DE3206600A1 - FIXING STRUCTURE FOR FIXING OPTICAL FIBERS AND LENSES OF THE GRADIENT TYPE AND METHOD FOR PRODUCING SUCH A FIXING STRUCTURE AND DEVICE WITH SUCH A FIXING STRUCTURE - Google Patents

FIXING STRUCTURE FOR FIXING OPTICAL FIBERS AND LENSES OF THE GRADIENT TYPE AND METHOD FOR PRODUCING SUCH A FIXING STRUCTURE AND DEVICE WITH SUCH A FIXING STRUCTURE

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DE3206600A1
DE3206600A1 DE19823206600 DE3206600A DE3206600A1 DE 3206600 A1 DE3206600 A1 DE 3206600A1 DE 19823206600 DE19823206600 DE 19823206600 DE 3206600 A DE3206600 A DE 3206600A DE 3206600 A1 DE3206600 A1 DE 3206600A1
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keyway
optical fiber
lens
fixation structure
side walls
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Takashi Nishinomiya Kishimoto
Tetsuya Amagasaki Yamasaki
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Description

-πι Fixierungsstruktur zum Fixieren von optischen Fasern und Linsen des Gradiententyps und Verfahren zur Herstellung einer derartigen Fixierungsstruktur sowie Vorrichtung mit einer derartigen Fixierungsstruktur 5-πι fixation structure for fixing optical fibers and Lenses of the gradient type and method for producing such a fixation structure and device with such a fixing structure 5

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Fixierungsstruktur zum Fixieren von optisehen Fasern und Linsen, auf ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Fixierungsstruktur sowie auf eine Vorrichtung mit einer derartigen Fixierungsstruktur.The present invention relates to a fixation structure for fixing optical fibers and lenses a method for producing such a fixing structure and a device with such a Fixation structure.

Optische Vorrichtungen, beispielsweise optische Verbinder, optische Schalter und dergl . spielen derzeit bei Systemen oder Planungen für Systeme für die Kommunikationstechnik unter Verwendung von optischen Fasern eine bedeutsame Rolle. Aus diesem Grunde ist eine Vielzahl von Vorrichtungen für betreffende Zwecke vorgeschlagen worden. Beispielsweise wurde eine Vorrichtung vorgeschlagen, in der sich gegenüberstehende Enden von optischen Fasern relativ zueinander durch mechanische Mittel bewegt werden. Eine derartige Vorrichtung wirft jedoch Probleme bezüglich der Zuverlässigkeit und der Lichtverluste in den Verbindungsbereichen auf. Es wurde ebenfalls eine Technik vorgeschlagen, bei der unter Verwendung einer Linse des Gradiententyps (reflektierende Linse) parallele Lichtstrahlen, die aus Licht gewonnen werden, das durch eine optische Faser übertragen wird, in den Kern einer optischen Faser hinein gelenkt werden. Diese herkömmliche Technik erfordert jedoch eine teuere metallische Vorrichtung zum Hintereinanderschalten der Achse der optischen Faser mit der Achse der Gradientenlinse oder zum Hintereinanderschalten der Achsen von Gradientenlinsen. Das Hintereinanderschalten der optischen Faser mit der Gradientenlinse oder der Gradientenlinse mit der anderen Gradientenlinse erfordert eine extrem hohe Genauigkeit. Es wurde eine experimentelle Technik angewendet, um eine genaue Hintereinanderschaltung zu ermöglichen, in welcher die Achse der optischen Faser und die Achse der Gradienten-Optical devices, such as optical connectors, optical switches and the like. currently play in systems or planning for systems for communication technology using optical fibers plays a significant role. Because of this, a variety of devices has been proposed for relevant purposes. For example a device has been proposed in which opposing Ends of optical fibers are moved relative to one another by mechanical means. Such a device however, poses problems in terms of reliability and the light losses in the connection areas. A technique has also been proposed in which, using a gradient type lens (reflective Lens) parallel rays of light obtained from light transmitted through an optical fiber, be directed into the core of an optical fiber. However, this conventional technique requires an expensive one metallic device for connecting the axis in series of the optical fiber with the axis of the gradient lens or for connecting the axes of gradient lenses one after the other. The cascading of the optical fibers with the gradient lens or the gradient lens with the other Gradient lens requires extremely high accuracy. An experimental technique was used to create a to enable exact series connection in which the axis of the optical fiber and the axis of the gradient

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-IM--IN THE-

pF Verbinder soll dabei
relativ einfach herzustellen sein.
ßie Linse des Gradiententyps kann aus einem 1ichtdurchläs-
p F connector should be included
be relatively easy to manufacture.
The gradient-type lens can be made of a translucent

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Ig g,ii!ieciBargbfjli.sgb§ Sße&fiiltQBg^^is B§fI§?ft§fflssiip4i?§&-fe9fty d..Ig g, ii! IeciBargbfjli.sgb§ Sweet & fiiltQBg ^^ is B§f I§? Ft§fflssiip4i? § & -fe9fty d ..

g wi e,ef ߧg wi e, ef ߧ

stehen, derart versehen ist, daß die Keilnuten Seitenwänce haben, v;el"che in i hv^bif cTljj^Crh (rlriat ^benen ( 1 "j 1 ) d-vs Silizium-Einkristalls korrespondieren. Gemäß einem anderen Aspsirc stand, is provided in such a way that the keyways have sidewalls , v; el "che in i hv ^ bif cTljj ^ Crh (rlriat ^ benen (1" j 1) d-vs silicon single crystal correspond. According to another Aspsirc

Herstellung einer derartigen Fixierungsstruktur die Durchführung eines anisotPopsRgi1 "AÄEsihrittes auf der Oberfls 5!@ ehe des Si 1 i zium-Einkri stall s in der Ebene (100) mit einer WQl?riBs!;es di@oedfig 8§fäe^iojasti;nde?iafe?änderdÄgh§ei dieser
ausgebildet iTsä§rh-Ab5t9B^ SflUsäeFoAihse.Äizvorggng kann
daoei mit ei Aedi fitߧC lex,ipns-Jinde^e^op?i?n*g-i yodei aer alka lischen Ätzsab§tBe.zP9S(iit;i«grKons$i9$ef @iind.rterden .
Production of such a fixation structure, the implementation of an anisotopopsRgi1 "AÄEsihrittes on the surface 5! @ Before the Si 1 i zium-Einkri stall s in the plane (100) with a WQl? RiBs!; E s di @ o edfig 8§fäe ^ iojasti ; nde? iafe? änddÄgh§ei this
trained iTsä§rh-Ab5t9B ^ SflUsäeFoAihse.Äizvorggng can
daoei with ei Aedi fitߧC lex, ipns-Jinde ^ e ^ op? i? n * gi yodei aer alka lischen Ätzsab§tBe.zP9S (iit; i «grKons $ i9 $ ef @iind. rt earth.

vten Keilnuten hat, welcne tieilnu-· ten Seitenwände in den Ebenen {"all) haben5 aus einer LinseThe fourth keyway has, which deeply grooved side walls in the planes ("all) have 5 from one lens

vI ch.ei evI ch.ei e

.cBiedspiel swei se wurde ein solcher optischer Verbinder
vorgeschlagen, in dem ein präzisionsgefertigtes Substrat
.cBiedspiel swei se was such an optical connector
proposed in which a precision engineered substrate

imi Qöiß reg food it&n VAf^imi Qöiß reg food it & n VAf ^

tels einer anisotropen Ätztechnik auf der Oberfläche eines Silizium-Einkristalls ausgebildet wurde. Diese Prozedur verwendet eine Fotomaske, die Nuten mit einer hohen Genauigkeit schaffen kann, so daß Vorteile dahingehend bestehen, daß eine Anzahl dieser Nuten mit einem V-förmigen Querschnitt mit einer hohen Genauigkeit bezüglich der Form und der örtlichen Beziehung zwischen den Nuten ausgebildet werden kann.by means of an anisotropic etching technique on the surface of a silicon single crystal. This procedure uses a photo mask which can create grooves with high accuracy, so that there are advantages that a number of these grooves having a V-shaped cross-section with a high accuracy in shape and the positional relationship between the grooves can be established.

Es wurde bereits ebenfalls ein optischer MuI tikern-Verbinder vorgeschlagen, in dem eine im Querschnitt V-förmige Nut zum Fixieren einer optischen Faser integral mit einer im Querschnitt V-förmigen Nut für einen Verbindungsstift auf einem gemeinsamen Substrat ausgebildet ist, um eine genaue Verbindung zwischen Steckern zu gestatten.An optical multi-core connector has also already been used proposed in which a cross-sectionally V-shaped groove for fixing an optical fiber integrally with an im Cross-section V-shaped groove for a connecting pin is formed on a common substrate to provide an accurate Allow connection between plugs.

In jedem Fall sind diese herkömmlichen Vorrichtungen mit Nachteilen behaftet, beispielsweise der Art, daß sich Staub auf den Endflächen der optischen Fasern absetzen kann, wobei ein Abstand zwischen diesen und damit eine Erhöhung des Verbindungsverlustes zustande kommt.In either case, these are conventional devices with Affected disadvantages, for example the way that dust can settle on the end faces of the optical fibers, with a distance between them and thus an increase in the Loss of connection comes about.

Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde eine Fixierungsstruktur zu schaffen, die das Hintereinanderschalten der Achse einer Linse des Gradiententyps mit der Achse einer optischen Faser oder der Achsen von Linsen des Gradiententyps mit extrem hoher Genauigkeit und auf leichte Art und Weise gestattet, und ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Struktur vorzuschlagen, welche Struktur derartThe present invention is based on the object of creating a fixation structure that can be connected in series the axis of a gradient type lens with the axis of an optical fiber or the axes of gradient type lenses with extremely high accuracy and in an easy manner, and a method for manufacturing a propose such structure, what structure such

beschaffen sein soll, daß sie mit niedrigen Kosten und leicht herstellbar ist. Ferner liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu schaffen, die eine derartige Struktur verwendet, welche leicht und mit einer guten Reproduzierbarkeit zusammenzubauen ist.should be such that it can be manufactured at low cost and easily. Further lies the present invention It is an object of the invention to provide an apparatus using such a structure which is lightweight and assemble with good reproducibility.

Desweiteren liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, einen optischen Schalter oder einen optischen Verbinder zu schaffen, der in der Lage ist, die Achse der optischen Faser mit derjenigen der Linse vom GradiententypAnother object is the present invention to provide an optical switch or connector that is capable of rotating the axis of the optical fiber with that of the gradient type lens

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mit einer hohen Genauigkeit hinein anderzuschalten, wobei Verbindungsverluste durch Lichtdiffusion sogar dann vermieden werden, wenn sich ein Zwischenraum zwischen den sich gegenüberstehenden Enden der Linsen des Verbinders einstellt. Der optische Schalter oder Verbinder soll dabei relativ einfach herzustellen sein.with a high degree of accuracy into other switching, wherein Connection losses due to light diffusion are even then avoided be when there is a space between themselves sets opposite ends of the lenses of the connector. The optical switch or connector should be used be relatively easy to manufacture.

Gemäß der Aufgabenstellung für die vorliegende Erfindung ist die Fixierungsstruktur zum Fixieren der optischen Faser und der Linse des Gradiententyps aus einem Silizium-Einkristall hergestellt, wobei die Struktur eine Oberfläche in einer Ebene (100) davon hat und mit einer ersten Keilnut und einer zweiten Keilnut, die miteinander in Verbindung stehen, derart versehen ist, daß die Keilnuten Seitenwände haben, welche in ihren Ebenen mit Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren. Gemäß einem anderen Aspekt für die vorliegende Erfindung beinhaltet ein Verfahren zur Herstellung einer derartigen Fixierungsstruktur die Durchführung eines anisotropen Ätzschrittes auf der Oberfläehe des Silizium-Einkristalls in der Ebene (100) mit einer Ätzmaske, die eine vorbestimmte Schablone, die auf dieser ausgebildet ist, hat. Der anisotrope Ätzvorgang kann dabei mit einer Ätzsubstanz, wie beispielsweise einer alkalischen Ätzsubstanz oder dergl . ausgeführt werden.According to the objective for the present invention is the fixing structure for fixing the optical fiber and the gradient type lens made of a silicon single crystal the structure having a surface in a plane (100) thereof and having a first keyway and a second keyway communicating with each other is provided such that the keyways are side walls have, which in their planes with planes (111) of the silicon single crystal correspond. According to another aspect of the present invention includes a method for Manufacture of such a fixation structure the implementation an anisotropic etching step on the surface of the silicon single crystal in the plane (100) with a An etching mask having a predetermined template formed thereon. The anisotropic etching process can with an etching substance such as an alkaline one Etching substance or the like. are executed.

In Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt für die vorliegende Erfindung besteht eine Verbindungsvorrichtung aus einer Fixierungsstruktur, die eine Oberfläche in der Ebene (100) mit ersten und zweiten Keilnuten hat, welche Keilnuten Seitenwände in den Ebenen (111) haben, aus einer Linse des Gradiententyps, welche mit den Seitenwänden der ersten ■ Keilnut verbunden ist, und aus einer optischen Faser, die mit den Seitenwänden der zweiten Keilnut verbunden ist, wobei die Linse und die optische Faser, falls dies notwendig ist, an deren entsprechenden Enden miteinander verbunden sind.In accordance with another aspect for the present Invention consists of a connecting device a fixation structure that has a surface in the plane (100) with first and second keyways which has keyways Side walls in the planes (111) have, from a lens of the gradient type, which with the side walls of the first ■ Keyway, and an optical fiber connected to the sidewalls of the second keyway, the lens and the optical fiber, if necessary, connected to each other at their respective ends are.

In Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt für die vorlie-In accordance with a further aspect for the present

genden Erfindung enthält ein Verfahren zum Fixieren einer Linse und einer optischen Faser auf einer derartigen Fixierungsstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung das Fixieren der Gradientenlinse in der ersten Keilnut und der optischen Faser in der zweiten Keilnut sowie - wenn dies erforderlich ist - das Verbinden der Endbereiche der Linse und der optischen Faser miteinander.The invention includes a method of fixing a lens and an optical fiber on such a fixing structure in accordance with the present invention, fixing the gradient lens in the first keyway and the optical Fiber in the second keyway and, if necessary, joining the end portions of the lens and the optical Fiber to each other.

In Übereinstimmung mit einem weiteren Aspekt für die vorliegende Erfindung ist die Verbindungsvorrichtung, welche die Konstruktion des Typs aufweist, der weiter oben kurz beschrieben wurde und im folgenden im einzelnen beschrieben wird, mit einem Teil für optische Vorrichtungen zusammengebaut.
15
In accordance with another aspect of the present invention, the connector, having the construction of the type briefly described above and described in detail below, is assembled with a part for optical devices.
15th

Im folgenden wird die Erfindung anhand mehrerer, Ausführungsbeispiele für die Erfindung betreffender Figuren im einzelnen beschrieben.In the following the invention is based on several, exemplary embodiments for the figures relating to the invention are described in detail.

Fig. 1 zeigt eine perspektivische Ansicht eines Ausführungsbeispiels für eine Substratstuktur gemäß der vorliegenden Erfindung.Fig. 1 shows a perspective view of an embodiment for a substrate structure according to the present invention.

Fig. 2A u. Fig. 2B zeigen jeweils eine Draufsicht bzw. eine Vorderansicht der Substratstruktur gemäß Fig. 1.2A and 2B show a plan view and a plan view, respectively Front view of the substrate structure according to FIG. 1.

Fig. 3A, Fig. 4A, Fig. 5A, Fig. 7A u. Fig. 8A zeigen jeweils eine Draufsicht, welehe Draufsichten jede für sich verschiedene Ausführungsbeispiele für Substrat-Strukturen gemäß der vorliegenden Erfindung darstel1 en.3A, 4A, 5A, 7A and 8A show, respectively a plan view, which plan views each individually different exemplary embodiments for substrate structures represent according to the present invention.

