DE3011005C2

DE3011005C2 -

Info

Publication number: DE3011005C2
Application number: DE3011005A
Authority: DE
Inventors: Richard C. Mayfield Heights Ohio Us Avellone
Original assignee: REPUBLIC STEEL CORP CLEVELAND OHIO US
Current assignee: REPUBLIC STEEL CORP CLEVELAND OHIO US
Priority date: 1979-03-21
Filing date: 1980-03-21
Publication date: 1987-12-03
Also published as: JPS55161093A; DE3011005A1; JPS6353280B2; CA1165271A

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren nach dem Oberbegriff des Patentanspruchs 1.The invention relates to a method according to the preamble of Claim 1.

Ein solches Verfahren ist aus der DE-OS 25 27 623 bekannt. Es liefert eine galvanische Beschichtung, deren Gleichmäßig keit in den Randbereichen des Metallbands zu wünschen übrig läßt. Dort treten unregelmäßige Beschichtungsstrukturen auf, die als "Baumwuchs" (tree growth) und "Kantenaufbau" (edge buildup) bekannt sind. Es ist daher eine Nachbehandlung des Metallbands, z. B. ein Beschneiden der Metallbandränder notwen dig.Such a method is known from DE-OS 25 27 623. It provides a galvanic coating, the uniformity of which left to be desired in the edge areas of the metal strip leaves. There are irregular coating structures which are called "tree growth" and "edge structure" (edge buildup) are known. It is therefore a post-treatment of the Metal strips, e.g. B. a trimming of the metal band edges necessary dig.

Aus der US-PS 39 75 242 ist ein Verfahren zum beidseitigen Galvanisieren eines Metallbandes bekannt, bei dem die Galvani sierströmung im Gegenstrom parallel zu der Bewegungsrichtung des zu beschichtenden Bands geführt ist. Auch bei einem solchen beidseitigen Beschichtungsverfahren stellen die Metallband- Randbereiche bezüglich der Beschichtungsqualität kritische Zonen dar. Zur Erhöhung der Beschichtungsqualität in diesen Bereichen sieht die US-PS 39 75 242 elektrostatische Abschir mungen vor, deren Kanten parallel zu der Strömungsrichtung der Galvanisierflüssigkeit und der Bewegungsrichtung des Me tallbands orientiert sind. Die Abschirmungen haben die Funk tion, den elektrischen Stromfluß zum Kantenbereich des Metall bands zu begrenzen. Sie wirken aber nicht als mechanische Blen de im Galvanisierflüssigkeitsstrom, und sie haben selbst bei Verstellung quer zur Bewegungsrichtung des Bands keinen nennens werten Einfluß auf die Galvanisierflüssigkeits-Strömungsver hältnisse im Bereich der Bandkanten, die im übrigen bei einer beidseitigen galvanischen Beschichtung auch anders sind, als bei einer einseitigen Beschichtung.From US-PS 39 75 242 is a method for both sides Electroplating a metal strip known in which the electroplating sier flow in counterflow parallel to the direction of movement of the strip to be coated. Even with one coating processes on both sides represent the Marginal areas critical with regard to the coating quality Zones. To increase the coating quality in these Areas see the US-PS 39 75 242 electrostatic shielding the edges parallel to the direction of flow the electroplating liquid and the direction of movement of the Me tall bands are oriented. The shields have the radio tion, the electrical current flow to the edge area of the metal limit bands. But they do not act as mechanical balls de in the electroplating liquid stream, and they have themselves Adjustment transverse to the direction of movement of the belt is not to be mentioned evaluate influence on the electroplating liquid flow rate Ratios in the area of the band edges, the rest of a galvanic coating on both sides are also different than with a one-sided coating.

Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs ge nannten Art derart zu gestalten, daß das Metallband auf der gesamten Oberfläche einschließlich der Seitenränder gleich mäßig beschichtbar ist.The object of the invention is to provide a method of ge named type to design such that the metal strip on the entire surface including the side edges is moderately coatable.

