DE3206108A1 - SILVER-FREE, POSITIVELY WORKING, SENSITIVITY TO ESSENTIAL RADIATION AND IN ESSENTIAL ALKALI-INSOLUBLE DIMENSIONS - Google Patents
SILVER-FREE, POSITIVELY WORKING, SENSITIVITY TO ESSENTIAL RADIATION AND IN ESSENTIAL ALKALI-INSOLUBLE DIMENSIONSInfo
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- G03F7/0226—Quinonediazides characterised by the non-macromolecular additives
Description
- 5 1 - 5 1
Beschreibungdescription
Die Erfindung betrifft Vervielfältigungsfilme, die als 5The invention relates to duplicating films which are used as 5
Masken für die Herstellung von lithographischen Druckplatten geeignet sind. Die Erfindung betrifft insbesondere neue silberfreie, positiv arbeitende Beschichtungsmassen, strahlungsempfindliche Elemente, die die genannten Überzugsmassen enthalten und Vervielfältigungsfilme, die aus den genannten strahlungsempfindlichen Elementen hergestellt worden sind.Masks are suitable for the production of lithographic printing plates. The invention particularly relates to new silver-free, positive-working coating compounds, radiation-sensitive elements, the above-mentioned coating compounds contain and duplicating films made from said radiation-sensitive elements have been.
In der Graphik wird eine lithographische Druckplatte dadurch hergestellt, daß eine vorsensibilisierte Platte, die ein Substrat enthält, das mit einer positiv oder negativ arbeitenden, gegenüber Strahlung empfindlichen Masse, beschichtet worden ist, einer Strahlung ausgesetzt wird und anschließend eine Entwicklung erfolgt. Das bildweise erfolgende Aussetzen bzw. Belichten erfolgt dadurch, daß die Strahlung durch eine Maske,"umfassend einen transparenten Film, der darauf Bereiche aufweist, die gegenüber der Strahlung durchlässig oder undurchlässig sind, auf die vorsensibilisierten Platten geleitet wird.In graphics, a lithographic printing plate is made by using a presensitized plate, the contains a substrate coated with a positive or negative working, radiation sensitive composition is exposed to radiation and then developed. The image-by-image Exposure or exposure takes place in that the radiation through a mask, "comprising a transparent Film having thereon areas which are transparent or opaque to radiation on the presensitized Plates is directed.
Im Falle einer negativen Platte, die dem Licht durch eine negative Transparenz ausgesetzt worden ist, wird das lichtempfindliche Material, das üblicherweise eine Diazo-Verbindung ist, erhärtet und dadurch in einer Desensibilisie- - rungslösung unlöslich, die auf die Platten nach dem Belichten aufgebracht wird, um denjenigen Teil des lichtempfindlichen Überzugs zu entfernen, der nicht lichtgehärtet wurde, weil er vom Licht des Negativs geschützt war. Die lichtgehärtete Oberfläche einer negativen Platte ist die oleo-„c phile Oberfläche, die mit der fettigen Druckfarbe verträglich ist und sie wird als "Bildbereich" bezeichnet. Die Oberfläche, von der das nicht gehärtete lichtempfindlicheIn the case of a negative plate that has been exposed to light through a negative transparency, it becomes photosensitive Material, which is usually a diazo compound, hardens and thus in a desensitization - Insoluble solution, which is applied to the plates after exposure to that part of the photosensitive Remove any coating that was not light cured because it was shielded from the light of the negative. The light-cured surface of a negative plate is the oleo- “c phile surface that is compatible with the greasy printing ink and it is referred to as the "image area". the Surface from which the uncured photosensitive
Material durch ein Desensibilisierungsmittel entfernt worden ist, wird zu einer hydrophilen Oberfläche, oder kann in eine solche umgewandelt werden, welche nur eine geringfügige Affinität gegenüber der fettigen Druckfarbe hat und sie wird als "Nicht-Bildbereich" bezeichnet.Material that has been removed by a desensitizer becomes, or may, become a hydrophilic surface be converted into one which has only a slight affinity for the greasy printing ink and it is referred to as the "non-image area".
Eine positive Platte ist im allgemeinen eine solche, auf der der Nicht-Bildbereich der Teil der lichtempfindlichen Diazo-Verbindung ist, der dem Licht ausgesetzt ist, während der dem Licht nicht ausgesetzte Teil entweder oleophil ist oder so ausgestaltet ist, daß er durch eine chemische Reaktion in einen gehärteten oleophilen, für die Druckfarbe aufnahmefähigen Bildbereich umgewandelt werden . ς kann.A positive plate is generally one in which the non-image area is the portion of the photosensitive diazo compound which is exposed to light, while the portion which is not exposed to light is either oleophilic or is chemically designed Reaction into a hardened oleophilic image area that is receptive to the printing ink. ς can.
