DE3518774A1 - Verfahren zur ermittlung und optimierung der optischen weglaenge einer durchgehenden transparenten schicht oder einer strukturierten schicht - Google Patents
Verfahren zur ermittlung und optimierung der optischen weglaenge einer durchgehenden transparenten schicht oder einer strukturierten schichtInfo
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Patent Citations (1)
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Non-Patent Citations (2)
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| Applied Optics Vol. 15, No. 3, 1976, p. 677-680 * |
| IEEE, Vol. ED-22, No. 7, 1975, p. 452-456 * |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3199919A3 (de) * | 2016-01-26 | 2017-08-23 | Dr. Johannes Heidenhain GmbH | Massverkörperung und positionsmesseinrichtung mit dieser massverkörperung |
| US10018485B2 (en) | 2016-01-26 | 2018-07-10 | Dr. Johannes Heidenhain Gmbh | Scale and position-measuring device having such a scale |
Also Published As
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