Fi. 3B, Fig. 4B, Fig. 5B, Fig. 7B u. Fig. 8B zeigen jeweils eine Vorderansicht der betreffenden Substratstruktür gemäß Fig. 3A, Fig. 4A, Fig. 5A, Fig. 7A bzw. Fig. 8A.Fi. 3B, 4B, 5B, 7B and 8B show, respectively a front view of the substrate structure in question according to FIG. 3A, FIG. 4A, FIG. 5A, FIG. 7A or FIG. 8A.

Fig. 6 zeigt eine perspektivische Ansicht eines weiterenFig. 6 shows a perspective view of another

J^W^*J ^ W ^ *

Fig. 18 uAFig. 18 and others

\im®&0t£nv§gl i®mv4e§iii§iu§4y§9att-fch V&ri arrcen 1 η der Konstruktion einer erfindungsgemäßen Vorrich-Fi. 9A,tffflg.v8ßaHscfiä8iiSßtz^ig(gp jeweils Querschnittsan- \ im® & 0t £ nv§gl i®mv4e§iii§iu§4y§9att-fch V & ri arrcen 1 η the construction of a device according to the invention. 9A, tffflg.v8ßaHscfiä8iiSetztz ^ ig (gp each cross-section

sichten von Substratstrukturen, wobei die einzelnen Fig. 20 zS^tiStBedifirötfftte^^flndiffrS^iiiSiffsgiigifiV^Hf gemäßsifting through substrate structures, with the individual Fig. 20 zS ^ tiStBedifirötfftte ^^ flndiffrS ^ iiiSiffsgiigifiV ^ Hf according to

strahlen durch eine Gradientenlinse und eine opti-Fi g. 9Cs§[e§gf agineyiDfByf-ßäßht, die ein Muster, das auf dershine through a gradient lens and an opti-fi G. 9Cs§ [e§gf agineyiDfByf-ßäßht, which is a pattern that is based on the

Substratstruktur gemäß Fig. 9B ausgebildet ist, g. 21 z4f^ij'§n§ii?iauäi5tslisiCiTC2 die einen MatrixschalterSubstrate structure according to FIG. 9B is formed, g. 21 z4f ^ ij'§n§ii? Iauäi5tslisiCiTC 2 the one matrix switch

darstellt; der die V e r ■> i π d s r - S u b s ΐ r a ΐ struktur gemäß Fig. 10Äe^e<jfib] ^ä'ffr^iJ'FiauffiS-iiiMuie.jniedfriiGO-pdpl atte aus einemrepresents; der die V e r ■> i π d s r - S u b s ΐ r a ΐ structure according to Fig. 10Äe ^ e <jfib] ^ ä'ffr ^ iJ'FiauffiS-iiiMuie.jniedfriiGO-pdpl atte from a

Silizium-Einkristall zur Herstellung der Fixierungs F-ig. 22 z&i§vHMeg§m$>iia-£ruN§Tlä?se$Ue® £&fäy4NV&ng vsran- Silicon single crystal for producing the fixation F-ig. 22 z & i§vHMeg§m $> iia- £ ruN§Tlä? Se $ Ue® £ & fäy4NV & ng vsran-

s c h a u1i c hi 3 in der ein P a a r ν on G r a d i e ηie η linsen Fig. lO^i-ye Μ scha u1i ch i 3 in which a pair ν on G radie η i e η lenses Fig. lO ^ i-ye Μ

sgjurf |J.ef,s^gl^inj^ der Substratstruktur gemäß der vor liegenden Erfindung veranschaulicht werden. s gjurf | J.ef, s ^ gl ^ inj ^ of the substrate structure according to the present invention are illustrated.

Fig. 23 zeigt eine Darstei\uno3 die eine Konstruktionsvari-Fig. 1 0ßR i <g$r §Λ §§h M W$ i?-3 f h$s f1 ecTe is "*f ί Π^ί^ Γ#*ί uf ο i"r" *c h t#tif§ffl ^UiSlgrr-a^uf ^nsf^fiiiii^ef^^fittffeiSefi1^ F1Q · IOC.Fig. 23 shows a representation 3 which shows a construction variant. 1 0ß R % £ i <g $ r §Λ §§h MW $ i? -3 fh $ sf 1 e cTe i s "* f ί Π ^ ί ^ Γ # * ί u f ο i" r "* c h t # tif§ffl ^ UiSlgrr-a ^ uf ^ nsf ^ fiiiii ^ ef ^^ fittffeiSefi 1 ^ F 1 Q · IOC.

FIg. 24 zeigt eine Darstei 1 ung 5 die einen Zustand veraii-FIg. 24 shows a representation 5 which veraii-

Vn fäi@ -c-P i9cß 7-Pti VMn 'U^Sri ¥e ie0 fid SiVf f vof- §äa nä§f e häta ύ§ξ p ^ι^ΐ,ϊ-ai^^im^f^, ^ftb# i äWc η §teäit;eL?^iftH^^eil|(Ufn5Sidie^h^sbs|:iraVn fäi @ -cp i9cß 7-Pti VMn 'U ¥ ^ Sri ei e 0 fid SiVf f vof- § ä ä to §feh ä t a ύ§ξ p ^ ι ^ ΐ, ϊ-ai f ^^ ^ ^ in , ^ ftb # i äWc η §teäit ; e L? ^ iftH ^^ eil | ( Ufn5 S id i e ^ h ^ s bs |: i ra

s§[|rö<kiHf QSePfc£ff§t3ί?#Ιΐί^1Pnt9mfJfeidief vViVdAgenden ©ο Erfindung veranschaulicht sind.s§ [| rö <kiHf QSePfc £ ff§t3ί? # Ιΐί ^ 1 P n t9mfJfei d ief vViVdAgend © ο invention are illustrated.

Fig. 25 zeigI ei ηe ρersρektiyi schs Ansicht, die ei ηeη οjti Fig. 11 siieii§ts§ä@^t.Swe-f(Sleiiin§itft;t5.apfi3[?tht -erfFig. 25 shows I ei ηe ρe r sρektiyi schs view, which ei ηeη ο j ti Fig. 11 siieii§ts§ä@^t.Swe-f (S l eiiin§itft; t 5.apf i 3 [? Tht -erf

net sind, wobei die optischen Fasern a- die mit den Fig. 1 2Gszfidtl4ne4ßii iP^i?P^it|3iyritfi:Aiesftptf9i cM $£rr<£ $ net , where the optical fibers a - those with the Fig. 1 2Gszfidtl4ne4ßii iP ^ i? P ^ it | 3iyritfi: Aiesftptf 9 i cM $ £ rr <£ $

irgeQiiägrfdinvOÜ -V-förmigen Keilnuten, die in der Grundplatte ausgebildet sind5 fixiert sind und wo F i g . 1 3bÄ-Bi(§-i;fl ep^e5IQyefjsCjbfirjiyt sg^^hrt: ,ΚέΦΐ^ιίΐ eäirgeQiiägrfdinvOÜ -V-shaped keyways that are formed in the base plate 5 are fixed and where F ig. 1 3bÄ-Bi (§-i; fl ep ^ e 5 IQyefjsCjbfirjiyt sg ^^ hrt:, ΚέΦΐ ^ ιίΐ e ä

32056003205600

in dem eine im Querschnitt V-förmige Keilnut mitin which a cross-sectionally V-shaped keyway with

einer darüber!iegenden Fotolackschicht unmittelbar nach der Vollendung des Ätzschrittes zustande gekommen ist, veranschaulicht ist.
5
an overlying photoresist layer came about immediately after the completion of the etching step, is illustrated.
5

Fig. 14A u. Fig. 14B zeigen jeweils eine Draufsicht bzw. eine Seitenansicht der Substratstruktur, bei der eine Gradientenlinse und eine optische Faser in den im Querschnitt V-förmigen Keilnuten, die in der Grundplatte gemäß Fig. 12 ausgebildet sind, fixiert sind .14A and 14B show a plan view and a plan view, respectively. Fig. 3 is a side view of the substrate structure with a gradient lens and optical fiber in Figs V-shaped keyways in cross section, which are in the Base plate according to FIG. 12 are formed, are fixed.

Fig. 14C u. Fig. 14D zeigen jeweils eine Querschnittsansicht, wobei die Zustände, in denen die Gradientenlinse und die optische Faser in den imQuerschnitt V-förmigen Keilnuten, die in der Grundplatte ausgebildet sind, gemäß Fig. 14A bzw. Fig. 14B fixiert sind, veranschaulicht sind.14C and 14D each show a cross-sectional view, being the states in which the gradient lens and the optical fiber in the cross section V-shaped keyways formed in the base plate are fixed as shown in FIGS. 14A and 14B, respectively are illustrated.

Fig. 15 zeigt eine Querschnittsansicht, wobei ein Zustand veranschaulicht ist, in dem die Gradientenlinse oder die optische Faser in der betreffenden im Querschnitt V-förmigen Keilnut, die in der Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung ausgebildet ist, fixiert ist.Fig. 15 is a cross-sectional view showing a state is illustrated in which the gradient lens or optical fiber in question in cross section V-shaped keyway formed in the substrate structure according to the present invention is, is fixed.

Fig. 16 zeigt eine Vorderansicht, wobei ein Zustand veranschaulicht wird, in dem ein Paar der Substratstrukturen derart miteinander verbunden ist, daß die im Querschnitt V-förmigen Keilnuten gemeinsam einen im Querschnitt angenähert quadratischen Hohlraum bilden, in dem die Gradientenlinse oder die optische Faser fi xi ert i st.Fig. 16 is a front view illustrating a state is, in which a pair of the substrate structures are connected to one another such that the im Cross-section of V-shaped keyways together form a cavity that is approximately square in cross-section, in which the gradient lens or the optical The fiber is fi xed.

Fig. 17 zeigt eine Darstellung, durch die ein Übertragungsweg für Licht durch die optischen Fasern und die Gradientenlinsen veranschaulicht wird.Fig. 17 is a diagram showing a transmission path for light through the optical fibers and the gradient lenses.

320*600 OL--: \'y-'r 320 * 600 OL--: \ 'y-'r

Fig. 18 u. Jig. 19 zeigen jeweils eine Darstellung, wobei Varianten des Übetragungsweges durch Varianten in der Konstruktion einer erfindungsgemäßen Vorrichtung veranschaulicht sind. ■-**Fig. 18 and Jig. 19 each show a representation, wherein Variants of the transmission path are illustrated by variants in the construction of a device according to the invention. ■ - **

Fig. 20 zeigt eine Darstellung, in der veranschaulichtFig. 20 is a diagram in which illustrates

wird, wie durch eine Laserdiode erzeugte Laserlichtstrahlen durch eine Gradientenlinse und eine optische Faser verlaufen.will, like laser light rays generated by a laser diode, pass through a gradient lens and an optical fiber.

Fig. 21 zeigt eine Draufsicht, die einen MatrixschalterFig. 21 is a plan view showing a matrix switch

darstellt, der die Verbinder-Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung benutzt.that shows the connector substrate structure according to FIG of the present invention used.

Fig. 22 zeigt eine Darstellung, die eine Vorrichtung veranschaulicht, in der ein Paar von Gradientenlinsen miteinander verbunden sind, wobei insgesamt drei optische Fasern an den betreffenden Gradientenlinsen fi xi ert sind.Fig. 22 is a diagram illustrating an apparatus in which a pair of gradient lenses are interconnected, with a total of three optical fibers are fi xed on the gradient lenses in question.

Fig. 23 zeigt eine Darstellung, die eine Konstruktionsvariante veranschaulicht, bei der ein Paar von Vorrichtungen gemäß Fig. 22 miteinander verbunden sind.FIG. 23 is a diagram illustrating a construction variant in which a pair of devices according to FIG. 22 are connected to one another.

Fig. 24 zeigt eine Darstellung, die einen Zustand veranschaulicht, in dem eine Vielzahl von Verbindungsvorrichtungen mit-Haibspiegelη angeordnet sind, durch welche Halbspiegel Licht oder Lichtstrahlen in verschiedene Übertragungswege umgelenkt werden.FIG. 24 is a diagram illustrating a state in which a plurality of connecting devices with half mirror η are arranged by which half mirror light or light rays are deflected into different transmission paths.

Fig. 25 zeigt eine perspektivische Ansicht, die einen optischen Schalter veranschaulicht, in dem drei Paare von Gradientenlinsen und optischen Fasern angeordnet sind, wobei die optischen Fasern, die mit den Gradientenlinsen verbunden sind, in betreffenden, im Querschnitt V-förmigen Keilnuten, die in der Grundplatte ausgebildet sind, fixiert sind und wobei ein Prisma in einer dritten Keilnut angebrachtFig. 25 is a perspective view illustrating an optical switch in which three pairs of gradient lenses and optical fibers are arranged, the optical fibers connected to the Gradient lenses are connected, in respective, V-shaped cross-sectional keyways formed in the base plate are fixed and a prism is mounted in a third keyway

-19--19-

ist, die derart ausgebildet ist, daßsie mit den anderen, im Querschnitt V-förmigen Keilnuten in Verbindung steht.is, which is designed such that they with the other, in cross-section V-shaped keyways in connection.

Fig. 26 zeigt eine Draufsicht des optischen Schalters gemäß Fig. 25.FIG. 26 shows a plan view of the optical switch according to FIG. 25.

Fig. 27 zeigt eine Draufsicht, die einen optischen SchalterFig. 27 is a plan view showing an optical switch

für einen Computerverbund oder dergl . veransehaulicht.for a computer network or the like. visualized.

Fig. 28 zeigt eine Querschnittsansicht, die eine Substratstruktur, in der eine Keilnut einen U-förmigen Querschnitt aufweist, mit einer optischen Faser oder einer Gradientenlinse, die darin derart fixiertFig. 28 is a cross-sectional view showing a substrate structure in which a keyway has a U-shaped cross section with an optical fiber or a gradient lens that is fixed therein in this way ist, daß sie die Seitenwände der Keilnut berührt, veranschaulicht.is that it touches the side walls of the keyway, illustrated.

Fig. 29 zeigt eine perspektivische Ansicht eines optischen Verbinders in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung.Fig. 29 shows a perspective view of an optical Connector in accordance with the present invention.

Fig. 30 u. Fig. 32 zeigen jeweils eine Draufsicht, die einen optischen Verbinder veranschaulicht, der die Substratstruktur gemäß Fig. 29 benutzt.30 and 32 each show a plan view illustrating an optical connector employing the Substrate structure according to FIG. 29 is used.

Fig. 31 zeigt eine Querschnittsansicht des optischen Verbin ders gemäß Fig. 30.Figure 31 shows a cross-sectional view of the optical connector ders according to FIG. 30.

Die Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung besteht aus einer Grundplatte aus einem Silizium-Einkristall. Der Silizium-Einkristall, der für die Grundplatte verwendet werden soll, kann in im wesentlichen gleicher Weise hergestellt werden, wie dies für die Herstellung von Silizium-The substrate structure according to the present invention consists of a base plate made of a silicon single crystal. The silicon single crystal that is used for the base plate is to be produced can be produced in essentially the same way as for the production of silicon

Einkristallen für das Fertigen von Siliziumscheiben für integrierte Schaltkreise oder dergl. geschieht.Single crystals for manufacturing silicon wafers for integrated circuits or the like. happens.

