DE3227717A1 - DEVICE FOR IONING PLATTERING GOODS - Google Patents
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Description
■Ϊ6. Juli 1982■ Ϊ6. July 1982
8251082510
.J..J.
LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Straße 504LEYBOLD-HERAEUS GmbH
Bonner Strasse 504
5000 Köln - 515000 Cologne - 51
Vorrichtung zum Ionen-Plattieren von Schüttgut "Device for ion plating of bulk material "
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ionen-Plattieren von als Schüttgut vorliegenden Substraten, bestehend aus einer an Masse gelegten Vakuumkammer, einer darin angeordneten, als Katode geschalteten drehbaren Trommel mit durchbrochenen Wänden für die Aufnahme und die Umwälzung der Substrate, einer Verdampferanordnung, mindestens einer Anode für die Aufrechterhaltung einer Glimmentladung und die Ionisation des Dampfes.The invention relates to an apparatus for ion plating of substrates present as bulk material, consisting of a vacuum chamber connected to ground, one arranged in it, rotatable drum with perforated walls for receiving and circulating the Substrates, an evaporator arrangement, at least one anode for maintaining a glow discharge and the Ionization of steam.
Beim Ionen-Plattieren handelt es sich darum, mittels einer Verdampferanordnung einen Dampfstrom bzw. eine Dampfwolke zu erzeugen, durch deren Kondensation auf den Substraten die Plattierungsschicht erzeugt wird, sowie durch die Herbei-Ion plating is about using a Evaporator arrangement to generate a stream of steam or a cloud of steam by condensing it on the substrates the cladding layer is generated, as well as by the induction
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führung von Potentialdifferenzen zwischen Verdampfer und den Substraten in Verbindung mit einem bestimmten Druck in der Vakuumkammer eine Glimmentladung zwischen dem Verdampfer und den Substraten aufrecht zu erhalten. Durch diese Glimmentladung werden die Dampfpartikel ionisiert und in Richtung auf die Substrate beschleunigt und in deren Oberfläche eingeschossen, so daß sich eine hohe Niederschlagsrate in Verbindung mit einer großen Haftfestigkeit der Plattierungsschicht ergibt. Die Beschleunigung der Dampfpartikel in Richtung der Substrate setzt eine negative Vorspannung der Substrate voraus, so daß in der Regel der Substratträger bzw. die Trommel negativ vorgespannt ist.management of potential differences between evaporator and the substrates in connection with a certain pressure in the vacuum chamber a glow discharge between the evaporator and maintain the substrates. This glow discharge ionizes the vapor particles and accelerated towards the substrates and shot into their surface, so that a high Precipitation rate combined with great adhesive strength of the plating layer. The acceleration the vapor particle in the direction of the substrates sets a negative bias of the substrates ahead, so that the substrate carrier or the drum is negatively biased as a rule is.
Eine Vorrichtung der eingangs geschriebenen Art ist durch die US-PS 3 925 147 bekannt. Däoei ist aie Trommel über einen Schleifkontakt ebenso an legatives Potential gelegt, wie eine die Trommel auf einem Teil ihres Umfangs umgebende Dunkelraumabschirmung. Diese Dunkelraumabschirmung ist jedoch nicht mit der Vakuumkammer identisch, die außerhalb der Dunkelraumabschirmung angeordnet ist.A device of the type described in the opening paragraph is through U.S. Patent No. 3,925,147. Daoei is over the drum a sliding contact is also placed at legative potential, like one surrounding the drum on part of its circumference Dark room shielding. This dark room shield is but not identical to the vacuum chamber, which is located outside the dark room shield.
