DE3031302A1 - Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed - Google Patents

Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed

Info

Publication number
DE3031302A1
DE3031302A1 DE19803031302 DE3031302A DE3031302A1 DE 3031302 A1 DE3031302 A1 DE 3031302A1 DE 19803031302 DE19803031302 DE 19803031302 DE 3031302 A DE3031302 A DE 3031302A DE 3031302 A1 DE3031302 A1 DE 3031302A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
diazo
water
benzene
zinc chloride
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE19803031302
Other languages
German (de)
Inventor
Eugene Monsey Golda
Alan Brewster N.Y. Wilkes
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Polychrome Corp
Original Assignee
Polychrome Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Polychrome Corp filed Critical Polychrome Corp
Priority to DE19803031302 priority Critical patent/DE3031302A1/en
Publication of DE3031302A1 publication Critical patent/DE3031302A1/en
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/095—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having more than one photosensitive layer

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Abstract

Positive working photographic element is made by (a) coating a substrate with a first layer comprising a water-soluble lithographic light sensitive negative acting aromatic diazo compsn. (I); and (b) applying a second layer comprising a water-insol., ink receptive, water-permeable negative working lithographic photosensitive compsn. comprising (i) a water insoluble water permeable oleophilic resin (II); and (ii) a reaction prod. of a diazo diphenylamine-formaldehyde condensate with a benzophenone sulphonic acid. The element is (c) exposed to a light source at an intensity and for a period to provide from 3-15% of the optimum exposure required to produce a negative working element; then (d) developed by washing with an aq. developer and (e) post exposing the entire surface of the element to render the remaining coatings insol. in water. Prods. are esp. useful as lithographic printing plates. Process allows negative acting plate to be operated positively, so that the plate may be made negative or positive working only by altering the relevant exposure and developing parameters.

Description

Die Erfindung betrifft Bildelemente, beispiels-The invention relates to picture elements, for example

weise Offsetdruckplatten (Flachdruckplatten), sowie ein Verfahren zu ihrer Herstellung, die durch einfache Änderung der in Frage kommenden Belichtungs- und Entwicklungsparameter entweder als positiv oder als negativ arbeitende Elemente benutzt werden können.wise offset printing plates (planographic printing plates), as well as a method for their production, which can be achieved by simply changing the exposure and development parameters as either positive or negative working elements can be used.

Bisher konnten Offsetdruckplatten nur entweder als positiv arbeitende oder als negativ arbeitende Platten verwendet werden. Bei einer negativen Platte wird ein Substrat mit einem Diazoniumsalz beschichtet, das mit einem oleophilen Harz vermischt ist. Eine derartige Platte wird sodann durch eine photographische Transparenz belichtet, wobei die vom Licht getroffenen Bereiche in hohem Naf? unlöslich werden. Als Ergebnis dieses Löslichkeitsunt erschiedes können die nichtbelichteten Bereiche, die im Entwickler löslich bleiben, weggewaschen werden. Die belichteten Bereiche bleiben dagegen auf der Platte haften. In einem positiv arbeitenden System wird eine aromatische Diazooxidverbindung auf ein Substrat aufgebracht und belichtet. Bei dieser Art von Platten werden die belichteten Bereiche durch den Entwickler entfernt, während die nichtbelichteten Bereiche an dem Substrat haften bleiben.Previously, offset printing plates could only be either as positive-working or used as negative working plates. In the case of a negative plate a substrate is coated with a diazonium salt with an oleophilic Resin is mixed. Such a plate is then through a photographic Transparency exposed, with the areas struck by the light in high naf? insoluble will. As a result of this difference in solubility, the unexposed Areas that remain soluble in the developer are washed away. The exposed On the other hand, areas remain adhered to the plate. In a positive working system an aromatic diazooxide compound is applied to a substrate and exposed. In this type of plate, the exposed areas are made by the developer removed while the unexposed areas remain adhered to the substrate.

Bisher war es nicht möglich, eine negativ arbeitende Platte in eine positiv arbeitende oder umgekehrt "uzzudrehen", zumindest nicht ohne ausgefeilte Behandlungstechniken, die sich nicht in ökonomischer Weise durchführen lassen.Previously it was not possible to convert a negative working plate into a positive working or vice versa "turning around", at least not without sophisticated ones Treatment techniques that cannot be carried out economically.

In der US-PS 4 104 072 wird eine Offsetdruckplatte beschrieben, die durch Verwendung von wasser allein entwickelt werden kann. Dabei wird jedoch die Herstellung sowohl von positiv als auch von negativ arbeitenden l'latten durch Anderung der verwendeten lichtempfindlichen Verbindungen b;-schrieben. In dieser Druckschrift ist somit kein Verfahren zur Iterstelling einer positiven Druckplatte unter Verwendung eines negativ arbeitenden Photosensibilisators enthalten.In US-PS 4,104,072 an offset printing plate is described which can be developed using water alone. However, the Manufacture of both positive as well as negative working l'latten by changing the light-sensitive compounds used b; -written. In this document there is therefore no method for creating a positive one Printing plate using a negative working photosensitizer included.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Bildelemente und ein Verfahren zu ihrer Herstellung zur Verfügung zu stellen, die sich in technisch brauchbarer Weise sowohl als positiv als auch als negativ arbeitende Offsetdruckplatten verwenden lassen. Die Platten sollen sich durch gewöhnliches Leitungswasser entwickeln lassen und nicht die Verwendung von teuren und die Umwelt schädigenden chemischen Stoffen zur Entwicklung erfordern. Ferner sollen sie nicht das Aufbringen einer Lack- oder ähnlichen Schicht auf das entwickelte Bild erfordern.The invention is based on the object of picture elements and a method to make them available, which are technically usable Wise to use as both positive and negative working offset printing plates permit. It should be possible to develop the plates with ordinary tap water and not the use of expensive and environmentally harmful chemicals to require development. Furthermore, they should not require the application of a lacquer or similar layer on the developed image.

Diese Aufgabe wird durch den überraschenden Befund gelöst, daß befriedigende Druckplatten erhalten werden können, die die vorstehend genannten erwünschten Eigenschaften autweisen, wenn man zunächst eine Schicht aus einem für den Offsetdruck geeigneten, lichtempfindlichen, wasserlöslichen, negativ arbeitenden Diazoniumsalz auf die Oberfläche eines bstrats aufbringt, danach die Schicht aus dem Diazoniumsalz mit einer oberen Schicht aus einem lichtempfindlichen Gemisch beschichtet, das ein wasserunlösliches, negativ arbeitendes Diazoniumsalz für den Offsetdruck und ein wasserunlösliches, wasserdurchlässiges Harz enthält. Dieses Gemisch für die obere Schicht ist gekennzeichnet als wasserunlöslich, für Druckfarbe aufnahmefähig und wasserdurchlässig. Wasserdurchlässigkeit heißt, daß das Gemisch in wasser unlöslich ist, daß aber Wasser durch dieses Gemisch hindurchdringen kann.This object is achieved by the surprising finding that satisfactory Printing plates can be obtained having the aforementioned desirable properties if you first create a layer of a suitable for offset printing, light-sensitive, water-soluble, negative-working diazonium salt on the surface a substrate applies, then the layer of the diazonium salt with an upper Layer of a photosensitive mixture coated, which is a water-insoluble, negative working diazonium salt for offset printing and a water-insoluble, Contains water-permeable resin. This mixture for the upper layer is marked as insoluble in water, receptive to printing ink and permeable to water. Water permeability means that the mixture is insoluble in water, but that water is insoluble in this mixture can penetrate.

jjberraschenderweise wurde festgestellt, daß bei der Belichtung einer derartigen Platte mit einer erheblichen Menge an ultravioletter Strahlung durch eine photographische Transparenz und anschließendem Waschen mit Wasser eine negative Reproduktion desTransparenzbildes erhalten wird. Wird dagegen die Platte nur mit 3 bis 15% der normalen, für die Herstellung einer negativ arbeitenden Platte erforderlichen Belichtungsdauer belichtet und mit wasser gewaschen, dann wird eine positive Reproduktion des Transparenzbildes erhalten.Surprisingly, it was found that during the exposure such plate with a significant amount of ultraviolet radiation through a photographic transparency and subsequent washing with water a negative Reproduction of the transparency image is obtained. If, on the other hand, the plate is only with 3 to 15% of the normal required to make a negative working plate Exposure time exposed and washed with water, then a positive reproduction of the transparency image.