Es ist bekannt, Vervielfältigungsmasken aus transparenten Substraten zu verwenden, deren erste Oberfläche mit silberhaltigen Massen beschichtet war, die bildweise der Strähne lung ausgesetzt worden waren und sodann entwickelt worden waren, wodurch die überzüge in den der Strahlung nicht ausgesetzten Bereichen entfernt wurden, wodurch der Durchlaß der Strahlung gestattet wurde, während die der Strahlung ausgesetzten Bereiche nach bildweise erfolgendem Aussetzen 2c der Strahlung einer vorsensibilisierten Platte durch die Masse undurchlässig wurden, wodurch der Durchgang der Strahlung verhindert wird.It is known to make duplication masks from transparent Use substrates whose first surface is coated with silver Was coated masses that had been exposed imagewise to the streak and then developed which meant that the coatings in the areas were not exposed to radiation Areas were removed, allowing the radiation to pass while that of the radiation exposed areas after imagewise exposure 2c to radiation from a presensitized plate through the Mass became impermeable, preventing the passage of radiation.
Obgleich auf diese Weise hergestellte Masken eine ausge-3Q zeichnete Qualität haben, sind sie aufgrund der hohen Kosten des Silbers sehr teuer. Es wurden daher umfangreiche Untersuchungen durchgeführt, um Vervielfältigungsfilme herzustellen, die silberfrei sind.Although masks made in this way show excellent results are of excellent quality, they are very expensive due to the high cost of silver. It was therefore extensive Research conducted to produce duplicating films, which are silver free.
Ein in der JA-PS 76-69627 beschriebenes, silberfreies Element zur Herstellung von Maskierungsfilmen enthält einen doppelschichtigen Überzug auf einem transparenten Substrat.A silver-free element for making masking films described in JA-PS 76-69627 contains one double-layer coating on a transparent substrate.
_ 7 — '_ 7 - '
Eine Schicht dieses Überzugs, die sich in Kontakt mit dem Substrat befindet, enthält eine Komponente, die gegenüber der Strahlung undurchlässig ist. Die andere Schicht, die über der genannten undurchlässigen Schicht liegt, enthält eine gegenüber der Strahlung empfindliche Komponente. Nach der Entwicklung verbleiben transparente Bereiche der ursprünglichen Elemente, die nicht der Strahlung ausgesetzt worden waren und aus denen die lösliche photoempfindlicheA layer of this coating that is in contact with the The substrate contains a component that is opaque to the radiation. The other layer that is above said opaque layer contains a radiation sensitive component. To the development leaves transparent areas of the original elements that are not exposed to radiation had been and made up of the soluble photosensitive
.- und die undurchlässige Schicht entfernt worden sind und wobei die der Strahlung ausgesetzten Bereiche das Substrat, das mit der undurchlässigen Schicht beschichtet worden ist und mit der transparenten, lichtgehärteten Schicht darüber beschichtet worden ist, enthalten. Diese Überzüge sind.- and the impermeable layer has been removed and the areas exposed to radiation being the substrate, which has been coated with the opaque layer and with the transparent, light-cured layer over it has been coated. These coatings are
1ς aber im allgemeinen dick, wodurch die Auflösung des resultierenden Films vermindert wird. In der JA-PS 76-135691 wird ein weiteres silberfreies Element beschrieben, das einen doppelschichtigen Überzug aufweist, wobei die gegenüber der Strahlung undurchlässige Schicht ein im Vakuum abge- 1ς but generally thick, reducing the resolution of the resulting film. In JA-PS 76-135691, another silver-free element is described which has a double-layer coating, the layer impermeable to radiation being sealed off in a vacuum.
jn. schiedenes Metall enthält, das geätzt werden muß, damit nach dem Aussetzen an die Strahlung und die Entwicklung der belichteten, strahlungsempfindlichen Schicht der Durchgang der Strahlung während des Aussetzens der vorsensibilisierten lithographischen Platte an die Strahlung gestat- jn. contains separated metal which must be etched so that, after exposure to radiation and development of the exposed, radiation-sensitive layer, the passage of the radiation during exposure of the presensitized lithographic plate to the radiation is permitted.
2<r tet wird. Diese Elemente erfordern lange Aussetzungszeiten an die Strahlung und durch den A'tzprozeß werden Metallionen freigesetzt, die Beseitigungsprobleme mit sich bringen. Bei dem in der US-PS 4 149 888 beschriebenen Verfahren enthält das photoempfindliche Element ein transparen-2 <r. These elements require long exposure times Metal ions are released to the radiation and through the process, which cause problems of removal. In the process described in US Pat. No. 4,149,888, the photosensitive element contains a transparent
3Q tes, gegenüber der Strahlung empfindliches Element und ein mit Ammoniak aktiviertes Kupplungsmittel. Gemäß der dort beschriebenen Erfindung wird das Element bildweise der Strahlung ausgesetzt und entwickelt, wonach das transparente Bild undurchlässig gemacht wird, indem es Ammoniakdämpfen ausgesetzt wird. Hierdurch wird bewirkt, daß die nicht der Strahlung ausgesetzte transparente strahlungsempindliche Komponente mit dem Kupplungsmittel kuppelt,3Q tes element sensitive to radiation and a ammonia activated coupling agent. According to the invention described therein, the element is imagewise the Exposed to radiation and developed, after which the transparent image is made opaque by vapors of ammonia is exposed. This has the effect that the transparent one which is not exposed to radiation is radiation-sensitive Coupling the component with the coupling agent,
-β-1 -β-1
wodurch ein für die Strahlung undurchlässiges Produkt gebildet wird. Dieses Verfahren und daher auch das photoempfindliche Element hat den Nachteil, daß mit gesundheitsschädlichen Dämpfen gearbeitet wird und daß diese verworfen werden müssen. Ein weiteres silberfreies Element ist das Abschälsystem, das in der JA-PS 79-104 902 beschrieben wird, welches sich auf einer Verminderung der Adhäsionsfestigkeit an den Grenzflächen zwischen der photoempfindliehen Komponente und dem Substrat nach bildweisem Belichten aufbaut. Diese Systeme haben aber den Nachteil einer schlechten Auflösung.thereby forming a radiation opaque product. This process and therefore also the photosensitive one Element has the disadvantage that harmful vapors are used and that these are discarded Need to become. Another silver-free element is the peeling system described in JA-PS 79-104 902 which is based on a decrease in the adhesive strength at the interfaces between the photosensitive Component and the substrate builds up after imagewise exposure. However, these systems have the disadvantage of a bad resolution.
