DE3102183C2

DE3102183C2 - Electron beam system for television picture tubes

Info

Publication number: DE3102183C2
Application number: DE3102183A
Authority: DE
Inventors: Vincent Michael Mercerville N.J. Cannuli; Leon Joseph Princeton N.J. Vieland
Original assignee: RCA Corp
Current assignee: RCA Corp
Priority date: 1980-01-23
Filing date: 1981-01-23
Publication date: 1984-05-10
Also published as: IT8119097A0; FR2474239B1; PL229300A1; FR2474239A1; CA1159876A; DE3102183A1; FI810119L; US4323813A; DD157131A5; JPS56109438A; PL133061B1; GB2068165A; GB2068165B; IT1135007B

Abstract

Es wird ein Elektronenstrahlsystem beschrieben, das eine elektronische Linsenanordnung mit einem Paar Endelektroden aufweist, die längs eines Paares gläserner Tragstäbe fest montiert sind. Zwischen den Endelektroden befindet sich ein Widerstandslinsenstapel, in dem mit Öffnungen versehene Elektrodenplatten mit Widerstandsabstandsblocks abwechseln. Die Elektrodenplatten und die Widerstandsabstandsblocks werden durch eine Mehrzahl von Blattfedern in guten elektrischen Kontakt miteinander und mit den Endelektroden gedrückt. Die Elektrodenplatten werden vorzugsweise leicht durch die gläsernen Tragstäbe berührt, um eine seitliche Verschiebung der Platten ohne Behinderung ihres Federbelastungskontaktes mit den Widerstandsblocks zu vermeiden.An electron beam system is described which includes an electronic lens assembly having a pair of end electrodes fixedly mounted along a pair of glass support rods. Between the end electrodes is a resistor lens stack in which apertured electrode plates alternate with resistor spacer blocks. The electrode plates and resistor spacer blocks are urged into good electrical contact with each other and with the end electrodes by a plurality of leaf springs. The electrode plates are preferably touched lightly by the glass support rods in order to avoid lateral displacement of the plates without obstructing their spring-loaded contact with the resistance blocks.

Description

Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahlsysiem. wie es im Oberbegriff des Anspruchs 1 vorausgesetzt ist.The invention relates to an electron beam system. how it is required in the preamble of claim 1.

Es ist bekannt, daß die sphärische Aberration bei einer Eleklronenlin.se dadurch verringert werden kann, daß man das Feld der Linse schwächer macht und über eine größere lunge entlang dem Strahlweg ausdehnt. Es Ist ferner bekannt, daß ein Linsentyp für diesen Zweck die Widerstandslinse Ist, bei der eine Mehrzahl metallischer Elektrodenplatten in einer Reihenanordnung vorgesehen ist und ein Spannungsgradient entlang der Linse ausgebildet wird, indem unterschiedliche Spannungen an die verschiedenen Platten mit Hilfe eines Widerstandsspannungsteilers angelegt werden, der innerhalb des Vakuumkolbens der Elektronenröhre selbst angeordnet ist.
Zum Stand der Technik, in welchem verschiedeneIt is known that the spherical aberration in an electron lens can be reduced by making the field of the lens weaker and extending it over a larger lung along the beam path. It is also known that one type of lens for this purpose is the resistive lens in which a plurality of metal electrode plates are arranged in series and a voltage gradient is established across the lens by applying different voltages to the various plates by means of a resistive voltage divider, the is arranged within the vacuum envelope of the electron tube itself.
To the state of the art, in which various

ίο Bauformen von Mehrplaiten-Widerstandslinsen beschrieben sind, gehören die US-PS 2143 390, die US-PSίο Designs of multi-plate resistance lenses are described include US Pat. No. 2,143,390, US Pat

39 32 786 und die US-PS 40 91 144.39 32 786 and US-PS 40 91 144.

Während in der US-PS 21 43 390 ein Spannungsteilerwiderstand nur schematisch gezeigt ist, läßt die US-PSWhile in US-PS 21 43 390 a voltage divider resistor is shown only schematically, the US-PS leaves

is 39 32 786 eine praktische Ausführungsform eines Spannungsteilerwiderstandes erkennen, der auf einer gläsernen Tragstange des Elektronenstrahlsystemautbaus angeordnet ist, und in der US-PS 40 91 144 ist schließlich eine praktische Ausführungsform eines Stapels abwechselnder Metallelektroden und Isolierblocks gezeigt, bei dem entlang einer Kante des Stapels eine Widerstandsspannungsteilerschicht aufgebracht ist. In der Praxis benötigt der Aufbau nach der US-PS 39 32 786 viele Anschlüsse für die Kontaktherstellung zwischen der Reihe mit Öffnungen versehener Elektroden und dem Spannungsteilerwiderstand, und außerdem erhöht sich dabei die Wahrscheinlichkeit von Brüchen der Tragstäbe bei der Herstellung wegen der großen Anzahl der in die gläsernen Tragstäbe eingebetteten Elektroden. Schließlich hängt bei den Linsenanordnungen gemäß den US-PS 39 32 786 und39 32 786 is a practical embodiment of a voltage divider resistor recognize, which is arranged on a glass support rod of the electron beam system structure is, and finally in US-PS 40 91 144 is a practical embodiment of a stack of alternating Metal electrodes and insulating blocks shown with a resistive voltage divider layer along one edge of the stack is upset. In practice, the structure according to US-PS 39 32 786 requires many connections for making contact between the row of apertured electrodes and the voltage divider resistor, and it also increases the likelihood of breakage of the bearing bars during manufacture because of the large number of electrodes embedded in the glass support rods. Finally attaches the lens assemblies according to US-PS 39 32 786 and

40 91 144 die Feldgenauigkeit von der Gleichförmigkeit der Widerstandsspannungsteilerschicht ab, die in ihrer· Herstellung sehr schwierig kontrollierbar ist.40 91 144 the field accuracy depends on the uniformity of the resistive voltage divider layer, which in its Manufacturing is very difficult to control.

