DE2455518A1

DE2455518A1 - Through flow developer for photo chemical layer - has measurement controlling addition of developer regenerator in relation to area of material being developed

Info

Publication number: DE2455518A1
Application number: DE19742455518
Authority: DE
Inventors: Heinrich Ing Grad Isermann; Guenter Lindenpuetz
Original assignee: Meteor Siegen Apparatebau Paul Schmeck GmbH
Current assignee: Meteor Siegen Apparatebau Paul Schmeck GmbH
Priority date: 1974-11-23
Filing date: 1974-11-23
Publication date: 1976-05-26

Abstract

A through flow developer device for a photochemical layer support has a developer bath of predetermined operating width for layer supports of various widths and lengths fed continuously through the bath and a developer bath regenerator with a measurement device and dosing pump to maintain developer activity by addition of regenerator fluid in relation to bath composition has the measuring device (11) determining the size of the surface of the layer support passing through the developer bath (3), and controlling the addition of a specific amount of regenerator fluid per unit area of layer support passing through the bath (3).

Description

METEOR-SIEGEN, Apparatebau Paul Schmeck GmbH, 59 Siegen, Frankfurter Str. 27METEOR-SIEGEN, Apparatebau Paul Schmeck GmbH, 59 Siegen, Frankfurter Str. 27

Durchlaufentwickler für fotochemische SchichtträgerContinuous developer for photochemical substrates

Die Erfindung betrifft einen Durchlaufentwickler für fotochemische Schichtträger, mit einem Entwicklerbad von bestimmter Arbeitsbreite für kontinuierlich durch das Entwicklerbad geförderte Schichtträger unterschiede licher Länge und Breite, und mit einer Entwicklerbad-Regeneriereinrichtung aus einer Meßvorrichtung für den Aktivitätszustand des Bades und einer Dosierpumpe, die in Abhängigkeit vom Zustand des Bades diesem Regenerierflüssigkeit zuuetzt.The invention relates to a continuous developer for photochemical substrate, with a developer bath of a certain working width for continuous through the developer bath promoted layers of different lengths and widths, and with a developer bath regeneration device from a measuring device for the activity state of the bath and a metering pump, the depending on the condition of the bath, this regenerating liquid is added.

Bei diesem bekanm:en Durchlaufentwickler stellt die Meßvorrichtung den pH-Wert des Entwicklerbades'als Maßstab für dessen Aktivitätszustand" fest und läßt die Dosierpumpe in Abhängigkeit hiervon dem Bad Regenerierflüssigkeit zusetzen. Denn in Abhängigkeit von der Belastung des Ertwicklerbades durch die Schichtträger ändert sich der pH-Wert des Entwicklerbades und zeigt daher die Not-This well-known continuous developer provides the measuring device the pH value of the developer bath as a yardstick for its activity status "fixed and leaves the metering pump depending on this, the bath regeneration liquid to add. This is because it changes depending on the load on the developer bath from the substrate the pH value of the developer bath and therefore shows the emergency

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wendigkeit einer Regenerierung des Bades an. Eine pH-Wert-Regenerierung des Entwicklerbades erfordert jedoch erheblichen Aufwand und ist für kleinere oder mittlere Durchlaufentwickler bei weitem zu aufwendig.need to regenerate the bath. A pH value regeneration However, the developer bath requires considerable effort and is for small or medium-sized Continuous developer by far too expensive.

Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, die dosierte Zugabe von Regenerierflüssigkeit zu dem Entwicklerbad in Abhängigkeit von dessen 'Abnutzung' sowohl verfahrensmäßig als auch apparativ zu vereinfachen.The invention is therefore based on the object of the metered addition of regenerating liquid to the developer bath depending on its 'wear and tear' both procedurally as well as to simplify the apparatus.