Diese Aufgabe wird durch das in Anspruch 1 gekennzeichnete Verfahren gelöst. Die erfindungsgemäß vorgesehene Isolatoran ordnung hat nicht nur die Funktion, den elektrischen Strom fluß zum Kantenbereich des Metallbands zu begrenzen. Sie liegt vielmehr überdies auch als mechanische Blende im Galvanisier- Flüssigkeitsstrom, so daß dieser nicht unmittelbar auf den seitlichen Randbereich des Metallbandes auffällt. Man erhält so im Kantenbereich des Metallbands eine Flüssigkeitsströmung, die zur Verhinderung von Dickeninhomogenitäten der galvanischen Beschichtung beiträgt.This object is characterized by that in claim 1 Procedure solved. The isolator provided according to the invention Order not only has the function of electrical current limit flow to the edge area of the metal strip. she lies rather also as a mechanical cover in the electroplating Liquid flow so that it is not directly on the the lateral edge area of the metal band is striking. You get a liquid flow in the edge area of the metal strip, to prevent thickness inhomogeneities in the galvanic Coating contributes.

Eine bevorzugte Weiterbildung der Erfindung ist in Anspruch 2 gekennzeichnet. A preferred development of the invention is claimed 2 marked.

Die Erfindung wird im folgenden beispielsweise anhand der Zeichnung beschrieben; in dieser zeigtThe invention is described below, for example, with the aid of Drawing described; in this shows

Fig. 1 eine Galvanisierstrecke, bei der das erfin dungsgemäße Galvanisierverfahren angewendet wird, Fig. 1 is a galvanizing line, in which the applied OF INVENTION dung modern electroplating,

Fig. 2 eine teilweise geschnittene perspektivische An sicht einer Anoden zelle der Galvanisierstrecke, Fig. 2 is a partially cutaway perspective view to an anode cell of the galvanizing line,

Fig. 3 die schematische Darstellung einer Galvanisierzelle mit herausgefahrener, das zu behandelnde Metallband nicht abdeckender Isolatoranordnung, Fig. 3 is a schematic representation of an electroplating cell having moved out, the metal strip to be treated non-covering insulator assembly,

Fig. 4 dieselbe Galvanisierzelle mit zur Gewährleistung eines einheit lich dicken galvanischen Überzugs hereingefahrener, das zu behandelnde Metallband im Randbereich abdeckender Isolatoranordnung, und Fig. 4 shows the same electroplating cell with insured arrangement to ensure a uniformly thick galvanic coating that covers the metal strip to be treated in the edge region, and

Fig. 5 eine der in Fig. 1 gezeigten Galvanisierstrecke ähnelnde Zweizellen-Galvanisierstation. Fig. 5 is a similar to in Fig. 1 shown galvanizing two-cell Galvanisierstation.

Fig. 1 zeigt das Schema einer Galvanisier strecke 10, die für das Aufbringen eines galvanischen Überzugs auf einer Seite eines Werkstückes 11, z. B. eines Stahlstreifens, geeignet ist. Fig. 1 shows the diagram of an electroplating line 10 , for the application of a galvanic coating on one side of a workpiece 11 , for. B. a steel strip, is suitable.

Die Galvanisierstrecke 10 umfaßt eine bei 20 gezeigte Anodenzelle. Die Zelle ist in einem Abstand oberhalb des Werkstückes 11 ange ordnet und ist zur Aufnahme einer Galvanisierlösung ausge bildet. In der Zeichnung ist nur eine Anodenzelle darge stellt; jedoch kann eine Industriegalvanisierstrecke 30 oder mehr dieser Zellen umfassen. Die Lösung wird aus einem Be hälter 17 für das Auftragsmaterial über zwei Pumpen 12 und eine Leitung 13 in Umlauf gebracht bzw. gehalten. Die Lösung tritt aus der Leitung in die Anodenzelle 20 ein und ver läßt diese, um über das Werkstück zu fließen.The electroplating section 10 includes an anode cell shown at 20 . The cell is arranged at a distance above the workpiece 11 and is formed for receiving a plating solution. In the drawing, only one anode cell is shown; however, an industrial electroplating line may include 30 or more of these cells. The solution is circulated or held from a loading container 17 for the application material via two pumps 12 and a line 13 . The solution enters the anode cell 20 from the line and leaves it to flow over the workpiece.

