DE3050791C2

DE3050791C2 - Process for the simultaneous production of two magnetic recording media

Info

Publication number: DE3050791C2
Application number: DE19803050791
Authority: DE
Inventors: Masahiro Tokyo Yanagisawa
Original assignee: Nippon Electric Co Ltd
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1979-10-02
Filing date: 1980-10-01
Publication date: 1984-10-31
Also published as: DE3050525C2

Description

d) daß die beiden vorgefertigten Aufzeichnungsträger (26, 27) mit den lediglich vorgehärteten Lösungsmittelschichten (i6') zueinander weisend parallel so gegeneinander verschoben werden, daß der Rand des einen vorgefertigten Aufzeichnungsträgers (26) über den des anderen vorgefertigten Aufzeichnungsträgers (27) hinausragt, und jod) that the two prefabricated recording media (26, 27) with the only pre-hardened Solvent layers (i6 ') pointing parallel to one another are thus shifted from one another that the edge of one prefabricated recording medium (26) over that of the other prefabricated recording medium (27) protrudes, and jo

e) daß zum Umsetzen der vc-gehärteten Lösungsmittelschichten (16') zu Polysilikalschichien (16) die vorgehärtete Lösungsrrittelschicht (16') dese) that for converting the vc-hardened solvent layers (16 ') to polysilical layers (16) the pre-hardened solvent third layer (16 ') of the ersten Aufzeichnungsträgers (26) mit einem Laserstrahl (17) unter einem solchen Einfallswinkel bestrahlt wird, daß der Laserstrahl (17) durch die Magnetschichten (15) und/oder durch gegebenenfalls auf den Magnetschichten (15) ausgebildeten reflektierende Schichten der beiden Aufzeichnungsträger (26,27) wiederholt reflektiert wird.first recording medium (26) is irradiated with a laser beam (17) at such an angle of incidence that the laser beam (17) through the magnetic layers (15) and / or optionally on the magnetic layers (15) formed reflective layers of the two recording media (26,27) is repeatedly reflected.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge des Laserstrahls (17) 4 bis 50 μπι beträgt.2. The method according to claim 1, characterized in that the wavelength of the laser beam (17) 4 to 50 μπι amounts.

3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Wellenlänge des Laserstrahls 9 bis 11 μηι beträgt3. The method according to claim 2, characterized in that the wavelength of the laser beam 9 to 11 μηι is

4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß ein Kohlendioxid-Laser verwendet wird.4. The method according to claim 3, characterized in that a carbon dioxide laser is used will.

5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Lösungsmitteischicht direkt auf der Magnetschicht (15) ausgebildet wird, die den Laserstrahl (17) reflektiert.5. The method according to claim 3 or 4, characterized in that the solvent layer directly is formed on the magnetic layer (15) which reflects the laser beam (17).

6. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß direkt auf der Magnetschicht (15) eine den Laserstrahl (17) reflektierende Schicht (21) und direkt auf dieser die Lösungsmittelschicht ausgebildet wird.6. The method according to claim 3 or 4, characterized in that directly on the magnetic layer (15) a layer (21) reflecting the laser beam (17) and directly on top of this the solvent layer is trained.

7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die reflektierende Schicht (21) durch Niederschlagen von Silber, Gold oder Kupfer mit einer Dicke von weniger als 0.05 μπι direkt auf der Magnetschicht (15) gebildet wird.7. The method according to claim 6, characterized in that the reflective layer (21) through Deposition of silver, gold or copper with a thickness of less than 0.05 μπι directly on the Magnetic layer (15) is formed.

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum gleichzeitigen Herstellen von zwei magnetischen Aufzeichnungsträgern 1 gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruches 1. Derartige Aufzeichnungsträger sind beispielsweise Magnetplatten oder Magnettrommeln.The invention relates to a method for the simultaneous production of two magnetic recording media 1 according to the preamble of the patent claim 1. Such recording media are, for example, magnetic disks or magnetic drums.

Ein üblicher magnetischer Aufzeichnungsträger weist ein Substrat aus mindestens einem nicht-magnetischen Material sowie eine darauf aufgebrachte, dünne Schicht aus magnetischem Material auf. Diese Aufzeichnungsträger werden in Magnetaufzeichnungsgeräten verwen- det, die unter anderem bei Datenverarbeitungsanlagen eingesetzt werden. Das Magnetaufzeichnungsgerät weist einen Magnetkopf auf, und der magnetische Aufzeichnungsträger ist relativ zu diesem bewegbar. Durch elektrische Signale zeichnet der Kopf diese als Magnetisierung in der Schicht aus magnetischem Material, wie magnetischem Metall, entlang einer Spur auf. Diese im folgenden als Magnetschicht bezeichnete Schicht behält die Magnetisierung zur Speicherung der elektrischen Signale bei. boA conventional magnetic recording medium has a substrate made of at least one non-magnetic Material and a thin layer of magnetic material applied thereon. These recording media are used in magnetic recording devices. det, which are used, among other things, in data processing systems. The magnetic recorder has a magnetic head, and the magnetic recording medium is movable relative to this. By The head records these electrical signals as magnetization in the layer of magnetic material, such as magnetic metal, along a track. This layer, hereinafter referred to as the magnetic layer, is retained the magnetization for storing the electrical signals. bo

Der Kopf wird auch zur Wiedergabe der elektrischen Signale von der Aufzeichnung sowie zum Löschen der Aufzeichnungen eingesetzt. Diese Wirkungsweise des Magnetaufzeichnungsgeräts wird nachstehend als Arbeitsweise des Geräts bezeichnet. Wenn mehrere Ma- t>-> gnetköpfe verwendet werden, so erfolgt der Betrieb oder die Arbeitsweise auf mehreren Spuren, die bei einer Magnetplatte konzentrisch und bei einer Magnet-The head is also used to reproduce the electrical signals from the recording as well as to erase the Records used. This operation of the magnetic recording apparatus is hereinafter referred to as the operation of the apparatus. If several Ma- t> -> gnet heads are used, the operation or the mode of operation takes place on several tracks, which are concentric with a magnetic disk and concentric with a magnetic trommel entweder parallel oder spiralförmig sind.drum are either parallel or spiral.

Bei einem magnetischem Aufzeichnungsgerät, bei dem der Aufzeichnungsträger relativ zum Kopf oder zu den Köpfen mit hoher Geschwindigkeit bewegt wird, wird vorzugsweise das sogenannte Kontakt-Start-Stopp-Verfahrcn (nachstehend als CSS-Verfahren bezeichnet) angewendet. Bei diesem CSS-Verfahren wird der Kopf vor dem Arbeitsbeginn des Geräts mit dem in Ruhe befindlichen magnetischen Aufzeichnungsträger in Berührung gebracht. Während des Betriebs bildet sich eine Luftschicht aufgrund der Relativbewegung zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger aus. Beim Anhalten wird der Kopf mit dem in Ruhe befindlichen magnetischen Aufzeichnungsträger wieder in Berührung gebracht. Während der Relativbewegung mit hoher Geschwindigkeit dient die Luftschicht zur Vermeidung von Reibung zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger.In a magnetic recording apparatus in which the recording medium is relative to the head or to When the heads are moved at high speed, the so-called contact start-stop method (hereinafter referred to as the CSS method) is preferably used. With this CSS procedure the head before starting work on the device with the magnetic recording medium at rest brought into contact. During operation, a layer of air forms due to the relative movement between the head and the magnetic recording medium. When stopping, the head is with the brought into contact again with the magnetic recording medium at rest. During the relative movement at high speed, the air layer serves to avoid friction between the Head and the magnetic recording medium.

