DE2855834A1

DE2855834A1 - SINGLE-STAGE DEVELOPER AND RUBBER MIXTURE, IN PARTICULAR FOR DIAZO PRINTING FORMS

Info

Publication number: DE2855834A1
Application number: DE19782855834
Authority: DE
Inventors: Eugene Golda; Paul Jargiello; William Rowe
Original assignee: Polychrome Corp
Current assignee: Polychrome Corp
Priority date: 1977-12-27
Filing date: 1978-12-22
Publication date: 1979-06-28
Also published as: GB2011107A; JPS5497103A

Description

u.Z.: M 864
Case: DG 12uZ: M 864
Case: DG 12

POLYCHROME CORPORATION
On the Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.POLYCHROME CORPORATION
On the Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.

"Einstufiges Entwickler- und Gummierungsgemisch/ insbesondere für Diazodruckformen""One-stage developer and gumming mixture / especially for diazo printing plates"

Die Offse.tdruck-Technik verwertet die Nichtmischbarkeit von oleophilen Druckfarben mit wäßrigen Benetzungsflüssigkeit en auf der im wesentlichen planaren Druck-Oberfläche. Es wird ein oleophiler Bildbereich, der dem zu druckenden Bild entspricht, auf· der Platte erzeugt, während der Rest der Plattenoberfläehe, der Nichtbildbereich, hydrophil ist oder hydrophil gemacht wird. Der Bildbereich nimmt deshalb die fetthaltige Druckfarbe an und überträgt sie während des Druckprozesses. Der Nichtbildbereich dagegen bleibt mit Wasser, oder einer wäßrigen Lösung benetzt und stößt deshalb die Druckfarbe, ab. Diese Bereiche werden dementsprechend nicht gedruckt. Zur Herstellung einer solchen Druckplatte xtfird eine ebene Substratoberfläche mit einer sehr dünnen Schicht eines lichtempfindlichen Stoffes beschichtet und durch eine transparente Folie mit undurchsichtigen Bereichen belichtet. Zur Belichtung einer sogenannten negativ arbeitenden Platte wird ein negatives Durchsichtsbild des zu reproduzierenden Bildes verwendet, während ein positives Durchsichtsbild zur Belichtung einer sogenannten positiv arbeitenden Platte benutzt wird. Das Licht fällt durch die klaren Bereiche des negativen Durchsichtsbildes, die dem Bild entsprechen, und verursacht eine chemische Umsetzung in der lichtempfindlichen Beschichtung auf derThe Offse.tdruck technology exploits the immiscibility of oleophilic printing inks with aqueous wetting liquids the substantially planar printing surface. It becomes an oleophilic image area corresponding to the image to be printed, generated on the plate, while the rest of the plate surface, the non-image area, is hydrophilic or is made hydrophilic. The image area therefore takes the greasy printing ink and transmits them during the printing process. The non-image area, on the other hand, remains with water or an aqueous one Solution wets and therefore repels the printing ink. These areas accordingly are not printed. For the production Such a printing plate has a flat substrate surface with a very thin layer of a photosensitive Coated and covered by a transparent film exposed with opaque areas. To expose a so-called negative working plate, a negative one is used Transparency of the image to be reproduced is used, while a positive transparency is used to expose a so-called positive working plate is used. The light falls through the clear areas of the negative see-through image, which correspond to the image and cause a chemical reaction in the photosensitive coating on the

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darunter liegenden Platte, wodurch die Beschichtung in diesen Bildbereichen gehärtet wird. Dagegen dringt das Licht nicht durch die trüben Bereiche des Durchsichtsbildes, so daß die lichtempfindliche Beschichtung der Platte unter diesen Bereichen nicht verändert wird. Die Platte wird anschließend durch Entfernung der Beschichtung aus den nicht belichteten Bereichen entwickelt. Diese Bereiche sind entweder bereits hydronhil oder werden danach hydrophil gemacht. Die positiv arbeitende Platte unterscheidet sich von der negativ arbeitenden dadurch, daß bei ihr das Licht durch die klaren Bereiche des positiven Durchsichtsbildes fällt und einen gewissen Abbau der lichtempfindlichen Beschichtung auf der darunter liegenden Platte verursacht. Dies hat einen Löslichkeitsunterschied zwischen den Bild- und den Niehtbildber eichen zur Folge.underlying plate, which hardens the coating in these image areas. On the other hand, the light penetrates not through the cloudy areas of the transparency, so that the photosensitive coating of the plate is below these areas is not changed. The plate is then unexposed by removing the coating from the Areas developed. These areas are either already hydronilized or are made hydrophilic afterwards. The positive working plate differs from the negative working plate in that it allows light to pass through the clear areas of the positive see-through image falls and some degradation of the photosensitive coating on the underlying Plate caused. This has a solubility difference between the image and sewn image areas.

Es werden die belichteten Bereiche der positiv arbeitenden Plätte entfernt. Bisher wurden negativ arbeitende, diazosensibilisierte Offsetdruckplatten im allgemeinen mit Lösungsmitteln entwickelt. Spezielle Beispiele für verwendete Lösungsmittel sind Isopropanol, n-Propanol, Äthylenglykolmonomethyläther, Butanol und Benzylalkohol. Einige der bekannten Entwickler bestehen vollständig aus organischen Lösungsmitteln, während andere zusätzlich auch Wasser enthalten. Sowohl in den rein organischen als auch in den wäßrigen Entwicklern wurden aromatische Sulfonsäuren oder ihre Natriumsalze verwendet. Diese bekannten Entwickler weisen jedoch verschiedene Nachteile bei der Entwicklung bestimmter negativ arbeitender, diazosensibilisierter Offsetdruckplatten auf. Beispiels weise neigt ein Gemisch von 20% n-Propanol und 80% Wasser bei der Verwendung zur Entwicklung bestimmter Offsetdruckplatten zur Überentwicklung der Platten infolge des geringen Löslichkeitsunterschiedes zwischen den Bild- und den Nichtbildbereichen.The exposed areas of the positive working plate are removed. So far, negative-working, diazo-sensitized Offset printing plates generally with solvents developed. Specific examples of solvents used are isopropanol, n-propanol, ethylene glycol monomethyl ether, Butanol and benzyl alcohol. Some of the well-known developers consist entirely of organic solvents, while others also contain water. Both in the purely organic and in the aqueous developers aromatic sulfonic acids or their sodium salts were used. However, these known developers have different Disadvantages in the development of certain negative-working, diazo-sensitized offset printing plates. Example a mixture of 20% n-propanol and 80% water tends to be wise when used to develop certain offset printing plates to overdevelop the plates due to the low Difference in solubility between the image and non-image areas.

In den Entwicklern wurden auch Sulfonsäuren verwendet, wobei aber ebenfalls verschiedene Nachteile auftreten. Solche Entwicklerlösungen sind korrodierend und neigen bei derSulphonic acids have also been used in the developers, but there are also various disadvantages. Such Developer solutions are corrosive and prone to

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Γ - 6 -Γ - 6 -

Verwendung in Entwicklermaschinen dazu, deren Lager, Rohrleitungen und andere metallische Teile anzugreifen. Möglicherweise ist die korrodierende Natur solcher Entwicklerlösungen und ihre Wirkung auf die Bildbereiche Anlaß dafür, daß Platten, die mit sulfonsäurehaltigen Entwicklern entwickelt werden, eine geringere Druckleistung aufweisen. Ferner neigen Sulfonsäuren, wie die 2-Hydroxy-4—met hu xybenzophe no n-5- sulfonsäur e, dazu, die in zahlreichen Entwicklergemischen vorzugsweise verwendeten grenzflächenaktiven BenetzungsmittelUse in developing machines, their bearings, pipelines and attack other metallic parts. Possibly is the corrosive nature of such developer solutions and their effect on the image areas give rise to plates which are developed with developers containing sulfonic acid, have a lower printing performance. In addition, sulfonic acids, such as 2-hydroxy-4-methu xybenzophe no n-5 sulfonic acid, tend to be e, in addition, the surface-active wetting agents preferably used in numerous developer mixes

•jO zu zersetzen und auszufällen. Diese Benetzungsmittel verursachen bei der Verwendung in Entwicklungsmaschinen ein unerwünschtes Schäumen. Schließlich absorbieren die erwähnten Sulfonsäuren ultraviolette Strahlung. Durch diese Absorption verfärben sich die Gemische. Infolgedessen müssen solche Entwicklergemische in Flaschen aufbewahrt werden, die aus einem Material bestehen, das chemische Veränderungen hervorrufende Strahlung absorbiert.• to decompose and precipitate jO. These wetting agents cause undesirable foaming when used in developing machines. Finally, the sulfonic acids mentioned absorb ultraviolet radiation. This absorption causes the mixtures to change color. As a result, such developer mixes be kept in bottles made of a material capable of causing chemical changes Absorbs radiation.

Bei Entwicklergemischen, die Natriumsalze von Sulfonsäuren und Lösungsmittel, wie Glykole, anstelle von grenzflächenaktiven Benetzungsmitteln enthalten, wurde festgestellt, daß sie "bei der Verwendung zur maschinellen Entwicklung von Druckplatten einen schmutzigen Hintergrund erzeugen. Zur Säuberung des Hintergrundes mußte die Konzentration des Natriumsalzes der Sulfonsäure erhöht werden, was jedoch eine um etwa zwei Stu— fen verminderte Grauskala ergab, d.h., die Punkte im Halbton auf der Druckplatte waren kleiner als in dem zur Belichtung verwendeten Durchsichtsbild. Es wurde festgestellt, daß Halbton-Punkte auf der belichteten Platte am meisten durch Lösungsmittel, und danach durch Sulfonsäuren und deren Natriumsalze in dieser abnehmenden Reihenfolge angegriffen und geschärft werden.For developer mixes, use the sodium salts of sulfonic acids and solvents, such as glycols, instead of surfactants Containing wetting agents, it was found that they "at create a dirty background when used for machine development of printing plates. To clean up the In the background, the concentration of the sodium salt of sulphonic acid had to be increased, which, however, took about two hours. the diminished gray scale, i.e. the dots in the halftone on the printing plate were smaller than in the one for exposure transparency used. It was found that halftone dots on the exposed plate mostly by solvents, and then by sulfonic acids and their sodium salts attacked and sharpened in this decreasing order.

