DE2542354C2 - Corpuscular beam device with an object holder - Google Patents
Corpuscular beam device with an object holderInfo
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Description
Die Erfindung bezieht sich auf ein Korpuskularstrahlgerät mit einem Objekthalter, der die Wand des Gerätes durchsetzt und in dieser gehalten ist und der mit seiner Spitze in ein verstellbares, in einem quer zum Korpuskularstrahl verschiebbaren Rahmen geführtes Gegenlager eingreift. Ein derartiges Gerät ist in Form eines Elektronenmikroskops aus der FR-PS 21 02 553 bekannt. Durch Verstellen des Gegenlagers können verschiedene Objektbereiche in den Elektronenstrahl gebracht werden. Steht nun wie bei einem gekippten Objekt der Elektronenstrahl nicht senkrecht auf der Ebene des Objekts, so kommt es bei einer derartigen Verschiebung in der Regel zu einer Schärfeänderung des Mikroskopbildes. Ursache hierfür ist, daß der Brennpunkt der Objektivlinse, d. h. der dem Objekt nachfolgenden Linse, von den verschiedenen Objektbereichen einen unterschiedlichen axialen Abstand besitzt. Auch bei nichtgekippten Objekten kann es erwünscht sein, die Lage des Objekts relativ zur Brennebene des Objektivs in Richtung der Achse zu ändern.The invention relates to a corpuscular beam device with an object holder that holds the wall of the device interspersed and held in this and the with its tip in an adjustable, in a transverse to Corpuscular beam displaceable frame engages counter bearing guided. Such a device is in shape an electron microscope from FR-PS 21 02 553 known. By adjusting the counter bearing you can different object areas are brought into the electron beam. Now stands like a tilted one Object the electron beam is not perpendicular to the plane of the object, so it occurs in such a way Shift usually results in a change in sharpness of the microscope image. The reason for this is that the Focal point of the objective lens, d. H. of the lens following the object, from the different object areas has a different axial distance. It can also be desirable for objects that have not tipped over be to change the position of the object relative to the focal plane of the lens in the direction of the axis.
Bei Elektronenmikroskopen ist es bereits bekannt, eine die Kippung des Objekts ermöglichende Objektpatrone in einer Verstellvorrichtung anzuordnen, die die Verstellung dieser Objektpatrone und damit des Objekts quer zum Elektronenstrahl und in Richtung seiner Achse erlaubt (DT-OS 15 89 647).In electron microscopes it is already known to have an object cartridge which enables the object to be tilted to be arranged in an adjusting device that allows the adjustment of this object cartridge and thus the Object allowed across the electron beam and in the direction of its axis (DT-OS 15 89 647).
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein Korpuskularstrahlgerät der eingangs genannten Art zu schaffen, mit dem sich das Objekt außer in zwei transversalen Richtungen auch in Richtung der Achse verstellen läßt.The invention is based on the object of providing a particle beam device of the type mentioned at the beginning create, with which the object is not only in two transverse directions but also in the direction of the axis can be adjusted.
Die Lösung dieser Aufgabe besteht gemäß der Erfindung darin, daß das Gegenlager in einer Platte sitzt, die an eine in Richtung des Strahls verlaufende Fläche des Rahmens angedrückt und gegenüber dem Rahmen in dieser Richtung verschiebbar ist.The solution to this problem is according to the invention that the counter bearing in a plate that sits on one running in the direction of the beam Surface of the frame is pressed and is displaceable relative to the frame in this direction.
Die Verschiebung der Platte kann mit Hilfe eines Stößels erfolgen, der direkt auf die Platte drückt. Sieht man für die Verschiebung der Platte einen Kniehebel vor, der um eine senkrecht zum Strahl gelegene Achse drehbar ist, so kann der Antrieb der Platte außerhalb der Plattenebene vorgenommen werden.The plate can be moved with the help of a plunger that presses directly on the plate. Sees a toggle lever is used to move the plate around an axis perpendicular to the beam is rotatable, the drive of the plate can be made outside the plane of the plate.
Der Kniehebel kann so angebracht sein, daß die Platte auf Grund ihres Eigengewichts auf dem Hebel aufsitzt. Der Kniehebel kann jedoch auch so gestaltet sein, daß er an dem — in Strahlrichtung gesehen -The toggle lever can be attached so that the plate due to its own weight on the lever sits on. The toggle lever can, however, also be designed in such a way that it is at the - seen in the direction of the beam -
oberen Ende der Platte auf diese drückt; in diesem Fall ist eine Zugfeder zwischen der Platte und dem auf dieseupper end of the plate presses on this; in this case is a tension spring between the plate and the one on it
ίο wirkenden Teil des Kniehebels vorgesehen. Die Feder sorgt für einen Kraftschluß zwischen Kniehebel undίο acting part of the knee lever provided. The feather ensures a frictional connection between toggle lever and
Platte. Damit ist sichergestellt, daß die Platte der Bewegung des Kniehebels unmittelbar folgt.Plate. This ensures that the plate immediately follows the movement of the toggle lever.