Auch bei dem CSS-Verfahren ist es unvermeidlich, daß der Kopf beim Start und beim Stopp sowie in unerwarteten Fällen in Reibungskontakt mit dem magnetischen Aufzeichnungsträger kommt. Die Reibung führt zu mechanischer Abnutzung, Beschädigung oder Zerstörung des Kopfes und/oder des Aufzeichnungsträgers. Die vorzugsweise aus einem metallischen Material bestehende Magnetschicht wird durch die feuchte Umgebungsluft od. dgl. chemisch angegriffen, falls sie der Umgebung ausgesetzt ist. Es ist daher wichtig, auf der Ma- In the CSS method, too, it is inevitable that the head will come into frictional contact with the magnetic recording medium at start-up and stop, as well as in unexpected cases. The friction leads to mechanical wear, damage or destruction of the head and / or the recording medium. The magnetic layer, which preferably consists of a metallic material, is chemically attacked by the moist ambient air or the like if it is exposed to the environment. It is therefore important to be on the

jnetschicht eine Schutzschicht auszubilden, um erstcre gegen die mechanische Abnutzung und/oder Beschädigung sowie gegen chemische Einflüsse zu schützen. Vorzugsweise dient die Schutzschicht ferner zum Schutz des Magnetkopfes. Ferner kann der Aufzeichnungsträger durch eine Spitze oder eine Kante aus hartem Material verkratzl werden. Vorzugsweise sollte daher die Schutzschicht auch die Magnetschicht gegen derartige Verkratzungen schützen.Net layer to form a protective layer in order to protect itself to protect against mechanical wear and / or damage as well as against chemical influences. The protective layer preferably also serves to protect the magnetic head. Furthermore, the recording medium scratched by a point or edge made of hard material. Preferably should therefore the protective layer also protect the magnetic layer against such scratches.

Aus der US-PS 41 62 350 ist ein magnetischer Aufzeichnungsträger mit einer Polysilikaischicht auf der Magnetschicht bekannt. Diese Polysilikatschicht wird in der Weise gebildet, daß eine Lösung von Tetrahydroxysilan auf die Magnetschicht aufgebracht wird, um dort eine Schicht aus dieser Lösung zu bilden, die dann bei erhöhter Temperatur während eines vorgegebenen Zeitraums gehärtet wird. Die Aufzeichnungs- und Wiedergabeeigenschaften der Magnetschicht sollten durch Veränderungen der magnetischen Eigenschaften dieser Magnetschicht und durch unerwünschte Magnetisierung des Substrats während des Aushärtens nich'. nach teilig beeinflußt werden. Die Polysilikatschicht gemäß der US-PS stellt eine ausgezeichnete Schutzschicht dar, und es wäre von besonderem Vorteil, wenn die Zuverlässigkeit dieser Polysilikatschicht weiter verbessert werden könnte.From US-PS 41 62 350 is a magnetic recording medium with a polysilica layer on the Magnetic layer known. This polysilicate layer is in formed the way that a solution of tetrahydroxysilane is applied to the magnetic layer in order to form a layer of this solution there, which is then used in is cured elevated temperature for a predetermined period of time. The recording and playback properties the magnetic layer should change the magnetic properties of this Magnetic layer and due to undesired magnetization of the substrate during curing not '. after be influenced in part. The polysilicate layer according to the US-PS represents an excellent protective layer, and it would be of particular advantage if the reliability of this polysilicate layer were further improved could be.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren zum gleichzeitigen Herstellen von zwei magnetischen Aufzeichnungsträgern gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 mit hoher Produktivität anzugeben. Derartige Aufzeichnungsträger sind in den DE-PS 30 37 158 und 30 50 525 mit gleichem Prioritätstag beschrieben. The invention is based on the object of a method for the simultaneous production of two magnetic Specify recording media according to the preamble of claim 1 with high productivity. Such recording media are described in DE-PS 30 37 158 and 30 50 525 with the same priority date.

Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen der Patentansprüche gelöst. Dabei geht die Erfindung von dem Grundgedanken aus, parallel zueinanderweisende Aufzeichnungsträger gleichzeitig mit dem gleichen Laserstrahl zu bestrahlen, um die vollständige Aushärtung der Polysilikatschrbten als Schutzschichten zu erzielen. Dadurch kann eine hohe Produktivität bei der Herstellung derartiger magnetischer Aufzeichnungsträger erzielt werden.This object is achieved with the features of the patent claims. The invention is based on that The basic idea consists of recording media pointing parallel to one another at the same time with the same laser beam to be irradiated in order to achieve the complete hardening of the polysilicate scraps as protective layers. Through this can achieve high productivity in the manufacture of such magnetic recording media will.

Gemäß der US-PS 41 62 350 enthält die Polysilikatschicht etwa 56% Silanolreste, wenn die Lösungsniittclschicht bei 100"C während 8 oder mehr Stunden gebakken oder ausgehärtet wird. Dieser Anteil nimmt auf etwa 29% ab. wenn die Aushärtung bei 200"C während 3 oder mehr Stunden erfolgt, und auf etwa 10% bei einer Aushärtung bei 250"C während 1 oder mehreren Stunden erfolgt. Im Hinblick auf die gewünschten Eigenschaften der Polysilikatschicht erfolgt die Aushärtung vorzugsweise zwischen 100 und 300°C, obwohl die Lösungsmittelschicht sogar bei 750⁰C ausgehärtet werden kann, wenn der vorstehend genannte Anteil auf etwa 2% abnimmt. Die Silanolreste weisen eine Infrarotabsorption bei einer Wellenlänge von 2,9 μΐη, entsprechend einer Wellenzahl von etwa 3400 cm-' auf.According to US Pat. No. 4,162,350, the polysilicate layer contains about 56% silanol residues when the solvent layer is baked or hardened at 100 "C for 8 or more hours. This proportion decreases to about 29%. When hardening at 200" C during 3 or more hours takes place, and takes place to about 10% with a curing at 250 ° C for 1 or more hours. In view of the desired properties of the polysilicate layer, the curing takes place preferably between 100 and 300 ° C, although the solvent layer even at 750 ⁰ C can be cured, if the above-mentioned proportion decreases to about 2%. the silanol groups have an infrared absorption at a wavelength of 2.9 μΐη, corresponding to a wave number of about 3400 cm- '.