Innerhalb der Trommel befindet sich eine weitere Abschirmung in Form eines größtenteils zylindrisch gebogenen Blechs, wobei an dem Zylindervolumen lediglich an der tiefsten Stelle ein Segment fehlt, weil das Blech an dieser Stelle einen ebenen, horizontalen Verlauf hat. In dem dadurch gebildeten Raum in Form des genannten Zylindersegments befinden sich die zu beschichtenden Substrate, und es heißt .in der genannten Schrift, daß die Glimmentladung auf eben diesen Raum beschränkt ist. Hierbei handelt es sich jedochInside the drum there is another shield in the form of a largely cylindrically bent sheet metal, with only the lowest on the cylinder volume A segment is missing because the sheet metal has a flat, horizontal course at this point. In that thereby formed space are located in the form of said cylinder segment the substrates to be coated, and it is called .in the above-mentioned scripture that the glow discharge is flat this space is limited. But this is what it is
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um einen Trugschluß, denn die auf einem Teil des Umfangs angeordneten Abschirmungen haben keine Entsprechungen an den Stirnflächen der Trommel, und insbesondere ist die äußere Dunkelraumabschirmung wegen des unterhalb der Trommel angeordneten Verdampfers nach unten offen. Es breitet sich, ausgehend von den auf Katodenpotential befindlichen Teilen in Richtung auf die auf Massepotential, also relativ gesehen auf Anodenpotential befindlichen Kammerwände unvermeidbar eine Gl immentl adunc- aus, die nicht nur eine elektrische Verlustquelle darstellt, sondern auch die Quelle von Verunreinigungen ist, da nämlich unter dem Einfluß dieser unerwünschten Glimmentladung Vorrichtungsteile zerstäuben. Ein derartiger Vorgang ist von dem Sachgebiet der Katodenzerstäubung her bekannt.a fallacy, because that on part of the circumference arranged shields have no equivalents the end faces of the drum, and in particular the outer dark room shield because of the below the Drum arranged evaporator open at the bottom. It spreads, starting from those at cathode potential Divide in the direction of those at ground potential, that is to say, relatively speaking, at anode potential Chamber walls inevitably a gl immentl adunc- which is not only a source of electrical loss, but also the source of contamination is there viz under the influence of this undesirable glow discharge Atomize device parts. Such a process is known from the field of cathode sputtering.
Die elektrischen Verluste setzen sich in eine äußerst unerwünschte Erwärmung der von der Glimmentladung getroffenen Bauteile um, so daß sich zusätzlich Kühlprobleme einstellen. Die beschriebenen Probleme sind bei der bekannten Lösung nur deswegen nicht so gravierend, weil bei den meisten Ausführungsbeispiel en der größte Teil der Vakuumkammer aus Glas bestt^t (Laborvorrichtung). Die beschriebenen Nachteile werden jedoch untragbar bei sogenannten Produktionsanlagen, bei denen die Vakuumkammer schon wegen ihrer Größe notwendigerweise aus Metall besteht und auf Massepotential gehalten werden muß.The electrical losses turn into an extremely undesirable one Heating of the struck by the glow discharge Components around so that additional cooling problems arise. The problems described are with the known solution only not so serious because in most of the exemplary embodiments Most of the vacuum chamber is made of glass (laboratory device). The disadvantages described become unsustainable in so-called production plants, where the vacuum chamber is necessary because of its size consists of metal and must be kept at ground potential.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs beschriebenen Art dahingehend zu verbessern, daß die Glimmentladung tatsächlich auf den Raum zwischen der Verdampferanordnung und der Trommel einerseits sowie auf den Raum innerhalb der Trommel andererseits be-The invention is therefore based on the object of improving a device of the type described at the outset to the effect that that the glow discharge actually hit the room between the evaporator arrangement and the drum on the one hand and on the space within the drum on the other hand
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schränkt ist. Dabei soll insbesondere auch die Einhaitung enger Abstände zwischen drehbaren und stationären Teilen entbehrlich sein, eine Forderung, die bei Trommeln für die Schüttgutbeschichtung ohnehin nur schwer erfüllbar ist.is restricted. In particular, the compliance should also be close clearances between rotating and stationary parts can be dispensed with, a requirement that drums for the Bulky material coating is difficult to achieve anyway.
