DE2848732A1 - Razor shear foil coating - by sputtering from gaseous phase on heat conductive paramagnetic and magnetic substrates - Google Patents
Razor shear foil coating - by sputtering from gaseous phase on heat conductive paramagnetic and magnetic substratesInfo
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Abstract
Description
Verfahren zum einseitigen Beschichten einer magnetisierbarenMethod for one-sided coating of a magnetizable
Siebfolie mit Hartmaterial.Screen film with hard material.
Beschreibung Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum einseitigen Beschichten einer magnetisierbaren Siebfolie mit Hartmaterial in einer Gasathmosphäre. Insbesondere bezieht sie sich auf ein Verfahren zur Herstellung von Siebfolien, wie sie als Scherfolaien bei elektrischen Rasierapparaten Verwendung finden.Description The invention relates to a method for unilateral Coating of a magnetizable screen foil with hard material in a gas atmosphere. In particular, it relates to a process for the production of screen foils, as they are used as shearers in electric razors.
Bei solchen Scherfolien wird gefordert, daß die dem Untermesser zugewandte Folienfläche, insbesondere die sogenannten Lochranderhöhungen, möglichst hart sind, um den Verschleiß auf ein Mindestmaß herabzusetzen.In the case of such shaving foils, it is required that the one facing the lower cutter The foil surface, especially the so-called raised hole edges, are as hard as possible, to reduce wear to a minimum.
Es ist bekannt, eine solche Beschichtung mit Hartmaterial in der Gasphase vorzunehmen. Dabei kann man das Hartmaterial als solches auf die zu beschichtende Oberfläche aufbringen, oder es kann sich aus Bestandteilen an der Oberfläche bilden. Solche bekannte Verfahren sind beispielsweise das Aufdampfen im Hochvacuum, das Ionen-Plattieren, das Sputter-Verfahren. Als Hartmaterial ist Titannitrid bevorzugt worden.Such a coating with hard material in the gas phase is known to undertake. The hard material as such can be applied to the material to be coated Apply surface, or it can form from constituents on the surface. Such known methods are, for example, vapor deposition in a high vacuum, the Ion plating, the sputtering process. Titanium nitride is preferred as the hard material been.
Unvermeidbar bei all diesem Verfahren ist eine erhebliche Wãrmeentwicklung im Substrat. Diese wiederum führt, insbesondere bei dem als Scherfolien für elektrische Rasierapparate verwendeten Nickelsiebfolien, zu einer solchen Versprödung, daß die in bekannter Weise beschichteten Siebfolien unbrauchbar werden. Auch wenn die Siebfolien während der Beschichtung auf einer wärmeleiu tenden Unterlage aufgelegt werden, ist die Wärmeableitung infolge eines Luftpolsters unzureichend. Dieser Ubelstand wird dadurch verschlechtert, daß infolge der Öffnungen der Siebfolien auch die Unterlage inselförmig mit Hartmaterial beschichtet wird. Wird die Unterlage häufiger benutzt, so wird durch die Unebenheiten die Berührung zwischen der zu beschichtenden Siebfolie und der Untere lage immer schlechter und damit auch die Wärmeleitung, wobei durch die schlechte Wärmeleitfähigkeit der Hartstoffinseln der Warmestau zusätzlich noch vergrossert wird. Jeweils eine neue Unterlage zu benutzen, ist unwirtschaftlich.A considerable heat build-up is unavoidable in all of this process in the substrate. This in turn leads, especially when used as shaving foils for electrical Razors used nickel screen foils, to such an embrittlement that the screen foils coated in a known manner become unusable. Even if the sieve foils are placed on a heat-conducting base during the coating process, the heat dissipation due to an air cushion is insufficient. This evil is made worse by the fact that, as a result of the openings in the screen foils, the support Is coated with hard material in the shape of an island. If the pad is used more often, so through the bumps the Contact between the one to be coated The sieve film and the lower layer are getting worse and worse and thus also the heat conduction, due to the poor thermal conductivity of the hard material islands, the heat build-up additionally is still being enlarged. Using a new pad each time is uneconomical.
