DE3050525C2

DE3050525C2 - Protective poly:silicate coating prodn. on magnetic recording material - by applying tetra:hydroxy-silane, precure and laser irradiation to complete cure

Info

Publication number: DE3050525C2
Application number: DE19803050525
Authority: DE
Inventors: Masahiro Yanagisawa
Original assignee: Nippon Electric Co Ltd
Current assignee: NEC Corp
Priority date: 1979-10-02
Filing date: 1980-10-01
Publication date: 1983-12-15
Also published as: DE3050791C2

Abstract

Substrate (I) of nonmagnetic material(s) is given a magnetic coating (II) and this is coated with a soln. of tetrahydroxy- silane(III), which is converted to a polysilicate layer (IV). The novel features are that the (III) layer is precured above 100 deg. C, so that the magnetic properties of (I) and (II) are not changed so as to impair the recording and reproduction properties of (II) and the precured layer is irradiated with a laser beam e.g. CO2 laser used, of wavelength 4-50 (9-11) micron to form (IV). The material can be used for magnetic recording discs or drums. (IV) forms a reliable protective coating.

Description

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Die Erfindung betrifft einen magnetischen Aufzeichnungsträger gemäß dem Oberbegriff des Patentmspruchs 1. Derartige Aufzeichnungsträger sind beispielsweise Magnctplattcn oder Magnettrommeln.The invention relates to a magnetic recording medium according to the preamble of the patent claim 1. Such recording media are, for example, magnetic disks or magnetic drums.

Ein üblicher magnetischer Aufzeichnungsträger weist einen Träger aus mindestens einem nicht-magnetischen Material sowie eine darauf aufgebrachte, dünne Schicht aus magnetischem Material auf. Diese Aufzeichnungsträger werden in Magnetaufzeichnungsgeräten verwendet, die unter anderem bei Datenverarbeitungsanlagen eingesetzt werden. Das Magnetaufzeichnungsgerät weist einen Magnetkopf auf, und der magnetische Aufzeichnungsträger ist relativ zu diesem bewegbar. Die elektrischen Signale zeichnet der Kopf als Magnetisierung in der Schicht aus magnetischem Material, wie magnetischem Metall, entlang einer Spur auf. Die Magnetschicht behält die Magnetisierung als Speicherung der elektrischen Signale bei. Der Kopf wird auoh zur Wiedergabe der elektrischen Signale von der Aufzeichnung sowie zum Löschen der Aufzeichnun- *o gen eingesetzt. Diese Wirkungsweise des Magnetaufzeichnungsgeräts wird nchstehend als Arbeitsweise des Geräts bezeichnet. Wenn mehrere Magnetköpfe verwendet werden, so erfolgt der Betrieb oder die Arbeitsweise auf mehreren Spuren, die bei einer Magnetplatte konzentrisch und bei einer Magnettrommel entweder parallel oder spiralförmig sind.A conventional magnetic recording medium has a carrier made of at least one non-magnetic Material and a thin layer of magnetic material applied thereon. These recording media are used in magnetic recording devices, among other things in data processing systems can be used. The magnetic recording apparatus has a magnetic head, and the magnetic head The recording medium can be moved relative to this. The head records the electrical signals as Magnetization in the layer of magnetic material, such as magnetic metal, along a track on. The magnetic layer maintains the magnetization as storage of the electrical signals. The head is also used to reproduce the electrical signals from the recording and to delete the recordings gene used. This mode of operation of the magnetic recorder will hereinafter be referred to as the mode of operation of the Device. When multiple magnetic heads are used, the operation or the Mode of operation on several tracks, concentric with a magnetic disk and concentric with a magnetic drum are either parallel or spiral.

Bei einem magnetischen Aufzeichnungsgerät, bei dem der Aufzeichnungsträger relativ zum Kopf oder zu den Köpfen mit hoher Geschwindigkeit bewegt wird, wird vorzugsweise das sogenannte Kontakt-Start-Stopp-Verfahren (nachstehend als CSS-Verfahren bezeichnet) angewendet. Bei diesem CSS-Verfahren wird der Kopf vor dem Arbeitsbeginn des Geräts mit dem in Ruhe befindlichen magnetischen Aufzeichnungsträger in Berührung gebracht. Während des Betriebs bildet sich eine Luftschicht aufgrund der Relativbewegung zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger aus. Beim Anhalten wird der Kopf mit dem in Ruhe befindlichen magnetischen Aufzeichnungsträger wieder in Berührung gebracht Während der Relativbewegung mit hoher Geschwindigkeit dient die Luftschicht zur Vermeidung von Reibung zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger.In a magnetic recording apparatus in which the recording medium is relative to the head or to the Heads is moved at high speed, the so-called contact start-stop method is preferably used (hereinafter referred to as the CSS procedure) applied. In this CSS process, the head before starting work on the device with the magnetic recording medium at rest in Brought in touch. Forms during operation an air layer due to the relative movement between the head and the magnetic recording medium the end. When stopped, the head becomes with the magnetic recording medium at rest brought into contact again During the relative movement at high speed, the air layer serves to avoid friction between the head and the magnetic recording medium.

Auch bei dem CSS-Verfahren ist es unvermeidlich, daß der Kopf beim Start und beim Stopp sowie in unerwarteten Fällen in Reibungskontakt mit dem magnetischen Aufzeichnungsträger kommt Die Reibung führt zu mechanischer Abnutzung des Kopfes und des Aufzeichnungsträgers und führt zu einer Beschädigung oder Zerstörung eines der beiden Teile oder beider Teile. Die vorzugsweise aus einem metallischen Material bestehende Magnetschicht wird durch die feuchte Umgebungsluft oder dergl. chemisch angegriffen, falls sie der Umgebung ausgesetzt ist Es ist daher wichtig, auf der Magnetschicht eine Schutzschicht auszubilden, um erstere gegen die mechanische Abnutzung und/pder Beschädigung sowie gegen chemische Einflüsse zu schützen. Vorzugsweise dient die Schutzschicht ferner zum Schutz des Magnetkopfes. Ferner kann der Aufzeichnungsträger durch eine Spitze oder eine Kante aus hartem Material verkratzt werden. Vorzugsweise sollte daher die Schutzschicht auch die Magnetschicht gegen derartige Verkratzungen schützen. Even with the CSS process, it is inevitable that the head is in frictional contact with the at start and stop, as well as in unexpected cases magnetic recording medium comes The friction leads to mechanical wear of the head and of the recording medium and leads to damage or destruction of one of the two parts or both parts. The magnetic layer, which is preferably made of a metallic material, is through the Humid ambient air or the like chemically attacked, in case it is exposed to the environment It is therefore important to have a protective layer on the magnetic layer train to protect the former against mechanical wear and tear and / or damage as well as against chemical Protect influences. The protective layer preferably also serves to protect the magnetic head. Furthermore, the recording medium can be scratched by a point or an edge made of hard material. The protective layer should therefore preferably also protect the magnetic layer against such scratches.