Die bekannten Entwicklergemische werden im allgemeinen durch Spülen mit V/asser und anschließendes Trocknen mit einem Abzugtrockner oder durch Polieren mit einem Tuch, Schwamm oder einem anderen Abwischgerät von der PlatteThe known developer mixtures are generally rinsed with water and then dried with a fume cupboard dryer or by buffing the plate with a cloth, sponge, or other wiping device

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^Γ -7- 285583Α ^π ^Γ -7- 285583Α ^π

entfernt. Danach "benötigen die Platten eine Gummibeschichtung, im allgemeinen aus Gummiarabikum, um die Metalloberfläche (im allgemeinen aus Aluminium) in den Nichtbildberei-⁴ chen der Platte vor Oxidation zu schützen. Die Neigung des Metalls zur Oxidation wächst mit der Dauer der Zeit, die zwischen der Entwicklung und der Montage der Platte auf der Presse liegt. Da viele Aluminiumoxidarten oleophil sind, wächst mit zunehmender Oxidation die Neigung der Nichtbildbereiche zur Annahme der Druckfarbe. Dies führt zu einer Tönung des Hintergrundes oder zur Verschmutzung mit Druckfarbe. Die Druckplatte kann dann nur mit großer Schwierigkeit gereinigt werden.removed. Thereafter, the plates "require a rubber coating, generally made of gum arabic to the metal surface (generally aluminum) in the Nichtbildberei- ⁴ surfaces to protect against oxidation of the plate. The tendency of the metal to oxidation increases with the duration of the time between Since many types of aluminum oxide are oleophilic, the tendency of the non-image areas to accept the printing ink increases with increasing oxidation. This leads to a tinting of the background or to contamination with printing ink great difficulty to be cleaned.

Entwicklergemische mit einem Gehalt an einer amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung sind in der US-PS 3 891 438 und Ent-Developer mixtures containing an amphoteric surfactant Connection are in US-PS 3,891,438 and Ent-

wicklergemische mit einem Gehalt an einem Organolithiumsalz und'an einer amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung sind in der US-PS 3 891 439 beschrieben.Winding mixes containing an organolithium salt und'an an amphoteric surface-active compound are in U.S. Patent 3,891,439.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein einstufiges Entwickler- und Gummierungsgemisch zur Entwicklung von belichteten, diazosensibilisierten Beschichtungen auf einem Substrat zu schaffen, das die vorstehend erläuterten Nachteile der bekannten Entwicklergemische vermeidet und insbesondere nicht korrodierend wirkt, und Platten mit einem klaren Hintergrund und unverminderter Grauskala ergibt.The invention is based on the object of providing a one-stage developer and gumming mixture for developing exposed, To provide diazo-sensitized coatings on a substrate that has the disadvantages discussed above avoids the known developer mixtures and in particular does not have a corrosive effect, and plates with a clear Background and undiminished gray scale results.

Diese Aufgabe wird- durch den überraschenden Befund gelöst, daß.bei Verwendung eines wäßrigen Entwicklergemisches aus (I) (A) einem im wesentlichen wasserlöslichen Organolithiumsalz oder (B) einer amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung, oder (C) einem im wesentlichen wasserlöslichen Organolithiumsalz und einer amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung und (II) einem filmbildenden Gummi die Nichtbildbereiche der lichtempfindlichen Beschichtung von belichteten Offsetdruckplatten, bei denen die lichtempfindliche Komponente eine, insbesondere im wesentlichen wasserunlösliche, Diazoniumverbindung oder ein Photopolymerisat ist, leicht entfernt werden und dieThis task is solved by the surprising finding, that when using an aqueous developer mixture from (I) (A) an essentially water-soluble organolithium salt or (B) an amphoteric surfactant compound, or (C) a substantially water-soluble organolithium salt and an amphoteric surfactant compound and (II) a film-forming rubber, the non-image areas of the photosensitive coating of exposed offset printing plates, in which the photosensitive component is a diazonium compound, in particular a substantially water-insoluble one or a photopolymer, can be easily removed and the

Platte dabei gleichzeitig gummiert wird. LPlate is gummed at the same time. L.

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Die Erfindung betrifft somit den in den Patentansprüchen gekennzeichnten Gegenstand.The invention thus relates to the subject matter characterized in the patent claims.

Das erfindungsgemäße Entwickler- und Gummierungsgemisch (nachstehend kurz als das erfindungsgemäße Entwicklergemisch bezeichnet) eignet sich insbesondere zur Entfernung der Nichtbildbereiche von Off set druckplatt en, deren Besch.ich.tung als lichtempfindlichen Stoff eine im wesentlichen wasserunlösliche Diazoniumverbindung enthält. Das erf_vindungsgemäße Gemisch kann gegebenenfalls Netzmittel (Benetzungsmittel) oder weitere Zusätze enthalten, die die Entwicklungsdauer der Offsetdruckplatte verkürzen oder andere Eigenschaften des Gemisches modifizieren.The developer and gumming mixture according to the invention (hereinafter referred to as the developer mixture according to the invention for short) is particularly suitable for removing the non-image areas from offset printing plates whose coating contains an essentially water-insoluble diazonium compound as a light-sensitive substance. The erf _v indungsgemäße mixture may optionally contain wetting agents (wetting agent) or other additives modifying shorten the development time of the offset plate, or other properties of the mixture.

Eine wichtige Art bekannter negativ arbeitender Diazoverbindungen, die für Offsetdruckplatten Verwendung findet, besteht aus den Umsetzungsprodukten von lichtempfindlichen Diazoverbindungen mit einer Kupplungskomponente. Diese Umsetzungsprodukte behalten ihre Lichtempfindlichkeit. Sie sind jedoch im allgemeinen weniger wasserlöslich als die beiden zur Umsetzung verwendeten Komponenten. Im allgemeinen sind sie sogar vollständig unlöslich in Wasser. Solche Umsetzungsprodukte können deshalb aus Lösungsmitteln und sogar aus verdünnten wäßrigen Lösungen günstigerweise zur Herstellung von Platten auf ein Substrat aufgebracht werden. Ihre Entwicklung mit wäßrigen Entwicklern bereitet jedoch Schwierigkeiten, da sie in Wasser schwer löslich sind oder keinen genügenden Löslichkeitsunterschied in Lösungsmitteln zwischen den belichteten und den nichtbelichteten Bereichen aufweisen.An important type of known negative-working diazo compound, which is used for offset printing plates consists of the reaction products of photosensitive Diazo compounds with a coupling component. These conversion products retain their sensitivity to light. they are however, generally less water-soluble than the two components used for the reaction. Generally are they are even completely insoluble in water. Such reaction products can therefore be made from solvents and even are conveniently applied from dilute aqueous solutions for the production of plates on a substrate. Her However, development with aqueous developers is difficult because they are sparingly soluble in water or none at all sufficient difference in solubility in solvents between the exposed and the unexposed areas.

Die lichtempfindliche Komponente des Umsetzungsprodukts, die die Diazogruppe enthält, umfaßt die in der Offsetdrucktechnik bekannten und allgemein benutzten negativ arbeitenden Diazoverbindungen. Es sind dies allgemein ausgedrückt aromatische Diazoverbindungen, genauer Diazoarylamine, die am aromatischen Ring oder am Stickstoff der Aminogruppe substituiert sein können. Die am häufigsten verwendete Diazo-The light-sensitive component of the reaction product, which contains the diazo group includes those known and generally used in offset printing technology, negative-working Diazo compounds. In general terms, these are aromatic diazo compounds, more precisely diazoarylamines, which am aromatic ring or on the nitrogen of the amino group can be substituted. The most commonly used diazo

L _JL _J

SG9826/099ASG9826 / 099A

r _ ₉ „ ιr _ ₉ "ι

verbindung ist das p-Diazodiphenylamin und dessen Derivate, insbesondere seine TJinsetzungsprodukte mit organischen Kondensier ungsmitt ein, die reaktive Carbony!gruppen enthalten, wie Aldehyde und Acetale, insbesondere mit Verbindungen wie Formaldehyd und Paraformaldehyd. Die Herstellung einiger der besonders wichtigen Kondensationsprodukte ist in den US-PSen 2 922 715 und 2 946 685 beschrieben.compound is p-diazodiphenylamine and its derivatives, especially its components of organic condensation substances containing reactive carbony groups, such as aldehydes and acetals, especially with compounds such as formaldehyde and paraformaldehyde. Making some of the particularly important condensation products are described in U.S. Patents 2,922,715 and 2,946,685.

Zur Herstellung der lichtempfindlichen, im wesentlichen wasserunlöslichen Diazonium-Beschichtungskomponente werden die vorstehend erwähnten aromatischen Diazoverbindungen vorzugsweise mit aromatischen oder aliphatischen Verbindungen umgesetzt, die mindestens eine phenolische Hydroxylgruppe enthalten, wie Hydroxybenzophenone, Diphenolcarbonsäuren, beispielsweise 4,4-bis-(4'-Hydroxyphenyl)-pentansäure, Resorcin und 'Diresorcin. Diese Verbindungen können noch weitere Substituenten tragen. Spezielle Beispiele für Hydroxybenzophenone sind das 2,4-Dihydroxy-, 2-Hydroxy-4-methoxy-, 2,2'-Dihydroxy-4,4-'-dimethoxy- und das 2,2',-4,4'-Tetrahydroxybenzophenon. Bevorzugte Sulfonsäuren sind die aromatischen Sulfonsäuren, insbesondere diejenigen von Benzol, Toluol, Xylol, Naphthalin, Phenol, Naphthol und Benzophenon, und deren lösliche Salze, wie die Ammonium- und die Alkalimetallsalze. Die Sulfonsäuregruppen enthaltenden Verbindungen können im allgemeinen durch niedere Alkylreste, Nitrogruppen oder Halogenatome sowie durch weitere SuIfonsäuregruppen substituiert sein. Spezielle Beispiele für verwendbare Sulfonsäuren sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphthalin-2-sulfonsäure, 1-Naphthol-2-(oder 4-)-sulfonsäure, 2,4-Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-Hydroxy-4-methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-(p'-Anilinophenylazo)~benzol-natriumsulfonat, Alizarin-natriumsulfonat, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Ä'thansulfonsäure.For the production of the light-sensitive, essentially water-insoluble Diazonium coating component, the above-mentioned aromatic diazo compounds are preferred reacted with aromatic or aliphatic compounds containing at least one phenolic hydroxyl group, such as hydroxybenzophenones, diphenol carboxylic acids, for example 4,4-bis (4'-hydroxyphenyl) pentanoic acid, resorcinol and 'Diresorcin. These compounds can also have further substituents wear. Specific examples of hydroxybenzophenones are 2,4-dihydroxy-, 2-hydroxy-4-methoxy-, 2,2'-dihydroxy-4,4 -'-dimethoxy- and the 2,2 ', - 4,4'-tetrahydroxybenzophenone. Preferred Sulphonic acids are the aromatic sulphonic acids, in particular those of benzene, toluene, xylene, naphthalene, phenol, naphthol and benzophenone, and their soluble salts, like the ammonium and alkali metal salts. The sulfonic acid groups containing compounds can generally by lower alkyl radicals, nitro groups or halogen atoms as well as by further sulfonic acid groups may be substituted. Specific examples for sulfonic acids that can be used are benzenesulfonic acid, Toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, Sodium benzene sulfonate, naphthalene-2-sulfonic acid, 1-naphthol-2- (or 4 -) - sulfonic acid, 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonic acid, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, m- (p'-anilinophenylazo) ~ benzene sodium sulfonate, alizarin sodium sulfonate, o-Toluidine-m-sulfonic acid and ethanesulfonic acid.

