DE3509747A1 - Method and appliance for the precise pointwise or linear modification of the chemical/physical properties of a radiation-sensitive layer - Google Patents

Method and appliance for the precise pointwise or linear modification of the chemical/physical properties of a radiation-sensitive layer

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DE3509747A1 DE19853509747 DE3509747A DE3509747A1 DE 3509747 A1 DE3509747 A1 DE 3509747A1 DE 19853509747 DE19853509747 DE 19853509747 DE 3509747 A DE3509747 A DE 3509747A DE 3509747 A1 DE3509747 A1 DE 3509747A1
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Abstract

A substrate (14) provided with a radiation-sensitive layer is placed into a conventional plotter (12), onto which substrate a predefined pattern is recorded by means of a light-emitting device (20) which is inserted in the motion device (18), controllable in terms of coordinates, of the plotter (12) being guided over the layer according to the pattern. <IMAGE>

Description

Verfahren und Einrichtung zum exakten Procedure and device for the exact

punkt- oder linienförmigen Verändern der chemisch/physikalischen Eigenschaften einer strahlungsempfindlichen Schicht Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Einrichtung zum exakten selektiven punkt- oder linienförmigen Verändern der chemisch/physikalischen Eigenschaften einer strahlungsempfindlichen Schicht nach einem vorgegebenen Muster. point or line changes in the chemical / physical Properties of a radiation-sensitive layer The invention relates to a method and a device for exact selective point or line changing the chemical / physical properties of a radiation-sensitive layer according to a given pattern.

Ein derartiges Verfahren findet beispielsweise bei der Herstellung von Leiterplatten Verwendung. Dabei wird die mit einer durchgehenden Kupferschicht versehene Platte mit einem lichtempfindlichen Material beschichtet, das gemäß einem vorgegebenen Leiterbahnenmuster belichtet wird. Nach dem Entwickeln sind nur die den Leiterbahnen entsprechenden Flächen der Kupferschicht geschützt, während das restliche Kupfer weggeätzt werden kann.Such a method takes place, for example, during manufacture of printed circuit boards use. This is done with a continuous copper layer provided plate coated with a photosensitive material, which according to a predetermined conductor track pattern is exposed. After developing there are only those the areas of the copper layer corresponding to the conductor tracks are protected, while the remaining copper can be etched away.

Zum Aufbringen des Leiterbahnenmusters ist im allgemeinen eine sehr exakte Druckvorlage als Maske erforderlich, zu deren Herstellung mehrere phototechnische Schritte mit besonderer Sorgfalt durchzuführen sind.To apply the conductor track pattern is generally a very exact artwork required as a mask, several photo-technical Steps must be carried out with particular care.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Einrichtung anzugeben, bei denen mit einfachsten Mitteln und unter Reduzierung der Verfahrensschritte ein vorgegebenes Muster exakt auf einer strahlungsempfindlichen Schicht aufgebracht werden kann.The invention is based on the object of a method and a device indicate where by the simplest means and with a reduction in the number of procedural steps a given pattern is applied exactly to a radiation-sensitive layer can be.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung gelöst durch ein Verfahren mit den Merkmalen des Kennzeichens des Patentanspruchs 1 bzw. eine Einrichtung mit den Merkmalen des Kennzeichens des Patentanspruchs 7.According to the invention, this object is achieved by a method with the features of the characterizing part of claim 1 or a device with the features of the characterizing part of claim 7.

Das erfindungsgemäße Verfahren gestattet den Einsatz eines handelsüblichen Zeichenplotters und bringt eine Verringerung der Verfahrensschritte. Wird das Verfahren für die Herstellung von Bahnen auf Leiterplatten verwendet, dann kann entweder unmittelbar eine Druckvorlage hergestellt werden oder das vorgegebene Muster wird sogar direkt auf die über der Kupferschicht der Platten angeordnete lichtempfindliche Schicht aufgebracht.The method according to the invention allows the use of a commercially available one Drawing plotter and brings a reduction in process steps. Will the procedure used for the production of tracks on printed circuit boards, then can either directly a print template can be produced or the specified pattern is even used directly on the photosensitive layer arranged over the copper layer of the plates upset.