Die Lösung der gestellten Aufgabe erfolgt bei der eingangs beschriebenen Vorrichtung erfindungsgemäß dadurch, daß die Trommel und die Vakuumkammer auf im wesentlichen gleiches Potential gelegt und als Katode geschaltet sind, und daß innerhalb der Trommel sowie zwischen Verdampferan-Ordnung und Trommel je eine Anode angeordnet ist, die auf ein gegenüber Masse positives Potential gelegt ist.The object is achieved in the device described at the outset according to the invention in that the drum and the vacuum chamber are placed at essentially the same potential and connected as a cathode, and that within the drum as well as between evaporator order and an anode is arranged in each drum and is connected to a potential that is positive with respect to ground.
Durch die Anordnung von Trommel und Vakuumkammer auf gleichem Potential wird die Ausbildung von Glimmentladungen zwischen Trommel und Vakuum Kammer wirksam verhindert, ohne da3 es der Einhaltung enger Abstände bedirfte, wie dies beispielsweise bei sogenannten Dunkelraumabschirmungen erforderlich ist. Diese Freizügigkeit bei der Bemessung der Abstände kommt insbesondere der Ausbildung und Lagerung der Trommel sehr entgegen.By arranging the drum and vacuum chamber at the same potential, the formation of glow discharges occurs between drum and vacuum chamber effectively prevented without that it would be necessary to maintain close distances, as is necessary, for example, in the case of so-called dark room screens is. This freedom of movement when measuring the Distances are particularly beneficial for the design and storage of the drum.
Der Ausdruck, daß Trommel und Vakuumkammer als Katode geschaltet sind, schließt auch das Massepotential für diese Bauteile ein, solange dieses nur ausreichend negativ gegenüber dem Anodenpotential ist.The expression that the drum and vacuum chamber are connected as a cathode also includes the ground potential for them Components, as long as this is only sufficiently negative in relation to the anode potential.
Durch die Verhinderung einer Glimmentladung zwischen Trommel und Vakuumkammer werden unerwünschte elektrische Verluste ebenso vermieden wie die mit diesen Verlusten verknüpfte Aufheizung von Vorrichtungsbauteilen.By preventing a glow discharge between the drum and vacuum chamber, undesired electrical losses are avoided, as is the heating associated with these losses of fixture components.
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Durch die Anordnung je einer Anode nicht nur in der Trommel, sondern auch zwischen Verdampfer und Trommel wird erreicht, daß die Glimmentladung bis zur Verdampferanordnung durchschlägt. Die außerhalb der Trommel vorhandene Glimmentladung brennt alsdann zwischen der .äußeren Anode, die bevorzugt als Gitter in Form zahlreicher Anodendrähte ausgebildet ist, und der Trommel und dem Verdampfer.By arranging one anode each not only in the drum, but also between the evaporator and drum, that the glow discharge up to the evaporator arrangement hits through. The glow discharge outside the drum then burns between the outer anode, which is preferably a grid in the form of numerous anode wires is formed, and the drum and the evaporator.
Die durch die erfindungsgemäßen Maßnahmen erzeugte Potentialverteilung wirkt sich besonders vorteilhaft bei einem bevorzugten Ausführungsbeispie 1 des Erfindungsgegenstandes aus, das gemäß der weiteren Erfindung dadurch gekennzeichnet ist, daß mehrere Trommeln drehbar auf dem Umfang eines um eine horizontale Achse drehbaren Käfigs angeordnet und durch Antriebsmittel relativ zum Käfig um ihre eigenen Achsen in Drehung versetzbar sind, daß in den Trommel je eine Anode angeordnet ist, deren relative Lage zum Trommelhohlraum bzw. zum Schüttgut unverändert bleibt, und daß sich unterhalb der Umlaufbahn von Trommeln und Anoden eine ortsifeste Anode und darunter eine Verdampferanordnung befinden.The potential distribution generated by the measures according to the invention has a particularly advantageous effect in a preferred embodiment example 1 of the subject matter of the invention, which is characterized according to the further invention, that several drums rotatably arranged on the circumference of a cage rotatable about a horizontal axis and through Drive means around their own axes relative to the cage are set in rotation that in each case an anode is arranged in the drum, its position relative to the drum cavity or the bulk material remains unchanged, and that there is a stationary one below the orbit of the drums and anodes Anode and underneath an evaporator arrangement are located.