Eine Verbesserung gegenüber der US-PS 40 91 144 ist in der DE-OS 30 23 853 (ältere Anmeldung) beschrieben, aus der ein Elektronenstrahlsysiem nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 bekannt ist. Danach weist der Linsenaulbau eine Mehrzahl mit Öffnungen versehener Elektroden und Widerstandsabstandsblocks auf, die abwech-An improvement over US-PS 40 91 144 is described in DE-OS 30 23 853 (earlier application), from which an electron beam system according to the preamble of claim 1 is known. Then the Linsenaulbau points a plurality of apertured electrodes and resistor spacer blocks that alternate

ίο selnd gestapelt sind und zur Bildung einer elektrisch kontinuierlichen Struktur verlötet sind. Die Widerstandsabstandsblocks weisen Isolatorblocks auf, die vor der Vereinigung zu einem einheitlichen Stapel mit den Öffnungen aulweisenden Platten jeweils längs mindestens eines Teils einer Oberfläche mit einem geeigneten Widerstandsmaterial überzogen lind. Ein solches vorheriges Überziehen (also ein Überziehen vor dem Zusammenbau) der Blocks erlaubt es, daß sie vor dem Zusammenbau getestet und nach ihren Widerstandseigenschaften sortiert werden können. Diese Konstruktion hat sich als elektrisch und mechanisch befriedigend erwiesen, jedoch Ist sie mit relativ hohen Kosten verbunden, die aus dem Zusammenlöten der Blocks und Platten resultieren.ίο are stacked together and to form an electric continuous structure are soldered. The resistor spacer blocks have insulator blocks that are in front of the Combination to form a unitary stack with the panels facing the openings in each case longitudinally at least part of a surface with a suitable resistor material covered lind. Such a prior overlay (i.e. overlaying before assembly) The blocks allow them to be tested before assembly and for their resistance properties can be sorted. This construction has proven to be electrically and mechanically satisfactory, however Is it associated with relatively high costs resulting from soldering the blocks and plates together.

Die Aufgabe der Erfindung besteht In der Schaffung eines Eleklronenstrahlsystems der eingangs genannten Art mit einer kostengünstig montierbaren Widerstandslinse. The object of the invention consists in creating an electron beam system of the type mentioned at the beginning Art with an inexpensive mountable resistance lens.

Diese Aufgabe wird durch die Im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angeführten Merkmale gelöst, während Weiterbildungen der Erfindung In den Unteransprüchen gekennzeichnet sind.This object is achieved by the features stated in the characterizing part of claim 1, while Further developments of the invention are characterized in the subclaims.

Das erfindungsgemäße Strahlsystem benutzt separate vorbeschichtete Widerstantlsabstandsblocks, die abwechselnd mit Öffnungen aufweisenden Elektroden zusam-The jet system of the invention uses separate precoated resistance spacer blocks that alternate with electrodes having openings together

^b5 mengcstapeit werden, wie Im Falle der DE-OS 30 23 853. Anstatt daß die Widerstandsabstandsblocks und Platten jedoch zusammengelötet werden. werden sie In gegenseitigem elektrischen Kontakt zwischen zwei festen End- ^b5 mengcstapeit are, as in the case of DE-OS 30 23 853. Instead of the resistor spacer blocks and plates, however, are soldered together. they are in mutual electrical contact between two fixed end

elektroden durch Federn zusammengedrückt, die axial längs des Stapels wirken. Um sicherzustellen, daß die Ausrichtung, in den Betriebszyklen aufrechterhalten bleibt, werden die Elektrodenplatten sehr leicht von einem Paar gläserner Tragstangen berührt, in welchen die -, Anschlußelektroden befestigt sind, um jegliche seitliche Bewegung der Elektrodenplatten auszuschließen. Diese Berührung soll nicht so stark sein, daß die Elektrodenplatten so weit in die Glasstäbe eingebettet sind, daß die Platten gegen das axiale Zusammendrücken durch die m Federn starr festgelegt wären. Das würde nämlich die Aufrechterhaltung der elektrischen Kontinuität entlang des Linsenstapels beeinträchtigen.electrodes compressed by springs acting axially along the stack. To make sure the Alignment, in which the operating cycles are maintained, the electrode plates are very easily removed from a pair of glass support rods in which the -, terminal electrodes are attached to any lateral Exclude movement of the electrode plates. This contact should not be so strong that the electrode plates are so far embedded in the glass rods that the plates against the axial compression by the m Springs would be fixed rigidly. That would namely maintain the electrical continuity along of the lens stack.

Die Erfindung wird nachfolgend anhand eines in den Zeichnungen dargestellten Ausführungsbeispiels im ein- π zelnen erläutert. Es zeigenThe invention is described below with reference to an embodiment shown in the drawings in a π individually explained. Show it

Fig. 1 und 2 Seitenansichten eines Ausführungsbeispiels des Elektronenstrahlsystems gemäß Anspruch 1 aus zwei rechtwinklig aufeinanderstellenden Ebenen gesehen, wobei in Fig. 2 Teile zum Einbück in innere Details weggebrochen sind,1 and 2 side views of an embodiment of the electron beam system according to claim 1 seen from two planes stacked at right angles, with parts in FIG. 2 for incorporation into inner details have broken away

Fig. 3 eine Draufsicht auf eine Elektrodenplatte für das Strahlsystem gemäß den Fig. 1 und 2 zur Veranschaulichung von Details zweier alternativer Ausfüh- ,. rungsformen eines typischen Elektrodenkontaktes mit gläsernen Tragstäben und3 shows a plan view of an electrode plate for the beam system according to FIGS. 1 and 2 for illustration purposes of details of two alternative execution,. forms of a typical electrode contact with glass support bars and

Fig. 4 einen vergrößerten Teilschnitt durch einen Teil der Elektronenlinse des Strahlsystems gemäß den Fig. I und 2 zur Veranschaulichung von Details der Feder und _J() der Elektrodenplatten und Widerstandsblocks des Elektronenlinsenaufbaus. 4 is an enlarged partial section through part of the electron lens of the beam system according to FIGS. 1 and 2 to illustrate details of the spring and _{J () of} the electrode plates and resistor blocks of the electron lens assembly.

Das Ausführungsbeispiel der Erfindung wird hier anhand eines Drelstrahl-Inllne-Elektronenstrahlsystems erläutert, welches ähnlich dem in der US-PS 37 72 554 « beschriebenen ist, jedoch eine zusätzliche Linsenelektrode für einen Betrieb mit drei Potentialen enthält. Die Erfindung kann jedoch auch in anderen Strahlsystemtypen Anwendung linden.The exemplary embodiment of the invention is illustrated here on the basis of a three-ray internal electron beam system explains which is similar to that in US-PS 37 72 554 « is described, but contains an additional lens electrode for operation with three potentials. the However, the invention can also be used in other types of jet systems.