Der bei der erfindungsgemäßen Einrichtung verwendete Lichtzeichenstift ist eine äußerst einfache und kompakte Vorrichtung, die anstelle des Tuschezeichenkopfes oder dgl. in einen handelsüblichen Zeichenplotter eingesetzt werden kann.The light pen used in the device according to the invention is an extremely simple and compact device that replaces the ink pen head Or the like. Can be used in a commercially available drawing plotter.

Bevorzugte Weiterbildungen des erfindungsgemäßen Verfahrens bzw. der erfindungsgemäßen Einrichtung sind in den übrigen Unteransprüchen gekennzeichnet.Preferred developments of the method according to the invention or the The device according to the invention are characterized in the remaining subclaims.

Weitere Merkmale und Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der nachstehenden Beschreibung von Ausführungsbeispielen und der Zeichnung.Further features and advantages of the invention emerge from the following Description of exemplary embodiments and the drawing.

Es zeigen: Fig. 1 eine schematische perspektivische Darstellung eines Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen Einrichtung unter Verwendung eines handelsüblichen Flachbettplotters, Fig. 2 eine seitliche Schnittansicht eines Lichtzeichenstiftes gemäß einem Ausführungsbeispiel und Fig. 3 eine seitliche Schnittansicht eines Lichtzeichenstiftes gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel.1 shows a schematic perspective illustration of a Embodiment of the device according to the invention using a commercially available Flatbed plotters, Fig. 2 is a side sectional view of a light pen according to an embodiment and FIG. 3 is a side sectional view of a light pen according to a second embodiment.

Figur 1 zeigt einen handelsüblichen Plotter 12, auf dem ein strahlungsempfindliches Material, beim Ausführungsbeispiel ein strahlungsempfindlicher Tageslichtfilm 14 aufgespannt ist. Der Tageslichtfilm 14 ist gegenüber sichtbarem Licht unempfindlich, spricht jedoch auf Strahlung nicht sichtbaren Lichts, beim Ausführungsbeispiel UV-Licht an. Es kann somit offen, ohne Verdunkelung, gearbeitet werden. Nimmt man eine derartige Verdunkelung in Kauf, so ist natürlich ein Arbeiten mit einem Film möglich, der auf sichtbares Licht reagiert.Figure 1 shows a commercially available plotter 12 on which a radiation-sensitive Material, in the exemplary embodiment a radiation-sensitive daylight film 14 is stretched. The daylight film 14 is insensitive to visible light, however, speaks to radiation of invisible light, in the exemplary embodiment UV light at. You can therefore work openly, without darkening. If you take one of these Blackout in purchase, it is of course possible to work with a film that responds to visible light.

Der Tageslichtfilm 14 soll zu einer Druckvorlage für die Herstellung von Leiterplatten verarbeitet werden.The daylight film 14 is intended to be used as a master copy for production processed by printed circuit boards.

Der Plotter 12 besitzt üblicherweise eine in Richtung der X-Achse verschiebbare Schiene 16. An dieser kann ein Wagen 18 in Richtung der Y-Achse verfahren werden, der bei einem üblichen Zeichenplotter einen Filz-, Kugelschreiber- oder Tuschezeichenkopf trägt, mit dem auf weißes Papier Linien gezogen werden. Gemäß der Erfindung tritt an die Stelle eines derartigen Kopfes ein Lichtzeichenstift mit einer entsprechenden äußeren Ausbildung, die in den Wagen 18 eingesetzt werden kann. Der Lichtzeichenstift 20 ist über ein flexibles Lichtkabel 22 mit einer stationär angeordneten Lichtbox 26 verbunden, die eine nicht gezeigte entsprechende Quecksilberdampf-oder Halogenlampe zur Erzeugung einer energiereichen Strahlung, beim Ausführungsbeispiel einer UV-Strahlung enthält. Diese Strahlung wird in einem Kondensorsystem so fokussiert, daß sie dem flexiblen Lichtleiterkabel 22 zugeführt werden kann. Zweckmäßigerweise ist das Lichtleiterkabel 22 durch einen am Plotter 12 angeordneten Galgen 24 geführt. Die Lichtbox 26 läßt sich gemäß einer anderen Ausführungsform direkt seitlich am Plotter 12 oder bei einer leichtgewichtigen Ausführung auf der Schiene 16 anbringen.The plotter 12 usually has one in the direction of the X-axis displaceable rail 16. A carriage 18 can move on this in the direction of the Y-axis be that with a conventional drawing plotter a felt, ballpoint pen or Ink drawing head with which lines are drawn on white paper. According to According to the invention, a light pen takes the place of such a head with a corresponding external training, which are used in the carriage 18 can. The light pen 20 is stationary via a flexible light cable 22 with a arranged light box 26 connected, which has a corresponding mercury vapor or not shown Halogen lamp for generating high-energy radiation, in the exemplary embodiment contains UV radiation. This radiation is focused in a condenser system in such a way that that they are attached to the flexible fiber optic cable 22 can be fed. The optical fiber cable 22 is expediently arranged on the plotter 12 by a cable Gallows 24 led. The light box 26 can be according to another embodiment directly on the side of the plotter 12 or, in the case of a lightweight version, on the Attach rail 16.