Die Erfindung betrifft somit die in den Patent ansprüchen genannten Gegenstände.The invention thus relates to the claims mentioned in the patent Objects.

Gemaß vorliegender Erfindung kann eine einzige Platte durch Entwicklung mit Leitungswasser allein entweder positiv oder negativ arbeitend gemacht werden, indem die Belichtungs-und Entwicklungsparameter geändert werden.According to the present invention, a single plate can be processed by development can be made either positive or negative working with tap water alone, by changing the exposure and development parameters.

In einer negativ arbeitenden Beschichtung ist die obere Schicht ursprünglich wasserdurchlässig. Bei der bekannten bildhaften Belichtung durch eine geeignete Abdeckung werden die belichteten Bereiche wasserrndurchlässig und bleiben für Druckfarbe aufnahmefähig. In einem derartigen negativ wirkenden System ist die untere Schicht zunächst wasserlöslich. Sie wird jedoch in den belichteten Bereichen wasserunlöslich, während die nicht belichteten Bereiche wasserlöslich bleiben. Infolgedessen dringt das wasser beim Jaschen einer bildhaft belichteten Platte in die nicht belichteten Bereiche der negativ arbeitenden lichtempfindlichen Beschichtung ein, erreicht die wasserlösliche, nicht belichtete, lichtempfindliche Verbindung unter den Nicht bildbereichen und löst sie auf. Auf diese weise wird die Grundlage der Nichtbildbereiche unterminiert und au.sgewaschen. Diese Bereiche, die dann keine ausreichende Grundlage mehr besitzen, können durch Jasser in Verbindung mit leichtem Reiben rasch und lcicht weggespült werden. Da die Bildbereiche bei der Belichtung wasserundurchlässig werden, kann das Wasser die feste Grundlage der nun wasserunlöslidenen Verbindung unter den Bildbereichen nicht Bereichen.In a negative working coating, the top layer is original permeable to water. In the known pictorial exposure by a suitable one Cover, the exposed areas become water-permeable and remain for printing ink receptive. In one such negative acting system is the bottom layer initially soluble in water. However, it becomes water-insoluble in the exposed areas, while the unexposed areas remain water-soluble. As a result, invades the water when washing an imagewise exposed plate into the unexposed one Areas of the negative-working photosensitive coating, the water-soluble, unexposed, photosensitive compound under the non-image areas and dissolve them. In this way, the base of the non-image areas is undermined and washed out. These areas, which then no longer have a sufficient basis, can through Jasser in conjunction with light rubbing quickly and lcot be washed away. Since the image areas are impermeable to water during exposure the water can become the solid basis of the now water-insoluble compound under the image areas not areas.

Diese Bereiche werden deshalb nicht untergraben und weggespült. Die ilasserunlöslichkeit der unteren Bildbereiche verstärkt die Festigkeit gegen unerwünschte Verluste der Bildbereiche. Die Bildbereiche sind deshalb für Druckfarbe aufnahmefähig, während die nackte Metalloberfläche der Nichtbildbereiche, in denen die Beschichtung entfernt wurde, von ihrer Natur her druckfarbenabweisend ist. Somit wird eine technisch befriedigende Offsetdruckplatte erhalten.These areas are therefore not undermined and washed away. the The water-insolubility of the lower areas of the image increases the resistance to undesired ones Loss of image areas. The image areas are therefore receptive to printing ink, while the bare metal surface of the non-image areas where the coating removed, is ink-resistant by its nature. So one becomes technical obtained a satisfactory offset printing plate.

Bei einem positiv arbeitenden System ist die obere Beschichtung natürlich anfangs auch wasserdurchlässig. Die sehr kurze Belichtungsdauer reicht jedoch nicht aus, um die lichtempfindlichen Schichten wasserunlöslich oder wasserundurchlässig zu machen. Obwohl der Mechanismus noch nicht ganz aufgeklärt ist, kann angenommen werden, daß die Belichtung nur ausreicht, um gasförmigen Stickstoff aus den Diazonium-Vorbindungen fretzusetzen. Dieser Stickstoff sollte dann versuchen, aus den Beschichtungen zu entweichen und bildet dabei Kanäle in den Schichten. Infolgedessen wird aufgrund dieser Kanäle in den belichteten Bereichen die obere Beschichtung tatsächlich stärker wasserdurchlässig. Dieser Unterschied in der Wasserdurchlassigkeit reicht aus, um eine rasche Unterminierung und Entfernung der belichteten Bereiche zu ermöglichen. Dabei werden die belichteten Bereiche wirksam entfernt, während die nichtbelichteten Bereiche an dem Substrat enhaften und auf diese Weise ein entwickeltes, technisch verwertbares Bildelement ergeben.On a positive working system, the top coating is natural initially also permeable to water. However, the very short exposure time is not enough made to make the light-sensitive layers water-insoluble or water-impermeable close. Although the mechanism is not yet fully understood, it can be assumed be that the exposure is only sufficient to remove gaseous nitrogen from the diazonium precursors fretzusetzen. This nitrogen should then try to get out of the coatings escape and form channels in the layers. As a result, will be due these channels actually make the top coating stronger in the exposed areas permeable to water. This difference in water permeability is enough to to enable rapid undermining and removal of the exposed areas. The exposed areas are effectively removed while the unexposed areas Areas adhering to the substrate and in this way a developed, technical usable image element result.

es muß darauf hingewiesen werden, daß die nichtbelichteten Bereiche der positiven Platte noch lichtempfindlich und wasserdurchlässig sind, wenn auch nicht so wasserdurchlässig wie die belichtWten Bereiche, die bereits enDferilt wurden.it must be noted that the unexposed areas the positive plate are still light sensitive and water permeable, albeit not so permeable to water like the exposed areas that are already were canceled.

sinne Platte in diesem Zustand würde beim Drucken rasch zerstört werden. Um das zu vermeiden, wird die positive Platte nochmals nennenswert mit ultraviolettem Licht belichtet, um sie auf die gleiche Weise unlöslich zu machen wie die negative Platte. Da diese Platte schon entwickelt wurde, wird hier kein Unterschied in der Löslichkeit zwischen den belichteten und den nichtbelichteten Bereichen benötigt.Sensible plate in this condition would be quickly destroyed during printing. To avoid this, the positive plate is again markedly ultraviolet Exposed to light to make them insoluble in the same way as the negative ones Plate. Since this plate has already been developed, there is no difference in the Solubility is required between the exposed and unexposed areas.