Die Anodenzelle 20 ist oberhalb des Werkstücks 11 unter Bei behaltung eines schmalen Spaltes zwischen dem Werkstück 11 und der Anodenzelle 20 aufgehängt. Nach dem Verlassen der Anodenzelle 20 füllt die Galvanisierlösung diesen Spalt, fließt dann vom Werkstück 11 fort und wird in einem Sammelbehälter 14 ge sammelt. Die aufgefangene Lösung wird dann zu einer Reaktions station 15, durch einen Filter 16 und zum Behälter 17 zu rückgeführt, um wieder in Umlauf zu den Anoden hingepumpt zu werden. In Fig. 1 ist der Sammelbehälter 14 mit auf einer Seite weggebrochener Seitenwand dargestellt, um das Abfließen der Lösung vom Werkstück 11 zu zeigen.The anode cell 20 is suspended above the workpiece 11 while maintaining a narrow gap between the workpiece 11 and the anode cell 20 . After leaving the anode cell 20 , the electroplating solution fills this gap, then flows away from the workpiece 11 and is collected in a collecting container 14 . The collected solution is then returned to a reaction station 15 , through a filter 16 and to the container 17 to be pumped back into circulation to the anodes. In Fig. 1, the collection container 14 is shown with broken away on one side of the side wall in order to show the flow of the solution from the workpiece 11.

Bei Beginn des Galvanisierverfahrens verwendet man eine geeignete Zinkgalvanisierlösung mit einem pH oberhalb von 4,5, vorzugsweise im Bereich 1,5-2,5, und mit einer Temperatur oberhalb der Raumtemperatur, vorzugsweise etwa 60°C. Diese Lösung wird mit technisch reinen Zinksulfatsalzen vorberei tet und angesetzt und mit Kohlepulver und Zinkstaub ge reinigt. Die Zinksulfatsalze dissoziieren und liefern Zink ionen für den Überzug.Use one at the beginning of the electroplating process suitable zinc plating solution with a pH above 4.5, preferably in the range 1.5-2.5, and with a temperature above room temperature, preferably about 60 ° C. These Solution is prepared with technically pure zinc sulfate salts Tet and prepared and with coal powder and zinc dust cleans. The zinc sulfate salts dissociate and provide zinc ions for the coating.

Das Werkstück 11 und die Anodenzelle 20 werden durch eine elektrische Energiequelle, wie sie z. B. ein Gleichstromgleichrichter liefert, auf unterschiedlichem elektrischen Potential gehal ten. Aufgrund dieses Energieunterschiedes erfolgt auf dem Werkstück Galvanisierung, die auf den Elektronenfluß von der Anode zum Werkstück zurückzuführen ist. Die Galvanisie rungsreaktion folgt der bekannten Gleichung 2e^- + Zn⁺⁺ → Zn⁰. Die für diese Reaktion erforderlichen Elektro nen fließen durch die Anode, die daher ein metallisches oder ein geeignetes leitendes Material enthalten muß. In einer Ausführungsform der Erfindung ist die Anode in einem Blei- Silber-Legierungsmaterial ausgeführt. Ein korrosionsbeständi ges, für die Anodenausbildung geeignetes Material enthält ¹/₂% Silber und 99 ¹/₂% Blei.The workpiece 11 and the anode cell 20 are powered by an electrical energy source, such as. B. supplies a DC rectifier, held at different electrical potential. Due to this energy difference, galvanization takes place on the workpiece, which is due to the electron flow from the anode to the workpiece. The electroplating reaction follows the known equation 2e ^- + Zn ⁺⁺ → Zn ⁰ . The electrons required for this reaction flow through the anode, which must therefore contain a metallic or a suitable conductive material. In one embodiment of the invention, the anode is made of a lead-silver alloy material. A corrosion-resistant material suitable for anode formation contains ¹ / ₂ % silver and 99 ¹ / ₂ % lead.

Der Gleichrichterstrom wird über ein Steuermodul gesteuert, dessen Steuerausgangssignal der Bandgeschwindigkeit und der Breite des Stahlstreifens proportional ist.The rectifier current is controlled by a control module, whose control output signal of the belt speed and the Width of the steel strip is proportional.

Wenn sich der galvanische Überzug auf dem Werkstück ablagert, nimmt die Zinkionenkonzentration ab. Um die Ionenkonzentra tion aufrechtzuerhalten, wird der Behälter 17 an der Reaktions station 15 ständig mit Zinkionen aufgefüllt. Das Auffüllen mit Ionen wird vorzugsweise durchgeführt, indem metallisches Zink und Zinkoxid in die in der Reaktionsstation enthaltene Galvanisierlösung eindringt. Da das Galvanisieren über Zink ionen erfolgt, wird an der Anode Schwefelsäure erzeugt. Die se Säure wird verwendet, um in der Lösung aus metallischem Zink und Zinkoxid die Erzeugung von Zinksulfat zu unterstützen, das unter Bildung von Zinkionen für das Galvanisierverfah ren dissoziiert.If the galvanic coating is deposited on the workpiece, the zinc ion concentration decreases. In order to maintain the ion concentration, the container 17 at the reaction station 15 is constantly filled with zinc ions. Filling with ions is preferably carried out by penetrating metallic zinc and zinc oxide into the electroplating solution contained in the reaction station. Since the electroplating takes place via zinc ions, sulfuric acid is generated at the anode. This acid is used to aid the production of zinc sulfate in the metallic zinc and zinc oxide solution, which dissociates to form zinc ions for the electroplating process.