Durch die Erfindung wird nun der Nachteil der oben beschriebenen silberfreien Elemente überwunden, während Masken mit ähnlicher Qualität wie die teureren silberhaltigen Masken zur Verfügung gestellt werden. Weiterhin werden durch die Erfindung strahlungsempfindliche Elemente zur Verwendung bei ihrer Herstellung und eine Masse, die für ~~ Herstellung solcher Elemente geeignet ist, zur Verfügung gestellt.The invention overcomes the disadvantage of the silver-free elements described above, while masks with a quality similar to that of the more expensive silver-containing masks. Continue to be by the invention radiation-sensitive elements for use in their manufacture and a mass for ~~ Making such items suitable is available posed.
Durch die Erfindung werden billige Ersatzstoffe für silberhaltige Massen zur Verfügung gestellt, die zur Herstellung rye von strahlungsempfindlichen Elementen verwendet werden können, welche in Vervielfältigungsmasken zur Herstellung von lithographischen Druckplatten umgewandelt werden können.The invention provides inexpensive substitutes for silver-containing compositions which can be used to produce radiation-sensitive elements which can be converted into duplicating masks for the production of lithographic printing plates.
Gegenstand der Erfindung ist eine silberfreie, positiv ar-3Q beitende, gegenüber Strahlung empfindliche und im wesentlichen alkaliunlösliche Masse, die dadurch gekennzeichnet ist, daß sieThe invention relates to a silver-free, positive ar-3Q active, radiation-sensitive and essentially alkali-insoluble mass, which is characterized by is, that you
a)mindestens eine positiv arbeitende, gegenüber Strahlung empfindliche und im wesentlichen alkaliunlösliche Komponente,a) at least one positive working against radiation sensitive and essentially alkali-insoluble component,
b) mindestens eine die Strahlung absorbierende Komponente undb) at least one component absorbing the radiation and
. » ν * ft. »Ν * ft
c) mindestens ein alkalilösliches polymeres Bindemittel enthält,c) at least one alkali-soluble polymeric binder contains,
wobei die Masse nach dem Aussetzen an die Strahlung alkalilöslich gemacht worden ist.the composition having been rendered alkali-soluble after exposure to radiation.
Weiterhin kann gewünschtenfalls die strahlungsempfindliche Masse ein oder mehrere Additive aus der Gruppe Inhibitoren für die thermische Polymerisation, kratzbeständige Polymere, Farbstoffe zur Anzeige des !Contrasts und/oder des Ausdrucks, Verstärkungsmittel für die Strahlungsempfindlichkeit und Ausdruck-Verstärkungsmittel enthalten.Furthermore, if desired, the radiation-sensitive Compound one or more additives from the group of inhibitors for thermal polymerization, scratch-resistant polymers, Dyes to indicate contrast and / or expression, enhancers for radiation sensitivity and Contains expression enhancers.
Positiv arbeitende bzw. positiv wirkende, strahlungsempfind-Positive working or positive working, radiation-sensitive
liehe Komponenten sind z. B. Diazooxide, wie die wasserunlöslichen Ester und Amide von Naphtochinon-diazid-sulfon- oder -carbonsäuren, wie sie beispielsweise in der US-PS 3 969 118 und in Light Sensitive Systems von J. Kosar (John Wiley & Sons, Inc., N. Y. 1965, pp 336ff) beschrieben werden; Acry!polymere (ζ. Β. Polymethacrylate und Polyacrylate) und dergleichen sowie Gemische davon.borrowed components are z. B. Diazooxides, such as the water-insoluble ones Esters and amides of naphthoquinone-diazide-sulfonic or carboxylic acids, such as those described, for example, in US Pat 3,969,118 and in Light Sensitive Systems by J. Kosar (John Wiley & Sons, Inc., N.Y. 1965, pp 336ff); Acrylic polymers (ζ. Β. Polymethacrylates and polyacrylates) and the like as well as mixtures thereof.
Bevorzugte positiv wirkende, wasserunlösliche, strahlungs- _ empfindliche Komponenten sind z. B. Ester, gebildet durch Umsetzung von Diazo-1,2-naphthochinonsulfony!halogeniden, wobei sich die Diazogruppe in 1 - oder 2-Stellung befindet und sich das Halogenid in 4- oder 5-Stellung befindet, mit Kondensationspolymeren, die ihrerseits durch Umsetzung von ™ Mono- oder Poly-Hydroxyary!verbindungen mit Ketonen oder Aldehyden gebildet worden sind.Preferred positive-acting, water-insoluble, radiation-sensitive components are z. B. Esters formed by Implementation of diazo-1,2-naphthoquinone sulfony halides, wherein the diazo group is in the 1- or 2-position and the halide is in the 4- or 5-position, with Condensation polymers, which in turn are produced by reacting mono- or poly-hydroxyary! Compounds with ketones or Aldehydes have been formed.