In der ersten Stufe des Verfahrens zur Herstellung des erfindungsgemaßen Bildelements wird ein plattenförmiges Substrat, vorzugsweise aus Aluminium oder dessen Legierungen, die gegebenenfalls nach bekannten Körnungs- und/ oder Ätz- und/oder anodischen Oxidationsverfa1en vorbehandelt wurden, und außerdem gegebenenfalls mit einer als Zwischenschicht für Offsetdruckplatten geeigneten Verbindung behandelt wurden, mit einu Schicht aus einem für den Offsetdruck geeigneten, licht empfindlichen, wasserlöslichen Diazoniumsalz beschichtet. Anschließend wird auf das derart vorbeschichtete Substrat eine Schicht aus einem Gemisch von einem wasserunlöslichen, für den Offsetdruck geeigneten Photosensibilisator und einem wasserunlöslichen Harz aufgebracht. Dieses für die obere Schicht verwendete Gemisch ist wasserunlöslich, für Druckfarbe aufnahmefähig und vor der Belichtung mit ultravioletter oder anderer, chemische Veränderungen hervorrufender Strahlung wasserdurchlässig. Das für die obere Schicht verwendete Gemisch bildet vorzugsweise keinen Film, der die Wasserdurchlässigkeit verhindern würde.In the first stage of the process for the preparation of the invention Image element is a plate-shaped substrate, preferably made of aluminum or its alloys, if necessary after known grain size and / or etching and / or anodic oxidation process were pretreated, and also optionally with treated with a compound suitable as an intermediate layer for offset printing plates with a layer of a light-sensitive, suitable for offset printing, water soluble diazonium salt coated. Subsequently, the precoated in this way is applied Substrate a layer made of a mixture of a water-insoluble, for offset printing suitable photosensitizer and a water-insoluble resin applied. This The mixture used for the top layer is insoluble in water, but receptive to printing ink and before exposure to ultraviolet or other chemical changes causing radiation permeable to water. The one used for the top layer Mixture preferably does not form a film preventing water permeability would.

Bei negativ wirkenden Druckplatten wird die vorstehend erwähnte oberste Schicht, die ursprünglich wasserdurchlässig ist, bei der bekannten bildhaften Belichtung durch eine Abdeckung in den belichteten Bereichen wasserundurchlässig, während die nichtbelichteten Bereiche wasserdurchlässig bleiben. Dies gilt nur für negativ wirkende Platten. Bei positiv wirkenden Platten ist die oberste Beschichtung ursprünglich ebenfalls wasserdurchlässig. Bei Belichtung bleiben die unbelichteten Bereiche wasserdurchlässig, während die belichteten Bereiche noch stärker wasserdurchlässig werden als die unbelichteten Bereiche.In the case of negative-acting printing plates, the above-mentioned uppermost Layer that is originally permeable to water in the known pictorial exposure through a cover in the exposed areas impermeable to water, while the non-exposed areas remain permeable to water. This only applies to those with negative effects Plates. In the case of panels with a positive effect, the top coating is original also permeable to water. With exposure remain the unexposed Areas permeable to water, while the exposed areas are even more permeable to water are called the unexposed areas.

Bekannte Vorbehandlungen der Metallplatten sind elektrolytisches anodisches Oxidieren in Schwefel-, Chrom-, Salz und/ oder Phosphorsäure oder elektrolytisches ätzen in Salz-oder Phosphorsäure und/oder chemisches oder mechanisches Körnen nach bekannten Verfahren. Als Zwischenschicht für die erfindungsgemäßen Offsetdruckplatten eignen sich solche, die als wäßrige Lösungen aufgebracht werden können, wie wäßrige Lösungen von Alkalimetallsilikaten, wie Natriumsilikat, Kieselsäure, Polyacrylsäure, Fluoriden der Metalle der Gruppe IV B des Periodensystems, Alkalizirkoniumfluoriden, wie Kaliumzirkoniumhexafluorid oder Fluorozirkoniumsäure in Wonzentrationen von 0,5 bis 20 Volumenprozent.Known pre-treatments for the metal plates are electrolytic anodic Oxidation in sulfuric, chromic, hydrochloric and / or phosphoric acid or electrolytic etch in hydrochloric or phosphoric acid and / or chemical or mechanical graining known procedures. As an intermediate layer for the offset printing plates according to the invention those which can be applied as aqueous solutions, such as aqueous solutions, are suitable Solutions of alkali metal silicates such as sodium silicate, silica, polyacrylic acid, Fluorides of metals of group IV B of the periodic table, alkali zirconium fluorides, such as potassium zirconium hexafluoride or fluorozirconic acid in concentrations of 0.5 to 20 percent by volume.

Es wurde festgestellt, daß befriedigende Ergebnisse erhalten werden, wenn die lichtempfindliche Verbindung der unteren Schicht einen wasserlöslichen, in organischen Lösungsmitteln fast oder gar nicht löslichen, für den OffseUdruck geeigneten Photosensibilisator enthält, der gegebenenfalls mit einem wasserlöslichen Xarz vermischt sein kann, das in Wasser oder einem Gemisch von Nasser und einem mit Wasser mischbaren organischen Lösu.ngsm£btel gelöst ist.It has been found that satisfactory results are obtained if the photosensitive compound of the lower layer is a water-soluble, Almost or not at all soluble in organic solvents, for offset printing contains suitable photosensitizer, optionally with a water-soluble Xarz can be mixed in water or a mixture of wet and a organic solvent miscible with water is dissolved.

Als mit Wasser mischbare organische Lösungsmittel eignen sich erfindungsgemäß solche mit einem Siedepunkt von höchstens 12100, vorzugsweise höchstens 10000, und besonders bevorzugt von 10 bis 6oG. Spezielle Beispiele sind Methanol, Äthanol, Isopropanol, Aceton, Methyläthylketon und Äthylenglykolmonomethyläther.Organic solvents miscible with water are suitable according to the invention those with a boiling point of at most 12,100, preferably at most 10,000, and particularly preferably from 10 to 6oG. Specific examples are methanol, ethanol, Isopropanol, acetone, methyl ethyl ketone and ethylene glycol monomethyl ether.

Spezielle Beispiele für erfindungsgemäß verwendbare wasserlösliche Photosensibilisatoren sind: 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat 1-Diazo-4-N,N-dimethylamino-benzol-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N,N-diäthylamino-benzol-Zinkchlorid 1 -Diazo-4-N-äthyl-N-hydroxyäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N-methyl-N-hydroxyäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-benzoylamino-benzol-1/2-ZinkOhlorid 1-Diazo-4-N-benzylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N,N-dimethylamino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-4-morpholino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-morpholino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzol-1/2-ZinkOhlorid 1-Diazo-2-äthoxy-4-N,-dimewhylaminobenzol-1/2-ZinkOhlorid p-Diazo-dimethyl-anilin-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N,N-diäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1 -Diazo-2, 5-dibutoxy-4-morpholino-benzol-Sulfat 1-Diazo-2, 5-diäthoxy-4-morpholino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholino-benzol-Zinkshlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-morpholino-benzol-1/2-ZinkOhlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-morpholino-benzol-Borfluorid Natriumsalz von 2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäure 1-Diazo-4-N,N-diäthylamino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-p-tolylmercapto-benzol-1/2-ZinkOhlorid 1-Diazo-3-äthoxy-4-N-methyl-N-benzylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1 Diazo-3-chlor-4-N,N-diäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzol-chlorid-ZinkOhlorid 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzol-Borfluorid 1 -Diazo-2-chlor-4-N , N-dimethylamino-5-methoxy-benzol-Bor fluorid 1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidino-benzol-Zinkchlorid Kondensationsprodukt von 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat und Formaldehyd-Zinkohlor id.Specific examples of water-soluble ones which can be used in the present invention Photosensitizers are: 4-diazo-diphenylamine sulfate 1-diazo-4-N, N-dimethylamino-benzene zinc chloride 1-Diazo-4-N, N-diethylamino-benzene-zinc chloride 1-Diazo-4-N-ethyl-N-hydroxyethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N-methyl-N-hydroxyethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-benzoylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N-benzylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N, N-dimethylamino-benzene-boron fluoride 1-Diazo-4-morpholino-benzene-1/2 zinc chloride 1-Diazo-4-morpholino-benzene-boron fluoride 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzene-1/2 zinc chloride. 1-Diazo-2-ethoxy-4-N, -dimewhylaminobenzene-1/2 zinc chloride p-Diazo-dimethyl-aniline-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N, N-diethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2, 5-dibutoxy-4-morpholino-benzene sulfate, 1-Diazo-2, 5-diethoxy-4-morpholino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-morpholino-benzene zinc chloride. 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-morpholino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-morpholino-benzene-boron fluoride, sodium salt of 2-diazo-1-naphthol-5-sulfonic acid 1-Diazo-4-N, N-diethylamino-benzene-boron fluoride 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercapto-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-3-ethoxy-4-N-methyl-N-benzylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1 Diazo-3-chloro-4-N, N-diethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzene-chloride-zinc-chloride. 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzene-boron fluoride 1-Diazo-2-chloro-4-N, N-dimethylamino-5-methoxy-benzene-boron fluoride 1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidino-benzene-zinc chloride Condensation product of 4-diazo-diphenylamine sulfate and formaldehyde zinc chloride.