Würde bei e.ner derartigen Anordnung mit der in der US-PS 3 926 147 beschriebenen Potentialvertei1ung gearbeitet, so würde sich auch in den Zwischenräumen zwischen den einzelnen Trommeln eine Glimmentladung ausbreiten, die die geschilderten nachteiligen Folgen hat. Ganz abgesehen davon würde es bei der Lagerung mehrerer Trommeln in einem drehbaren Käfig zu erheblichen Schwierigkeiten führen, die bekannte Potentialvertei1ung herbeizuführen.Would such an arrangement with that in the US-PS 3 926 147 described potential distribution worked so a glow discharge like the one described would also spread in the spaces between the individual drums has adverse consequences. Quite apart from that, when storing several drums in one rotatable one Cage lead to significant difficulties that to bring about known potential distribution.
Zwei Ausführungsbeispiele des Erfindungsgegenstandes werden nachfolgend anhand der Figuren 1 bis 3 näher beschrieben.Two embodiments of the subject matter of the invention are described in more detail below with reference to FIGS. 1 to 3.
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- iris zeigen: - show iris:
Figur 1 eine Vorrichtung mit nur einer Trommel,Figure 1 shows a device with only one drum,
Figur 2 eine Vorrichtung mit mehreren Trommeln, die an einem drehbaren Käfig befestigt sind, undFIG. 2 shows a device with several drums which are attached to a rotatable cage, and
Figur 3 einen Längsschnitt durch eine der Trommeln aus Figur 2.FIG. 3 shows a longitudinal section through one of the drums from FIG.
In Figur 1 ist eine Vakuumkammer 1 dargestellt, die an Masse gelegt ist, und über eine Saugleitung 3 mit einem nicht gezeigten Vakuumpumpsatz verbunden ist. Im oberen Teil der Vakuumkammer 1 befindet sich eine drehbare Trommel 4 mit durchbrochenen Wänden 5 für die Aufnahme und Umwälzung von Substraten 6, die ein Schüttgut bilden, das mit einer Oberzugsschicht versehen werden soll. Die durchbrochenen Wände sind als Gitterwände bzw. Drahtnetze ausgeführt, was in der Zeichnung der Einfachheit halber nicht besonders hervorgehoben ist.In Figure 1, a vacuum chamber 1 is shown, which is connected to ground is laid, and is connected via a suction line 3 to a vacuum pump set, not shown. In the upper part of the Vacuum chamber 1 is a rotatable drum 4 with perforated walls 5 for the reception and circulation of Substrates 6, which form a bulk material that is to be provided with a top coat. The broken walls are designed as lattice walls or wire nets, which is not particularly emphasized in the drawing for the sake of simplicity is.
Im unteren Teil der Vakuumkammer 1 befindet sich eine Verdampferanordnung 7, die aus mehreren einzelnen Verdampfern besteht, die in Blickrichtung hintereinander angeordnet sind, so daß' jeweils nur der vorderste Verdampfer si chtbar ;i st. Die Anzahl der Verdampfer wird dabei so groß gewählt, daß über die Länge der Trommel 4 ein nahezu gleichmäßiger Dampfstrom erzeugbar ist.In the lower part of the vacuum chamber 1 there is an evaporator arrangement 7, which consists of several individual evaporators, which are arranged one behind the other in the direction of view, so that 'only the foremost evaporator can be seen ; is. The number of evaporators is selected to be so large that an almost uniform steam flow can be generated over the length of the drum 4.