Beispiele für solche Hydroxyary!verbindungen sind Phenol, Naphthol, Resorcin, Phloroglucin, Pyrogallol und dergleichen or und Gemische davon.Examples of such hydroxyary compounds are phenol, Naphthol, resorcinol, phloroglucinol, pyrogallol and the like or and mixtures thereof.
Beispiele für Aldehyde und Ketone, die zur Herstellung derExamples of aldehydes and ketones that are used to produce the
-ιοί -ιοί
Ester geeignet sind, sind Formaldehyd, Benzaldehyd, Aceton und dergleichen und Gemische davon.Esters are suitable are formaldehyde, benzaldehyde, acetone and the like and mixtures thereof.
r Eine am meisten bevorzugte positiv arbeitende strahlungsempfindliche Komponente ist der Ester, der durch Umsetzung von 2-Diazo-1^-naphthochinon-S-sulfonylchlorid mit einem durch Kondensation eines Kresols mit Formaldehyd gebilde-r A most preferred positive working radiation sensitive Component is the ester, which is obtained by reacting 2-diazo-1 ^ -naphthoquinone-S-sulfonyl chloride with a formed by condensation of a cresol with formaldehyde-
TM
ten Polymeren (wie Alnoval PN 430 hergestellt vonTM
ten polymers (such as Alnoval PN 430 manufactured by
■.λ American Hoechst Corp.) gebildet worden ist.■ .λ American Hoechst Corp.) has been formed.
Die erfindungsgemäß verwendeten, die Strahlung absorbierenden Komponenten sind z. B. Triazine, Triazole, Diarylketone und dergleichen und Gemische davon.Those used according to the invention which absorb the radiation Components are e.g. B. triazines, triazoles, diaryl ketones and the like and mixtures thereof.
Für die Zwecke der Erfindung geeignete Triazole sind z. B. Benzotriazole der Formel IFor the purposes of the invention suitable triazoles are, for. B. Benzotriazoles of the formula I.
(I)(I)
Rr R.R r R.
worin R1 für eine Arylgruppe, die mit mindestens einer Hydroxy-, Alkoxy-, Aryloxy- oder Aralkoxygruppe substituiert ist, wobei die genannten Alkoxy-, Aryloxy- und Äralkoxygruppen weiter mit mindestens einer Hydroxy-, Halogeno-, Nitro- oder substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe substituiert sein kann, und wobei die Arylgruppe weiter mit ein oder mehreren Alkyl-, Aryl- Aralkylgruppen substituiert sein kann, die unsubstituiert oder mit mindestens einer Hydroxy-, Halogeno-, Nitro- oder substituierten oder unsubstituierten Aminogruppe substituiert sein können,wherein R 1 represents an aryl group which is substituted with at least one hydroxy, alkoxy, aryloxy or aralkoxy group, said alkoxy, aryloxy and aralkoxy groups being further substituted with at least one hydroxy, halogen, nitro or substituted or unsubstituted Amino group can be substituted, and wherein the aryl group can be further substituted with one or more alkyl, aryl, aralkyl groups which can be unsubstituted or substituted with at least one hydroxy, halogen, nitro or substituted or unsubstituted amino group,
3'20ΈΠ083'20-08
R. und R1. gleich oder verschieden sind und ausR. and R 1 . are the same or different and are made of
der Gruppe Wasserstoff, Alkyl, Aryl, Aralkyl, Alkoxy, Aralkoxy, Aryloxy, Nitro, Halogeno, substituiertes Amino ausgewählt sind, wobei die genannten Alkyl-,Aryl-,Aralkyl·-, Alkoxy-,Aralkoxy-und Aryloxygruppen substituiert oder unsubstituiert sein können,the group hydrogen, alkyl, aryl, aralkyl, alkoxy, aralkoxy, aryloxy, nitro, halogeno, substituted amino are selected, said alkyl, aryl, aralkyl, Substituted or unsubstituted alkoxy, aralkoxy and aryloxy groups could be,
oder wobei R2 und R_, R3 und R. und/oder R. und R5 miteinander Alkylen, Alkenylen oder kondensierte Ringstrukturen bilden.or where R 2 and R_, R 3 and R. and / or R. and R 5 form alkylene, alkenylene or fused ring structures with one another.
Die erfindungsgemäß verwendeten Diarylketone sind Verbindungen der Formel IIThe diaryl ketones used in the present invention are compounds of formula II
I!I!
-C-Ar,-C-Ar,
(II)(II)
worin Ar. und Ar2 gleich oder verschieden sein können und aus der Gruppe R1, wie oben definiert,wherein Ar. and Ar 2 can be the same or different and from the group R 1 , as defined above,
(Rjo (Rjo undand
worin die R2~Reste die obige Definition haben und zwei oder mehrere R„-Reste Alkylen, Alkenylen oder eine kondensierte Ringstruktur bilden können und q eine ganze Zahl von 1 bis 7 ist, ausgewählt sind.wherein the R 2 radicals have the above definition and two or more R 1 radicals can form alkylene, alkenylene or a condensed ring structure and q is an integer from 1 to 7, are selected.