Als wasserlösliche Harze der unteren Schicht eignen sich Polyvinylpyrrolidon, Polyvinylalkohole, Polyacrylamide und Polyacrylamid-Oopolymer isate, synthetische Gummi, wie starabische Gummi und Dextrine, sowie natürliche Gummi, wie Gummiarabikum und Hydroxyäthylcellulosegummi.Suitable water-soluble resins for the lower layer are polyvinylpyrrolidone, Polyvinyl alcohols, polyacrylamides and polyacrylamide copolymers, synthetic Rubber like starabic gums and dextrins, as well as natural gums, such as gum arabic and hydroxyethyl cellulose gum.

Venn die Verbindung der unteren Schicht ein wasserlösliches Harz enthält, dann kann das Verhältnis von Photosensibilisator zu Harz 100:1 bis 1 :100 Gewichtsteile betragen.If the compound of the lower layer contains a water-soluble resin, then the ratio of photosensitizer to resin can be 100: 1 to 1: 100 parts by weight be.

iJenn die die untere Beschichtungslösung darstellende Lösung ein mit Wasser mischbares organisches Lösungsmittel enthält, dann kann dieses bis zu der Menge vorhanden sein, die beim Zusatz zu einer wäßrigen Lösung der für die untere Schicht verwendeten lichtempfindlichen Verbindung eine Ausfällung verursacht.If the solution representing the lower coating solution has a If water contains miscible organic solvent, then this can be up to the Amount to be present when added to an aqueous solution of the for the lower Layer used photosensitive compound caused precipitation.

Vorzugsweise beträgt das Verhältnis von Wasser zu organischem Lösungsmittel etwa 1:9 bis etwa 9:1 Gewichtsteile.The ratio of water to organic solvent is preferably about 1: 9 to about 9: 1 parts by weight.

Besonders bevorzugt ist ein Verhältnis von 1 :1 Gewichtsteilen.A ratio of 1: 1 parts by weight is particularly preferred.

Die Geschwindigkeit der Entwicklung kann durch das Verhältnis der verweneteten Mengen lasser und organischem Lösungsmittel gesteuert werden. Wenn ein größerer Anteil Wasser verwendet wirl, dann wird beim Trocknen ein gleichm>Bigerer Auftrag der unteren Schicht erhalten. Dadurch wird eine stärkere Haftung am Substrat erreicht. Die auf diese Weise hergestellte Platte benötigt jedoch eine längere Entwicklungedauer. bjird dagegen ein größerer Anteil an organischem Lösungsmittel verwendet, dann wird beim Trocknen ein ungleichmäßigerer Auftrag der unteren Schicht erhalten, der nicht so stark an das Substrat gebunden ist, aber eine raschere Lntwicklung ermöglicht.The speed of development can be determined by the ratio of the The quantities of water and organic solvents used can be controlled. if If a larger proportion of water is used, it will be more even when it dries Order of the lower layer received. This creates a stronger adhesion to the substrate achieved. However, the plate produced in this way requires a longer development time. If, on the other hand, a larger proportion of organic solvent is used, then will When it dries, the lower layer is applied more unevenly, but not is so strongly bound to the substrate, but allows faster development.

Das Gleichgewicht dieser Faktoren muß in Abhängigkeit zu den im Einzelfall gewünschten Eigenschaften gesucht werden.The balance of these factors must depend on the individual desired properties are searched for.

Die Verbindung der unteren Schicht wird auf das Substrat in einemBeschichtungsgewicht von etwa 0,5 bis 20 mg/qm, vorzugsweise von etwa 1 bis 10 mg/qm und besonders bevorzugt von etwa 2,5 bis 6 mg/qm aufgebracht.The connection of the lower layer is made to the substrate in a coating weight of from about 0.5 to 20 mg / m², preferably from about 1 to 10 mg / m² and particularly preferably from about 2.5 to 6 mg / m² is applied.

In der oberen Schicht des erfindungsgemäßen photographischen Elements verwendbare wasserdurchlässige oleophile Harze sind Epoxidharze, Polyurethane, Polyester, Polyvinylformaldehydharze, Urethane mit niederem Molekulargewicht, Polyvinylacetale, Polyäthylenoxide und Polyvinylhydrogenphthalate.In the top layer of the photographic element of the present invention Usable water-permeable oleophilic resins are epoxy resins, polyurethanes, polyesters, Polyvinyl formaldehyde resins, low molecular weight urethanes, polyvinyl acetals, Polyethylene oxides and polyvinyl hydrogen phthalates.

Als wasserunlösliche, lichtempfindliche Verbindungen für die obere Schicht werden erfindungsgemäß solche Werbindungen verwendet, die sich für den Offsetdruck eignen und gegen chemische Veränderungen hervorrufende und/oder ultraviolette Strahlung empfindlich sind. Es werden negativ arbeitende lichtempfindliche Verbindungen verwendet. Spezielle Beispiele dafür sirid aromatische Diazoverbindungen, wie das Umsetzungsprodukt von Paradiazodiphenylamin-Paraformaldehyd-Kondensat und 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenonsulfonsäure.As water-insoluble, photosensitive compounds for the upper According to the invention, those advertising bindings are used that are suitable for offset printing suitable and against chemical changes causing and / or ultraviolet radiation are sensitive. Negative working photosensitive compounds are used. Specific examples of these are sirid aromatic diazo compounds, such as the reaction product of paradiazodiphenylamine-paraformaldehyde condensate and 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone sulfonic acid.

Die am besten geeignete lichtempfindliche Verbindung kann vom Fachmann je nach dem angestrebten Ergebnis ausgewählt werden.The most suitable photosensitive compound can be determined by those skilled in the art can be selected according to the desired result.

Das geeignetste Mengenverhältnis der Komponenten und die Auswahl der einzelnen Verbindungen hängt natürlich von den besonderen Eigenschaften ab, die bei der Offsetdruckplatte gewünscht werden. Obwohl das Mengenverhältnis von Photosensibilisator zu Harz in der oberen Schicht nicht kritisch ist, beträgt es aus praktischen Gründen etwa 1 bis 10 Gewichtsteile Sensibilisator zu etwa 50 bis 1 Gewichtsteil Harz. Ein bevorzugtes Verhältnis liegt bei etwa 1 bis 5 Gewichtsteilen Sensibilisator zu etwa 10 bis 1 Gewichtsteil Harz. Besonders bevorzugt ist ein Verhältnis von etwa 1 bis 3 Gewichtsteilen Sensibilisator zu etwa 4 bis 1 Gewichtsteil Harz.The most suitable proportion of the components and the choice of individual compounds depends of course on the special properties that are desired for the offset printing plate. Although the amount ratio of photosensitizer is not critical to resin in the top layer, it is for practical reasons about 1 to 10 parts by weight of sensitizer to about 50 to 1 part by weight of resin. A preferred ratio is about 1 to 5 parts by weight of sensitizer to about 10 to 1 part by weight of resin. A ratio of about 1 to is particularly preferred 3 parts by weight of sensitizer to about 4 to 1 part by weight of resin.

