bei hoher Genauigkeit und ohne den Meßbereich einzu­ schränken eine Lageerfassung eines Meßkopfes oder eines Werk­ zeuges in allen sechs Freiheitsgraden unter Vermeidung von Komparatorfehlern mit optischen Mitteln erzielt wird.

Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe bei einer Einrichtung zum Messen und Bearbeiten von Werkstücken, umfassend einen auf Führungen eines Maschinengestelles verschiebbar gelager­ ten X-Schlitten und einem senkrecht dazu verschiebbaren Y-Schlitten, einen in senkrechter Richtung auf dem Y-Schlit­ ten verschiebbaren Z-Schlitten, der eine Aufnahme für einen Meßkopf oder für ein Werkzeug trägt, an den einzelnen Schlit­ ten angeordnete, die Verschiebung derselben entlang einer jeden zugeordneten Koordinatenachse X; Y; Z messende Meßsysteme, die jeweils einen Maßstab und ein Abtastsystem umfassen, und eine Laserlichtquelle mit nachgeordneter Stabilisierungsoptik, zur Leitstrahlerzeugung, welche fest am X-Schlitten oder an einem festen Maschinentisch angeordnet sind, dadurch gelöst,
daß auf einer festen, sich in Richtung der X-Koordinate erstreckenden und durch am Maschinengestell angeordnete Stelleinrichtungen fein­ verstellbaren Basis in einem festen Abstand hinterein­ ander zwei geradsichtige und mit mindestens einer Teiler­ fläche versehenen Umlenkelemente konstanter Ablenkung zur teilweisen Ablenkung eines von einer Laserlichtquelle aus­ gehenden Basisleitstrahlen in Richtung der Y-Koordinate vorgesehen sind, wobei einem ersten dieser Umlenkelemente ein Strahlenteiler mit einem ersten strahllageempfindlichen, fotoelektrischen Empfänger und einem zweiten dieser Umlenk­ elemente in Strahlrichtung ein zweiter strahllageempfind­ licher fotoelektrischer Empfänger zugeordnet ist,
daß auf dem Y-Schlitten eine, durch eine Stelleinrichtung feinver­ stellbare Zwischenbasis vorgesehen ist, auf welcher drei geradsichtige und mit je einer Teilerfläche versehene Um­ lenkelemente zur teilweisen Ablenkung des von dem ersten und zweiten Umlenkelement kommenden Leitstrahles in Rich­ tung der Z-Koordinate und auf je einen strahllageempfind­ lichen fotoelektrischen Empfänger vorgesehen sind, wobei zwei dieser drei Umlenkelemente in Richtung des von dem ersten Umlenkelement entlang der Y-Koordinate gerichteten Leitstrahles in einem festen Abstand hintereinander ange­ ordnet und das dritte dieser drei Umlenkelemente im, durch das zweite Umlenkelement in Richtung der Y-Koordinate um­ gelenkten Leitstrahl angeordnet ist,
daß am Z-Schlitten ein Strahlenteiler mit einem strahllage­ empfindlichen fotoelektrischen Empfänger und mit einem er­ sten nachgeordneten Reflektionselement sowie ein zweites Reflektionselement vorgesehen sind und dem ersten und dem zweiten Reflektionselement je ein strahllageempfindlicher, fotoelektrischer Empfänger in einem einstellbaren Abstand nachgeordnet ist, wobei der Strahlenteiler in dem ersten und das zweite Reflektionselement in dem zweiten, in Rich­ tung der Z-Koordinate geführten Leitstrahl angeordnet sind, und
daß alle Empfänger und Stelleinrichtungen mit einer Empfänger- und Steuersignale verarbeitenden Rechnereinheit verbunden sind.

Dabei ist es besonders vorteilhaft, wenn die Abstände des ersten und zweiten Reflektionselementes von dem ihnen je­ weils nachgeordneten fotoelektrischen Emfpänger gleich dem normalen Abstand des Strahlenumlenkpunktes auf den Reflek­ tionselementes zu der Ebene ist, in welcher ein Meßkopf oder ein Werkzeug am Z-Schlitten angeordnet ist.

Es ist ferner vorteilhaft, wenn die Umlenkelemente strahlen­ teilende Spiegel oder geradsichtige Prismen mit mindestens einer strahlenteilenden Fläche sind.