Innerhalb der Trommel 4 befindet sich eine plattenförmige Anode 8, die nahezu den gesamten diametralen InnenquerschnittInside the drum 4 there is a plate-shaped one Anode 8, which has almost the entire diametrical inner cross-section
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der Trommel 4 einnimmt und an eine Spannung von + 2 bis 5 kV gegenüber Masse gelegt ist. Die Anode 8 ist auf ihrer Rückseite 8a mit einer gleichfalls auf Massepotential befindlichen Dunkelraumabschirmung 9 versehen, die die Ausbildung einer Glimmentladung auf der Rückseite 8a verhindert. Die plattenförmige Anode 8 liegt in einer horizontalen Ebene und wird in dieser Lage durch ein Gewicht 10 gehalten, das eine Mitdrehung der Anode 8 verhindert, wenn sich die Trommel 4 um ihre Achse 11 dreht.the drum 4 occupies and is connected to a voltage of + 2 to 5 kV with respect to ground. The anode 8 is on its back 8a is also provided with a dark room shield 9, which is also at ground potential, which the training a glow discharge on the rear side 8a prevented. the plate-shaped anode 8 lies in a horizontal plane and is held in this position by a weight 10 that prevents the anode 8 from rotating when the Drum 4 rotates about its axis 11.
Zwischen der Verdampferanordnung 7 und der Trommel 4 ist eine weitere Anode 12 angeordnet, die aus einem Rahmen 12a mit mehreren Anodendrähten 12b besteht und infolgedessen eine Art Gitter bildet, das jedoch den Dampfdurchtritt ausgehend von der Verdampferanordnung 7, nicht merklich behindert. Die Anode 12 befindet sich gleichfalls auf einem positiven Potential von 2 bis 5 kV gegenüber Masse Z. Aufgrund dieser Potential verteil ung befinden sich die Vakuumkammer 1 und die Trommel 4 auf einem gegenüber den beiden Anoden 8 und 12 negativen aber im wesentlichen gleichen (-^tential und sind infolgedessen - relativ gesehen ■ als Katode geschaltet. Dadurch wird erreicht, daß Glimmentladungen nur noch in den Räumen 13 und 14 stattfinden, d.h. zwischen der Anode 12 und der Trommel 4, zwischen der Anode 12 und der Verdampferanordnunc 7, sowie in der unteren Hälfte der Trommel, d.h. im Bereich der Substrate 6 bis zur Anode 8. Es. handelt sich also um drei Plasmazonen, die sich hinsichtlich ihrer Wirkung auf den Eeschichtungsvorgang wesentlich ergänzen, d.h. die Ausbildung des Plasmas ist auf dienenigen Räume beschränkt, in denen ein Plasma benötigt wird, so daß sich eine gute Leistungsbilanz einstellt,A further anode 12 is arranged between the evaporator arrangement 7 and the drum 4, which consists of a frame 12a with several anode wires 12b and consequently forms a kind of grid which, however, does not noticeably impede the passage of steam from the evaporator arrangement 7. The anode 12 is also at a positive potential of 2 to 5 kV with respect to ground Z. Due to this potential distribution, the vacuum chamber 1 and the drum 4 are at a negative but essentially the same potential as the two anodes 8 and 12 (- ^ tential and are consequently -. relatively ■ connected as cathode is thereby achieved that glow discharges take place only in the spaces 13 and 14, ie between the anode 12 and the drum 4, between the anode 12 and the Verdampferanordnunc 7, and in the lower half of the drum, ie in the area of the substrates 6 up to the anode 8. There are thus three plasma zones which essentially complement each other in terms of their effect on the coating process, ie the formation of the plasma is limited to the rooms in which a Plasma is required so that a good power balance is achieved,
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Wäre der Raum 13 beispielsweise frei von Plasma, so träfen die Dampfpartikel praktisch ohne Ionisierung auf die Substrate auf, so daß der Beschichtunasprozeß ein normaler Aufdampfprozeß wäre.If the space 13 were free of plasma, for example, then it would hit the vapor particles with practically no ionization on the Substrates on, so that the Beschichtunasprocess would be a normal vapor deposition process.