Aus der US-PS 37 43 777 ist es ferner an sich bekannt, eine Schutzschicht mittels Laserstrahl auszuhärten.From US-PS 37 43 777 it is also known per se to cure a protective layer by means of a laser beam.

Im Rahmen der Erfindung hat sich gezeigt, daß das Polysilikat Infrarotlicht mit Wellenlängen zwischen 4 und 50 μπι gut absorbiert. Bei IR-Absorptionsspcktralanalyse nimmt die Absorption erheblich zu, wenn die Wellenlänge von 9 bis 11 μπι bclrägt. Das während der Vorhärtungsstufc teilweise ausgebildete Polysilikat absorbiert einen Laserstran' Dadurch wird die vorgehärtete Schicht zu der gewünschten Polysilikaischicht ausgehärtet. Die Silanolresic haben ein anderes Absorptionsspektrum bei 10.6 μηι Wellenlänge. In Abhängigkeit von der Wellenlänge oder den Wellenlängen des Laserstrahls werden daher die Silanoireste ebenfalls ausgehärtet. Jedenfalls ergibt die hohe Energiedichte des Laserstrahls eine verbesserte Polysilikatschicht Vermutlich kann der vorstehend angegebene Anteil auf weniger als 10 Gewichtsprozent reduziert werden. Die hohe Energiedieb'" ermöglicht ferner die Aushärtung in einem sehr kurzen Zeitintervall, so daß die Produktivität ίο der magnetischen Aufzeichnungsträger erhöht wird, in diesem Zusammenhang sei darauf hingewiesen, daß das Polysilikat ein Wärmeisolator ist.In the context of the invention it has been shown that the polysilicate infrared light with wavelengths between 4 and 50 μπι well absorbed. With IR absorption spectrum analysis the absorption increases considerably when the wavelength is from 9 to 11 μm. That during the Vorhärtungsstufc partially formed polysilicate absorbs a laser beam 'This causes the pre-hardened Layer cured to the desired polysilica layer. The Silanolresic have a different absorption spectrum at 10.6 μm wavelength. Dependent on therefore, the silanoic residues also depend on the wavelength or the wavelengths of the laser beam hardened. In any case, the high energy density of the laser beam results in an improved polysilicate layer Presumably, the amount given above can be reduced to less than 10 percent by weight. the high energy thief '"also enables curing in a very short time interval, so that productivity ίο the magnetic recording medium is increased in In this context, it should be noted that the polysilicate is a heat insulator.

Andererseils reflektiert die Magnetschicht die Infrarotstrahlen in diesen Wellenlängenbereichen sehr gut. Dies führt zu einer wirksamen Ausnutzung der Laserstrahlencrgie. Ferner entwickelt sich dadurch eine große Temperaiurdifferenz zwischen der aushärtenden Schicht und der Magnetschicht, so daß ein unerwünschter Temperaturanstieg sowohl in der Magnetschicht als auch im Substrat verhindert wird. Dadc/eh bleiben die ausgezeichneten magnetischen Eigenschaften der Magnetschicht und des Substrats erhalten.On the other hand, the magnetic layer reflects the infrared rays very good in these wavelength ranges. This leads to an effective use of the laser beam energy. Furthermore, a large temperature difference develops between the hardening ones Layer and the magnetic layer, so that an undesirable temperature rise both in the magnetic layer as is also prevented in the substrate. Dadc / eh they stay excellent magnetic properties of the magnetic layer and the substrate are obtained.

Die Erfindung wird nachstehend mit Bezug auf die Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 einen schematischen Radialschnitt eines Teils einer Magnetplatte zur Erläuterung eines erfindungsgemäß hergestellten Aufzeichnungsträgers,The invention is explained in more detail below with reference to the drawings. It shows
1 shows a schematic radial section of part of a magnetic disk to explain a recording medium produced according to the invention,

F i g. 2 einen schematischen Radialschnitt einer anderen Magnetplatte ähnlich F i g. 1,F i g. 2 is a schematic radial section of another Magnetic disk similar to FIG. 1,

jo Fig.3 eine schematische Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Magnetplatte ähnlich Fig. 1.3 shows a schematic cross-sectional view of a further embodiment of a magnetic disk similar to FIG. 1.

F i g. 4 einen schematischen Radialschnitt eines Teils einer Magnetplatte zur Erläuterung eines weiteren erfindungsgemäß hergestellten Aufzeichnungsträgers,F i g. 4 shows a schematic radial section of part of a magnetic disk to explain another according to the invention manufactured recording medium,

Fi g. 5 einen schematischen Radiaischnitt eines Paars von Magnetplattenteilen zur Erläuterung einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfah><sns undFi g. 5 a schematic radial section of a pair of magnetic disk parts to explain a first embodiment of the method according to the invention and

Fip. 6 eine Aufsicht einer Magnetplatte, die mit einem Laserstrahl entsprechend einer Modifikation des Verfahrens gemäß F i g. 5 bestrahlt wird.Fip. 6 is a plan view of a magnetic disk with a Laser beam according to a modification of the method according to FIG. 5 is irradiated.

Gemäß Fig. 1 weist eine Magnetplatte ein nicht-magnetisches Substrat It etwa in Form einer Legierungsplatte 12 mit einer darauf aufgebrachten Legierungsschicht 13 auf. Als Material für die Platte 12 wird wegen des geringen Gewichts, der guten Bearbeitbarkeit sowie der geringen Kosten vorzugsweise eine Aluminiumlegierung verwendet. Für die Legierungsschicht 13 wird vorzugsweise eine Legierung von Nickel und Phosphor eingesetzt. Die Oberfläche der Platte 12, auf der die Legierungsschicht 13 aufgebracht wird, erhält eine flache Form durch Abdrehen sowie durch Einebnen mittels Wärmebehandlung.Referring to Fig. 1, a magnetic disk has a non-magnetic one Substrate It, for example, in the form of an alloy plate 12 with an alloy layer 13 applied thereon. The material for the plate 12 is because of For light weight, good machinability and low cost, an aluminum alloy is preferred used. An alloy of nickel and phosphorus is preferably used for the alloy layer 13 used. The surface of the plate 12 on which the alloy layer 13 is applied is given a flat one Shape by turning as well as by leveling by means of heat treatment.

Die Ebenentoleranz beträgt 50 μπι in Azimualrichtung und 10 μιη in Radialrichtung. Die Legierungsschicht 13 weist vorzugsweise eine mechanisch hochpolierte, insbesondere spiegelnde Oberfläche mit eineir Oberflächenniuhigkeit von weniger als 0,04 μπι auf. Die w) Dicke der Legierungsschieht 13 beträgt vorzugsweise 30 μίτι. Das Substrat 11 kann beispielsweise aus !ediglich der Legierungsplatte 12 bestehen, wobei in diesem Fall die Oberfläche der Legierungsplatte 12 spiegelpoliert sein sollte. Als Materia! für eine derartige Legierungsh5 platte 12 ist Titan bevorzugt.The plane tolerance is 50 μm in the azimuth direction and 10 μm in the radial direction. The alloy layer 13 preferably has a mechanically highly polished, in particular reflective, surface with a surface smoothness of less than 0.04 μm. The w) thickness of the alloy layer 13 is preferably 30 μm. The substrate 11 can consist, for example, of only the alloy plate 12, in which case the surface of the alloy plate 12 should be mirror-polished. As materia! for such an alloy plate 12, titanium is preferred.