Zur Lösung dieser Aufgabe sieht die Erfindung vor, daß die Meßvorrichtung die Größe der Oberfläche der durch das Entwicklerbad geforderben Schichtträger feststellt und die Dosierpumpe zur Abgabe einer bestimmten Regenerierflüssigkeitsmenge je Einheit Schichtträgeroberfläche steuert. Damit macht sich die Erfindung einerseits den Umstand, daß die 'Abnutzung' des Entwicklerbades entscheidend von der Größe der durch das Bad geförderten und dort entwickelten fotochemischen Schichtfläche sowie ferner die Tatsache zunutze, daß der Aktivitätszustand des Entwicklerbades innerhalb nicht allzu eng bemessener Grenzen schwanken kann, ehe sich dies in der Entwicklungsqualität störend bemerkbar macht. Ferner erlaubt die erfindungsgemäße Anordnung die Verarbeitung jeder denkbaren Kombination von unterschiedlich langen und unterschiedlich breiten Schichtträgern neben- und nacheinander, ohne daß hierdurch die Genauigkeit der Regenerierflüssigkeit-Dosierung beeinträchtigt würde.To solve this problem, the invention provides that the measuring device measures the size of the surface of the through the Determines the substrate required in the developer bath and the dosing pump for dispensing a certain amount of regeneration liquid controls per unit substrate surface. Thus, the invention makes on the one hand the The fact that the 'wear and tear' of the developer bath depends largely on the size of the bath and there developed photochemical layer surface as well as the fact that the activity state of the developer bath can fluctuate within not too narrowly measured limits before this is reflected in the development quality makes disturbing noticeable. Furthermore, the arrangement according to the invention allows any conceivable combination to be processed of different lengths and different widths layer carriers side by side and one after the other without this the accuracy of the regeneration liquid dosage would be impaired.

Vorzugsweise besteht die Meßvorrichtung aus mehreren quer zur Vorschubrichtung der Schichtträger und über der Arbeitsbreite des Entwicklerbades gleichmäßig verteilten Fühlern, die unabhängig voneinander auf die Anwesenheit von Schichtträger ansprechen und Signale an einen Integrator geben, der in Abhängigkeit von der Summe der Ansprechzeiten aller Fühler Steuersignale an die DosierpumpeThe measuring device preferably consists of several transversely to the direction of advance of the substrate and across the working width of the developer bath evenly distributed sensors, which independently of each other for the presence of the layer carrier respond and give signals to an integrator, which depends on the sum of the response times all sensors control signals to the dosing pump

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abgibt. Auf diese Weise wird mit einfachen Mitteln die Oberfläche der nach und nach durch das Entwicklerbad transportierten Schichtträger summiert, bis die Summe einen vorbestimmten Wert erreicht, welcher zur Einschaltung der Dosierpumpe (für eine ebenfalls vorbestimmte Zeit) führt, so daß eine der festgestellten Schichtträger-Oberfläche entsprechende Regenerierflüssigkeitsmenge an das Entwicklerbad abgegeben wird.gives away. In this way, with simple means, the surface of the gradually becomes through the developer bath transported layer carrier is summed until the sum reaches a predetermined value, which is to be switched on the metering pump (for a likewise predetermined time), so that one of the determined layer support surface corresponding amount of regeneration liquid the developer bath is dispensed.

Der Integrator kann beispielsweise aus einem Kondensator bestehen, der von allen Fühlern in deren Ansprechzustand mit Strom von bestimmter Größe aufgeladen wird und jeweils bei Erreichen eines bestimmten Ladungszustandes ein Einschaltsignal an die Dosierpumpe abgibt. Soweit die Vorschubgeschwindigkeit der Schichtträger im Entwicklerbad einstellbar ist, ist dabei vorteilhaft vorgesehen, daß die Größe des Stromes sich mit der Vorschubgeschwindigkeit im Entwicklerbad ändert.The integrator can, for example, consist of a capacitor that is activated by all sensors is charged with current of a certain size and a switch-on signal when a certain state of charge is reached to the dosing pump. So much for the speed of advance of the substrate in the developer bath is adjustable, it is advantageously provided that the size of the current varies with the feed rate changes in the developer bath.

Da nicht eine beliebig große Anzahl von Fühlern beliebig eng nebeneinander angeordnet werden kann, muß eine gewisse Meßungenauigkeit in Kauf genommen werden, da die Fühler das Vorhandensein von Schichtträger immer nur entlang einer relativ schmalen Linie in Vorschubrichtung der Schichtträger feststellen können. Normalerweise kann ays den oben erwähnten Gründen diese Ungenauigkeit ohne weiteres in Kauf genommen werden. Soll jedoch die Meßgenauigkeit weiter vergrößert werden, so kann die Anordnung derart getroffen werden, daß die Fühler vorbestimmte Oszillationsbewegungen quer zur Vorschubrichtung der Schichtträger ausführen. Auf diese Weise überstreichen die Fühler breitere Bänder in Vorschubrichtung der Schichtträger, wobei die 'Bänder' der einzelnen Fühler sich bei entsprechendem Verhältniswon Amplitudenweite zu Fühlerabstand im Ganzen zur vollen Arbeitsbreite des Entwicklerbades ergänzen. ' -Since it is not possible to arrange an arbitrarily large number of sensors next to one another as desired, a certain Measurement inaccuracy must be accepted, since the feelers only ever follow the presence of the layer support can determine a relatively narrow line in the direction of advance of the substrate. Usually ays For the reasons mentioned above, this inaccuracy can easily be accepted. However, the measurement accuracy should are further enlarged, the arrangement can be made such that the sensors predetermined oscillatory movements Execute transversely to the feed direction of the substrate. In this way the feelers pass over wider bands in the direction of advance of the substrate, whereby the 'bands' of the individual sensors are at a corresponding ratio of amplitude width to sensor distance as a whole to add to the full working width of the developer bath. '-