Antriebswalzen 19 bewirken die relative Längsbewegung zwi schen der Anodenzelle 20 und dem Werkstück 11. Die Strom dichte auf dem Werkstück, die gewünschte Überzugsdicke und die Zahl der vorhandenen Anodenzellen bestimmen die Geschwindigkeit, mit der diese Antriebswalzen das Werkstück 11 antreiben.Drive rollers 19 bring about the relative longitudinal movement between the anode cell 20 and the workpiece 11 . The current density on the workpiece, the desired coating thickness and the number of anode cells present determine the speed at which these drive rollers drive the workpiece 11 .

Die Breite des Spaltes zwischen der Anodenzelle 20 und dem Werk stück 11 ist einstellbar. Die Einstellung erfolgt mittels einer Führungswalze 22, die auf beiden Seiten der Zelle 20 vorgesehen ist. Wenn die Führungswalzen 22 relativ zur Anodenzelle 20 nach oben oder nach unten bewegt werden, wird der Spalt zwi schen dem Werkstück 11 und der Zelle 20 entweder kleiner oder größer.The width of the gap between the anode cell 20 and the workpiece 11 is adjustable. The adjustment is made by means of a guide roller 22 which is provided on both sides of the cell 20 . When the guide rollers 22 are moved up or down relative to the anode cell 20 , the gap between the workpiece 11 and the cell 20 becomes either smaller or larger.

Fig. 2 zeigt eine bevorzugte Ausführung der Anodenzelle 20. Sie ist ein quaderförmiger Behälter mit einer Bodenfläche 23, die eine Anzahl von Öffnungen 24 mit einem Durchmesser von 6,4 mm (¹/₄ ″) besitzt. Diese dienen zum Durchtritt der Galva nisierlösung. Außerdem hat der Anodenbehälter vier Wandflächen 25. Ein Oberteil 26 ist mit Bolzen an einem Flansch 27 des Anoden behälters befestigt, der sich längs des Umfangs des Ano denbehälters erstreckt. Der Anodenbehälter ist mittels Bolzen an einem Rahmen 36 befestigt. Dieser Rahmen haltert den Anodenbehälter oberhalb des Werkstücks. Das Oberteil 26 besteht aus nichtlei tendem Material, wie z. B. Methacrylharz und trägt dazu bei, eine Kontaktschiene 28 an ihrem Platz zu haltern. Die Kontaktschiene 28 stellt ein geeignetes Mittel zum Anschluß der Anode an eine elektrische Gleichstrom quelle zur Aufrechterhaltung des Stromflusses für die Galvanisierreaktion dar. Fig. 2 shows a preferred embodiment of the anode cell 20. It is a parallelepiped-shaped container having a bottom surface 23 having a number of apertures 24 having a diameter of 6.4 mm ^_(1/4 ") has. These are used for the passage of the plating solution. In addition, the anode container has four wall surfaces 25 . An upper part 26 is fastened with bolts to a flange 27 of the anode container, which extends along the circumference of the anode container. The anode container is attached to a frame 36 by bolts. This frame holds the anode container above the workpiece. The upper part 26 is made of non-conductive material, such as. B. methacrylic resin and helps to hold a contact rail 28 in place. The contact rail 28 is a suitable means for connecting the anode to an electrical direct current source to maintain the current flow for the electroplating reaction.

Die Leitung 13 tritt von oben in den Ano denbehälter ein. Innerhalb des Anodenbehälters verzweigt sich die Leitung 13 in ein "T" oder andere geeigne te Armaturen 30, wodurch die Galvani sierungslösung auf beide Seiten des Anodenbehälters geleitet wird.The line 13 enters the container from the top of the Ano. Within the anode container, the line 13 branches into a "T" or other suitable fittings 30 , whereby the plating solution is passed to both sides of the anode container.