In den Figuren ist ein Ausführungsbeispiel der Erfindung gezeigt.An exemplary embodiment of the invention is shown in the figures.
Fig. 1 zeigt vereinfacht ein Elektronenmikroskop, in
dem das Objekt um eine Achse kippbar, sowie in drei zueinander senkrechten Richtungen verstellbar ist,
F i g. 2 dient zur Verdeutlichung der Objektbewegung im Falle einer Kippung,Fig. 1 shows a simplified electron microscope in which the object can be tilted about an axis and adjusted in three mutually perpendicular directions,
F i g. 2 serves to clarify the object movement in the event of a tilt,
Fig.3 gibt einen Schnitt längs der Linie HI-III in F i g. 1 detailliert wieder.3 gives a section along the line HI-III in F i g. 1 detailed again.
In F i g. I ist das zu untersuchende Objekt 1 des Elektronenmikroskops mit einem Elektronenstrahl bestrahlt, der längs einer Achse 6 verläuft. Das Objekt liegt auf einem Objekthalter 2, der in der Wand 13 des Mikroskops in einem nicht dargestellten Lager gehalten ist. Die Spitze des Halters 2 greift in ein verstellbares Gegenlager 3 ein, das in einer Platte 4 sitzt. Die PlatteIn Fig. I is the object 1 of the electron microscope to be examined with an electron beam irradiated, which runs along an axis 6. The object lies on an object holder 2, which is in the wall 13 of the Microscope is held in a warehouse, not shown. The tip of the holder 2 engages in an adjustable one A counter bearing 3 that sits in a plate 4. The plate
liegt an einer in Richtung des Elektronenstrahls verlaufenden Fläche 4' eines U-förmigen Rahmens 5 an und ist in Richtung der Achse 6 (z-Richtung) gegenüber diesem verschiebbar. Der Rahmen 5 seinerseits ist quer zur Achse 6 in zwei zueinander senkrechten Richtungen χ und y bewegbar. Dazu dienen nicht dargestellte Stößel, die auf eine Stirnfläche 7 bzw. eine Seitenfläche 8 des Rahmens 5 entgegen der Wirkung von Federn 9,10 wirken.rests on a surface 4 'of a U-shaped frame 5 running in the direction of the electron beam and is displaceable relative to this in the direction of the axis 6 (z-direction). The frame 5, for its part, can be moved transversely to the axis 6 in two mutually perpendicular directions χ and y . For this purpose, plungers (not shown) are used, which act on an end face 7 or a side face 8 of the frame 5 against the action of springs 9, 10.
Die Verschiebung der Platte 4 in z-Richtung wird mit einem Kniehebel 11 vorgenommen, dessen eines Teil 26' in den Rahmen 5 eingelassen ist und dessen anderes Teil 26 auf die Platte 4 drückt. Der Hebel U ist von einem Drehbolzen 12 gehalten und um dessen Mittelachse 12' (Fig.3) drehbar. Die Achse 12' verläuft in x-Richtung.The displacement of the plate 4 in the z-direction is carried out with a toggle lever 11, one part of which is 26 ' is embedded in the frame 5 and the other part 26 of which presses onto the plate 4. The lever U is from one Pivot pin 12 held and rotatable about its central axis 12 '(Figure 3). The axis 12 'runs in the x direction.
Die Platte 4 ist durch eine in F i g. 3 gezeigte Druckfeder am Ende 23 des Kniehebels 11 gehalten. Ferner sind an ihrer dem Rahmen 5 zugewandten Seite Lagerkugeln 24 vorgesehen, die in ein prismatisches und ein ebenes Längslager 25 bzw. 25' des Rahmens 5 eingreifen. Die Lager 25, 25' verlaufen in Richtung der Achse 6 und ermöglichen eine exakte Führung der Platte in Richtung dieser Achse.The plate 4 is by a in F i g. 3 held the compression spring shown at the end 23 of the toggle lever 11. Furthermore are on their side facing the frame 5 bearing balls 24 are provided, which are in a prismatic and a flat Engage longitudinal bearing 25 or 25 'of frame 5. The bearings 25, 25 'run in the direction of the axis 6 and allow an exact guidance of the plate in the direction of this axis.
Der Objekthalter 2 kann um seine Mittelachse 15 gedreht werden. Dadurch wird das Objekt 1 bezüglich des Elektronenstrahls gekippt. Ein bestrahlter Objektbereich wandert dabei aus dem Bereich des Elektronenstrahls aus.The specimen holder 2 can be rotated about its central axis 15. This makes the object 1 with respect to of the electron beam tilted. An irradiated object area moves out of the area of the electron beam the end.