Die Grundplatte, die für die Fixierungsstruktur gemäß derThe base plate, which is used for the fixation structure according to the

j ') ι: r* r* f ι ί ' j ') ι: r * r * f ι ί'

}1 yVrO/nliieö,g:.^p d egia iE^fύΦ'^Μ^ϊ $Φ rw;efi|tei iwfer deM sl©ilä ,e wlrdh Idieaik rite h r-v^rbejyeiet-jerfe, V^] js^e] e^e tO^^rvFsleä^ii^d h-&ctf*eidi/aj snüitn;dt£rrg £ä)£i— 3\PPa ](elrPOf)ü vd§£i £ i$ds*siiUimi-[Eg nfericSdtearl 1st ferries pioad iiferitlniDii«en . Grundplatte wird dann in einer Weise behandelt, wie dies im £ iep£>izfäJ ffeng Ji "Q /f oj sepndf π Mi pesshareitseti0 seünad wäird ,e;umc«si n'eV"} 1 yVrO / nliieö, g :. ^ Pd egia iE ^ f ύΦ '^ Μ ^ ϊ $ Φ rw ; efi | tei iwfer deM sl © ilä, e wlrdh Idieaik rite h rv ^ rbejyeiet-jerfe, V ^] js ^ e] e ^ e tO ^^ rvFsleä ^ ii ^ d h- & ctf * eidi / aj snüitn; dt £ rrg £ ä) £ i— 3 \ PPa ] (elrPOf) ü vd§ £ i £ i $ ds * siiUimi- [Eg nfericSdtearl 1st ferries pioad iiferitlniDii «en. The base plate is then treated in a way as would be in the £ iep £> izfäJ ffeng Ji "Q / f oj sepndf π Mi pesshare itseti 0 seünad, e; umc« si n'eV "

^Dn "Aiiztailiid ύ® le-i JWiTs 1Wfd SEOeiXinist haffetn£^ Dn "Aiiztailiid ύ® le-i JWiTs 1 Wfd SEOeiXin is haffetn £

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i EtfimaSmtq it'smtil e-i EtfimaSmtq it'smtil e-

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PrI 9d VeafdiS e/r$ef iJeiliaitjyseeBpei/te pdenafd etfei S D dPii-it^mi/V^jWigtiidiUnigszweg-k hsbefischen einer ersten iis Quer schnitt V-fÖrmigeo Keilnut 14 und einer zweiten isn Ouar-Pdi?« Kf 3 lli'Uitiefimkliiineiqede^ift-f ©υ^^ε^ίΐ deisw^dMat daiaSiei ePrI 9d VeafdiS e / r $ ef iJeiliaitjyseeBpei / te pdenafd etfei SD dPii-it ^ mi / V ^ jWigtiidiUnigszweg-k hsbefischen a first iis cross section V-shaped keyway 14 and a second isn Ouar-Pdi? ^ ift-f © υ ^^ ε ^ ίΐ deisw ^ dMat daiaSiei e

früsr (dijie ^iefifiiUie, As^^fefeituigddLeiri ÄCöiseKderneiiaenkiKteiislinutn auf · diAh , sednkeinearly s r (dijie ^ iefifiiUie, As ^^ fefeituigddLeiri ÄCöiseKderneiiaenkiKteiislinutn auf · diAh, sednkein

3© !WBi$eoti^iiii!?[hf nmg^riääienMßiTchifegeigdiäbeEtfägänVigferideiri^r ddei Äc ieä HMuOp.iriffibeönlaseiicphyslikäi/ldsebedi kekiteoaeifcfinäiikieli$ i η iördiröfegtifeffönd^öeAcMseidefc |egsSe2desE6radi3 ©! WBi $ eoti ^ iiii!? [Hf nmg ^ riääienMiTchifegeigdiabeEtfägänVigferideiri ^ r ddei Äc ieä HMuOp.iriffibeönlaseiicphyslikäi / ldsebedi kekiteoaeifcfinäiikieli $ i η iördiröfegtifeffönd ^ öeAcMseidefc | egsSe2desE6radi

die Linse gebondet ist oder ob sie in einem Abstand von der Linse angeordnet ist, sowie ein Beispiel gegeben sein kann, bei dem, wenn die Achse der optischen Faser nicht mit der der Gradientenlinse physikalisch korrespondiert, d. h. wenn die Achse der optischen Faser physikalisch nicht mit der der Linse übereinstimmt, Licht oder Lichtstrahlen, die über die optische Faser übertragen werden, in die Achse einer anderen gegenüberstehenden optischen Faser in unterschiedlichen Richtungen und/oder in unterschiedlichen Übertragungswegen durch eine oder mehrere Linsen des Gradienten typs, in denen Licht oder Lichtstrahlen, die von der optischen Faser übertragen werden, reflektiert werden, konzentriert oder fokussiert werden.the lens is bonded or whether it is spaced from the lens, as well as an example may be given, in which when the axis of the optical fiber does not physically correspond to that of the gradient lens, i.e. H. if the axis of the optical fiber does not physically coincide with that of the lens, light or rays of light passing through the optical fiber are transmitted in the axis of another opposing optical fiber in different directions and / or in different transmission paths through one or more lenses of the gradient types in which light or rays of light transmitted by the optical fiber are reflected, concentrated, or focused.

In Fig. 1 und Fig. 2A, Fig. 2B ist eine Grundplatte 10 aus einem Silizium-Einkristall gezeigt, die eine Oberfläche 12 hat, die mit ihrer Ebene mit der Ebene (100) des Silizium-Einkristalls korrespondiert. Die Grundplatte ist auf ihrer Oberfläche mit einer ersten Keilnut 14 und einer zweitenIn FIGS. 1 and 2A, 2B, a base plate 10 is made from a silicon single crystal, which has a surface 12 which corresponds with its plane with the plane (100) of the silicon single crystal. The base plate is on theirs Surface with a first keyway 14 and a second Keilnut 16 in einer Weise versehen, daß die erste Keilnut in Verbindung mit der zweiten Keilnut steht und daß deren Seitenwände in Korrespondenz mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls ausgerichtet sind. Die erste und die zwei· te Keilnut können V-förmig oder U-förmig sein oder irgendKeyway 16 provided in a manner that the first keyway is in communication with the second keyway and that the side walls thereof are aligned in correspondence with the planes (111) of the silicon single crystal. The first and the two te keyways can be V-shaped or U-shaped or any eine andere geeignete Form im Querschnitt aufweisen. Inhave another suitable shape in cross-section. In diesem Ausführungsbeispiel für die Konstruktion der Keilnuten ist die erste Keilnut derart ausgebildet, daß deren Achse genau auf die Achse der zweiten Keilnut ausgerichtet ist oder mit dieser korrespondiert, so daß die Achse einerThis embodiment for the construction of the keyways, the first keyway is formed so that their Axis is precisely aligned with or corresponds to the axis of the second keyway so that the axis of a

SO Linse des Gradiententyps, die in der ersten Keilnut anzubringen ist, mit der Achse der optischen Faser, die in der zweiten Keilnut anzubringen ist, genau ausgerichtet hintereinanderliegt, wie dies im folgenden im einzelnen beschrieben wird.SO gradient-type lens to be installed in the first keyway with the axis of the optical fiber inserted in the second keyway is to be attached, exactly aligned one behind the other, as will be described in detail below.

Die Konstruktion und Struktur der Keilnuten, die in der Oberfläche der Grundplatte auszubilden sind, können je nach Anwendungsfall der Substratstruktur fü eine VorrichtungThe design and structure of the keyways to be formed in the surface of the base plate may vary according to Application of the substrate structure for a device

variieren. Beispielsweise zeigen Fig. 3A bis einschließlich Fig. 8A eine Vielzahl von unterschiedlichen Ausführungsbeispielen für die Konstruktion oder Struktur der Keilnuten.vary. For example, Figures 3A up to and including 8A shows a variety of different embodiments for the construction or structure of the keyways.

Wie in Fig. 3A u. Fig. 3B gezeigt ist, sind ein erstes "V" oder eine erste V-förmige Keilnut 14 und ein zweites "V" oder eine zweite V-förmige Keilnut 16 auf der Oberfläche der Grundplatte 10 derart ausgebildet, daß die Achse der ersten Keilnut neben der Achse der zweiten Keilnut liegt.As shown in Figures 3A and 3B, a first "V" or first V-shaped keyway 14 and a second "V" are or a second V-shaped keyway 16 formed on the surface of the base plate 10 so that the axis of the first keyway is adjacent to the axis of the second keyway.

Fig. 4A u. Fig. 4B zeigen ein anderes Ausführungsbeispiel4A and 4B show another embodiment

für die Konstruktion und Struktur der Substratstruktur in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung. Ein erstes "V" oder eine erste V-förmige Keilnut 14 ist in dem mittlefor the design and structure of the substrate structure in accordance with the present invention. A first "V" or a first V-shaped keyway 14 is in the middle ren Bereich der Oberfläche 12 der Grundplatte 10 ausgebil det, und drei zweite "V" oder zweite V-förmige Keilnuten sind derart ausgebildet, daß sie mit der ersten Keilnut in Verbindung stehen. Die zweiten Keilnuten können in unterschiedlicher Weise angeordnet sein, beispielsweise derart,ren area of the surface 12 of the base plate 10 ausgebil det, and three second "V" or second V-shaped keyways are formed to mate with the first keyway in Connected. The second keyways can be arranged in different ways, for example in such a way that daß zwei von ihnen optisch durch die erste Keilnut derart miteinander verbunden sind, daß die Achse der einen mit der Achse der anderen hintereinanderliegt.that two of them are optically interconnected by the first keyway so that the axis of one with the Axis of the other is one behind the other.

Fig. 5A u. Fig. 5B zeigen ein weiteres Ausführungsbeispiel für die Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung. In diesem Ausführungsbeispiel ist ein drittes "V" oder eine dritte V-förmige Keilnut 18 zwischen einer ersten im Querschnitt V-förmigen Keilnut 14 und einer zweiten im Querschnitt V-förmigen Keilnut 16 derart ausgebildet, daß die Achse der dritten Keilnut exakt mit den Achsen der ersten und zweiten Keilnuten korrespondiert. Die Breiten und Tiefen der ersten, zweiten und dritten Keilnuten können in dieser Reihenfolge fallend sein. Insbesondere dort, wo kein Teil zum Zusammenbau einer optischen Vorrichtung in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung in der dritten Keilnut angeordnet ist, ist indessen keine Beschränkung in der Form oder der Größe der dritten Keilnut gegeben. Es sei ebenfalls angemerkt, daß die dritte Keilnut außerhalb der5A and 5B show another embodiment for the substrate structure according to the present invention. In this embodiment there is a third "V" or a third V-shaped keyway 18 is formed between a first V-shaped cross-sectionally keyway 14 and a second V-shaped cross-sectionally keyway 16 such that the The axis of the third keyway corresponds exactly to the axes of the first and second keyways. The widths and depths of the first, second, and third keyways can be set in falling in this order. Particularly where there is no part for assembling an optical device in accordance with the present invention in the third However, there is no limitation on the shape or size of the third keyway. Be it also noted that the third keyway is outside the

ersten und/oder zweiten Keilnut angeordnet sein kann und daß die Breite und/oder Tiefe der dritten Keilnut variiert werden können. Die dritte Keilnut kann aus einer Vielzahl von Keilnuten zusammengesetzt sein. 5first and / or second keyway and that the width and / or depth of the third keyway varies can be. The third keyway can be composed of a plurality of keyways. 5

Fig. 6 zeigt ein anderes Ausführungsbeispiel für die Konstruktion der Substratstruktur in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung, in dem eine erste Keilnut 14 die Form eines gleichwinkeligen halbtrapezförmigen QuerschnittsFIG. 6 shows another embodiment of the construction of the substrate structure in accordance with FIG present invention in which a first keyway 14 is in the shape of an equiangular semi-trapezoidal cross-section oder eines sich nach außen zu verbreiternden quadratischen, U-förmigen Querschnitts aufweist, d. h. daß die Keilnut derart ausgebildet ist, daß die Seitenwände 14a der ersten Keilnut 14 jeweils mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren und daß deren Bodenbereich 14bor a square that widens outwards, Has a U-shaped cross-section, d. H. that the keyway is formed so that the side walls 14a of the first Keyway 14 each correspond to the planes (111) of the silicon single crystal and that their bottom region 14b flach ist und parallel zu der Oberfläche 12 der Grundplatte •ausgerichtet ist. Es sei darauf aufmerksam gemacht, daß die zweite Keilnut 16 selbstverständlich derart ausgebildet sein kann, daß sie einen sich nach außen zu verbreiternden quadratischen, U-förmigen oder irgendeinen anderen geeigneis flat and is oriented parallel to the surface 12 of the base plate •. It should be noted that the second keyway 16 is of course designed in this way may be that it suits an outwardly widening square, U-shaped or any other one ten Querschnitt hat und daß ferner die Form der Keilnuten variiert werden kann, solange deren Seitenwände mit der Ebene (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren.th cross-section and that also the shape of the keyways can be varied as long as their side walls correspond to the plane (111) of the silicon single crystal.

Übereinstimmend mit der vorliegenden Errfindung kann die Anzahl der Kombinationen oder der Sätze von ersten und zweiten Keilnuten je nach Anwendungszweck einer Vorrichtung, die sich aus der Grundplatte ergibt, auf der die ersten und zweiten Keilnuten ausgebildet sind, abhängig davon variiert werden. Beispielsweise zeigen Fig. 7A u. Fig. 7B ein Ausführungsbeispiel für die Konstruktion der Keilnuten, in dem drei Paare von ersten Keilnuten 14 und zweiten Keilnuten 16, wie sie in Fig. 1 sowie Fig. 2A u. Fig. 2B gezeigt sind, auf der Oberfläche 12 einer gemeinsamen Grundplatte 10 ausgebildet sind. In diesem Ausführungsbeispiel sind sechs Stück jeweils einer ersten Keilnut 14 und einer zweiten Keilnut 16 auf den Oberflächen 12 von Grundplatten 10 ausgebildet. Desweiteren kommunizieren jeweils zwei Sätze von ersten und zweiten Keilnuten derart miteinander, daßIn accordance with the present invention, the number of combinations or sets of first and second keyways may vary depending on the purpose of a device, which results from the base plate on which the first and second keyways are formed varies depending thereon will. For example, Figures 7A and 7B show an embodiment of the construction of the keyways in which three pairs of first keyways 14 and second keyways 16 as shown in Figures 1 and 2A and 2B are formed on the surface 12 of a common base plate 10. In this embodiment are six pieces each of a first keyway 14 and a second keyway 16 on the surfaces 12 of base plates 10 educated. Furthermore, two sentences communicate each time of first and second keyways with one another such that