Zum Aufbringen des Musters wird der Plotter in bekannter Weise koordinatenmäßig über einen Rechner nach einem Programm gesteuert, das dem aufzubringenden Muster entspricht. In Einklang mit dieser Steuerung wird auch selektiv eine Steuerung vorgenommen, ob für eine bestimme Koordinate Licht auf den Tageslichtfilm gerichtet wird oder nicht. Nach Beendigung der mustermäßigen Bestrahlung wird der Tageslichtfilm entwickelt, so daß die darauf aufgezeichneten Linien, Punkte oder ggf. Schriftzeichen sichtbar werden.To apply the pattern, the plotter is coordinated in a known manner controlled by a computer according to a program that corresponds to the pattern to be applied is equivalent to. In accordance with this control, control is also carried out selectively, whether light is directed onto the daylight film for a certain coordinate or not. After completion of the pattern-wise irradiation, the daylight film is developed, so that the lines, points or possibly characters recorded on it are visible will.

Der Lichtzeichenstift 20 besteht rein äußerlich aus einer patronenähnlichen Hülse 30 (Figur 2), die in ihrer Formgebung den normalen Plotter-Zeichenstiften angepaßt ist, so daß sie problemlos gegen diese ausgetauscht werden kann. Die Hülse 30 stellt das Gehäuse für den optisch/mechanischen Aufbau des Lichtzeichenstiftes 20 dar.The light pen 20 consists purely externally of a cartridge-like Sleeve 30 (Figure 2), the shape of the normal plotter drawing pens is adapted so that it can be easily exchanged for this. The sleeve 30 represents the housing for the optical / mechanical structure of the light pen 20 represents.

Drei Ausführungsformen des Lichtzeichenstiftes 20 werden nachstehend beschrieben.Three embodiments of the light pen 20 are shown below described.

Gemäß Figur 2 enthält der Lichtzeichenstift 20 ein Verschlußsystem zur Steuerung der Strahlungsabgabe an den Tageslichtfilm 14. Die in den Wagen 18 des Plotters einsetzbare Hülse 30 ist nach oben durch eine Platte 44 abgeschlossen, durch die das Lichtleiterkabel 22 eingeführt ist. Nach unten hin ist in der Hülse 30 eine Steuerhülse 34 beweglich geführt, die durch eine Schraubenfeder 32 in Richtung des Tageslichtfilmes 14 gedrückt wird, so daß deren unterer Rang auf dem Tageslichtfilm aufliegt oder geringfügig von diesem abgehoben ist.According to Figure 2, the light pen 20 contains a locking system for controlling the radiation output to the daylight film 14. The in the carriage 18 of the plotter insertable sleeve 30 is closed at the top by a plate 44, through which the optical fiber cable 22 is inserted. Down is in the sleeve 30 one Control sleeve 34 movably guided by a helical spring 32 is pressed in the direction of the daylight film 14, so that its lower rank rests on the daylight film or is slightly raised from it.