Man kann den durch die Pumpe 12 gelieferten Druck einstel len, um den Fluidstrom durch den Anodenbehälter zu ändern. Ein höherer Druck führt zu einem schnelleren Fließen der Galvanisierlösung durch die Öffnungen 24 und stellt sicher, daß der Spalt zwischen dem Werkstück 11 und der Anodenzelle 20 während des Galvanisiervorgangs gefüllt bleibt. Die Strömung, die erforderlich ist, um im Spalt ein volles Elektrolytvolumen aufrechtzuerhalten, hängt von der Querschnittsfläche des Überlaufs aus dem Spalt zum Sammelbehälter 14 ab. Diese Fläche ist: Anodenlänge mal Abstand zwischen Anode und Werkstück. Eine an beiden Enden der Anode angeordnete Prallplatte 42 kann den Überlauf an den Austritts- und Eintrittsenden herabsetzen (Fig. 2). Die Prallplatte 42 erstreckt sich entlang der Anodenbreite und tritt mit dem Werkstück 11 direkt in Kontakt, um die Lösung von bei den Werkstückseiten in den Sammelbehälter 14 zu treiben. Für den Fall, daß Lösung an der Prallplatte 42 vorbeisickert, verhindert ein Paar von Gummiquetschwalzen 43, 44 (Fig. 1), daß Lösung am Sammelbehälter 14 vorbeifließt.You can adjust the pressure provided by the pump 12 len to change the fluid flow through the anode container. A higher pressure leads to a faster flow of the plating solution through the openings 24 and ensures that the gap between the workpiece 11 and the anode cell 20 remains filled during the plating process. The flow required to maintain full electrolyte volume in the gap depends on the cross-sectional area of the overflow from the gap to the reservoir 14 . This area is: anode length times the distance between the anode and the workpiece. A baffle plate 42 located at both ends of the anode can reduce the overflow at the outlet and inlet ends ( FIG. 2). The baffle plate 42 extends along the anode width and comes into direct contact with the workpiece 11 to drive the solution from the workpiece sides into the collecting container 14 . In the event that solution seeps past baffle plate 42 , a pair of rubber squeeze rollers 43, 44 ( Fig. 1) prevent solution from flowing past collection container 14 .

Tests ergeben, daß die zur Aufrechterhaltung eines vollstän dig gefüllten Spalts erforderliche Fließrate ungefähr der Überlauffläche proportional ist. Wenn die Spaltbreite bei konstant gehaltener Anodenlänge halbiert wird, so kann man auch die Lösungsfließrate halbieren, die zur Füllung des Spaltes benötigt wird.Tests show that the maintenance of a complete required flow rate approximately the Overflow area is proportional. If the gap width at is kept halved, so you can also halve the solution flow rate required to fill the Gap is needed.

Fig. 2 veranschaulicht die Führungswalzen 22, die das Werk stück 11 relativ zur Anodenzelle 20 positionieren. Durch Lösen eines Paars von Verbindungsgliedern auf beiden Seiten der Walzen 22 kann ihre vertikale Position eingestellt werden. Diese Einstellung legt den Spalt zwischen dem Werkstück 11 und der Anodenzelle 20 fest. Durch Änderung des Anoden-/Werkstück-Abstandes kann der Benutzer empirisch sicherstellen, daß der Spalt vollständig mit Lösung befüllt ist und so einen maximalen Galvanisierungsstromfluß er reichen. Fig. 2 illustrates the guide rollers 22 which position the workpiece 11 relative to the anode cell 20 . By loosening a pair of links on both sides of the rollers 22 , their vertical position can be adjusted. This setting defines the gap between the workpiece 11 and the anode cell 20 . By changing the anode / workpiece distance, the user can empirically ensure that the gap is completely filled with solution and thus reach a maximum galvanization current flow.

Neben jeder Galvanisierungsanodenzelle 20 befinden sich zwei Abdeckplatten 31, die in die Galvanisierungs-Lösungs strömung hinein und aus ihr heraus bewegt werden. Diese Abdeckplatten 31 werden eingestellt, um den Stromfluß zu den Werkstückkanten zu beschränken und so zwei als "Kan tenaufbau" und "Baumwuchs" be kannte Phänomene zu vermeiden. In der bevorzugten Ausfüh rung bestehen diese Masken aus 1,9 mm dicken Platten aus rostfreiem Stahl, die mit einer 1,0 mm dicken Farbschicht überzogen sind, um elektrische Isolierung zu gewährleisten.In addition to each galvanizing anode cell 20 there are two cover plates 31 which are moved into and out of the galvanizing solution flow. These cover plates 31 are adjusted to restrict the flow of current to the workpiece edges and thus avoid two phenomena known as "edge structure" and "tree growth". In the preferred embodiment, these masks consist of 1.9 mm thick stainless steel plates which are coated with a 1.0 mm thick layer of paint to ensure electrical insulation.