Auf der hochpolierten Oberfläche des Substrats wird in direktem Kontakt mit diesem eine dünne Schicht Hi aus magnetischem Material mit den vorstehend be-On the highly polished surface of the substrate, in direct contact with this, a thin layer Hi of magnetic material with the above

schriebenen Eigenschaften ausgebildet. Da das magnetische Material gewöhnlich ein Metall oder eine Legierung ist. kann die Magnetschicht 15 (z. B. aus Metall) durch Aufplattieren gebildet werden. Zur Ausbildung der metallischen Magnetschicht 15 wird vorzugsweise eine Legierung von Kobalt, Nickel und/oder Phosphor bis zu einer Dicke von 0.05 μηι aufplattiert.written properties trained. Since the magnetic material is usually a metal or an alloy is. For example, the magnetic layer 15 (e.g., made of metal) can be formed by plating. For training the metallic magnetic layer 15 is preferably an alloy of cobalt, nickel and / or phosphorus plated up to a thickness of 0.05 μm.

Nach der vorstehend genannten US-PS 41 62 350 wird durch Auflösen von Tctrahydroxysilan in Äthylalkohol bis zu einer Konzentration von 11 Gewichtsprozent eine erste Lösung hergestellt. Durch Auflösung der ersten Lösung in n-Rutylalkohoi bis zu einer Konzentration von 20 Gewichtsprozent wird eine zweite Lösung hergestellt. Die erhaltene Lösung wird als Schicht direkt auf der Magnetschicht 15 aufgetragen. Zur Ausbildung der Lösungsmittelschicht ist ein Wirbelschichtverfahren bevorzugt. Insbesondere wird das Substrat 11, auf dem die Magnetschicht 15 ausgebildci wird, bei einer Umdrehungsgeschwindigkeit von etwa 200 Minuten" ' gedreht, wobei die freiliegende Oberfläche der Magnetschicht 15 horizontal und nach oben gerichtet gehalten wird. Die vorstehend genannte zweite Lösung wird aus einem Gefäß auf die Oberseite der Magnetschicht 15 in der Nähe der Drehachse gegeben. Die aufgegebene Lösung breitet sich aufgrund der Zentrifugalkraft auf der Oberseite zum Außenumfang hin aus.According to the aforementioned US-PS 41 62 350 is by dissolving Tctrahydroxysilan in ethyl alcohol a first solution prepared up to a concentration of 11 percent by weight. By dissolving the first solution in n-rutyl alcohol up to a concentration a second solution is made up of 20 percent by weight. The resulting solution is used as a layer directly applied to the magnetic layer 15. A fluidized bed process is used to form the solvent layer preferred. In particular, the substrate 11 on which the magnetic layer 15 is formed at a revolution speed rotated by about 200 minutes "', with the exposed surface of the magnetic layer 15 is held horizontally and directed upwards. The aforementioned second solution is made from placed in a vessel on top of the magnetic layer 15 near the axis of rotation. The abandoned solution spreads towards the outer circumference due to the centrifugal force on the upper side.

Nach der US-PS 41 62 350 erhalt man aus der Lösungsmittelschicht eine Polysilikatschicht 16. vgl. die Fig.2 und 3. Die Polysilikatschicht 16 enthält die vorstehend beschriebenen Silanolrestc. Die Polysilikatschicht 16 ist vorzugsweise von 0,1 bis OJ μηι dick. Da die Dicke der Lösungsmittclschicht während der Behandlung um etwa 20% abnimmt, sollte die Menge an aufgegebener Lösung vorzugsweise so eingestellt werden, daß man die gewünschte Dicke der Polysilikatschicht !S erhäli. Am Beginn der Behandlung kann man die Lösungsmittelschicht gegebenenfalls über die Magnetschicht 15 für einen kurzen Zeitraum, beispielsweise 5 Minuten, sich ausbreiten lassen, damit das Lösungsmittel oder die Lösungsmittel zumindest bis /u einem gewissen Grade verdampfen können.According to US Pat. No. 4,162,350, a polysilicate layer 16 is obtained from the solvent layer, see Figures 2 and 3. The polysilicate layer 16 contains the silanol residues described above. The polysilicate layer 16 is preferably from 0.1 to 0.1 μm thick. Since the thickness of the solvent layer decreases by about 20% during the treatment, the amount of solution applied should preferably be adjusted so that the desired thickness of the polysilicate layer is obtained. At the beginning of the treatment, the solvent layer can optionally be allowed to spread over the magnetic layer 15 for a short period of time, for example 5 minutes, so that the solvent or solvents can evaporate at least to a certain extent.

Die Behandlung durch Vorhärten der Lösungsmittelschicht zu einer vorgehärteten Schicht 16' mit anschließender Bestrahlung der vorgehärteten Schicht 16' erfolgt mit Hilfe eines Laserstrahls 17, um die Polysilikatschicht 16 zu erhalten. Die Vorhärtung kann bei einer Temperatur in dem oben beispielhaft angegebenen Temperaturbereich während eines kürzeren Zeitraums als dem vorgeschriebenen Zeitraum erfolgen. Dabei kann eine Anordnung mit dem nichtmagnetischen Substrat 11. der vorzugsweise ein Metall enthaltenden Magnetschicht 15 und der Lösungsschicht in einen Elektroofen gegeben und während lediglich einer Stunde bei 200^CC erhitzt werden. Die Atmosphäre, in der die Lösungsschicht so vorgehärtet wird, ist nicht kritisch. Die magnetischen Eigenschaften des Substrats 11 und der Schicht 15 werden nicht verändert, so daß eine nachteilige Beeinflussung der Aufzeichnungs- und Wiedergabeeigenschaften der Schicht 15 nicht eintritt.The treatment by pre-hardening the solvent layer to form a pre-hardened layer 16 'with subsequent irradiation of the pre-hardened layer 16' takes place with the aid of a laser beam 17 in order to obtain the polysilicate layer 16. The pre-curing can take place at a temperature in the temperature range given above by way of example for a shorter period than the prescribed period. In this case, an arrangement with the non-magnetic substrate 11, the magnetic layer 15, which preferably contains a metal, and the solution layer can be placed in an electric furnace and heated ^{at 200 ° C. for only one hour.} The atmosphere in which the solution layer is so pre-hardened is not critical. The magnetic properties of the substrate 11 and the layer 15 are not changed, so that the recording and reproducing properties of the layer 15 are not adversely affected.