Vorzugsweise wird die die Strahlung absorbierende Komponente aus der Gruppe Michlers-Keton und Verbindungen der Formel I, wobei R2, R^, R, und Rc jeweils Wasserstoff istThe radiation-absorbing component is preferably selected from the group consisting of Michler's ketone and compounds of the formula I, where R 2 , R ^, R, and Rc are each hydrogen
- 12 ' und R1 - 12 'and R 1
ist,is,
wobei t-Bu für t-Butyl- steht,where t-Bu stands for t-butyl-,
und Gemische davon ausgewählt.and mixtures thereof are selected.
Am meisten wird bevorzugt, daß die die Strahlung absorbierende Komponente eine Verbindung der Formel I, wobei R1, Ry, R.,, R. und R,- die obige Definition haben oder ein Gemisch von solchen Verbindungen ist.It is most preferred that the radiation absorbing component be a compound of the formula I, where R 1 , Ry, R 1, R 1, R and R 1 - are as defined above, or a mixture of such compounds.
Beispiele für polymere Bindemittel, die zur Herstellung der erfindungsgemäßen Masse verwendet werden können, sind alkalilösliche Produkte der Kondensation von Mono- oder Poly- Hydroxyary!verbindungen mit Ketonen oder Aldehyden wie oben beschrieben.Examples of polymeric binders which can be used to produce the composition according to the invention are alkali-soluble products of the condensation of mono- or poly-hydroxyary compounds with ketones or aldehydes as described above.
Durch die Erfindung wird auch ein silberfreies positiv arbeitendes, gegenüber Strahlung empfindliches Element zur Verfügung gestellt, das für die Herstellung von Vervielfältigungsfilmen geeignet ist und das ein Substrat enthält, welches gegenüber der angelegten Strahlung transparent ist, wobei das Substrat auf einer Oberfläche mit der oben beschriebenen positiven arbeitenden, gegenüber Strahlung empfindlichen Masse beschichtet ist.The invention also provides a silver-free, positive-working, Radiation-sensitive element is provided that is used for making duplicating films is suitable and which contains a substrate which is transparent to the applied radiation, wherein the substrate is on a surface with the positive working, opposite radiation described above sensitive mass is coated.
Die für die Zwecke der Erfindung geeigneten Substrate sindThe substrates suitable for the purposes of the invention are
TM Polyester, z. B. Polyethylenterephthalat (wie Mylar ,TM polyester, e.g. B. Polyethylene terephthalate (such as Mylar,
320610$ :'320610 $: '
TMTM
hergestellt von DuPont), Polycarbonate (wie Lexan ' .,hergestellt von General Electric Co.), Glasplatten, Quarzplatten, Polyolefine (wie Polymethylpenten und transparentes Polypropylen), transparente Polyamide (wie Nylons, z. B.made by DuPont), polycarbonates (such as Lexan '., made from General Electric Co.), glass plates, quartz plates, polyolefins (such as polymethylpentene and transparent Polypropylene), transparent polyamides (such as nylons, e.g.
TM
Trogamid T, hergestellt von D;TM
Trogamid T manufactured by D;
rente Silicone, und dergleichen.rent silicones, and the like.
TM
Trogamid T, hergestellt von Dynamit Nobel), transpa-TM
Trogamid T, manufactured by Dynamit Nobel), transparent
In der Praxis kann die Überzugsmasse auf das Substrat nach bekannten Methoden aufgebracht werden, beispielsweise durch Sprühbeschichten, Tauchbeschichten, elektrostatisches Beschichten, Schmelzbeschichten, Walzenbeschichten, Umkehrwalzenbeschichten und dergleichen.In practice, the coating composition can be applied to the substrate by known methods, for example by Spray coating, dip coating, electrostatic coating, melt coating, roll coating, reverse roll coating and the same.
Erforderlichenfalls kann die Überzugsmasse zuerst in einem Lösungsmittel hierfür aufgelöst werden und nach dem Aufschichten auf das Substrat kann das Lösungsmittel durch bekannte Methoden entfernt werden.If necessary, the coating mass can first be dissolved in a solvent for this purpose and after it has been applied on the substrate, the solvent can be removed by known methods.
Beispiele für Lösungsmittel zur Herstellung der Überzugslösungen sind polare organische Lösungsmittel, halogenierte Alkane, Alkohole, Ketone, Äther und dergleichen und Gemische davon.Examples of solvents for the preparation of the coating solutions are polar organic solvents, halogenated ones Alkanes, alcohols, ketones, ethers and the like and mixtures thereof.
Beispiele für polare organische Verbindungen sind Dimethylformamid (DMF), Dimethylacetamid, Dimethylsulfoxid, Acetonitril, 1-Methyl-2-pyrrolidon und dergleichen sowie Gemische davon.Examples of polar organic compounds are dimethylformamide (DMF), dimethylacetamide, dimethyl sulfoxide, acetonitrile, 1-methyl-2-pyrrolidone and the like and mixtures thereof.
Beispiele für halogenierte Alkane sind Methylenchlorid, Äthylendichlorid, Perchloräthylen und dergleichen sowie Gemische davon.Examples of halogenated alkanes are methylene chloride, ethylene dichloride, perchlorethylene and the like as well Mixtures thereof.