Baumwuchs und Kantenaufbau können auftreten, wenn es der Galvanisierlösung gestattet ist, uneingeschränkt von der Anode zum Werkstück zu fließen. Baumwuchs wird in Fig. 3 schematisch veranschaulicht. Die sogenannten Bäume wachsen längs der Werkstückkante und verringern den galvanischen Überzug nahe der Werkstückkante. Kantenaufbau ist ein Phänomen, bei dem längs den Werkstückkanten makroskopische Knollen auf treten und zu einem nicht einheitlichen galvanischen Überzug führen.Tree growth and edge buildup can occur if the plating solution is allowed to flow freely from the anode to the workpiece. Tree growth is illustrated schematically in Fig. 3. The so-called trees grow along the edge of the workpiece and reduce the galvanic coating near the edge of the workpiece. Edge build-up is a phenomenon in which macroscopic tubers appear along the workpiece edges and lead to a non-uniform galvanic coating.

Durch ständiges Ausblenden eines Abschnitts des Stromflusses ist es möglich, diese Phänomene auszuschalten. Während der Galvanisierung werden die Abdeckplatten 31 so angeordnet, daß ihre Kanten fast mit der Kante des Werkstücks zusammenfallen (Fig. 4). Wenn die Abdeckplatten 31 sich in dieser Lage befinden, treten weder die Bäume noch die Knollen längs der Kante des Werkstücks auf. Übermäßige Ablagerung des galvanischen Über zugs auf oder in der Nähe der Werkstückkante wird verhindert, da der Stromweg über die Werkstückkante hinweg nicht kontinuier lich ist. By constantly hiding a section of the current flow, it is possible to eliminate these phenomena. During the electroplating, the cover plates 31 are arranged so that their edges almost coincide with the edge of the workpiece ( Fig. 4). When the cover plates 31 are in this position, neither the trees nor the bulbs appear along the edge of the workpiece. Excessive deposition of the galvanic coating on or near the workpiece edge is prevented since the current path across the workpiece edge is not continuous.

Fig. 2 zeigt die Anbringung der Abdeckplatten 31. Eine Abdeckplattenführung 33 ist am Rahmen 36 befestigt und daher bezüglich der Anodenzelle 20 fest gelegt. Die Abdeckplatten 31 gleiten längs eines Bereiches 40 der Führung 33 parallel zur Anodengalvanisierungsfläche. Die Führung 33 ist in vertikaler Richtung so positioniert, daß die Abdeckplatten 31 im eingefahrenen Zustand die Fläche des Stromflusses innerhalb des Spalts zwischen der Anode und dem Werkstück verkleinert. Die Positio nierung der Abdeckplatten variiert in Abhängigkeit von der Brei te des zu galvanisierenden Materials. Wenn eine Neueinstellung auf grund des Wachsens von Bäumen oder Knollen erforderlich wird, positioniert der Benutzer die Abdeckplatten 31 neu, indem er sie entlang der Führung 33 bewegt. Auf diese Weise behält der Benutzer die Kontrolle über die Abdeckungsbreite und kann diese in Abhängigkeit von den wäh rend des Galvanisierverfahrens erzielten Ergebnissen variie ren. Fig. 2 shows the attachment of the cover plates 31st A cover plate guide 33 is attached to the frame 36 and therefore fixed with respect to the anode cell 20 . The cover plates 31 slide along an area 40 of the guide 33 parallel to the anode plating surface. The guide 33 is positioned in the vertical direction so that the cover plates 31 in the retracted state reduce the area of the current flow within the gap between the anode and the workpiece. The positioning of the cover plates varies depending on the width of the material to be electroplated. If readjustment is required due to the growth of trees or tubers, the user repositions the cover plates 31 by moving them along the guide 33 . In this way, the user remains in control of the coverage width and can vary it depending on the results obtained during the electroplating process.