Aus der US-PS 4162 350 ist ein magnetischer Aufzeichnungsträger mit einer Pc'yfilikatschicht auf der Magnetschicht bekannt Diese Polysilikatschicht wird in der Weise gebildet daß eine Lösung von Tetrahydroxysilan auf die Magnetschicht aufgebracht wird, um dort eine Schicht aus dieser Lösung zu bilden, die dann bei erhöhter Temperatur während eines vorgegebenen Zeitraums gehärtet wird. Die Aufzeichnungs- und Wiedergabeeigcnschaflen der Magnetschicht sollten durch Veränderungen der magnetischen Eigenschaften der Magnetschicht und durch unerwünschte Magnetisierung des Substrats während des Aushärtens nicht nachteilig beeinflußt werden. Die Polysilikatschicht gemäß der US-PS stellt eine ausgezeichnete Schutzschicht dar, und es wäre von besonderem Vorteil, wenn die Zuverlässigkeit dieser Polysilikatschicht weiter verbessert werden könnte.From US-PS 4162 350 is a magnetic Recording medium with a Pc'yfilikatschicht on the Magnetic layer known This polysilicate layer is formed in such a way that a solution of tetrahydroxysilane is applied to the magnetic layer in order to form a layer of this solution there, which is then used in is cured elevated temperature for a predetermined period of time. The recording and Reproduction properties of the magnetic layer should be determined by changing the magnetic properties the magnetic layer and undesired magnetization of the substrate during curing be adversely affected. The polysilicate layer according to the US-PS provides an excellent protective layer and it would be of particular advantage if the reliability of this polysilicate layer were to continue could be improved.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen magnetischen Aufzeichnungsträger der im Oberbegriff des Patentanspruchs 1 genannten Art so weiterzubilden, daß eine haltbare Schutzschicht zur Verhinderung von Verkratzungen der Oberfläche gebildet wird.The invention is based on the object of providing a magnetic recording medium as described in the preamble of claim 1 mentioned type so that a durable protective layer to prevent Scratches the surface is formed.

Diese Aufgabe wird mit den Merkmalen des Patentanspruchs I gelöst. Weitere Ausgestaltungen finden sich in den Unteransprüchen.This object is achieved with the features of claim I. Further refinements can be found in the subclaims.

Gemäß der US-PS 41 62 350 enthält die Polysilikatschicht etwa 56% Silanolreste, wenn die Lösungsschicht bei 100⁰C während 3 oder mehr Stunden gebacken oder ausgehärtet wird. Dieser Anteil nimmt auf etwa 29% ab. wenn die Aushärtung bei 200⁰C während 3 oder mehr Stunden erfolgt, und auf etwa 10% bei einer AushärtungAccording to US-PS 41 62 350, the polysilicate layer contains about 56% silanol, when baked, the solution layer at 100 ⁰ C for 3 hours or more or is cured. This proportion decreases to around 29%. if the hardening takes place at 200 ^° C. for 3 or more hours, and to about 10% in the case of hardening

bei 250⁰C wahrend 1 oder mehreren Stunden erfolgt- Im Hinblick auf die gewünschten Eigenschaften der Pofysilikalschichi erfolgt die Aushärtung vorzugsweise zwischen 100 und 300⁰C obwohl die Lösungsschicht sogar bei 750⁰C ausgehärtet werden kann, wenn der vorstehend genannte Anteil auf etwa 2% abnimmt- Die Silanolreste weisen eine Infrarotabsorption bei einer Wellenlänge von 2$ um. entsprechend einer Wellenzahl von etwa 3400 cm-' auf.takes place at 250 ⁰ C for 1 or more hours - With regard to the desired properties of the polysilical layers, the curing takes place preferably between 100 and 300 ⁰ C although the solution layer can even be ^{cured at 750 0} C if the above-mentioned proportion is reduced to about 2% decreases- The silanol residues have an infrared absorption at a wavelength of 2 µm. corresponding to a wave number of about 3400 cm- '.

Gemäß der DE-OS 30 37 168 hat sich gezeigt, daß das Polysilikat Infrarotlicht mit Wellenlängen zwischen 4 und 50 μΐη gut absorbiert. Bei IR-Absorptionsspektralanalyse nimmt die Absorption erheblich zu. wenn die Wellenlänge von 9 bis 11 μΐη beträgt- Das während der Vorhärtungsstufe teilweise ausgebildete Polysilikat absorbiert einen Laserstrahl. Dadurch wird die vorgehärtete Schicht zu der gewünschten Polysilikatsehicht ausgehärtet. Die Silanolreste haben ein anderes Absorptionsspektrum bei 10,6 μπι Wellenlänge. In Abhängigkeit von der Wellenlänge oder den Wellenlän- ^2U gen des Laserstrahls werden daher die Silanolreste ebenfalls ausgehärtet, jedenfalls ergibt die hohe Energiedichte des Laserstrahls eine verbesserte Holysilikatschicht Vermutlich kann der vorstehend angegebene Anteil auf weniger als 10 Gewichtsprozent reduziert werden. Die hohe Energiedichte ermöglicht ferner die Aushärtung in einem sehr kurzen Zeitintervall, so daß die Produktivität der magnetischen Aufzeichnungsträger erhöht wird. In diesem Zusammenhang sei darauf hingewiesen, daß das Polysilikat ein Wärmeisolator ist.According to DE-OS 30 37 168 it has been shown that the polysilicate absorbs infrared light with wavelengths between 4 and 50 μm well. In the case of IR absorption spectrum analysis, the absorption increases considerably. when the wavelength is from 9 to 11 μm- The polysilicate partially formed during the pre-curing step absorbs a laser beam. As a result, the precured layer is cured to form the desired polysilicate layer. The silanol residues have a different absorption spectrum at 10.6 μm wavelength. Depending on the wavelength or the wavelengths of the laser beam ^2U gene are therefore also cured the silanol radicals, at least the high energy density of the laser beam results in an improved Holysilikatschicht Presumably, the proportion mentioned above can be reduced to less than 10 weight percent. The high energy density also enables curing in a very short time interval, so that the productivity of the magnetic recording media is increased. In this connection it should be noted that the polysilicate is a thermal insulator.