Die Plasmaerzeugung "außerhalb der Trommel 4, die die Wirkung eines Faraday' sehen Käfigs hat, wird durch die Anode 12 bewirkt. Ohne diese Anode wäre eine Ausbreitung des Plasmas vom Raum 14 bis zur Verdampferanordnung 7 jedenfalls nicht möglich. Die Anode 12 ist von einer weiteren Dunkelraumabschirmung 15 umgeben, die sich durch metallische Verbindung gleichfalls auf Massepotential befindet. Die Abstützung der Anode 12 gegenüber der Dunkelraumabschirmung erfolgt über nicht gezeigte Stützi solatoren..The plasma generation "outside the drum 4, which has the effect of a Faraday 'see cage is effected by the anode 12. Without this anode, the plasma would in any case spread from the space 14 to the evaporator arrangement 7 not possible. The anode 12 is of a further dark room shield 15, which is also at ground potential due to a metallic connection. The support the anode 12 opposite the dark room shield takes place via support insulators (not shown).
Figur- 2 zeigt die Anordnung mehrerer Trommeln 4 mit identisch« Einbauten in Figur 1 in äqui-distanter Verteilung auf dem Umfang eines drehbaren Käfigs 16, der lediglich durch seinen strichpunktierten Teilkreis angedeutet ist. Der Käfig 16 ist um eine horizontale Achse 17 drehbar, in deren Nähe auch die Verdampferanordnung 7 angebracht ist, über der sich die Anode 12 befindet. Auf diese Weise entsteht eine nach oben gerichtete ionisierte Dampfkeule,'so daß die gewünschte lonenplattierung erzeugt wird.Figure 2 shows the arrangement of several drums 4 with identical « Internals in Figure 1 in an equidistant distribution on the Circumference of a rotatable cage 16, which is only indicated by its dot-dashed pitch circle. Of the Cage 16 is rotatable about a horizontal axis 17, in which Near the evaporator arrangement 7 is also attached, above which the anode 12 is located. In this way a upward ionized steam lobe, 'so that the desired ion plating is generated.
Während des BeschichtungsVorganges bewegen sich sämtliche Trommeln 4 mittels des Käfigs 16 durch den Raum oberhalb der Anode 12, wobei eine kontinuierliche Drehung in Form einer Evolventenbewegung durch nicht gezeigte Antriebsmittel um die Achsen 11 bewirkt wird. Ein derartiger Antrieb kann inAll of them move during the coating process Drums 4 by means of the cage 16 through the space above the anode 12, with a continuous rotation in the form of a Involute movement by drive means not shown the axes 11 is effected. Such a drive can in
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seiner einfachsten Form aus Zahnrädern bestehen, die auf den Achsen 11 angeordnet sind und um die eine Antriebskette herumgeführt ist. Durch das Verhältnis der Kettengeschwindigkeit zur Umlaufgeschwindigkeit des Käfigs 16 läßt sich die Zahl der Trommel Umdrehungen pro Käfigumdrehung einstellen. Diese Antriebsart ist jedoch für sich genommen Stand der Technik, so daß weitere Erläuterungen hierzu entbehrlich sind.its simplest form consist of gears which are arranged on the axles 11 and around which a drive chain is shown around. By the ratio of the chain speed the speed of rotation of the cage 16 the number of drum revolutions per cage revolution can be set. However, this type of drive is in itself taken prior art so that further explanation are dispensable for this.