Im Hinblick auf die spektralen Absorptionseigenschaften des Polysilikats und der spektralen Rcflcxionseigenschaften der Magnetschicht 15 sollte die Wellenlänge des Laserstrahls 17 vorzugsweise von 4 bis 50 μηι und insbesondere von 9 bis 11 μπι betragen. Besonders bevorzugt ist im Hinblick auf die IR-Absorption der Silanoireste bei der erwähnten Wellenlänge von 10,6 μΐη ein Kohlenstoffdioxidlaser mit 10.6 μηι Wellenlänge. Der Durchmesser des !.aserstrahls 17 kann auf der vorgehärteten Schicht 16' etwa 10 mm betragen. Erfindungsgemäß kann jedoch der Durchmesser auch bis zu 0,1 mm klein sein. In Fig. 1 wird der Laserstrahl 17 zur Vereinfachung lediglich als Gerade dargestellt.With regard to the spectral absorption properties of the polysilicate and the spectral reflection properties of the magnetic layer 15, the wavelength of the laser beam 17 should preferably be from 4 to 50 μm and in particular from 9 to 11 μm. Particularly With regard to the IR absorption of the silanoic radicals at the wavelength mentioned, preference is given to 10.6 μηι a carbon dioxide laser with 10.6 μηι wavelength. The diameter of the laser beam 17 on the precured layer 16 'can be approximately 10 mm. According to the invention, however, the diameter can also be as small as 0.1 mm. In Fig. 1, the laser beam 17 only shown as a straight line for the sake of simplicity.

¹S Der Einfallswinkel ist dabei weitgehend unerheblich. Die vorgehärtete Schicht 16' kann mit einem derartigen Laserstrahl 17 bestrahlt werden und zwar entweder unmittelbar nachdem die vorgehärtete Anordnung aus dem Elektroofen herausgenommen worden ist. oder ¹ S The angle of incidence is largely irrelevant. The precured layer 16 'can be irradiated with such a laser beam 17, either immediately after the precured arrangement has been removed from the electric furnace. or

in nachdem sich die Anordnung abkühlen konnte. Bei der Bestrahlung wird die Anordnung um den Plattcnmitielpunkt gedreht und in Radialrichtung relativ zum Laserstrahl bewegt. Die vorgchürtete Schicht 16' wird dadurch in die Polysilikatschicht 16 umgewandelt. Wennin after the assembly has been allowed to cool. In the Irradiation, the arrangement is rotated around the plate center point and in the radial direction relative to the laser beam emotional. The pre-chirred layer 16 ′ is thereby converted into the polysilicate layer 16. if

r> ein Kohlendioxid-daslascr kontinuierlich betrieben wird und einen Laserstrahl 17 von 10 mm Durchmesser und 250 W Ausgangslrrsiung erzeug¹., so wird die vcrgchärtctc Schicht 16' von 0.1 μιτι Dicke in die gewünschte Polysilikatschicht 16 umgewandelt, wenn die Anordnung mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2 Minuten' gedreht wird.If a carbon dioxide laser is operated continuously and a laser beam 17 with a diameter of 10 mm and 250 W output radiation generates ^1. , the specified layer 16 'of 0.1 μm thickness is converted into the desired polysilicate layer 16 when the arrangement is rotated at a speed of 2 minutes' is rotated.

Gemäß Fi g. 2 kann vorzugsweise direkt auf der Polysilikatschicht 16 eine Silizium enthaltende Schmiermittelschicht 19 aufgebracht werden, wobei das Schmiermittel so orientiert ist, daß es an der Polysilikatschicht 16 anhaket. Die Dicke der Schicht 19 beträgt vorzugsweise weniger als etwa 0,02 μπι. Die orientierte Schmicrmittclschicht 19 haftet zäh an der Polysilikatschicht 16, um die Reibung zwischen dem Kopf und demAccording to Fig. 2 can preferably directly on the polysilicate layer 16 a silicon-containing lubricant layer 19 are applied with the lubricant oriented so that it is on the polysilicate layer 16 tick. The thickness of the layer 19 is preferably less than about 0.02 μm. The oriented Schmicrmittclschicht 19 adheres tenaciously to the polysilicate layer 16 to reduce the friction between the head and the

ίο magnetischen Aufzeichnungsträger zu vermindern. Beispiele derartiger Schmiermittel sowie Vorteile der Schicht 19 sind in der US-PS 40 69 360 näher erläutert.ίο to reduce magnetic recording media. Examples Such lubricants and advantages of the layer 19 are explained in more detail in US Pat. No. 4,069,360.

Beispiele für Tctrahydroxysilanlösungcn sind im einzelnen in der US-PS 41 62 350 näher erläutert.Examples of tetrahydroxysilane solutions are detailed in US-PS 41 62 350 explained in more detail.

r> Zur Vereinfachung der Beschreibung seien diese Lösungen zunächst als Lösungen der ersten Art bezeichnet, wobei die Lösungsmittel einen Siedepunkt von 70 bis 100°C aufweisen. Beispiele derartiger Lösungsmittel sind Methylalkohol, Äthylalkohol, n-Propylalkohol, Isopropylalkohol. sek.-Butyialkohol, tert.-Butylalkohol. Methylacetat, Äthylacetai, Isopropylacetat, Methylpropionat. Aceton. Äihylniethylketon und Isopropylmethylketon. Diese Lösungen werden hier als Lösungen zweiter Art bezeichnet und weisen einen Siedepunkt von über 100"C auf. Ein typisches Beispiel eines Lösungsmittels ist n-Buty!alkohol mit einem Siedepunkt bei 118'¹C.To simplify the description, these solutions are initially referred to as solutions of the first type, the solvents having a boiling point of 70 to 100.degree. Examples of such solvents are methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol. sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol. Methyl acetate, ethyl acetate, isopropyl acetate, methyl propionate. Acetone. Ethylniethyl ketone and isopropyl methyl ketone. These solutions are referred to herein as solutions of the second type, and have a boiling point of over 100 "C. A typical example of a solvent is n-butyl-alcohol having a boiling point at 118 ^'1 C.

Lösungen der ersten Art können beispielsweise so hergestellt werden, daß man zunächst das Silan mit eincr bestimmten Konzentration in einem Lösungsmittel auflöst und danach die so erhaltene primäre Lösung erneut mit einer bestimmten Konzentration in dem gleichen oder einem anderen Lösungsmittel löst.Solutions of the first type can be prepared, for example, by first adding the silane Dissolves a certain concentration in a solvent and then the primary solution obtained in this way dissolves again with a certain concentration in the same or a different solvent.