Die Umsetzung der Diazoverbindung und der Kupplungskomponente erfolgt vorzugsweise in wäßriger Lösung bei einem pH-Wert unter etwa 7,5 in etwa äquimolaren Mengen. Die Umsetzungsprodukte werden gewöhnlich als Niederschlag isoliert und kön- The reaction of the diazo compound and the coupling component is preferably carried out in aqueous solution at a pH value below about 7.5 in approximately equimolar amounts. The reaction products are usually isolated as a precipitate and can

■*■ *

Γ ΠΓ Π

nen nach bekannten Verfahren auf für den Offsetdruck geeignete Substrate aufgebracht werden. Dabei werden, wie beispielsweise in der US-PS 3 300 3Ο9 beschrieben, vorsensibilisierte Druckplatten erhalten.NEN can be applied to substrates suitable for offset printing by known methods. In doing so, such as described in US Pat. No. 3,300,3,99, presensitized Preserved printing plates.

Beispiele für positiv arbeitende diazosensibilisierte lichtempfindliche Beschichtungen auf Substraten sind in der US-PS 3 544 317 beschrieben.Examples of positive working diazo sensitized photosensitive Coatings on substrates are described in U.S. Patent 3,544,317.

Als Organolithiumsalze für die Verwendung im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch eignen sich die Lithiumsalze von organischen Verbindungen, die ein saures Wasserstoffatom aufweisen und 1 bis etwa 36 Kohlenstoffatome enthalten. Beispiele für organische Verbindungen mit sauren Wasserstoffatomen sind Verbindungen mit Carbonsäure-, SuIfonsäure-, Schwefelsäureoder phenolischen Hydroxylgruppen. Spezielle Beispiele für verwendbare Lithiumsalze sind Verbindungen der folgenden allgemeinen FormelThe lithium salts of organic compounds are suitable as organolithium salts for use in the developer mixture according to the invention Compounds that have an acidic hydrogen atom and contain 1 to about 36 carbon atoms. Examples for organic compounds with acidic hydrogen atoms are compounds with carboxylic acid, sulfonic acid, sulfuric acid or phenolic hydroxyl groups. Specific examples of usable lithium salts are compounds of the following general ones formula

IlIl

I. M(CH₂)_a (CH=CH)_b (CHSO₃Li)₀ C-O-LiI. M (CH ₂₎ _a (CH = CH) _b (C H SO ₃ Li) ₀ CO-Li

II. M(CH₀) (CH=CHl (CH SO₀Li) CH-.-SO.-LiII. M (CH ₀ ) (CH = CHl (CH SO ₀ Li) CH -.- SO.-Li

2a b 3·^ c2a b 3 · ^ c

III. Dimere der Verbindungen der allgemeinen Formel I oder II oder I und II können durch Diels-Alder-Reaktion hergestellt werden. Solche Lithiumsalze haben beispielsweise folgende idealisierte Strukturformel:III. Dimers of the compounds of the general formula I or II or I and II can be prepared by the Diels-Alder reaction. Such lithium salts have, for example the following idealized structural formula:

II
,COLiII
, COLi

,) ,--CH-CH-CH=CH ( CH₂ ) J,), - CH-CH-CH = CH (CH ₂ ) J

~ I I~ I I

M(CH₀V-CH CH-(CHp)₁₇COLiM (CH ₀ V-CH CH- (CHp) ₁₇ COLi

² 5 I I ^{2 7}ίί
CH=CH 0 ² 5 II ^{2 7} ίί
CH = CH 0

Die dimerisierten Fettsäure—Vorlaufer sind technische Verbindungen. (Emery Industries Inc.)The dimerized fatty acid precursors are technical compounds. (Emery Industries Inc.)

In den allgemeinen Formeln I, II und III bedeutet M ein Wasser stoff atom oder eine der Gruppen -OH, -COOH, -COOLi, -SO₃Li oder -CH ; a ist eine ganze Zahl im Wert von 0 bis 17,In the general formulas I, II and III, M denotes a hydrogen atom or one of the groups -OH, -COOH, -COOLi, -SO ₃ Li or -CH; a is an integer from 0 to 17,

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b eine ganze Zahl im Wert von O bis 3» c eine ganze Zahl im Wert von O "bis 3> die Summe von b und c ist eine ganze Zahl im Wert von O bis 3 und die Summe von a, b und c beträgt höchstens 17, wenn M ein Wasserstoffatom oder eine Hydroxylgruppe darstellt bzw. 16, wenn M eine der anderen vorstehend aufgeführten Gruppen bedeutet.b an integer from 0 to 3 »c an integer im Value from O "to 3> the sum of b and c is an integer in the value of 0 to 3 and the sum of a, b and c at most 17 when M is a hydrogen atom or a hydroxyl group represents or 16, when M is one of the other groups listed above.

Weitere Beispiele für verwendbare Lithiumsalze sind Verbindungen der folgenden allgemeinen Formeln:Further examples of lithium salts that can be used are compounds of the following general formulas:

IVIV

YIIIYIII

titi

SO,Li ι Ο SO, Li ι Ο

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In den allgemeinen Formeln IV "bis X bedeuten X, Y und Z unabhängig voneinander Wasserstoffatome oder die Gruppen -OLi, -SO^Li, -COOLi, -OH, -NO₂, -Cl, -Br, -COOH oder -(CH₂^-CH, wobei d eine ganze Zahl mit einem Wert von 0 bis 17 darstellt. In the general formulas IV "to X, X, Y and Z independently of one another denote hydrogen atoms or the groups -OLi, -SO ^ Li, -COOLi, -OH, -NO ₂ , -Cl, -Br, -COOH or - (CH ₂ ^ -CH, where d is an integer from 0 to 17.

Zusätzlich zu den in den vorstehenden Formeln enthaltenen funktionellen Gruppen können die Lithiumsalze in den organischen Resten weitere funktioneile Gruppen enthalten, die ihre Eigenschaften im Entwieklergemisch nicht ungünstig beeinflussen, beispielsweise Hydroxyl-, Methoxy-, Ithoxy- oder Nitrogruppen oder Halogenatome.In addition to the functional groups contained in the above formulas, the lithium salts can be present in the organic Residues contain other functional groups that do not adversely affect their properties in the developer mixture, for example hydroxyl, methoxy, ithoxy or nitro groups or halogen atoms.

Spezielle Beispiele für wasserlösliche Lithiumsalze, die sich zur Verwendung in dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch eignen, sind Lithiumformiat, Lithiumchloracetat, Lithiumdichloracetat, Lithiumtrichloracetat, Lithiumbenzοat, Lithiumnaphthenate, Lithiumdodecanoat, Lithiumricinoleat, Lithiumlaurylsulfat, Lithiumacetylsalicylat, Lithium-Specific examples of water-soluble lithium salts which are suitable for use in the developer mixture according to the invention, are lithium formate, lithium chloroacetate, lithium dichloroacetate, Lithium trichloroacetate, lithium benzoate, lithium naphthenate, Lithium dodecanoate, lithium ricinoleate, lithium lauryl sulfate, Lithium acetyl salicylate, lithium

phenolat, Lithium-1-phenanthrolat, Lithium-ο-nitrophenolat, Dilithiumcatecholat, Lithium-2,4-,6-trinitrobenzoat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumpicrat, Lithiumtoluolsulfonat, Lithiumxyloisulfonat, Lithiumresorcinoleate, Lithiumxylenolate, Lithiumcaprylate, Mono- und Dilithiumsalze von Dicarbonsäuren, wie Citronensäure, Waleinsäure und Apfelsäure, Lithiumstearat, Lithiumoleat, Lithium-p-nitrotoluol-o-sulfonate, Lithiumtoluolsulfonat, Lithium-1-butansulfonat, Lithiumbenzolsulfonat, Lithiumdodecylbenzolsulfonat, Lithium-2,5-cLichlorbenzolsulfonat, Lithium-2,^zt—dinitro-1-naphthol-7-sulfonat sowie das Lithiumsalz von sulfoniertem Castoröl.phenolate, lithium 1-phenanthrolate, lithium ο-nitrophenolate, dilithium catecholate, lithium 2,4-, 6-trinitrobenzoate, lithium phenolsulphonate, lithium picrate, lithium toluenesulphonate, lithium xyloisulphonate, lithium resorcinoleates, lithium oxylenic acids, such as dilute-oxylenic acids, lithium caprylates, mono-xylenic acids, lithium caprylates, and citric acid , Tale and malic acid, lithium stearate, lithium oleate, lithium p-nitrotoluene-o-sulfonate, lithium toluene sulfonate, lithium 1-butanesulfonate, lithium benzene sulfonate, lithium dodecylbenzenesulfonate, lithium 2,5-cLichlorbenzenesulfonat, lithium-2, ^z 1- dinitro naphthol-7-sulfonate and the lithium salt of sulfonated castor oil.