Das Beschichtungsgewicht des Gemisches von Photosensibilisator und Harz der oberen Schicht auf der Offsetdruckplatte betrgt etwa 0,5 bis 30 mg/qm, vorzugsweise etwa 3,5 bis 20 mg/qm und besonders bevorzugt etwa 5 bis 10 mg/qm.The coating weight of the mixture of photosensitizer and Resin of the upper layer on the offset printing plate is about 0.5 to 30 mg / qm, preferably about 3.5 to 20 mg / m² and particularly preferably about 5 to 10 mg / m².

Zur besten Durchführung der Erfindung soll das Gemisch für die obere Beschichtung eine bestimmte Wasser durchlässigkeit aufweisen. Die Wasserdurchlässigkeit wird vorzugsweise nach folgendem Verfahren bestimmt: Verfahren zur Bestimmung der Wasserdurchlässigkeit 1. Eine Probe eines 1,22 mm dicken Papier-Faltenfilters wird in die zu prüfende Lösung getaucht. Bevorzugt ist S & % Faltenfilter Nr. 588 CSchleicher & Schuell).For the best practice of the invention, the mixture for the upper Coating have a certain water permeability. The water permeability is preferably determined by the following procedure: Procedure for determining the Water Permeability 1. A sample of 1.22 mm thick pleated paper filter is used immersed in the solution to be tested. S &% pleated filter No. 588 is preferred CSchleicher & Schuell).

2. Das imprägnierte Filterpapier wird 1 Stunde unter Ausschluß von Licht bei etwa 150C getrocknet.2. The impregnated filter paper is 1 hour to the exclusion of Light dried at around 150C.

3. Das Filterpapier wird in einen Trichter gebracht, der auf einen Kolben gesetzt wird. Sodann werden 25 ml lasser auf das Filter gegossen und die Zeit gemessen, die das Wasser für den Durchlauf benötigt.3. The filter paper is placed in a funnel that is attached to a Piston is set. Then 25 ml of lasser are poured onto the filter and the The time it takes for the water to run through is measured.

Beschihtungen, bei denen das Wasser mindestens 200 Sekunden für den Durchlauf durch das Filterpapier benötigt, sind am besten für positiv und negativ arbeitende Druckplatten geeignet.Coverings in which the water for at least 200 seconds for the Passes through the filter paper needed are best for positive and negative working printing plates suitable.

Die Durchlässigkeitseigenschaften können natürlich mit der Menge und der Art der Bestandteile in der Beschichtung variiert werden.The permeability properties can of course vary with the amount and the nature of the ingredients in the coating can be varied.

Das derart hergestellte photographische Element kann nun zur Herstellung ontweder eines positiv oder eines negativ arbeitenden Bildes verwendet werden.The photographic element so prepared is now ready for manufacture Either a positive or a negative working image can be used.

Die Herstellung einer negativ arbeitenden i)ruckplatte unter Verwendung eines normalerweise negativ arbeitenden Photosensibi.li.sators ist bekannt. Eine Platte wird dabei auf einem Vakuumrahmen befestigt, mit einer photographischen Transparenz abgedeckt und einer bestimmten Menge ultravioletter Strahlung mit einer nachfolgenden Belichtung ausgesetzt. Zur Prüfung der Eigenschaften einer solchen Platte wird als Transparenz eine 21-stufige Empfindlichkeitsskala verwendet. Diese ist ein klarer Kunststoffstreifen mit abgestuft er optischer Trübung, die in numerierten Stufen von klar über grau nach schwarz reicht. Eine derartige 21-stufige Empfindlichkeitsskala wird nach den von der Graphic Arts Technical Feundation in GATF Research Bulletin Nr. 215 veröffentlichten Beschreibungen angefertigt. Derartige Skalen sind auch im Handel erhältlich (Stouffer Graphic Arts Equipment Company).Making a negative working i) backplate using a normally negative working photosensitizer is known. One The plate is attached to a vacuum frame with a photographic transparency covered and a certain amount of ultraviolet radiation with a subsequent Exposed to exposure. To test the properties of such a plate is called Transparency uses a 21-point sensitivity scale. This is a clear one Plastic strips with graded optical opacity, which are in numbered steps ranges from clear to gray to black. Such a 21-point sensitivity scale is as per the GATF Research Bulletin published by the Graphic Arts Technical Feundation No. 215 published descriptions made. Such scales are also commercially available (Stouffer Graphic Arts Equipment Company).

In Bezug auf die Bestandteile der Platte und die Belichtung ist eine Vielzahl von Abwandlungen möglich. Deshalb ist es erforderlich, zunächst die günstigste Lichtmenge für eine bestimmte Offsetdruckplatte zu bestimmen. Dies erfolgt danach Belichten einer Prüfplatte durch eine 21-stuligc Empfindlichkeitsskala, bis eine Ablesung im Bereich der Stufen 7 bis 9 erhalten wird. Beispielsweise bedeutet eine Äblesungsstufe 9, daß nach der Belichtung und dem Entwickeln die höchste Zahl, bei der noch eine sichtbare Menge auf der Platte verbliebener Beschichtung vorliegt, eine Reproduktion von Stufe 9 auf der Empfindlichkeitsskala ist. Es wurde festgestellt, daß die günstigste Wiejergabequalität und Lebensdauer beim Drucken für eine negativ arbeitende Platte dann erreicht wird, wenn eine Ablesung von Stufe 7 bis Stufe 9 erhalten wird.Regarding the components of the plate and the exposure is one A large number of modifications are possible. Therefore it is necessary to first choose the cheapest Determine the amount of light for a particular offset printing plate. This is done afterwards Exposure of a test plate through a 21-point sensitivity scale until a Reading in the range of levels 7 to 9 is obtained. For example, means Reading level 9, that after exposure and developing the highest number, at there is still a visible amount of coating left on the plate, is a reproduction of level 9 on the sensitivity scale. It was determined, that the best reproduction quality and life span when printing for a negative working plate is reached when a reading from level 7 to level 9 is obtained.

Bei höherer Zahl ist die Platte überbelichtet, was zu Lichthofbildung, Entstehung von Übergängen zwischen llalbtonpunkten und Vergrößerung der Punkte führt. Wenn die Ablesung niedriger ist, ergibt sie eine verminderte Lebensdauer oetm Drucken und eine Verschärfung der Punkte.If the number is higher, the plate is overexposed, which leads to halation, Creation of transitions between half-tone dots and enlargement of the dots leads. When the reading is lower, it results in a reduced life oetm printing and tightening the points.