Wie die Fig. 1 und 2 zeigen, enthält das Elektronen- ^4Ü Strahlsystem 10 zwei parallele gläserne Tragstäbe 12, an denen verschiedene Elemente des Strahlsystems montiert sind. An einem Ende der Tragstäbe 12 sind drei becherförmige Kathoden 14 montiert, die auf ihren Endwänden emittierende Oberflächen haben. Im Abstand von den ⁴*> Kathoden 14 ist eine Steuergitterelektrode 16 montiert, lerner eine Schirmgitterelektrode 18 und eine erste, zweite und dritte Linsenelektrode 20. 22 bzw. 23. Die drei Elektronenstrahlcn wvden von den drei Kathoden 14 längs dreier in einer Ebene liegender Strahlwege 24 '" durch Öffnungen In den Elektroden projiziert. Am jenseitigen Ende der dritten Linsenelektrode 23 ist ein Abschirmbecher 26 befestigt. ^{As FIGS} . 1 and 2 show, the electron beam system 10 contains two parallel glass support rods 12 on which various elements of the beam system are mounted. At one end of the support rods 12 are mounted three cup-shaped cathodes 14 which have emissive surfaces on their end walls. A control grid electrode 16 is mounted at a distance from the ⁴ *> cathodes 14, a screen grid electrode 18 and a first, second and third lens electrode 20, 22 and 23, respectively. The three electron beams wvden from the three cathodes 14 along three beam paths lying in one plane 24 '" projected through openings in the electrodes. At the far end of the third lens electrode 23, a shielding cup 26 is attached.

Die SteuergltterelefUrode 16 und die Schirmgitterelektrode 18 weisen praktisch Hache Metallteile auf, die je '" drei in einer Linie angeordnete Öffnungen enthalten, die mit den Strahlwegen 24 ausgerichtet sind.The control electrode 16 and the screen grid electrode 18 have practically high metal parts, each '" contain three in-line apertures aligned with beam paths 24.

Die erste Linsenelektroden 20 hat zwei etwas rechtekkig geformte Becher 30 und 32, die an ihren offenen Enden zusammengefügt sind. Die geschlossenen Enden ^b0 der Becher 30 und 32 sind mit drei In einer Ebene liegenden Öffnungen ausgebildet, von denen jede mit einem gesonderten Strahlweg 24 ausgerichtet ist. Die zweite Linsenelektrode 22 weist zwei etwas rechteckige Becher 34 und 36 auf. die ebenfalls an Ihren offenen Enden ^bi zusammengefügt sind. Die Becher 34 und 36 sind ähnlich mit Öffnungen versehen wie die Becher 30 und 32 der ersten Elektrode. Die dritte Linsenelektrode 23 weist einen einzigen, in ähnlicher Weise mit Öffnungen versehenen, rechteckigen Becher auf, der mit seinem offenen Ende den Kathoden gegenüberliegt. Der Abschirmbecher 26 ist kreisförmig und mit seiner Grundfläche an dem geschlossenen Ende der dritten Linsenelektrode 23 befestigt. Der Abschirmbecher 26 hat in seiner Grundfläche auch drei in einer Linie liegende Öffnungen, deren jede mit einem der Strahlwege 24 ausgerichtet ist.The first lens electrode 20 has two somewhat rectangular shaped cups 30 and 32 which are joined together at their open ends. The closed ends ^{b0 of} the cups 30 and 32 are formed with three openings lying in one plane, each of which is aligned with a separate beam path 24. The second lens electrode 22 has two somewhat rectangular cups 34 and 36. open also at its ends are joined ^bi. The cups 34 and 36 are similarly apertured as the cups 30 and 32 of the first electrode. The third lens electrode 23 has a single, similarly apertured, rectangular cup, the open end of which is opposite the cathodes. The shielding cup 26 is circular and its base surface is attached to the closed end of the third lens electrode 23. The shielding cup 26 also has three in-line openings in its base area, each of which is aligned with one of the beam paths 24.

Für den Betrieb ist das Elektronenstrahlsystem 10 so entworfen, daß sein Hauptfokussierfeld zwischen der zweiten und dritten Linsenelektrode 22 und 23 ausgebildet wird. Zu diesem Zweck ist zwischen diesen Elektroden, und diese enthaltend, ein Widerstandslinsenstapel 42 angeordnet.For operation, the electron beam system 10 is designed so that its main focus field is between the second and third lens electrodes 22 and 23 is formed. For this purpose, between these electrodes, and containing them, a resistive lens stack 42 arranged.

Die zweite und dritte Linsenelektrode 22 und 23, die als Endelekiroden des Widerstandslinsenstapels 42 dienen, sind fest mit den Tragstäben 12 verbunden. Diese Befestigung erfolgt durch Um fangs vorsprünge 44 und 46 an den Endolektroden 22 bzw. 23, die tief in die gläsernen isolierenden Tragstäbe 12 eingebettet sind. Für die Endelektrode 23 sind die Umfangsvorsjrünge 26 Teil einer mit Öffnungen versehenen Platte 48, die am offenen Ende des rechteckförmigen Bechers angebracht ist. Die Widerstandslinsenstruktur 42 enthält auch ein Paar Öffnungen aufweisende Elektrodenplatten 50 (siehe Fig. 3), die abwechselnd gestapelt sind mit einer Mehrzahl rechteckiger, parallelepipedförmiger AbstandsblocksThe second and third lens electrodes 22 and 23, which serve as end electrodes of the resistor lens stack 42, are firmly connected to the support rods 12. This attachment is carried out by projections 44 and 46 in order on the end electrodes 22 and 23, which are deeply embedded in the glass insulating support rods 12. For the End electrode 23, the peripheral projections 26 are part of an apertured plate 48, the open End of the rectangular cup is attached. The resistive lens structure 42 also includes a pair Orifice electrode plates 50 (see Fig. 3) alternately stacked with a plurality rectangular, parallelepiped-shaped spacer blocks

52. Ein Paar der Abstandsblocks 52 ist jeweils zwischen zwei benachbarten Elektrodenplatten 50 angeordnet. Die Abstandsblocks 52 liegen auf gegenüberliegenden Seiten der mittleren der drei in einer Linie liegenden Öffnungen52. A pair of the spacer blocks 52 are arranged between two adjacent electrode plates 50, respectively. the Spacer blocks 52 lie on opposite sides of the middle of the three in-line openings