Beispiele für geeignete Alkohole sind Methanol, Äthanol, Isopropanol, Amylalkohole und dergleichen und Gemische davon.Examples of suitable alcohols are methanol, ethanol, isopropanol, amyl alcohols and the like and mixtures of that.
Beispiele für für die Zwecke der Erfindung geeignete Ketone sind Methylethylketon (MÄK), Methylisobutylketon und dergleichen und Gemische davon.Examples of ketones suitable for the purposes of the invention are methyl ethyl ketone (MÄK), methyl isobutyl ketone and the like and mixtures thereof.
Beispiele für Äther sind 2-Methoxyäthanol, wie Methyl-TM
Cellosolve und dergleichen und Gemische davon.Examples of ethers are 2-methoxyethanol, such as Methyl-TM
Cellosolve and the like and mixtures thereof.
Ein bevorzugtes Lösungsmittel ist ein Gemisch aus 10 bis 20% DMF, 20 bis 50% Methylenchlorid, 0 bis 15% Methanol und 20 bis 50% Methyl-Cellosolve.A preferred solvent is a mixture of 10 to 20% DMF, 20 to 50% methylene chloride, 0 to 15% methanol and 20 to 50% methyl cellosolve.
Ein am meisten bevorzugtes Lösungsmittel ist ein Gemisch aus 11,9% MÄK, 11,9% DMF, 33,3% Methyl-Cellosolve, 33,3%A most preferred solvent is a mixture of 11.9% MÄK, 11.9% DMF, 33.3% methyl cellosolve, 33.3%
Methylenchlorid und 9,5% Methanol.
15Methylene chloride and 9.5% methanol.
15th
Durch die Erfindung wird weiterhin ein Vervielfältigungsfilm zur Verfügung gestellt, der dadurch hergestellt worden ist, daßThe invention further provides a duplicating film made thereby is that
I. das oben beschriebene strahlungsempfindliche Element durch das transparente Substrat der Strahlung ausgesetzt worden ist, wodurch ein Teil der strahlungsempfindlichen Masse, der an das Substrat angrenzt, durch die Strahlung reagiert und alkalilöslich gemacht wird,I. the radiation sensitive element described above through the transparent substrate has been exposed to the radiation, making part of the radiation-sensitive Mass that is adjacent to the substrate, reacts by the radiation and made alkali-soluble will,
II. das genannte Element sodann bildweise durch eine Maske, die sich vor der anderen Seite der Masse oder damit in Kontakt befindet, der Strahlung ausgesetztII. The said element then imagewise through a mask, which is in front of the other side of the mass or with it is in contact, exposed to radiation
_n wird, wodurch der der Strahlung ausgesetzte Bereich_ n , thereby reducing the area exposed to radiation
alkalilöslich gemacht wird und III. das Element mit einem alkalischen Entwicklungsmittel entwickelt worden ist, um diejenigen Bereiche der Masse zu entfernen, die sowohl durch das transparente Sub-is made alkali-soluble and III. the element with an alkaline developing agent has been developed in order to remove those areas of the mass which both pass through the transparent sub-
or strat als auch durch die Maske der Strahlung ausgesetzt waren, während die Bereiche, die durch die Maske nichtbildweise der Strahlung ausgesetzt worden waren, un-or strat as well as through the mask exposed to radiation while the areas that had not been exposed to radiation through the mask were un-
320610g :**: f:O .X\: 320610g: **: f: O .X \ :
durchlässige Bereiche ergeben, um Druckplatten herzustellen. result in permeable areas for making printing plates.
Der Teil der strahlungsempfindlichen Masse, der in der ersten Stufe alkalilöslich gemacht wird, ist ein Volumen-Element, dessen Abmessungen der Oberflächenbereich der Substratoberfläche und die Eindringungstiefe der Strahlung in die Masse sind. Die Eindringungstiefe ist eine Funktion der Konzentration der die Strahlung absorbierenden Komponente in der Masse. Somit kann in dem Maß,wie die Konzentration ansteigt, die Dicke des Überzugs vermindert werden und in dem Maß, wie die Konzentration vermindert wird, ist es notwendig, die Beschichtungsdicke zu erhöhen.That part of the radiation-sensitive mass that is in the first Stage is made alkali-soluble is a volume element, the dimensions of which are the surface area of the substrate surface and the penetration depth of the radiation into the mass. The penetration depth is a function the concentration of the radiation-absorbing component in the mass. Thus, as the concentration can increases, the thickness of the coating is decreased, and as the concentration is decreased, is it is necessary to increase the coating thickness.
Bei einer Ausführungsform enthält die strahlungsempfindliche Masse etwa 10 bis etwa 40 Gew.-% strahlungsempfindliche Komponente, etwa 4 bis etwa TO Gew.-% die Strahlung absorbierende Komponente und etwa 30 bis etwa 85 Gew.-% alkalilösliches polymeres Bindemittel, wobei alle Prozentangaben auf das Gesamtgewicht der Masse bezogen sind.In one embodiment, the radiation-sensitive Mass about 10 to about 40% by weight of the radiation-sensitive component, about 4 to about TO% by weight of the radiation absorbent component and from about 30 to about 85 weight percent alkali-soluble polymeric binder, all percentages are based on the total weight of the mass.