In Figur 3 sind gleiche Teile wie bisher mit gleichen Bezugszeichen versehen. Deutlicher als in Figur 2 ist jedoch der Käfig 16 in Form zweier Kreisringe 16a dargestellt, die über Speichen 16b mit der zentralen Achse 17 verbunden sind. Die Achsen 11 sind über Wälzlager 16c im Käfig 16 gelagert und bestehen aus einer koaxialen Anordnung eines metallischen Außenrohres 18 und der eigentlichen Achse 11, die durch eine Isolierhülse 19 elektrisch ν ο nein an der getrennt sind. Mit dem Außenrohr 18 sind die Trommel 14 und die Dunkelraumabschirmung 9 elektrisch leitend verbunden. Auf diese Weise ist es möglich, die Trommel 4 und die Dunkelraumabschirmung 9 über die Achse 11, den Käfig 16 und das Außenrohr 18 an f'assepotenti al zu legen, während die Anode 8 über die Achse 11 an ein gegenüber Masse positives Potential gelegt wird, was beispielsweise durch nicht gezeigte Schleifkontakte bewerkstelligt werden kann.In FIG. 3, the same parts as before are given the same reference numerals Mistake. More clearly than in Figure 2, however, the cage 16 is shown in the form of two circular rings 16a, the are connected to the central axis 17 via spokes 16b. The axles 11 are mounted in the cage 16 via roller bearings 16c and consist of a coaxial arrangement of a metallic Outer tube 18 and the actual axis 11, which are electrically separated by an insulating sleeve 19 ν ο no on the. With the outer tube 18 are the drum 14 and the dark room shield 9 electrically connected. In this way it is possible to use the drum 4 and the dark room shield 9 via the axis 11, the cage 16 and the outer tube 18 to put on f'assepotenti al, while the anode 8 via the axis 11 to a positive potential with respect to ground is placed, for example, by sliding contacts not shown can be done.
Speziell aus Figur 3 ergibt sich, daß der mechanische und elektrische Aufbau der gesamten Vorrichtung einfach und fertigungsgerecht ist. Zur Ausbildung unerwünschter Glimmentladungen außerhalb der hierfür benötigten Zonen kommt es nicht.Specifically from FIG. 3 it can be seen that the mechanical and electrical construction of the entire device is simple and is ready for production. For the formation of undesired glow discharges comes outside of the zones required for this it not.
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Claims (4)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823227717 DE3227717A1 (en) | 1982-07-24 | 1982-07-24 | DEVICE FOR IONING PLATTERING GOODS |
GB08318847A GB2124259B (en) | 1982-07-24 | 1983-07-12 | Apparatus for the ion-cladding of bulk material |
FR8312185A FR2530671A1 (en) | 1982-07-24 | 1983-07-22 | APPARATUS FOR ION BOMBING PLATING OF GRANULAR MATERIALS OR OTHER BULK MATERIALS |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823227717 DE3227717A1 (en) | 1982-07-24 | 1982-07-24 | DEVICE FOR IONING PLATTERING GOODS |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3227717A1 true DE3227717A1 (en) | 1984-01-26 |
Family
ID=6169249
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19823227717 Withdrawn DE3227717A1 (en) | 1982-07-24 | 1982-07-24 | DEVICE FOR IONING PLATTERING GOODS |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3227717A1 (en) |
FR (1) | FR2530671A1 (en) |
GB (1) | GB2124259B (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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- 1983-07-22 FR FR8312185A patent/FR2530671A1/en active Granted
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4116161A (en) * | 1976-11-12 | 1978-09-26 | Mcdonnell Douglas Corporation | Dual tumbling barrel plating apparatus |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2124259B (en) | 1985-12-04 |
GB2124259A (en) | 1984-02-15 |
GB8318847D0 (en) | 1983-08-10 |
FR2530671A1 (en) | 1984-01-27 |
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