53, die in der Elektrodenplatte 50 vorgesehen sind, und neben einer Außenkante der Elektrodenplatten. Mindestens ein Block jedes Paares von Abslandsblöcken 52 ist ein Widerstandsabstandsblock 54 oder kurz: Widerstandsblock der nachbeschriebenen Art. Der andere Block des Paares von Abstandsbiöcken 52 kann entweder ein Widerstandsblock 54 oder ein Isolatorblock 5b sein. Wenn nur ein Widerstandsblock zwischen einem Paar von Elektrodenplatten 50 gewünscht wird, dann kann noch ein Isolatorblock 56 für die mechanische Festlegung eingefügt werden.53 provided in the electrode plate 50 and adjacent to an outer edge of the electrode plates. At least one block of each pair of offshore blocks 52 is a resistor spacer block 54 or, for short: resistor block of the type described below. The other block of the pair of spacer blocks 52 can either a resistor block 54 or an insulator block 5b. If only a block of resistance between a couple of electrode plates 50 is desired, then an insulator block 56 for mechanical fixing inserted.

In den Zeichnungen sind die WiderstandsNocks 54 zum Unterschied von den Isolatorblocks 56 gepunktet dargestellt. Die Isolatorblocks 56 können aus irgendeinem Isolationsmaterial bestehen, das sich zum Zusammenbau mit den Elektrodenplatten eignet und die thermische und Vakuumbehandlung, die für Elektronenröhren üblich ist, verträgt. Übliche Keramikmaterialien, wie hochreines Aluminiumoxid, sind zu bevorzugen.In the drawings, the resistor cams 54, unlike the isolator blocks 56, are dotted shown. The isolator blocks 56 can be made of any insulating material suitable for assembly with the electrode plates and the thermal and vacuum treatment that are suitable for electron tubes is common, tolerates. Common ceramic materials such as high purity aluminum oxide are preferred.

Wie Flg. 4 zeigt, enthalten die Widerstandsblocks 54 vorzugsweise Isola'orblocKs mit einem Paar gegenüberliegender Oberflächen, die mit zweien der Elektrodenplatten 50 in Berührung stehen und mit elektrisch voneinander getrennten metallischen leitenden Filmen 57 beschichtet sind. Eine Oberfläche, welche die beiden lilmbeschichteten Oberflächen miteinander verbindet, Ist mit einer Schicht 5" eines geeigneten Materials hohen Widerstandes überzogen, welche Teile der Oberflächen der beiden Metallfilme 57 überlappt, um einen guten elektrischen Kontakt mit ihnen zu bilden.Like Flg. 4 shows the resistor blocks 54 included preferably Isola'orblocKs with a pair of opposite sides Surfaces that are in contact with two of the electrode plates 50 and electrically from each other separate metallic conductive films 57 are coated. A surface that the two Bonding film coated surfaces together is high with a layer 5 "of a suitable material Resistance coated, which parts of the surfaces of the two metal films 57 overlapped to a good to make electrical contact with them.

Die Elektrodenplatten 50 und die Abstandsblocks 52 (die Widerstandsblocks 54 und Isolatorblocks 56) sind abwechselnd lose gest/pelt und befinden sich zwischen den Endelektroden 22 und 23. Die Elektrodenplatten 50 und die Blocks 52 werden durch zwei Paare von Federn 60 in Ihre Stellung und in elektrischem Kontakt miteinander gehalten, die an den Endelektroden 22 und 23 imThe electrode plates 50 and the spacer blocks 52 (the resistance blocks 54 and insulator blocks 56) are alternately loosely stacked and located between the end electrodes 22 and 23. The electrode plates 50 and the blocks 52 are supported by two pairs of springs 60 held in place and in electrical contact with each other, the end electrodes 22 and 23 in the

J 1 \J L 1 OO J 1 \ JL 1 OO

wesentlichen In Ausrichtung mit den gestapelten Reihen der Abstandsblocks 52 befestigt sind und den Stapel der Elektrodenplatten 50 und Blocks 52 In einer zu den Strahlwegen 24 parallelen axialen Richtung zusammendrücken. essential in alignment with the stacked rows the spacer blocks 52 are attached and the stack of electrode plates 50 and blocks 52 in one to the Compress beam paths 24 parallel axial direction.

Wie In den Fig. 3 und 4 gezeigt Ist, haben die Elektrodenplatten 50 auf gegenüberliegenden Selten Ihrer Mittelöffnungen 53 ein Paar rechteckig geprägter Vertiefungen 62, In welchen die Widerstandsblocks 54 lose sitzen. In der Platte ist an der Stelle der eingeprägten Vertiefung eine rechteckige Öffnung 64 vorgesehen, damit das Metall der Elektrodenplatten 50 bei dem Elnprilgevorgang besser Hießen kann. Die genaue Ausrichtung der Elektrodenplatten erfolgt mit Dornen, die beim Festlegen, also beim Einbetten der Sirahlsysiemelektroden in die gläsernen Tragstäbc 12, durch die Öffnungen 53 ragen.As shown in Figs. 3 and 4, the electrode plates 50 on opposite sides of your central openings 53 a pair of rectangular embossed depressions 62, in which the resistance blocks 54 sit loosely. In the plate is provided with a rectangular opening 64 at the location of the embossed recess so that the Metal of the electrode plates 50 can better be called during the injection process. The exact alignment of the Electrode plates are made with thorns that, when setting, So when embedding the Sirahlsysiemelectrodes in the glass support rods 12 through the openings 53 protrude.

Auch FlK- 4 Ia¹IIt am besten die Anordnung und Funktionsweise der Federn 61) erkennen. Die in Flg. 4 gezeigte Feder 61) lsi eine von zweien, die an Ihrer Mitte an die F.ndelektrode 22 angeschweißt sind. Die Feder 60 umlaßt einen Blattstrellen aus Federmaterial, beispielsweise Inconel-I.egicrung. und ragt mil ihren beiden Enden von der Elektrode 22 weg und drückt gegen die erste Elektrodenplatte 50. Die Federn 60 drücken somit die Elektrodenplatten 50 und die Widerstandsblocks 54 in guten elektrischen Kontakt in Richtung der Achse A-A in Fig. 4, die parallel zu den Strahlwegen 24 gemäß Fig. 2 verlaufen. Jede der Federn 60 kann ein Hand von 5.08 mm Länge (von links nach rechts in Flg. 4), 1.27 mm Breite (senkrecht zur Zeichenebene der Fig. 4) und 0.254 mm Dicke sein. Typischerweise haben die Enden der Feder 60 von der Elektrode 22 einen Absland von etwa 0.508 mm.FlK- 4 Ia ¹ IIt also best recognize the arrangement and mode of operation of the springs 61). The in Flg. 4 spring 61) is one of two that are welded at their center to the end electrode 22. The spring 60 surrounds a sheet of spring material such as Inconel wire. and protrudes at both ends from the electrode 22 and presses against the first electrode plate 50. The springs 60 thus urge the electrode plates 50 and the resistor blocks 54 into good electrical contact in the direction of the axis AA in FIG. 4, which is parallel to the beam paths 24 according to FIG. 2. Each of the springs 60 can be a hand 5.08 mm long (from left to right in FIG. 4), 1.27 mm wide (perpendicular to the plane of the drawing in FIG. 4) and 0.254 mm thick. Typically, the ends of spring 60 are spaced from electrode 22 by about 0.508 mm.