Andererseits reflektiert die Magnetschicht die Infrarotstrahlen in diesen Wellenlängenbereichen sehr gut. Dies führt zu einer wirksamen Ausnutzung der Laserstrahlenergie. Ferner entwickelt sich dadurch eine große Temperaturdifferenz zwischen der aushärtenden Schicht und der Magnetschicht so daß ein unerwünschter Temperaturanstieg sowohl in der Magnetschicht als auch im Träger verhindert wird. Dadurch bleiben die ausgezeichneten magnetischen Eigenschaften deir Magnetschicht und des Trägers erhalten.On the other hand, the magnetic layer reflects the infrared rays very well in these wavelength ranges. This leads to an effective use of the laser beam energy. It also develops a large temperature difference between the hardening layer and the magnetic layer so that an undesirable Temperature rise in both the magnetic layer and the substrate is prevented. This leaves the excellent magnetic properties of the magnetic layer and of the wearer.

Die Erfindung wird, nachstehend mit Bezug auf die Zeichnung näher erläutert. Es zeigtThe invention is explained in more detail below with reference to the drawing. It shows

Fig. 1 einen schematischen Radialschnitt eines Teils einer ersten Ausführungsform der erfindungsgemäßen Magnetplatte,1 shows a schematic radial section of a part a first embodiment of the magnetic disk according to the invention,

Fig. 2 einen schematischen Radialschnitt einer anderen Magnetplatte ähnlich Fig. 1,FIG. 2 shows a schematic radial section of another magnetic disk similar to FIG. 1,

Fig.3 eine schematische Querschnittsansicht einer weiteren Ausführungsform einer Magnetplatte ähnlich Fig. 1. ^w 3 shows a schematic cross-sectional view of a further embodiment of a magnetic disk similar to FIG. 1. ^w

F i g. 4 und 5 schematische Radialschnitte eines Teils weiterer Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Magnetplatte.F i g. 4 and 5 are schematic radial sections of part of further embodiments of the invention Magnetic disk.

Gemäß Fig. 1 weist eine Magnetplatte einen nichtmagnetischen Träger 11 auf, auf dem eine ^5> metallische Magnetschicht 15 plattiert ist. Dieser Träger 11 besteht aus mindestens einem nicht-magnetischen Material, beispielsweise aus einer Legierungsplalte 12 und einer darauf aufgebrachten Legierungsschicht 13. Als Material für die Platte 12 wird wegen des geringen Gewichts, der guten Bearbeitbarkeit sowie der geringen Kosten vorzugsweise eine Aluminiumlegierung verwendet. Für die Legierungsschicht 13 wird vorzugsweise tine Legierung von Nickel und Phosphor eingesetzt. Die Oberfläche der Platte 1? auf der die Legicrungsschicht ^6:> 13 aufgebracht wird, erhält eine flache Form durch Abdrehen sowie durch Einebnen mittels Wärmebehand-Referring to FIG. 1, a magnetic plate on a non-magnetic support 11 on which a ^5> metallic magnetic film is plated 15th This carrier 11 consists of at least one non-magnetic material, for example an alloy slit 12 and an alloy layer 13 applied to it. An aluminum alloy is preferably used as the material for the plate 12 because of its low weight, good machinability and low cost. An alloy of nickel and phosphorus is preferably used for the alloy layer 13. The surface of the plate 1? on which the alloy layer ^6:> 13 is applied, is given a flat shape by turning and leveling by means of heat treatment.

40 Die Ebenentoleranz beträgt 50 um in Azimutalrichtung und 10 um in Radialrichtung- Die Legierungsschicht 13 weist vorzugsweise eine mechanisch hochpolierte, insbesondere spiegelnde Oberfläche mit einer Oberflächenrauhigkeit von weniger als 0,04- μΐη auf. Die Dicke-der Legieningsschicht 13 beträgt vorzugsweise 30 μητ. Der Träger 11 kann beispielsweise aus lediglich der Legierungsplatie 12 bestehen, wobei in diesem Fall die* Oberfläche der Legierungsplatte 12 spiegelpoliert sein sollte. Als Material für eine derartige Legierungsplatte 12 ist Titan bevorzugt- The layer 40 is 50 to tolerance in the azimuthal direction and 10 microns in Radialrichtung- The alloy layer 13 preferably has a mechanically highly polished, especially specular surface having a surface roughness of less than 0.04 μΐη. The thickness of the alloy layer 13 is preferably 30 μm. The carrier 11 can consist, for example, of only the alloy plate 12, in which case the surface of the alloy plate 12 should be mirror-polished. The preferred material for such an alloy plate 12 is titanium.

Auf der hochpolierten Oberfläche des Trägers 11 wird in direktem Kontakt mit diesem eine dünne Schicht 15 aus magnetischem Material mit den vorstehend beschriebenen Eigenschaften ausgebildet Da das magnetische Material gewöhnlich ein Metall oder eine Legierung ist, kann die Magnetschicht 15 (z.B. aus Metall) durch Aufpia nieren gebildet werden. Zur' Ausbildung der metallischen Magnetschicht 15 wird vorzugsweise eine Legierung von Kobalt, Nickel und/oder Phosphor bis zu einer Dic^e von 0,05 μηι aufpiattiertOn the highly polished surface of the carrier 11 is in direct contact with this a thin layer 15 formed from magnetic material having the properties described above magnetic material is usually a metal or an alloy, the magnetic layer 15 (e.g. made of Metal) can be formed by peening. To 'form the metallic magnetic layer 15 preferably an alloy of cobalt, nickel and / or phosphorus up to a thickness of 0.05 μm aufpiattiert

Auf der Schicht 15 wird in direktem Kontakt mit dieser eine reflektierende Schicht 21 ausgebildet Die reflektierende Schicht 21 soll vorzugsweise Infraiot-Licht mit einer Wellenlänge von mindestens 9 bis 11 u.m „ reflektieren. Für die reflektierende Schicht 21 wird vorzugsweise Silber, Gold oder Kupfer mit einer bevorzugten Dicke von weniger als etwa 0,05 μΐη verwendet. Soweit auf eine reflektierende Schicht 21 verzichtet werden kann, liegt der untere Dickengrenzwert bei 0; bevorzugt ist ein Elektroplattierverfahren, da in diesem Fall die Dicke relativ leicht gesteuert werden kann. Mit Hilfe des Laserstrahls 17 wird die Polysilikatsehicht 16 direkt auf der reflektierenden Schicht 21 ausgebildet.A reflective layer 21 is formed on the layer 15 in direct contact therewith reflective layer 21 should preferably infrared light with a wavelength of at least 9 to 11 u.m " reflect. For the reflective layer 21 is preferably silver, gold or copper with a preferred thickness of less than about 0.05 μm is used. So much for a reflective layer 21 can be dispensed with, the lower thickness limit is 0; an electroplating process is preferred since in this case the thickness can be controlled relatively easily. With the aid of the laser beam 17, the polysilicate layer is formed 16 is formed directly on the reflective layer 21.