Zur Erläuterung des soeben genannten Vorgangs sei die F i g. 2 betrachtet. Der Elektronenstrahl trifft längs der Achse 6 auf den untersuchten Objektbereich 16 auf. Bei einer Kippung des Objekts um die in y-Richtung verlaufende Achse 15 wird der Objektbereich 16 in die Position 16' gebracht. Um ein Auswandern des Mikroskopbildes aus dem Bildfeld zu vermeiden, wirdTo explain the process just mentioned, FIG. 2 considered. The electron beam hits longitudinally of the axis 6 on the examined object area 16. When the object is tilted by the one in the y-direction extending axis 15, the object area 16 is brought into position 16 '. In order to emigrate from the Avoid microscope image out of the field of view
6S das Objekt um den Wert Δ χ in der x-Richtung bewegt. Um weiter eine Schärfeänderung des Mikroskopbildes zu verhindern, wird das Objekt außerdem um den Wert Δ ζ verschoben. Die Verschiebung des Objekts in 6 S moves the object by the value Δ χ in the x-direction. In order to further prevent a change in sharpness of the microscope image, the object is also shifted by the value Δ ζ. Moving the object in
z-Richtung geschieht mit Hilfe des Kniehebels 11; der genaue Aufbau dieses Hebels un die i-.uf ihn wirkenden Betätigungseinrichtungen sind in Γ i g. 3 gezeigt.z-direction takes place with the help of the toggle lever 11; the the exact structure of this lever and the functions acting on it Controls are in Γ i g. 3 shown.
Der Kniehebel 11 ist vom Drehbolzen 12 gehalten, der im Rahmen 5 geführt ist; er hält über zwei Federn 20, die zu beiden Seiten seines Teiles 26 sitzen, Jie Platte 4.The toggle lever 11 is held by the pivot pin 12, which is performed in frame 5; it holds the plate via two springs 20 which sit on either side of its part 26 4th
Zwischen Kniehebel 11 und Platte 4 ist eine Rolle 21 angebracht, die eine reibungsfreie Bewegung der Platte 4 gewährleistet. Ferner ist die Platte 4 im Bereich des Kniehebels 11 zurückgenommen (Schnittkante 33), um eine ungestörte Bewegung des Kniehebels 11 zu ermöglichen. Die Platte 4 trägt das Gegenlager 3, in das die Spitze des Objekthalters 2 eingreift. Sie ist ferner über andeutungsweise dargestellte Federn 22, die in der Ebene der Federn 20 verlaufen, im Rahmen 5 gehalten. Sie weist ferner an ihrer Rückseite die erwähnten drei Lagerkugeln 24 auf, die in den Längslagern 25, 25' des Rahmens 5 geführt sind (vgl. Fig. 1).A roller 21 is located between the toggle lever 11 and the plate 4 attached, which ensures a frictionless movement of the plate 4. Furthermore, the plate 4 is in the area of the Toggle lever 11 withdrawn (cut edge 33) in order to allow undisturbed movement of toggle lever 11 enable. The plate 4 carries the counter bearing 3 into which the tip of the specimen holder 2 engages. She is further Maintained in the frame 5 via springs 22 which are indicated in the drawing and extend in the plane of the springs 20. It also has on its rear side the aforementioned three bearing balls 24, which are in the longitudinal bearings 25, 25 'of the Frame 5 are performed (see. Fig. 1).
Zur Bewegung des Kniehebels 11 ist ein Stößel 27 vorgesehen, der über ein Gewinde 35 im Rahmen 5 geführt und über eine Längskupplung 28 von einem feststehenden, nicht dargestellten Motor angetrieben ist. Der Motor treibt einen Drehstab 29, der über einen Querbolzen 30 in Langlöcher 31 eines hülsenartigen Teiles 32 der Kupplung 28 eingreift. Der Stößel 27To move the toggle lever 11, a plunger 27 is provided, which via a thread 35 in the frame 5 guided and driven via a longitudinal coupling 28 by a stationary motor, not shown is. The motor drives a torsion bar 29, which via a transverse bolt 30 in elongated holes 31 of a sleeve-like Part 32 of the coupling 28 engages. The plunger 27
ίο bewegt den Kniehebel entgegen der Wirkung einer Zugfeder 34, die zwischen dem Rahmen 5 und dem unteren Ende des Kniehebels verläuft.ίο moves the knee lever against the effect of a Tension spring 34 which runs between the frame 5 and the lower end of the toggle lever.
Außer bei Elektronenmikroskopen kann die Erfindung z. B. auch bei lonenmikroskopen sowie bei Korpuskularstrahl-Bearbeitungsgeräten angewandt werden.Except for electron microscopes, the invention can e.g. B. also with ion microscopes as well as with Corpuscular beam processing devices are applied.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen1 sheet of drawings
Claims (3)
Priority Applications (1)
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Applications Claiming Priority (1)
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DE19752542354 DE2542354C2 (en) | 1975-09-19 | 1975-09-19 | Corpuscular beam device with an object holder |
Publications (2)
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Family
ID=5957166
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19752542354 Expired DE2542354C2 (en) | 1975-09-19 | 1975-09-19 | Corpuscular beam device with an object holder |
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Country | Link |
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Families Citing this family (1)
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EP0252174B1 (en) * | 1986-07-08 | 1991-01-02 | International Business Machines Corporation | Coarse-approach positioning device |
-
1975
- 1975-09-19 DE DE19752542354 patent/DE2542354C2/en not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2542354B1 (en) | 1977-03-17 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
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