Nach der Bestimmung der günstigsten Lumenzahl für die Bewichtung einer negativ arbeitenden Platte mit Stufe 7 bis 9 wurde festgestellt, daß eine Belichtung mit mindestens 20,S, vorzugsweise 100,- des ermittelten günstigsten Lumenwertes eine negativ arbeitende Platte ergibt, während mit einer Be-Wichtung im Bereich von 3 bis 15',/ó des günstigsten Lumenwertes eine positiv arbeitende Platte erhalten wird. Ferner wurde festgestellt, daß in beiden Fällen als Entwickler Leitungswasser verwendet werden kann. Die negative Platte soll vorzugsweise in Wasser mit einer Temperatur im Bereich von etwa 20 bis 4000 und die positive Platte vorzugsweise in Wasser mit einer Temperatur im Bereich von 10 bis 2700 entwickelt werden.After determining the most favorable number of lumens for the weighting of a negative working plate with levels 7 to 9 was found to have one exposure with at least 20, S, preferably 100, - of the most favorable lumen value determined results in a negative working plate, while with a weighting in the range from 3 to 15 ', / ó of the cheapest lumen value, a positive working plate is obtained will. It was also found that tap water was used as the developer in both cases can be used. The negative plate should preferably be in water with a Temperature in the range of about 20 to 4000 and the positive plate preferred can be developed in water at a temperature in the range of 10 to 2700.

Bei der Herstellung einer positiv arbeitenden Platte soll zur Härtung der vorher nicht belichteten Bereiche eine Nachbelichtung der gesamten Platte durchgeführt werden, und zwar vorzugsweise mit dem bestimmten günstigsten Lumenwert der Belichtung.When producing a positive-working plate, the aim is to harden of the previously unexposed areas, a post-exposure of the entire plate was carried out preferably with the particular most favorable lumen value of the exposure.

Das Beispiel erläutert die Erfindung.The example illustrates the invention.

Beispiel Eine Aluminiumplatte der Güte 3003 wird chemisch bei einer Temperatur von 80°C in 3prozentiger Natronlauge geätzt, wobei ein Atzverlust von 300 mg/dm Aluminium erhalten wird. Danach wird die Platte in 8prozentiger Salpetersäurelösung gereinigt und anschliefend in Schwefelsäure mit Gleichstrom mit etwa 1,6 A. min/dm2 anodisch oxidiert. Example A 3003 grade aluminum plate is chemically applied to a At a temperature of 80 ° C in 3 percent caustic soda, with an etching loss of 300 mg / dm aluminum is obtained. Then the plate is in 8 percent nitric acid solution cleaned and then in sulfuric acid with direct current with about 1.6 A. min / dm2 anodically oxidized.

Hierauf wird die Platte mit Wasser gespült. Anschließend wird sie 30 Sekunden bei einer Temperatur von 8000 in 5prozentige Natriumsilicatlösung getaucht, um eine Zwischenschicht herzustellen, und danach mit vollentsalztem Wasser gespült.The plate is then rinsed with water. Then she will Immersed in 5% sodium silicate solution at a temperature of 8000 for 30 seconds, to create an intermediate layer, and then with fully demineralized water flushed.

Hierauf werden die in nachstehender Tabelle I aufgeführten Formulierungen zubereitet.The formulations listed in Table I below are then used prepared.

Tabelle I Formulierung A Bestandteil Menge, Gew.-% Kondensationsprodukt von Paraformaldehyd und Paradiazodiphenylamin 2 Phosphorsäure 1 Entsalztes Wasser 97 Formulierung B Kondensationsprodukt von Paraformaldehyd und Paradiazodiphenylamin, umgesetzt mit 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenon-5-sulfonsäure 2 Bisphenol A-Epoxyharz 2,5 Polyvinylacetalharz 0,5 Farbstoff Orasol blue G.N. 0,2 Äthylenglykolmonomethyläther 90 N, N-Dimethylformamid 4,8 Die in der beschriebenen Art vorbehandelte Aluminiumplatte wird nun zunächst mit dem Gemisch der Formulierung A zu einem Beschichtungsgewicht von 3,4 mg/dm2 tauchbeschichtet und 3 Minuten bei 550C getrocknet. Danach wird das Gemisch der Formulierung B durch Tauchbeschichtung zu einem Be-2 schichtungsgewicht von 4,0 mg/dm aufgebracht und 15 Minuten bei 650C getrocknet. Anschließend wird die erhaltene Probe in zwei Teile geschnitten. Table I Formulation A Ingredient Quantity,% by weight of condensation product of paraformaldehyde and paradiazodiphenylamine 2 phosphoric acid 1 desalinated water 97 Formulation B condensation product of paraformaldehyde and paradiazodiphenylamine, reacted with 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenone-5-sulfonic acid 2 bisphenol A epoxy resin 2.5 polyvinyl acetal resin 0.5 Orasol blue G.N. 0.2 ethylene glycol monomethyl ether 90 N, N-dimethylformamide 4.8 The aluminum plate pretreated in the manner described is now first with the mixture of formulation A to a coating weight of 3.4 mg / dm2 dip-coated and dried for 3 minutes at 550C. After that, that will Mixture of formulation B by dip coating to a coating weight of 4.0 mg / dm applied and dried at 650C for 15 minutes. Then will the obtained sample cut into two parts.

Auf einen der Teile wird eine photographische Transparenz gelegt. Sodann wird er 30 Sekunden mit einer 5 k. fiuecksilberdampf/Metallhalogenid-Belichtungseinheit belichtet.A photographic transparency is placed on one of the parts. Then he is 30 seconds with a 5 k. Mercury vapor / metal halide exposure unit exposed.

Die nichtbelichteten Bereiche werden hierauf mit Leitungswasser von 3800 als Entwickler entfernt. Es wird eine negative Wiedergabe des Transparenzbildes erhalten.The unexposed areas are then treated with tap water 3800 removed as developer. It becomes a negative rendition of the transparency image obtain.

Die gleiche photographische Transparenz wird auch auf den anderen Teil der Platte gelegt. Dieser wird 3 Sekunden mit einer 5 ktr Quecksilberdampf/Metallhalogenid-Belichtungseinheit bestrahlt. Danach werden die belichteten Bereiche mit Leitungswasser als Entwickler bei 1800 entfernt. Nach der Entwicklung wird die Platte 30 Sekunden mit der genannten Belichtungseinheit nachbehandelt. Es wird eine positive Reproduktion des Transparenzbildes erhalten.The same photographic transparency is also on the other Part of the plate laid. This is 3 seconds with a 5 ktr mercury vapor / metal halide exposure unit irradiated. After that, the exposed areas are treated with tap water as a developer removed at 1800. After development, the plate is kept with the said for 30 seconds Exposure unit post-treated. It becomes a positive reproduction of the transparency image obtain.

Beide Proben werden auf eine Presse Chief 22 montiert und ergeben 25 000 befriedigende Drucke.Both samples are mounted on a Chief 22 press and yielded 25,000 satisfactory prints.

Claims (1)