FrM es Ix)5iingsmitlclForM es ix) 5iingsmitlcl Konzentration.Concentration. Gcw.-% desWeight% des Silans im erstenSilane in the first Lösungsmittelsolvent IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 1111th ÄthylalkoholEthyl alcohol 1111th ÄthylalkoholEthyl alcohol 5.65.6 MethylalkoholMethyl alcohol 5.65.6 IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 5.65.6 IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 5.65.6 n-Buiylalkoholn-butyl alcohol 5,65.6

Zweites LösungsmittelSecond solvent

Konzentration.
(lew.-'Hi der
primären
Lösung in der
sekundären
LosungConcentration.
(lew .- 'Hi the
primary
Solution in the
secondary
Solution

IsopropylalkoholIsopropyl alcohol

ÄthylalkoholEthyl alcohol

sek.-Buiylalkoholsec-butyl alcohol

ÄthylalkoholEthyl alcohol

Acetonacetone

IsopropylalkoholIsopropyl alcohol

n-Butylalkoholn-butyl alcohol

14 14 27 27 27 27 2714th 14th 27 27 27 27 27

Das letzte Beispiel in der vorstehenden Tabelle be-The last example in the table above is

ZiCiIt SiClI aiii Cine L.u5üfig uüT /.Weiten r\i*i.ZiCiIt SiClI aiii Cine L.u5üfig uüT /.Weiten r \ i * i.

Wenn in der primären und der sekundären Lösung das gleiche Lösungsmittel verwendet wird, kann das Silan in der gewünschten Konzentration direkt in dem Lösungsmittel aufgelöst werden.If the same solvent is used in the primary and secondary solutions, the silane can be dissolved directly in the solvent in the desired concentration.

Gemäß F i g. 3 beträgt die Oberflächenrauhigkeil der Polysilikatschicht 16 von 0,02 bis 0,05 μπι, wobei sich sinusförmige Wellen quer zu den Spuren mit einer Steigung von 10 bis 200 μm entlang dem Innenumfang der Magnetschicht 15 erstrecken, wenn das Wirbelbcschichtungsverfahren unter Verwendung einer der Lösungen der ersten Art mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von f./ bis 200 Minuten- ' erfolgt. Durch die Wclligkcit wird die Haftfähigkeit zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger vermindert.According to FIG. 3 is the surface roughness wedge of the Polysilicate layer 16 from 0.02 to 0.05 μπι, where sinusoidal waves transverse to the tracks with a slope of 10 to 200 μm along the inner circumference of the Magnetic layer 15 extend when the fluidized bedding process using one of the solutions of the first type at a speed of rotation from f. / to 200 minutes- 'takes place. Through the wclligkcit the adhesiveness between the head and the magnetic recording medium is decreased.

Bei Verwendung einer Lösung der zweiten Art übersteigt die Oberflächenrauhigkcit nicht 0,02 μπι. Die Magnetschicht 15 einer sogenannten !^'-Magnetplatte weist einen Außen- und einen !nnsnumfan*⁷ uuf. die einen Abstand von 178 bzw. 84 mm vom Plattenmittclpunkt aufweisen.When using a solution of the second type, the surface roughness does not exceed 0.02 μm. The magnetic layer 15 of a so-called ^ '- magnetic plate has an outdoor and nnsnumfan * ⁷ UUF!. which are at a distance of 178 or 84 mm from the center of the plate.

Bei der in F i g. 4 dargestellten Magnetplatte wird wie bei der Ausfiihrungsform gemäß Fig. 1 ein nicht-magnetisches Substrat mit einer metallischen Magnetschicht 15 plattiert. Auf der Schicht 15 wird in direktem Kontakt mit dieser eine reflektierende Schicht 21 ausgebildet. Die reflektierende Schicht 21 soll vorzugsweise Infrarot-Licht mit einer Wellenlänge von mindestens 9 bis 11 μπι reflektieren. Für die reflektierende Schicht 21 wird vorzugsweise Silber, Gold oder Kupfer mit einer bevorzugten Dicke von weniger als etwa 0.05 μπι vcrwendeL Soweit auf eine reflektierende Schicht 21 verzichtet werden kann, liegt der untere Dickengren/.wert bei 0; bevorzugt ist ein Elektroplattierverfahren, da in diesem Fall die Dicke relativ leicht gesteuert werden kann. Mit Hilfe des Laserstrahls 17 wird die Polysilikatschicht 16 direkt auf der reflektierenden Schicht 21 ausgebildet. In the case of the in FIG. As in the embodiment according to FIG. 1, the magnetic disk shown in FIG. 4 is a non-magnetic one The substrate is plated with a metallic magnetic layer 15. On the layer 15 is in direct Contact with this a reflective layer 21 is formed. The reflective layer 21 should preferably Infrared light with a wavelength of at least 9 reflect up to 11 μπι. For the reflective layer 21 silver, gold or copper with a preferred thickness of less than about 0.05 μm is preferably used If a reflective layer 21 can be dispensed with, the lower thickness value is at 0; An electroplating method is preferred because in this case the thickness can be controlled relatively easily can. With the aid of the laser beam 17, the polysilicate layer 16 is formed directly on the reflective layer 21.

Bei der im Zusammenhang mit Fig.5 erläuterten Verfahren zum gleichzeitigen Herstellen zweier Magnetplatten kann sowohl die erste Magnetplatte 26 als auch die zweite Magnetplatte 27 entsprechend dem Aufbau gemäß den F i g. 1 bis 4 hergestellt werden. Die beiden vorgefertigten Magnetplatten oder Rohlinge 26 und 27 werden im wesentlichen parallel angeordnet, wobei die vorgehärteten Schichten 16' der beiden Platten zueinander weisen und der äußere Umfar.gsrand der ersten vorgefertigten Magnetplatte 26 sich über den äußeren Umfangsrand der zweiten vorgefertigten Magnetplatte 27 hinaus erstreckL Diese Umfangsränder verlaufen quer zur Magnetschicht 15 und der vorgehärleten Lösungsmiticlschicht 16'.In the method explained in connection with FIG. 5 for the simultaneous production of two magnetic disks can both the first magnetic disk 26 and the second magnetic disk 27 according to the Structure according to FIGS. 1 to 4 can be produced. The two prefabricated magnetic disks or blanks 26 and 27 are arranged essentially parallel, with the precured layers 16 'of the two plates facing each other and the outer Umfar.gsrand of the first prefabricated magnetic plate 26 over the outer peripheral edge of the second pre-fabricated magnetic disk 27 extends out these peripheral edges run transversely to the magnetic layer 15 and the pre-hardened solvent layer 16 '.

Der Laserstrahl 17 füllt auf die vorgehartete Schicht 16' der ersten Magnetplatte 26 in der Nähe von deren äußerem Umfangsrand unter einem F.infaliswinkel vonThe laser beam 17 fills the pre-hardened layer 16 'of the first magnetic disk 26 in the vicinity thereof outer peripheral edge under an infalis angle of