Bei der Einrichtung wird also der vom Laser ausgehende Basisleitstrahl an optischen Umlenkelementen mit Teiler­ fläche geteilt und umgelenkt, wobei diese Leiststrahlen nach weiterer Teilung und Umlenkung an weiteren Umlenk­ elementen zur lagebestimmenden Positionierung des Meßkopfes oder Werkzeuges in vier bis sechs Freiheitsgraden benutzt werden. Die Umlenkung des Basisleitstrahles bzw. der weite­ ren Leitstrahlen erfolgt mit Umlenkelementen konstanter Ablenkung, z. B. Pentaprismen. Sie sind auf einer Basis bzw. Zwischenbasis montiert, welche nach den vorgesehenen licht­ elektrischen Empfängern und gegebenfalls elektronischer Waage mit an sich bekannten regelungstechnischen Mitteln räumlich ausgerichtet werden. Zwei am Z-Schlitten angeord­ nete fotoelektrische Empfänger werden über Reflektions­ elemente, z. B. Spiegel oder Umlenkprismen, virtuell in eine Linie oder Ebene projiziert, in der z. B. die Schneide eines Werkzeuges oder die Tasterkugel eines Tast- oder Meß­ kopfes liegen. Die Basis und auch die Zwischenbasis sind dabei auf dem Teil der Meß- oder Werkzeugmaschine angeord­ net, welchem sie jeweils zugeordnet sind. Der Verstellbe­ reich von Basis und Zwischenbasis ist mindestens so groß ausgelegt, wie die Ungenauigkeiten der Führungen der ihnen zugeordneten Schlitten gegenüber den durch die Leitstrahlen und den Basisstrahl optisch vorgegeben bzw. definierten Koordinatenachsen X; Y; Z. Die Maßstäbe und Abtastsysteme der Meßsysteme sind so an Basis und Zwischenbasen und an der Aufnahme für Meßkopf oder Werkzeug befestigt, daß mit ihnen nicht die Verschiebungen der einzelnen Schlitten zueinander, sondern die Längenänderungen des Basisleitstrahles und der Leitstrahlen zwischen ihren Umlenkpunkten gemessen werden.

Die erfindungsgemäße Einrichtung gestattet in besonders vorteilhafter Weise und frei von Komparatorfehlern in hoher Qualität die Messung und Positionierung eines Werkzeuges oder Meßkopfes im Arbeitsraum eines Koordinatenmeßgerätes oder einer Werkzeugmaschine nach einem vom Maschinenfüh­ rungssystem unabhängigen, durch Leitstrahlen verwirklich­ ten Koordinatensystem. Durch ihren Aufbau ist sie ohne gro­ ßen Aufwand an jede Größe des Arbeitsraumes anpaßbar und er­ möglicht die Einführung prozeßnaher Meßtechnik und rechner­ gestützte Bearbeitung, insbesondere für Werkzeugmaschinen großer Abmessungen, bei denen es auf eine hohe Genauigkeit ankommt. Die Einrichtung besitzt ferner den Vorteil, daß sie geeignet ist, als gemeinsame Koordinatenbasis für aus mehreren Modulen zusammengesetzte Fertigungseinheiten nutzbar zu sein.

Die Erfindung soll nachstehend an einem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel näher erläutert werden.

Die Einrichtung umfaßt einen auf Führungen 1 eines Maschi­ nengestells 2 entlang einer X-Koordinate verschiebbar ge­ lagerten X-Schlitten 3, der die meßtechnische Ausgangs­ basis bildet, und einen senkrecht zum X-Schlitten entlang einer Y-Koordinate verschiebbaren Y-Schlitten 4, der eben­ falls auf Führungen 5 des Maschinengestells 2 gelagert ist und einen in Richtung einer Z-Koordinate verschiebbaren Z-Schlitten 6 trägt, auf dem eine Aufnahme 7 für einen Meßkopf 8 oder für ein Werkzeug angeordnet ist. An einem, am X-Schlitten 3 befestigten Basisholm 9 ist eine vorzugs­ weise Laserlichtquelle 10 mit nachgeordneter, einen Basis­ leitstrahl 12 von Fluktuationen und Drift befreiende Stabi­ lisierungsoptik 11 vorgesehen.