Nach der vorstehend genannten US-PS wird durch Auflösen von Tetrahydroxysilan in Äthylalkohol bis zu einer Konzentration von 11 Gewichtsprozent eineorste Lösung hergestellt. Durch Auflösung der ersten Lösung in n-Butylalkohol bis zu einer Konzentration von 20 Gewichtsprozent wird eine zweite Lösung hergestellt Die erhaltene Lösung wird als Schicht direkt auf der reflektierenden Schicht 21 aufgetragen. Zur Ausbildung der Lösungsmittelschicht ist ein Wirbelschichtverfahren bevorzugt Insbesondere wird der Träger 11, auf dem die Magnetschicht 15 ausgebildet ist. mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von etwa 200 Umdrehungen pro Minute gedreht, wobei die freiliegende Oberfläche der reflektierenden Schicht 21 horizontal und nach oben gerichtet gehalten wird. Die vorstehend genannte zweite Lösung wird aus einem Gefäß auf die Oberseite der reflektierenden Schicht 21 in der Nabe der Drehachse gegeben. Die aufgegebene Lösung breitet sich aufgrund der Zentrifugalkraft auf der Oberseite zum Außenumfang hin aus.According to the above-mentioned US-PS by dissolving tetrahydroxysilane in ethyl alcohol up to a concentration of 11 percent by weight Solution made. By dissolving the first solution in n-butyl alcohol up to a concentration of A second solution is made up to 20 percent by weight The solution obtained is applied as a layer directly on the reflective layer 21. To the Formation of the solvent layer, a fluidized bed process is preferred Carrier 11 on which the magnetic layer 15 is formed. rotated at a rotational speed of about 200 revolutions per minute, the exposed surface of the reflective layer 21 is held horizontal and directed upward. the The aforementioned second solution is made from a vessel on top of the reflective layer 21 given in the hub of the axis of rotation. The released solution spreads due to the centrifugal force the top towards the outer circumference.

Nach der US-PS erhält man aus der Lcsungsmittelschicht eine Polysilikatsehicht 16, vgl. die F i g. 2 und 3. Die Polysilikatsehicht 16 enthält die vorstehend beschriebenen Silanc!reste. Die Polysilikatschichi 16 ist vorzugsweise von 0,1 bis 0,3 μιη dick. Da die Dicke der Lösungsmittelschicht während der Behandlung um etwa 20% abnimmt, sollte die Menge an cufgegebcner Lösung vorzugsweise so eingestellt werden, daß man die gewünschte Dicke der Polysilikatsehicht 16 erhält. Am Beginn der Behanjlung kann man die Lösungsmittclschicht gegebenenfalls auf der reflektierenden Schicht 21 für einen kurzen Zeitraum, beispielsweiseAccording to the US patent, a polysilicate layer 16 is obtained from the solvent layer, see FIG. 2 and 3. The polysilicate layer 16 contains the silane residues described above. The polysilicate layer 16 is preferably from 0.1 to 0.3 μm thick. Since the thickness of the Solvent layer decreases by about 20% during treatment, should the amount of cufgegebcner Solution are preferably adjusted so that the desired thickness of the polysilicate layer 16 is obtained. The solvent layer can be applied at the beginning of the treatment optionally on the reflective layer 21 for a short period of time, for example

5 Minuten, sich ausbreiten lassen, damit das oder die Lösungsmittel zumindest bis zu einem gewissen Grade verdampfen können.5 minutes to let that or that spread out Solvents can evaporate at least to a certain extent.

F.rfindungsgcmäß erfolgt die Behandlung durch Vorhätten der Lösungsmiltelschicht zu einer vorgchärlelen Schicht 16' mit anschließender Bestrahlung der vorgehärteten Schicht 16' mit Hilfe eines Laserstrahls 17, um die Polysilikatschichl 16 /u erhalten. Die Vorhärtunp kann bei einer Temperatur in dem oben beispielhaft angegebenen Temperaturbereich während eines kürzeren Zeitraums als dem vorgeschriebenen Zeiiraum erfolgen. Vorzugsweise wird eine Anordnung mil dem nichtmagnetischen Träger 11, der vorzugsweise ein Metall enthaltenden Magnetschicht 15 und der Lösungsmittclschicht in einen Elektroofen gegeben und während lediglich einer Stunde bei 200°C erhitzt. Die Atmosphäre, in der die Lösungsmittclschicht so vorgehärtet wird, ist nicht kritisch. Die magnetischen Figrnsrhafien des Trägers 11 und der Schicht 15 werden nicht verändert, su daß eine nachteilige Beeinflussung der Aufzeichnungs- und Wiedergabeeigenschafien der Schicht 15 nicht eintritt.According to the invention, the treatment is carried out by pre-forming the solvent layer to form a pre-formed layer 16 'with subsequent irradiation of the precured layer 16 'with the aid of a laser beam 17 in order to obtain the polysilicate layer 16 / u. the Vorhärtunp can take place at a temperature in the temperature range given above by way of example a shorter period of time than the prescribed time period. Preferably an arrangement with the non-magnetic carrier 11, which is preferably a metal-containing magnetic layer 15 and the solvent layer are placed in an electric furnace and heated at 200 ° C for only one hour. the The atmosphere in which the solvent layer is thus pre-hardened is not critical. The magnetic Figrnsrhafien the carrier 11 and the layer 15 are not changed, su that an adverse effect the recording and reproducing properties of the layer 15 does not occur.