> beispielsweise 45" derart ein. daß der Laserstrahl 17 durch die metallischen Magnetschichten 15 und/oder die reflektierenden Schichten 21 wiederholt reflektiert wird. Wenn auf der vorgehäitcien Schicht 16' der Laserstrahl 17 einen Durchmesser von IO mm aufweist, bein trägt der Absland /wischen den vorgehärteten Schichten 16' der Magneiplatten 26 und 27 etwa 10 mm, so daß der nacheinander reflektierte Laserstrahl die vorgehärteten Schichten 16' in R;idialrichtung der Platten 26 und 27 kontinuierlich überdeckt. Wenn die vorgefertigten Magneiplatten 26 und 27 keine reflektierende Schicht 21 aufweisen, so wird der Laserstrahl 17 von der metallischen Magnetschicht 15 wiederholt reflektiert, während bei vorhünucTiCT rciicKticrcuucr Schicht 2ΐ uci' Laserstrahl 17 hauptsächlich von dieser reflektiert wird. Im Rahmen der Erfindung ist es auch möglich, daß lediglich eine der beiden vorgefertigten Magnetplatten 26 oder 27 eine reflektierende Schicht 21 aufweist.> For example 45 "in such a way that the laser beam 17 passes through the metallic magnetic layers 15 and / or the reflective layers 21 are repeatedly reflected. When on the previous layer 16 'the laser beam 17 has a diameter of 10 mm, leg wears the Absland / wipe the pre-hardened layers 16 'of the magnetic plates 26 and 27 about 10 mm, so that the successively reflected laser beam the precured Layers 16 'in the radial direction of the plates 26 and 27 are continuously covered. If the pre-made Magnetic plates 26 and 27 do not have a reflective layer 21, the laser beam 17 is from the metallic Magnetic layer 15 repeatedly reflected, while with vorhünucTiCT rciicKticrcuucr layer 2ΐ uci 'laser beam 17 is mainly reflected by this. in the Within the scope of the invention, it is also possible that only one of the two prefabricated magnetic plates 26 or 27 has a reflective layer 21.

Selbst wenn die beiden vorgefertigten Magnetplatten 26 und 27 keine reflektierende Schicht 21 aufweisen, kann der Laserstrahl 17 die vorgehärtete Schicht 16' auch mit wenigen Reflckiioncn in Polysilikatschichten 16 umwandeln. Dadurch können Magnctplatten mit einem Durchmesser über 35 cm hergestellt werden, ohne die Platte gegenüber dem Laserstrahl 17 radial zu bewe-Even if the two prefabricated magnetic disks 26 and 27 do not have a reflective layer 21, The laser beam 17 can also cover the precured layer 16 'with a few reflections in polysilicate layers 16 convert. This means that magnetic plates with a diameter of more than 35 cm can be produced without to move the plate radially with respect to the laser beam 17

JO gen.JO gen.

In Fig.6 ist in einer Modifikation gegenüber Fig. 5 lediglich eine vorgefertigte Magnetplatte 26 dargestellt, wobei die zweite vorgefertigte Magnetplatte 27 zur Verdeutlichung weggelassen ist. Der Laserstrahl 17 fällt auf der Magnetplatte 26 unter einem spitzen Winkel upopnnhpr Horn Pnrtiuc {JCT ^lä'lC 26 SiH ^shf^r^ Sⁿ!S~ gel 30 dienen zur wirksamen Ausnutzung des Laserstrahls 17, der durch die Magnetschichten 15 und/oder die reflektierenden Schichten 21 der Platten 26 und 27 wiederholt reflektiert wird. Um die Divergenz eines wiederholt reflektierenden Laserstrahls zu vermindern, ist jeder Spiegel 30 vorzugsweise als Konkavspiegel ausgebildet.In FIG. 6, in a modification of FIG. 5, only a prefabricated magnetic plate 26 is shown, the second prefabricated magnetic plate 27 being omitted for the sake of clarity. The laser beam 17 is incident on the magnetic disk 26 at an acute angle upopnnhpr Horn Pnrtiuc {JCT ^ lä'lC 26 SiH ^ shf ^ r ^ S ^n! S ~ gel 30 serve for the effective utilization of the laser beam 17 formed by the magnetic layers 15 and / or the reflective layers 21 of the plates 26 and 27 are repeatedly reflected. In order to reduce the divergence of a repeatedly reflecting laser beam, each mirror 30 is preferably designed as a concave mirror.

Nachstehend wird ein erfindungsgemäßes Beispiel näher erläutert. Ferner wird zum Vergleich ein Beispiel des aus der US-PS 41 b2 350 bekannten Verfahrens zur Herstellung einer Magnetplatte beschrieben.An example according to the invention is explained in more detail below. An example is also provided for comparison of the process known from US Pat. No. 41 b2 350 for producing a magnetic disk.

example

Es werden zwei Magnctplatten gemäß der vorstehenden Beschreibung im Zusammenhang mit Fig. 1 und 6 hergestellt. Die nicht-metallische Legierungsplatte 12 besteht aus einer bekannten Aluminiumlegierung. Die Oberfläche, auf der die unmagnetische Legierungsschicht 12 ausgebildet werden soll, wird zur Ausbildung der gewünschten Ebene in der vorstehend erwähnten Weise endbearbeitet. Als Schicht 13 wird eine bekannte Legierung aus Nickel und Phosphor auf die endbearbei-Two magnetic disks as described above in connection with FIGS. 1 and 6 are used manufactured. The non-metallic alloy plate 12 is made of a known aluminum alloy. the The surface on which the non-magnetic alloy layer 12 is to be formed becomes the formation finished to the desired level in the above-mentioned manner. Layer 13 is a known one Alloy of nickel and phosphorus on the finished

bo tete Oberfläche der Legierungsplatte 12 bis zu einer Dicke von etwa 50 μιη aufplattiert und dann bis zu einer Dicke von etwa 30 μπι poliert, wobei die Oberflächenrauhigkeit weniger als 0,02 μιη beträgt. Auf die spiegelnde Oberfläche wird eine bekannte Legierung aus Kobait. Nickel und Phosphor bis zu einer Dicke von 0,05 μηι aufplatlicrt. Eine 2prozentige Tetrahydroxysilanlösung in n-Butylalkohol wird auf die metallische Magnetschicht 17 bis zu einer Dicke von geringfügig überbottom surface of the alloy plate 12 up to one Plated thickness of about 50 μm and then up to one Thickness of about 30 μπι polished, the surface roughness is less than 0.02 μm. A well-known Kobaite alloy is applied to the reflective surface. Nickel and phosphorus up to a thickness of 0.05 μm aufplatlicrt. A 2 percent tetrahydroxysilane solution in n-butyl alcohol is applied to the metallic magnetic layer 17 to a thickness of slightly over