Flg. 3 läßt erkennen, daß die Elektrodenplatten 50 an J5 Ihren langen Seiten Belesilgungsklauen 66 haben, welche die gläsernen Tragstäbe leicht berühren oder leicht in sie eingebettet sind. Der Zweck der Berührung zwischen den Klauen 66 und den gläsernen Tragstangen 12 liegt in der Verhinderung seitlicher Bewegung (In der Zeichenebene der Fig. 3) der Elektrodenplatte, ohne jedoch das Zusammendrücken der Elektrodenplatten 50 und Widerstandsblocks 54 in guten elektrischen Kontakt durch die Federn in Axialrichtung senkrecht zur Plattenrichtung zu behindern. Deshalb sollte diese Berührung nicht zu kräftlg sein. Speziell sollten die Klausen 66 nicht so tief in den Tragstab 12 eingebettet sein wie die Vorsprünge 44 und 46 der Endelektrodcn 22 und 26, wo eine starre Befestigung erwünscht ist. Im Optimalfall sind die Klauen 66 genO^snd weit in die Glasstäbe eingebettet, ^x um sicherzustellen, daß bei den gegebenen Herstellungstoleranzen die Spitzen der Klauen in allen Fällen in genügendem Kontakt mit den Stäben stehen, um eine seitliche Bewegung irgendwelcher Elektroden 50 beim Herstellungsprozeß der Strahlsysteme zu verhindern. ^5:> Flg. 3 shows that the electrode plates 50 on their long sides have Belesilgungsklauen 66, which touch the glass support rods lightly or are lightly embedded in them. The purpose of the contact between the claws 66 and the glass support rods 12 is to prevent lateral movement (in the plane of the drawing in Fig. 3) of the electrode plate, but without compressing the electrode plates 50 and resistor blocks 54 into good electrical contact by the springs in the axial direction to obstruct perpendicular to the plate direction. Therefore this contact should not be too forceful. In particular, the claws 66 should not be embedded as deeply into the support rod 12 as the projections 44 and 46 of the end electrodes 22 and 26 where rigid attachment is desired. In the optimal case, the claws 66 are embedded deeply into the glass rods, ^x to ensure that, given the manufacturing tolerances, the tips of the claws are in sufficient contact with the rods in all cases to prevent any lateral movement of any electrodes 50 during the manufacturing process of the beam systems to prevent. ^5:>

Typischerweise ragen die Klauen 66 etwa 1,27 mm von der Kante 68 der Elektrodenplatte 50 weg. Bei üblichen Fabrikationstechniken kann ein optimaler Kontakt bzw. Einbettung etwa 0,508 mm betragen, wie dies auf der rechten Seite der Elektrodenplatte 50 gemäß Fig. 3 für ^ den Stab 12 gezeigt ist. Eine typische Toleranz von plus oder minus 0,318 mm stellt dann einen Einbettungskontakt von 0,127 mm sicher. Im Maximum sollte die Einbettung 1,27 mm nicht übersteigen, also die gesamte Länge der Klauen 66, wie dies auf der linken Seite der ^6S Elektrodenplatte 50 in Fig. 3 beim Tragstab 12 gezeigt ist. Wird dieses Maximum nennenswert überschritten, dann kann der axiale Federdruck auf die Elektrodenplatte 50 gestört werden. Weiterhin kann der Ausschuß Infolge gebrochener Stäbe 12 und gebrochener Widerslandsblocks 54 zu groß werden. Das Auftreten gebrochener Tragstäbe, wobei das ganze Strahlsystem zu Ausschuß wird. Ist last direkt proportional zur Zahl der Einbettungen Im Tragstab und nimmt auch mit zunehmender Einbettungstiele zu. Well das Strahlsystcm mehrere Elektrodenplatten 50 enthält, könnte das Auftreten gebrochener Tragstäbe untragbar groß werden, wenn jede dieser Elektroden tief In den Tragstab eingebettet wäre, um fest mit Ihm verbunden zu sein. Wegen des nur leichten Kontaktes zwischen den Elektrodenplatten 50 und den Glasstäben 12 wird bei dem Strahlsystem das andernfalls hohe Auftreten gebrochener Stäbe vermieden, ohne daß die Stabilität der seitlichen Ausrichtung beeinträchtigt würde.Typically, the claws 66 protrude approximately 1.27 mm from the edge 68 of the electrode plate 50. With conventional manufacturing techniques, an optimal contact or embedding can be approximately 0.508 mm, as is shown on the right-hand side of the electrode plate 50 according to FIG. 3 for the rod 12. A typical tolerance of plus or minus 0.318 mm then ensures an embedding contact of 0.127 mm. As a maximum, the embedding should not exceed 1.27 mm, that is to say the entire length of the claws 66, as is shown on the left-hand side of the ^6S electrode plate 50 in FIG. 3 for the support rod 12. If this maximum is exceeded significantly, the axial spring pressure on the electrode plate 50 can be disturbed. Furthermore, the rejects can become too large as a result of broken rods 12 and broken opposing blocks 54. The appearance of broken support rods, with the whole jet system being rejected. The load is directly proportional to the number of embeddings in the bearing bar and also increases with increasing embedment struts. Since the beam system contains multiple electrode plates 50, the incidence of broken support rods could become prohibitive if each of these electrodes were embedded deeply in the support rod so as to be firmly connected to it. Because of the only slight contact between the electrode plates 50 and the glass rods 12, the otherwise high occurrence of broken rods in the beam system is avoided without the stability of the lateral alignment being impaired.