Zwischen einer Lichtaustrittsöffnung 28 des Lichtleiterkabels 22 und einem im oberen Teil der Steuerhülse 34 angeordneten Linsensystem 40 befindet sich in einem Durchgang 50 der Steuerhülse 34 ein klappenartiger Drehverschluß 36, dessen horizontale Drehachse 52 auf gegenüberliegenden Seiten der Innenwand der Hülse 30 gelagert ist und ein Zahnrad 48 trägt. Das Zahnrad 48 kämmt mit einer vertikalen Zahnstange 38, die im Durchgang 50 der Steuerhülse 34 angebracht ist.Between a light exit opening 28 of the fiber optic cable 22 and a lens system 40 arranged in the upper part of the control sleeve 34 is located in a passage 50 of the control sleeve 34, a flap-like rotary lock 36, whose horizontal axis of rotation 52 on opposite sides of the inner wall of the sleeve 30 is mounted and a gear 48 carries. The gear 48 meshes with a vertical one Toothed rack 38 which is attached in the passage 50 of the control sleeve 34.

Der Plotter 12 besitzt auch einen Antrieb für den Zeichenstift in Richtung der Z-Achse (Fig. 1). Dieser greift über einen Flansch 46 an der Hülse 30 an und kann diese in vertikaler Richtung bewegen. Dabei wird während der Bewegung der Hülse 30 in Richtung zum Tageslichtfilm 14 hin der Drehverschluß 36 über die Zahnstange 38 und das Zahnrad 48 aus der horizontalen, den Durchgang 50 sperrenden Stellung in eine vertikale, den Durchgang 50 freigebende Stellung 36' gedreht. Die Strahlung von der Lichtbox 26 gelangt nun über das Lichtleiterkabel 22 und den Lichtaustritt 28 sowie den Durchgang 50 auf das Linsensystem 40, wo sie in einem Strahl gang 42 auf den Tageslichtfilm 14 fokusiert wird. Auf diese Weise wird der Tageslichtfilm 14 punkt- oder linienmäßig belichtet.The plotter 12 also has a drive for the pen in Direction of the Z-axis (Fig. 1). This engages via a flange 46 on the sleeve 30 and can move it in the vertical direction. Doing this while moving the sleeve 30 in the direction of the daylight film 14 through the rotary lock 36 over the Rack 38 and the gear 48 from the horizontal, the passage 50 blocking Rotated position in a vertical, the passage 50 exposing position 36 '. the Radiation from the light box 26 now reaches the light guide cable 22 and the light outlet 28 and the passage 50 to the lens system 40, where they pass 42 in a beam is focused on the daylight film 14. This is how the daylight film becomes 14 exposed point or line.

Andererseits kann der Lichtzeichenstift mittels des Wagens 18 in X- und Y-Richtung bewegt werden, ohne daß eine Belichtung stattfindet, wenn die Hülse 34 sich in ihrer oberen Stellung befindet, in der die Drehklappe 36 horizontal ausgerichtet ist und den Durchgang 50 sperrt.On the other hand, the light pen can by means of the carriage 18 in X- and Y direction can be moved without exposure when the sleeve 34 is in its upper position, in which the rotary flap 36 is oriented horizontally and the passage 50 blocks.

Zur Veränderung des Belichtungspunktdurchmessers kann das Linsensystem 40 einstellbar ausgebildet sein. Alternativ dazu können Lichtzeichenstifte mit unterschiedlichen Linsensystemen verwendet werden, die jeweils ausgetauscht werden.To change the exposure point diameter, this can Lens system 40 be adjustable. Alternatively, you can use light crayons with different Lens systems are used, which are each exchanged.

An die Stelle des Drehverschlusses 36 des Ausführungsbeispiels können andere optische Verschlüsse treten, wie sie aus der Kameratechnik bekannt sind. Das Öffnen und Schließen dieser Verschlüsse erfolgt dann entweder ebenfalls mechanisch unter Ausnutzung des Z-Antriebs des Plotters oder kann auch elektronisch oder elektromechanisch ausgelöst werden.Instead of the twist lock 36 of the exemplary embodiment other optical shutters occur, as they are known from camera technology. These closures are then either opened and closed mechanically taking advantage of the Z-drive of the plotter or can also be electronic or electromechanical to be triggered.

Einen besonders einfachen Aufbau des Lichtzeichenstiftes 20 ergibt sich dann, wenn die Lichtübertragung von der Lichtbox 26 für die jeweiligen Koordinatenpunkte auf-bzw. zugetastet wird.A particularly simple structure of the light pen 20 results when the light transmission from the light box 26 for the respective coordinate points on or. is touched.