0,1 μπι aufgetragen (die in den Beispielen angeführten Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht). Nach dem Vorhärten bei 200⁰C während lediglich 1 Stunde werden die vorgehärteten Magnetplatten 26 und 27, die keine reflektierenden Schichten 21 aufweisen, gemäß F i g. 5 und 6 im Abstand von 10 mm zueinander parallel angeordnet. Die vorgehärteten Schichten 16' werden mit einem Laserstrahl 17 mit einem kontinuierlich erregten (cw)-Kohlendioxid-Gas!aser mit 250 W Ausgangsleistung bestrahlt. Der Laserstrahl 17, der 30mal m reflektiert wird bestrahlte die vorgehärtete Schicht 16' in einer Fläche von 10 mm Durchmesser und unter einem Einfallswinkel von 45°. Die vorgefertigten Magnetplatten werden mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2 min-' gedreht und relativ zu der von dem Laserstrahl 17 bestrahlten Fläche radial bewegt. Die vorgehärteten Schichten 16' der Magnetplatte mit 35,6 cm Äußendurchmesser und mit einer metallischen Magnetschicht 15 von 16,8 cm Innendurchmesser werden durch Bestrahlen während einer Gesamtdauer von 0,75 Minuten in die gewünschte Polysilikatschicht 16 umgesetzt.0.1 μπι applied (the percentages given in the examples relate to the weight). After precuring at 200 ⁰ C for only 1 hour, the pre-cured magnetic disks will have 26 and 27, which no reflective layers 21, in accordance with F i g. 5 and 6 arranged parallel to one another at a distance of 10 mm. The pre-hardened layers 16 'are irradiated with a laser beam 17 with a continuously excited (cw) carbon dioxide gas with 250 W output power. The laser beam 17, which is reflected 30 times m, irradiated the precured layer 16 'in an area of 10 mm diameter and at an angle of incidence of 45 °. The prefabricated magnetic disks are rotated at a rotational speed of 2 min- 'and moved radially relative to the surface irradiated by the laser beam 17. The precured layers 16 'of the magnetic disk with an external diameter of 35.6 cm and with a metallic magnetic layer 15 with an internal diameter of 16.8 cm are converted into the desired polysilicate layer 16 by irradiation for a total of 0.75 minutes.

VergleichsbeispielComparative example

Es wird eine Magnetplatte ähnlich Beispiel I hcrgcstellt, jedoch wird das Aushärten bei 200⁰C während 3 Stunden fortgesetzt, ohne daß die ausgehärtete Schicht mit einem Laserstrahl bestrahlt wird.There is a magnetic disk similar to Example I hcrgcstellt, but the curing is continued at 200 ⁰ C for 3 hours without the cured layer is irradiated with a laser beam.

: Mit Hilfe einer Saphirnadel mit 0,03 mm Spitzenradius wurden mit den Magnetplatte gemäß dem Beispiel jo und dem Vergleichsbeispiel Kratzversuche durchgeführt. Bei Belastung von 20 g werden auf der Polysilikat- ;. schicht der Platte gemäß dem Verglcichsbcispiel Kratz-: Using a sapphire needle with a tip radius of 0.03 mm, the magnetic disk according to example jo and the comparative example carried out scratch tests. With a load of 20 g, the polysilicate ;. layer of the plate according to the comparative example scratch

■:· stellen beobachtet. Keine Verkratzungen beobachtet■: · put observed. No scratches observed

man bei den Polysilikatschichtcn 16 der gemäß dem η ~? Bcispic! ticrgcstCntcn !v.sgriCtplsiien osx /u cs~cr Bc!;<-in the case of the polysilicate layers 16, according to the η ~? Bcispic! ticrgcstCntcn! v.sgriCtplsiien osx / u cs ~ cr Bc!; <-

£ stungvon80g.Power of 80g.

\A\ A Es werden 30 000 CSS-Tcstzyklen gemäß der US-PSIt becomes 30,000 CSS test cycles according to the US-PS

i;i 4162 350 durchgeführt, wobei jedoch die Kopfbcla-i; i 4162 350 carried out, however, the Kopfbcla-

;^?. stung durch Erhöhen der Last von 10 g bei den Vcrsu-; ^? . performance by increasing the load of 10 g at the Vcrsu-

: chen gemäß der US-PS auf 50 g wesentlich verstärkt: chen according to the US-PS significantly reinforced to 50 g

wurde. Bei den Polysilikatschichtcn 16 gemäß dem Bcib spiel wurden keine Verkratzungen beobachtet. Auf derbecame. In the case of the polysilicate layers 16 according to the example, no scratches were observed. On the

,:'. gemäß dem Vergleichsbeispiel hergestellten Platte wur-,: '. plate produced according to the comparative example was

K den Verkratzungen auf der Polysilikatschicht nach Wie-K the scratches on the polysilicate layer according to Wie-

derholung von lediglich lOOOTestzyklcn beobachtet. f. Das erfindungsgemäßc Verfahren kann beispielswci-repetition of only 100 test cycles observed. f. The method according to the invention can, for example,

Hi se auch bei der Herstellung von Magnettrommel ange-Hi se also used in the manufacture of magnetic drums

ϊ«; wendet werden, wenn man die Krümmung der mclalli-ϊ «; be turned when one considers the curvature of the mclalli-

$.$. sehen Magnetschicht 15 oder der reflektierendensee magnetic layer 15 or the reflective

,·';' Schicht 21 berücksichtigt. Bei Anwendung des Vcrfah-, · ';' Layer 21 taken into account. When applying the procedure

i|^: rens gemäß den Fig. 5 und 6 wird vorzugsweise eini | ^: rens according to FIGS. 5 and 6 is preferably a

& zylindrischer Kondensor zum Bestrahlen der vorgehär-& cylindrical condenser for irradiating the pre-hardened

5; teten Schicht 16' oder der vorgehärteten Schichten ein-5; teten layer 16 'or the pre-hardened layers

Si gesetzt, um eine zu starke Divergenz des reflektieren-Si set to avoid excessive divergence of the reflecting

ta den Laserstrahls zu verhindern. Die Spiegel 30 gemäßta prevent the laser beam. The mirrors 30 according to

Ij dem Verfahren nach Fig.6 sollten vorzugsweise denIj the method according to Figure 6 should preferably the

;.* Laserstrahl 17 im wesentlichen parallel zur Trommel-;. * Laser beam 17 essentially parallel to the drum

IS achse wiederholt reflektieren, wobei die Trommel umIS axis reflect repeatedly, with the drum around M ihre Achse bei höherer Geschwindigkeit gedreht wird, boM its axis is rotated at a higher speed, bo Hierzu 2 Blatt ZeichnungenFor this purpose 2 sheets of drawings

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Claims

Patent claims:

1. Verfahren zum gleichzeitigen Herstellen von zwei magnetischen Aufzeichnungsträgern, jeweils bestehend aus1. Method for the simultaneous production of two magnetic recording media, each consisting of

a) einem Substrat (11) aus mindestens einem unmagnetischen Material,a) a substrate (11) made of at least one non-magnetic material,

b) einer auf dem Substrat und in direktem Kontakt in mit diesem ausgebildeten Magnetschicht (15) aus magnetischem Material, das die Aufzeichnung und Wiedergabe elektrischer Signale gestattet,b) one on the substrate and in direct contact in with this formed magnetic layer (15) made of magnetic material, which allows the recording and reproduction of electrical signals,

c) einer auf der Magnetschicht ausgebildeten Losungsmittelschicht aus Tetrahydroxysilan, die bei über 100⁰C zur Ausbildung einer vorgehärteten Schicht behandelt und anschließend zu einer Pobsilikatschicht umgesetzt wird,c) a layer formed on the magnetic layer solvent layer of tetrahydroxysilane in excess of 100 ⁰ C to form a pre-cured layer treated at and is then converted to a Pobsilikatschicht,

20 gekennzeichnet durch die Kombination,20 characterized by the combination,