Die organischen Reste der erfindungsgemäß verwendeten Lithiumsalze enthalten vorzugsweise 2 bis 36 und besonders bevorzugt etwa 7 bis 18 Kohlenstoffatome.■Besonders bevorzugte Lithiumsalze sind das Lithiumbenzοat, Lithiumphenolsulfonat, Lithiumlaurylsulfat und das Lithiumdodecanoat.The organic residues of the lithium salts used according to the invention contain preferably 2 to 36 and particularly preferred about 7 to 18 carbon atoms. ■ Particularly preferred lithium salts are lithium benzoate, lithium phenol sulfonate, Lithium lauryl sulfate and the lithium dodecanoate.

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^Γ - 1- - ^Γ - 1- -

Ein Bestandteil, der in dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch enthalten sein kann, ist eine amphotere grenzflächenaktive Verbindung. Diese Verbindungen enthalten sowohl eine anionische als auch eine kationische Gruppe. Sie verhalten sich in saurer Umgebung wie kationische und in alkalischen Lösungen wie anionische grenzflächenaktive Verbindungen.A component that is in the developer mixture according to the invention is an amphoteric surfactant compound. These compounds contain both a anionic as well as a cationic group. They behave in an acidic environment like cationic and in alkaline solutions such as anionic surfactants.

Eine charakteristische Eigenschaft von ainphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen ist die Tatsache, daß sie einen isoelektrischen Punkt aufweisen, an dem die Verbindung intern neutralisiert und ein Zwitterion entstanden ist. An diesem Punkt "besitzen amphotere Verbindungen häufig ein Minimum an Löslichkeit, Schaum- und Benetzungsfähigkeit sowie an Fähigkeit zur Verminderung der Oberflächenspannung. In neutraler oder leicht alkalischer Lösung besitzen sie die starken Schäum- und . Detergent-Eigenschaften von anionischen grenzflächenaktiven Verbindungen, wobei sie außerdem Affinität zu Fasern und Metallen zeigen, wie sie gewöhnlich kationische Mittel aufweisen.A characteristic property of ainphoteric surface-active compounds is the fact that they have an isoelectric point at which the compound is internally neutralized and a zwitterion has arisen. At this point "amphoteric compounds often have a minimum of solubility, Foaming and wetting ability as well as the ability to reduce the surface tension. In neutral or slightly alkaline solution they have the strong foaming and. Detergent properties of anionic surfactants Compounds, while also showing affinity for fibers and metals as usually exhibited by cationic agents.

Der kationische Charakter der amphoteren Verbindungen beruht auf einem Stickstoffatom, das als primäres, sekundäres, tertiäres oder quaternäres Stickstoffatom vorliegen kann. Der anionisch^ Teil kann von einer Carboxyl-, Sulfat-, SuIfonat- oder Phosphatgruppe abgeleitet sein. Die amphoteren Verbindungen sollen einen Alkylrest mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen aufweisen, um ihre Wirksamkeit als grenzflächenaktive Mittel zu entfalten.,The cationic character of the amphoteric compounds is based on a nitrogen atom, which acts as a primary, secondary, tertiary or quaternary nitrogen atom may be present. The anionic part can consist of a carboxyl, sulfate, sulfonate or phosphate group. The amphoteric compounds should be an alkyl radical with about 6 to 20 carbon atoms to develop their effectiveness as surfactants.,

Beispiele für amphotere grenzflächenaktive Verbindungen, die sich zur Verwendung im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch eignen, sind Verbindungen auf der Grundlage von substituierten Imidazolinen. Diese Verbindungen können durch Umsetzung von langkettigen Imidazolinen mit organischen Verbindungen, die Carboxyl-, Phosphor- oder SuIfonsäuregruppen enthalten, hergestellt werden. Besonders bevorzugt ist das Natriumsalz von ß-/2-(2'-Heptylimidazol-1')-äthoxyypropionsäure. Weitere geeignete grenzflächenaktive VerbindungenExamples of amphoteric surface-active compounds that are suitable for use in the developer mixture according to the invention, are compounds based on substituted Imidazolines. These compounds can be produced by reacting long-chain imidazolines with organic Compounds containing carboxyl, phosphorus or sulfonic acid groups included. The sodium salt of β- / 2- (2'-heptylimidazole-1 ') ethoxyypropionic acid is particularly preferred. Further suitable surface-active compounds

auf Imidazolinbasis sind Verbindungen der nachstehenden allgemeinen Formelnbased on imidazoline are compounds of the general formulas below

R - C = N - CHR - C = N - CH

R -R -

.N-CH₀
I ² .N-CH ₀
I ²

^N - CH₂ ^ N - CH ₂

N - CH₀ I //\\N - CH ₀ I // \\

I ² j C₂H₄N = HC - Ζ⁷ \\ - SO₃HI ² j C ₂ H ₄ N = HC - Ζ ⁷ \\ - SO ₃ H

und ihre Natriumsalze, wobei R die nachstehend angegebene Bedeutung hat, und 2-Alkyl-1-(äthyl-ß-oxipropionsäure)-imidazoline mit etwa 6-20 Kohlenstoffatomen im Alkylteil und ihre Natrium salze, wie das Natriumsalz von 2-Capryl-1-(äthyl-ß-oxipropionsäure) -imidazolin oder das innere Salz von 2-Kokosnuß-1-(äthylß-oxipropionsäure) -imidazolin. Die Bezeichnung "Kokosnuß" bedeutet ein Fettsäuregemisch, das bei der Hydrolyse von Kokosfett erhalten wird und aus Fettsäuren mit 6-18, vorzugsweise 10, 12 oder 14 Kohlenstoffatomen besteht. Diese Gruppe von amphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen ist für die Verwendung im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch ebenfalls bevorzugt 20and their sodium salts, where R has the meaning given below has, and 2-alkyl-1- (ethyl-ß-oxipropionic acid) imidazolines with about 6-20 carbon atoms in the alkyl part and their sodium salts, such as the sodium salt of 2-caprylic 1- (ethyl-ß-oxypropionic acid) imidazoline or the inner salt of 2-coconut-1- (ethylß-oxypropionic acid) -imidazoline. The term "coconut" means a mixture of fatty acids that is produced in the hydrolysis of coconut oil and from fatty acids with 6-18, preferably Consists of 10, 12 or 14 carbon atoms. This group of amphoteric surface-active compounds are also preferred for use in the developer mixture according to the invention 20th

Eine weitere geeignete Klasse von amphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen sind Derivate von ß-Alanin der folgenden allgemeinen FormelnAnother suitable class of amphoteric surfactants Compounds are derivatives of β-alanine of the following general formulas

RMHCH₂CH₂COOxRMHCH ₂ CH ₂ COOx

^undand

denthe

In/vorstehenden allgemeinen Formeln bedeutet R einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit etwa 6 Ms 20 Kohlen-In / above general formulas, R denotes an aliphatic Hydrocarbon residue with about 6 Ms 20 carbon

stoffatomen, wie die Octyl-, Nonyl_T, Decyl-, ündecyl-, Dodecyl-, Tridecyl-, Tetradecyl-, Pentadecyl-, Hexadecyl-, Heptadecyl oder Octadecylgruppe und X ein Wasserstoffatom, oder ein Kation, wie ein Alkalimetallen, beispielsweise ein Natrium-, Kalium-, Lithium- oder Ammoniumion oder das Kation eines organischen Amins, wie Diäthanolamin, Triäthylamin, Triäthanolamin, Morpholin oder Piperidin. Diese Verbindungen werden durch Umsetzung eines primären Amins mitSubstance atoms, such as the octyl, nonyl _T , decyl, undecyl, dodecyl, tridecyl, tetradecyl, pentadecyl, hexadecyl, heptadecyl or octadecyl group and X is a hydrogen atom, or a cation, such as an alkali metal, for example a sodium -, potassium, lithium or ammonium ion or the cation of an organic amine, such as diethanolamine, triethylamine, triethanolamine, morpholine or piperidine. These compounds are made by reacting with a primary amine

U -JU -J

303326/0994303326/0994

etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen mit Chlorpropion- oder Brompropionsäure in Gegenwart einer Base, wie Natriumhydroxid oder Kaliumcarbonat hergestellt.about 6 to 20 carbon atoms with chloropropionic or bromopropionic acid in the presence of a base such as sodium hydroxide or potassium carbonate.

Die Verbindungen können auch nach dem in der US-PS 2 468 beschriebenen Verfahren hergestellt werden. Dabei wird ein primäres Amin mit 6 bis 20 Kohlenstoffatomen bei einer Temperatur von 25 bis 3O⁰C mit Methylacrylat zu einem ß-Alkylaminopropionat kondensiert. Der erhaltene Methylester wird danach nach einem bekannten Verseifungsverfahren zur Säure hydrolysiert oder in das Alkali- oder organische Aminsalz verwandelt. Das sekundäre Amin wird durch Vervrendung von molaren Anteilen erhalten, während das tertiäre Amin bei Verwendung von mindestens zwei molaren Äquivalenten des Säurederivates erhalten wird.The compounds can also be prepared by the method described in U.S. Patent 2,468. In this case, a primary amine having 6 to 20 carbon atoms at a temperature of 25 to 3O ⁰ C with methyl acrylate to a ß-alkylaminopropionate is condensed. The methyl ester obtained is then hydrolyzed to the acid by a known saponification process or converted into the alkali or organic amine salt. The secondary amine is obtained using molar proportions while the tertiary amine is obtained using at least two molar equivalents of the acid derivative.