Auf einer Basis 13, die sich in Richtung der X-Koordinate erstreckt und die durch am Maschinengestell 2 angeordnete Stelleinrichtungen 14; 15 feinverstellbar ist, sind in einem vorzugsweise festen Abstand hintereinander zwei geradsich­ tige und mit mindestens einer Teilerfläche versehene Umlenk­ elemente 16; 17 konstanter Lichtablenkung vorgesehen, wobei die Stelleinrichtung 14 Verstellungen Δ Y; Δ Z in der Y-Z- Ebene und die Stelleinrichtung 15 Verstellungen Δ Y; Δ Z in der Y-Z-Ebene und Drehungen Δϕ umd die X-Koordinate bewirken. An den Teilerflächen dieser Umlenkelemente 16; 17, in der Zeichnung als Pentaprismen dargestellt, wird der Basisleit­ strahl 12 geteilt und teilweise in Richtung der Y-Koordi­ nate, weitere Leitstrahlen 18; 19 bildend, um 90° abgelenkt. Dem Umlenkelement 16 ist ein Strahlenteiler 20 mit einem ersten strahllageempfindlichen fotoelektrischen Empfänger 21 und dem Umlenkelement 17 in Richtung der X-Koordinate ein zweiter strahllageempfindlicher fotoelektrischer Emp­ fänger 22 zugeordnet. Die Empfänger 21 und 22 erzeugen elektrische Signale, die Abweichungen Δ Y′; Δ Z′ proportional sind.

Die Umlenkelemente 16; 17 sind über die Basis 13 u. a. mit einem Y-Maßstab 23 und mit einem, einen am Basisholm 9 befestigen X-Maßstab 24 abtastenden Abtastsystem 25 ver­ bunden. Die Stelleinrichtungen 14; 15 bewirken, über nicht dargestellte, rechnergesteuerte Regelkreise geführt, durch Verstellung der Basis 13 eine exakte Lagezuordnung des X- Maßstabes 24 und des Abtastsystems 25 zu den Umlenkpunkten des Basisleitstrahles 12 an den Teilerflächen der Umlenk­ elemente 16; 17. Mit Hilfe einer, vorzugsweise elektroni­ schen Libelle 26 wird die Senkrechtlage der Umlenkelemente 16; 17 kontrolliert. Eine weitere, am X-Schlitten 3 ange­ ordnete Libelle 27 ist zur Kontrolle der Kippung Δ ϕ _x des X-Schlittens 3 um die X-Koordinate vorgesehen.

Der Y-Schlitten 4 trägt eine Zwischenbasis 28, auf welcher drei geradsichtige und mit je einer Teilerfläche versehene Umlenkelemente 29; 30; 31 vorgesehen sind, wobei die Umlenk­ elemente 30 und 31 der Umlenkung der Leitstrahlen 18 und 19 mit konstantem 90°-Winkel in Richtung der Z-Koordinate dienen. Jedes dieser Umlenkelemente 29; 30; 31 führt einen Teil des Lichtes je einem, dem einzelnen Umlenkelement zu­ geordneten strahllageempfindlichen fotoelektrischen Emp­ fänger 32; 33; 34 zu, die den Abweichungen Δ x′; Δ z′ propor­ tionale Signale liefern. An der Zwischenbasis 28 ist fer­ ner ein Abtastsystem 35 angeordnet, welches einen sich in der Z-Koordinate erstreckenden und am Z-Schlitten 6 be­ festigten Z-Maßstab 36 abtastet, um die Verschiebung des Z-Schlittens 6 zu ermitteln. Ein ebenfalls an der Zwischen­ basis 28 befestigtes Abtastsystem 37 tastet den Y-Maßstab 23 ab. Die Umlenkelemente 29 und 30 sind in einem festen Abstand hintereinander längs des Leitstrahles 18 angeord­ net. Das Umlenkelement 31 befindet sich im Leitstrahl 19. Am Y-Schlitten 4 sind ferner Stelleinrichtungen 38; 39 zur Erzeugung von Vorstellungen Δ x; Δ z in der X-Y-Ebene und für Drehungen Δϕ _Y ; Δϕ _Z um die Y- und Z-Achsen vorgesehen, die über die Zwischenbasis 28 das den Y-Maßstab 23 abtastende Abtastsystem 37 zu den Umlenkpunkten des Leitstrahles 18 in den Umlenkelementen 16 und 30 in eine definierte Lage bringen.