Positiv oder negativ arbeitendes Bildelement und Verfahren za seiner Herstellung" Patentansprüche 1 Positiv oder negativ arbeitendes Bildelement, d a d u r c h e e k e n n z e i c h n e t, daß es hergestellt wurde durch a) Beschichten mindestens einer Oberfläche eines Substrats mit einer ersten Schicht, die eine wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche, negativ arbeitende aromatische Diazoverbindung enthält, b) aufbringen einer zweiten Schicht, die ein wasserurllösliches, für Druckfarbe aufnahmefähiges, wasserdurchlässiges, negativ arbeitendes, lichtempfindliches Gemisch für den Offsetdruck enthält, welches i) ein wasserunlösliches, wasserdurchlässiges, oleophiles Harz und ii) ein Umsetzungsprodukt aus einem Diazodiphenylamin-Formaldehyd-Kondensat und einer Benzophenon-Sulfonsäure enthält, auf die erste Schicht, oder c) Bestimmen der günstigsten Belichtung, die zur Lrbeugung eines negativ arbeitenden photographischen nlementes aus dem Aufbau gemäß Stufe b) erforderlich ist, und entweder d) Belichten des Elements mit 3 bis 15% der in Stufe c) bestimmten Lichtmenge, e) Entwickeln des Elements durch Jaschen mit einem wasserhaltigen Entwickler und f) Nachbelichten der gesamten Oberfläche des Elements, oder d') Belichten des Elements mit 20 bis 100 der in Stufe c) bestimmten Lichtmenge und e') Entwickeln des Elementes durch Waschen mit einem wasserhaltigen Entwickler.Positive or negative working image element and process za its Production "claims 1 positive or negative working picture element, d a It is noted that it was produced by a) coating at least one surface of a substrate with a first layer which has a water-soluble, Light-sensitive, negative-working aromatic compounds suitable for offset printing Contains diazo compound, b) applying a second layer, which is a water-soluble, for printing inks receptive, water-permeable, negative-working, light-sensitive Contains mixture for offset printing, which i) a water-insoluble, water-permeable, oleophilic resin and ii) a reaction product of a diazodiphenylamine-formaldehyde condensate and containing a benzophenone sulfonic acid, on the first layer, or c) determining the most favorable exposure necessary for diffraction of a negative working photographic nlementes from the structure according to stage b) is required, and either d) Exposing the element to 3 to 15% of the amount of light determined in step c), e) developing the element by washing with an aqueous developer and f) post-exposure the entire surface of the element, or d ') exposing the element to 20 bis 100 the amount of light determined in step c) and e ') developing the element Wash with a water-based developer. 2. Verfahren zur Herstellung des Bildelements nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man a) auf mindestens eine Oberfläche eines substrats eine erste Schicht aufbringt, die eine wasserlösliche, für den Offsetdruck geeignete, lichtempfindliche, negativ arbeitende aromatische I)iazoverbindung enthält, b) auf die erste Schicht eine zweite Schicht aufbringt, die ein wasserunlösliches, für Druckfarbe aufnahmefähiges, wasserdurchlässiges, negativ arbeitendes, lichtempfindliches Gemisch für den Offsetdruck enthält, welches i) ein wasserunlösliches, wasserdurchlässiges, oleophiles Harz und ii) ein Umsetzungsprodukt aus einem Diazodiphenyl amin-Formaldehyd-Kondensat und einer Benzophenon-Sulfonsäure enthält, c) die günstigste Belichtung bestimmt, die zur Erzeugung eines negativ arbeitenden photographischen Elements aus dem Aufbau gemäß Stufe b) erforderlich ist, und entweder d) das Element mit 3 bis 15% der gemäß Stufe c) bestimmten Lichtmenge belichtet, e) das Element durch Waschen mit einem wasserhaltigen Entwickler entwickelt und f) die gesamte Oberfläche des Elements nachbelichtet, oder d') das Element mit 20 bis 100 der in Stufe c) bo stimmten Lichtmenge belichtet und e') das Element durch Waschen mit einem wasserhaltigen Entwickler eutwickelt.2. A method for producing the picture element according to claim 1, characterized characterized in that a) on at least one surface of a substrate a first Layer applies, which is a water-soluble, light-sensitive, suitable for offset printing, contains negative-working aromatic I) iazo compound, b) on the first layer a second layer is applied, which is a water-insoluble, ink-receptive, water-permeable, negative-working, light-sensitive mixture for offset printing contains which i) a water-insoluble, water-permeable, oleophilic resin and ii) a reaction product of a diazodiphenyl amine-formaldehyde condensate and contains a benzophenone sulfonic acid, c) determines the most favorable exposure, those used to produce a negative working photographic element from the assembly according to stage b) is required, and either d) the element with 3 to 15% of according to Stage c) exposed to a certain amount of light, e) the element by washing with a aqueous developer and f) the entire surface of the element post-exposed, or d ') the element with 20 to 100 of the in stage c) bo correct amount of light exposed and e ') the element by washing with a water-based developer. 4. Verfahren nach anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß man in Stufe b) (ii) das Umsetzungsprodukt der Kondensation von Faradiazodiphenylamin mit Formaldehyd oder Pfaraformaldehyd und 2-Hydroxy-4-methoxy-benzophenonsulfonsäure verwendet.4. The method according to claim 2, characterized in that one in stage b) (ii) the reaction product of the condensation of faradiazodiphenylamine with formaldehyde or Pfaraformaldehyde and 2-hydroxy-4-methoxy-benzophenonsulfonic acid are used. 4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat aus Aluminium besteht.4. The method according to claim 3, characterized in that the substrate is made of aluminum. 5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat gekörnt ist.5. The method according to claim 4, characterized in that the substrate is grained. G. Verfahren nac Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das gekörnte Substrat anodisch oxidiert ist.G. The method according to claim 5, characterized in that the granular Substrate is anodically oxidized. 7. Verfahren nach Anspruch CD, dadurch gekennzeichnet, daß man zwischen der gekörnten und anodisch oxidierten oberen Oberfläche des Substrats und der ersten Schicht eine Zwischenschicht aufbringt, die ein Alkalimetall -silikat, Kieselsäure, ein Fluorid eines Metalls der Gruppe IV B des Periodensystems, Polyacrylsäure, ein Alkalizirkoniumfluorid oder Fluorozirkoniumsäure enthält.7. The method according to claim CD, characterized in that between the grained and anodized top surface of the substrate and the first Layer applies an intermediate layer that contains an alkali metal silicate, silica, a fluoride of a metal from Group IV B of the periodic table, polyacrylic acid Contains alkali zirconium fluoride or fluorozirconic acid. 8. Verfahren nach Anspruch 3 dadurch gekennzeichnet, daß das oleophile Harz mindestens ein Epoxyharz, Polyurethan, Polyester, Urethan, Folyäthylenoxid, Polyvinylhydrogenphthalat, Polyvinylacetal und/oder Polyvinylbutyralharz enthält.8. The method according to claim 3, characterized in that the oleophilic Resin at least one epoxy resin, polyurethane, polyester, urethane, polyethylene oxide, Contains polyvinyl hydrogen phthalate, polyvinyl acetal and / or polyvinyl butyral resin. 9.Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Beschichtungsgewicht der ersten Schicht etwa 0,5 bis 20 mg/qm und das Beschichtungsgewicht der zweiten Schicht etwa 0,5 bis 30 mg/qm beträgt.9.Verfahren according to claim 3, characterized in that the coating weight the first layer about 0.5 to 20 mg / m² and the coating weight of the second Layer is about 0.5 to 30 mg / qm. 10. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch r:rekennzeichnet, daß das Verhältnis von für den Offsetdruck geeignetem Photosensibilisator zu oleophilem Harz in der zweiten Schicht etwa 1 bis 10 Teile Photosensibilisator zu etwa 50 bis 1 Gewichtsteil oleophiles Harz beträgt.10. The method according to claim 3, characterized in that the ratio from photosensitizer suitable for offset printing to oleophilic resin in the second layer about 1 to 10 parts photosensitizer to about 50 to 1 part by weight oleophilic resin. 11. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht ferner enthält: mindestens ein Polyvinylpyrrolidon, einen Polyvinylalkohol, ein Polyacrylamid oder ein Copolymerisat davon, einen synthetischen oder natUrlichen Gummi.11. The method according to claim 2, characterized in that the first Layer also contains: at least one polyvinylpyrrolidone, a polyvinyl alcohol, a polyacrylamide or a copolymer thereof, synthetic or natural Rubber. 12. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht einen der Stoffe 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat 1-Diazo-4-N,N-dimethylamino-benzol-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N, N-diäthylamino-benzol-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N-äthyl-N-hydroxyäthylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N-methyl-N-hydroxyäthylamino-benzol-1/2-Z1nkchlorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-benzoylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N-benzylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N,N-dimethylamino-benzo-Borfluorid 1-Diazo-4-morpholino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-morpholino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2, 5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzol-1/2-Zink chlorid 1-Diazo-2-äthoxy-4-NN-dimethylaminobenzo1-1/2-Zinkchlorid p-Diazo-dimethyl-anilin-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-4-N,-diäthylamino-benzol-1/2-Zinkohlorid 1-Diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholino-benzol-Sulfat 1-Diazo-2,5-diäthoxg-4-morpholino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1 -1)iazo-2, -dimethoxy -4-morphol ino-benzol-Zinkchlori d 1-Diazo-2,5-di-ithoxy-4-morpholino-benzol-1/2-Zinkdhlond 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-morpholino-benzol-Borfluorid Natriumsalz von 2-Diazo-1-naphthol-5-sulfonsäure 1-Diazo-4-N,N-diäthylamino-benzol-Borfluorid 1-Diazo-2,5-diäthoxy-4-p-tolylmercapto-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-3-äthoxy-4-N-methyl-N-benzylamino-benzol-1/2-Zinkchlorid 1-Diazo-3-chlor-4-N,N-diäthylamino-benzol-1/2-ZinkOhlorid 1 -iazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzol-chlorid-Zinkchlorid 1-Diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzo-Borfluorid 1-Diazo-2-chlor-4-N,N-dimethylamino-5-methoxy-benzol-Borfluorid 1-Diazo-3-methoxy-4-pyrrolidino-benzol-Zinkchlorid Kondensationsprodukt von 4-Diazo-diphenylamin-Sulfat und Formaldehyd-Zinkchlorid enthält.12. The method according to claim 3, characterized in that the first Layer one of the substances 4-diazo-diphenylamine sulfate 1-diazo-4-N, N-dimethylamino-benzene-zinc chloride 1-Diazo-4-N, N-diethylamino-benzene-zinc chloride 1-Diazo-4-N-ethyl-N-hydroxyethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N-methyl-N-hydroxyethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-benzoylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N-benzylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N, N-dimethylamino-benzo-boron fluoride 1-Diazo-4-morpholino-benzene-1/2 zinc chloride 1-Diazo-4-morpholino-benzene-boron fluoride 1-Diazo-2,5-dimethoxy-4-p-tolylmercaptobenzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2-ethoxy-4-NN-dimethylaminobenzo1-1 / 2-zinc chloride p-Diazo-dimethyl-aniline-1/2-zinc chloride 1-Diazo-4-N, -diethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-dibutoxy-4-morpholino-benzene sulphate 1-Diazo-2,5-diethox-4-morpholino-benzene-1/2-zinc chloride 1 -1) iazo-2, -dimethoxy -4-morphol inobenzene-zinc chloride. 1-Diazo-2,5-di-ithoxy-4-morpholino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-2,5-diethoxy-4-morpholino-benzene-boron fluoride, sodium salt of 2-diazo-1-naphthol-5-sulfonic acid 1-Diazo-4-N, N-diethylamino-benzene-boron fluoride, 1-diazo-2,5-diethoxy-4-p-tolylmercapto-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-3-ethoxy-4-N-methyl-N-benzylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-Diazo-3-chloro-4-N, N-diethylamino-benzene-1/2-zinc chloride 1-azo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzene chloride-zinc chloride 1-diazo-3-methyl-4-pyrrolidino-benzo-boron fluoride 1-Diazo-2-chloro-4-N, N-dimethylamino-5-methoxy-benzene-boron fluoride 1-diazo-3-methoxy-4-pyrrolidino-benzene-zinc chloride Condensation product of 4-diazo-diphenylamine sulfate and formaldehyde zinc chloride contains. 13. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Schicht aus .Wasser oder einem Gemisch von Jasser mit einem mit Wasser mischbaren organischen Lösungsmittel mit einem Siedepunkt von höchstens 12100 aufgetragen wird.13. The method according to claim 3, characterized in that the first Layer of .water or a mixture of jasser with a mixable with water organic solvent with a boiling point of 12,100 or less is applied. 14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß man als mit Wasser mischbares organisches Lösungen mitte ethanol, Äthanol, Isopropanol, Aceton, Methyläthylketon und/oder Äthylenglykolmonomethyläther verwendet.14. The method according to claim 13, characterized in that as water-miscible organic solutions with ethanol, ethanol, isopropanol, Acetone, methyl ethyl ketone and / or ethylene glycol monomethyl ether are used. 15. Verwendung der Bildelemente nach Anspruch 1 als positiv oder negativ arbeitende Offsetdruckplatten.15. Use of the picture elements according to claim 1 as positive or negative working offset printing plates.
DE19803031302 1980-08-19 1980-08-19 Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed Withdrawn DE3031302A1 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803031302 DE3031302A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19803031302 DE3031302A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE3031302A1 true DE3031302A1 (en) 1982-04-01