Im Hinblick auf die spektralen Absorptionseigenschuften des Polysilikates und der spektralen Reflcktionscigenschaften der Magnetschicht 15 sollte die Wellenlänge des Laserstrahls 17 von 9 bis Πμηι betragen. Besonders bevorzugt ist im Hinblick auf die IR-Absorption der Silanolreste bei der erwähnten Wellenlänge von 10,6 μηι ein Kohlenstoffdioxidlaser mit 10.6 }im Wellenlänge. Der Durchmesser des Laserstrahls 17 kann auf der vorgehärteten Schicht 16' etwa 10 mm betragen. Erfindungsgemäß kann jedoch der Durchmesser auch bis zu 0,1 mm klein sein. In Fig. I wird der Laserstrahl 17 zur Vereinfachung lediglich als Gerade dargestellt. Der Einfallswinkel ist dabei weitgehend unerheblich. Die vorgehärtetc Schicht 16' kann mit einem derartigen Laserstrahl 17 bestrahlt werden und /.war entweder unmittelbar nachdem die vorgehärtete Anordnung aus dem Elektroofen herausgenommen worden ist, oder nachdem sich die Anordnung abkühlen konnte. Bei der Bestrahlung wird die Anordnung um den Plattenmittelpunkt gedreht undIn view of the spectral absorption properties of the polysilicate and the spectral reflectance properties of the magnetic layer 15, the Wavelength of the laser beam 17 from 9 to Πμηι be. With regard to the IR absorption of the silanol radicals, it is particularly preferred in the case of the aforementioned Wavelength of 10.6 μm with a carbon dioxide laser 10.6} in the wavelength. The diameter of the laser beam 17 on the precured layer 16 'can be approximately 10 mm. According to the invention, however, the diameter can also be as small as 0.1 mm. In Fig. I. the laser beam 17 is only shown as a straight line for the sake of simplicity. The angle of incidence is included largely irrelevant. The pre-hardened layer 16 ' can be irradiated with such a laser beam 17 and /.war either immediately after the precured assembly has been removed from the electric furnace, or after the Arrangement could cool. During the irradiation, the arrangement is rotated around the center of the plate and in Kadialrichiiing relativ /um laserstrahl bewegt. Die vorgehäriclc Schicht 16' wird dadurch in die Polysilikat schicht 16 umgewandelt. Wenn ein Kohlcndioxid-Gaslascr kontinuierlich betrieben wird und einen laserstrahlmoved in cadial direction relative / around laser beam. the The pre-hardened layer 16 'is thereby incorporated into the polysilicate layer 16 converted. When a carbon dioxide gas laser is operated continuously and a laser beam

-> 17 von 10 mm Durchmesser und 250 W Ausgangsleistung erzeugt, so wird die vorgehärteie Schicht 16' von 0.1 [im Dicke in die gewünschte Polysilikatschicht 16 umgewandelt, wenn die Anordnung mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2 Minuten- ■ gedreht wird.-> 17 of 10 mm diameter and 250 W output power is generated, the pre-hardened layer 16 'of 0.1 [in thickness into the desired polysilicate layer 16 converted when the arrangement is rotated at a rotational speed of 2 minutes.

ίο Gemäß Fig. 2 kann vorzugsweise direkt auf der Polysilikatschicht 16 eine Silizium enthaltende Schmiermiticlschicht 19 aufgebracht werden, wobei das Schmiermittel so orientiert ist. daß es an der Polysilikatschicht 16 anhaftet. Die Dicke der Schicht 19ίο According to Fig. 2 can preferably directly on the Polysilicate layer 16 a silicon-containing lubricant layer 19 are applied, the Lubricant is so oriented. that it adheres to the polysilicate layer 16. The thickness of layer 19

i> beträgt vorzugsweise weniger uls etwa 0.02 μm. Die orientierte Schniicrmitielsc'-icht 19 haftet zäh an der Polysilikatschicht 16. um die Reibung zwischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger zu YCrmirwlrrn. RpUnU¹Ir drrarliger Srhmiprmitlrl sowiri> is preferably less than about 0.02 μm. The oriented interface layer 19 adheres tenaciously to the polysilicate layer 16 to reduce the friction between the head and the magnetic recording medium. RpUnU ¹ Ir drrarliger Srhmiprmitlrl as well asir

.'» Vorteile der Schicht 19 sind "in der US-PS 40 69 360 näher erläutert.. "Advantages of layer 19 are" in US Pat. No. 4,069,360 explained in more detail.

Beispiele für Tetrahydroxysilanlösungen sind im einzelnen in der US-PS 41 62 350 näher erläutert. Zur Vereinfachung der Beschreibung seien dieseExamples of tetrahydroxysilane solutions are explained in detail in US Pat. No. 4,162,350. To simplify the description, let these be

?» Lösungen zunächst als Lösungen der ersten Art bezeichnet, wobei die Lösungsmittel einen Siedepunkt von 70 bis 100'C aufweisen. Beispiele derartiger Lösungsmittel sind Methylalkohol, Äthylalkohol. n-Propylalkohol. Isopropylalkohol. sek.Buty!alkohol, ten.-? » Solutions initially referred to as solutions of the first type, the solvents having a boiling point from 70 to 100'C. Examples of such Solvents are methyl alcohol, ethyl alcohol. n-propyl alcohol. Isopropyl alcohol. sek.Buty! alcohol, ten.-

id Butylalkohol. Methylacetai. Äihylacetat. Isopropylacctat. Mcthylpropionat. Aceton. Äthylmethylkcton und Isopropylmethylketon. Diese i-ösungen werden hier als Lösungen zweiter Art bezeichnet und weisen einen Siedepunkt von über 100° C auf. Ein typisches Beispielid butyl alcohol. Methyl acetai. Ethyl acetate. Isopropyl acetate. Methyl propionate. Acetone. Ethylmethylcton and Isopropyl methyl ketone. These i-solutions are referred to here as Solutions of the second type are called and have a boiling point of over 100 ° C. Case in point

]> eines Lösungsmittels ist n-Butylalkohol mit einem Siedepunkt bei 118" C.]> of a solvent is n-butyl alcohol with a Boiling point at 118 "C.

Lösungen der ersten Art können beispielsweise so hergestellt werden, daß man zunächst das Silan mit einer bestimmten Konzentration in einem Lösungsmittel auflöst und danach die so erhaltene primäre Lösung erneut mit einer bestimmten Konzentration in dem gleichen oder einem anderen Lösungsmittel löst.Solutions of the first type can be prepared, for example, by first using the silane dissolves a certain concentration in a solvent and then the primary solution obtained in this way dissolves again with a certain concentration in the same or a different solvent.

Erstes LösungsmittelFirst solvent Konzentration,Concentration, zweites Lösungsmittelsecond solvent Konzentration,Concentration, Gew.-% des SilansWt% of the silane Gew.-% der primären% By weight of the primary im ersten Lösungsin the first solution Lösung in de;Solution in de; mittelmiddle sekundären Lösungsecondary solution Isonropylalkoh!Isonropyl alcohol! 1111th IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 1414th ÄthylalkoholEthyl alcohol UU ÄthylalkoholEthyl alcohol 1414th ÄthylalkoholEthyl alcohol 5.65.6 set-Buty !alkoholset-Buty! alcohol 2727 MethylalkoholMethyl alcohol 5,65.6 ÄthylalkoholEthyl alcohol 2727 IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 5,65.6 Acetonacetone 2727 IsopropylaJkoboiIsopropylaJkoboi 5,65.6 IsopropylalkoholIsopropyl alcohol 2727 η-B u ty !alkoholη-B u ty! alcohol 5,65.6 n-Butylalkoholn-butyl alcohol 2727