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Die Zeichnungen veranschaulichen - im wesentlichen schematisch - die Erfindung an einem Ausführungsbeispiel, und zwar zeigt The drawings illustrate - essentially schematically - the invention using an exemplary embodiment, namely shows

Fig. 1 in perspektivischer Darstellung einen Durchlaufentwickler mit einer Regeneriereinrichtung und der erfindungsgemäßen Meßvorrichtung; und1 shows a perspective view of a continuous developer with a regenerating device and the measuring device according to the invention; and

Fig. 2 einen Übersichtsschaltplan der Meßvorrichtung bi s hin zu der von ihr gesteuerten Dosierpumpe. 2 shows an overview circuit diagram of the measuring device up to the metering pump controlled by it.

Der in Fig. 1 schematisch dargestellte Durchlaufentwickler besteht im wesentlichen aus dem Aufgabetisch 1, der Meßstation 2, dem Entwicklertrog 3 und dem Abgabetisch 4 sowie einer Dosierpumpe 5, welche im betätigten Zustand Regenerierflüssigkeit aus einem Vorratsbehälter 6 in Richtung des Pfeiles 7 dem im Entwicklertrog befindlichen Entwicklerbad zuführt. Verschiedene Sätze von Transportrollen 8 sorgen für den Transport von unterschiedlich breiten und langen Schichtträgern 9 durch das Entwicklerbad im Entwicklertrog 3 und aus diesem heraus auf den Abgabetisch 4.The continuous developer shown schematically in FIG. 1 essentially consists of the feed table 1, the measuring station 2, the developer trough 3 and the delivery table 4 and a metering pump 5, which in the actuated state Regenerating liquid from a storage container 6 in the direction of arrow 7 to the one located in the developer trough Developing bath supplies. Different sets of transport rollers 8 ensure the transport of different wide and long supports 9 through the developer bath in the developer trough 3 and out of this onto the Delivery table 4.

Ehe die Schichtträger 9 über Leitbleche 10 in den Entwicklertrog gelangen, durchlaufen sie im Bereich der Meßstation 2 die im Ganzen mit 11 bezeichneten Meßvorrichtung., welche aus mehreren - im Beispiel 5 - Mikroschaltern bestehen, die auf einer Schiene 13 befestigt sind. Der Schiene 13 und mit ihr den darauf befestigten Mikroschalter 12 werden in Richtung des Pfeiles 14 in nicht dargestellter Weise Oszillationsbewegungen erteilt, welche, auf einen Mittelpunkt bezogen, nach jeder Seite eine Amplitude vom halben Abstand zweier benachbarter Mikroschalter 12 haben. In dem zur Meßvorrichtung 11 gehörenden Tisch 15 ist eine in Richtung der Oszillationsbewegungen verlaufende Nut 16 vorgesehen, in welche die freien Enden der Tastarme 17 der Mikroschalter eintauchen, wenn sich zwischen ihnen und dem Tisch 15 keine Schichtträger 9Before the layer supports 9 reach the developer trough via guide plates 10, they pass through in the area of the measuring station 2 the measuring device designated as a whole by 11., Which consists of several - in the example 5 - microswitches exist, which are attached to a rail 13. The rail 13 and with it the microswitch attached to it 12 are given oscillatory movements in the direction of arrow 14 in a manner not shown, which, based on a center point, on each side an amplitude half the distance between two neighboring microswitches Have 12. In the table 15 belonging to the measuring device 11 there is a table extending in the direction of the oscillatory movements Groove 16 is provided, in which the free ends of the probe arms 17 of the microswitch immerse when no layer supports 9 between them and the table 15

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befinden.are located.