Der Z-Schlitten 6 trägt einen Strahlenteiler 40, ein die­ sem Strahlenteiler 40 in einem vom Umlenkelement 30 aus­ gehenden Leitstrahl 41 nachgeordneten, ersten Reflektions­ element 42 und ein zweites Reflektionselement 43, welches in einem, vom Umlenkelement 31 ausgehenden Leitstrahl 44 liegt. Dem Strahlenteiler 40 und jedem der Reflektions­ elemente 42; 43 ist je ein strahllageempfindlicher foto­ elektrischer Empfänger 45; 46; 47 zugeordnet, der elektri­ sche Signale liefert, die den Abweichungen Δ y′; Δ z′ propor­ tional sind, wobei die Empfänger 46 und 47 in einem ein­ stellbaren Abstand von dem zugehörigen Reflektionselement 42 und 43 angeordnet sind. Diese Abstände des ersten und zweiten Reflektionselementes 42; 43 von den ihnen jeweils nachgeordneten Empfängern 46; 47 ist gleich dem senkrechten Abstand des Strahlenumlenkpunktes auf den Reflektionsele­ menten 42; 43 zu der Ebene 48, in der z. B. ein Taster des Meßkopfes 8 oder das Werkzeug liegt. In dieser Ebene werden virtuell die Empfänger 46; 47 abgebildet. In der Verbindungs­ linie 48 ist dann der Taster oder die Schneide des Werk­ zeuges angeordnet, so daß frei vom Komparatorfehler gemes­ sen oder bearbeitet werden kann.

Alle Empfänger und Stelleinrichtungen sind mit einer die Empfänger- und Steuersignale verarbeitenden Rechnereinheit (nicht dargestellt) verbunden.

Als Umlenkelement können strahlenteilende Spiegel oder geradsichtige Prismen mit mindestens einer Strahlenteiler­ fläche vorgesehen sein.

Eine Positionierung eines Meßkopfes 8 oder eines Werk­ zeuges mit Hilfe der erfindungsgemäßen Einrichtung erfolgt zunächst durch Verschiebung des Meßkopfes 8 mit Hilfe des Y- und Z-Schlittens, nachdem das Meßobjekt oder Werkstück auf dem X-Schlitten 3 aufgebracht ist. Die Lagekorrektur der Zwischenbasis 28 und Basis 13 erfolgt bei den foto­ elektrischen Empfängern, beim Z-Schlitten 6 beginnend, so daß sie eine Nullposition signalisieren. Die Positionen der einzelnen Schlitten werden auf die Zwischenbasis und Basis bezogen, d. h. sie betreffen die Lage oder Lageänderung der Umlenkpunkte der die Koordinatenachsen darstellenden Leit­ strahlen an den entsprechenden Umlenkelementen, nicht die Lage der Schlitten. Die Ermittlung bzw. Messung der Posi­ tion erfolgt mit Hilfe der vorgesehenen Maßstäbe 23; 24; 36 und der zugehörigen Abtastsysteme 25; 35; 37.

Die von den einzelnen Stelleinrichtungen an den ihnen zu­ geordneten Zwischenbasis 28 und Basis 13 vorzunehmenden Lagekorrekturen betreffen die Ungenauigkeiten, die als Dif­ ferenzen zwischen den Abläufen dar. Schlitten 3; 4; 6 und dem Basisleitstrahl 12 und den Leitstrahlen 18; 19; 41; 44 auf­ treten.

Mit Hilfe dieser Einrichtung wird die Aufnahme 7 nach einem System geführt, das die Koordinatenzustellung auf rein optische Wege realisiert. Ungenauigkeiten des Maschinen­ körpers, hervorgerufen durch Erwärmung, Abnutzung oder Deformation unter Belastung beeinflussen die Koordinaten­ zustellung nicht. Durch Austausch eines Werkzeuges gegen einen Tastkopf ist eine Werkzeugmaschine auch als Meßmaschine einsetzbar.