Das letzte Beispiel in der vorstehenden Tabelle bezieht sich auf eine Lösung der zweiten Art-Wenn in der primären und der sekundären Lösung das gleiche Lösungsmittel verwendet wird, kann das Silan in der gewünschten Konzentration direkt in dem Lösungsmittel aufgelöst werden. Gemäß F i g. 3 beträgt die Oberflächenrauhigkeh derThe last example in the table above is for a solution of the second type-if in the primary and secondary solutions the same solvent can be used Silane in the desired concentration directly in the Solvent to be dissolved. According to FIG. 3 is the surface roughness of the Polysilikatschicht 16 von 0,02 bis 0.05 um. wobei sich sinusförmige Wellen quer -zu den Spuren mit einer Steigung von 10 bis 200 μηι entlang dem Innenumfang der Magnetschicht 15 erstrecken, wenn das Wirbelbeschichtungsverfahren unter Verwendung einer der Lösungen der ersten Art mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 50 bis 200 Umdrehungen pro MinutePolysilicate layer 16 from 0.02 to 0.05 µm. with sinusoidal waves transverse to the tracks with a Slope of 10 to 200 μm along the inner circumference of the magnetic layer 15 when the spin coating process using one of the Solutions of the first type with a rotational speed of 50 to 200 revolutions per minute

erfolgt. Durch die Welligkeit wird die Haftfähigkeit /wischen dem Kopf und dem magnetischen Aufzeichnungsträger vermindert.he follows. The waviness increases the adhesion / wipe between the head and the magnetic recording medium is reduced.

Bei Verwendung einer Lösung der /weiten Art übersteigt die Obcrflächenrauhigkeil nicht 0,02 um. Die Magnetschicht 15 einer sogenannten 14'Magnetplatic weist einen AuBen- und einen Inncnumfang auf. die einer Abstand von 178 b/w. 84 mm vom Plattcnmiitelpunkt aufweisen.When using a solution of the / broad type the surface roughness wedge does not exceed 0.02 µm. the Magnetic layer 15 of a so-called 14'Magneticplatic has an outer and an inner circumference. the a distance of 178 b / w. 84 mm from the center of the plate exhibit.

Gemäß Fig. 4 wird die Magnetplatte 26 mit Ausnahme der Art der Laserstrahlung wie gemäß Fig. I hergestellt. Zur Bestrahlung der vorgeharieten Schicht 16' der Magnetplatte 26 wird ein Lichtkollektor für den Laserstrahl 17 verwendet. Durch diesen l.ichikollektor wird der Laserstrahl 17 auf eine vorgegebene Fläche (Brennfleck) konvergiert, beispielsweise auf 0.1 mm Durchmesser, und ist so angeordnet, daß der Brennfleck innerhalb der vorgehärteten Schicht !6' lieg?According to FIG. 4, the magnetic disk 26 is produced as shown in FIG. 1, with the exception of the type of laser radiation. A light collector for the laser beam 17 is used to irradiate the pre-hardened layer 16 ′ of the magnetic disk 26. The laser beam 17 is converged on a predetermined surface (focal point), for example to a diameter of 0.1 mm, and is arranged in such a way that the focal point lies within the pre-hardened layer 6 'through this l.ichi collector.

Gemäß Fig. 4 weist der Lichtkollcktor einen Reflektor 31 mit einer konkaven Reflektionsoberfläche auf. die man durch teilweises Aufschneiden einer sphärischen Fläche erhält, wobei ein erster Fokus Fder sphärischen Fläche innerhalb der konkaven Oberfläche, d.h. im Schalenhohlraum liegt, die den Laserstrahl 17 reflektiert. Eine Kondcnsorlinse 32 wird mit Hilfe einer nicht dargestellten Halleinrichtung relativ zur Magnetplatte 26 so festgehalten, daß er den Laserstrahl 17 auf die vorgegebene Fläche sammelt. Als Kondensor 32 kann beispielsweise eine Linse aus einem für den Laser arahl 17 durchsichtigen Material sein. Beispielsweise kann die Linse aus Natriumchlorid. Kaliumbromid oder Germanium- oder Zinkselenid bestehen.According to FIG. 4, the light collector has a reflector 31 with a concave reflection surface. obtained by partially cutting open a spherical surface, a first focus F of the spherical surface lying within the concave surface, ie in the shell cavity, which reflects the laser beam 17. A condenser lens 32 is fixed relative to the magnetic plate 26 with the aid of a hall device (not shown) in such a way that it collects the laser beam 17 onto the predetermined surface. A lens made of a material that is transparent to the laser beam 17 can be used as the condenser 32, for example. For example, the lens can be made from sodium chloride. Potassium bromide or germanium or zinc selenide.

Der Reflektor 31 wird gegenüber der Magnetplatte 26 derart festgehalten, daß ein zweiter Fokus F' der sphärischen Oberfläche im wesentlichen im Brennpunkt des Kondensors 32 liegt. Die Hauptsache der sphärischen Oberfläche ist etwa senkrecht zur vorgehärteien Schicht 16' gerichtet. Der Kondensor 32 ist so angeordnet, daß der zweite Fokus F' im wesentlichen mit dem Brennpunkt zusammenfällt. In der Figur sind die Dicken der verschiedenen Schichten der Magnet platte 26 im Vergleich zu dem Lichtkollektor übertrieben groß dargestellt. So ist die vorgehärtete Schicht 16' lediglich etwa 0,1 bis 03 μπι dick. Der Brennfleck kann daher im wesentlichen auf der reflektierenden Schicht 21 liegen. The reflector 31 is held in relation to the magnetic plate 26 in such a way that a second focus F 'of the spherical surface lies essentially at the focal point of the condenser 32. The main part of the spherical surface is directed approximately perpendicular to the pre-hardened layer 16 ' . The condenser 32 is arranged so that the second focus F 'substantially coincides with the focal point. In the figure, the thicknesses of the various layers of the magnetic plate 26 are shown exaggerated compared to the light collector. The pre-hardened layer 16 'is only about 0.1 to 03 μm thick. The focal point can therefore lie essentially on the reflective layer 21.