Bei der Auswahl des Amins ist es im allgemeinen unter wirtschaftlichen Gesichtspunkten günstiger, solche mit einer geraden Zahl von Kohlenstoffatomen zu wählen, da diese im Handel erhältlich sind. Die aus Kokosnuß, Sojabohnen oder Talg. gewinnbaren Amingemische können mit gleichem Erfolg eingesetzt werden. Weitere verwendbare Verbindungen sind nachstehend aufgeführt:The choice of amine is generally less economical It is more advantageous to choose those with an even number of carbon atoms, since these are im Are commercially available. The ones made from coconut, soybean, or tallow. recoverable amine mixtures can be used with equal success can be used. Other compounds that can be used are listed below:

C₁ ^₂ KHGH₂CH₂GOOFaC ₁ ^ ₂ KHGH ₂ CH ₂ GOOFa

Natrium -N-dodecyl-ß-aminopropionatSodium N-dodecyl-ß-aminopropionate

N-Decyl-ß-aminopropionsäureN-decyl-ß-aminopropionic acid

C..,H_OQNHCH_oCHC00K
'^ ^d? ² C .., H _OQ NHCH _o CHC00K
'^ ^d ? ²

Kalium-N-tetradecyl-ß-aminopropionatPotassium N-tetradecyl-ß-aminopropionate

16 316 3

Natrium-N-hexadecyl-ß-aminopropionatSodium N-hexadecyl-ß-aminopropionate

C₁₈H₃₇NHGH₂CH₂COONaC ₁₈ H ₃₇ NHGH ₂ CH ₂ COONa

Natrium-N-octadecyl-ß-aminopropionatSodium N-octadecyl-ß-aminopropionate

909S26/099A909S26 / 099A

CH CH COOK
2 2CH CH COOK
2 2

Mononatriumsalz von N-Dodecyl-ß-aminodipropionatMonosodium salt of N-dodecyl-ß-aminodipropionate

I CH COONa
2 2I CH COONa
2 2

Dinatrium-N-octadecyl-ß-aminodipropionatDisodium N-octadecyl-ß-aminodipropionate

Eine weitere geeignete Klasse von amphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen sind Betain-Derivate mit einer langen Kohlenwasserstoffkette. Diese Verbindungen besitzen die nachstehende allgemeine FormelAnother suitable class of amphoteric surfactants Compounds are betaine derivatives with a long hydrocarbon chain. These compounds have the below general formula

θ Η ■'
R -N -^; CHp-COO θθ Η ■ '
R -N - ^; CHp-COO θ

v\v \

OH, CH,
3 3OH, CH,
3 3

in der R. einen aliphatischen Kohlenwasserstoffrest mit etwa 6 bis 20 Kohlenstoffatomen darstellt. Diese Betainverbindungen werden durch Umsetzung eines tertiären höheren Alkylamins, wie Dodecyldimethylamin, Tetradecyldimethylamin oder Hexadecyldiäthylamin, mit Chloressigsäure hergestellt. Sie können auch durch Kondensation des tertiären Amins mit einem halogenierten Carbonsäureester und Verseifung des Esters nach dem in der US-PS 2 082 275 beschriebenen Verfahren erhalten werden.in the R. an aliphatic hydrocarbon radical with about Represents 6 to 20 carbon atoms. These betaine compounds are made by reacting a tertiary higher alkylamine, such as dodecyldimethylamine, tetradecyldimethylamine or hexadecyldiethylamine, made with chloroacetic acid. she can also be achieved by condensation of the tertiary amine with a halogenated carboxylic acid ester and saponification of the ester obtained by the process described in US Pat. No. 2,082,275 will.

Die vorstehend beschriebenen amphoteren grenzflächenaktiven Verbindungen können im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch entweder allein oder zusammen mit weiteren grenzflächenaktiven Verbindungen oder Netzmitteln, wie den Taurinen, Saponin oder Polyoxyäthylen-Derivaten langkettiger Fettsäuren und Alkohole, verwendet werden.
35The amphoteric surface-active compounds described above can be used in the developer mixture according to the invention either alone or together with other surface-active compounds or wetting agents, such as the taurines, saponins or polyoxyethylene derivatives of long-chain fatty acids and alcohols.
35

Die Menge der Organolithiumverbindungen im erfindungsgemäßenThe amount of organolithium compounds in the invention

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Entwicklergemisch ist nur von praktischen Überlegungen bestimmt. Beispielsweise bilden die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder dem wäßrigen Entwicklersystem die praktische Obergrenze der Konzentration, während hauptsächlich durch die Entwicklungsdauer die Untergrenze festgelegt wird. So beträgt z.B. die Entwicklungsdauer bei Konzentrationen von etwa 1% mindestens etwa 5 Minuten, was vom wirtschaftlichen Standpunkt außerordentlich lang ist im Vergleich zu der erstrebten Zeit von etwa 1/2 bis 2 Minuten. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungsdauer kann mit dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch bei Konzentrationen von etwa 10 bis 40 Gewichtsprozent der Organolithiumverbindung in der Lösung erreicht werden. Der bevorzugte Konzentrationsbereich liegt bei etwa 10 bis 30 Gewichtsprozent. Damit werden befriedigende Entwickluhgsdauer, etwa in der Größenordnung von 1 Minute, erreicht und es ist außerdem genügend Wasser für die Auflösung und Entfernung der nichtbelichteten BeschichtungDeveloper mix is determined by practical considerations only. For example, the economy and the solubility of the compound in water or the aqueous developer system the practical upper limit of the concentration, while mainly by the development period the Lower limit is set. For example, the development time at concentrations of about 1% is at least about 5 minutes, which is extremely long from an economic point of view compared to the intended one Time of about 1/2 to 2 minutes. This desired range of development time can be achieved with the inventive Developer mix at concentrations of about 10 to 40 percent by weight the organolithium compound can be achieved in the solution. The preferred concentration range is at about 10 to 30 percent by weight. This will be satisfactory Development time, roughly in the order of 1 minute, and there is also enough water to dissolve and remove the unexposed coating

vorhanden, ohne daß starkes Spülen erforderlich ist. 20present without the need for vigorous rinsing. 20th

Die Menge der' amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung in dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch wird ebenfalls nur durch praktische Überlegungen bestimmt. Auch hier wird die Obergrenze der Konzentration durch die Wirtschaftlichkeit und die Löslichkeit der Verbindung in Wasser oder dem wäßrigen Entwicklersystem festgelegt, während die Untergrenze hauptsächlich durch die Entwicklungsdauer bestimmt wird. Beispielsweise beträgt bei Konzentrationen von etwa 1% die Entwicklungsdauer mindestens etwa 5 Minuten, was wiederum vom Standpunkt des stark beschäftigten Druckers außerordentlich lang ist im Vergleich zu der erwünschten Entwicklungsdauer von etwa 1/2 bis 2 Minuten. Dieser erwünschte Bereich der Entwicklungsdauer kann mit dem erfindungsgemäßen Entwiekl-ergemisch bei-Konzentrationen von -etwa 1 bis 35 Gewichtsprozent der amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung in der Lösung erreicht werden. Bevorzugt ist ein Konzen-The amount of 'amphoteric surfactant compound in the developer mixture according to the invention is also only determined by practical considerations. Here, too, the upper limit of the concentration is determined by the economy and the solubility of the compound in water or the aqueous developer system is set, while the lower limit is mainly determined by the development time. For example, at concentrations of about 1%, the Development time at least about 5 minutes, which again is extraordinary from the standpoint of the busy printer long compared to the desired development time of about 1/2 to 2 minutes. This desired area the development time can be reduced with the developer mixture according to the invention at concentrations of about 1 to 35 percent by weight the amphoteric surface-active compound can be achieved in the solution. A concentrate is preferred

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trationsbereich von etwa 5 bis 25 Gewichtsprozent. Damit wird eine Entwicklungsdauer in der Größenordnung von etwa 1 Minute erhalten und es ist auch genügend Wasser für die Lösung und Entfernung der nichtbelichteten Beschichtung vorhanden, ohne daß starkes Spülen erforderlich wird.tration range of about 5 to 25 percent by weight. This results in a development time in the order of magnitude of approximately 1 minute and there is also enough water to dissolve and remove the unexposed coating, without the need for heavy rinsing.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann als Lösung in V/asser in einer solchen Konzentration hergestellt werden, die sich direkt zur Entwicklung von Offsetdruckplatten eignet. Es kann jedoch auch zunächst als Konzentrat hergestellt werden, d.h. als wäßrige Lösung, in der die Wirkstoffe in höherer Konzentration vorhanden sind¹, als es für den Gebrauch als Entwickler notwendig ist. Solche Konzentrate sind vorteilhaft für den Versand und die Lagerhaltung. Vor dem Gebrauch soll das Konzentrat mit Wasser auf die bevorzugte Arbeitskonzentration verdünnt werden. Das Konzentrat kann vorzugsweise bis etwa dreimal stärker konzentriert sein als die gebrauchsfertige Lösung.The developer mixture according to the invention can be prepared as a solution in water / water in such a concentration that is directly suitable for the development of offset printing plates. However, it may also be initially prepared as a concentrate, ie an aqueous solution in which the active ingredients are present in a higher concentration than is required for use as a developer. ¹ Such concentrates are beneficial for shipping and storage. Before use, the concentrate should be diluted with water to the preferred working concentration. The concentrate can preferably be up to about three times more concentrated than the ready-to-use solution.

Die Gummiverbindungen, die einen Teil des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches darstellen, sind allgemein solche, die sich in der Technik des Offsetdrucks zur Verhinderung der Oxidation der Aluminiumoberflächen von Offsetdruckplatten eignen. Die verwendeten Gummigemische enthalten im allgemeinen Wasser, einen stabilen Gummi, eine Säure, die größere Reaktionsfähigkeit mit Oxidationsmitteln als Aluminium aufweist, eine grenzflächenaktive Verbindung . und ein hochsiedendes Lösungsmittel. Sie können ferner bestimmte weitere modifizierende Stoffe enthalten. Spezielle Beispiele für verwenden bare stab.ile Gummiarten sind Gummiarabikum, Dextrin, Hydroxypro-• pylstärke, Arabinogalactane, Alginate, Polyacrylsäuren, Hydroxy-,äthylcellulose, Polyvinylpyrolidon, Polyacrylamid, Methylcelluiose, Hydroxypropylcellulose, Hydroxymethylcellulose und Sa.lze von Carboxyalkylcellulo-se. Die stabile Gummiart ist in dem Gummigemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 5 t>is 24%, vorzugsweise von etwa 7 bis 15%, enthalten.The rubber compounds forming part of the invention Represent developer mixes are generally those that are used in the art of offset printing to prevent the Oxidation of the aluminum surfaces of offset printing plates. The rubber compounds used generally contain Water, a stable rubber, an acid that is more reactive with oxidizing agents than aluminum, a surfactant compound. and a high boiling solvent. You can also use certain additional modifiers Contain substances. Specific examples of bare stab.ile gums used are gum arabic, dextrin, hydroxypro- • pyl starch, arabinogalactans, alginates, polyacrylic acids, hydroxy, ethyl cellulose, Polyvinyl pyrolidone, polyacrylamide, methyl cellulose, Hydroxypropyl cellulose, hydroxymethyl cellulose and salts of carboxyalkyl celluloses. The stable type of rubber is generally contained in the rubber mixture in an amount of about 5 to> 24%, preferably from about 7 to 15%.