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idTerKc&TrcfetEfirtBTictehiaderi tzveetiteen Mlfetkrutf u\r6 ddes eer~ S3tce£rn Sia^iesfiOTiilsnd^igieTgj&i^b^s-tiehferodjern BnidJbeteeii (StescteitieerftorfKlffiücT/raitielr4 Äd:es«czwesi teeint SJaEfζe s)tvcelEteitacfceini cMt 28 zu bedecken« Die Foto! ackschi chi wirkt als eine Atz-Scisuiz-I3ic !Üiteehie,,! nOsstsi nffnäßnagi mjiitrcaechaw/dnnliitSgaeirededierE iPfiiaisduHi^i tteörnErcäm 1 k diiireceKeiElfmitfen'c laigf edieirs ;O\xeTSWärc3rpßJiediäieriGκιίnedqtlraiisteeisdie ? eSülaiszCiajair'-sEp'iiniklrsivsstfaslal si ä,ißf iU-tet]e;r s/ciHiiiiedildi cfctei sl^aiss1eEn.?ecEiBsgetFiil däaircr. IiGD SäeciiTG)5iiiß,eisp3icKTfsUfi-e"Ttsie 'v-zco;>itgrerß?F.i3C|i£fM cteirs /fetg^sSMfe ^iiä Ü mxirngssibieiipii^ nfiür ai&s (Äii'i^buifilscte n5 vä«ne tesjifl rtiu*ie if cakcfl atea^ faliäaafiaä)idfechsIGrariirdipj aebteef i3enmjBSTjeSiril3irztuni>iE£i ifloratBitecliilssciiIWnrei itni ve Fäiagxri 9Λι j/fer.aTiLS.c hiSFU Idiiceh tÄ"Üs:ts,s iwsi räB esiiniB eSsmu n/d:p*ltaHtst-ei iriliOi.,= stl i e fiürs-sdsive fS,UibscbT/atSasiuruditluirtwserwenjdseitsivieardeη soll, durch Sehneiden des Silizium-Einkristalls längs einer Ebene (100) tf'aivEo ni mrodi pd!u>rtdri R &\ i ärien cMier SGtBid tf-fäliä ©H e l!&mv o'ßbre«K6t1J entn$■ sum r 3ei\ntes fiTnaeKej .OblirfJlSaZeHeJtZ1U hveerj alh-eln daßss tstehii eri eriSaiEi/od-agßindji eiiEbbenieififel ÖiGt^iiläittld,! ©Ihn en n .nterhewii ±Sßtgiejd,e bvedrBpBteelmerei(slsOOi)Iiie^OMJfege^O^th ZBD Lcniebr(QßTijsreirBtese&iil-tziiüte-SEiitlörs-üSi-fea, 1 lasssjetn;tkäan Fic , 11 und Fig. 12 ist entmehrabair 9 'daB das anisotrope Ätzmiitel dieidTerKc & TrcfetEfirtBTictehiaderi tzveetiteen Mlfetkrutf u \ r6 DDES eer ~ S3tce £ rn Sia ^ iesfiOTiilsnd ^ igieTgj & i ^ b ^ s-tiehferodjern BnidJbeteeii (StescteitieerftorfKlffiücT / raitielr4 AEd: it "czwesi teeint SJaEfζe s)" to cover tvcelEteitacfceini CMT 28 The Photo! ackschi chi acts as an Atz-Scisuiz-I3ic! Üiteehie ,,! nOsstsi nffnäßnagi mjiitrcaechaw / dnnliitSgaeirededierE iPfiiaisduHi ^ i tteörnErcäm 1 k diiireceKeiElfmitfen'c laigf edieirs; O \ xeTSWärc3rpßJi ediäieriGκlιίnededed eSülaiszCiajair'-sEp'iiniklrsivsstfaslal si ä, ißf iU-tet] e ; rs / ciHiiiiedildi cfctei sl ^ aiss1eEn.? ecEiBsgetFi i l däaircr. IiGD SäeciiTG) 5iiiß, eisp3icKTfsUfi-e "Tts i e 'v-ZCO;> itgrerß F.i3C | i £ sc cteirs / fetg ^ ^ sSMfe IIaE Ü mxirngssibieiipii ^ nfiür ai s (Äii'i ^ n buifilscte 5 va" right? tesjifl rtiu * ie if cakcfl atea ^ faliäaafiaä) idfechsIGrariirdipj aebteef i3enmjBSTjeSiril3irz uni t> iE £ i ifloratBitecliilssciiIWnrei ITNI ve Fäiagxri 9Λι j / fer.aTiLS.c hiSFU Idiiceh tÄ "Üs: ts, s iwsi RAEB esiiniB eSsmu n / d: p * ltaHtst-ei iriliOi., = stl ie fiürs-sdsive fS, UibscbT / atSasiuruditluirt wse rwenjdseitsivieardeη, by cutting the silicon single crystal along a plane (100) tf'aivEo ni mrodi pd! u> rtdienid cMier. & tf-fäliä © H el! & mv o'ßbre «K6t1J ent $ ■ sum r 3 ei \ ntes fiTnaeKej .OblirfJlSaZeHeJtZ 1 U hveerj alh-eln thatss tstehii eri eriSaiEi / od-agßldindji eiiEbbenieif © him en n .nterhewii ± SSS tgiejd, e bvedrBpBteelmerei (slsOOi) IIIe ^ OMJfege ^ O ^ th ZBD Lcniebr (QßTijsreirBtese & IIL tziiüte-SEiitlörs-üSi-fea, lasssjetn 1; tkäan Fic, 11 and 12 is entmehrabair 9 '. that the anisotropic etching agent

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und zweiten Keilnut-Musterbereich 14A bzw. 16A, wie in Fig. 16A gezeigt, ausgebildet werden, und der Rest der Bereiche, wo keine Keilnuten ausgebildet werden, bleibt zunächst mit den Schichten, bestehend aus der SiO^-Schicht 20, der Fotoand second keyway pattern areas 14A and 16A, respectively, as shown in Fig. 16A, and the remainder of the areas where keyways will not be formed remain with initially the layers consisting of the SiO ^ layer 20, the photo lackschicht 22 und der Maske 24 bedeckt.lacquer layer 22 and the mask 24 covered.

Fig. 1OA bis Fig. 1OG zeigen ein anderes Ausführungsbeispiel für die Ausbildung von Keilnuten auf der Oberfläche einer Grundplatte 10 aus einem Silizium-Einkristall. Wie in10A through 10G show another embodiment for forming keyways on the surface a base plate 10 made of a silicon single crystal. As in Fig. 1OA gezeigt, wird die Grundplatte für die Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung durch Schneiden des Silizium-Einkristalls derart vorbereitet, daß eine Oberfläche 12, die mit der Ebene (100) davon korrespondiert, und eine Orientierungsflachstelle 1OA, die mit der EbeneAs shown in Fig. 10A, the base plate for the substrate structure according to the present invention is made by cutting of the silicon single crystal prepared in such a way that a surface 12, which corresponds to the plane (100) thereof, and an orientation flat 10A that coincides with the plane

(110) davon korrepondiert, entsteht. Über den gesamten Bereich der Oberfläche wird eine Schicht, nämlich eine Si^H -Schicht 26, als eine Ätzmacke, wie in Fig. 1OB gezeigt, beispielsweise mittels der Reduktionsdruck-CVD-Methode (CVD = £hemica \^apor Deposition) durch Durchströmen einer Gasmi(110) related to it, arises. Over the entire area of the surface, a layer, namely a Si ^ H layer 26, is used as an etch mark, as shown in Fig. 10B, for example by means of the reduced pressure CVD method (CVD = £ hemica \ ^ apor deposition) by flowing through a gasmi schung aus SiK2Cl2 und NH3 unter Erwärmen der Grundplatte bei 75O0C bis 900 C ausgebildet. Die Ätzmaske 26 kann durch unterschiedliche Techniken, beispielsweise durch die Plasma-CVD-Methode, gebildet werden. Auf die Ätzmaske 26 wird dann, wie in Fig. IOC gezeigt, eine Fotolackschicht 28ture of SiK 2 Cl 2 and NH 3 formed by heating the base plate at 75O 0 C to 900 C. The etching mask 26 can be formed by different techniques, for example by the plasma CVD method. As shown in FIG. 10C, a photoresist layer 28 is then placed on the etching mask 26 (beispielsweise der Handelsmarke "AZ-13050Ü; Shipley CO.) in herkömmlicherweise aufgebracht. Die Fotolackschicht 28 wird, wie in Fig. IOD und Fig. 1OE gezeigt, mit einer Fotomaske 30 versehen, die eine gegebene Schablone 32 darstellt, die einen Schabionenbereich 32A, der in der Lage(for example, the trademark "AZ-13050Ü; Shipley CO.) is applied in a conventional manner. The photoresist layer 28 is provided with a photomask 30, as shown in FIG. IOD and FIG ist, Licht durchzulassen, und einen Schablonenbereich 32B, der nicht in der Lage ist, Licht durch zu lassen, hat. Die Fotomaske 30 enthält ein Referenzmuster 34 zum Positionieren der Grundplatte 10, beispielsweise derart, daß die Orientierungsflachstelle 1OA der Grundplatte mit dem Referenz-is to transmit light, and a stencil area 32B, who is unable to let light through. The photomask 30 contains a reference pattern 34 for positioning the base plate 10, for example such that the orientation flat 1OA of the base plate with the reference muster ausgerichtet wird. Fig. 1OF ist zu entnehmen, daß die Fotolackschicht 28 Licht ausgesetzt wird, um ein Muster zu bilden, das mit dem ersten und zweiten Keilnuten korrespondiert. Das Muster, das auf diese Weise ausgebildetpattern is aligned. It can be seen from Fig. 10F that exposing the photoresist layer 28 to light to form a pattern corresponding to the first and second keyways. The pattern formed in this way

wird, wird dann entwickelt, und der Schablonenbereich 32A wird entfernt, um so die Oberfläche der Ätzmaske 26 im wesentlichen in Korrespondenz mit einem Muster für die erste/i und zweiten Keilnuten freizulegen und den Rest der 5 Oberfläche der Ätzmaske mit der Fotolackschicht 28 zu bedecken. Die Fotolackschicht wirkt als eine Ätz-Schutzschicht. Das Ätzen wird dann mittels der Plasma-Ätztechnik unter Einwirkung eines hochfrequenten elektrischen Feldes (beispielsweise 13.5 MHz), während beispielsweise CF4 durchströmt, ausgeführt, wobei Bereiche der Ätzmaske 26 in Über einstimmung mit den Öffnungen, die auf der Fotolackschicht ausgebildet sind, entfernt werden. Die Fotolackschicht wird dann entfernt, um die Ätzmaske 26 mit dem vorbestimmten Muster auf der Grundplatte zu belassen. 15 is then developed and the stencil area 32A is removed so as to expose the surface of the etch mask 26 in substantial correspondence with a pattern for the first and second keyways and to cover the remainder of the surface of the etch mask with the photoresist layer 28 . The photoresist layer acts as an etch protective layer. The etching is then carried out by means of the plasma etching technique under the action of a high-frequency electric field (for example 13.5 MHz), while for example CF 4 flows through, with areas of the etching mask 26 being removed in accordance with the openings that are formed on the photoresist layer . The photoresist layer is then removed to leave the etch mask 26 with the predetermined pattern on the base plate. 15th

Die Grundplatte 10, die die Schicht mit dem vorbestimmten Muster, wie in Fig. 11 gezeigt, hat, wird dann einem anisotropen Ätzvorgang mit einem Ätzmittel, wie einer alkalischen Lösung, beispielsweise einer wässerigen KOH-Lösung oder einer wässerigen NaOH-Lösung, ausgesetzt. Fig. 11 und Fig. 12 ist entnehmbar, daß das anisotrope Ätzmittel die Oberfläche des Silizium-Einkristalls, die dem Ätzmittel ausgesetzt ist, um die Keilnuten auszubilden, graduell korrodiert, wobei die Seitenwände der Keilnuten, die in ihrer Ebene mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren, unter einem bestimmten Winkel Θ in bezug auf die Ebene (100) davon ausgerichtet sind. Dieses anisotrope Ätzen wird durch Ausnutzung des Effekts bewirkt, daß die Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls nur schwach mit dem Ätzmittel geätzt werden, so daß eine Differenz in der Geschwindigkeit des Ätzvorganges zwischen den Ebenen (100) und (111) entsteht. Wo das Ätzen zu einer endgültigen Stufe bewirkt wird, führt die Korrosion der Kristalloberfläche bei dem Winkel θ dazu, daß eine Keilnut mit einem V-förmigen Querschnitt gebildet wird. Der Ätzvorgang setzt sich nicht weiter fort, wenn der V-förmige Querschnitt vervollständigt ist. Wo das Ätzen in einer kürzeren Zeitperiode, als es zur Vollendung führt, abgeschlossen wird, ergibtThe base plate 10 having the layer with the predetermined pattern as shown in Fig. 11 is then subjected to anisotropic etching with an etchant such as an alkaline solution such as an aqueous KOH solution or an aqueous NaOH solution. Fig. 11 and Fig. 12 can be seen that the anisotropic etchant the Surface of the silicon single crystal that is exposed to the etchant is exposed to form the keyways, gradually corroded, the side walls of the keyways being in their Corresponding plane with the planes (111) of the silicon single crystal, at a certain angle Θ with respect to the plane (100) thereof are aligned. This anisotropic etching is effected by taking advantage of the effect that the Planes (111) of the silicon single crystal only weakly with the Etching agents are etched so that a difference in the speed of the etching process between the planes (100) and (111) arises. Where the etching is effected to a final stage, it leads to corrosion of the crystal surface at the angle θ to form a keyway having a V-shaped cross section. The etching process continues stop when the V-shaped cross-section is completed. Where the etching in a shorter period of time as it leads to completion, is completed, results

sich eine Keilnut mit einem quadratischen, "U"-förmigen Querschnitt, d. h. es entsteht eine Keilnut mit Seitenwänden, die mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls bei einem Winkel Θ in bezug auf die Ebene (100) davon undget a keyway with a square, "U" -shaped Cross section, d. H. it creates a keyway with side walls that coincide with the planes (111) of the silicon single crystal an angle Θ with respect to the plane (100) thereof and mit einer flachen Bodenoberfläche in der Ebene (100) davon korrespondieren, wie dies durch strichpunktierte Linien in Fig. 11 angedeutet ist. Diese Technik erlaubt es, daß die geätzten Oberflächen extrem flach und glatt sind.with a flat bottom surface in the plane (100) thereof correspond, as indicated by dash-dotted lines in Fig. 11 is indicated. This technique allows the etched surfaces to be extremely flat and smooth.

Bei dem anisotropen Ätzprozeß kann ebenfalls ein Ätzmittel wie 50 mol % Hydrazin (N2H.) in einer wässerigen Lösung verwendet werden. Nach dem der anisotrope Ätzvorgang vollständig abgeschlossen ist, werden die Schicht oder die Schichten, die die Oberfläche der Grundplatte vor einemIn the anisotropic etching process, an etchant such as 50 mol% hydrazine (N 2 H.) in an aqueous solution can also be used. After the anisotropic etching process is completely finished, the layer or layers that form the surface of the base plate are in front of a Ätzen geschützt haben, beispielsweise mittels einer Plasma-Ätztechnik entfernt.Have protected etching, for example removed by means of a plasma etching technique.

Es sei angemerkt, daß der Winkel 0 , der in seiner Ebene mit der Ebene (111) in bezug auf die Ebene (100) korresponIt should be noted that the angle 0, which is in its plane corresponds to level (111) with respect to level (100) diert, konstant bei 54.74° ohne Rücksicht auf die Tiefe der Keilnut eingehalten wird. Wenn eine Keilnut mit einem größeren Querschnitt ausgebildet werden soll, wird ein entsprechender Schablonenbereich, der auf einer Fotolackschicht oder irgendeiner anderen Schicht, die auf die Grundplattedated, constant at 54.74 ° regardless of the depth of the Keyway is observed. If a keyway with a larger cross-section is to be formed, a corresponding stencil area will be placed on top of a photoresist layer or any other layer that adheres to the baseplate aufgebracht wird, einfach größer belassen, so daß er mit der beabsichtigten Breite der Keilnut korrespondiert.is applied, just leave it larger so that it is with corresponds to the intended width of the keyway.

Es ist indessen anzumerken, daß, wie dies in Fig. 13 gezeigt ist, eine Breite 2W der ersten oder zweiten KeilnutNote, however, that, as shown in Fig. 13, a width 2W of the first or second keyway 14 oder 16 breiter als eine Breite 2W' des Schablonenbereiches 14A oder 16A ist. Da das Verhältnis von 2W/2W konstant bleibt, wenn die Ätzbedingungen als konstant festgelegt sind, kann die Breite 2W1·vorab festgelegt werden, wenn diese Bedingungen in Betracht gezogen werden. In einer14 or 16 is wider than a width 2W 'of the stencil area 14A or 16A. Since the ratio of 2W / 2W remains constant when the etching conditions are set to be constant, the width 2W 1 · can be set in advance when these conditions are taken into account. In a

3^ Großfertigung ist es vorzuziehen, eine stangenförmige optische Faser, die mit einem sekundären Nylonmantel oder dergl. beschichtet ist, in der im Querschnitt V-förmigen Keilnut der Grundplatte zu fixieren. For large-scale production, it is preferable to fix a rod-shaped optical fiber coated with a secondary nylon sheath or the like in the V-shaped keyway of the base plate.