Im Aufbau können auf vorteilhafte Weise Abänderungen durchge führt werden. Insbesondere können die Galvanisierzellen in einer vertikalen Anordnung positioniert sein und die Galvanisierlösung auf ein vertikal angeordnetes Werkstück gepumpt werden. Die Lösung tritt mit dem Werkstück und der Anode nur für einen Augenblick in Kontakt und fließt dann aufgrund von Gravita tionskräften vom Werkstück weg. Man kann die Anode auch un terhalb des Werkstückes anordnen, und die Lösung kann in einen Spalt zwischen dem Werkstück und der Anode getrieben werden und kann von beiden Seiten der Anode abfließen.Under construction, changes can be made in an advantageous manner leads. In particular, the electroplating cells in one be positioned vertically and the plating solution be pumped onto a vertically arranged workpiece. The Solution occurs with the workpiece and the anode for only one Moment in contact and then flows due to Gravita forces away from the workpiece. You can also use the anode arrange below the workpiece, and the solution can be in driven a gap between the workpiece and the anode and can flow from both sides of the anode.

Bei Betrieb bewegen die Antriebswalzen 19 das Werkstück 11 an den Anodenzellen 20 vorbei, wenn die Galvanisierlösung aus dem Behälter 17 zu den Zellen 20 und auf das Werkstück 11 gepumpt wird. Die Anzahl der zum Erzielen der richtigen Dicke des galvani schen Überzugs erforderlichen Anodenzellen hängt von der Ge schwindigkeit des Werkstücks, der Galvanisierstromdichte und der geforderten Beschichtungsdicke ab. Die Potentialdifferenz zwischen Anode und Werkstück verursacht die Galvanisierreaktion. Eine ein heitliche Stromdichte wird aufrechterhalten, indem sicher gestellt wird, daß der Spalt gefüllt bleibt. Der Lösungs fluß wird für verschiedene Spaltbreiten überwacht und ein gestellt, um die Kontinuität des Stroms sicherzustellen.In operation, the drive rollers 19 move the workpiece 11 past the anode cells 20 when the plating solution is pumped out of the container 17 to the cells 20 and onto the workpiece 11 . The number of anode cells required to obtain the correct thickness of the electroplated coating depends on the speed of the workpiece, the electroplating current density and the required coating thickness. The potential difference between the anode and the workpiece causes the electroplating reaction. A uniform current density is maintained by ensuring that the gap remains filled. The solution flow is monitored for different gap widths and adjusted to ensure the continuity of the current.

Fig. 5 zeigt eine Galvanisierstation 50 mit zwei Anoden. Diese Station umfaßt einen Unterbau 52 für die Montage von zwei Anoden zellen und eine Anzahl von Walzen. Die Walzen halten die re lative Position des streifenförmigen Werkstücks und der Anodenzellen aufrecht und zusätzlich elektrische Potentialdifferenzen zwischen den beiden. Fig. 5 shows a Galvanisierstation 50 having two anodes. This station includes a base 52 for the assembly of two anode cells and a number of rollers. The rollers maintain the relative position of the strip-shaped workpiece and the anode cells and, in addition, electrical potential differences between the two.

Wie im Fall der in Fig. 2 gezeigten Galvanisierstrecke umfaßt jede in Fig. 5 dargestellte Zelle einen Anodenbehälter mit einem Flansch 27, der sich um den Anodenbehälter herum er streckt. Die Anodenbehälter haben eine Anzahl von Löchern im Boden (in Fig. 5 nicht gezeigt), die es der Galvanisier lösung beim Durchlaufen der Station gestatten, zum Werkstück zu fließen. Die Anoden behälter ruhen nach Fig. 5 auf einem trgenden Gestell 56, das mit einem einstellbaren Abschnitt 58 des Unterbaus 52 verbunden ist. Das Gestell 56 legt eine rechtwinklige Ober fläche 59 mit geeigneter Innenabmessung zur Aufnahme des Anodenflansches 27 fest. Da der Unterbau 52 und das tragende Gestell 56 bezüglich ihrer Umgebung fest angeordnet sind, sind die Anoden gleichermaßen stationär. As in the case of the electroplating line shown in FIG. 2, each cell shown in FIG. 5 comprises an anode container with a flange 27 which extends around the anode container. The anode containers have a number of holes in the bottom (not shown in Fig. 5) that allow the plating solution to flow to the workpiece as it passes through the station. The anodes container rest of FIG. 5 is connected to a trgenden frame 56, with an adjustable portion 58 of the pad 52. The frame 56 defines a rectangular upper surface 59 with a suitable inner dimension for receiving the anode flange 27 . Since the substructure 52 and the supporting frame 56 are fixedly arranged with respect to their surroundings, the anodes are equally stationary.