Mehr bevorzugt enthält die strahlungsempfindliche Masse etwa 15 bis etwa 35 Gew.-% strahlungsempfindliche Komponente, etwa 5 bis etwa 10 Gew.-% die Strahlung absorbierende Komponente und etwa 40 bis etwa 60 Gew.-% polymeres Bindemittel, wobei alle Prozentangaben auf das Gesamtgewicht der Masse bezogen sind.The radiation-sensitive composition more preferably contains about 15 to about 35% by weight of the radiation-sensitive component; about 5 to about 10% by weight of the radiation-absorbing component Component and about 40 to about 60 wt .-% polymeric binder, all percentages based on total weight are related to the mass.
qo Die strahlungsempfindliche Masse kann auch etwa 1,0 bis etwa 2,0 Gew.-% Inhibitoren für die thermische Polymerisation, etwa 0,5 bis etwa 10,0 Gew.-% kratzbeständige Polymere, etwa 1,0 bis etwa 5,0 Gew.-% Verstärkungsmittel für die Strahlungsempfindlichkeit, etwa 1,0 bis etwa 10,0qo The radiation-sensitive mass can also be about 1.0 to about 2.0% by weight thermal polymerization inhibitors, about 0.5 to about 10.0% by weight scratch-resistant polymers, about 1.0 to about 5.0% by weight reinforcing agents for radiation sensitivity, about 1.0 to about 10.0
or Gew.-% Farbstoffe zur Anzeige des Ausdrucks und/oder des Kontrasts und etwa 1,0 bis etwa 5,0 Gew.-% Verbindungen zur Unterstützung des Ausdrucks, wobei alle Prozentangaben auf den Gesamtfeststoffgehalt bezogen sind.or% by weight of dyes to indicate the printout and / or the Contrast; and about 1.0 to about 5.0 weight percent print aid compounds, all percentages are based on the total solids content.
Die Vervielfältigungsfilme können durch Aussetzen der strahlungsempfindlichen Elemente an verschiedene bekannte Strahlungstypen, wie z. B. UV-Licht, sichtbares Licht, IR-Licht, Elektronenbündel und Laser hergestellt werden.The duplicating films can be made by exposing the radiation-sensitive elements to various known types of radiation, such as. B. UV light, visible light, IR light, Electron bundles and lasers are produced.
Die der Strahlung ausgesetzten Elemente können durch Behandlung mit bekannten alkalischen Entwicklern wie wässrigem Natriumsilicat und Phosphaten entwickelt werden.The elements exposed to radiation can be removed by treatment with known alkaline developers such as aqueous Sodium silicate and phosphates are being developed.
Die Erfindung wird in den Beispielen erläutert.The invention is illustrated in the examples.
Beispiel 1example 1
Ein Gemisch ausA mixture of
einem Phenol-Formaldehydharz
2-Diazo-1,2-naphthochinon-4-sulfonylchlorid
a phenol-formaldehyde resin
2-diazo-1,2-naphthoquinone-4-sulfonyl chloride
dem Reaktionsprodukt eines Kresol- _ Formaldehydharzes mit 2-Diazo-1,2-naphthochinon-5-sulfonylchlorid the reaction product of a cresol formaldehyde resin with 2-diazo-1,2-naphthoquinone-5-sulfonyl chloride
Tinuvin ρTinuvin ρ
TM Tinuvin 328 und Orasil ™ Red BTM Tinuvin 328 and Orasil ™ Red B
wurde in 105 ml eines Lösungsmittels bestehend aus 11,9%was in 105 ml of a solvent consisting of 11.9%
MÄK, 11,9% DMF, 33,3% Methyl-Cellosolve, 33,3% Methylenchlorid und 9,5% Methanol aufgelöst. Alle Angaben bezüglich der Zusammensetzung des Lösungsmittels sind Volumen- nn teile bezogen auf das Gesamtvolumen.MÄK, 11.9% DMF, 33.3% methyl cellosolve, 33.3% methylene chloride and 9.5% methanol dissolved. All information regarding the composition of the solvent are volume nn share of the total volume.
Die obige Lösung wurde durch Miniskusbeschichtung auf eine Mylar-Folie aufgebracht und getrocknet. Das resultierende Element wurdeThe above solution was made by miniscus coating on a Mylar film applied and dried. The resulting Item was
I, durch das transparente Substrat etwa 18s lang der Strahlung ausgesetzt (in einer Berkey Ascor 5KW-Be-I, through the transparent substrate for about 18s Exposed to radiation (in a Berkey Ascor 5KW load
3206132061
lichtungsvorrichtung und Verwendung einer Addalüx 1406-04 Diazolampe) und sodann durch eine Maske vor der Masse etwa 15 s lang der Strahlung ausgesetzt,lighting device and use of an Addalüx 1406-04 diazo lamp) and then through a mask the mass exposed to radiation for about 15 s,
wonach
5after which
5
II. die Entwicklung mit einer 5%-igen wässrigen Natriumsilicatlösung erfolgte, wodurch eine Maske erhalten wurde, die einen unerwünschten Durchgang der Strahlung durch die undurchlässigen Bereiche bis zu den Belichtungen in der obigen Einheit für etwa 4 min und darüber verhindert und die wiederholt ohne nachteilige Effekte auf die Undurchlässigkeit der Maske verwendet werden kann.II. Development with a 5% aqueous sodium silicate solution took place, whereby a mask was obtained which prevented undesired transmission of radiation through the opaque areas to the exposures in the above unit for about 4 minutes and moreover prevents and repeats without any adverse effects on the impermeability of the mask can be used.