Erfahrungen bei der Herstellung der neuen Elektronenstrahlsysteme zeigen auch, daß die Widerstandsblocks 54 \ leicht brechen können und die elektrische Kontinuität dadurch gestört wird, wenn geschmolzenes Glas vom liefen Einbetten In Berührung mit den Blocks kommt.Experience in the manufacture of the new electron beam systems also shows that the resistance blocks 54 \ can easily break and the electrical continuity is disturbed if molten glass from running embedding comes into contact with the blocks.

Als Variante des Widerstandslinsenstapels 42 könnte man daran denken, die Elektrodenplatten 50 tiefer In die Tragstäbe 12 einzubetten und die Federn 60 stärker zu machen, um den gewünschten Axialkontakt zwischen den Elektrodenplatters 50 und den Widerstandsblocks 54 sicherstellen, jedoch Ist dies nicht zu bevorzugen, well dabei das Problem gebrochener Tragstäbe gravierender wird. Außerdem machen stärkere Federn 60 den Zusammenbau schwieriger.As a variant of the resistor lens stack 42, one could think of the electrode plates 50 deeper in the Embed support rods 12 and make the springs 60 stronger to achieve the desired axial contact between the electrode plate 50 and the resistor block 54, however, this is not preferable because the problem of broken load-bearing bars becomes more serious. In addition, stronger springs 60 make the assembly more difficult.

Das Elektronenstrahlsystem 10 ist zwar mit zwei Paaren von Federn 60 dargestellt, von denen je ein Paar auf jeder Seite des Linsenstapels angeordnet ist, jedoch kann die neue Linse auch unter Verwendung nur eines Federpaares hergestellt werden. Bei zwei Federpaaren wird jedoch besser sichergestellt, daß die Elektrodenplatten und die Widerstandsblocks axial vollständig durch den Stapel in Kontakt miteinander gedrückt werden. Verwendet man nur ein Federpaar 60, dann kann es erwünscht sein, die Federn nahe der Mitte des Linsenstapels anzuordnen, um eine gleichmäßigere Federkraft entlang des gesamten Stapels zu erreichen im Vergleich zu der Anordnung des einzigen Federpaars an einem Ende des Stapels. Jedoch würde eine solche mittlere Lage der Federn das Potentialprolll längs des Linsenstapels stören, was unerwünscht sein kann. Dies hängt jedoch davon ab, wie die Linse und ihre elektrische Potentialverteilung entworfen werden.The electron beam system 10 is true with two pairs represented by springs 60, each of which has a pair each side of the lens stack is arranged, but the new lens can also be made using only one pair of springs getting produced. With two pairs of springs, however, it is better ensured that the electrode plates and axially pushing the resistance blocks fully into contact with one another through the stack. Used if you only have one pair of springs 60, it may be desirable to place the springs near the center of the lens stack, to achieve a more even spring force along the entire stack compared to that Placement of the single pair of springs at one end of the stack. However, such a middle position would be the Springs disturb the potential roll along the lens stack, which can be undesirable. However, this depends on like the lens and its electrical potential distribution be designed.

Man kann zwar die Federn 60 unmittelbar auf ein Paar Abstandsblocks 52 drücken lassen, jedoch ist el:. .· solche Anordnung nicht zu bevorzugen wegen der weniger gleichmäßigen Verteilung der Federkraft Im Stapel und wegen der Möglichkeit einer schwierigeren Montierbarkeit der Teile.It is true that the springs 60 can be placed directly on a pair Let the spacer blocks 52 press, but el is :. .· such Arrangement not to be preferred because of the less even distribution of the spring force in the stack and because of the possibility of more difficult assembling of the parts.

Die relativen Größen der Elektrodenplatten 50, Widerstandsblocks 54 und Glasstäbe 12 sind nicht kritisch. Andere Elektroden des Strahlsystems 10 und Tragstäbe 12, welche das Einbetten dieser Elektroden in Ihnen aushalten, bestimmen die maximale Größe der Elektrodenplatten 50. Da jedoch die Elektrodenplatten 50 nicht tief in die Stäbe 12 eingebettet werden, kann die Größe der Stäbe entlang des Linsenstapels 12 herabgesetzt werden, wie dies Fig. 1 zeigt. Dadurch können die Elektrodenplatten 50 maximal groß gemacht werden, so daß man eine bessere Elektronenoptik und eine bessere Hochspannungsstabilität erhält.The relative sizes of the electrode plates 50, resistor blocks 54, and glass rods 12 are not critical. Other electrodes of the beam system 10 and support rods 12, which can withstand the embedding of these electrodes in you, determine the maximum size of the electrode plates 50. However, since the electrode plates 50 are not deep are embedded in the rods 12, the size of the rods can be reduced along the lens stack 12, as FIG. 1 shows. This allows the electrode plates 50 can be made as large as possible, so that one has better electron optics and better high-voltage stability receives.

Gemäß einem speziellen Beispiel erfolgt die Herstellung der Widerstandsblocks 54, indem zuerst eine Al₂Oj-According to a specific example, the resistance blocks _{54 are produced by first using an Al 2 Oj-}

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Platte guter Qualität zunächst von einem etwas dickeren Rohling auf Abmessungen von 50,8 χ 50,8 χ 1,016 mm geläppt wird. Die großen einander gegenüberliegenden Flächen dieser Platte werden dann mit den Metallfllmen 57 überzogen. Indem zuerst eine dünne Schicht Titan und dann eine Schicht aus Wolfram auf die AljOi-Platte aufstäubt wird (.Spulter-Verfahren). Die Platte wird dann mit einer Diamantsäge In 5,08 mm breite Stücke zerschnitten, und diese Stücke werden In einen Halter eingesetzt, der eine der 50,8 mm me«3enden freien AljOi-Flächen und etwa ein Drittel der mit Titan und Wolfram bedeckten Flächen frei läßt. Dann wird ein W-AljOi-Cermei auf die so freiliegenden Flächen des Teiles aulgesprüht, um die Wlderslandsschichl 58 auszubilden, die Flg. 4 zeigt. Die Überlappung der Wider-Standsschicht 58 über dem Metallfilm 57 sorgt für einen guten elektrischen Kontakt.Good quality record initially from a slightly thicker blank with dimensions of 50.8 50.8 χ 1.016 mm is lapped. The big ones opposite each other Surfaces of this plate are then covered with the metal films 57. By first applying a thin layer of titanium and then a layer of tungsten on the AljOi plate is dusted up (.Spulter method). The plate will then cut with a diamond saw into 5.08 mm wide pieces, and these pieces are placed in a holder used, the one of the 50.8 mm me «3enden free AljOi surfaces and about a third of the one with titanium and Tungsten-covered surfaces leaves free. Then a W-AljOi-Cermei is applied to the exposed surfaces of the Part sprayed to form the Wlderslandsschichl 58, the Flg. 4 shows. The overlap of the resistance layer 58 over the metal film 57 ensures good electrical contact.