Der Teil des Laserstrahls 17. der durch die vorgehärtete Schicht 16' nicht absorbiert wird, wird durch die zur Vereinfachung hier nicht eingezeichnete reflektierende Schicht 21 reflektiert. Der reflektierte Anteil wird durch den Reflektor 31 reflektiert und auf den ersten Fokus F fokussiert und divergiert dann zur reflektierenden Oberfläche des Reflektors 31 hin. Der divergierende Strahl wird durch den Reflektor 31 erneut reflektiert und im zweiten Fokus F' insbesondere auf den Brennfleck des Kondensors fokussiert The part of the laser beam 17 that is not absorbed by the precured layer 16 'is reflected by the reflective layer 21, which is not shown here for the sake of simplicity. The reflected portion is reflected by the reflector 31 and focused on the first focus F and then diverges towards the reflecting surface of the reflector 31. The diverging beam is reflected again by the reflector 31 and is focused in the second focus F ' in particular on the focal point of the condenser

Eine wiederholte Reflektion des Laserstrahls 17 durch den Reflektor 31 und durch die reflektierende Schicht 21 kann in der Weise sichergestellt werden, daß die Hauptachse des Reflektors 31 einen spitzen Winkel mit der Einfallsebene des Laserstrahls 17 auf die vorgehärtete Schicht 16' durch den Kondensor 32 bildet Der spitze Winkel liegt vorzugsweise in der Größenordnung des öffnungswinkels, in den der Laserstrahl 17 durch den Kondensor 32 gesammelt wird. Besonders bevorzugt ist, daß der spitze Winkel 2- bis 3ma! so groß wie der Öffnungswinkel istA repeated reflection of the laser beam 17 by the reflector 31 and by the reflective Layer 21 can be ensured in such a way that the main axis of the reflector 31 forms an acute angle with the plane of incidence of the laser beam 17 on the The pre-hardened layer 16 ′ is formed by the condenser 32. The acute angle is preferably of the order of magnitude of the opening angle at which the laser beam 17 is is collected by the condenser 32. It is particularly preferred that the acute angle is 2 to 3 times! so big what the opening angle is

Die im Zusammenhang mit F i g. 5 dargestellte Magnetplatte wird unter Verwendung eines Lichtkollektors wie bei F i g. 4 hergestellt. Der Lichtkollektor weis! einen Kondensor 32 und einen Reflektor 33 mit konkaver Oberfläche auf, den man durch teilweises Aufschneiden einer sphärischen Fläche erhält, deren Hauptachse außerhalb der konkaven Oberfläche liegt und der den Laserstrahl -17 reflektieren kann. Der Reflektor 33 ist so angeordnet, daß die zweiThe in connection with F i g. The magnetic disk shown in FIG. 5 is made using a light collector as in FIG. 4 manufactured. The light collector knows! a condenser 32 and a reflector 33 with a concave surface, which is obtained by partially cutting open a spherical surface, the major axis of which lies outside the concave surface and which can reflect the laser beam -17. The reflector 33 is arranged so that the two

'" Fokalpunkte Fund F'der sphärischen Fläche innerhalb der vorgehärteten Schicht 16' liegen, und die Hauptachse erstreckt sich im wesentlichen in der Einfallsebene des Laserstrahls auf die vorgehärtete Schicht 16' durch den Kondensor 32. Der durch den Kondensor 32 am'"Focal points and F' of the spherical surface lie within the pre-hardened layer 16 ' , and the main axis extends essentially in the plane of incidence of the laser beam on the pre-hardened layer 16' through the condenser 32

ι' ersten Fokus Fgesammelte Teil des Laserstrahls 17. der nicht von der vorgehärteten Schicht 16' absorbiert worden ist. wird durch die nicht eingezeichnete reflektierende Schicht 21 zum Reflektor 33 reflektiert und im /weiten Fokus F' fokussiert. Der am zweitenι 'first focus F collected part of the laser beam 17. which has not been absorbed by the pre-hardened layer 16'. is reflected by the reflective layer 21, not shown, to the reflector 33 and focused in the / wide focus F '. The one on the second

■'" Fokus F' durch die die reflektierende Schicht 21 reflektierte Strahlenanteil wird erneut im ersten Fokus Ffokussiert. So können gleichzeitig zwei Abschnitte der vorgehärteten Schicht 16' behandelt werden.The focus F ' through the portion of the rays reflected by the reflective layer 21 is again focused in the first focus F. In this way, two sections of the pre-hardened layer 16' can be treated at the same time.

Nachstehend werden einige erfindungsgemäße Bei-Some examples of the invention are described below

-"' spiele näher erläutert. Ferner wird zum Vergleich ein Beispiel des aus der US-PS 4162 350 bekannten Verfahrens zur Herstellung einer Magnetplatte beschrieben. - "'games explained in more detail. Furthermore, an example of the method known from US Pat. No. 4,162,350 for producing a magnetic disk is described for comparison.

Example I.

Fs wird eine Magnetplatte gemäß der vorstehenden Beschreibung im Zusammenhang mit F i g. I hergestellt. Die nicht-metallische Legierungsplatte 12 besteht aus einer bekannten Aluminiumlegierung. Die Oberfläche, auf der die unmagnetische Legierungsschicht 12 ausgebildet werden soll, wird zur Ausbildung der gewünschten Ebene in der vorstehend erwähnten Weise endbearbeitet. Ais Schicht 13 wird eine bekannte Legierung aus Nickel und Phosphor auf die endbearbeitete Oberfläche der Legierungsplatte 12 bis zu einer Dicke von etwa 50 μπι aufplatticrt und dann bis zu einer Dicke von etwa 30 μπι poliert, wobei die Oberflächen rauhigkeit weniger als 0,02 μηι beträgt Fs is a magnetic disk as described above in connection with FIG. I manufactured. The non-metallic alloy plate 12 is made of a known aluminum alloy. The surface on which the non-magnetic alloy layer 12 is to be formed is finished to form the desired plane in the above-mentioned manner. Ais layer 13, a well-known alloy of nickel and phosphorus on the finished surface of the alloy plate 12 to a thickness of about 50 aufplatticrt μπι and then to μπι polished to a thickness of about 30, with the surfaces roughness is less than 0.02 μηι

Die reflektierende Schicht 21 besteht aus Silber von 0.05 μη) Dicke. Die Lösung enthält 2% Tetrahydroxysi- lan in Isopropylalkohol zu einer Dicke von geringfügig über 0,1 μπι (die in den Beispielen angeführten Prozentangaben beziehen sich auf das Gewicht). Nach dem Vorhärten bei 200⁰C während lediglich 1 Stunde wird die vorgehärtete Schicht 16' mit einem Laserstrahl 17 mit einem kontinuierlich erregten (cw)-Kohlendioxkl-Gaslaser mit 250W Ausgangsleistung bestrahlt. Der Laserstrahl 17 bestrahlte die vorgehärtete Schicht 16' in einer Räche von 10 mm Durchmesser und unter einem Einfallswinkel von 45°. Die Magnetplatte wird mit einer Umdrehungsgeschwindigkeit von 2 Umdrehungen pro Minute gedreht und relativ zu der von dem Laserstrahl 17 bestrahlten Fläche radial bewegt Die vorgehärtete Schicht 16' der Magnetplatte mit 35,6 cm Außendurchmesser und mit einer metallischen Magnetschicht 15 von 163 cm Innendurchmesser wird durch Bestrahlen während einer Gesamtdauer von 1.5 Minuten in die gewünschte Polysilikatschicht 16 umgesetzt The reflective layer 21 consists of silver 0.05 μm) thick. The solution contains 2% Tetrahydroxysi- lan in isopropyl alcohol to a thickness of slightly over 0.1 μπι (the percentages given in the examples are by weight). After precuring at 200 ⁰ C for only 1 hour, the pre-hardened layer 16 'is irradiated with a laser beam 17 having a continuously energized (cw) gas laser -Kohlendioxkl with 250W output power. The laser beam 17 irradiated the precured layer 16 'in an area 10 mm in diameter and at an angle of incidence of 45 °. The magnetic disk is rotated at a speed of 2 revolutions per minute and moved radially relative to the surface irradiated by the laser beam 17 converted into the desired polysilicate layer 16 over a total time of 1.5 minutes