Sobald Schichtträger 9 in Richtung des Pfeils 18 zwischen das in Vorschubrichtung erste Transportwalzenpaar 8 eingeschoben werden, heben diese die in ihrem Weg liegenden Bejätigungsarme 17 der zugehörigen MikroSchalter 12 an, und zwar jeweils solange, bis in Vorschubrichtung (Pfeil 18) der jeweilige Schichtträger 9 die Nut 16 wieder frei gibt, und wie in Querrichtung (Pfeil 14) sich während der Oszillationsbewegungen Schichtträger 9 unter den Betätigungsarmen 17 befinden.As soon as the substrate 9 is pushed in the direction of the arrow 18 between the pair of transport rollers 8, which is the first in the feed direction they raise the actuating arms 17 of the associated microswitches 12, which are in their path, in each case until the respective layer carrier 9 clears the groove 16 again in the feed direction (arrow 18), and as in the transverse direction (arrow 14), during the oscillating movements, the layer carrier 9 is located under the actuating arms 17 are located.

Fig. 2 zeigt den elektrischen Teil der Meßvorrichtung und der nachgeschalteten Steuerung. Den Mikroschaltern 12 sind Widerstände 19 parallelgeschaltet, welche jeweils von dem zugeordneten Mikroschalter 12 in dessen betätigtem Zustand gewissermaßen überbrückt werden. Je mehr Mikroschalter 12 geschlossen sind, umso größer wird der Strom, welcher am Ausgang einer im Ganzen mit 20\bezeichneten Vorverstärkungsr.tufe einem Integrator 21 ^geführt wird, welcher im wesentlichen aus einem Kondensator 22 besteht· Ist ein bestimmter Ladungszustand des Kondensators 22 erreicht, so wird ein Steuersignalbilder 23 angestoßen, welcher ein Steuersignal auf ein einstellbares Zeitglied 24 gibt, das die Dosierpumpe für ein bestimmtes Zeitintervall einschaltet, währenddessen die Pumpe Regenerierflüssigkeit aus dem Vorratsbehälter 6 in den Entwicklertrogt 3 fördert (Fig.l). Ein Löschglied 25 in Form eines den Kondensator 22 überbrückenden Schalters löscht die Ladung auf de:m Konddensator 22, sobald ein Steuerimpuls auf den Steuersignalbilder 23 gegeben wurde. Fig. 2 shows the electrical part of the measuring device and the downstream control. The microswitches 12 resistors 19 are connected in parallel, each of which is actuated by the associated microswitch 12 in its State to be bridged so to speak. The more microswitches 12 are closed, the greater the current, which at the exit of a designated as a whole with 20 \ Pre-amplification stage is fed to an integrator 21 ^, which essentially consists of a capacitor 22 · Is a certain state of charge of the capacitor 22 reached, a control signal generator 23 is triggered, which a control signal to an adjustable Time element 24 gives that the metering pump switches on for a certain time interval, during which the pump regenerates promotes from the reservoir 6 into the developer trough 3 (Fig.l). A quenching member 25 in the form a switch bridging the capacitor 22 clears the charge on the capacitor 22 as soon as a control pulse has been given to the control signal generator 23.

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Claims

Patent claims

Continuous developer for photochemical substrates, with a developer bath of a certain working width for layers of different lengths and widths continuously conveyed through the developer bath, and with a developer bath regenerating device from a measuring device for the activity state of the bath and a metering pump, which, depending on the condition of the bath, this regeneration liquid adds, characterized in that the measuring device (11) the size of the surface of the layer carrier (9) conveyed through the developer bath (developer trough 3) and the metering pump (5) to dispense a certain amount of regenerating liquid per unit of substrate surface controls.

2. Continuous developer according to claim 1, characterized in that that the measuring device (11) consists of several transversely to the feed direction of the substrate (9) and across the working width of the developer bath (developer trough 3) evenly distributed sensors (12), which independently of one another indicate the presence of the substrate (9) respond and give signals to an integrator (21), which depends on the sum of the response times all sensors (12) send control signals to the dosing pump (5).

3. Continuous developer according to claim 2, characterized in that that the integrator (21) consists of a capacitor (22) which is controlled by all sensors (12) in their response

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state is charged with current of a certain size, and each time a certain state of charge is reached sends a switch-on signal to the metering pump (5).

4. Continuous developer according to claim 3, characterized in that that the size of the current increases with the advance speed in the developer bath (developer trough 3) changes.

5. Continuous developer according to claims 2-4, characterized characterized in that the sensors (12) are microswitches, which are closed by the layer support (9).

6. Continuous developer according to claim 5, characterized in that the sensor (12) predetermined oscillating movements transverse to the feed direction of the substrate
(9) (arrow 14).

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