L/IC jiuCKc WcfüCn uänil gCgiunt, UL / IC jiuCKc WcfüCn uänil gCgiunt, U

auf bequeme Werte (etwa 10* bis 10¹⁰Sl für die fertigen Blöcke) zu bringen. Man kann zwar durch selektives bzw. gezieltes Glühen bestimmte spezifische Widerstände erreichen, jedoch Ist es nicht möglich, den spezifischen Widerstand zu überwachen, während sich die Blocks in dem Glühofen befinden, well bei Temperaturen oberhalb 400" das Keramikmaterial eine beträchtliche Leitfähigkeit hai. Troizdem Ist es möglich, mit nur wenigen Messungen an aus dem Ofen herausgenommenen Stücken eine gewünschte Widerstandsverteilung für eine gegebene Glühcharge gut zu reproduzieren. Nach dem GlU,icn werden die Stücke In Blocks von 5,08 mm χ ίο 1,016 mm χ 1,016 mm zerschnitten, bei denen eine der 1.016 χ 1,016 mm messenden Flächen mit der Widerstandschicht 58 überzogen 1st.to bring it to comfortable values (about 10 * to 10 ¹⁰ Sl for the finished blocks). Certain specific resistances can be achieved by selective or targeted annealing, but it is not possible to monitor the specific resistance while the blocks are in the annealing furnace, because at temperatures above 400 "the ceramic material has a considerable conductivity It is possible, with just a few measurements on pieces removed from the furnace, to reproduce a desired resistance distribution for a given annealing charge one of the surfaces measuring 1,016 χ 1,016 mm is coated with the resistance layer 58.

Die folgende Tabelle gibt eine Auflistung typischer Aulsiäubungswerte und Schichtdicken bei einem bevor- » Zügien Beispie! der Herstellung von Widerstandsblocks.The following table lists some of the typical ones Exception values and layer thicknesses in the case of a preferred » Zügien example! the manufacture of resistor blocks.

Materia!Materia!

Zeit (Minuten)Time (minutes)

Dicke (μ)Thickness (μ)

Ti W
W-AI₂Oj Ti W
W-AI ₂ Oj

240240

0,1 0,2 0,70.1 0.2 0.7

4040

4545

Es lassen sich verschiedene Abmessungsbeziehungen und Widerstandswerte und Materialien bei der Herstellung des Widerstandsllnsenstapels 42 verwenden. Die Wahl dieser Parameter hängt ab vom jeweiligen Aulbau des Elektronenstrahlsystems und der Apparatur, für welche es gedacht Ist. Üblicherwelse betreibt man einen Spannungsteller, der durch hochohmlge Schichten 58 gebildet Ist, mit einem Querstrom von 5 bis 10 Mikroampere und einer Verlustleistung von 0,5 Watt oder weniger. Typische Spannungsgradienten, wie sie üblicherweise entlang der Widerstandsschichten 58 auftreten, Hegen im Bereich von 2,5 bis 4,0 χ 10⁴ Volt pro Zentimeter.Various dimensional relationships and resistances and materials can be used in fabricating the resistor stack 42. The choice of these parameters depends on the particular structure of the electron beam system and the equipment for which it is intended. Usually, a voltage regulator, which is formed by high-resistance layers 58, is operated with a cross current of 5 to 10 microamps and a power loss of 0.5 watts or less. Typical voltage gradients, as they usually occur along the resistance layers 58, are in the range from 2.5 to 4.0 χ 10 ⁴ volts per centimeter.

Als geeignete Materialien für die Elektrodenplatten 50 haben sich Molybdän, nichtrostender Stahl und andere Metalle erwiesen, welche mit den angewandten Herstellungstechniken kompatibel sind. Für die Abstandsblocks sind Aluminiumoxidkeramikmaterialien vorzuziehen.Molybdenum, stainless steel and others have proven to be suitable materials for the electrode plates 50 Metals proved to be compatible with the manufacturing techniques used are compatible. Alumina ceramic materials are preferred for the spacer blocks.

5050

60 Alumlniunioxld-Abstandsblocks 52 werden geelgneterwelse mit Molybdän metallisiert, das durch bekannte Anstrelchverlahren oder durch Aufstäuben auf Tltan-Wolfram-Metalllslerungsüberzüge aufgebracht wird. Sixty aluminum oxide spacer blocks 52 are advantageously metallized with molybdenum, which is applied to titanium-tungsten metal dissolution coatings by known painting processes or by sputtering.

Die Form der Abstandsblocks 52 ist nicht kritisch. Einfache rechteckige Blocks werden bevorzugt. Auch die Positionierung der Blocks 52 auf den Elektrodenplatten 50 Ist nicht kritisch. Jedoch werden die Blocks vorzugsweise in einem Abstand von mindestens der Blockdicke von den Elektrodenöffnungen 53 gehalten, um übermäßige Störungen mit den Llnsenleldern In den Öffnungen zu vermelden, und sie werden auch von den Kanten der Elektrodenplatten etwas zurückversetzt, beispielsweise 0,381 mm, um eine Funkenbildung zwischen Ihnen und anderen Teilen der Elektronenröhre zu vermelden.The shape of the spacer blocks 52 is not critical. Simple rectangular blocks are preferred. Also the Positioning the blocks 52 on the electrode plates 50 is not critical. However, the blocks are preferred kept at a distance of at least the block thickness from the electrode openings 53 to avoid excessive Report any interference with the insignia in the openings, and they will also come from the edges of the Electrode plates set back a little, e.g. 0.381 mm, to create a spark between you and to report to other parts of the electron tube.