Hierzu kann in der Lichtbox 26 ein nicht gezeigter Verschluß vorgesehen sein, der bei der Bewegung des Lichtzeichenstiftes 20 senkrecht vom Tageslichtfilm 14 weg durch ein von einem Mikroschalter oder einem kontaktlosen Geber erzeugtes elektrisches Signal betätigt wird, so daß die Lichtübertragung über das Lichtleiterkabel 22 unterbrochen wird.For this purpose, a lock (not shown) can be provided in the light box 26 be that perpendicular to the daylight film when the light pen 20 is moved 14 away by one generated by a microswitch or a contactless transmitter electrical signal is actuated so that the light transmission over the fiber optic cable 22 is interrupted.

Alternativ dazu kann das von der Plottersteuerung für die Bewegung in Z-Richtung abgegebene Steuersignal zum Schließen und Öffnen des Verschlusses verwendet werden.Alternatively, this can be done by the plotter control for the movement Control signal emitted in Z-direction for closing and opening the shutter be used.

Figur 3 zeigt ein drittes Ausführungsbeispiel mit einem "Flüssigkeitsverschluß" und einem faseroptischen Querschnittswandler. In Abwandlung zum zweiten Ausführungsbeispiel der Figur 2 wird in der Hülse 30 ein Block 80 geführt, der eine zentrale Längsöffnung besitzt. In dieser ist in einer lichtundurchlässigen Vergußmasse 78 ein faseroptischer Querschnittswandler -76 eingegossen, dessen obere Eintrittsfläche der Austrittsfläche des Lichtleiterkabels 22 gegenüberliegt, und dessen Austrittsfläche auf dem Film 14 anliegt, und in der Ebene der unteren Auflagefläche des Blocks 80 liegt.Figure 3 shows a third embodiment with a "liquid seal" and a fiber optic cross section converter. As a modification of the second exemplary embodiment 2, a block 80 is guided in the sleeve 30, which has a central longitudinal opening owns. In this is in an opaque potting compound 78 a fiber-optic cross-section converter -76 cast in, its upper entry surface the exit surface of the optical fiber cable 22 is opposite, and its exit surface on the film 14, and in the plane of the lower support surface of the block 80 lies.

Ein Faltenbalg 72 verbindet das Äußere des Lichtleiterkabels 23 mit einem oberen Ansatz 82 am Block 80. Die Verbindungsstellen sind abgedichtet, vorzugsweise verklebt oder verschweißt. Im Inneren des Faltenbalgs 72 befindet sich ein lichtundurchlässiges Fluid 74, das in der in Figur 3 gezeigten Stellung des Lichtzeichenstiftes 70 eine Lichtübertragung zwischen dem Lichtleiterkabel 22 und dem faseroptischen Querschnittswandler 76 verhindert.A bellows 72 connects the exterior of the optical fiber cable 23 with an upper shoulder 82 on block 80. The joints are sealed, preferably glued or welded. Inside the bellows 72 there is an opaque one Fluid 74, which in the position of the light pen 70 shown in FIG Light transmission between the fiber optic cable 22 and the fiber optic cross section converter 76 prevented.

Soll eine Belichtung stattfinden, dann wird die Hülse 30 entgegen dem Druck der Schraubenfeder 32 nach unten gedrückt, so daß die Austrittsfläche des Lichtleiterkabels 22 in Anlage mit der Eintrittsfläche des faseroptischen Querschnittswandlers 76 kommt, so daß das Licht von der Lichtquelle 26 über das Lichtleiterkabel 22 und den faseroptischen Querschnittswandler 76 auf den Film 14 auftrifft. Das lichtundurchlässige Fluid 74 ist vorzugsweise eine Flüssigkeit.If an exposure is to take place, then the sleeve 30 is opposed the pressure of the coil spring 32 pressed down, so that the exit surface of the optical fiber cable 22 in contact with the entry surface of the fiber-optic cross-section converter 76 comes so that the light from the light source 26 via the optical fiber cable 22 and the fiber optic cross-section transducer 76 impinges on the film 14. The opaque one Fluid 74 is preferably a liquid.