Family

ID=6109945

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19803031302 Withdrawn DE3031302A1 (en) 1980-08-19 1980-08-19 Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE3031302A1 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0699960A1 (en) 1994-08-29 1996-03-06 Hoechst Aktiengesellschaft Photosensitive composition

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0699960A1 (en) 1994-08-29 1996-03-06 Hoechst Aktiengesellschaft Photosensitive composition

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2821777A1 (en) WATER DEVELOPMENT OFFSET PRINTING PLATE
DE2725762C2 (en) Process for the production of a lithographic printing form
DE2147947C2 (en) Photosensitive mixture
DE2540561C2 (en) Process for the manufacture of a support for a printing plate
EP0135026B1 (en) Light-curable composition and light-sensitive registration material prepared therefrom
DE1621478A1 (en) Layer support for light-sensitive material for the production of a planographic printing plate
DE2903270A1 (en) LIGHT-SENSITIVE MIXTURE
DE2251382A1 (en) METHOD FOR MANUFACTURING ALUMINUM CARRIERS
EP0071881B1 (en) Process for the production of offset printing plates from light-sensitive material based on diazonium salt-polycondensation products
DE3022362A1 (en) LIGHT-SENSITIVE COPYING MATERIAL AND METHOD FOR THE PRODUCTION THEREOF
DE2843762A1 (en) OFFSET PRINTING PLATE
EP0034324B1 (en) Process for the preservation of flatbed printing formes in their developed state for printing
DE1572207B1 (en) Photographic recording material providing control images before development
EP0200913B1 (en) Developing mixture, use and method of preparation of lithographic printing plates with this developer
DE2834958A1 (en) METHOD FOR DEVELOPING EXPOSED LIGHT-SENSITIVE PRINTING PLATES
EP0474010B1 (en) Developer composition for irradiated radiation-sensitive positive and negative working, as well as reversible reprographic layers and process for developing such layers
DE3129501A1 (en) "FLAT PRINT FORM AND METHOD FOR THEIR PRODUCTION"
DE1572070C3 (en) Photosensitive copying material
DE1931026A1 (en) Photosensitive resinous compositions
DE2843069A1 (en) OFFSET PRINTING PLATE WITH IMPROVED COLOR CONTRAST BETWEEN THE IMAGE AND THE NON-IMAGE AREAS
DE3031302A1 (en) Positive acting lithographic element - with water soluble negative acting diazo layer and water permeable oleophilic negative working layer, underexposed and water developed
US4326020A (en) Method of making positive acting diazo lithographic printing plate
DE19520741C2 (en) Developer for use in offset printing
DE2821776A1 (en) WATER DEVELOPMENT OFFSET PRINTING PLATE
DE1796159B2 (en) METHOD OF MANUFACTURING LITHOGRAPHIC PRINTING PLATES

Legal Events

Date Code Title Description
8141 Disposal/no request for examination