Beispiel 2 .Example 2.
Ein Gemisch ausA mixture of
einem Phenol-Formaldehydharz 10,58 g 2-Diazo-1,2-naphthochinon-5-sulfon-a phenol-formaldehyde resin 10.58 g of 2-diazo-1,2-naphthoquinone-5-sulfone
säurealkylester 3,97 gacid alkyl ester 3.97 g
dem Reaktionsprodukt von 2-Diazo-1,2-naphthochinon-5-sulfonylchlorid mit dem Reaktionsprodükt von Pyrogallolthe reaction product of 2-diazo-1,2-naphthoquinone-5-sulfonyl chloride with the reaction product of pyrogallol
mit Aceton 3,97 gwith acetone 3.97 g
TMTM
Orasil Red B 4,41 gOrasil Red B 4.41 g
Kontrastverstärkungsmittel 0,37 gContrast enhancer 0.37 g
Tinuvin P und 0,39 gTinuvin P and 0.39 g
Tinuvin 328 0,39 gTinuvin 328 0.39 g
on wurde in 105 ml des Lösungsmittels des Beispiels 1 aufgelöst. Die obige Masse wurde gemäß Beispiel 1 angewendet und es wurden ähnliche Ergebnisse erhalten.on was dissolved in 105 ml of the solvent of Example 1. The above composition was used as in Example 1 and similar results were obtained.
Claims (8)
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US23640081A | 1981-02-20 | 1981-02-20 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE3206108A1 true DE3206108A1 (en) | 1982-11-04 |
Family
ID=22889334
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE19823206108 Withdrawn DE3206108A1 (en) | 1981-02-20 | 1982-02-19 | SILVER-FREE, POSITIVELY WORKING, SENSITIVITY TO ESSENTIAL RADIATION AND IN ESSENTIAL ALKALI-INSOLUBLE DIMENSIONS |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS57155534A (en) |
| AU (1) | AU8021782A (en) |
| DE (1) | DE3206108A1 (en) |
| FR (1) | FR2500645A1 (en) |
| GB (1) | GB2094015A (en) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2614847B2 (en) * | 1986-06-16 | 1997-05-28 | 東京応化工業 株式会社 | Positive photosensitive composition |
| JPH01133045A (en) * | 1987-11-17 | 1989-05-25 | Mitsubishi Electric Corp | Resist pattern forming method |
| JP2622267B2 (en) * | 1988-03-23 | 1997-06-18 | 日立化成工業株式会社 | Photosensitive resin composition |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB1052699A (en) * | 1963-12-03 | |||
| FR1530266A (en) * | 1966-07-08 | 1968-06-21 | Kalle Ag | Method and equipment for duplicating silver films |
| GB1204917A (en) * | 1967-11-14 | 1970-09-09 | Howson Algraphy Ltd | Photographic printing plates |
| CA933791A (en) * | 1969-06-13 | 1973-09-18 | Broyde Barret | Additives to positive photoresists which increase the sensitivity thereof |
| US3984250A (en) * | 1970-02-12 | 1976-10-05 | Eastman Kodak Company | Light-sensitive diazoketone and azide compositions and photographic elements |
| BE789951A (en) * | 1971-10-14 | 1973-04-11 | Hoechst Co American | METHOD FOR PRODUCING IMAGES BY MEANS OF A PHOTOSENSITIVE LAYER |
| DE2331377C2 (en) * | 1973-06-20 | 1982-10-14 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Photosensitive copying material |
| JPS5619619B2 (en) * | 1973-07-27 | 1981-05-08 | ||
| DE2541982A1 (en) * | 1975-09-20 | 1977-03-24 | Ibm Deutschland | PROCESS FOR Awareness Raising A POSITIVE WORKING PHOTORESIST AND PHOTORESIS MATERIAL |
| DE3071134D1 (en) * | 1979-06-01 | 1985-11-07 | Hoechst Co American | Colour testing foil |
| JPS566236A (en) * | 1979-06-28 | 1981-01-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photosensitive material and pattern forming method using it |
| JPS5666844A (en) * | 1979-11-05 | 1981-06-05 | Kaneo Yamamoto | Manufacture of diazo photosensitive paper preventing ground discoloration of copy |
-
1982
- 1982-02-05 AU AU80217/82A patent/AU8021782A/en not_active Abandoned
- 1982-02-17 JP JP2522082A patent/JPS57155534A/en active Pending
- 1982-02-19 DE DE19823206108 patent/DE3206108A1/en not_active Withdrawn
- 1982-02-19 FR FR8202822A patent/FR2500645A1/en not_active Withdrawn
- 1982-02-19 GB GB8204901A patent/GB2094015A/en not_active Withdrawn
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2500645A1 (en) | 1982-08-27 |
| AU8021782A (en) | 1982-08-26 |
| JPS57155534A (en) | 1982-09-25 |
| GB2094015A (en) | 1982-09-08 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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