Ϊ hen ist.Ϊ hen is.

Die Fixierungsstruktur, die auf diese Weise in Übereinstimifefiif riiit1 $e,r m&rMzfte§&waefäfWtfdpna\tfi<ß ng β Cannier* vtfümcfe, 1 i3 st tg'e-6t§tfef ρ rffri nie dL i?rr$$ ed ©si vGiisa(fc-fceirit ewij:>Epsi omtfit? rd eits r&xrtt ero r&eiii T--d!t# aiüfe a&r QG^ffrict^liäflie %fnie^Pi§]i2l"n is-feiinü^iBiurekirt2sa1?cDlil su ^f ,i cilfirtcfetetrieKiaptitisichie eFapsre^imtitteeilriieisezviii tan! Kidi?l rpf't.1 sdte cFairsanirf Siusigebli Iidietfetst3/frn!isri-|i ^-netEempiTiWOfbeibi - etkenVß.®fttGtitMn<$iqäi§eb&tf'iii$:ti> l(Mi rutengif&.naet.%e kR an Ιοί tan i η eiifiül 1ΰ. gBiteseitVöisrüchtung kann mit Teilen und/oder Vorrich tungen verbunden oder diesen zugeordnet werden, wobei sich eni if e VV;öW ii(ShätaErig7 °öTg t&ti:^ Rdjiie": ijif §'Ö®s oirPd'e r?© rfi ü is gcEpititsc Ke ν K am i3d §geit;§n^t aiJft |iebTefep>ietsvifiers#i1al scetri kThe fixation structure, which in this way corresponds to 1 $ e, r m & rMzfte§ & waefäfWtfdpna \ tfi <ß ng β Cannier * vtfümcfe, 1 i3 st tg'e- 6t§ tfef ρ rffri nie dL i? Rr $$ ed © si vGiisa (fc-fceirit ewij:> Epsi omtfit? rd eits r & xrtt ero r & eiii T - d! t # aiüfe a & r QG ^ ffrict ^ liäflie% fnie ^ Pi§] i2l "n is-feiinü ^ iBiurekirt2sa1 ^? fDl, ! i cilfirtcfetetrieKiaptitisichie eFapsre ^ imtitteeilriieisezviii tan Kidi l rpf't.1 SDTE cFairsanirf Siusigebli Iidietfetst3 / frn isri- | i ^ -netEempiTiWOfbeibi - etkenVß.®fttGtitMn <$ iqäi§eb &tf'iii $: ti>! l (Mi rutengif &. naet.% e kR an Ιοί tan i η eiifiül 1ΰ. gBiteseitVöisrüchtung can be connected to or assigned to parts and / or devices, whereby eni if e VV; öW ii (ShätaErig 7 ° öTg t & ti: ^ Rdjiie ": ijif § 'Ö®s oirPd'e r ? © rfi ü is gcEpititsc Ke ν K am i3d §geit; §n ^ t aiJft | ieb T efep> ietsvifiers # i1al scetri k

b^iorltfi©^ i umd-A &<£€>& 'Mim «Wp feissreteeiid eSc hjas^tier;. l-j 1 & 1 ?, Fig. 17 bis Figo 19 gezeigt kann beispielsweise sin e'isrtretnn^tg. L14AtUiIaABi^s si 4b vtSt ei *ri-eb ^ iorltfi © ^ i umd-A &<£€>&'Mim «Wp feissreteeiid eSc hjas ^ tier ;. lj 1 & 1?, 17 shown by Fig O 19., for example, sin ^ e'isrtretnn tg. L14AtUiIaABi ^ s si 4b vtSt ei * ri-e

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320G600320G600

hoher Genauigkeit kann durch Ausbilden einer Maskenschicht mittels einer bekannten Technik für das Ausbilden einer dünnen Schicht mit einem Muster, beispielsweise einer photolithographischen Technik, wie sie für den Bereich der Fertigung von integrierten Schaltkreisen oder dergl . entwickelt worden ist, bewirkt werden.high accuracy can be achieved by forming a mask layer by a known technique for forming a thin layer with a pattern, for example a photolithographic Technology as used in the field of manufacturing integrated circuits or the like. developed has been effected.

Wo die V-förmige Keilnut 14 oder 16 eine Breite 2W in der Breitenrichtung und Seitenwände bei einem Winkel Θ in bezug auf die Oberfläche 12 der Grundplatte 10 haben und wo die Gradientenlinse 36 eine Stabform oder die optische Faser 38 einen Radius jr und die Mitte eine Höhe h[ gerade oberhalb der Oberfläche 12 der Grundplatte haben, gilt die folgendeBeziehung: Where the V-shaped keyway 14 or 16 has a width 2W in the Width direction and side walls at an angle Θ with respect to the surface 12 of the base plate 10 and where the gradient lens 36 is a rod shape or the optical fiber 38 a radius jr and the center a height h [just above of the surface 12 of the base plate, the following relationship applies:

h = r W h = r W

sine tan esine tan e

In dieser Gleichung, in der r = r,,, W = Wg und h = hg sind, kann die Breite W, die h = hQ ergibt, wenn r = nrQ ist, wie folgt ausgedrückt werden:In this equation, where r = r ,,, W = Wg and h = hg, the width W that gives h = h Q when r = nr Q can be expressed as follows:

W = (n-1)ro/cos0+Wo W = (n-1) r o / cos0 + W o

Da sich das anisotrope Ätzen des Silizium-Einkristalls unter einem bestimmten Winkel Θ in bezug auf die Oberfläche der Grundplatte auswirkt, wird Wn 66 Mikron, wobei r = 60 Mikron und hQ = 10 Mikron ist. Wenn
r = nrQ = 7.5 χ 60 = 450 Mikron ist, ist W, das hQ = 10 ergibt, 542 Mikron. Daraus ergibt sieht, daß, wo die Hintereinanderanordnung der Linse, welche einen Radius von 0.9 mm hat, mit der optischen Faser, die einen Radius von 120 Mikron hat, derart durchgeführt wird, daß deren Achsen bei einer Höhe von 10 Mikron gerade oberhalb der Oberfläche der Grundplatte lokalisiert sind. Das Maskieren auf der Grundplatte wird derart bewirkt, daß ein Schablonenbereich mit einer Breite von 1,084 Mikron für die erste Keilnut und mit einer Breite von 132 Mikron für die zweite Keilnut vorgese-
Since the anisotropic etching of the silicon single crystal acts at a certain angle Θ with respect to the surface of the base plate, W n becomes 66 microns, where r = 60 microns and h Q = 10 microns. if
r = nr Q = 7.5 χ 60 = 450 microns, W giving h Q = 10 is 542 microns. From this it can be seen that where the juxtaposition of the lens, which has a radius of 0.9 mm, is carried out with the optical fiber, which has a radius of 120 microns, with its axes at a height of 10 microns just above the surface the base plate are located. The masking on the base plate is effected so that a stencil area 1.084 microns wide for the first keyway and 132 microns wide for the second keyway.

hen ist.hen is.

Wenn h = 0, werden zwei Grundplatten 10, die eine identische Form und Größe aufweisen, miteinander derart verbunden, daß die im Querschnitt V-förmigen Keilnuten davon zu einander ausgerichtet sind, und die Gradientenlinse 36 und die optische Faser 38 sind in der Öffnung in einem rhombischen Querschnitt der beiden Keilnuten fixiert, wie dies in Fig . 16 gezei gt ist.When h = 0, two base plates 10, which have an identical shape and size, are connected to one another in such a way that the keyways thereof, which are V-shaped in cross-section, are closed are aligned with each other, and the gradient lens 36 and the optical fiber 38 are fixed in the opening in a rhombic cross section of the two keyways, as shown in FIG Fig. 16 is shown.

Die Verbindungsvorrichtungen gemäß der vorliegenden Erfindung können beispielsweise auf dem Gebiet der Mikrooptik für optische Kommunikationssysteme verwendet werden. Wie in Fig. 17 bis Fig. 19 gezeigt kann beispielsweise ein eintreThe connection devices according to the present invention can be used, for example, in the field of micro-optics used for optical communication systems. As in 17 to 19, for example, an incoming tendes Licht 42A, das durch eine erste optische Faser 38A läuft, in parallele Strahlen 42B in eine Linse 36A des Gradiententyps von 1/4 Periodenschrittlänge umgesetzt werden, und die parallelen Strahlen werden zu einer zweiten, gegenüberstehenden Linse 36B des Gradiententyps übertragen. Intrending light 42A passing through a first optical fiber 38A is converted into parallel rays 42B in a gradient type lens 36A of 1/4 period step length, and the parallel rays are transmitted to a second, opposed, gradient-type lens 36B. In der zweiten Linse, zu der die parallelen Strahlen von der ersten Linse übertragen werden, werden die parallelen Strahlen zu einem einzigen Strahl 42C in eine optische Faser 38B, die mit der zweiten Linse verbunden ist, fokussiert. Das Licht oder der Lichtstrahl 42C wird dann über die zweiof the second lens to which the parallel rays from the first lens are transmitted, the parallel rays become a single ray 42C into an optical fiber 38B associated with the second lens is focused. The light or beam of light 42C then passes over the two te optische Faser 38B zu einem gewünschten Ort übertragen. Wie in Fig. 18 gezeigt, kann ein Halbspiegel 44 zwischen einer ersten Linse 36A und einer zweiten Linse 36B, die der ersten Linse gegenübersteht, angeordnet werden. Mit dem Halbspiegel werden die parallelen Strahlen, die von der ersten Linse übertragen werden, unter einem vorbestimmten Reflexionswinkel in eine unterschiedliche Richtung abgelenkt und dann durch eine dritte Linse 36C empfangen, wobei sie weiter als einzelnes Licht oder als einzelner Lichtstrahl durch eine optische Faser 38C übertragen werden. Daste optical fiber 38B is transmitted to a desired location. As shown in FIG. 18, a half mirror 44 may be positioned between a first lens 36A and a second lens 36B, which are the facing first lens. With the half mirror, the parallel rays coming from the first lens, deflected at a predetermined angle of reflection in a different direction, and then received by a third lens 36C, wherein they are further transmitted as a single light or as a single light beam through an optical fiber 38C. That

Licht oder die Lichtstrahlen, die eine Wellenlänge haben, die unterschiedlich von der des Lichtes oder der Lichtstrahlen ist, die von dem Halbspiegel reflektiert werden, treten durch diesen hindurch und werden zu der Linse 36B und dannLight or the rays of light that have a wavelength which is different from that of the light or rays of light reflected from the half mirror occur through this and become lens 36B and then

zu der optischen Faser 38B übertragen. Diese Konstruktion einer Kombination aus Gradientenlinsen und optischen Fasern kann als T-Koppler verwendet werden. Wie außerdem in Fig. 19 gezeigt ist, kann eine Anzahl von Lichtverzögerungsplatto the optical fiber 38B. This construction of a combination of gradient lenses and optical fibers can be used as a T-coupler. As also shown in Fig. 19, a number of light retardation plates ten, wie beispielsweise Metal 1schichtfilter, zwischen sich gegenüberstehenden Linsen 36A und 36B angeordnet sein. Bei dieser Konstruktion wird Licht oder werden Lichtstrahlen, die zu einer optischen Faser 38A übertragen werden, weiter durch die Linse 36A und die Lichtverzögerungsplatten (allgemein mit 46 bezeichnet) zu einer Linse 36B und einer opti schen Faser 38B in im wesentlichen gleicher Weise, wie in Fig. 17 gezeigt, übertragen.ten, such as metal 1-layer filter, between them opposing lenses 36A and 36B may be arranged. With this construction there is light or rays of light, which are transmitted to an optical fiber 38A through lens 36A and the light retardation plates (indicated generally at 46) to lens 36B and opti cen fiber 38B is transmitted in substantially the same manner as shown in FIG.

Fig. 20 ist zu entnehmen, daß eine Verbindungsvorrichtung hergestellt werden kann, die eine Grundplatte 10 enthält, welche eine erste Keilnut 14 und eine zweite Keilnut 16 mit einer Linse 36 des Gradiententyps und einer optischen Faser 38, welche Elemente jeweils mit der ersten bzw. zweiten Keilnut verbunden sind, hat. In diesem Ausführungsbeispiel '20 für die Konstruktion der Substratstruktur gemäß der vorliegenden Erfindung ist eine dritte Keilnut 18 zwischen der ersten und der zweiten Keilnut 14 bzw. 16 angeordnet, und die Linse 36 ist nicht direkt mit der optischen Faser 38 verbunden. Diese Konstruktion erlaubt ebenfalls eine wirksame Übertragung von Licht oder Lichtstrahlen. Eine licht- emitierende Diode oder eine Laser-Diode 50 kann als Lichtquelle oder als Quelle für Laser-Strahlen benutzt werden.Fig. 20 shows that a connecting device can be made that includes a base plate 10 having a first keyway 14 and a second keyway 16 with a gradient type lens 36; and an optical fiber 38, which elements are connected to the first and second, respectively Keyway connected has. In this embodiment '20 for constructing the substrate structure in accordance with the present invention is a third keyway 18 between the first and second keyways 14 and 16, respectively, and lens 36 is not directly connected to optical fiber 38 tied together. This construction also allows light or light rays to be transmitted efficiently. A light emitting diode or laser diode 50 can be used as a light source or as a source of laser rays.

In Fig. 21 ist ein Matrixschalter gezeigt, in dem die Substratstruktur vier Sätze, jeweils bestehend aus einer Linse 36 des Gradiententyps und einer optischen Faser 38, die miteinander ausgerichtet auf der Grundplatte 10 fixiert und mit einer Matrix von Schaltelementen 50 verbunden sind,In Fig. 21, a matrix switch is shown in which the substrate structure is four sets, each consisting of a lens 36 of the gradient type and an optical fiber 38 fixed in alignment with each other on the base plate 10 and are connected to a matrix of switching elements 50,

enthält.
35
contains.
35

Fig. 22 zeigt eine Vorrichtung, die eine Substratstruktur gemäß den Figuren 6A und 6B enthält, in der eine Gradientenlinse 36D in der ersten Keilnut 14 über einen HalbspiegelFig. 22 shows an apparatus including a substrate structure according to Figs. 6A and 6B in which a gradient lens 36D is located in the first keyway 14 via a half mirror

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SWe-iten Keilnuten 16D bzw. 16E fixiert und mit der Linse 36D verbunden. Eine andere optische Faser 38F ist in derSW white keyways 16D or 16E fixed and with the lens 36D connected. Another optical fiber 38F is included in FIG

d ecn ß i'Fni dW Wb s^Wla tfewtfkft^ müWe^de c n ß i'Fni dW Wb s ^ Wla tfewtfkft ^ müWe ^

^efli11ISHF1 ^irfW "1PA 3^ vfe^i2!^ °i;>r^ efli 11 ISHF 1 ^ irfW " 1 PA 3 ^ vfe ^ i 2 ! ^ ° i ; > r

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Lichtwelle, die eine Wellenlänge λ_ hat, wird über die optische Faser 381 in die Gradientenlinse 361 übertragen. Die zweite einzelne Lichtwelle wird durch den Halbspiegel 52B reflektiert und mit der dritten einzelnen Lichtwelle, die durch den Halbspiegel 52B hindurchtritt, kombiniert. Das kombinierte Licht wird dann von der Linse 36H in die Gradientenlinse 36G übertragen und durch den Halbspiegel 52A reflektiert. Das gemischte Licht, das durch den Halbspiegel 52A reflektiert wird, wird mit der ersten einzelnen LichtLight wave having a wavelength λ_ is transmitted into the gradient lens 361 via the optical fiber 381. the second single light wave is reflected by half mirror 52B and with the third single light wave that passes through the half mirror 52B, combined. That combined light is then transmitted from lens 36H into gradient lens 36G and through half mirror 52A reflected. The mixed light reflected by the half mirror 52A becomes single light with the first welle, die durch den Halbspiegel 52A hindurchtritt kombi niert und dann in eine vierte optische Faser 38J als ein gemischtes Licht, das die Wellenlängen λ,, X„ u. λ., hat, übertragen. Diese Struktur kann mit einer intern reflektierenden Vielfachvorrichtung in einer relativ einfachen Weisewave which passes through the half mirror 52A is combined and then transmitted into a fourth optical fiber 38J as a mixed light having the wavelengths λ 1, X “ and λ. This structure can be implemented with a multiple internally reflective device in a relatively simple manner zusammengebaut werden.be assembled.