Der verwendete Gummi soll säurestabil sein.The rubber used should be acid-stable.

Spezielle Beispiele für Säuren, die sich zur Verwendung in dem Gummigemisch, eignen, sind Citronensäure, Oxalsäure, Phosphorsäure und einbasiges Natriumphosphat. Die Säure ist in dem Gummigemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 0,25 "bis 5,0%, vorzugsweise von etwa 0,25 bis 4,0% enthalten. Spezielle Beispiele für verwendbare grenzflächenaktive Verbindungen sind Natriumlaurylsulfat und das Natriumsalz von 5,-/2.-(2'-HeptylJmidazol-1·')-äthoxy_/-propionsäure. Die grenzflächenaktive Verbindung ist in dem Gummigemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 0,1 bis 3*0/", vorzugsweise von etwa 0,25 bis 1,0% enthalten.Specific examples of acids suitable for use in the gum compound are citric acid, oxalic acid, phosphoric acid and monobasic sodium phosphate. The acid is generally contained in the gum mixture in an amount of from about 0.25 "to 5.0%, preferably from about 0.25 to 4.0%. Specific examples of surface-active compounds which can be used are sodium lauryl sulfate and the sodium salt of 5, - / 2.- (2'-HeptylImidazol-1 · ') - ethoxy _ / - propionic acid. The surface-active compound is generally in the gum mixture in an amount of about 0.1 to 3 * 0 / ", preferably about 0, 25 to 1.0% included.

Spezielle Beispiele für verwendbare hochsiedende Lösungsmittel sind Äthylenglykol, n-Butylacetat, Glycerin und Polyäthylenoxide. Das hochsiedende Lösungsmittel ist in dem Gummigemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 0,25 "bis 3,0%, vorzugsweise von etwa 0,25 bis 1,0% enthalten.Specific examples of high-boiling solvents that can be used are ethylene glycol, n-butyl acetate, glycerol and polyethylene oxides. The high boiling solvent is generally in the gum mix in an amount of from about 0.25 "to 3.0%, preferably from about 0.25 to 1.0%.

Als weiteren Bestandteil kann das Gummigemisch gegebenenfalls Antischaum-Emulsionen, wie Dimethylsiliconöl-Emulsionen enthalten. Die Antischaum-Emulsion kann in dem Gummigemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 0,01 bis 3>0» vorzugsweise von etwa 0,01 bis 2,0% enthalten sein.As a further component, the rubber mixture can optionally contain antifoam emulsions, such as dimethyl silicone oil emulsions contain. The anti-foam emulsion can be in the rubber compound generally in an amount of about 0.01 to 3> 0 »preferably from about 0.01 to 2.0%.

Das Gummigemisch ist in dem erfindungsgemäßen einstufigen Entwicklergemisch im allgemeinen in einer Menge von etwa 2 bis 20%, vorzugsweise von etwa 5 bis 20% und besonders bevorzugt von etwa 5 bis 10% enthalten.The rubber compound is in the one-step according to the invention Developer mixture generally in an amount of about 2 to 20%, preferably about 5 to 20% and particularly preferred from about 5 to 10%.

Gegebenenfalls können dem erfindungsgemäßen Entwicklergemisch zur Erleichterung der Entwicklung und Behandlung der Druckplatte noch weitere Bestandteile zugesetzt werden. Als solche Bestandteile kommen Lösungsmittel, Netzmittel oder grenzflächenaktive Verbindungen sowie Reinigungsmittel fürOptionally, the developer mixture according to the invention other ingredients can be added to facilitate development and treatment of the printing plate. Such ingredients include solvents, wetting agents or surface-active compounds, as well as cleaning agents for

L JL J

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das Metall in Frage. Obwohl ein derartiger Zusatz nicht notwendig ist, hilft beispielsweise ein Gehalt an einem mit Wasser mischbaren Lösungsmittel in einer Konzentration bis etwa 50 Gewichtsprozent bei der Entfernung der Nichtbildbereiche der Diazoniumverbindung und besonders bei der Lösung von organischen Harzen, die entweder der Diazoniumverbindung in der Beschichtung der Druckplatte beigemischt sind oder sich als Beschichtung auf der Diazoniumverbindung befinden. Das Lösungsmittel kann auch das Eindringen in die Beschichtung erleichtern und kann zu diesem Zweck einen Teil oder das gesamte übliche grenzflächenaktive Netzmittel ersetzen, wenn das Entwicklergemisch in einer Enbwicklungsmaschine verwendet werden soll, wo übliche Netzmittel die Neigung zu unerwünschtem Schäumen aufweisen. Lösungsmittel, wie Cyclohexanon, Benzylalkohol, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, n-Propanol, Isopropanol, Dioxan oder Äthylenglykolmonomethyläther, können in einer Menge bis etwa 50%> vorzugsweise bis etwa 35% und besonders bevorzugt von etwa 1 bis 10% verwendet werden.the metal in question. Although such an addition is not necessary, for example a content of one helps Water-miscible solvent in a concentration up to about 50 percent by weight in removing the non-image areas of the diazonium compound and especially in the case of the solution of organic resins, either of the diazonium compound are admixed in the coating of the printing plate or are located as a coating on the diazonium compound. The solvent can also facilitate penetration into the coating and can be a part for this purpose or replace all conventional surfactant surfactants when the developer mix is in a developing machine should be used where common wetting agents have a tendency to undesirable foaming. Solvent, such as cyclohexanone, benzyl alcohol, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, n-propanol, isopropanol, dioxane or ethylene glycol monomethyl ether, can be used in an amount up to about 50%> preferably up to about 35% and particularly preferably from about 1 up to 10% can be used.

Die Netzmittel, die im erfindungsgemäßen Entwicklergemisch verwendet werden können, sind entweder nichtionisch, anionisch oder kationisch. Spezielle Beispiele für verwendbareThe wetting agents in the developer mixture according to the invention are either nonionic, anionic or cationic. Specific examples of usable

Netzmittel sind nachstehend aufgeführt: 25Wetting agents are listed below: 25th

Anionische Netzmittel: Hierzu gehören Ammonium- und Alkalimetallsalze von langkettigen Alkoholsulfaten, wie Natriumlaurylsulfat, Natriumoctylsulfat, Ammoniumlaurylsulfat, Natrium-N-methyloleyltaurat, Dioctylnatriumsulfosuccinat und Natriumdodecylbenzolsulfat. Ferner eine Anzahl von Handelsprodukten, die Natriumdi-(2-äthylhexyl)-phosphat, Natriumalkylsulfate, flüssige Alkylalkylolaminsulfate, Natriumlauryläthersulfat in Form von Nadeln, oder flüssigeAnionic wetting agents: These include ammonium and alkali metal salts of long-chain alcohol sulfates, such as sodium lauryl sulfate, Sodium octyl sulfate, ammonium lauryl sulfate, Sodium N-methyloleyl taurate, dioctyl sodium sulfosuccinate and sodium dodecylbenzenesulfate. Also a number of Commercial products, the sodium di (2-ethylhexyl) phosphate, sodium alkyl sulfates, liquid alkyl alkylolamine sulfates, Sodium lauryl ether sulfate in the form of needles, or liquid

Natriumalkylsulfate enthalten.
35Contain sodium alkyl sulfates.
35

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Γ ΠΓ Π

Nichtionische Netzmittel: Hierzu gehören Handelsprodukte, die beispielsweise einen flüssigen Polyäthylenglykoläther eines linearen Alkohols mit einem HLB-Wert von 8,0, einen flüssigen Nonylphenylpolyäthylenglykoläther mit einem HLB-Wert von 13,6, einen pastenartigen Nonylphenylpolyäthylenglykoläther mit einem HLB-Wert von 15,0 oder ein Diäthanolaminlaurylsäure-Kondensat enthalten. Der HLB-Wert bedeutet das Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht. Ferner gehören hierher Verbindungen wie Glycerinmonostearat und PoIyoxyathyIengIykolmonostearat. Nonionic wetting agents: These include commercial products, For example, a liquid polyethylene glycol ether of a linear alcohol with an HLB value of 8.0, a liquid nonylphenyl polyethylene glycol ether with an HLB value of 13.6, a paste-like nonylphenyl polyethylene glycol ether with an HLB value of 15.0 or a diethanolamine lauric acid condensate contain. The HLB value means the hydrophile-lipophile balance. Also belong here Compounds such as glycerine monostearate and polyoxyethylene glycol monostearate.

Kationische Netzmittel: Hierzu gehören beispielsweise.Handel sprοdukte, die quarternäre Ammonium-Derivate oder einenCationic wetting agents: These include, for example, trade brittle products, the quaternary ammonium derivatives or a

äthanolierten Alkylguanidinamin-Komplex enthalten. 15Ethanolated alkylguanidinamine complex contain. 15th

Besonders bevorzugt sind die anionischen Netzmittel, gefolgt von den nichtionischen und dann den kationischen. Unter den anionischen Netzmitteln sind die Alkylalkylolaminsulfate und Natriumlauryläthersulfate besonders bevorzugt. Von den nichtionischen Netzmitteln sind die vorstehend zuerst aufgezählten drei bevorzugt. Vorzugsweise besitzen die Netzmittel, insbesondere die nichtionischen, ein Hydrophil-Lipophil-Gleichgewicht von mindestens etwa 8.The anionic wetting agents are particularly preferred, followed by the nonionic and then the cationic. Under the anionic wetting agents are the alkylalkylolamine sulfates and sodium lauryl ether sulfates are particularly preferred. Of the nonionic wetting agents, the three first listed above are preferred. The wetting agents preferably have especially the non-ionic, a hydrophile-lipophile balance of at least about 8.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann außerdem aromatische oder aliphatische Verbindungen mit einer Sulfonsäuregruppe enthalten. Die Verwendung solcher Verbindungen in Entwicklergemischen ist beispielsweise in der US-PS 3 669 beschrieben. Diese Verbindungen sind im allgemeinen die gleichen wie die vorstehend als geeignet für die Herstellung, zusammen mit der Diazοverbindung, des lichtempfindlichen Umsetzungsproduktes, das sich in der sensibilisierten Beschichtung auf der Platte befindet, beschriebenen. Spezielle Beispiele für diese Verbindungen sind Benzolsulfonsäure, Toluolsulfonsäure, Naphthalinsulfonsäure, 2,5-Dimethylbenzolsulfonsäure, Natriumbenzolsulfonat, Naphthalin-2-sulfon-The developer mixture according to the invention can also contain aromatic or aliphatic compounds with a sulfonic acid group contain. The use of such compounds in developer mixes is described, for example, in US Pat. No. 3,669 described. These compounds are generally the same as those above as being suitable for making, together with the diazo compound, the light-sensitive Reaction product that is in the sensitized coating located on the plate. Specific examples of these compounds are benzenesulfonic acid, Toluenesulfonic acid, naphthalenesulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, Sodium benzene sulfonate, naphthalene-2-sulfone