Auch der Lichtzeichenstift gemäß dieser Ausführungsform kann in analoger Weise wie im Zusammenhang mit der Ausführungsform nach Figur 2 beschrieben, durch Auf- und Zutasten der Lichtbox 26 für die jeweiligen Koordinatenpunkte gesteuert werden. In diesem Falle geht das Lichtleiterkabel 22 direkt in den faseroptischen Querschnittswandler 76 über.The light pen according to this embodiment can also be analogous Way as described in connection with the embodiment of Figure 2 by On and off the light box 26 controlled for the respective coordinate points will. In this case, the fiber optic cable 22 goes directly into the fiber optic Cross section converter 76 over.

Bei diesem dritten Ausführungsbeispiel vereinfacht sich die Lichtübertragung, da an die Stelle des optischen Systems ein einziges Element, nämlich der faseroptische Querschnittswandler 76, tritt.In this third embodiment, the light transmission is simplified, because in place of the optical System has a single element, namely the fiber optic cross section converter 76, occurs.

An die Stelle des Tageslichtfilms 14 kann auch eine strahlungsempfindliche Schicht treten, die direkt auf der Kupferschicht der Leiterplatten aufgebracht ist. Die Frequenz der für die Belichtung verwendeten Strahlung sowie die Stärke der Strahlung können in der Lichtbox einstellbar sein für eine Anpassung an verschiedene strahlungsempfindliche Schichten.Instead of the daylight film 14, a radiation-sensitive film can also be used Step layer that is applied directly to the copper layer of the circuit board. The frequency of the radiation used for exposure as well as the strength of the radiation can be adjustable in the light box for an adaptation to different radiation-sensitive Layers.

Das erfindungsgemäße Verfahren bzw. die erfindungsgemäße Einrichtung ist nicht nur bei der Herstellung von Leiterplatten anwendbar, sondern überall dort, wo ein vorgegebenes Muster durch Veränderung von chemischen oder physikalischen Eigenschaften einer strahlungsempfindlichen Schicht aufgebracht werden soll.The method according to the invention or the device according to the invention can be used not only in the production of printed circuit boards, but everywhere where where a given pattern by changing chemical or physical Properties of a radiation-sensitive layer is to be applied.

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Claims (21)