Fig. 24 zeigt eine Vorrichtung» die drei Sätze von jeweils einer Verbindungsvorrichtung hat, wobei Halbspiegel in einem Übertragungsweg für Licht oder Lichtstrahlen angeordnetFig. 24 shows a device which has three sets of each connecting device with half mirrors arranged in a transmission path for light or light rays sind. Diese Vorrichtung ist derart konstruiert, daß Licht oder Lichtstrahlen, die Wellenlängen λ , λ υ.λ., haben und durch Gradientenlinsen 36K, 36L und 36M von optischen Fasern 38K, 38L und 38M her laufen, durch Halbspiegel 52A, 52B bzw. 52C entsprechend ihren Wellenlängen reflektiertare. This device is constructed in such a way that light or light rays having wavelengths λ, λ υ.λ., and pass through gradient lenses 36K, 36L and 36M from optical fibers 38K, 38L and 38M, through half mirrors 52A, 52B and 52C are reflected according to their wavelengths werden und durch eine Gradientenlinse 36P in eine optische Faser 38P übertragen werden, und daß ein vierter Lichtstrahl, der eine Wellenlänge λ. hat, welcher durch eine Gradientenlinse 36N von einer optischen Faser 38N her durchläuft, durch die Halbspiegel 52A, 52B u. 52C in die Linseand through a gradient lens 36P into an optical Fiber 38P are transmitted, and that a fourth light beam, which has a wavelength λ. has which by a Gradient lens 36N from an optical fiber 38N passes through half mirrors 52A, 52B and 52C into the lens 36P und die optische Faser 38P übertragen werden. Umgekehrt können gemischte Lichtstrahlen, die Wellenlängen λ., λ , λ u. λ^ haben und durch die Linse 36P von der optischen Faser 38P her in die Linsen 36K, 36L, 36M u. 36N hinein übetragen werden, als einzelne Lichtwellen, die die Wellenlängen λ,,36P and the optical fiber 38P are transmitted. Conversely, mixed light rays, the wavelengths λ., Λ, λ u. λ ^ and through lens 36P from the optical fiber 38P are transmitted into the lenses 36K, 36L, 36M and 36N as individual light waves that have the wavelengths λ ,, ^2' *3 bzw" *4 naDen.> voneinander getrennt werden. Die Lichtstrahlen, die die Wellenlängen λ., λ u. λ_ haben, werden entsprechend getrennt und durch die Spiegel 52A, 52B u. 52C übertragen, und das Licht, das die Wellenlänge λ.^ 2 '* 3 b zw "* 4 naDen .> Are separated from each other. The light rays, which have the wavelengths λ., Λ and λ_, are separated accordingly and transmitted through the mirrors 52A, 52B and 52C, and the light , which is the wavelength λ.

hat, wird direkt durch die Vorrichtung hindurch in die Linse 36N und die optische Faser 38N, wie dies durch Pfeile in strichpunktierten Linien in Fig. 24 angedeutet ist, übertragen. is entered directly through the device into lens 36N and optical fiber 38N, as indicated by arrows in FIG dash-dotted lines in Fig. 24 is indicated, transferred.

Fig. 25 und Fig. 26 zeigen einen optischen Schalter, der aus drei Sätzen von Gradientenlinsen (allgemein mit 36 bezeichnet) und optischen Fasern (allgemein mit 38 bezeichnet) besteht. Die Linsen 36 sind in den ersten Keilnuten (allgemein mit 14 bezeichnet) fixiert, und die optischen Fasern 38 sind in zweiten Keilnuten (allgemein mit 16 bezeichnet) fixiert. Die Grundplatte 10 ist außerdem mit einer dritten Keilnut 18 versehen, die Seitenwände 18A, die mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren, und einen flachen Bodenbereich 18B, der parallel zu der Oberfläche der Grundplatte verläuft, hat. Die dritte Keilnut ist mit einem Schaltmittel, beispielsweise einem geraden Prisma 54, versehen. Aus Fig. 26 geht hervor, daß Licht oder Lichtstrahlen, die in die optische Faser 38Q übertragen werden, durch die Linse 36Q des Gradiententyps zu dem Prisma 54 weiter übertragen werden, das die Richtung des Lichtes in eine entgegengesetzte Richtung, nämlich unter einem Winkel von 360°, durch eine zweifache Reflexion unter einem rechten Winkel ändern kann und das zweifach reflektierte Licht zu einer benachbarten Linse 36R und einer optischen Faser 38R, die damit verbunden ist, überträgt. Wenn das Prisma 54 in verschiedene Stellen bewegt wird, beispielsweise wie durch strichpunktierte Linien in Fig. 26 ,angedeutet, kann das Licht, das zu der optischen Faser 38Q und der Linse 36Q übertragen wird, durch zweifache Reflexion durch das Prisma 54 in eine entgegengesetzte Richtung unter einem Winkel von 360° übertragen werden. Das Licht wird dann beispielsweise durch die Linse 36S zu der optischen Faser 38S übertragen.Fig. 25 and Fig. 26 show an optical switch composed of three sets of gradient lenses (indicated generally at 36) and optical fibers (indicated generally at 38). The lenses 36 are in the first keyways (generally designated 14) fixed, and the optical Fibers 38 are fixed in second keyways (indicated generally at 16). The base plate 10 is also with a third keyway 18, the side walls 18A, which correspond to the planes (111) of the silicon single crystal, and a flat bottom portion 18B parallel to the surface of the base plate. The third Keyway is with a switching means, for example one straight prism 54 is provided. As shown in Fig. 26, light or rays of light entering the optical fiber 38Q can be transmitted through the gradient type lens 36Q to the prism 54, which is the direction of the light in an opposite direction, namely at an angle of 360 °, through a double reflection can change at a right angle and the double reflected light to an adjacent lens 36R and one optical fiber 38R connected thereto. When the prism 54 moves to different locations is, for example, as shown by dash-dotted lines in 26, indicated, the light transmitted to the optical fiber 38Q and the lens 36Q can be twofold Reflection can be transmitted by the prism 54 in an opposite direction at an angle of 360 °. That Light is then passed through lens 36S, for example optical fiber 38S transmitted.

In Fig. 27 ist ein optischer Schalter für einen Computerverbund oder dergl . gezeigt, der vier Sätze von Gradientenlinsen 36T bis 36W einschließlich und optische Fasern 38T bisIn Fig. 27 is an optical switch for a computer network or the like. shown the four sets of gradient lenses 36T through 36W inclusive and optical fibers 38T through

38W einschließlich sowie ein Paar von Spiegeln 56A und 56B enthält. Die Linsen und die optischen Fasern sind in den betreffenden ersten Keilnuten (allgemein mit 14 bezeichnet) und in den betreffenden zweiten Keilnuten (allgemein mit bezeichnet) fixiert, und die Spiegel sind in einer dritten Keilnut 18 montiert, die in dem mittleren Bereich der Grund platte 10 derart ausgebildet ist, daß sie mit den ersten und zweiten Keilnuten in Verbindung steht. In dem optischen Schalter dieses Typs wird Licht, das durch die optische38W including and a pair of mirrors 56A and 56B contains. The lenses and optical fibers are in their respective first keyways (indicated generally at 14) and fixed in the respective second keyways (indicated generally at), and the mirrors are in a third Keyway 18 mounted, the plate 10 in the central region of the base is formed such that it is with the first and second keyways. In the optical switch of this type, light passing through the optical Faser 38T und die Linse 36T übertragen wird, unter einem Winkel von 90° zweifach durch den Spiegel 56A reflektiert. Das reflektierte Licht wird in die Linse 36U und die optische Faser 38U und dann in einen optoelektrisehen Wandler 58 und eine Anschlußstation 60 übertragen. Das Signal wirdFiber 38T and lens 36T being transmitted, reflected twice by mirror 56A at an angle of 90 °. The reflected light goes into lens 36U and optical fiber 38U and then into an optoelectronic transducer 58 and a connection station 60 are transmitted. The signal will dann in einen elektrooptischen Wandler 62 übertragen und in Licht gewandelt, das in der Folge in die optische Faser 38V und die Linse 36V übertragen wird. Das Licht, das von der Linse 36V übertragen wird, wird dann zweifach unter einem Winkel von 90° durch den Spiegel 56B reflektiert und dannthen transferred to an electro-optic converter 62 and in Light converted, which is subsequently transmitted into the optical fiber 38V and the lens 36V. The light that comes from the Lens 36V is transmitted is then reflected twice at an angle of 90 ° by mirror 56B and then in die Linse 36W und die optische Faser 38W übertragen. Der Computerverbund oder dergl., der einen optischen Schalter verwendet, wie er in Fig. 27 gezeigt ist, erlaubt die Übertragung von Signalen mittels einer optischen Faser von einer Zentralstationen zu einer Vielzahl von Unterstationentransmitted into lens 36W and optical fiber 38W. Of the A computer network or the like using an optical switch as shown in Fig. 27 allows signals to be transmitted by means of an optical fiber from a central station to a plurality of substations oder Anschlußstationen. Ein herkömmlicher Computerverbund oder dergl. mit einem geschlossenen Schleifensystem muß seinen Betrieb anhalten, wenn eine oder mehrere Unterstationen defekt werden. Der optische Schalter des Typs, wie er in Fig. 27 gezeigt ist, kann die Nachteile, die sich durchor connection stations. A conventional computer network or the like with a closed loop system must stop operating if one or more substations become defective. The optical switch of the type like him shown in Fig. 27, the disadvantages posed by

3^ einen herkömmlichen Computerverbund oder dergl. ergeben, vermeiden. Beispielsweise können, wo ein System, das die optischen Faser 38U und die Linse 36U enthält, gestört wird, die Spiegel 56A und 56B wegbewegt werden, um einen Weg für das Licht freizugeben, so daß das Licht direkt von 3 ^ a conventional computer network or the like. Avoid. For example, where a system including optical fiber 38U and lens 36U is disrupted, mirrors 56A and 56B can be moved away to provide a path for the light to direct the light from der Linse 36T zu der Linse 36W übertragen werden kann.lens 36T can be transferred to lens 36W.

In Fig. 28 ist eine Grundplatte 10 gezeigt, die eine Keilnut 14 oder .16 mit Seitenwänden 14A oder 16A, die korre-In Fig. 28, a base plate 10 is shown having a keyway 14 or 16 with side walls 14A or 16A that correspond to the correct

spondierend mit den Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls geneigt sind, und mit einem Bodenbereich 14B oder 16B, der flach ist und parallel zu der Oberfläche der Grundplatte ausgerichtet ist, hat. In der ersten oder zweiten Keilnut 14 oder 16 ist eine Linse 36 des Gradiententyps oder eine optische Faser 38 in einer Weise fixiert, daß die Linse oder die optische Faser in 1inienförmiger Berührung mit den Seitenwänden 14A oder 16A steht, wobei der Bodenbereich keine Berührung mit der Linse oder der optischen Faser aufwei st.sponding to the planes (111) of the silicon single crystal are inclined, and with a bottom portion 14B or 16B that is flat and parallel to the surface of the base plate is aligned, has. In the first or second keyway 14 or 16 is a gradient type lens 36 or a optical fiber 38 is fixed in such a way that the lens or optical fiber is in 1line contact with the Sidewalls 14A or 16A stands, with the bottom area no contact with the lens or the optical fiber.

In den Figuren 29 bis 32 einschließlich ist ein optischer Verbinder gezeigt, der jeweils eine stangenförmige optische Faser, eine Linse des Gradiententyps und eine ummantelteIn FIGS. 29 to 32 inclusive there is an optical one Connectors are shown each comprising a rod-shaped optical fiber, a gradient-type lens, and a jacketed optische Faser enthält, die in entsprechenden Keilnuten, die auf der Grundplatte aus einem Silizium-Einkristall ausgebildet sind, fixiert sind. Wie am besten aus Fig. 29 zu erkennen ist, ist die Grundplatte 10 mit einer vorbestimmten Anzahl von ersten Keilnuten 14 für die Linsen, von zwei-optical fibers fixed in corresponding keyways formed on the silicon single crystal base plate. As best seen in Fig. 29 can be seen, the base plate 10 is provided with a predetermined number of first keyways 14 for the lenses, from two ten Keilnuten 16 für die stangenförmigen optischen Fasern und von dritten Keilnuten für die ummantelten, optischen Fasern sowie von vierten Keilnuten 64 zum Verbinden der Grundplatte mit einer anderen Grundplatte vorgesehen. In Fig. 30 und Fig. 31 ist ein optischer Verbinder gezeigt,th keyways 16 for the rod-shaped optical fibers and third keyways for the jacketed optical fibers and fourth keyways 64 for connecting the Base plate provided with another base plate. In Fig. 30 and Fig. 31 there is shown an optical connector, der derart konstruiert ist, daß die Grundplatte 10 diewhich is constructed so that the base plate 10 the Struktur hat, wie sie zuvor beschrieben wurde, und mit Linsen 36 des Gradiententyps versehen ist, die in betreffenden ersten Keilnuten 14 fixiert sind, wobei die stangenförmigen ' optischen Fasern 38 in betreffenden zweiten Keilnuten 16Has structure as previously described and is provided with lenses 36 of the gradient type, which are shown in FIGS first keyways 14 are fixed, the rod-shaped 'optical fibers 38 in respective second keyways 16 fixiert sind, und wobei die ummantelten optischen Fasern 66 in betreffenden dritten Keilnuten 18 fixiert sind. Die jeweiligen Keilnuten 14, 16 u. 18 sind derart ausgebildet, daß sie miteinander kommunizieren -und ihre Achsen miteinander in Reihe liegen. In diesem Ausführungsbeispiel sind dieare fixed, and the covered optical fibers 66 are fixed in respective third keyways 18. The respective keyways 14, 16 and 18 are designed in such a way that that they communicate with one another - and that their axes are in series with one another. In this embodiment, the Keilnuten als sich nach außen zu verbreiternde "U"-förmige Keilnuten ausgebildet. Es sollte jedoch angemerkt sein, daß die Form dieser Keilnuten nicht darauf beschränkt ist, wie bereits zuvor erläutert wurde.Keyways as "U" -shaped, widening outwards Keyways formed. It should be noted, however, that the shape of these keyways is not limited to how has already been explained earlier.