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein Verfahren zum einseitigen Beschichten einer magnetisierbaren Siebfolie, bevorzugt Nickelfolie, mit HartmatexialS bevorzugt Tatannitrid, in einer Gasathmosphare, bevorzugt nach dem Sputter-Verfahren, zur Verfügung zu stellen, welches die geschilderten Nachteile nicht aufweist.The invention has the task of providing a method for one-sided Coating of a magnetizable screen foil, preferably nickel foil, with hard materialS preferably tatan nitride, in a gas atmosphere, preferably according to the sputtering process, to make available, which does not have the disadvantages described.
Die Erfindung löst die Aufgabe durch ein Verfahren zum einseitigen Beschichten einer magnetisierbaren Siebfolie mit Hartmaterial in einer Gasathmosphäre, wobei erfindungsgemäß die Siebfolie auf einer wärmeleitfähigen Zwischenfolie und die Zwischenfolie auf einer wärmeleitfahiger. magnetlschen Unterlage angeordnet werden Als Zwischenfolie kann eine diamagnetische, bevorzugt aus Kupfer, oder eine paramagnetische, bevorzugt aus Nickel, angeordnet werden, wobei die paramagnetische Zwischenfolie bevorzugt wird In einer Weiterausbildung des erfindungsgemäßen Verfahrens wird die Zwischenfolie auf der passivierten Unterlage in an sich bekannter Weise elektrolytisch aufgebracht Vorteilhafterweise wird die magnetische ;rundpiatte aus schachBrettmusterartig angeordneten Permanentmagneten ausgebildet Bevorzugt beträgt der Abstand zweier benachbarter Magnete in der Grundplatte maximal das Doppelte des Querschnittsmaßes eines Magneten.The invention solves the problem by a method for one-sided Coating of a magnetizable screen foil with hard material in a gas atmosphere, wherein according to the invention the screen film on a thermally conductive intermediate film and the intermediate film on a thermally conductive. Magnetlschen pad arranged A diamagnetic, preferably made of copper, or a paramagnetic, preferably made of nickel, are arranged, the paramagnetic Intermediate film is preferred in a further development of the method according to the invention the intermediate film is placed on the passivated substrate in a manner known per se Electrolytically applied. Advantageously, the magnetic; round plate is made from Permanent magnets arranged like a chess board pattern is preferably the distance between two neighboring magnets in the base plate is a maximum of twice that the cross-sectional dimension of a magnet.
In einer besonders vorteilhaften Weiterausbildung wird das Maß der Lange der Kante und des Zwischenraumes der schachbrettartigen Anordnung der Permanentmagnete kleiner als die Dimension der zu haltenden Siebfoliee bevorzugt kleiner als ein Drittel bis ein Fünftel, ausgebildet Nach Entnahme der erfindungsgemäß beschichteten Siebfolie wird die Zwischenfolie abgezogen und eine neue angeordnetIn a particularly advantageous further training, the degree of Length of the edge and the space between the checkerboard-like arrangement of the permanent magnets smaller than the dimension of the screen film to be held, preferably smaller than one Third to one fifth, formed after removal of the coated according to the invention Sieve film, the intermediate film is peeled off and a new one is placed
Claims (7)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782848732 DE2848732C3 (en) | 1978-11-10 | Method for one-sided coating of a magnetizable screen film with hard material |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19782848732 DE2848732C3 (en) | 1978-11-10 | Method for one-sided coating of a magnetizable screen film with hard material |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2848732A1 true DE2848732A1 (en) | 1980-05-14 |
DE2848732C2 DE2848732C2 (en) | 1982-04-08 |
DE2848732C3 DE2848732C3 (en) | 1986-12-04 |
Family
ID=
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2153861A1 (en) * | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Texas Instruments Inc | Protective coatings - esp of metal carbonitride on heat-sensitive supports eg aluminium glass,carbon-steel |
DE2247579B2 (en) * | 1972-09-28 | 1978-08-17 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Method for attaching vapor deposition masks on semiconductor wafers for solar cells |
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2153861A1 (en) * | 1970-11-02 | 1972-05-10 | Texas Instruments Inc | Protective coatings - esp of metal carbonitride on heat-sensitive supports eg aluminium glass,carbon-steel |
DE2247579B2 (en) * | 1972-09-28 | 1978-08-17 | Licentia Patent-Verwaltungs-Gmbh, 6000 Frankfurt | Method for attaching vapor deposition masks on semiconductor wafers for solar cells |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
Kuhn: "Physik", 1. Bd., 2. Aufl. 1970, S. 165-168 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2848732C2 (en) | 1982-04-08 |
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