Claims (3)

1. Einrichtung zum Messen und Bearbeiten von Werkstücken, umfassend einen auf Führungen eines Maschinengestells verschiebbar gelagerten X-Schlitten und einen senkrecht dazu verschiebbaren Y-Schlitten, einen in senkrechter Richtung auf dem Y-Schlitten verschiebbaren Z-Schlitten, der eine Aufnahme für einen Meßkopf oder für ein Werk­ zeug trägt, an den einzelnen Schlitten angeordnete, die Verschiebung derselben entlang einer jeden zugeordneten Koordinationsachse X; Y; Z messende Meßsysteme, die jeweils einen Maßstab und ein Abtastsystem umfassen, und eine Laserlichtquelle mit nachgeordneter Stabilisierungsoptik, zur Leitstrahlerzeugung, welche fest am X-Schlitten oder an einem festen Maschinentisch angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet,
daß auf einer festen, sich in Richtung der X-Koordinate erstreckenden und durch am Maschinen­ gestell (2) angeordnete Stelleinrichtungen (14; 15) fein­ verstellbaren Basis (13) in einem festen Abstand hinter­ einander zwei geradsichtige und mit mindestens einer Teilerfläche versehene Umlenkelemente (16; 17) konstanter Ablenkung zur teilweisen Ablenkung eines von einer Laser­ lichtquelle (10) ausgehenden Basisleitstrahles (12) in Richtung der Y-Koordinate vorgesehen sind, wobei einem ersten dieser Umlenkelemente (16) ein Strahlenteiler (20) mit einem ersten strahllageempfindlichen, fotoelektri­ schen Empfänger (21) und einem zweiten dieser Umlenk­ elemente (17) in Strahlrichtung ein zweiter strahllage­ empfindlicher fotoelektrischer Empfänger (22) zugeordnet ist,
daß auf dem Y-Schlitten (4) eine, durch eine Stellein­ richtung feinverstellbare Zwischenbasis (28) vorgesehen ist, auf welcher drei geradsichtige und mit je einer Teilerfläche versehene Umlenkelemente (29; 30; 31) zur teilweisen Ablenkung des von dem ersten und zweiten Um­ lenkelement kommenden Leitstrahles (18; 19) in Richtung der Z-Koordinate und auf je einen strahllageempfindlichen fotoelektrischen Empfänger (32; 33; 34) vorgesehen sind, wobei zwei dieser drei Umlenkelemente (29; 30) in Richtung des von dem ersten Umlenkelement (16) entlang der Y-Koordi­ nate gerichteten Leitstrahles 18 in einem festen Abstand hintereinander angeordnet sind und das dritte dieser drei Umlenkelemente (31) im, durch das zweite Umlenkelement (17) in Richtung der Y-Koordinate umgelenkten Leitstrahlen (19) angeordnet ist,
daß am Z-Schlitten (6) ein Strahlenteiler (40) mit einem strahllageempfindlichen fotoelektrischen Empfänger (45) und mit einem ersten nachgeordneten Reflektionselement (42) sowie ein zweites Reflektionselement (43) vorgesehen sind und dem ersten und dem zweiten Reflektionselement (42; 43) je ein strahllageempfindlicher fotoelektrischer Empfänger (46; 47) in einem einstellbaren Abstand nachgeordnet ist, wobei der Strahlenteiler (40) in dem ersten (41) und das zweite Reflektionselement (43) in dem zweiten (44), in Richtung der Z-Koordinate geführten Leitstrahl angeordnet sind, und
daß alle Empfänger und Stelleinrichtungen mit einer Empfänger- und Steuersignale verarbeitenden Rechnereinheit verbunden sind.

2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Abstände des ersten und zweiten Reflektionselementes (42; 43) von dem ihnen jeweils nachgeordneten fotoelektri­ schen Empfängern (46; 47) gleich dem normalen Abstand des Strahlenumlenkpunktes auf den Reflektionselementen (42; 43) zu der Ebene ist, in welcher ein Meßkopf (8) oder ein Werk­ zeug am Z-Schlitten (6) angeordnet ist.

3. Einrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeich­ net, daß die Umlenkelemente strahlenteilende Spiegel oder gerad­ sichtige Prismen mit mindestens einer strahlenteilenden Fläche sind.