Beispiel 2Example 2

Bne "Magnetplatte wird ähnlich wie bei Beispiel 1 hergestellt jedoch wird das Verfahren gemäß Fig.4 angewendet Der Durchmesser der vorgegebenen Bne "magnetic disk is produced similarly to Example 1, but the method according to FIG. 4 is used. The diameter of the specified

fläche betrüg; 0,1 mm. Die Gcsamtbestrahlungsdauer beträgt 1,5 Minuten.area cheating; 0.1 mm. The total exposure time is 1.5 minutes.

Beispiel 3Example 3

Eine Magnetplatte wird ähnlich Beispiel 1 hergestellt, jedoch wird das Verfahren gemäß F i g. 5 angewendet. Die Gcsamlbcstriihlungsdaucr beträgt 1.5 Minuten.A magnetic disk is produced similarly to Example 1, however, the method according to FIG. 5 applied. The total radiation duration is 1.5 minutes.

VcrglcichsbeispielComparative example

Ks wird eine Magnetplatte ähnlich Beispiel I hergestellt, jedoch wird das Aushärten bei 200"C während 3 Stunden fortgesetzt, ohne daß die ausgehärtete Schicht mit einem Laserstrahl bestrahlt wird.A magnetic disk is produced similar to Example I, but the curing is carried out at 200 "C during Continued for 3 hours without irradiating the cured layer with a laser beam.

Mit Hilfe einer Saphirnadel mit 0.03 mm Spitzenradius wurden mit den Magnetplatten gemäß den Beispielen I bis 3 und dem Vergleichsbeispiel Kratzvcrsuche durchgeführt. Bei Belastung von 20 g werden auf der Polysilikatschichl der Platte gemäß dem Vergleichsbcispiel Kratzstellen beobachtet. Keine Verkraizungen beobachtet man bei den Poiysiiikatschichien io tier gemäß den Beispielen I bis 3 hergestellten Magnetplat-With the help of a sapphire needle with a 0.03 mm tip radius scratch tests were carried out with the magnetic disks according to Examples 1 to 3 and the Comparative Example carried out. With a load of 20 g on the polysilicate layer of the plate according to the comparative example Scratch marks observed. No contractions are observed in the Poiysiiikatschichien io tier according to Examples I to 3 produced magnetic plate

1010

ten bis zu einer Belastung von 80 g.th up to a load of 80 g.

Hs werden 3OiHX)CSS Testzyklen gemäß der IJS-PS 41 62 350 durchgeführt, wobei jedoch die Kopfbclasiung durch Erhöhen der Last von 10 g bei den Versuchen gemäß der US-PS auf 50 g wesentlich verstärkt wurde. Bei den Polysilikalsehichten 16 gemäß den Beispielen 1 bis 3 wurden keine Verkratzungcn beobachtet. Auf der gemäß dem Verglcichsbeispiel hergestellten Platte wurden Verkratzungcn auf der Polysilikatschicht nach Wiederholung von lediglich 1000 Testzyklen beobachtet. Hs 3OiHX) CSS test cycles are carried out according to IJS-PS 41 62 350, but the head exposure was increased significantly by increasing the load of 10 g in the tests according to the US-PS to 50 g. In the case of the polysilical layers 16 according to Examples 1 to 3, no scratches were observed. On the plate produced according to the comparative example, scratches were observed on the polysilicate layer after repeating only 1000 test cycles.

Das erfindungsgemäße Verfahren kann beispielsweise auch bei der Herstellung von Magnettrommel angewendet werden, wenn man die Krümmung der metallischen Magnetschicht 15 oder der reflektierenden Schicht 21 berücksichtigt. Bei Anwendung des Verfahrens gemäß den F i g. 4 und 5 wird vorzugsweise eih zylindrischer Kondensor zum Bestrahlen der vorgehärteten Schicht 16' oder der vorgehärteten Schichten cingcSei/.i. iuii eine zu si .like Diveigeiiz des reflektierenden Laserstrahls zu verhindern.The method according to the invention can also be used, for example, in the manufacture of magnetic drums be used when considering the curvature of the metallic magnetic layer 15 or the reflective Layer 21 taken into account. When using the method according to FIGS. 4 and 5 is preferably eih cylindrical condenser for irradiating the pre-hardened layer 16 'or the pre-hardened layers cingcSei / .i. iuii a too si .like Diveigeiiz of the reflective Prevent laser beam.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings

Claims

. · .-. Patent claims:

1. Magnetic recording medium with a Carrier (11; 12,13) at least one non-magnetic Material, a layer (15) of magnetic material applied directly to the carrier Material and a polysilicon layer (16) applied to this magnetic layer (15), characterized by a layer (16) on the magnetic layer (15) directly applied. Reflecting infrared light with a wavelength of at least 9 to 11 pm Layer (21). on which the polysificate layer (16) directly is upset.

2. Magnetic recording medium according to claim!. Characterized in that the reflective Layer (21) is less than about 0.05 µm thick

3. Magnetic recording medium according to claim 1 or 2, characterized by a silicon containing directly on the polysilicate layer (16) haffcide lubricant layer (19).

4. Magnetic recording medium according to claim 3. characterized in that the lubricant layer (19) is less than about 0.02 μm thick.

5. Magnetic recording medium according to one of claims 1 to 4, for use with a relative to this movable magnetic head, characterized in that the outside of the polysilicate layer (16) can be repeatedly brought into contact with and detached from the magnetic head and is sinusoidally corrugated in the direction of the relative movement of the magnetic head jo.

6. Magnetic recording medium according to claim 5, characterized in that the distance of waves from 10 to 200, vm and the distance between the minimum and crem maximum 0.02 to J5 0.05 Jim.