Fig. 32 zeigt eine Vorrichtung, in der ein Paar von optischen Verbindern gemäß Fig. 30 und Fig. 31 miteinander verbunden sind, die Linsen 36 des Gradiententyps haben, weiche miteinander in Verbindung stehen. Die optischen Verbinder können durch Anordnung eines gemeinsamen Verbindungsstiftes 68 in der vierten Keilnut 64, die üblicherweise an beiden Seiten der Grundplatte 10 ausgebildet ist, und durch Einstecken des Stiftes in eine Abdeckplatte (nicht gezeigt)Fig. 32 shows an apparatus in which a pair of optical connectors shown in Fig. 30 and Fig. 31 having gradient type lenses 36 are connected to each other are related to each other. The optical connectors can be arranged by arranging a common connecting pin 68 in the fourth keyway 64, which is usually on both Sides of the base plate 10 is formed, and by inserting the pin into a cover plate (not shown) zum Fixieren der beiden Endbereiche des Stiftes und der Grundplatten mit Schrauben (nicht gezeigt) oder irgendwelchen anderen geeigneten Mitteln miteinander verbunden werden. Es ist außerdem möglich, eine Abdeckplatte (nicht gezeigt) zu montieren und eine Öffnung zwischen der Untersei-to fix the two end regions of the pin and the base plates with screws (not shown) or any other suitable means. It is also possible to mount a cover plate (not shown) and an opening between the bottom te dieser Abdeckplatte und der betreffenden Keilnut derte this cover plate and the relevant keyway of the Grundplatte zu bilden, in die hinein ein gemeinsamer Verbindungsstift eingeführt und mit einer Feder (nicht gezeigt) fixiert wird. Der freie Endbereich des Verbindungsstiftes kann in eine andere Öffnung, die durch eine andere GrundTo form the base plate, into which a common connecting pin is inserted and secured with a spring (not shown) is fixed. The free end region of the connecting pin can be inserted into another opening made by another reason platte und eine andere Abdeckplatte gebildet ist, einge führt werden, die auf die gleiche Weise miteinander verbunden sind.plate and another cover plate is formed, turned that are connected to each other in the same way.

Die vorliegende Erfindung gestattet eine Vereinfachung der Substratstruktur zum Fixieren und Verbinden einer optischen Faser mit einer Linse des Gradiententyps mit hoher Genauigkeit und auf leicht Art und Weise. Die Anwendung einer herkömmlichen Technik zum Ausbilden einer dünnen Schablonenschicht zur Ausbildung von Keilnuten auf der Grundplatte aus einem Silizium-Einkristall gestattet eine hochgenaue und leichte Anordnung von Keilnuten, in denen die optischen Fasern und die Gradientenlinsen fixiert sind. Diese Vorteile, die durch die vorliegende Erfindung gegeben sind, gestatten außerdem einen Zusammenbau des Substrats mit anderen Teilen für eine optische Vorrichtung mit extrem hoher Genauigkeit und auf leicht Art und Weise.The present invention allows simplification of the A substrate structure for fixing and connecting an optical fiber to a gradient type lens with high accuracy and easily. The use of a conventional technique of forming a stencil thin layer to form keyways on the base plate from a silicon single crystal allows a highly accurate and easy arrangement of keyways in which the optical fibers and the gradient lenses are fixed. These advantages afforded by the present invention also allow the substrate to be assembled with other parts for an extremely high optical device Accuracy and in an easy way.

Der PatentanwaltThe patent attorney

U/tUU / tU

Claims (1)