Am Unterbau 52 sind ein Paar Einstellwalzen 60 und zwei Paar Gummiquetsch walzen 62, 63 befestigt. Die Einstellwalzen 60 dienen dazu, das Werkstück in einem festen Abstand von der Anode zu halten, wenn dieses die Galvanisierstation durchläuft. Die Gummiquetschwalzen 62, 63 verhindern, daß die Galvanisierlösung längs des Streifens an den Sammelbehälterkanten vorbeifließt. Die obere Gummiquetschwalze 62 ist an einem Träger 64 drehbar angebracht, welcher am Unterbau 52 befestigt ist. Der Träger 64 ist so ange bracht, daß er um eine zur Oberfläche des Werkstücks parallele Achse 65 schwenken kann. Diese Rotationsfreiheit gestattet es der Gummiquetschwalze, sich Streifen mit verändernder Dicke und auch Unregelmäßigkeiten im Streifen anzupassen.On the base 52 , a pair of adjusting rollers 60 and two pairs of rubber pinch rollers 62, 63 are attached. The adjustment rollers 60 serve to keep the workpiece at a fixed distance from the anode as it passes through the electroplating station. The rubber squeeze rollers 62, 63 prevent the plating solution from flowing past the edges of the sump along the strip. The upper squeeze roller 62 is rotatably attached to a carrier 64 which is attached to the base 52 . The carrier 64 is so introduced that it can pivot about an axis 65 parallel to the surface of the workpiece. This freedom of rotation allows the rubber squeeze roller to adapt to strips of varying thickness and also irregularities in the strip.

Eine Niederhaltewalze 66 und eine Kontaktwalze 67 sind gestrichelt gezeigt. Die Kontaktwalze 67 wird verwendet, um den Streifen beim Durchlaufen an der Station auf konstantem elektrischen Potential zu halten. Die Niederhaltewalze 66 dient bloß als Hilfe, um das Werkstück auf seinem Laufweg zu halten.A hold-down roller 66 and a contact roller 67 are shown in dashed lines. The contact roller 67 is used to keep the strip at a constant electrical potential as it passes through the station. The hold-down roller 66 serves only as an aid to keep the workpiece on its path.

Die in Fig. 5 gezeigte Leitung 13 verzweigt sich in drei Ein läufe 68, die sicherstellen, daß die Lösung den Anodenbehälter vollständig füllt. Wie bei der in Fig. 2 gezeigten Ausführung endet jede Einheit in einem T-Auslaufstück zum Einspritzen der Lösung in den Behälter. Sowie die Lösung durch die Löcher der Anoden behälter hindurchgetreten ist, fließt sie dem Werkstück zu und dann von den Werkstückkanten weg für den Rücklauf in den Sammelbehälter.The line 13 shown in Fig. 5 branches into three A runs 68 , which ensure that the solution completely fills the anode container. As with the embodiment shown in Fig. 2, each unit ends in a T-spout for injecting the solution into the container. As soon as the solution has passed through the holes of the anode container, it flows to the workpiece and then away from the workpiece edges for the return flow into the collecting container.

Claims

1. A method for one-sided electroplating of a metal band forming the cathode and moved by a galvanizing station, the surface of which is exposed to a galvanizing liquid film, the liquid escaping from this film via the metal band side edges collecting liquid in a collecting basin arranged below the metal band , processed in a treatment station and supplemented by openings in the electroplating surface of an anode container, which is spaced from the metal strip surface to be treated to form a gap, characterized in that an insulator arrangement ( 31, delimiting the electrical current flow to the edge region of the metal strip ( 11 ) 33, 40 ) is arranged in the Gal vanisier liquid flow in such a way that the liquid film causing the galvanization is at least partially shielded from the band areas immediately adjacent to the side edges of the metal band ( 11 ).

2. The method according to claim 1, characterized in that cover plates ( 31 ) are provided as a shielding insulator arrangement ( 31, 33, 40 ), that the surfaces of the cover plates ( 31 ) are electrically insulating, that the cover plates ( 31 ) at a distance to the electroplating surface ( 32 ) of the anode container ( 20 ) and the treating surface of the metal strip ( 11 ) are arranged, and that the cover plates ( 31 ) in their position relative to the metal strip side edges are ge adjustable ( 33, 40 ).