Aufgestäubte Cermet-Materlallen, wie sie In der US-PS 40 10 312 beschrieben sind, werden für die Verwendung der hochohnilgen Schicht 58 bevorzug! Dc *n*»7itlschi; Widerstand kann so eingestellt werden, daß der gewünschte Gesamtwiderstand für das spezielle Elektronenstrahlsystem erhalten wird, In welches die Wlderstandsllnsenstruktur eingebaut werden soll. Die Dicke solcher Überzüge kann bedeutend verändert werden, und der gewünschte spezifische Widerstand kann durch geeignetes Glühen erhalten werden, wie es In der soeben erwähnten Patentschrift erläutert ist. Geeignete Schichten oder Überzüge sind von 0,35 bis 0,7 Mikron Dicke hergestellt worden, jedoch sind diese Werte nur als bevorzugter Bereich und nicht als Begrenzung schlechthin zu verstehen.Dusted-on cermet material as described in the US-PS 40 10 312 are described for use prefer the high-quality layer 58! Dc * n * »7itlschi; Resistance can be adjusted to provide the total resistance desired for the particular electron beam system is obtained, in which the natural forest structure is to be installed. The thickness of such coatings can be varied significantly, and the desired resistivity can be obtained by suitable annealing, as shown in FIG mentioned patent is explained. Suitable layers or coatings are from 0.35 to 0.7 microns thick have been established, but these values are only intended as a preferred range and not as a limitation per se to understand.

Andererseits kann man auch Widerstandslacke für die Überzüge 58 benutzen, wenn sie den gewünschten hohen Widerstand besitzen. Allgemein kann jegliches Widerstandsmaterial verwendet werden, das geeignet hohe Widerstandswerte ergibt und sich mit den Fabrlkatlonsverlahren für die Linsen- und Elektronenröhrenherstellung verträgt.On the other hand, you can also use resistive lacquers for the coatings 58 if they have the desired high Have resistance. In general, any resistor material that is suitably high can be used Resistance values result and with the Fabrlkatlonsverlahren for lens and electron tube production.

In einem Beispiel der neuen Widerstanclsllnsenstruklur 42 sind die Elektrodenplatten 50 aus 0,254 mm dickem nichtrostendem Stahl hergestellt worden. Es wurden drei In einer Linie liegende Öffnungen 53 mit Durchmessern von 4,064 mm und einem gegenseitigen Abstand von 5,08 mm vorgesehen. Die Abstandsblocks 52 bestanden aus Aluminiumoxid und waren 1,016 mm dick und 5,08 mm lang und mit Tltan-Wolfram-MetalllslerungsfU-men 57 überzogen. Sieben Elektrodenplatten 50 und sechs Paare von Abstandsblocks 52 wurden verwendet. Die Abstandsblocks bestanden aus zwei Widerstandsblocks 54 in jeder der ersten beiden Stufen der Linse, einem Widerstandsblock 54 und einem Isolatorblock 56 In jeder der letzten vier Stufen der Linse. Die Wlder-Elandsschichten oder Überzüge 58 für diese Linsenstruktur wurden durch Aufstäuben mittels eines Sputter-Prozesses einer 0,7 Mikron dicken Cermet-Schicht mit einem Widerstand von Platte zu Platte von etwa 10 Ohm abgelagert.In an example of the new resistance structure 42, the electrode plates 50 are made of 0.254 mm thick stainless steel. There were three In-line openings 53 with diameters of 4.064 mm and a mutual distance of 5.08 mm provided. The spacer blocks 52 were made of alumina and were 1.016 mm thick and 5.08 mm long and with Tltan-Tungsten-MetalllslerungsfU-men 57 coated. Seven electrode plates 50 and six pairs of spacer blocks 52 were used. The spacer blocks consisted of two resistor blocks 54 in each of the first two stages of the lens, a resistor block 54 and an insulator block 56 In each of the last four stages of the lens. The forest eland strata or coatings 58 for this lens structure have been formed by sputtering a 0.7 micron thick layer of cermet with a plate-to-plate resistance of about 10 Ohm deposited.

Die Linse wurde mit einer Fokusspannung von 5300 Volt an der zweiten Linsenelektrode 22 und einer Endanodenspannung von 2S000 Volt an der dritten Linsenelektrode 23 betrieben. Die erste Linsenelektrode 20 war an die mittlere Elektrodenplatte 50 angeschlossen und lag damit an einem Potential von 13 180 Volt.The lens was applied with a focus voltage of 5300 volts at the second lens electrode 22 and an ultor voltage operated by 2000 volts at the third lens electrode 23. The first lens electrode 20 was connected to the central electrode plate 50 and was thus at a potential of 13,180 volts.

Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

Claims

Patent claims:

1. Electron beam system for television picture tubes with a cathode (14) and two apertured lens electrodes which are in fixed relationship axially mounted along a plurality of glass support rods (12), further comprising a resistive lens stack (42), which is arranged between the lens electrodes as end electrodes (22, 23) and mechanically and electrically is connected to them and a plurality of openings (53) having electrode plates (50) alternately stacked with a plurality of resistor spacer blocks (54) thereby characterized in that springs (60) contact the resistive lens stack (42) and the electrode plates (50) and the resistor spacer blocks (54) axially in mutual electrical contact with one another ιιεΊ press with the end electrodes (22, 23), such that Ar resistive lens stacks (42) of a of the end electrodes (22) to the other end electrode (23) has a high resistance continuity.

2. electron beam system according to claim 1, characterized in that the Elekirodenplatien (50) are slightly touched by the Glasiragstäben (12), but are not deeply embedded in it, in such a way, that the electrode plates (50) are fixed against rope movement, but relatively free axially through the Springs (60) in good electrical contact with the neighboring resistor spacer blocks (54) can be pressed.

3. Electron beam system according to claim 1, characterized in that at least one each Resistance spacer block (54) for contacting electrode plate (50) with a recess (62) for receiving and positioning the resistor spacer blocks (54) is formed.

4. Electron beam system according to claim I. characterized in that the resistive lens stack (42) two spacer blocks (52) between each two adjacent electrode plates (50), wherein at least one of the spacer blocks is a resistor spacer block (54) and the spacer blocks are arranged in two parallel axial stacks, and that the spring (60) contains a pair of leaf leathers, of each of which is aligned with one of the axial stacks.

5. Electron beam system according to claim 1, characterized in that the resistive lens stack (42) contains two spacer blocks (52) between each two adjacent electrode plates (50), wherein at least one of the spacer blocks is a resistance spacer block (54) Is and the spacer blocks are arranged in two parallel axial stacks, and that the spring (60) comprises two pairs of leaf springs, one of which is at each end of the stack of resistive lenses (42) is arranged.