Dipl.-Ing. H. MITSCHERLICH * D-8000 MÖNCHEN 22Dipl.-Ing. H. MITSCHERLICH * D-8000 MÖNCHEN 22 Dipi.-Ing. K. GUNSCHMANN Steinsdorfstraße 10Dipi. -I ng. K. GUNSCHMANN Steinsdorfstrasse 10 Dr.rer.nat. W. KÖRBER ^ (089) ' 29 " 84 Dr.rer.nat. W. KÖRBER ^ (089) '29 " 84 Dipl.-Ing. J. SCHMIDT-EVERS
PATENTANWÄLTE
Dipl.-Ing. J. SCHMIDT-EVERS
PATENT LAWYERS
24. Februar 1982February 24, 1982 Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
8,4-chome, Doshomachi, Higashi-ku,
Osaka,
JAPAN
Nippon Sheet Glass Co., Ltd.
8,4-chome, Doshomachi, Higashi-ku,
Osaka,
JAPAN
Ansprüche:Expectations: 1. Fixierungsstruktur zum Fixieren von optischen Fasern und Linsen des Gradiententyps, dadurch gekennzeichnet , daß eine Grundplatte (10) aus einem Silizium-Einkristall vorgesehen ist, die eine Oberfläche (12), welche in ihrer Ebene mit einer Ebene (100) des Silizium-Einkristalls korrespondiert, sowie eine erste Keilnut (14) und eine zweite Keilnut (16), die in der Oberfläche (12) derart ausgebildet sind, daß sie Seitenwände (14a bzw. 16a) haben, welche mit Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren, hat, daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß sie eine Linse (36) des Gradiententyps durch ihre Seitenwände (14a) fixieren kann, und daß die zweite Keilnut (16) derart ausgebildet ist, daß sie eine optische Faser (38) durch ihre Seitenwände (16a) fixieren kann .1. Fixation structure for fixing optical fibers and Lenses of the gradient type, characterized in that a base plate (10) made of a silicon single crystal is provided which has a surface (12) which is in its plane with a plane (100) of the silicon single crystal corresponds, as well as a first keyway (14) and a second keyway (16), which in the surface (12) are designed in such a way that they have side walls (14a or 16a) have which with planes (111) of the silicon single crystal correspond, has that the first keyway (14) is formed to be a lens (36) of the gradient type by its side walls (14a) can fix, and that the second keyway (16) is formed such that it is a optical fiber (38) can fix through its side walls (16a). 2. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1, dadurch g e kennzei chnet , daß sich die erste Keilnut (14) in Breite und Tiefe von der zweiten Keilnut (16) unterschei· det.2. Fixation structure according to claim 1, characterized g e mark It is ensured that the first keyway (14) differs in width and depth from the second keyway (16). det. 3. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzei chnet , daß die erste Keilnut (14) und die zweite Keilnut (16) jeweils einen V-förmigen oder einen sich nach außen zu verbreiternden quadratischen, U-förmigen Querschnitt haben.3. Fixation structure according to claim 1 or 2, characterized gekennzei chnet that the first keyway (14) and the second keyway (16) each have a V-shaped or a square that widens outwards, Have a U-shaped cross-section. -Z--Z- 4. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß deren Hohlraum mit dem Hohlraum der zweiten Keilnut (16) in Verbindung steht.4. Fixation structure according to claim 1 or 2, characterized characterized in that the first keyway (14) is formed so that its cavity is flush with the cavity communicates with the second keyway (16). 5. Fixierungsstruktur nach Anspruch 3, dadurch g e -5. Fixation structure according to claim 3, characterized in that g e - k e η η ζ e i c h η e t , daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß deren Hohlraum mit dem Hohlraum der zweiten Keilnut (16) in Verbindung steht. IOk e η η ζ e i c h η e t that the first keyway (14) such is designed that its cavity is in communication with the cavity of the second keyway (16). IO 6. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß ihre Achse entweder genau auf die Achse der zweiten Keilnut (16) ausgerichtet ist oder nicht mit dieser Übereinstimmt.6. Fixation structure according to claim 1 or 2, characterized characterized in that the first keyway (14) is formed so that its axis is either exactly on the axis of the second keyway (16) is aligned, or does not match this. 7. Fixierungsstruktur nach Anspruch 3, dadurch g e kennzeichnet, daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß ihre Achse entweder genau auf die Achse der zweiten Keilnut (16) ausgerichtet ist oder nicht mit dieser tibereinstimmt.7. Fixation structure according to claim 3, characterized in that that the first keyway (14) is formed such that its axis is either exactly on the axis or not aligned with the second keyway (16) this agrees. 8. Fixierungsstruktur nach Anspruch 4, dadurch g e -8. Fixation structure according to claim 4, characterized in that g e - k e η η ζ e i c h η e t , daß die erste Keilnut (14) derart ausgebildet ist, daß ihre Achse entweder genau auf die Achse der zweiten Keilnut (16) ausgerichtet ist oder nicht mit dieser übereinstimmt.k e η η ζ e i c h η e t that the first keyway (14) such is designed that its axis is either precisely aligned with the axis of the second keyway (16) or not with this matches. 9. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch9. Fixation structure according to claim 1 or 2, characterized gekennzei chnet , daß die erste Keilnut (14) bzw. die zweite Keilnut (16) derart ausgebildet ist, daß deren Seitenwände (14a bzw. 16a) in einer 1inienförmigen Berührung mit der Umfangsoberf1äche der Linse (36) des Gradiententyps bzw. der optischen Faser (38) stehen.gekennzei chnet that the first keyway (14) and the second keyway (16) is formed such that their side walls (14a and 16a) in a 1-line shape Contact with the peripheral surface of the gradient type lens (36) or the optical fiber (38). 10. Fixierungsstruktur nach Anspruch 3, dadurch g e -10. Fixation structure according to claim 3, characterized in that - k e η η ζ e i c h η e t , daß die erste Keilnut (14) bzw. die zweite Keilnut (16) derart ausgebildet ist, daß derenk e η η ζ e i c h η e t that the first keyway (14) or the second keyway (16) is formed such that their Seitenwände (14a bzw. 16a) in einer linienförmigen Berührung mit der Umfangsoberf1äche der Linse (36) des Gradiententyps bzw. der optischen Faser (38) stehen.Side walls (14a or 16a) in a linear contact with the peripheral surface of the gradient type lens (36) or the optical fiber (38). 11. Fixierungsstruktur nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Keilnut (14) bzw. die zweite Keilnut (16) derart ausgebildet ist, daß deren Seitenwände (14a bzw. 16a) in einer linienförmigen Berührung mit der Umfangsoberf1äche der Linse (36) des Gradiententyps bzw. der optischen Faser (38) stehen.11. Fixation structure according to claim 4, characterized in that the first keyway (14) or the second keyway (16) is formed such that its side walls (14a and 16a, respectively) are in linear contact with the peripheral surface of the gradient type lens (36) or the optical fiber (38). 12. Fixierungsstruktur nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Keilnut (14) bzw. die zweite Keilnut (16) derart ausgebildet ist, daß deren Seitenwände (14a bzw. 16a) in einer linienförmigen Berührung mit der Umfangsoberf1äche der Linse (36) des Gradiententyps bzw. der optischen Faser (38) stehen.12. Fixation structure according to claim 6, characterized in that the first keyway (14) or the second keyway (16) is formed such that its side walls (14a and 16a, respectively) are in linear contact with the peripheral surface of the gradient type lens (36) or the optical fiber (38). 13. Fixierungsstruktur nach Anspruch 1 oder 2, dadurch13. Fixation structure according to claim 1 or 2, characterized 20gekennzeichnet, daß die Oberfläche (12) des Silizium-Einkristalls mit einer dritten Keilnut (18) versehen ist.20 indicated that the surface (12) of the silicon single crystal is provided with a third keyway (18) is. 14. Fixierungsstruktur nach Anspruch 13, dadurch g e k e η η ζ e i c h η e t , daß die dritte Keilnut (18) in einer Vielzahl vorgesehen ist.14. Fixation structure according to claim 13, characterized in that g e k e η η ζ e i c h η e t that the third keyway (18) in a plurality is provided. 15. Fixierungsstruktur nach Anspruch 13 oder 14, dadurch g e k e η η ζ e i c h η e t , daß die dritte Keilnut (18) derart ausgebildet ist, daß deren Hohlraum mit dem Hohlraum der ersten Keilnut (14) und dem der zweiten Keilnut (16) in Verbindung steht.15. Fixation structure according to claim 13 or 14, characterized g e k e η η ζ e i c h η e t that the third keyway (18) is designed such that its cavity with the cavity of the first keyway (14) and that of the second keyway (16) in Connection. 16. Fixierungsstruktur nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die dritte Keilnut (18) einen V-förmigen oder U-förmigen Querschnitt hat.16. Fixation structure according to claim 13 or 14, characterized characterized in that the third keyway (18) has a V-shaped or U-shaped cross section. 17. Fixierungsstruktur nach Anspruch 15, dadurch ge-17. Fixation structure according to claim 15, characterized in that 206600206600 e("Ή8 J1 e-inen r I:s Vie %^ ^ii&rftil era e ("Ή8 J 1 e-inen r I: s Vie% ^ ^ ii & rftil era chU röftr ifcitg&n 7QiMD^CS§h%i fct)Qh0^t während eines Durc h tri 11s von Gaseπ bestehend aus SiH„C1„ und NK0, durchgelf^iiirliW^W1Qsstruktur nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet , daß die dritte Keilnut (18)chU röftr ifcitg & n 7QiMD ^ CS§h% i fct) Qh 0 ^ t during a Durc h tri 11s of gases " consisting of SiH" C1 "and NK 0 , through gelf ^ iiirliW ^ W 1 Qs structure according to claim 13 or 14, characterized that the third keyway (18) p ^ g,e%au aufp ^ g, e% au on de η &r s,t ^n eK %i \ η uj% β (Tj^ ^ i^dj/i (^r ιά^ A^hrsend,^ e(sIr^)1 tausgerichtet ist oder nicht mit die-de η & r s, t ^ n e K% i \ η uj% β (Tj ^ ^ i ^ dj / i (^ r ιά ^ A ^ hrsend, ^ e ( s Ir ^) 1 is aligned or not with the- elit
ser/diesen übereinstimmt.
elite
ser / these match.
26. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch g e l<9e fti^i 26. The method according to claim 23 or 24, characterized in that l < 9 e fti ^ i ersten Keilnut (14) und/oder die Achse der zweiten Keilnut (16) ausgerichtet ist oder nicht mit dieser/die ??n i$l&S-iF%i#%toiWB1Ih Anspruch 2 5, dadurch g e k e η η zeichnet s daß die Schicht (20} durch chemischesfirst keyway (14) and / or the axis of the second keyway (16) is aligned or not with this / the ?? ni $ l & S-iF% i #% toiWB 1 Ih claim 2 5, characterized geke η η denotes that the Layer (20} by chemical 2:0) g:e§i hr%dk %u^r^dhr<er^ el n^ Pl ts^i^ 4,ei^ajrt ausgebildet ist, daß deren Seitenwände (18A) in einer 1inienförmigen Berührung mit der Umfangsoberf1äche der2: 0) g: e§i hr% dk% u ^ r ^ dhr <er ^ el n ^ Pl ts ^ i ^ 4, ei ^ ajrt is formed that their side walls (18A) are in linear contact with the circumferential surface the z^fiddi^r.opli getieft ^as;er (38) t>Pj |e^B ^BOSe11 {3%\ sugd^oder n sind · z ^ fiddi ^ r.opli deepened ^ as ; er (38) t> Pj | e ^ B ^ BOSe 11 {3% \ s ugd ^ or n are · l 5ZW# ^er optischen Faser (38)l 5 ZW # ^ er optical fiber (38) stehen oder von einer Berührung mit der Linse (36) und/oderstand or from contact with the lens (36) and / or fftin^.e k e n fi . ζ e i c h η e t s daß der Sehnte gemäß (6) mi 11& 1 ε oer ^iS^t^r^tfigsstff^ttf^cftfi?b fiQPBR^frü^t dJ^arch 9 e kennzeichnet, daß die dritte Keilnut (18) der- fftin ^ .e ken fi . ζ eich η et s that the chord according to (6) mi 11 & 1 ε oer ^ i S ^ t ^ r ^ tfigsstff ^ ttf ^ c ftfi? b fiQPBR ^ Früh ^ t d J ^ a rch 9 e indicates that the third Keyway (18) der- ^^^Whnd% ^1^^ >,nrevner n,i qn^ör^m^ge.n tBer t^l^iQUq,^rra^%24%*?·9Mi1R^a«ih9 ^^^ Wh nd % ^ 1 ^^>, n r evner n, i qn ^ ör ^ m ^ ge.n t Ber t ^ l ^ iQUq, ^ r ra ^% 2 4% *? · 9Mi 1 R ^ a «ih9 -δ-se (36) des Gradiententyps bzw. der optischen Faser (38) stehen oder von einer Berührung mit der Linse (36) und/oder der optischen Faser (38) freigehalten sind.-δ-se (36) of the gradient type or the optical fiber (38) or are kept free from contact with the lens (36) and / or the optical fiber (38). 23. Verfahren zur Herstellung einer Fixierungsstruktur zum Fixieren einer Linse des Gradiententyps und zumindest einer optischen Faser, g e k e η η ζ e i c h η e t durch folgende Schritte:23. A method of manufacturing a fixation structure for fixing a gradient type lens and at least one optical fiber, g e k e η η ζ e i c h η e t by the following Steps: Π) Ausbilden einer SiO^-Schicht (20) zum Herstel 1 en einer Ätzmaske auf der Oberfläche (12) einer Grundplatte (10) aus einem Silizium-Einkristall, wobei die Oberfläche (12) derart ausgebildet ist, daß sie mit einer Ebene (100) des Silizium-Einkristalls korrespondiert;Π) Forming a SiO ^ layer (20) for the manufacture of one Etching mask on the surface (12) of a base plate (10) made of a silicon single crystal, the surface (12) is designed such that it corresponds to a plane (100) of the silicon single crystal; (2) Ausbilden einer Fotolackschicht (22) auf der Oberfläche der späteren Ätzmaske, nämlich der SiO^-Schicht (20);(2) Form a photoresist layer (22) on the surface the later etching mask, namely the SiO ^ layer (20); (3) Ausbilden einer Fotomaske (24) auf der Oberfläche der Fotolackschicht (22), welche Fotomaske (24) eine vorbestimmte Schablone (32) mit einem Schablonenbereich (32B), der lichtdurchlässig ist, und mit einem Schablonenbereich (32A), der lichtundurchlässig ist, darstellt;(3) Forming a photomask (24) on the surface of the photoresist layer (22), which photomask (24) has a predetermined one Template (32) with a template area (32B) which is translucent and with a template area (32A), which is opaque, represents; (4) Belichten der Fotomaske (24) mit Lichtstrahlen und Entwickeln der Schablone (32);(4) Exposing the photomask (24) to light rays and developing the template (32); (5) Entfernen des lichtundurchlässigen Schablonenbereiches (32A) von der Fotomaske (24) und der Fotolackschicht (22);(5) Remove the opaque area of the stencil (32A) from the photomask (24) and the photoresist layer (22); (6) Ätzen der Grundplatte (10) mit der Schablone (32) zum Ausbilden von Keilnuten (14,16), die Seitenwände (14a, 16a) in einer Ebene (111) in bezug auf eine Ebene (100) der Grundplatte (10) haben; und falls notwendig(6) Etching the base plate (10) with the template (32) to form keyways (14,16), the side walls (14a, 16a) in a plane (111) with respect to a plane (100) of the base plate (10); and if necessary (7) Entfernen des Restes der Fotolackschicht (22) von der Grundplatte (10).(7) removing the remainder of the photoresist layer (22) from the Base plate (10). -δι 24. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt gemäß (1) in einem Temperaturbereich von etwa 75O0C bis 90O0C während eines Durchtritts von Gasen, bestehend aus SiHpCIp und NH3, durchgeführt wird.-δι 24. The method according to claim 23, characterized in that the step according to (1) in a temperature range of about 750 0 C to 90O 0 C during a passage of gases consisting of SiHpClp and NH 3 , is carried out. 25. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch g e -25. The method according to claim 23 or 24, characterized in that - k e η η ζ e i c h η e t , daß die Schicht (20) aus einer Si3N4-Schicht besteht.ke η η ζ calibrate η et that the layer (20) consists of a Si 3 N 4 layer. 26. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (20) durch chemisches Aufdampfen (CVD = Chemical V^apor Reposition) bei reduziertem Druck oder durch eine Plasma-CVD-Technik ausgebildet wird.26. The method according to claim 23 or 24, characterized in that the layer (20) by chemical Vapor deposition (CVD = Chemical V ^ apor Reposition) with reduced Pressure or formed by a plasma CVD technique will. 27. Verfahren nach Anspruch 25, dadurch gekennzeichnet, daß die Schicht (20) durch chemisches Aufdampfen (CVD = Chemical V^apor Reposition) bei reduziertem Druck oder durch eine Plasma-CVD-Technik ausgebildet wi rd.27. The method according to claim 25, characterized in that the layer (20) by chemical Vapor deposition (CVD = Chemical V ^ apor Reposition) with reduced Pressure or formed by a plasma CVD technique will. 28. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt gemäß (5) mittels der P1asma-Ätz-Technik durchgeführt wird.28. The method according to claim 23, characterized in that the step according to (5) by means of Plasma etching technique is carried out. 29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß der Schritt gemäß (5) mittels der Plasma-Ätz-Technik unter Einwirkung eines hochfrequenten elektrischen Feldes während eines Durchtritts von CF.-Gas durchgeführt wird.29. The method according to claim 28, characterized in that the step according to (5) by means of Plasma etching technique under the action of a high frequency electric field is carried out during a passage of CF. gas. 30. Verfahren nach Anspruch 23, dadurch g e k e η η -30. The method according to claim 23, characterized in that g e k e η η - ζ e i c h η e t , daß der Schritt gemäß (6) mittels der anisotropen Ätz-Technik durchgeführt wird.ζ e i c h η e t that the step according to (6) by means of the anisotropic etching technique is carried out. 31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet , daß der Ätzvorgang mittels einer alkali- 31. The method according to claim 30, characterized in that the etching process by means of an alkaline -7-sehen Lösung durchgeführt wird.-7-see solution is carried out. 32. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet , daß die alkalische Lösung eine wässerige NaOH-Lösung oder ein wässerige KOH-Lösung ist.32. The method according to claim 31, characterized in that the alkaline solution is an aqueous one NaOH solution or an aqueous KOH solution. 33. Verfahren zur Herstellung einer Fixierungsstruktur zum Fixieren einer Linse des Gradiententyps und zumindest einer optischen Faser, gekennzei chnet durch fol-33. Process for the production of a fixation structure for Fixing a lens of the gradient type and at least one optical fiber, marked by the following gende Schritte:following steps: (1) Schneiden eines Silizium-Einkristalls längs dessen Ebene (100), um eine Grundplatte (10) zu gewinnen, und
Polieren einer in der Ebene (100)■1 legenden planen Oberfläche (12);
(1) cutting a silicon single crystal along its plane (100) to obtain a base plate (10), and
Polishing a plane surface (12) lying in the plane (100);
(2) Aufbringen einer SiO2-Schicht (26) auf die Oberfläche
(12);
(2) Application of an SiO 2 layer (26) to the surface
(12);
(3) Aufbringen einer Fotolackschicht (28) auf die Oberfläche der SiO^-Schicht (26);(3) Applying a layer of photoresist (28) to the surface the SiO ^ layer (26); (4) Herstellen einer Ätzmaske (30), die eine vorbestimmte
Schablone (32) darstellt, auf der Oberfläche der Fotolackschicht (28);
(4) producing an etching mask (30) having a predetermined
Stencil (32) on the surface of the photoresist layer (28);
(5) Belichten der Ätzmaske (30) und Entfernen von deren
belichteten Bereichen (32A);
(5) Exposing the etching mask (30) and removing it
exposed areas (32A);
(6) Entfernen des Bereiches der SiOp-Schicht (26), der mit dem belichteten Bereich (32B) der Ätzmaske (30) korrespondiert; (6) Removal of the area of the SiOp layer (26), which is with the exposed area (32B) of the etching mask (30) corresponds; (7) Ätzen der Grundplatte (10) mittels der entstandenen
Schablone (32), um zumindest eine Keilnut (14 und/oder
(7) Etching of the base plate (10) using the resulting
Template (32) to at least one keyway (14 and / or
16) auszubilden, die Seitenwände (14a und/oder 16a) mit einer Ebene (111) in bezug auf die mit der Ebene (10Ü) korrespondierenden planeren Oberfläche (12) der Grund-16) to form the side walls (14a and / or 16a) with a plane (111) in relation to the plane (10Ü) corresponding planar surface (12) of the basic --0-till 2 epilaltie i IcS )t h^bcemß; «tosdwefiatlelv^ererefW-d^Llii'cfischa 1 ter vorge sehen i s t „ eier die Fixierungsstruktur, die die L in se (36) (tSr)d Eiiitifeitrtnteyic d«eisn φ. esrtfeiss «d&r isei©|r-sfc¥ich"t^26;) .^i ΐ e"< iier M a t r iχ νon Schalte!erneηten (50) νe r b i η ti e ί . 34. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch gekennzeichnet , daß der Schritt gemäß (6) durch Behandlung mit Flußsäure durchgeführt wird. --0-ti ll 2 epilaltie i IcS) th ^ bcemß; «Tosdwefiatlelv ^ ererefW-d ^ Llii'cfischa 1 ter is provided for the fixation structure which the L in se (36) (tSr) d Eiiitifeitrtnteyic d« eisn φ. esrtfeiss «d & r isei © | r-sfc ¥ i" t ^ 26 ; ). ^ i ΐ e "< iier M atr iχ νon Schalte! erneηten (50) νe rbi η ti e ί. 34. The method according to claim 33, characterized in that the step according to (6) is carried out by treatment with hydrofluoric acid. 35. Verfahren nach Anspruch 33, dadurch g e k e η η 10ο ζ e i c h η e t , daß der Schritt gemäß (7) mittels eines anisotropen Ätzvorganges durchgeführt wird.35. The method according to claim 33, characterized in that g e k e η η 10ο ζ e i c h η e t that the step according to (7) by means of a anisotropic etching process is carried out. 36. Verfahren nach Anspruch 35, dadurch gekennzeichnet, daß der Ätzvorgang mittels einer alkali- 36. The method according to claim 35, characterized in that the etching process by means of an alkaline 1§5 sehen Lösung durchgeführt wird.1§5 see solution is carried out. 37. Verfahren nach Anspruch 36, dadurch g e k e η η zei chnet , daß die alkalische Lösung eine wässerige NaOH-Lösung oder eine wässerige KOH-Lösung ist.37. The method according to claim 36, characterized in that g e k e η η zei Calculates that the alkaline solution is an aqueous NaOH solution or an aqueous KOH solution. 38. Vorrichtung, dadurch gekennzei chnet , daß eine Fixierungsstruktur vorgesehen ist, die eine Linse (36) des Gradiententyps und zumindest eine optische Faser (38) fixieren kann, daß die Fixierungsstruktur aus einer Grund-38. Device, characterized in that a fixation structure is provided which includes a lens (36) of the gradient type and at least one optical fiber (38) can fix that the fixation structure for a basic 2Ei5platte (10) aus einem Silizium-Einkristall mit einer Oberfläche (12) besteht, die mit der Ebene (100) des Silizium-Einkristalls korrespondiert und eine erste Keilnut (14) und eine zweite Keilnut (16) aufweist, welche Keilnuten an der Oberfläche (12) derart ausgebildet sind, daß sie Seitenwän-2Ei5platte (10) made of a silicon single crystal with one surface (12), which coincides with the plane (100) of the silicon single crystal corresponds and a first keyway (14) and has a second keyway (16) which keyways on the surface (12) are formed so that they side walls 3Q0de (14a bzw. 16a) haben, die mit Ebenen (111) des Silizium-Einkristalls korrespondieren, daß die Linse (36) auf den Seitenwänden (14a) der ersten Keilnut (14) fixiert ist und daß die optische Faser (38) auf den Seitenwänden (16a) der zweiten Keilnut (16) fixiert ist.3Q0de (14a or 16a) that coincide with planes (111) of the silicon single crystal correspond that the lens (36) is fixed on the side walls (14a) of the first keyway (14) and that the optical fiber (38) is fixed on the side walls (16a) of the second keyway (16). 39. Vorrichtung nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, daß die Linse (36) des Gradiententyps mit der optischen Faser (38) derart verbunden ist, daß die Ach-39. Apparatus according to claim 38, characterized in that the lens (36) of the gradient type with the optical fiber (38) is connected in such a way that the axis 320G600320G600 se der Linse (36) mit der Achse der optischen Faser (38) korrespondi ert.se of the lens (36) with the axis of the optical fiber (38) corresponds. 40. Vorrichtung nach Anspruch 38, dadurch g e k e η η ζ e i c h η e t , daß die Linse (36) des Gradiententyps mit der optischen Faser (38) derart verbunden ist, daß die Achse der Linse (36) nicht mit der Achse der optischen Faser (38) übereinstimmt.40. Apparatus according to claim 38, characterized in that g e k e η η ζ e i c h η e t that the lens (36) of the gradient type with the optical fiber (38) is connected so that the axis of the lens (36) does not coincide with the axis of the optical fiber (38) matches. 41. Vorrichtung nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, daß desweiteren eine dritte Keilnut (18) auf der Oberfläche (12) der Grundplatte (10) derart ausgebildet ist, daß deren Hohlraum mit dem der ersten Keilnut (14) und mit dem der zweiten Keilnut (16) in Verbindung steht, und daß ein Mittel zum Schalten des Übertragungsweges für Licht bzw. Lichtstrahlen, die von der optischen Faser (38) und daran anschließend von der Linse (36) vom Gradiententyp übertragen werden, vorgesehen ist, wobei dieses Mittel innerhalb der dritten Keilnut (18) angebracht ist.41. Apparatus according to claim 38, characterized in that a third keyway (18) is formed on the surface (12) of the base plate (10) so that its cavity coincides with that of the first keyway (14) and with that of the second keyway (16) in connection is, and that a means for switching the transmission path for light or light rays from the optical Fiber (38) and then transmitted from the gradient type lens (36) is provided, this Means is mounted within the third keyway (18). 42. Vorrichtung nach Anspruch 41, dadurch gekennzeichnet, daß das Mittel zum Übertragen von Licht oder Lichtstrahlen aus einem Prisma (54) oder einem HaIbspiegel (44, 52) besteht.42. Apparatus according to claim 41, characterized in that the means for transmitting light or light rays from a prism (54) or a half mirror (44, 52) exists. 43. Vorrichtung nach Anspruch 38, dadurch gekennzeichnet, daß eine Kombination oder Zuordnung mit oder zu einem zusätzlichen Satz oder mehreren zusätzlichen Sätzen von Fixierungsstrukturen vorgesehen ist, auf denen Linsen (36) und optische Fasern (38) derart fixiert sind, daß Licht von einem Satz der Fixierungsstruktur zu dem anderen Satz oder zu den anderen Sätzen durch Schalten des Übertragungsweges für das Licht oder die Lichtstrahlen in sich gegenüberliegenden Richtungen oder in unterschiedlichen Wegen zu übertragen ist.43. Apparatus according to claim 38, characterized in that a combination or association with or to an additional set or more additional sets of fixation structures is provided on which Lenses (36) and optical fibers (38) are fixed so that light passes from one set of the fixing structure to the other Sentence or to the other sentences by switching the transmission path for the light or the light rays in themselves opposite directions or in different directions Because of is to be transferred. 44. Vorrichtung nach Anspruch 38, dadurch g e k e η η -44. Apparatus according to claim 38, characterized in that g e k e η η - z e i c h η e t , daß desweiteren ein Matrixschalter vorge· sehen ist, der die Fixierungsstruktur, die die Linse (36) und zumindest eine optische Faser (38) trägt, mit einer Matrix von Schaltelementen (50) verbindet.z e i c h η e t that a matrix switch is also provided can be seen of the fixation structure that holds the lens (36) and carrying at least one optical fiber (38) connecting to a matrix of switching elements (50).
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