Verfahren und Einrichtung zum exakten punkt- oder linienförmigen Verändern der chemisch/physikalischen Eigenschaften einer strahlungsempfindlichen Schicht Patentansprüche 1. Verfahren zum exakten selektiven punkt- oder linienförmigen Verändern von chemisch/physikalischen Eigenschaften einer strahlungsempfindlichen Schicht gemäß einem vorgegebenen Muster, dadurch gekennzeichnet, daß ein konzentriertes Strahlungsbündel auf die Schicht gerichtet, unter Beibehaltung des Einfallswinkels mittels eines an sich bekannten Zeichenplotters gemäß dem vorgegebenen Muster über die Schicht gefahren und das Strahlungsbündel abhängig von den jeweiligen Koordinaten selektiv auf die Schicht durchgelassen oder unterbrochen wird. Method and device for the exact point or line shape Changing the chemical / physical properties of a radiation-sensitive Layer claims 1. Method for exact selective punctiform or linear Changing the chemical / physical properties of a radiation-sensitive Layer according to a predetermined pattern, characterized in that a concentrated Radiation beam directed onto the layer while maintaining the angle of incidence by means of a drawing plotter known per se according to the given pattern moved the layer and the radiation beam depending on the respective coordinates is selectively transmitted or interrupted on the layer. 2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Strahlenbündel senkrecht auf die Schicht gerichtet wird.2. The method according to claim 1, characterized in that the beam is directed perpendicular to the layer. 3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht eine gegenüber Tageslicht unempfindliche Schicht ist und die Strahlung unsichtbares Licht, vorzugsweise UV-Strahlung ist.3. The method according to claim 1 or 2, characterized in that the Layer is a layer that is insensitive to daylight and the radiation is invisible Light, preferably UV radiation. 4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht auf einem Film aufgebracht ist.4. The method according to any one of the preceding claims, characterized in, that the radiation-sensitive layer is applied to a film. 5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die strahlungsempfindliche Schicht nach einem vorgegebenen Muster bestrahlt wird, daß die strahlungsempfindliche Schicht entwickelt und die nach dem vorbestimmten Muster auszubildende Schicht einem Ätzverfahren unterworfen wird.5. The method according to any one of claims 1 to 3, characterized in, that the radiation-sensitive layer irradiates according to a predetermined pattern is that the radiation-sensitive layer developed and that after the predetermined Pattern to be formed layer is subjected to an etching process. 6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß nach Aufbringen des vorgegebenen Musters die Schicht entwickelt wird.6. The method according to any one of claims 1 to 4, characterized in that that after applying the given pattern, the layer is developed. 7. Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß in die koordinatenmäßig gesteuerte Bewegungsvorrichtung (18) des Plotters (12) anstelle eines Zeichenstiftes eine Strahlungsabgabevorrichtung (20) einsetzbar ist, die das Strahlungsbündel auf die strahlungsempfindliche Schicht (14) richtet.7. Device for performing the method according to one of the preceding Claims, characterized in that in the coordinate-controlled movement device (18) of the plotter (12) a radiation emitting device instead of a drawing pen (20) that the radiation beam onto the radiation-sensitive layer can be used (14) directs. 8. Einrichtung nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Strahlungsabgabevorrichtung als Lichtzeichenstift (20; 70) ausgebildet ist, dessen äußere Form derjenigen des Zeichenstifts des Plotters (12) entspricht.8. Device according to claim 7, characterized in that the radiation emitting device is designed as a light pen (20; 70), the outer shape of which is that of the Corresponds to the drawing pen of the plotter (12). 9. Einrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß der Strahlungszeichenstift (20) aus einer in die Bewegungsvorrichtung (18) des Plotters (12) einsetzbaren Hülse (30) besteht, die über ein Strahlungsleiterkabel (22) mit der Lichtquelle (26) verbunden ist und an die ein optisches Element (40, 76) aufweist, mit dem die in die Hülse (30) eintretende Strahlung auf die strahlungsempfindliche Schicht (14) konzentriert wird. 9. Device according to claim 8, characterized in that the radiation drawing pen (20) from a sleeve which can be inserted into the movement device (18) of the plotter (12) (30), which is connected to the light source (26) via a radiation conductor cable (22) is and has an optical element (40, 76) with which the into the sleeve (30) incoming radiation is concentrated on the radiation-sensitive layer (14) will. 10. Einrichtung nach einem der Ansprüche 7 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß eine Lichtquelle (26) mit der Lichtabgabevorrichtung (20) verbunden ist und daß eine Vorrichtung (36) zur Unterbrechung des Strahlungsbündels vorgesehen ist.10. Device according to one of claims 7 to 9, characterized in that that a light source (26) is connected to the light emitting device (20) and that a device (36) is provided for interrupting the radiation beam. 11. Einrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterbrechungsvorrichtung (36) in der Lichtabgabevorrichtung (20) angeordnet ist.11. The device according to claim 10, characterized in that the Interrupting device (36) is arranged in the light emitting device (20). 12. Einrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterbrechungsvorrichtung am Ausgang der Lichtquelle (26) angeordnet ist.12. The device according to claim 10, characterized in that the Interrupting device is arranged at the output of the light source (26). 13. Einrichtung nach Anspruch 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Unterbrechungsvorrichtung (36; 72,74) durch das Z-Richtungssignal der Plottersteuerung betätigbar ist.13. Device according to claim 11 or 12, characterized in that that the interruption device (36; 72,74) by the Z-direction signal of the plotter control is actuatable. 14. Einrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß in der Hülse (30) ein Verschluß (36; 72,74) vorgesehen ist, und daß die Hülse (30) unter Steuerung des Z-Richtungssignals des Plotters (12) eine vertikale Hubbewegung ausführen kann, durch die die Unterbrechungsvorrichtung (36; 72,74) betätigbar ist.14. Device according to claim 13, characterized in that that a closure (36; 72,74) is provided in the sleeve (30), and that the sleeve (30) under control of the Z-direction signal of the plotter (12) a vertical lifting movement can perform, by which the interruption device (36; 72,74) can be actuated. 15. Einrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß der Verschluß ein Drehverschluß (36) ist, der in einer in der Hülse (30) bewegbaren Steuerhülse (34) angeordnet und bei der Vertikalbewegung der Hülse (30) über eine Antriebsvorrichtung (38, 48) drehbar ist.15. Device according to claim 14, characterized in that the The closure is a rotary closure (36) which is movable in a sleeve (30) Control sleeve (34) arranged and during the vertical movement of the sleeve (30) over a Drive device (38, 48) is rotatable. 16. Einrichtung nach einem der Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element ein Linsensystem (40) ist.16. Device according to one of the claims, characterized in that that the optical element is a lens system (40). 17. Einrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß das optische Element ein faseroptischer Querschnittswandler (76) ist.17. Device according to one of claims 10 to 15, characterized in that that the optical element is a fiber optic cross-section converter (76). 18. Einrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß der Lichtaustritt des Lichtleiterkabels (22) und der Lichteintritt des faseroptischen Querschnittswandlers (76) in einem lichtundurchlässigen Fluid (74) angeordnet sind und bei Vertikalbewegung der Hülse (30) für eine Strahlungsübertragung in Anlage bringbar sind.18. Device according to claim 17, characterized in that the Light exit of the fiber optic cable (22) and the light entrance of the fiber optic Cross-section converter (76) are arranged in an opaque fluid (74) and upon vertical movement of the sleeve (30) for a radiation transfer in abutment are bringable. 19. Einrichtung nach Anspruch 18, dadurch gekennzeichnet, daß das lichtundurchlässige Fluid eine in einem nachgebildeten Gehäuse (72), insbesondere einem Faltenbalg untergebrachte Flüssigkeit (74) ist.19. Device according to claim 18, characterized in that that the opaque fluid in a simulated housing (72), in particular liquid (74) housed in a bellows. 20. Einrichtung nach Anspruch 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet, daß der faseroptische Querschnittswandler (76) in einem Führungsblock (80) eingegossen ist, und der Lichtaustritt des faseroptischen Querschnittswandlers in der Ebene des Films (14) liegt.20. Device according to claim 17 to 19, characterized in that the fiber optic cross section converter (76) is molded into a guide block (80) is, and the light exit of the fiber optic cross-section converter in the plane of the film (14). 21. Einrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die am Ausgang der Lichtquelle (26) angeordnete Unterbrechungsvorrichtung mit einem der Lichtabgabevorrichtung (20) zugeordneten Signalgeber verbunden ist, der durch eine vertikale Hubbewegung der Lichtabgabevorrichtung (20) aktivierbar ist.21. Device according to one of the preceding claims, characterized in that that the interrupting device arranged at the exit of the light source (26) with one of the light output device (20) associated signal transmitter is connected, the can be activated by a vertical lifting movement of the light emitting device (20).
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1988005559A1 (en) * 1987-01-22 1988-07-28 The Foxboro Company Method of patterning resist
WO1989003097A1 (en) * 1987-10-02 1989-04-06 Digipoint Oy Plotting apparatus
DE3811762A1 (en) * 1988-04-08 1989-10-19 Winter Hans Joachim Drawing machine with drawing pen
US5015553A (en) * 1985-06-10 1991-05-14 The Foxboro Company Method of patterning resist
US5254435A (en) * 1985-06-10 1993-10-19 The Foxboro Company Method of patterning resist
US5378581A (en) * 1989-10-13 1995-01-03 The Foxboro Company Application specific tape automated bonding
DE19732506B4 (en) * 1997-07-29 2005-05-19 Daimlerchrysler Ag Method of making multimode waveguides and waveguide structures

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5015553A (en) * 1985-06-10 1991-05-14 The Foxboro Company Method of patterning resist
US5254435A (en) * 1985-06-10 1993-10-19 The Foxboro Company Method of patterning resist
WO1988005559A1 (en) * 1987-01-22 1988-07-28 The Foxboro Company Method of patterning resist
WO1989003097A1 (en) * 1987-10-02 1989-04-06 Digipoint Oy Plotting apparatus
DE3811762A1 (en) * 1988-04-08 1989-10-19 Winter Hans Joachim Drawing machine with drawing pen
US5378581A (en) * 1989-10-13 1995-01-03 The Foxboro Company Application specific tape automated bonding
DE19732506B4 (en) * 1997-07-29 2005-05-19 Daimlerchrysler Ag Method of making multimode waveguides and waveguide structures

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