26/026/0

säure, 1-Naphthol-2- (oder -4~) -sulfonsäure, 2,4—Dinitro-1-naphthol-7-sulfonsäure, 2-HyCLrOXy-^i--methoxybenzophenon-5-sulfonsäure, m-(p'-Anilinophenylazo)-natriumbenzolsulfonat, Natriumalizarinsulfonat, o-Toluidin-m-sulfonsäure und Äthansulfonsäure. Die sulfonsäuregruppenhaltigen Verbindungen !herden in Wasser zu Ent wickler lösungen gelöst.acid, 1-naphthol-2- (or -4 ~) -sulphonic acid, 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulphonic acid, 2-HyCLrOXy- ^ i - methoxybenzophenone-5-sulfonic acid, m- (p'-anilinophenylazo) -sodium benzene sulfonate, Sodium alizarin sulfonate, o-toluidine-m-sulfonic acid and Ethanesulfonic acid. The compounds containing sulfonic acid groups ! Stoves dissolved in water to form developing solutions.

Bestimmte Formulierungen des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches weisen einzigartige synergistische Effekte auf.Certain formulations of the developer mixture according to the invention have unique synergistic effects.

Beispielsweise moderiert die amphotere grenzflächenaktive Verbindung die Wirkung der Lösungsmittel. Ein Entwicklergemisch mit einem Gehalt von 5% einer amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung und 23% Lösungsmittel entfernt wirksam die Nichtbildbereiche der diazosensibilisierten Beschicht-For example, the amphoteric moderates surfactant Compound the action of solvents. A developer mix containing 5% of an amphoteric surfactant Compound and 23% solvent effectively removes the non-image areas of the diazo-sensitized coating

^⁵ tung, ohne dabei die Bildbereiche zu schädigen. Wird dagegen der Anteil der amphoteren grenzflächenaktiven Verbindung in der Formulierung halbiert, dann greift das Entwicklergemisch auch die Bildbereiche der Beschichtung an. Die amphotere grenzflächenaktive Verbindung beschleunigt die Wirkung der " anderen Komponenten des Entwicklergemisches, beispielsweise der vorstehend erwähnten Sulfonsäuren oder ihrer Natriumoder Lithiumsalze.^ ⁵ without damaging the image areas. If, on the other hand, the proportion of the amphoteric surface-active compound in the formulation is halved, then the developer mixture also attacks the image areas of the coating. The amphoteric surface-active compound accelerates the action of the "other components of the developer mixture, for example the above-mentioned sulfonic acids or their sodium or lithium salts.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann ferner bis etwa 5 Gewichtsprozent Phosphorsäure oder Oxalsäure als Reinigungsmittel für das Aluminiumsubstrat nach der Entfernung der desensibilisierten Beschichtung enthalten. Für diesen Zweck können im allgemeinen auch andere bekannte Mittel verwendet vier den.
30The developer mixture according to the invention can also contain up to about 5 percent by weight of phosphoric acid or oxalic acid as a cleaning agent for the aluminum substrate after the desensitized coating has been removed. Other known means can generally be used for this purpose.
30th

Der pH-Wert des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches kann im allgemeinen von etwa neutral, d.h. von etwa 5, bis etwa 10, in einigen Fällen mindestens bis etwa 11. oder 12 reichen. Aus diesem weiten pH-Bereich ergibt sich eine große Breite für die Entwicklergemische, ohne daß ein ungünstiger Einfluß auf die Aktivität oder Wirksamkeit des EntwicklersThe pH of the developer mixture according to the invention can generally from about neutral, i.e. from about 5, to about 10, in some cases at least up to about 11th or 12th. This wide pH range results in a large one Width for the developer mixes without adversely affecting the activity or effectiveness of the developer

auftritt. Bekanntlich besitzen Diazoverbindungen bei steigendem alkalischen pH-Wert die Neigung zur irreversiblen
Kupplung, wobei sie verhältnismäßig unlöslich werden. Wenn demnach ein alkalischer Entwickler unterschiedslos sowohloccurs. It is known that diazo compounds tend to become irreversible with increasing alkaline pH
Coupling, becoming relatively insoluble. If, accordingly, an alkaline developer indiscriminately both

die Bild- als auch die Nichtbildbereiche einer diazosensibilisierten Offsetdruckplatte härten würde, dann könnte er nicht als wirksamer Entwickler bezeichnet werden. Überraschenderweise ist aber das erfindungsgemäße Entwicklergemisch, dessen pH-Wert in den alkalischen Bereich bis etwathe image and non-image areas of a diazo-sensitized If the offset printing plate were to harden, then he could cannot be called an effective developer. Surprisingly, however, the developer mixture according to the invention is its pH in the alkaline range up to about

11 oder 12 reichen kann, gut für die Entwicklung von Offsetdruckplatten geeignet. Im Hinblick auf die Neigung von Diazoverbindungen, im alkalischen Bereich zu kuppeln, enthalten viele der bekannten Entwickler, die beispielsweise
Natriumsalze von aromatischen Sulfonsäuren verwenden, überschüssige Phosphor-, Oxal-, Citronen-, Sulfon- oder eine
andere Säure, um einen niederen pH-Wert des Entwicklers zu erhalten.11 or 12, well suited for the development of offset printing plates. In view of the tendency of diazo compounds to couple in the alkaline range, many of the known developers contain, for example
Use sodium salts of aromatic sulfonic acids, excess phosphorus, oxalic, citric, sulfonic or a
other acid to keep the developer at a lower pH.

Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch kann zur Entwicklung von belichteten lichtempfindlichen Beschichtungen, insbesondere von diazosensibilisierten Beschichtungen, sowohl im
manuellen als auch im Maschinenbetrieb verwendet werden.
Der Fachmann wird natürlich im Rahmen der Lehre der Erfindung dasjenige Entwicklergemisch herstellen und verwenden, das zur Entwicklung einer bestimmten belichteten Beschichtung geeignet ist. Dabei kann es sich um Beschichtungen auf Offsetdruckplatten, entweder vorsensibilisierte oder selbstaufgebrachte, oder auf jeder anderen möglichen Oberfläche, wie Papier oder einer sauberen Kunststoffolie, wie beim Widerstandsfähigmachen von Farbauszugs-Durchsichtsbilder handeln. Das erfindungsgemäße Entwicklergemisch ist universell anwendbar, da es sich zur Entwicklung von positiv arbeitenden Systemen ebenso eignet wie insbesondere zur Entwicklung von negativ arbeitenden Beschichtungen» Zur Entwicklung von positiv arbeitenden Systemen weist das Entwicklergemisch vorzugsweise einen alkalischen pH-Wert auf, besonders bevorzugtThe developer mixture according to the invention can be used for developing exposed photosensitive coatings, in particular diazo-sensitized coatings, both in the
can be used manually as well as in machine operation.
The person skilled in the art will of course, within the scope of the teaching of the invention, prepare and use that developer mixture which is suitable for developing a specific exposed coating. These can be coatings on offset printing plates, either presensitized or self-applied, or on any other possible surface, such as paper or a clean plastic film, such as in resisting color separation transparencies. The developer mixture according to the invention is universally applicable because it is just as suitable for developing positive-working systems as it is in particular for developing negative-working coatings. For developing positive-working systems, the developer mixture preferably has an alkaline pH, particularly preferred

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einen Wert von mindestens etwa 12. Es können jedoch auch For mulierungen mit niedrigerem pH-v/ert verwendet werden. Die allgemeine Anwendbarkeit des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches hat den Vorteil, daß der Lithograph ein Entwickler gemisch sowohl zur Entwicklung von negativ als auch von popositiv arbeitenden Systemen benutzen kann. Die Verwendung eines einzigen Entwicklers für beide Systeme ist besonders günstig und zeitsparend, wenn eine Entwicklungsmaschine verwendet wird. Die Verwendung eines einzigen Entwicklers bedeutet, daß es nicht notwendig ist, beispielsweise den Entwickler für ein negatives System aus der Maschine zu entnehmen, diese zu spülen und danach mit einem Entwickler für ein positives System zu füllen, wenn verschiedene Arten von lichtempfindlichen Beschichtungen entwickelt werden sollen. Die allgemeine Anwendbarkeit bezieht sich auch auf verschiedene Arten von Platten, insbesondere auf solche mit Beschichtungen, die organische Harze enthalten, wenn der erfindungsgemäße Entwickler zusätzlich Lösungsmittel enthält.a value of at least about 12. However, formulations with a lower pH value can also be used. the general applicability of the developer mixture according to the invention has the advantage that the lithographer uses a developer mix for both negative and positive development working systems. Using a single developer for both systems is particularly beneficial and time saving when using a developing machine. Using a single developer means that it is not necessary, for example, to remove the developer for a negative system from the machine, to rinse these and afterwards to fill with a developer for a positive system if different types of photosensitive coatings are to be developed. The general applicability also applies to different types of panels, especially those with coatings, which contain organic resins when the developer according to the invention additionally contains solvents.

Eine bevorzugte Ausführungsform des erfindungsgemäßen Entwicklergemisches enthält beispielsweise die nachstehend abgeführten Bestandteile im angegebenen Prozentsatz : Wasser 10 bis 60%A preferred embodiment of the developer mixture according to the invention includes, for example, those listed below Ingredients in the specified percentage: water 10 to 60%

Lithiumbenz ο at 10 bis 4-0%Lithium benzene ο at 10 to 4-0%

Natriumsalz von ß-Z2-(2'-Heptylimi-Sodium salt of ß-Z2- (2'-heptylimi-

dazolyl-1' )-äthox;v./-propionsäure 1 bis 35%dazolyl-1 ') -ethox; v ./- propionic acid 1 to 35%

Natriumeitrat "1 bis 20%Sodium citrate "1 to 20%

Natriumlaurylsulfat 1 bis 20%Sodium Lauryl Sulphate 1 to 20%

n-Propanol 5 bis 4-0%n-propanol 5 to 4-0%

Benzylalkohol 1 bis 10%Benzyl alcohol 1 to 10%

Gummi 2 bis 20%Rubber 2 to 20%

Stärker bevorzugt ist ein Gemisch folgender Zusammensetzung :A mixture of the following composition is more preferred:

L _rL _r

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Wasser 15 bis 50%Water 15 to 50%

Lithiumbenz ο at 10 bis 30%Lithium benzene ο at 10 to 30%

Natriumsalz von ß-/2-(2'-Heptylimi-Sodium salt of ß- / 2- (2'-heptylimi-

dazolyl-1'-)-äthox2/-propionsäure 1 bis 35%dazolyl-1 '-) - ethox2 / propionic acid 1 to 35%

Natriumeitrat 1 bis 10%Sodium citrate 1 to 10%

Natriumlaurylsulfat 1 bis 10%Sodium Lauryl Sulphate 1 to 10%

n-Propanol 5 bis 40%n-propanol 5 to 40%

Benzylalkohol 1 bis 10%Benzyl alcohol 1 to 10%

Gummi 5 bis 20%Rubber 5 to 20%

Besonders bevorzugt ist ein Entwicklergemisch folgender Zusammensetzung:A developer mixture as follows is particularly preferred Composition:

Wasserwater

Lithiumbenzοat
15 Natriumsalz von ß-Z2-(2'-Heptylimidazolyl-1')-äthox2?-propionsäure NatriumeitratLithium benzoate
15 Sodium salt of ß-Z2- (2'-heptylimidazolyl-1 ') -ethox2? -Propionic acid sodium citrate

NatriumlaurylsulfatSodium lauryl sulfate

n-Propanol
20 Benzylalkoholn-propanol
20 benzyl alcohol

Gummirubber

Die Beispiele erläutern die Erfindung.The examples illustrate the invention.

25 B e i s ρ i e 1 1.25 B e i s ρ i e 1 1.

Eine Offsetdruckplatte wird in üblicher Weise belichtet. Danach wird die Platte mit einem einstufigen Entwicklergemisch entwickelt und gummiert, das nach folgendem Verfahren hergestellt wurde:An offset printing plate is exposed in the usual way. The plate is then developed and gummed with a one-stage developer mix, using the following procedure was produced:

1828 ml kaltes Leitungswasser werden unter starkem Rühren mit 151 S Dextrin versetzt und danach auf 77⁰C erwärmt, bis eine klare Lösung erhalten wird. Sodann wird die Lösung auf Raumtemperatur abgekühlt und von unlöslichen Bestandteilen abfiltriert. Sodann werden nacheinander folgende1828 ml of cold tap water are mixed with 151 S dextrin with vigorous stirring and then ^{heated to 77 °} C. until a clear solution is obtained. The solution is then cooled to room temperature and insoluble components are filtered off. Then the following

³⁵ Bestandteile zugegeben: ³⁵ ingredients added:

1515th bisuntil 30%30% 1515th bisuntil 27%27% VJlVJl bisuntil 25%25% 22 bisuntil 6%6% 22 bisuntil 6%6% 55 bisuntil 30%30% 11 bisuntil 5%5% VJlVJl bisuntil 10%10%

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Lithiumbenzoat, 24-prozentige Lösung 611 ml Grenzflächenaktives Mittel, enthaltendLithium benzoate, 24 percent solution 611 ml Containing surfactant

das Natriumsalz γ,οη ß-/2-(_2'-Heptylimid6i-the sodium salt γ, οη ß- / 2 - (_ 2'-heptylimid6i-

zolyl-1')-äthox2/-propionsäure 202 mlzolyl-1 ') - ethox2 / -propionic acid 202 ml

Natriumlaurylsulfat 80 gSodium Lauryl Sulphate 80 g

n-Propanol 812 mln-propanol 812 ml

Benzylalkohol 160 mlBenzyl alcohol 160 ml

Es wurde festgestellt, daß das Entwickler gemisch die Nichtbildbereiche befriedigend entfernt und daß nach 5 Tagen keine schädliche Oxidation der Metalloberfläche aufgetreten ist. Nach dieser Prüfungszeit können mit der Platte ohne weitere Behandlung brauchbare Kopien hergestellt werden.It was found that the developer mixed the non-image areas removed satisfactorily and that after 5 days none harmful oxidation of the metal surface has occurred. After this examination period you can use the plate without any further Treatment usable copies can be made.

Beispiel 2Example 2

Beispiel 1 wird unter Verwendung eines Entviickl erg emi sches folgender Zusammensetzung wiederholt:Example 1 is repeated using a developing agent of the following composition:

Wasser 1,200 1Water 1,200 1

Dextrin 121 gDextrin 121 g

2Q Lithiumbenz ο at, 24-prozentige Lösung 1,03 1 Grenzflächenaktives Mittel von Beispiel 1 483 g2Q lithium benzoate, 24 percent solution 1.03 1 Surfactant of Example 1 483 g

Natriumlaurylsulfat 227 gSodium Lauryl Sulphate 227 g

n-Propanol 356 mln-propanol 356 ml

Benzylalkohol 133Benzyl alcohol 133

Es werden ähnliche Ergebnisse erhalten.Similar results are obtained.

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Claims

VOSSIUS · VOSSIUS · HILTL · TAUCHNER · HEUNEMANN

SI E BE RTSTRASS E 4 · 8OOO MÜNCHEN 86 · PHONE: (089)47 4-0 75 CABLE: BENZOLPATENT MÖNCHEN TELEX 5-29 453 VOPAT DSI E BE RTSTRASS E 4 8OOO MUNICH 86 PHONE: (089) 47 4-0 75 CABLE: BENZOL PATENT MÖNCHEN TELEX 5-29 453 VOPAT D

u.z .: M 864 (Vo / H) g2. QEZ. 1978

Case: DG 12

POLYCHROME CORPORATION
On the Hudson, Yonkers, New York, V.St.A.

"One-stage developer and gumming mix, in particular for diazo printing plates "

Priority: December 27, 1977, V.St.A., No. 865 055

Claims

2Q '1 »One-stage developer and gumming mixture, in particular for diazo printing plates, consisting of an aqueous solution of (I) a water-soluble lithium salt of an organic Compound with up to 36 carbon atoms and at least one acidic hydrogen atom and / or one amphoteric surfactant compound; and (II) a film-forming gum.

2. Mixture according to claim 1, characterized in that the Organolithiumsalζ lithium formate, lithium chloroacetate, Lithium dichloroacetate, lithium trichloroacetate, lithium benzoate, Lithium naphthenate, lithium dodecanoate, lithium ricinoleate, Lithium lauryl sulfonate, lithium acetyl salicylate, Lithium lauryl sulfate, lithium phenolate, lithium 1-phenanthrolate, Lithium-o-nitrophenolate, dilithium catecholate, Lithium 2,4,6-trinitrobenzoate, lithium phenolsulfonate,

■ Lithium picrate, lithium toluene sulfonate, lithium xylene sulfonate, Lithium resorcinoleate, lithium xylenolate, lithium caprylate, mono- or dilithium salt of citric acid,

L -i

309826/0994

Maleic acid or malic acid, lithium stearate, lithium oleate, Lithium-p-nitrotoluene-o-sulfonate, lithium toluene sulfonate, Lithium 1-butanesulfonate, lithium benzene sulfonate, Lithium dodecylbenzenesulfonate, lithium-2,5-dichlorobenzenesulfonate, Lithium 2,4-dinitro-1-naphthol-7-sulfonate or is the lithium salt of sulfonated castor oil.

3. Mixture according to claim 1, characterized in that it contains about 10 to 40 percent by weight of organolithium salt contains.

4. Mixture according to claim 1, characterized in that the amphoteric surface-active compound is a 2-alkyl-1- (ethyl-ß-oxipropionic acid) imidazoline having about 6 to 20 carbon atoms in the alkyl portion.

5. Mixture according to claim 1, characterized in that the amphoteric surface-active compound is the sodium salt of 2-Capryl-1- (ethyl-ß-oxipropionic acid) -imidazoline or that

inner salt of 2-coconut-i- (ethyl-ß-oxypropionic acid) imidazoline is.

6. Mixture according to claim 1, characterized in that it

about 1 to 35 percent by weight of amphoteric surfactants

ver connection contains.

7. Mixture according to claim 1, characterized in that the sheet-forming rubber consists of

a) water
30th

b) gum arabic, dextrin, hydroxypropyl starch, arabinogalactans, algi-

nates, polyacrylic acids, hydroxyethyl cellulose, polyvinylpyrolidone, Polyacrylamide, methyl cellulose, hydroxypropyl cellulose, hydroxymethyl cellulose and / or salts of Carboxyalkyl cellulose as a rubber component,

c) citric acid, oxalic acid, phosphoric acid or monobasic

Sodium phosphate as an acid component,

L.

909826/0994

Γ "1

d) a surface-active compound and

e) Ethylene glycol, n-butyl acetate _f glycerine and / or polyethylene oxides as high-boiling solvents

consists.
5

8. Mixture according to claim 1, characterized in that the film-forming rubber contained in an amount of about 2 to 20% is.

9. Mixture according to claim 1, characterized in that there is up to about 50 percent by weight of a solvent for the Contains photosensitive coating.

10. Mixture according to claim 9, characterized in that it is benzyl alcohol, n-propanol, isopropanol, cyclohexanone, Dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, dioxane and / or ethylene glycol monomethyl ether contains as a solvent.

11. Mixture according to claim 1, characterized in that it

as a surface-active compound sodium lauryl sulfate or the sodium salt of ß- / 2- (2'-heptylimidazole-1 ') - ethoxy / propionic acid contains.

12. Mixture according to claim 1 and 7, characterized in that

it contains sodium lauryl sulfate or the sodium salt of B- / 2- (2'-heptyJLmidazole-1 ^l ) ethoxy / propionic acid as a surface-active compound in the film-forming gum.

13. Use of the developer and gumming mixture according to claims 1 to 12 for developing exposed, diazo-sensitized opt for coatings.

909826/099 $